JPS60195738A - 磁気デイスク製造方法 - Google Patents
磁気デイスク製造方法Info
- Publication number
- JPS60195738A JPS60195738A JP5192884A JP5192884A JPS60195738A JP S60195738 A JPS60195738 A JP S60195738A JP 5192884 A JP5192884 A JP 5192884A JP 5192884 A JP5192884 A JP 5192884A JP S60195738 A JPS60195738 A JP S60195738A
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- JP
- Japan
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- film
- magnetic
- magnetic disk
- protective film
- substance
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａｌ 発明の技術分野
本発明は磁気ディスク装置等に使用される磁気ディスク
に係り、特にＣ８８（コンタクト・スタート・ストップ
）型の磁気ヘッドと磁気ディスクの滑走時の摩擦を小さ
くするとともに吸着を防ぎ、さらにヘッドの衝撃力を吸
収して機械的強度を高めるようにした磁気ディスクの製
造方法に関する。
に係り、特にＣ８８（コンタクト・スタート・ストップ
）型の磁気ヘッドと磁気ディスクの滑走時の摩擦を小さ
くするとともに吸着を防ぎ、さらにヘッドの衝撃力を吸
収して機械的強度を高めるようにした磁気ディスクの製
造方法に関する。
（ｂ） 技術の背景
磁気ディスク等は一般に磁性粉とバインダ（樹脂）を混
練し、アルミ等の基板に塗布して磁気塗膜を形成してい
る。この磁気塗膜は磁性粉の比率が低く、磁性膜が不連
続であるため厚い膜厚で出力を出している０ヘツドの再
生出力からすると、膜厚が厚いと分解能が悪く、高密度
記録化、高性能化できない問題があり、そこで最近はメ
ッキ。
練し、アルミ等の基板に塗布して磁気塗膜を形成してい
る。この磁気塗膜は磁性粉の比率が低く、磁性膜が不連
続であるため厚い膜厚で出力を出している０ヘツドの再
生出力からすると、膜厚が厚いと分解能が悪く、高密度
記録化、高性能化できない問題があり、そこで最近はメ
ッキ。
スパッタ等により基板上に連続磁性膜を形成し、磁気特
性の向上がはかられている。
性の向上がはかられている。
第１図は従来のスパッタで形成された連続磁性膜の磁気
ディスクＡを示す。色において、磁気ディスクＡはアル
ｔ（ＡＡ）基板１上にアルマイト処理（Ａ４０ｓ）Ｊ１
１２を形成し、その処理膜２上をボリッシ、し、その上
に磁性ＩＩ （ｒＦａｔｏｍ） ３ Ｊｆ：形成し、さ
らにその上に保８８４として酸化珪素（ＳｔＯ，）を厚
さ１００Ａ〜２００人つけ、その表面に潤滑剤５が塗布
される。
ディスクＡを示す。色において、磁気ディスクＡはアル
ｔ（ＡＡ）基板１上にアルマイト処理（Ａ４０ｓ）Ｊ１
１２を形成し、その処理膜２上をボリッシ、し、その上
に磁性ＩＩ （ｒＦａｔｏｍ） ３ Ｊｆ：形成し、さ
らにその上に保８８４として酸化珪素（ＳｔＯ，）を厚
さ１００Ａ〜２００人つけ、その表面に潤滑剤５が塗布
される。
上記磁気ディスクＡはＣ８Ｓ型の磁気ヘッドにより情報
の読み／書きが行われるため、第２図に示すように磁気
ヘッド６はバネ７で押されて、最初磁気ディスク膜上に
あり、磁気ディスクＡの回転により生ずる空気流で１μ
簿以下で浮上し、磁気ディスク膜上をシークし、読み／
書きを行い、磁気ディスクＡの回転停止により再び磁気
ヘッド６は磁気ディスク膜上に停止する。磁気ヘッド６
はフェライト材もしくはアルζすで、底置が平担に構成
され、又磁気ディスクＡも平担で、表面に潤滑剤５が塗
布されているため、磁気ヘッド６は磁気ディスク人に密
着してしまう問題がある。
の読み／書きが行われるため、第２図に示すように磁気
ヘッド６はバネ７で押されて、最初磁気ディスク膜上に
あり、磁気ディスクＡの回転により生ずる空気流で１μ
簿以下で浮上し、磁気ディスク膜上をシークし、読み／
