JP2002080460A - 除草性テトラゾール誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 除草剤の有効成分として優れた活性を示すテ
トラゾール誘導体を提供すること。 【解決手段】 式 【化１】 式中Ｒ¹はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコ
キシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホ
ニル、アルキルスルホニルオキシ、ニトロ又はシアノを
示し、Ｒ²はアルキル、シクロアルキル、ハロアルキ
ル、アルケニル又はフェニルを示し、ｍは０.１又は２
を示し、ｍが２を示すとき、２個のＲ¹は同一もしくは
相異なっていてもよく、ｎは１又は２を示し、Ｑは基 【化２】 等を示し、そしてＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸はそれぞ
れ独立に水素原子又はアルキルを示す、で表わされるテ
トラゾール誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なテトラゾー
ル誘導体及びその除草剤としての利用、新規中間体並び
に混合除草剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ある種のテトラゾール誘導体が、除草剤
としての作用を示すことは既に知られている（特開平１
１−１２２７５号公報、特開平１１−２１２８０号公報
等参照）。また、ある種の複素環誘導体が、除草剤とし
ての作用を示すことも既に知られている（米国特許第５
８３４４０２号明細書、米国特許第５８４６９０６号明
細書、ドイツ特許公開第１９８４６７９２号明細書、Ｐ
ＣＴ国際公開ＷＯ９９／１０３２７パンフレット等参
照）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の誘導体
は除草剤としての効果及び／又は安全性の点で十分に満
足できるものではなかった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、除草剤と
してより高い効果を有し且つより高い安全性を有する新
規化合物を創製すべく研究を行った。その結果、優れた
生物活性を持つ下記式（Ｉ）で表される新規なテトラゾ
ール誘導体を見出した。

【０００５】

【化１２】

【０００６】式中、Ｒ¹はハロゲン、メチル、エチル、
ハロメチル、メトキシ、エトキシ、Ｃ_1-2ハロアルコキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、Ｃ_1-3アルキルスルホニ
ル、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキ
シ、ニトロ又はシアノを示し、Ｒ²はＣ_1-6アルキル、場
合によりハロゲンもしくはＣ_1-3アルキルで置換されて
いてもよいＣ_3-6シクロアルキル、Ｃ_1-4ハロアルキル、
Ｃ_2-6アルケニル、又は場合によりハロゲン、Ｃ_1-3アル
キル、Ｃ_1-2ハロアルキルもしくはニトロで置換されて
いてもよいフェニルを示し、ｍは０、１又は２を示し、
ｍが２を示すとき、２個のＲ¹は同一もしくは相異なっ
ていてもよく、ｎは１又は２を示し、Ｑは基

【０００７】

【化１３】

【０００８】

【化１４】

【０００９】を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷
及びＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子又はメチルを示し、
Ｒ⁹は水素原子、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル、ハロメチ
ル、メトキシ又はニトロを示し、Ｒ¹⁰はＣ_1-6アルキル
を示し、Ｒ¹¹はハロゲンを示し、ｋは１又は２を示す。

【００１０】本発明の上記式（Ｉ）の化合物は、例え
ば、下記の製法（ａ）〜（ｃ）のいずれかによって合成
することができる。製法（ａ） ：Ｑが基（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）を示す式
（Ｉ）の化合物を製造する場合： 式

【００１１】

【化１５】

【００１２】式中、Ｒ¹、Ｒ²、ｍ及びｎは前記と同義で
あり、そしてＴ¹は基

【００１３】

【化１６】

【００１４】を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷
及びＲ⁸は前記と同義である、で表される化合物を塩基
及びシアン化物の存在下に転位反応させる方法。製法（ｂ） ：Ｑが基（Ｑ−６）又は（Ｑ−７）を示し、
このとき該基中のＲ¹¹がクロル又はブロムを示す式
（Ｉ）の化合物を製造する場合： 式

【００１５】

【化１７】

【００１６】式中、Ｒ¹、Ｒ²、ｍ及びｎは前記と同義で
あり、Ｑｂは基

【００１７】

【化１８】

【００１８】又は

【００１９】

【化１９】

【００２０】を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷
及びＲ⁸は前記と同義である、で表される化合物をハロ
ゲン化剤と反応させる方法。製法（ｃ） ：Ｑが基（Ｑ−３）、（Ｑ−４）又は（Ｑ−
５）を示す式（Ｉ）の化合物を製造する場合： 式

【００２１】

【化２０】

【００２２】式中Ｒ¹、Ｒ²、ｍ及びｎは前記と同義であ
り、Ｑｃは基

【００２３】

【化２１】

【００２４】又は

【００２５】

【化２２】

【００２６】を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷
及びＲ⁸は前記と同義であり、Ｒ^11cはクロル又はブロム
を示す、で表される化合物を 式 Ｒ¹²−ＳＨ （ＩＩＩ） 式中Ｒ¹²は基

【００２７】

【化２３】

【００２８】又はＲ¹⁰を示し、ここでＲ⁹、Ｒ¹⁰及びｋ
は前記と同義である、 で表される化合物と反応させる方法。

【００２９】本発明により提供される式（Ｉ）のテトラ
ゾール誘導体は強力な除草作用を示す。本発明に従う式
（Ｉ）のテトラゾール誘導体は、ドイツ特許公開第１９
８４６７９２号明細書に記載された一般式で示される化
合物に概念上包含されるものであるが、該明細書には具
体的に記載されていない新規化合物である。そして、本
発明の式（Ｉ）の化合物は、意外にも、上記ドイツ特許
公開明細書に具体的に記載されている公知の化合物に比
して、極めて強力な除草作用を現し、特に、水田雑草に
対して優れた除草作用を示すにもかかわらず水稲に対し
実質的に薬害を現わさず、理想的な水稲用選択性除草活
性化合物である。

【００３０】また、本発明の式（Ｉ）のテトラゾール誘
導体は、公知の除草剤又は薬害軽減剤と混合することに
より、混合除草剤組成物として、より一層強力な除草作
用を示す。

【００３１】本明細書において、「ハロゲン」は、フル
オル、クロル、ブロム又はヨードを示し、好ましくはフ
ルオル、クロル、ブロムを示す。

【００３２】「アルキル」は、直鎖状又は分岐鎖状であ
ることができ、具体的には、例えば、メチル、エチル、
ｎ−もしくはｉｓｏ−プロピル、ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅ
ｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−、ｉｓｏ−、ｎｅ
ｏ−もしくはｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−もしくはｉｓｏ
−ヘキシル等を例示することができる。

【００３３】「シクロアルキル」には、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが
包含され、これらシクロアルキルは、場合によりハロゲ
ン（例えば、フルオル、クロル、ブロム等）、Ｃ_1-3ア
ルキル（例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉｓｏ
−プロピル等）によって置換されていてもよく、複数の
置換基が存在する場合、それらは同一であっても相異な
っていてもよい。そのような置換されたシクロアルキル
の具体例としては、１−メチルシクロプロピル、１−エ
チルシクロプロピル、１−ｎ−プロピルシクロプロピ
ル、１−メチル−２−フルオロシクロプロピル、２−メ
チルシクロプロピル、２−フルオロシクロプロピル、１
−メチル−２,２−ジフルオロシクロプロピル、１−メ
チル−２,２−ジクロロシクロプロピル、２,２−ジフル
オロシクロプロピル、２−メチルシクロペンチル、１−
メチルシクロヘキシル、２−メチルシクロヘキシル、３
−メチルシクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、
２,３−ジメチルシクロヘキシル、２,６−ジメチルシク
ロヘキシル、２,５−ジメチルシクロヘキシル等を例示
することができる。

【００３４】「アルケニル」としては、例えば、ビニ
ル、アリル、１−メチルアリル、１,１−ジメチルアリ
ル、２−ブテニル等が挙げられる。

【００３５】「ハロアルキル」は少なくとも１つの水素
がハロゲンで置換された直鎖状又は分岐鎖状のアルキル
を示し、例えば、１〜６個のフルオル及び／又はクロル
により置換されたＣ_1-4アルキルを例示することがで
き、その具体例としては、ジフルオロメチル、トリフル
オロメチル、２,２,２−トリフルオロエチル、ジクロロ
メチル、２−クロロ−１,１,２−トリフルオロエチル、
３−フルオロプロピル、３−クロロプロピル、２,２,
３,３,３−ペンタフルオロプロピル、１,２,２,３,３,
３−ヘキサフルオロプロピル等を挙げることができる。

【００３６】「ハロアルコキシ」におけるハロアルキル
部分は、前記「ハロアルキル」と同義であることがで
き、具体的に「ハロアルコキシ」としては、例えば、ジ
フルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、２−フルオ
ロエトキシ、２−クロロエトキシ、２−ブロモエトキ
シ、２,２,２−トリフルオロエトキシ、３−クロロプロ
ポキシ等が挙げられる。

【００３７】「アルキルスルホニル」は、アルキル部分
が上記の意味を有するアルキル−ＳＯ₂−基を示し、具
体的には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−
もしくはｉｓｏ−プロピルスルホニルが包含される。

【００３８】本発明の好適な群の化合物としては、前記
式（Ｉ）において、Ｒ¹がフルオル、クロル、ブロム、
メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エト
キシ、Ｃ_1-2ハロアルコキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスル
ホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、ニトロ又はシ
アノを示し、Ｒ²がＣ_1-3アルキル、場合によりフルオ
ル、クロル、メチルもしくはエチルで置換されていても
よいシクロプロピル、Ｃ_1-3ハロアルキル、Ｃ_2-4アルケ
ニル、又は場合によりフルオル、クロル、メチル、エチ
ル、トリフルオロメチルもしくはニトロで置換されてい
てもよいフェニルを示し、ｍは１又は２を示し、ｍが２
を示すとき、２個のＲ¹は同一もしくは相異なっていて
もよく、ｎは１又は２を示し、Ｑは基

【００３９】

【化２４】

【００４０】

【化２５】

【００４１】を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷
及びＲ⁸はそれぞれ独立に、水素原子又はメチルを示
し、Ｒ⁹は水素原子、フルオル、クロル、メチル、エチ
ル又はトリフルオロメチルを示し、Ｒ¹⁰はメチル又はエ
チルを示し、Ｒ¹¹はクロル又はブロムを示し、ｋは１を
示す、化合物が挙げられる。