書きを行い、磁気ディスクＡの回転停止により再び磁気
ヘッド６は磁気ディスク膜上に停止する。磁気ヘッド６
はフェライト材もしくはアルζすで、底置が平担に構成
され、又磁気ディスクＡも平担で、表面に潤滑剤５が塗
布されているため、磁気ヘッド６は磁気ディスク人に密
着してしまう問題がある。
そこで、上記密着を防ぐため１こ、磁気ディスクＡ′は
第３図に示すように、前記保役膜４上に無数の突起８設
け、その上に潤滑剤５を塗布する。この突起８により磁
気ヘッド６の密着が防げ、また平滑な面に比べて摩擦係
数も小さくなる。
第３図に示すように、前記保役膜４上に無数の突起８設
け、その上に潤滑剤５を塗布する。この突起８により磁
気ヘッド６の密着が防げ、また平滑な面に比べて摩擦係
数も小さくなる。
（ｏ） 従来技術と問題点
従来、上記のように突起８を持つ磁気ディスクＡ′の製
造方法は、例えば基板１上に形成された磁性層３上に、
珪素（Ｓｌ）を含む溶剤と易熱分解性ないし島熱蒸発性
の物質（例えば流動パフフィン等）を含む混合液を塗布
した後、焼付は混合液の硬化と易熱分解性ないし易熱蒸
発性の物質の分解。
造方法は、例えば基板１上に形成された磁性層３上に、
珪素（Ｓｌ）を含む溶剤と易熱分解性ないし島熱蒸発性
の物質（例えば流動パフフィン等）を含む混合液を塗布
した後、焼付は混合液の硬化と易熱分解性ないし易熱蒸
発性の物質の分解。
蒸発を同時に行い（例えば流動パラフィンの蒸発した痕
跡が凹部や突起となる）、無数の突起８を持った保護膜
４を作り、その上に潤滑剤５を塗布している。
跡が凹部や突起となる）、無数の突起８を持った保護膜
４を作り、その上に潤滑剤５を塗布している。
上記磁気ディスクＡ′は突起８により停止中磁気ヘッド
６との接触面を少くシ、密着を起さないので、磁気ヘッ
ド６が急激に磁気ディスクＡ′面から引き剥される際の
衝撃によるヘッドクラシ鼻は防げる。しかし磁気ヘッド
６は極く僅かな隙間で浮上し、読み／書きの動作を行う
ため、その動作中に振動等により磁気ヘッド６が磁気デ
ィスクＡ′に接触し、その衝撃により磁気ディスクＡ′
の保！ｉ！Ｘ４を傷め、磁性層の損傷を起す問題がある
。
６との接触面を少くシ、密着を起さないので、磁気ヘッ
ド６が急激に磁気ディスクＡ′面から引き剥される際の
衝撃によるヘッドクラシ鼻は防げる。しかし磁気ヘッド
６は極く僅かな隙間で浮上し、読み／書きの動作を行う
ため、その動作中に振動等により磁気ヘッド６が磁気デ
ィスクＡ′に接触し、その衝撃により磁気ディスクＡ′
の保！ｉ！Ｘ４を傷め、磁性層の損傷を起す問題がある
。
（ｄ） 発明の目的
本発明の目的は磁気ヘッドの読み／書き動作中に、振動
等により磁気ヘッドが磁気ディスクに接触したとき、そ
の衝撃力を緩和し、磁性層を損傷させないようにした磁
気ディスクの製造方法を提供することにある。
等により磁気ヘッドが磁気ディスクに接触したとき、そ
の衝撃力を緩和し、磁性層を損傷させないようにした磁
気ディスクの製造方法を提供することにある。
（ｅｌ 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、基板上に磁気記録層
を形成し、該磁気記録層上に保ｌｌ！膜を形成し、該保
ａＸ上に凹凸膜を形成した磁気ディスクの製造方法にお
いて、前記凹凸膜上に、熱硬化性樹脂を含む溶剤を塗布
した後、焼付は凹凸状の樹脂膜を形成するか、或いは前
記保護１に、珪素を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸
発性の物質を含む混合液に、熱硬化性樹脂を添加した塗
布液を塗布した後、焼付は前記凹凸膜を形成することを
特徴とする磁気ディスク製造方法を提供することにより
達成される。
を形成し、該磁気記録層上に保ｌｌ！膜を形成し、該保
ａＸ上に凹凸膜を形成した磁気ディスクの製造方法にお
いて、前記凹凸膜上に、熱硬化性樹脂を含む溶剤を塗布
した後、焼付は凹凸状の樹脂膜を形成するか、或いは前
記保護１に、珪素を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸
発性の物質を含む混合液に、熱硬化性樹脂を添加した塗
布液を塗布した後、焼付は前記凹凸膜を形成することを
特徴とする磁気ディスク製造方法を提供することにより
達成される。
（ｆ） 発明の実施例
以下本発明の実施例を図面により詳述する。
第４図は本発明の磁気ディスク製造方法で作成された磁
気ディスクＡ′の断面図を示す。
気ディスクＡ′の断面図を示す。
図において、磁気ディスクＡ′は＠ａ図で説明した従来
の磁気ディスク製造方法と同じように、基板１上にアル
マイト処理Ｍ２を形成し、その処理ｊ［２上をポリクシ
、シ、その上に磁性膜３をスパッタ等で形成し、その上
に珪素（８１）を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸発
性の物質を含む混合液を塗布した後、焼付は混合液の硬
化と易熱分解性の物質の分解蒸発を同時に行い、無数の
突起８を持った保護ｌｌＸ４を作る。本発明ではその上
に０．２〜１．０チの熱硬化性樹脂（フェノール）を含
有したエチルセロソルブアセテ−） （ＥＣＡ）？ｉｌ
液を塗布し、２３０〜２５０℃で１時間焼付は凹凸状の
樹脂膜（厚さ１０〜１００＾〕９を作り、その上に潤滑
剤５を塗布する。
の磁気ディスク製造方法と同じように、基板１上にアル
マイト処理Ｍ２を形成し、その処理ｊ［２上をポリクシ
、シ、その上に磁性膜３をスパッタ等で形成し、その上
に珪素（８１）を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸発
性の物質を含む混合液を塗布した後、焼付は混合液の硬
化と易熱分解性の物質の分解蒸発を同時に行い、無数の
突起８を持った保護ｌｌＸ４を作る。本発明ではその上
に０．２〜１．０チの熱硬化性樹脂（フェノール）を含
有したエチルセロソルブアセテ−） （ＥＣＡ）？ｉｌ
液を塗布し、２３０〜２５０℃で１時間焼付は凹凸状の
樹脂膜（厚さ１０〜１００＾〕９を作り、その上に潤滑
剤５を塗布する。
上記のような方法で磁気ディスクＡ’を形成することに
より、磁性膜３を保護する保１１１ｊ［４上の突起８に
より磁気ヘッド６と磁気ディスクＡ′面の接触を少くし
、磁気ヘッド６の吸着を防ぐ、又保護膜４上の突起８に
より形成された樹脂膜９の凹部で保持される潤滑剤５に
より磁気ヘッド６の滑走摩擦を減少し、さらに樹脂膜４
により浮上中の磁気ヘッド６と磁気ディスクＡ′の振動
時の接触衝撃力が吸収され、保１ｉ膜４を傷めることは
ない。
より、磁性膜３を保護する保１１１ｊ［４上の突起８に
より磁気ヘッド６と磁気ディスクＡ′面の接触を少くし
、磁気ヘッド６の吸着を防ぐ、又保護膜４上の突起８に
より形成された樹脂膜９の凹部で保持される潤滑剤５に
より磁気ヘッド６の滑走摩擦を減少し、さらに樹脂膜４
により浮上中の磁気ヘッド６と磁気ディスクＡ′の振動
時の接触衝撃力が吸収され、保１ｉ膜４を傷めることは
ない。
又、第５図は本発明の別の製造方法で作成された磁気デ
ィスクＡ”の断面図を示す。
ィスクＡ”の断面図を示す。
図において、磁気ディスクＡ”は第３図で説明した従来
の磁気ディスク製造方法と同じように、基板１上にアル
マイト処理膜２を形成し、その処理膜２上をボリッシ、
シ、その上に磁性Ｍ３をスパッタ等で形成し、その上に
本発明では、珪素（８１）を含む溶剤と易熱分解性ない
し易熱蒸発性物質を含む混合液に、熱硬化性樹脂（フェ
ノール）を添加した塗布液を塗布する。その重量比は実
施例では、流動パラフィン（０，３％）＋ ＣＳｔ溶液
＋フェノール〕（５〜１０チ）＋ＥＣＡ溶液（残量９５
〜９０チ）の割合とした。その後、２５０〜３００℃で
１時間焼付け、混合液の硬化と易熱分解性の物質の分解
、蒸発を同時に行い、内部に樹脂１０を持った無数の突
起１１を持った保護膜１２を作り、その上に潤滑剤５を
塗布する。
の磁気ディスク製造方法と同じように、基板１上にアル
マイト処理膜２を形成し、その処理膜２上をボリッシ、
シ、その上に磁性Ｍ３をスパッタ等で形成し、その上に
本発明では、珪素（８１）を含む溶剤と易熱分解性ない
し易熱蒸発性物質を含む混合液に、熱硬化性樹脂（フェ
ノール）を添加した塗布液を塗布する。その重量比は実
施例では、流動パラフィン（０，３％）＋ ＣＳｔ溶液
＋フェノール〕（５〜１０チ）＋ＥＣＡ溶液（残量９５
〜９０チ）の割合とした。その後、２５０〜３００℃で
１時間焼付け、混合液の硬化と易熱分解性の物質の分解
、蒸発を同時に行い、内部に樹脂１０を持った無数の突