【００４２】本発明の更に好ましい群の化合物として
は、前記式（Ｉ）において、Ｒ¹がクロル、ブロム、メ
チル又はメチルスルホニルを示し、Ｒ²がメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル又はシクロプロピ
ルを示し、ｍが２を示し、このとき２個のＲ¹はそれぞ
れベンゼン環上の２位と４位に結合し、且つ２個のＲ¹
は同一もしくは相異なっていてもよく、ｎが１を示し、
基

【００４３】

【化２６】

【００４４】がベンゼン環上の３位に結合し、Ｑが基

【００４５】

【化２７】

【００４６】又は

【００４７】

【化２８】

【００４８】を示す、化合物が挙げられる。

【００４９】前記製法（ａ）は、原料として、例えば、
２,４−ジクロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ３−オ
キソ−１−シクロヘキセニルを用いる場合、下記の反応
式で表すことができる。

【００５０】

【化２９】

【００５１】前記製法（ｂ）は、原料として、例えば、
２−｛２,４−ジクロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイ
ル｝シクロヘキサン−１,３−ジオンと塩素化剤とし
て、例えば、二塩化オキサリルとを用いる場合、下記の
反応式で表すことができる。

【００５２】

【化３０】

【００５３】前記製法（ｃ）は、原料として、例えば、
３−クロロ−２−｛２,４−ジクロロ−３−｛［（１−
メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチ
ル｝ベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１−オンとチ
オフェノールとを用いる場合、下記の反応式で表すこと
ができる。

【００５４】

【化３１】

【００５５】上記式（Ｉ）においてＱに対して定義され
ている基（Ｑ−１）には

【００５６】

【化３２】

【００５７】の互変異性の基が存在し、また、基（Ｑ−
２）には

【００５８】

【化３３】

【００５９】の互変異性の基が存在し得る。

【００６０】かくして、本発明の式（Ｉ）の化合物に
は、Ｑによって表される基（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）が
上記の互変異性の基（Ｑ−１ａ）、（Ｑ−１ｂ）、（Ｑ
−２ａ）又は（Ｑ−２ｂ）を示す場合の式（Ｉ）の化合
物も包含されるが、本明細書においては、特にことわら
ない限り、これらの基は前記の構造で表示された基（Ｑ
−１）又は（Ｑ−２）で代表させることを了解された
い。

【００６１】上記製法（ａ）において、原料である式
（ＩＩ）の化合物は、従来の文献に未記載の新規化合物
であり、例えば、特開平２−２２２号公報、特開平２−
１７３号公報、特開平２−６４２５号公報等の文献に記
載される方法により、式

【００６２】

【化３４】

【００６３】式中、Ｒ¹、Ｒ²、ｍ及びｎは前記と同義で
あり、そしてＭはハロゲンを示す、で表される化合物を
式 Ｑａ−Ｈ （Ｖ） 式中、Ｑａは基

【００６４】

【化３５】

【００６５】を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷
及びＲ⁸は前記と同義である、で表される化合物と、適
当な縮合剤、例えば、トリエチルアミンの存在下に、適
当な希釈剤、例えば、ジクロロメタン中で反応させるこ
とにより製造することができる。

【００６６】上記反応において使用される式（ＩＶ）の
化合物もまた従来の文献に未記載の新規化合物であり、
例えば、式

【００６７】

【化３６】

【００６８】式中、Ｒ¹、Ｒ²、ｍ及びｎは前記と同義で
ある、で表される化合物をハロゲン化剤、例えば、オキ
シ塩化リン、オキシ臭化リン、三塩化リン、三臭化リ
ン、ホスゲン、二塩化オキサリル、塩化チオニル、臭化
チオニル等と反応させることにより製造することができ
る。

【００６９】一方、上記式（ＩＩ）の化合物の製造にお
いて、原料として用いられる式（Ｖ）の化合物はそれ自
体既知のものであり、市販品を使用することができ、又
は例えば、特開平２−６４２５号公報、特開平１０−２
６５４１５号公報、特開平１０−２６５４４１号公報等
の文献に記載されている方法に準じて容易に製造するこ
とができる。

【００７０】上記式（ＩＶ）の化合物の製造のために用
いられる式（ＶＩ）の化合物もまた従来の文献に未記載
の新規化合物であり、例えば、式

【００７１】

【化３７】

【００７２】式中、Ｒ¹、Ｒ²、ｍ及びｎは前記と同義で
あり、そしてＴ²はＣ_1-4アルコキシ、好ましくはメトキ
シ又はエトキシを示す、 で表される化合物を、適当な塩基、例えば、水酸化ナト
リウムの存在下に、適当な希釈剤、例えば、含水ジオキ
サン中で加水分解することにより容易に製造することが
できる。

【００７３】上記式（ＶＩＩ）の化合物もまた従来の文
献に未記載の新規化合物であり、例えば、式

【００７４】

【化３８】

【００７５】式中、Ｒ²は前記と同義である、で表され
る化合物を式

【００７６】

【化３９】

【００７７】式中、Ｒ¹、ｍ及びｎは前記と同義であ
り、Ｔ²はＣ_1-4アルキル、好ましくはメチル又はエチル
を示し、そしてＭはハロゲンを示す、 で表される化合物と、適当な縮合剤、例えば、炭酸カリ
ウムの存在下に、適当な希釈剤、例えば、Ｎ,Ｎ−ジメ
チルホルムアミド中で反応させることにより容易に得る
ことができる。

【００７８】上記式（ＶＩＩＩ）の化合物は、例えば B
erichte Vol.２８，ｐ.７４−７６（１８９５）に記載
されている既知化合物であり、同文献に記載されている
方法により容易に製造することができる。

【００７９】他方、上記式（ＩＸ）の化合物は、その一
部は従来の文献に未記載の新規化合物であるが、例え
ば、特開平２−１７３号公報に記載されている方法によ
り容易に製造することができる。

【００８０】上記製法（ａ）において、原料である式
（ＩＩ）の化合物は、また、前記式（ＶＩ）の化合物か
ら、例えば、ＷＯ９３／１８０３１に記載されている方
法により製造することもできる。

【００８１】前記製法（ａ）において、原料として用い
られる式（ＩＩ）の化合物の代表例としては、下記のも
のを例示することができる。

【００８２】２−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ３−オキソ−
１−シクロヘキセニル、２−｛［（１−シクロプロピル
−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４
−フルオロ安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニ
ル、４−クロロ−２−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ３−オキ
ソ−１−シクロヘキセニル、４−クロロ−２−｛［（１
−エチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチ
ル｝安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、４
−クロロ−２−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ３−オ
キソ−１−シクロヘキセニル、２−ブロモ−４−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセ
ニル、４−ブロモ−２−｛［（１−フェニル−１Ｈ−テ
トラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ３−
オキソ−１−シクロヘキセニル、２−｛［（１−メチル
−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４
−トリフルオロメチル安息香酸 ３−オキソ−１−シク
ロヘキセニル、２−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチル安息香酸
３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２,４−ジクロ
ロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−
イル）チオ］メチル｝安息香酸 ３−オキソ−１−シク
ロヘキセニル、２,４−ジクロロ−３−｛［（１−シク
ロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メ
チル｝安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、
２,４−ジクロロ−３−｛［（１−（２−クロロフェニ
ル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝
安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２−ク
ロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５
−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニル安息香
酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２−クロロ−
３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−
５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニル安息
香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２−クロロ
−３−｛［（１−（ｎ−ペンチル）−１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニル
安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２−ク
ロロ−３−｛［（１−（３−ジフルオロメチルフェニ
ル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝
−４−メチルスルホニル安息香酸 ３−オキソ−１−シ
クロヘキセニル、４−クロロ−３−｛［（１−メチル−
１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−２−
メチルスルファニル安息香酸 ３−オキソ−１−シクロ
ヘキセニル、２,４−ジメチルスルファニル−３−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキ
セニル、４−クロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テ
トラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−２−メチルス
ルホニル安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニ
ル、２−クロロ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ３−オキ
ソ−１−シクロヘキセニル、４−｛［（１−メチル−１
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−２−メ
トキシ安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、
４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）チオ］メチル｝−２−メチルスルホニルオキシ安息
香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、４−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−２−ニトロ安息香酸 ３−オキソ−１−
シクロヘキセニル、４−｛［（１−エチル−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−２−ニトロ安息
香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−４−トリフルオロメチル安息香酸 ５,
５−ジメチル−３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２
−ブロモ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール
−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ４,４−ジメチ
ル−３−オキソ−１−シクロヘキセニル、２,４−ジク
ロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５
−イル）チオ］メチル｝安息香酸 ４,４−ジメチル−
３−オキソ−１−シクロヘキセニル、４−｛４−クロロ
−２−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）チオ］メチル｝ベンゾイルオキシ｝ビシクロ［３.
２.１］−３−オクテン−２−オン、４−｛２,４−ジク
ロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイルオキシ｝ビ
シクロ［３.２.１］−３−オクテン−２−オン、４−
｛２−クロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−
テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチル
スルホニルベンゾイルオキシ｝ビシクロ［３.２.１］−
３−オクテン−２−オン等。

【００８３】前記式（ＩＩ）の化合物の製造において、
原料として用いられる式（ＩＶ）の化合物の代表例とし
ては、下記のものを例示することができる。

【００８４】４−クロロ−２−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイル
クロライド、４−ブロモ−２−｛［（１−シクロプロピ
ル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベ
ンゾイルクロライド、２−｛［（１−メチル−１Ｈ−テ
トラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−トリフル
オロメチルベンゾイルクロライド、２,４−ジクロロ−
３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）チオ］メチル｝ベンゾイルクロライド、２,４−ジ
クロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイルクロライ
ド、２−クロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホ
ニルベンゾイルクロライド、２−クロロ−３−｛［（１
−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−４−メチルスルホニルベンゾイルクロラ
イド、２−クロロ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイルクロラ
イド、２−ブロモ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイルクロラ
イド、４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５
−イル）チオ］メチル｝−２−ニトロベンゾイルクロラ
イド、２,４−ジクロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイル
ブロマイド、２−クロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチ
ルスルホニルベンゾイルブロマイド、２−クロロ−３−
｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−５−
イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニルベンゾイ
ルブロマイド等。

【００８５】前記式（ＩＶ）の化合物の製造において、
原料として用いられる式（ＶＩ）の化合物の代表例とし
ては、下記のものを例示することができる。

【００８６】４−クロロ−２−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸、
４−ブロモ−２−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テ
トラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸、２−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−４−トリフルオロメチル安息香酸、２,
４−ジクロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸、２,４−ジ
クロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸、２−クロ
ロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−
イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニル安息香
酸、２−クロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチ
ルスルホニル安息香酸、２−クロロ−４−｛［（１−メ
チル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝
安息香酸、２−ブロモ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−
テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸、４
−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）
チオ］メチル｝−２−ニトロ安息香酸、２,４−ジクロ
ロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−
イル）チオ］メチル｝安息香酸、２−クロロ−３−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−４−メチルスルホニル安息香酸、２−ク
ロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニ
ル安息香酸等。

【００８７】前記式（ＶＩ）の化合物の製造において、
原料として用いられる式（ＶＩＩ）の化合物の代表例と
しては、下記のものを例示することができる。

【００８８】４−クロロ−２−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸メ
チル、４−ブロモ−２−｛［（１−シクロプロピル−１
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸
メチル、２−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−
５−イル）チオ］メチル｝−４−トリフルオロメチル安
息香酸メチル、２,４−ジクロロ−３−｛［（１−メチ
ル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安
息香酸メチル、２,４−ジクロロ−３−｛［（１−シク
ロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メ
チル｝安息香酸メチル、２−クロロ−３−｛［（１−メ
チル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝
−４−メチルスルホニル安息香酸メチル、２−クロロ−
３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−
５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニル安息
香酸メチル、２−クロロ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸メ
チル、２−ブロモ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸メチル、
４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）チオ］メチル｝−２−ニトロ安息香酸メチル、２,
４−ジクロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル）チオ］メチル｝安息香酸エチル、２−
クロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−
５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニル安息
香酸エチル、２−クロロ−３−｛［（１−シクロプロピ
ル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−
４−メチルスルホニル安息香酸エチル等。

【００８９】前記製法（ｂ）において、原料である式
（Ｉｂ）の化合物は、本発明の式（Ｉ）の化合物の一部
であり、上記製法（ａ）に従って容易に製造することが
できる。

【００９０】前記製法（ｂ）において、原料として用い
られる式（Ｉｂ）の化合物の代表例としては、式（Ｉ）
に包含される下記のものを例示することができる。

【００９１】２−｛４−クロロ−２−｛［（１−メチル
−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベン
ゾイル｝シクロヘキサン−１,３−ジオン、２−｛４−
ブロモ−２−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイル｝シクロ
ヘキサン−１,３−ジオン、２−｛２−｛［（１−メチ
ル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−
４−トリフルオロメチルベンゾイル｝シクロヘキサン−
１,３−ジオン、２−｛２,４−ジクロロ−３−｛［（１
−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチ
ル｝ベンゾイル｝シクロヘキサン−１,３−ジオン、２
−｛２,４−ジクロロ−３−｛［（１−シクロプロピル
−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベン
ゾイル｝シクロヘキサン−１,３−ジオン、２−｛２−
クロロ−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−
５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニルベン
ゾイル｝シクロヘキサン−１,３−ジオン、２−｛２−
クロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホ
ニルベンゾイル｝シクロヘキサン−１,３−ジオン、２
−｛２−クロロ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイル｝シクロ
ヘキサン−１,３−ジオン、２−｛２−ブロモ−４−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝ベンゾイル｝シクロヘキサン−１,３−ジ
オン、２−｛４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル）チオ］メチル｝−２−ニトロベンゾイ
ル｝シクロヘキサン−１,３−ジオン、３−｛２−クロ
ロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル）チオ］メチル｝４−メチルスルホニルベ
ンゾイル｝ビシクロ［３.２.１］−オクタン−２,４−
ジオン等。

【００９２】また、製法（ｂ）において式（Ｉｂ）の化
合物との反応に用いられるハロゲン化剤としては、例え
ば、塩化チオニル、臭化チオニル、二塩化オキサリル、
二臭化オキサリル等を挙げることができる。

【００９３】前記製法（ｃ）において、原料である式
（Ｉｃ）の化合物は、本発明の式（Ｉ）の化合物の一部
であり、上記製法（ｂ）に従って容易に製造することが
できる。

【００９４】前記製法（ｃ）において、原料として用い
られる式（Ｉｃ）の化合物の代表例としては、式（Ｉ）
に包含される下記のものを例示することができる。

【００９５】３−クロロ−２−｛４−クロロ−２−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝ベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１−
オン、３−クロロ−２−｛４−ブロモ−２−｛［（１−
シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝ベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１−
オン、３−クロロ−２−｛２−｛［（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−トリ
フルオロメチルベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１
−オン、３−クロロ−２−｛２,４−ジクロロ−３−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝ベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１−
オン、３−クロロ−２−｛２,４−ジクロロ−３−
｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−５−
イル）チオ］メチル｝ベンゾイル｝−２−シクロヘキセ
ン−１−オン、３−クロロ−２−｛２−クロロ−３−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−４−メチルスルホニルベンゾイル｝−２
−シクロヘキセン−１−オン、３−クロロ−２−｛２−
クロロ−３−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホ
ニルベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１−オン、３
−クロロ−２−｛２−クロロ−４−｛［（１−メチル−
１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾ
イル｝−２−シクロヘキセン−１−オン、３−クロロ−
２−｛２−ブロモ−４−｛［（１−メチル−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベンゾイル｝−２
−シクロヘキセン−１−オン、３−クロロ−２−｛４−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝−２−ニトロベンゾイル｝−２−シクロヘ
キセン−１−オン、４−クロロ−３−｛２−クロロ−３
−｛［（１−シクロプロピル−１Ｈ−テトラゾール−５
−イル）チオ］メチル｝４−メチルスルホニルベンゾイ
ル｝ビシクロ［３.２.１］−３−オクテン−２−オン
等。

【００９６】上記製法（ｃ）において、原料である式
（ＩＩＩ）の化合物は有機化学の分野でよく知られたチ
オール化合物であり、その代表例としては、下記のもの
を例示することができる。

【００９７】メチルメルカプタン、エチルメルカプタ
ン、チオフェノール、４−フルオロチオフェノール４−
クロロチオフェノール、２−メチルチオフェノール、４
−エチルチオフェノール、４−トリフルオロメチルチオ
フェノール等。

【００９８】本発明の式（Ｉ）の化合物の製造のための
前記方法（ａ）〜（ｃ）において、出発原料又は中間生
成物である式（ＩＩ）、式（ＩＶ）、式（ＶＩ）及び式
（ＶＩＩ）の各化合物はいずれも従来の文献に未記載の
新規化合物であり、これらをまとめて１つの一般式で示
すと、次式で表すことができる。

【００９９】

【化４０】

【０１００】式中、ＷはＴ¹、Ｍ、ヒドロキシ又はＴ²を
示し、ここでＲ¹，Ｒ²、ｍ、ｎ、Ｔ¹、Ｔ²及びＭは前記
と同義である。

【０１０１】前記製法（ａ）の反応は、適当な希釈剤中
で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例
としては、脂肪族、環脂肪族及び芳香族炭化水素類（場
合によっては塩素化されてもよい）、例えば、トルエ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、１,２−ジクロロ
エタン等；エーテル類、例えば、エチルエーテル、ジメ
トキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）等；ケトン類、例えば、メチルイソブチルケトン
（ＭＩＢＫ）等；ニトリル類、例えば、アセトニトリル
等；エステル類、例えば、酢酸エチル等；酸アミド類、
例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等を挙げるこ
とができる。

【０１０２】製法（ａ）は、シアン化物及び塩基の存在
下で行うことができ、その際に使用しうるシアン化物と
しては、例えば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウ
ム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素等が挙げら
れ、また、塩基としては、例えば、無機塩基として、ア
ルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩
等、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カ
ルシウム等；そして有機塩基として、第３級アミン類、
ジアルキルアミノアニリン類及びピリジン類、例えば、
トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリ
ジン（ＤＭＡＰ）、１,４−ジアザビシクロ［２,２,
２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１,８−ジアザビシクロ
［５,４,０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）等を挙げる
ことができる。

【０１０３】前記製法（ａ）は、また、相間移動触媒の
共存下で実施することができ、その際に使用しうる相間
移動触媒の例としては、クラウンエーテル類、例えば、
ジベンゾ−１８−クラウン−６、１８−クラウン−６、
１５−クラウン−５等を挙げることができる。

【０１０４】製法（ａ）の反応は、実質的に広い温度範
囲内において実施することができるが、一般には、約−
１０〜約８０℃、好ましくは約５〜約４０℃の間の温度
が好適である。また、該反応は常圧下で行うことが望ま
しいが、場合によっては加圧または減圧下で操作するこ
ともできる。

【０１０５】製法（ａ）を実施するにあたって、例え
ば、希釈剤例えばアセトニトリル中で、式（ＩＩ）の化
合物１モルに対し、１〜４モルのトリエチルアミンを、
アセトンシアンヒドリン０.０１〜０.５モルの存在下に
反応させることにより、Ｑが基（Ｑ−１）又は（Ｑ−
２）を示す場合の前記式（Ｉ）の目的化合物を得ること
ができる。

【０１０６】製法（ａ）を実施するに際して、前記式
（ＶＩ）の化合物から出発し、式（ＩＶ）の化合物及び
式（ＩＩ）の化合物を単離することなく連続してワンポ
ットで反応を行い、式（Ｉ）の化合物を得ることができ
る。

【０１０７】前記製法（ｂ）の反応は適当な希釈剤中で
実施することができ、その際に使用される希釈剤の例と
しては、脂肪族、環脂肪族及び芳香族炭化水素類（場合
によっては塩素化されてもよい）、例えば、ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル、リグロイ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、１,２−ジクロロエタン、
クロルベンゼン等；エーテル類、例えば、エチルエーテ
ル、メチルエチルエーテル、イソプロピルエーテル、ブ
チルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭ
Ｅ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル（ＤＧＭ）等；ケトン類、例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチル
−イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩ
ＢＫ）等；ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等；エステル類、例えば、酢酸エチル、酢
酸アミル等；酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−
メチルピロリドン、１,３−ジメチル−２−イミダゾリ
ジノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド（Ｈ
ＭＰＡ）等を挙げることができる。

【０１０８】製法（ｂ）の反応は、実質的に広い温度範
囲内において実施することができるが、一般には、約−
２０〜約１００℃、好ましくは約０〜約５０℃の間の温
度が好適である。また、該反応は常圧下で行うことが望
ましいが、場合によっては加圧または減圧下で操作する
こともできる。