起１１を持った保護膜１２を作り、その上に潤滑剤５を
塗布する。
上記のような方法で磁気ディスクＡ′を形成することζ
こより、磁性膜３を保護する保験膜１２上の突起１１内
の樹脂ｌＯにより、突起１１に柔軟性が増し、前述の第
４図で説明したと同様に、浮上中の磁気ヘッド６と磁気
ディスクＡ ”の振動時の接触衝撃力が吸収され保護膜
１２を傷めることはない。その他の効果も第４図の磁気
ディスクと全く同様である。
こより、磁性膜３を保護する保験膜１２上の突起１１内
の樹脂ｌＯにより、突起１１に柔軟性が増し、前述の第
４図で説明したと同様に、浮上中の磁気ヘッド６と磁気
ディスクＡ ”の振動時の接触衝撃力が吸収され保護膜
１２を傷めることはない。その他の効果も第４図の磁気
ディスクと全く同様である。
なお、本発明の製造方法で作成した磁気ディスクＡ’、
Ａ”と従来の製造方法により作成した磁気ディスクＡ′
を実際の装置に取付け、保護膜の機械的強度を比較した
。その結果、従来の磁気ディスクＡ′は磁気ヘッド６を
３０ｆｒの力で持ち上げ、落下したとき、保護膜４が破
れ磁性ｌｌ＆３を傷めたが、本発明の磁気ディスクＡ’
、Ａ”は磁気ヘッド６を５０ｆｒで持ち上げ、落下して
も保１１ｇ４が傷まず、当然磁性膜３の傷みもなかりた
。
Ａ”と従来の製造方法により作成した磁気ディスクＡ′
を実際の装置に取付け、保護膜の機械的強度を比較した
。その結果、従来の磁気ディスクＡ′は磁気ヘッド６を
３０ｆｒの力で持ち上げ、落下したとき、保護膜４が破
れ磁性ｌｌ＆３を傷めたが、本発明の磁気ディスクＡ’
、Ａ”は磁気ヘッド６を５０ｆｒで持ち上げ、落下して
も保１１ｇ４が傷まず、当然磁性膜３の傷みもなかりた
。
億） 発明の効果
以上詳細に説明したように、本発明の磁気ディスク製造
方法は磁性膜の保護膜上に形成した凹凸膜上に、さらに
熱硬化性樹脂を含む溶剤を塗布。
方法は磁性膜の保護膜上に形成した凹凸膜上に、さらに
熱硬化性樹脂を含む溶剤を塗布。
焼付けして樹脂膜を形成するか、或いは磁性膜の保護膜
上に８１を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸発性の物
質を含む混合液に、熱硬化性樹脂を添加した塗布液を塗
布、焼付し凹凸膜を形成することにより、従来と同様に
凹凸膜による磁気へ。
上に８１を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸発性の物
質を含む混合液に、熱硬化性樹脂を添加した塗布液を塗
布、焼付し凹凸膜を形成することにより、従来と同様に
凹凸膜による磁気へ。
ドとの密着を防ぎ、摩擦係数も少くでき、耐摩耗性を増
し、さらに振動等により磁気ヘッドと磁気ディスクが接
触したとき、樹脂によりその衝撃を吸収するので、従来
のように保護膜を損傷させ、磁性層を傷めることはない
。
し、さらに振動等により磁気ヘッドと磁気ディスクが接
触したとき、樹脂によりその衝撃を吸収するので、従来
のように保護膜を損傷させ、磁性層を傷めることはない
。
第１図は従来の磁気ディスクの構成を示す断面図、第２
図は磁気ヘッドの浮上を説明する図、第３図は従来の製
造方法で作成された磁気ディスクの構成を示す断面図、
第４図は本発明の製造方法で作成された磁気ディスクの
構成を示す断面図、第５図は本発明の別の製造方法で作
成された磁気ディスクの構成を示す断面図である０ 図において、１はアルｉ基板、２はアルマイト処理膜、
３は磁性膜、４は保護Ｌ ５は潤滑剤。 ８は突起、９は樹脂膜、１０は樹脂、１１は突起。 １２は保設膜を示す。 卒 １ 図 Ａ 半３月 一￥；４図 峯 ５ 囚 ハ゛′ ノ
図は磁気ヘッドの浮上を説明する図、第３図は従来の製
造方法で作成された磁気ディスクの構成を示す断面図、
第４図は本発明の製造方法で作成された磁気ディスクの
構成を示す断面図、第５図は本発明の別の製造方法で作
成された磁気ディスクの構成を示す断面図である０ 図において、１はアルｉ基板、２はアルマイト処理膜、
３は磁性膜、４は保護Ｌ ５は潤滑剤。 ８は突起、９は樹脂膜、１０は樹脂、１１は突起。 １２は保設膜を示す。 卒 １ 図 Ａ 半３月 一￥；４図 峯 ５ 囚 ハ゛′ ノ
Claims (2)
- （１）基板上に磁気記録層を形成し、該磁気記録層上に
保護膜を形成し、該保護膜上に凹凸膜を形成した磁気デ