【０１０９】製法（ｂ）を実施するにあたって、例え
ば、希釈剤例えばジクロロメタン中で、式（Ｉｂ）の化
合物１モルに対し、１〜５モルの二塩化オキザリルを反
応させることにより、Ｑが基（Ｑ−６）又は（Ｑ−７）
を示し、ここで該基中のＲ¹¹がクロル又はブロムを示す
場合の前記式（Ｉ）の目的化合物を得ることができる。

【０１１０】前記製法（ｃ）の反応は、適当な希釈剤中
で実施することができ、その際に使用される希釈剤の例
としては、脂肪族、環脂肪族及び芳香族炭化水素類（場
合によっては塩素化されてもよい）、例えば、ペンタ
ン、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル、リグロ
イン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、１,２−ジクロロエタ
ン、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等；エーテル
類、例えば、エチルエーテル、メチルエチルエーテル、
イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ジオキサン、
ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＧ
Ｍ）等；ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチルケ
トン（ＭＥＫ）、メチル−イソプロピルケトン、メチル
イソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等；ニトリル類、例え
ば、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニト
リル等；エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸アミル
等；酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピ
ロリドン等；スルホン、スルホキシド類、例えば、ジメ
チルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等；塩基、
例えば、ピリジン等を挙げることができる。

【０１１１】製法（ｃ）は、酸結合剤の存在下で行うこ
とができ、使用しうる酸結合剤としては、無機塩基とし
て、アルカリ金属の水素化物及び炭酸塩等、例えば、水
素化ナトリウム、水素化リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等；そして有機塩基として、第３級アミン
類、ジアルキルアミノアニリン類及びピリジン類、例え
ば、トリエチルアミン、１,１,４,４−テトラメチルエ
チレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）、ピリジン、４−ジメチ
ルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、１,４−ジアザビシク
ロ［２,２,２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１,８−ジア
ザビシクロ［５,４,０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）
等を挙げることができる。

【０１１２】製法（ｃ）の反応は、実質的に広い温度範
囲内において実施することができるが、一般には、約−
２０〜約１４０℃、好ましくは約０〜約１００℃の間の
温度が好適である。また、該反応は常圧下で行うことが
望ましいが、場合により加圧または減圧下で操作するこ
ともできる。

【０１１３】製法（ｃ）を実施するにあたって、例え
ば、希釈剤例えばテトラヒドロフラン中で、式（Ｉｃ）
の化合物１モルに対し、１〜５モルのチオフェノール
を、１〜５モルのトリエチルアミン存在下で反応させる
ことにより、Ｑが基（Ｑ−３）、（Ｑ−４）又は（Ｑ−
５）を示す場合の前記式（Ｉ）の目的化合物を得ること
ができる。

【０１１４】本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物及び混
合除草剤組成物は、後記生物試験例に示す如く、各種雑
草に対して優れた除草活性を示し、除草剤として使用す
ることができる。本明細書において、雑草とは広義に望
ましくない場所に生育するすべての植物を意味する。本
発明の化合物及び混合除草剤組成物は、使用濃度によっ
て、非選択性または選択性除草剤として作用する。本発
明の活性化合物及び混合除草剤組成物は、例えば、下記
の雑草と栽培植物の間で使用することができる。双子葉雑草の属 ：カラシ（Sinapis）、マメグンバイナ
ズナ（Leipidium）、ヤエムグラキヌタソウ（Galiu
m）、ハコベ（Stellaria）、アカザ・アリタソウ（Chen
opodium）、イラクサ（Urtica）、ハンゴウソウ・ノボ
ロギク・キオン（Senecio）、ヒユ・ハゲイトウ（Amara
nthus）、スベリヒユ・マツバボタン（Portulaca）、オ
ナモミ（Xanthium）、アサガオ（Ipomoea）、ミチヤナ
ギ（Polygonum）、ブタクサ（Ambrosia）、ノアザミ・
フジアザミ（Cirsium）、ノゲシ（Sonchus）、ナス・ジ
ャガイモ（Solanum）、イヌガラシ（Rorippa）、オドリ
コソウ（Lamium）、クワガタソウ・イヌノフグリ（Vero
nica）、チョウセンアサガオ（Datura）、スミレパンジ
ー（Viola）、チシマオドロ（Galeopsis）、ケシ（Papa
ver）、ヤグルマギク（Centaurea）、ハキダメギク（Ga
linsoga）、キカシグサ（Rotala）、アゼナ(Linderni
a）等。双子葉栽培植物の属 ：ワタ（Gossypium）、ダイズ（Gly
cine）、フダンソウ・サトウダイコン（Beta）、ニンジ
ン（Daucus）、インゲンマメ・アオイマダ（Phaseolu
s）、エンドウ（Pisum）、ナス・ジャガイモ（Solanu
m）、アマ（Linum）、サツマイモ・アサガオ（Ipomoe
a）、ソラマメ・ナンテンハギ（Vicia）、タバコ（Nico
tiana）、トマト（Lycopersicon）、ナンキンマメ（Ara
chis）、アブラナ・ハクサイ・カブラ・キャベツ（Bras
sica）、アキノノゲシ（Lactuca）、キュウリ・メロン
（Cucumis）カボチャ（Cucurbita）等。単子葉雑草の属 ：ヒエ（Echinochloa）、エノコロ・ア
ワ（Setaria）、キビ（Panicum）、メヒシバ（Digitari
a）、アワガエリ・チモシー（Phleum）、イチゴツナギ
・スズメノカタビラ（Poa）、ウシノケグサ・トボシガ
ラ（Festuca）、オヒシバ・シコクビエ（Eleusine）、
ドクムギ（Lolium）、キツネガヤ・イヌムギ（Bromu
s）、カラスムギ・オートムギ（エンバク）（Avena）、
カヤツリグサ・パピルス・シチトウイ・ハマスゲ（Cype
rus）、モロコシ（Sorghum）、カモジグザ（Agropyro
n）、コナギ（Monochoria）、テンツキ（Fimbristyli
s）、オモダカ・クワイ（Sagittaria）、ハリイ・クロ
グワイ（Eleocharis）、ホタルイ・ウキヤグラ・フトイ
（Scirpus）、スズメノヒエ（Paspalum）、カモノハシ
（Ischaemum）、ヌカボ（Agrostis）、スズメノテッポ
ウ（Alopecurus）ギョウギシバ（Cynodon）等。単子葉栽培植物の属 ：イネ（Oryza）、トウモロコシ・
ホップコーン（Zea）、コムギ（Triticum）、オオムギ
（Hordeum）、カラスムギ・オートムギ（エンバク）（A
vena）、ライムギ（Secale）、モロコシ（Sorghum）、
キビ（Panicum）、サトウキビ・ワセオバナ（Saccharu
m）、パイナップル（Ananas）、アスパラガス（Asparag
us）、ネギ・ニラ（Allium）等。

【０１１５】本発明の前記式（Ｉ）の活性化合物及び混
合除草剤組成物は、特に，水田雑草に対して使用するこ
とができる。本発明の化合物及び混合除草剤組成物を用
いて防除することができる水田雑草としては、具体的に
は、例えば、キカシグサ（Rotala indica Koehne）、ア
ゼナ（Lindernia Procumbens Philcox）、チヨウジタデ
（Ludwigia prostrata Roxburgh）、ヒルムシロ（Potam
ogeton distinctus A．Benn）、ミゾハコベ（Elatine t
riandra Schk）、セリ（Oenanthe javanica）、タイヌ
ビエ（Echinochloa oryzicola Vasing）、コナギ（Mono
choria vaginalis Presl）、マツバイ（Eleocharis aci
cularis L.）、クログワイ（EleocharisKuroguwai Ohw
i）、タマガヤツリ（Cyperus difformis L.）、ミズガ
ヤツリ（Cyperus serotinus Rottboel）、ウリカワ（Sa
gittaria pygmaea Miq）、ヘラオモダカ（Alisma canal
iculatum A．Br．et Bouche）、ホタルイ（Scirpus jun
coides Roxburgh）等を挙げることができる。また、本
発明の前記式（Ｉ）の活性化合物及び混合除草剤組成物
は、スルホニルウレア系除草剤に対し抵抗性を示す雑草
に対して使用することができる。該抵抗性雑草として
は、具体的には、例えば、キカシグサ（Rotala indica
Koehne）、アゼナ（Lindernia Procumbens Philcox）、
アメリカアゼナ（Lindernia dubia L．PENNEL）、タケ
トアゼナ（Lindernia var．dubia Pennell）、アゼトウ
ガラシ（Lindernia angustifolia Wettstein）、ミゾハ
コベ（Elatine triandra Schk）、ミズアオイ（Monocho
ria korsakowii REGEL & MAACK）、コナギ（Monochoria
vaginalis Presl）、ホタルイ（Scirpus juncoides Ro
xburgh）等を挙げることができる。しかしながら、本発
明の前記式（Ｉ）の活性化合物及び混合除草剤組成物の
使用はこれらの雑草に対する使用に限定されるものでは
なく、他の水田雑草及びスルホニルウレア系除草剤抵抗
性雑草以外の雑草に対しても同様に適用することができ
る。

【０１１６】本発明の化合物及び混合除草剤組成物の使
用は、上記の植物に限定されるものではなく、他の植物
に対しても同様に適用され得る。また、使用濃度によつ
て、本発明の活性化合物及び混合除草剤組成物は、雑草
を非選択的に防除することができ、例えば、工場等の産
業用地、鉄道軌道、道路、植林地、非植林地等において
使用することができる。更に、本発明の活性化合物及び
混合除草剤組成物は、多年生植物栽培において、雑草防
除のために使用することができ、例えば、植林、鑑賞用
植林、果樹園、ブドウ園、カンキツ果樹園、ナッツ果樹
園、バナナ栽培場、コーヒー栽培場、茶栽培場、ゴム栽
培場、ギネアアブラヤシ栽培場、ココア栽培場、小果樹
園、ホップ栽培地等に適用することができ、また、一年
性植物栽培において、選択的雑草防除のために適用する
ことができる。

【０１１７】本発明の活性化合物及び混合除草剤組成物
は通常の製剤形態にすることができる。その製剤形態と
しては、例えば、液剤、水和剤、エマルジョン、懸濁
剤、粉剤、顆粒性水和剤、錠剤、粒剤、懸濁エマルジョ
ン濃厚物、重合体物質のマイクロカプセル、ジャンボ剤
等を挙げることができる。

【０１１８】これらの製剤は、それ自体既知の方法で製
造することができる。例えば、活性化合物を、展開剤、
即ち、液体又は固体の希釈剤又は担体、及び場合によっ
ては界面活性剤、即ち、乳化剤及び／又は分散剤及び／
又は泡沫形成剤と混合することによって調製することが
できる。

【０１１９】液体の希釈剤又は担体としては、例えば、
芳香族炭化水素類（例えば、キシレン、トルエン、アル
キルナフタレン等）、クロル化芳香族又はクロル化脂肪
族炭化水素類（例えば、クロロベンゼン類、塩化エチレ
ン類、塩化メチレン等）、脂肪族炭化水素類［例えば、
シクロヘキサン等、パラフィン類（例えば鉱油留分
等）］、アルコール類（例えば、ブタノール、グリコー
ル等）及びそれらのエーテル、エステル等、ケトン類
（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等）、強極性溶媒（例
えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等）、そして水も挙げることができる。展開剤として水
を用いる場合には、例えば、有機溶媒を補助溶媒として
使用することができる。

【０１２０】固体の希釈剤又は担体としては、例えば、
粉砕天然鉱物（例えば、カオリン、クレー、タルク、チ
ョーク、石英、アタパルガイド、モンモリロナイト又は
珪藻土等）、粉砕合成鉱物（例えば、高分散ケイ酸、ア
ルミナ、ケイ酸塩等）等を挙げることができる。粒剤の
ための固体担体としては、粉砕且つ分別された岩石（例
えば、方解石、大理石、軽石、海泡石、白雲石等）、無
機及び有機物粉の合成粒、有機物質（例えば、おがく
ず、ココやしの実のから、とうもろこしの穂軸、タバコ
の茎等）の細粒体等を挙げることができる。

【０１２１】乳化剤及び／又は泡沫剤としては、例え
ば、非イオン及び陰イオン乳化剤［例えば、ポリオキシ
エチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ア
ルコールエーテル（例えば、アルキルアリールポリグリ
コールエーテル、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸
塩、アリールスルホン酸塩等）］、アルブミン加水分解
生成物等を挙げることができる。

【０１２２】分散剤には、例えば、リグニンサルファイ
ト廃液やメチルセルロース等が包含される。

【０１２３】固着剤も、製剤（粉剤、粒剤、乳剤）に使
用することができ、該固着剤としては、例えば、カルボ
キシメチルセルロース、天然及び合成ポリマー（例え
ば、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニル
アセテート等）を挙げることができる。

【０１２４】着色剤を使用することもでき、該着色剤と
しては、無機顔料（例えば、酸化鉄、酸化チタン、プル
シアンブルー等）、そしてアリザリン染料、アゾ染料又
は金属フタロシアニン染料のような有機染料、更に、
鉄、マンガン、ボロン、銅、コバルト、モリブデン、亜
鉛等の金属の塩のような微量要素を挙げることができ
る。

【０１２５】該製剤は、一般に式（Ｉ）の活性化合物を
０.１〜９５重量％、好ましくは０.５〜９０重量％の範
囲内で含有することができる。

【０１２６】本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、それ自
体で又はそれらの製剤形態で、雑草防除のために使用す
ることができ、また、公知除草剤との混合除草剤組成物
は、予め最終的製剤形態に調製されていてもよく、又は
使用時にタンクミックスすることによって調製すること
もできる。混合除草剤組成物として本発明の式（Ｉ）の
化合物と組み合わせて使用しうる除草剤としては、例え
ば、一般名で表される下記の除草剤を具体例として例示
することができる。 アセトアミド系除草剤：例えば、プレチラクロール、ブ
タクロール、テニルクロール、アラクロール等； アミド系除草剤：例えば、クロメプロップ、エトベンザ
ニド等； ベンゾフラン系除草剤：例えば、ベンフレセート等； インダンジオン系除草剤：例えば、インダノファン等； ピラゾール系除草剤：例えば、ピラゾレート、ベンゾフ
ェナップ、ピラゾキシフェン等； オキサジノン系除草剤：例えば、オキサジクロメホン
等； スルホニルウレア系除草剤：例えば、ベンスルフロン・
メチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、ピラゾ
スルフロン・エチル、シクロスルファムロン、エトキシ
スルフロン、ハロスルフロン・メチル等； チオカーバメート系除草剤：例えば、チオベンカルブ、
モリネート、ピリブチカルブ等； トリアジン系除草剤：例えば、ジメタメトリン、シメト
リン等； トリアゾール系除草剤：例えば、カフェンストロール
等； キノリン系除草剤：例えば、キンクロラック等； イソキサゾール系除草剤：例えば、イソキサフルトール
等； ジチオホスフェート系除草剤：例えば、アニロホス等； オキシアセトアミド系除草剤：例えば、メフェナセッ
ト、フルフェナセット等； テトラゾリノン系除草剤：例えば、フェントラザミド
等； ジカルボキシイミド系除草剤：例えば、ペントキサゾン
等； トリオン系除草剤：例えば、スルコトリオン、ベンゾビ
シクロン等； フェノキシプロピネート系除草剤：例えば、シハロホッ
プ・ブチル等； ベンゾイックアッシド系除草剤：例えば、ピリミノバッ
ク・メチル等； ジフェニルエーテル系除草剤：例えば、クロメトキシフ
ェン、オキシフルオルフェン等； ピリジンジカルボチオエート系除草剤：例えば、ジチオ
ピル等； フェノキシ系除草剤：例えば、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ等； ウレア系除草剤：例えば、ダイムロン、クミルロン等； ナフタレンジオン系除草剤：例えば、キノクラミン等； イソキサゾリジノン系除草剤：例えば、クロマゾン等。

【０１２７】上記の活性化合物は、“Pesticide Manua
l”，2000年，British Crop ProtectCouncil 発行に記
載された公知の除草剤である。

【０１２８】本発明の混合除草剤組成物において、本発
明の式（Ｉ）の活性化合物と公知の除草剤との混合割合
は、その使用目的等に応じて広い範囲にわたって変える
ことができる。例えば、本発明の式（Ｉ）の化合物１重
量部当り、アセトアミド系除草剤は０．２〜１４重量
部、好ましくは０．６６〜５重量部、アミド系除草剤は
２〜４０重量部、好ましくは３．９６〜１６重量部、ベ
ンゾフラン系除草剤は０．２〜２０重量部、好ましくは
１．００〜６重量部、インダンジオン系除草剤は０．２
〜８重量部、好ましくは０．４９〜２重量部、オキサジ
ノン系除草剤は０．０６〜４重量部、好ましくは０．２
０〜０．８重量部、スルホニルウレア系除草剤は０．０
２〜４重量部、好ましくは０．０７〜１．２重量部、チ
オカーバメート系除草剤は１〜１００重量部、好ましく
は２．４７〜４０重量部、トリアジン系除草剤は０．６
〜１２重量部、好ましくは１．３２〜４．５重量部、ト
リアゾール系除草剤は０．１〜８重量部、好ましくは
０．３３〜３重量部、ジチオホスフェート系除草剤は
０．２〜１０重量部、好ましくは１．００〜４重量部、
オキシアセトアミド系除草剤は０．２〜５０重量部、好
ましくは１．００〜１２重量部、テトラゾリノン系除草
剤は０．０２〜１０重量部、好ましくは０．１７〜３重
量部、ジカルボキシイミド系除草剤は０．１〜１２重量
部、好ましくは０．３３〜４．５重量部、フェノキシプ
ロピオネート系除草剤は０．２〜１２重量部、好ましく
は０．４〜１．８重量部、ジフェニルエーテル系除草剤
は０．６〜２０重量部、好ましくは１．６５〜７．５重
量部、ピリジンジカルボチオエート系除草剤は０．０２
〜１４重量部、好ましくは０．２０〜５重量部、フェノ
キシ系除草剤は０．２〜１０重量部、好ましくは０．６
６〜４重量部、ウレア系除草剤は２〜８０重量部、好ま
しくは４．９５〜２５重量部の範囲内で使用することが
できる。

【０１２９】また、本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、
薬害軽減剤と混合すると、この混合により、薬害が軽減
され、より広い雑草防除のスペクトルが提供され、選択
性除草剤としての適用をより広くすることができる。

【０１３０】該薬害軽減剤としては、例えば、一般名又
は開発コードで表される次の化合物を挙げることができ
る：ＡＤ−６７、ＢＡＳ−１４５１３８、ベノキサコ
ル、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、２，
４−Ｄ、ＤＫＡ−２４、ジクロルミッド、ダイムロン、
フェンクロリム、フェンクロラゾールエチル、フルラゾ
ール、フルキソフェニム、フリラゾール、イソキサジフ
ェンエチル、メフェンピルジエチル、ＭＧ−１９１、ナ
フタリックアンハイドライド、オキサベトリニル、ＰＰ
Ｇ−１２９２、Ｒ−２９１４８等。

【０１３１】上記の薬害軽減剤もまた、“Pesticide Ma
nual”，2000年，British Crop Protect Council 発行
に記載されている。

【０１３２】更に、本発明式（Ｉ）の化合物と上記除草
剤とからなる混合除草剤組成物には、さらに、上記薬害
軽減剤を混合することも可能であり、この混合により、
薬害が軽減され、且つより広い雑草防除のスペクトルが
提供され、選択性除草剤としての適用をより広くするこ
とができる。

【０１３３】驚くべきことに、本発明の化合物と公知の
除草剤及び／又は薬害軽減剤とのいくつかの混合除草剤
組成物はまた、相乗効果を現す。

【０１３４】本発明の式（Ｉ）の活性化合物又は本発明
の混合除草剤組成物を使用する場合、そのまま直接使用
するか、又は散布用調製液、乳剤、錠剤、懸濁剤、粉
剤、ペースト、粒剤のような製剤形態で使用するか、又
は更に希釈して調製された使用形態で使用することがで
きる。本発明の活性化合物は、例えば、液剤散布（Wate
ring）、噴霧（spraying atomizing）、散粒等の方法で
施用することができる。

【０１３５】本発明の式（Ｉ）の活性化合物又は本発明
の混合除草剤組成物は、植物の発芽前及び発芽後のいず
れの段階でも使用することができる。また、それらは播
種前に土壌中に取り込ませることもできる。

【０１３６】本発明の式（Ｉ）の活性化合物又は本発明
の混合除草剤組成物の施用量は、実質範囲内でかえるこ
とができる。それは望むべき効果の性質によって基本的
に異なる。除草剤として使用する場合、施用量として
は、例えば、１ヘクタール当り、活性化合物として、約
０.０１〜約３ｋｇ、好ましくは約０.０５〜約１ｋｇの
範囲内を例示することができる。