ィスクの製造方法に詔いて、前記凹凸膜上に熱硬化性樹
脂を含む溶剤を塗布した後、焼付け、凹凸状の樹ａＸを
形成したことを特徴とする磁気ディスク製造方法。 - （２）基板上に磁気記録層を形成し、該磁気記録層上に
保１ｉｌｉ膜を形成し、該保護膜上に凹凸膜を形成した
磁気ディスクの製造方法ｌこおいて、前記保護膜上に、
珪素を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸発性の物質を
含む混合液に、熱硬化性樹脂を添加した塗布液を塗布し
た後、焼付は前記凹凸膜を形成することを４１ｉＦ徴と
する磁気ディスク製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5192884A JPS60195738A (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | 磁気デイスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5192884A JPS60195738A (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | 磁気デイスク製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60195738A true JPS60195738A (ja) | 1985-10-04 |
Family
ID=12900534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5192884A Pending JPS60195738A (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | 磁気デイスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60195738A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0464786A2 (en) * | 1990-07-04 | 1992-01-08 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US5914168A (en) * | 1994-09-30 | 1999-06-22 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic disc device |
| US7998605B2 (en) | 2005-09-28 | 2011-08-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium and method for production thereof |
-
1984
- 1984-03-16 JP JP5192884A patent/JPS60195738A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0464786A2 (en) * | 1990-07-04 | 1992-01-08 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US5656349A (en) * | 1990-07-04 | 1997-08-12 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US5914168A (en) * | 1994-09-30 | 1999-06-22 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic disc device |
| US7998605B2 (en) | 2005-09-28 | 2011-08-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium and method for production thereof |
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