【０１３７】次に、本発明の化合物の製造及び用途なら
びに本発明の混合除草剤組成物の効果を下記の実施例に
より、さらに具体的に示すが、本発明はこれらのみに限
定されるべきものではない。

【０１３８】

【実施例】合成例１

【０１３９】

【化４１】

【０１４０】２−クロロ−３−｛［（１−エチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチ
ルスルホニル安息香酸 ３−オキソ−１−シクロヘキセ
ニル（０.８３ｇ）をアセトニトリル（２０ｍｌ）に溶
解させ、これにトリエチルアミン（０.３４ｇ）および
アセトンシアンヒドリン（１０ｍｇ）を加え、室温で５
時間攪拌した。溶媒を留去して、希塩酸を加え酸性と
し、ジクロロメタン（１５０ｍｌ）で抽出した。有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せた。ジクロロメタンを留去して、目的の２−｛２−ク
ロロ−３−｛［（１−エチル−１Ｈ−テトラゾール−５
−イル）チオ］メチル｝−４−メチルスルホニルベンゾ
イル｝シクロヘキサン−１,３−ジオン（０.７５ｇ）を
得た。 ｍｐ：６７−７１℃ 合成例２

【０１４１】

【化４２】

【０１４２】２−｛２−クロロ−４−メチルスルホニル
−３−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）チオ］メチル｝ベンゾイル｝シクロヘキサン−１,
３−ジオン（１.０ｇ）のジクロロメタン（１００ｍ
ｌ） 溶液にオキザリルクロリド（０.９１ｇ）および２
滴のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドを滴下し、３時間加
熱還流した。反応後、溶媒を留去して得られた残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸
エチル：ヘキサン＝７：３）により精製し、目的の３−
クロロ−２−｛２−クロロ−４−メチルスルホニル−３
−｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）
チオ］メチル｝ベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１
−オン（０.７１ｇ）を得た。ＩＲ（ＮａＣｌ）：ν＝
１６６２，１３１０，１２７９，１１５０ｃｍ^-1 合成例３

【０１４３】

【化４３】

【０１４４】テトラヒドロフラン（７ｍｌ）中に３−ク
ロロ−２−｛２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−
｛［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オ］メチル｝ベンゾイル｝−２−シクロヘキセン−１−
オン（０.７５ｇ）とチオフェノール（０.１９ｇ）を溶
解させ、これにトリエチルアミン（０.１９ｇ）のテト
ラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液を５℃にて滴下し、室温
にて４時間攪拌した。反応後、冷水を加え酢酸エチル
（５０ｍｌ）にて抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた。酢酸エチルを留去して得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチ
ル：ヘキサン＝７：３）により精製し、目的の２−｛２
−クロロ−４−メチルスルホニル−３−｛［（１−メチ
ル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝ベ
ンゾイル｝−３−フェニルチオ−２−シクロヘキセン−
１−オン（０.６１ｇ）を得た。 ｍｐ：７６−８７℃ 上記合成例１〜３と同様にして得られる化合物を、合成
例１〜３で合成した化合物と共に、下記第１〜３表に示
す。

【０１４５】本発明の式（Ｉ）の化合物が式

【０１４６】

【化４４】

【０１４７】示す場合の化合物例を第１表に、また、式

【０１４８】

【化４５】

【０１４９】を示す場合の化合物例を第２表に、そし
て、式

【０１５０】

【化４６】

【０１５１】を示す場合の化合物例を第３表に示す。

【０１５２】第１表、第２表及び第３表において、Ｑ１
ａは基

【０１５３】

【化４７】

【０１５４】を示し、Ｑ１ｂは基

【０１５５】

【化４８】

【０１５６】を示し、Ｑ１ｃは基

【０１５７】

【化４９】

【０１５８】を示し、Ｑ２は基

【０１５９】

【化５０】

【０１６０】を示し、Ｑ３ａは基

【０１６１】

【化５１】

【０１６２】を示し、Ｑ３ｂは基

【０１６３】

【化５２】

【０１６４】を示し、Ｑ３ｃは基

【０１６５】

【化５３】

【０１６６】を示し、Ｑ３ｄは基

【０１６７】

【化５４】

【０１６８】を示し、Ｑ３ｅは基

【０１６９】

【化５５】

【０１７０】を示し、Ｑ３ｆは基

【０１７１】

【化５６】

【０１７２】を示し、Ｑ３ｇは基

【０１７３】

【化５７】

【０１７４】を示し、Ｑ３ｈは基

【０１７５】

【化５８】

【０１７６】を示し、Ｑ３ｉは基

【０１７７】

【化５９】

【０１７８】を示し、Ｑ３ｊは基

【０１７９】

【化６０】

【０１８０】を示し、Ｑ３ｋは基

【０１８１】

【化６１】

【０１８２】を示し、Ｑ３ｌは基

【０１８３】

【化６２】

【０１８４】を示し、Ｑ３ｍは基

【０１８５】

【化６３】

【０１８６】を示し、Ｑ３ｎは基

【０１８７】

【化６４】

【０１８８】を示し、Ｑ３ｏは基

【０１８９】

【化６５】

【０１９０】を示し、Ｑ３ｐは基

【０１９１】

【化６６】

【０１９２】を示し、Ｑ３ｑは基

【０１９３】

【化６７】

【０１９４】を示し、Ｑ３ｒは基

【０１９５】

【化６８】

【０１９６】を示し、Ｑ３ｓは基

【０１９７】

【化６９】

【０１９８】を示し、Ｑ３ｔは基

【０１９９】

【化７０】

【０２００】を示し、Ｑ３ｕは基

【０２０１】

【化７１】

【０２０２】を示し、Ｑ３ｖは基

【０２０３】

【化７２】

【０２０４】を示し、Ｑ３ｗは基

【０２０５】

【化７３】

【０２０６】を示し、Ｑ３ｘは基

【０２０７】

【化７４】

【０２０８】を示し、Ｑ３ｙは基

【０２０９】

【化７５】

【０２１０】を示し、Ｑ３ｚは基

【０２１１】

【化７６】

【０２１２】を示し、Ｑ３ｚａは基

【０２１３】

【化７７】

【０２１４】を示し、Ｑ３ｚｂは基

【０２１５】

【化７８】

【０２１６】を示し、Ｑ３ｚｃは基

【０２１７】

【化７９】

【０２１８】を示し、Ｑ３ｚｄは基

【０２１９】

【化８０】

【０２２０】を示し、Ｑ４ａは基

【０２２１】

【化８１】

【０２２２】を示し、Ｑ４ｂは基

【０２２３】

【化８２】

【０２２４】を示し、Ｑ４ｃは基

【０２２５】

【化８３】

【０２２６】を示し、Ｑ４ｄは基

【０２２７】

【化８４】

【０２２８】を示し、Ｑ５ａは基

【０２２９】

【化８５】

【０２３０】を示し、Ｑ５ｂは基

【０２３１】

【化８６】

【０２３２】を示し、Ｑ５ｃは基

【０２３３】

【化８７】

【０２３４】を示し、Ｑ５ｄは基

【０２３５】

【化８８】

【０２３６】を示し、Ｑ５ｅは基

【０２３７】

【化８９】

【０２３８】を示し、Ｑ５ｆは基

【０２３９】

【化９０】

【０２４０】を示し、Ｑ６ａは基

【０２４１】

【化９１】

【０２４２】を示し、Ｑ６ｂは基

【０２４３】

【化９２】

【０２４４】を示し、Ｑ７は基

【０２４５】

【化９３】

【０２４６】を示し、Ｍｅはメチルを示し、Ｅｔはエチ
ルを示し、ｎ−Ｐｒはｎ−プロピルを示し、ｉ−Ｐｒは
ｉｓｏ−プロピルを示し、ｎ−Ｂｕはｎ−ブチルを示
し、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチルを示し、ｎ−Ｈｅｘは
ｎ−ヘキシルを示し、ＯＭｅはメトキシを示し、ＯＥｔ
はエトキシを示し、ＳＭｅはメチルチオを示し、ＳＥｔ
はエチルチオを示し、ＳＯ₂Ｍｅはメチルスルホニルを
示し、ＳＯ₂Ｅｔはエチルスルホニルを示し、ＳＯ₂ｎ−
Ｐｒはｎ−プロピルスルホニルを示し、ＯＳＯ₂Ｍｅは
メチルスルホニルオキシを示し、ＯＳＯ₂Ｅｔはエチル
スルホニルオキシを示し、そしてＰｈはフェニルを示
す。

【０２４７】

【表１】

【０２４８】

【表２】

【０２４９】

【表３】

【０２５０】

【表４】

【０２５１】

【表５】

【０２５２】

【表６】

【０２５３】

【表７】

【０２５４】

【表８】

【０２５５】

【表９】

【０２５６】

【表１０】

【０２５７】

【表１１】

【０２５８】

【表１２】

【０２５９】

【表１３】

【０２６０】

【表１４】

【０２６１】

【表１５】

【０２６２】

【表１６】

【０２６３】

【表１７】

【０２６４】

【表１８】

【０２６５】

【表１９】

【０２６６】

【表２０】

【０２６７】

【表２１】

【０２６８】

【表２２】

【０２６９】合成例４

【０２７０】

【化９４】

【０２７１】２−クロロ−３−｛［（１−エチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチ
ルスルホニル安息香酸（０.７７ｇ）および塩化チオニ
ル（０.４９ｇ）を１,２−ジクロロエタン（３０ｍｌ）
に加え、２滴のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加
後、３時間加熱還流させた。 冷却後、溶媒を留去して
得られる残留物をジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解さ
せ、これを１,３−シクロヘキサンジオン（０.２８
ｇ）、トリエチルアミン（０.２８ｇ）のジクロロメタ
ン（１０ｍｌ）溶液に５℃にて滴下し室温で６時間攪拌
した。反応後、ジクロロメタン（１００ｍｌ）で抽出
し、ついで希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。ジクロロメタ
ンを留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル：ヘキサン＝３：
７）により精製し、目的の２−クロロ−３−｛［（１−
エチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチ
ル｝−４−メチルスルホニル安息香酸３−オキソ−１−
シクロヘキセニル（０.８３ｇ）を得た。 ｍｐ：１２
２−１２３℃ 合成例５

【０２７２】

【化９５】

【０２７３】２−クロロ−３−｛［（１−エチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４−メチ
ルスルホニル安息香酸メチル（０.８３ｇ）のジオキサ
ン（１５ｍｌ）溶液に１０Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
（１.０ｍｌ）および水（２ｍｌ）を加え、室温にて３
時間攪拌した。水（３０ｍｌ）を加えて減圧濃縮した
後、１０Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（１.０ｍｌ）を加
え、酢酸エチル（１００ｍｌ）で洗浄した。水層は、塩
酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。酢
酸エチルを留去して、目的の２−クロロ−３−｛［（１
−エチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチ
ル｝−４−メチルスルホニル安息香酸（０.８０ｇ）を
得た。ｍｐ：１９３−１９５℃ 合成例６

【０２７４】

【化９６】

【０２７５】アセトニトリル（２０ｍｌ）中に１−エチ
ル−５−メルカプトテトラゾール（０.３１ｇ）と３−
ブロモメチル−２−クロロ−４−メチルスルホニル安息
香酸メチル（０.８０ｇ）を懸濁させ、これに炭酸カリ
ウム（０.３２ｇ）を加え、３時間加熱還流した。反応
後、冷水を加え酢酸エチル（１００ｍｌ） にて抽出
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。酢酸エチルを
留去して得られる残留物をジクロロメタン−ヘキサンか
ら再結晶し、目的の２−クロロ−３−｛［（１−エチル
−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］メチル｝−４
−メチルスルホニル安息香酸メチル（０.８８ｇ）を得
た。 ｍｐ：１０９−１１０℃ 生物試験例試験例１ ：水田雑草に対する除草効果試験 活性化合物の調合剤の調製 担 体：アセトン ５重量部 乳化剤：ベンジルオキシポリグリコールエーテル １重量部 活性物質の調合剤は、１重量部の活性化合物と、上記の
分量の担体および乳化剤とを混合することにより、乳剤
として得られる。その調合剤の所定薬量を水で希釈す
る。 試験方法 温室内において、水田土壌を詰めた５００ｃｍ²ポット
に、２.５葉期（草丈１５ｃｍ）の水稲苗（品種：日本
晴）を１ポット当り１株３本植えとした。次いで、タマ
ガヤツリ、ホタルイ、コナギ、広葉雑草（アゼナ、キカ
シグサ、ミゾハコベ、アブノメ等）、ウリカワの各種子
または塊茎を播種し、約２〜３ｃｍ湛水した。

【０２７６】水稲移植５日後、前記調製法に従って調製
した各活性化合物の調合剤で水面処理した。処理後、３
ｃｍの湛水状態を保ち散布３週間後に除草効果を調査し
た。なお、除草効果の評価は、完全枯死を１００％と
し、０％を除草効果なしとして行った。

【０２７７】その結果、化合物番号ＩＩ−１８、ＩＩ−
１１７、ＩＩ−１２２、ＩＩ−１３１、ＩＩ−１９４、
ＩＩ−２１２およびＩＩＩ−７１の化合物は、いずれ
も、薬量０.２５ｋｇ／ｈａで、水田雑草に対し９０％
以上の除草効果を示し、移植水稲に対し安全性を示し
た。試験例２ ： 畑地雑草に対する発芽前土壌処理試験 試験方法：温室内において、畑土壌を詰めた１２０ｃｍ
²ポットの表層に、ヒエ、エノコログサ、アオビユ及び
イヌタデの各種子を播種覆土し、上記試験例１と同様に
して調製した所定量の薬量を各試験ポットの土壌表層に
均一に散布した。散布４週間後に除草効果の程度を調査
した。 効果：化合物番号ＩＩ−１１７、ＩＩ−１２２及びＩＩ
−１９４の化合物は、薬量２.０ｋｇ／ｈａの施用量
で、対象雑草（ヒエ、エノコログサ、アオビユ及びイヌ
タデ）に対して９０％以上の殺草活性を示した。試験例３ ： 畑地雑草に対する発芽後茎葉処理試験 試験方法：温室内において、畑土壌を詰めた１２０ｃｍ
²ポットにヒエ、エノコログサ、アオビユ及びイヌタデ
の種子を播き覆土した。播種覆土１０日後（雑草は平均
２葉期）に、上記試験例１と同様にして調製した所定量
の薬量を各試験ポットの供試植物の茎葉部に均一に散布
した。散布３週間後に除草効果の程度を調査した。 結果：化合物番号ＩＩ−１８、ＩＩ−１１７、ＩＩ−１
２２、ＩＩ−１３１、ＩＩ−１９４、ＩＩ−２１２及び
ＩＩ−２７６の化合物は、薬量２.０ｋｇ／ｈａで、ヒ
エ、エノコログサ、アオビユ及びイヌタデに対し９０％
の殺草活性を示した。 試験例４ ：水田雑草に対する除草効果試験 試験方法：温室内において、水田土壌を詰めた５００ｃ
ｍ²ポットに、２．５葉期（草丈１５ｃｍ）の水稲苗
（品種：日本晴）を１ポット当り１株３本植えとした。
次いで、ミズガヤツリ、ホタルイ、コナギ、広葉雑草
（アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ、アブノメ等）、ウ
リカワの各種子または塊茎を播種し、約２〜３ｃｍ湛水
した。

【０２７８】水稲移植５日後、上記試験例１の場合と同
様にして調製した各活性化合物の調合剤で水面処理し
た。処理後、３ｃｍの湛水状態を保ち散布３週間後に除
草効果を調査した。なお、除草効果の評価は、完全枯死
を１００％とし、０％を除草効果なしとして行った。

【０２７９】その結果を第４表に示す。なお、第４表中
の水稲に対する薬害評価において、１０を超える薬害は
許容できない。

【０２８０】第４表における供試雑草及び作物は、以下
に示すように略号で記載する。 ＳＣＰＳＳ： Scirpus spp．（ホタルイ）、 ＭＯＯＶＰ： Monochoria（コナギ）、 ＢＢＢＢＢ： broadleef weeds（広葉類）、 ＣＹＰＳＥ： Cyperus serotinus（ミズガヤツリ）、 ＳＡＧＰＹ： Sagittaria pygmaea（ウリカワ）、 ＯＲＹＳＰ： Oryza sativa L.，planted paddy rice
（移植水稲）。

【０２８１】第４表中の化合物番号のうち、本発明化合
物は第２表中の化合物番号により示し、また、比較化合
物は下記化合物番号と構造式により示されるものであ
る。 Ｃ−１：式

【０２８２】

【化９７】

【０２８３】Ｃ−２：式

【０２８４】

【化９８】

【０２８５】なお、Ｃ−１はドイツ特許公開第１９８４
６７９２号明細書に、具体的に記載されている化合物で
あり、また、Ｃ−２は上記ドイツ特許公開明細書に具体
的には開示されていないが、そこに記載された一般式に
包含される化合物の１つである。

【０２８６】

【表２３】

【０２８７】試験例５：除草剤組成物の茎葉散布共力効
果試験 試験方法：温室内において、水田土壌を詰めた２５０ｃ
ｍ²ポットに、ヒエ、ホタルイ、コナギ、アゼナの各種
子を播種覆土し、約２ｃｍ湛水した。雑草が１．５〜
２．２葉期に成長したら、排水後、上記試験例１と同様
にして調製した所定量の薬量の各活性化合物及び各活性
化合物混合物を茎葉散布した。散布した翌日、ポットを
再び約２ｃｍ湛水状態に保ち、散布４週間後に除草効果
を調査した。なお、除草の評価は、完全枯死を１００％
とし、０％を除草効果なしとして行った。試験例６ ：除草剤組成物の水面施用共力効果試験 試験方法：温室内において、水田土壌を詰めた２５０ｃ
ｍ²ポットに、ヒエ、ホタルイ、コナギ、アゼナ、キカ
シグサ、ミゾハコベ、ミズガヤツリの各種子または塊茎
を播種し、約２ｃｍ湛水した。雑草が１．５〜２．２葉
期に成長したら、上記試験例１と同様にして調製した所
定量の薬量の各活性化合物及び各活性化合物混合物で水
面処理した。処理後、約２ｃｍの湛水状態を保ち処理後
４週間後に除草効果を調査した。なお、除草の評価は、
完全枯死を１００％とし、０％を除草効果なしとして行
った。

【０２８８】試験例５と試験例６の共力効果は、下記の
コルビーの式により評価した。

【０２８９】

【数１】

【０２９０】上記試験例５及び６の結果を、それぞれ第
５表及び第６表に示す。

【０２９１】第５表及び第６表における雑草は以下に示
す略号で記載する。 ＣＹＰＳＥ： Cyperus serotinus （ミズガヤツリ）、 ＥＣＨＳＳ： Echinochloa spp． （ヒエ）、 ＥＬＴＴＰ： Elatine triandra （ミゾハコベ）、 ＬＩＤＰＹ： Lindernia pyridaria （アゼナ）、 ＭＯＯＶＰ： Monochoria vaginalis （コナギ）、 ＲＯＴＩＮ： Rotala indica （キカシグサ）。

【０２９２】第５表及び第６表中の化合物（１）は、第
２表及び第３表中の化合物番号により示す。

【０２９３】第５表及び第６表中の公知除草剤Ａ、Ｂ、
Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及びＧは下記の活性化合物を示す。 Ａ：４−（２−クロロフェニル）−Ｎ−シクロヘキシル
−Ｎ−エチル−４，５−ジヒドロ−５−オキソ−１Ｈ−
テトラゾール−１−カルボキサミド（フェントラザミ
ド）、 Ｂ：３′，４′−ジクロロプロピオンアニリド（プロパ
ニル）、 Ｃ：Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−メシチルスルホニル−１Ｈ
−１，２，４−トリアゾール−１−カルボキサミド（カ
フェンストロール）、 Ｄ：３−［１−（３，５−ジクロロフェニル）−１−メ
チルエチル］−２，３−ジヒドロ−６−メチル−５−フ
ェニル−４Ｈ−１，３−オキサジン−４−オン（オキサ
ジクロメホン）、 Ｅ：２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（２−プ
ロポキシエチル）アセトアミド（プレチラクロール）、 Ｆ：２−（１，３−ベンゾチアゾール−２−イルオキ
シ）−Ｎ−メチルアセトアニリド（メフェナセット）、 Ｇ：（ＲＳ）−２−［２−（３−クロロフェニル）−
２，３−エポキシプロピル］−２−エチルインダン−
１，３−ジオン（インダノファン）。

【０２９４】

【表２４】

【０２９５】

【表２５】

【０２９６】

【表２６】

【０２９７】試験例７：水面施用によるイネの薬害軽減
効果試験 試験方法：温室内において、水田土壌を詰めた１０００
ｃｍ²ポットにイネ（品種：日本晴）の種子を播種し、
湿潤状態を保つ。播種７日後、水稲苗は１葉期となり、
ポットを約３ｃｍの湛水状態に保つ。播種９日後水稲苗
が１．５葉期に成長したら、上記試験例１と同様にして
調製した所定量の薬量の各活性化合物及び各活性化合物
混合物で水面処理した。処理３週間後に水稲苗の薬害を
調査した。なお、薬害の評価は、０％を薬害なしとし、
１００％を完全枯死として行った。

【０２９８】その結果を第７表に示す。

【０２９９】試験例７の薬害軽減効果は、下記のコルビ
ーの式により評価した。

【０３００】

【数２】

【０３０１】第７表中の化合物（１）は第２表及び第３
表中の化合物番号により示す。

【０３０２】第７表中の薬害軽減剤ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ
及びｆは下記の活性化合物を示す。 ａ：Ｎ，Ｎ−ジアリル−２，２−ジクロロアセトアミド
（ジクロルミッド）、 ｂ：４，６−ジクロロ−２−フェニルピリミジン（フェ
ンクロリム）、 ｃ：ジエチル（ＲＳ）−１−（２，４−ジクロロフェニ
ル）−５−メチル−２−ピラゾリン−３，５−ジカルボ
キシレート（メフェンピル−ジエチル）、 ｄ：Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ′−（１−メチル
−１−フェニルエチル）ウレア（ダイムロン）、 ｅ：２−（ジクロロアセチル）−２，２，５−トリメチ
ルオキサジン（Ｒ−２９１４８）、 ｆ：１Ｈ，３Ｈ−ナフト［１，８−ｃｄ］ピラン−１，
３−ジオン（ナフタリック アンハイドライド）。

【０３０３】

【表２７】

【０３０４】

【表２８】

【０３０５】製剤実施例 製剤例１（粒剤） 本発明化合物Ｎｏ.ＩＩ−１８（２.５部）、ベントナイ
ト（モンモリロナイト）（３０部）、タルク（滑石）
（６５.５部）及びリグニンスルホン酸塩（２部）の混
合物に、水（２５部）を加え、良く捏化し、押し出し式
造粒機により、１０〜４０メッシュの粒状として、４０
〜５０℃で乾燥して粒剤とする。

【０３０６】製剤例２（粒剤） ０.２〜２ｍｍに粒度分布を有する粘土鉱物粒（９５
部）を回転混合機に入れ、回転下、液体希釈剤とともに
本発明化合物Ｎｏ.ＩＩ−１１７（５部）を噴霧し均等
に湿らせた後、４０〜５０℃で乾燥し粒剤とする。

【０３０７】製剤例３（乳剤） 本発明化合物Ｎｏ.ＩＩ−１２２（３０部）、キシレン
（５部）、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル（８部）及びアルキルベンゼンスルホン酸カルシウム
（７部）を混合撹拌して乳剤とする。

【０３０８】製剤例４（水和剤） 本発明化合物Ｎｏ.ＩＩ−１９４（１５部）、ホワイト
カーボン（含水無結晶酸化ケイ素微粉末）と粉末クレー
との混合物（１：５）（８０部）、アルキルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム（２部）及びアルキルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム（ホルマリン重合物（３部）を粉末
混合し、水和剤とする。

【０３０９】製剤例５（水和顆粒） 本発明化合物Ｎｏ.ＩＩ−１８（２０部）、リグニンス
ルホン酸ナトリウム（３０部）、ベンナイト（１５部）
及び焼成ケイソウ土粉末（３５部）を十分に混合し、水
を加え、０.３ｍｍのスクリーンで押し出し乾燥して、
水和顆粒とする。

【０３１０】

【発明の効果】本発明のテトラゾール誘導体は、上記生
物試験例に示したように、除草剤として優れた性質を有
し、また、他の公知除草剤又は薬害軽減剤と混合した場
合に混合除草剤組成物として優れた除草効果及び薬害軽
減効果を発揮する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ０１Ｎ 39/04 Ａ０１Ｎ 39/04 Ｂ 41/10 41/10 Ａ 43/12 43/12 Ａ 43/40 １０１ 43/40 １０１Ｂ 43/54 43/54 Ｃ 43/56 43/56 Ｂ 43/70 43/70 43/713 43/713 43/76 43/76 43/78 １０１ 43/78 １０１ 43/80 １０１ 43/80 １０１ 47/16 47/16 Ｂ 47/30 47/30 Ｃ 47/36 １０１ 47/36 １０１Ｅ 47/38 47/38 Ａ 57/32 １０２ 57/32 １０２ (72)発明者 上野 知恵子 栃木県小山市城東７−２−１ Ｆターム(参考） 4H011 AB01 AB02 BA01 BA03 BA06 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BB10 BB13 BB14 BB17 BC05 BC09 BC10 BC19 DA16 DD01 DD03 DD04 DH03

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式 【化１】 式中、 Ｒ¹はハロゲン、メチル、エチル、ハロメチル、メトキ
   シ、エトキシ、Ｃ_1-2ハロアルコキシ、メチルチオ、エ
   チルチオ、Ｃ_1-3アルキルスルホニル、メチルスルホニ
   ルオキシ、エチルスルホニルオキシ、ニトロ又はシアノ
   を示し、 Ｒ²はＣ_1-6アルキル、場合によりハロゲンもしくはＣ
   _1-3アルキルで置換されていてもよいＣ_3-6シクロアルキ
   ル、Ｃ_1-4ハロアルキル、Ｃ_2-6アルケニル、又は場合に
   よりハロゲン、Ｃ_1-3アルキル、Ｃ_1-2ハロアルキルもし
   くはニトロで置換されていてもよいフェニルを示し、 ｍは０、１又は２を示し、 ｍが２を示すとき、２個のＲ¹は同一もしくは相異なっ
   ていてもよく、 ｎは１又は２を示し、 Ｑは基 【化２】 【化３】 【化４】 を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸はそれ
   ぞれ独立に水素原子又はメチルを示し、 Ｒ⁹は水素原子、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル、ハロメチ
   ル、メトキシ又はニトロを示し、 Ｒ¹⁰はＣ_1-6アルキルを示し、 Ｒ¹¹はハロゲンを示し、 ｋは１又は２を示す、 で表されるテトラゾール誘導体。
2. 【請求項２】 Ｒ¹がフルオル、クロル、ブロム、メチ
   ル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキ
   シ、Ｃ_1-2ハロアルコキシ、メチルチオ、エチルチオ、
   メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルホニ
   ルオキシ、エチルスルホニルオキシ、ニトロ又はシアノ
   を示し、 Ｒ²がＣ_1-3アルキル、場合によりフルオル、クロル、メ
   チルもしくはエチルで置換されていてもよいシクロプロ
   ピル、Ｃ_1-3ハロアルキル、Ｃ_2-4アルケニル、又は場合
   によりフルオル、クロル、メチル、エチル、トリフルオ
   ロメチルもしくはニトロで置換されていてもよいフェニ
   ルを示し、 ｍは１又は２を示し、 ｍが２を示すとき、２個のＲ¹は同一もしくは相異なっ
   ていてもよく、 ｎは１又は２を示し、 Ｑは基 【化５】 【化６】 を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸はそれ
   ぞれ独立に、水素原子又はメチルを示し、 Ｒ⁹は水素原子、フルオル、クロル、メチル、エチル又
   はトリフルオロメチルを示し、 Ｒ¹⁰はメチル又はエチルを示し、 Ｒ¹¹はクロル又はブロムを示し、 ｋは１を示す、請求項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】 Ｒ¹がクロル、ブロム、メチル又はメチ
   ルスルホニルを示し、 Ｒ²がメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピ
   ル又はシクロプロピルを示し、 ｍが２を示し、このとき２個のＲ¹はそれぞれベンゼン
   環上の２位と４位に結合し、且つ２個のＲ¹は同一もし
   くは相異なっていてもよく、 ｎが１を示し、 基 【化７】 がベンゼン環上の３位に結合し、Ｑが基 【化８】 又は 【化９】 を示す、請求項１記載の化合物。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の化合物
   を有効成分として含有する農薬。
5. 【請求項５】 式 【化１０】 式中、 Ｒ¹、Ｒ²、ｍ及びｎは請求項１〜３のいずれかに記載し
   たと同義であり、 Ｗはハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ_1-4アルコキシ或いは基 【化１１】 を示し、ここでＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は請求
   項１〜３のいずれかに記載したと同義である、で表され
   るテトラゾール誘導体。
6. 【請求項６】 （ａ）請求項１のテトラゾール誘導体
   と、（ｂ）アセトアミド系除草剤、アミド系除草剤、ベ
   ンゾフラン系除草剤、インダンジオン系除草剤、ピラゾ
   ール系除草剤、オキサジノン系除草剤、スルホニルウレ
   ア系除草剤、チオカーバメート系除草剤、トリアジン系
   除草剤、トリアゾール系除草剤、キノリン系除草剤、イ
   ソキサゾール系除草剤、ジチオホスフェート系除草剤、
   オキシアセトアミド系除草剤、テトラゾリノン系除草
   剤、ジカルボキシイミド系除草剤、トリオン系除草剤、
   フェノキシプロピオネート系除草剤、ベンゾイックアッ
   シド系除草剤、ジフェニルエーテル系除草剤、ピリジン
   ジカルボチオエート系除草剤、フェノキシ系除草剤、ウ
   レア系除草剤、ナフタレンジオン系除草剤及びイソキサ
   ゾリジノン系除草剤より成る群より選ばれる少なくとも
   一種の除草剤を有効成分として含有することを特徴とす
   る混合除草剤組成物。
7. 【請求項７】 （ａ）請求項１のテトラゾール誘導体
   と、（ｂ）ＡＤ−６７、ＢＡＳ−１４５１３８、ベノキ
   サコル、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、
   ２，４−Ｄ、ＤＫＡ−２４、ジクロルミッド、ダイムロ
   ン、フェンクロリム、フェンクロラゾールエチル、フル
   ラゾール、フルキソフェニム、フリラゾール、イソキサ
   ジフェンエチル、メフェンピルジエチル、ＭＧ−１９
   １、ナフタリックアンハイドライド、オキサベトリニ
   ル、ＰＰＧ−１２９２及びＲ−２９１４８より成る群よ
   り選ばれる少なくとも１種の化合物を有効成分として含
   有することを特徴とする混合除草剤組成物。