JP2002079247A - 水処理方法 - Google Patents
水処理方法Info
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機塩素系化合物及び環境ホルモン等の有害
物質を処理することができ、膜の目詰まりを大幅に軽減
できる水処理方法を提供すること。 【解決手段】 原水にオゾンをエジェクター装置でイン
ライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその膜
ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、促進酸
化を併用する水処理方法。
物質を処理することができ、膜の目詰まりを大幅に軽減
できる水処理方法を提供すること。 【解決手段】 原水にオゾンをエジェクター装置でイン
ライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその膜
ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、促進酸
化を併用する水処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、上水道、下水道、
工業用水または廃水処理の水処理方法に関し、膜ろ過処
理を用いた水処理方法及び水処理装置に関する。
工業用水または廃水処理の水処理方法に関し、膜ろ過処
理を用いた水処理方法及び水処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】昨今、トリハロメタン前駆物質及び農薬
等の難分解性有機塩素化合物や環境ホルモン等により水
源の汚染が懸念されている。前記のような物質の汚染が
進行した水源原水を処理する場合、オゾンと膜ろ過の処
理では上記物質を完全に分解除去することは困難であ
り、後段の活性炭の物理吸着に依存することとなる。活
性炭の物理吸着能力が低下した場合、前記有害物質のリ
ーク等が考えられる。また、活性炭の耐用年数も短くな
り経済的でない。
等の難分解性有機塩素化合物や環境ホルモン等により水
源の汚染が懸念されている。前記のような物質の汚染が
進行した水源原水を処理する場合、オゾンと膜ろ過の処
理では上記物質を完全に分解除去することは困難であ
り、後段の活性炭の物理吸着に依存することとなる。活
性炭の物理吸着能力が低下した場合、前記有害物質のリ
ーク等が考えられる。また、活性炭の耐用年数も短くな
り経済的でない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した課
題を解消し、有機塩素系化合物及び環境ホルモン等の有
害物質を処理することができる水処理方法。
題を解消し、有機塩素系化合物及び環境ホルモン等の有
害物質を処理することができる水処理方法。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、原水にオゾン
をエジェクター装置で、インライン注入し、膜ろ過装置
によりろ過し、次いでその膜ろ過水を活性炭で処理する
水処理方法において、膜ろ過を施す前段もしくは後段に
過酸化水素水注入装置を設置することを特徴とする水処
理方法である。
をエジェクター装置で、インライン注入し、膜ろ過装置
によりろ過し、次いでその膜ろ過水を活性炭で処理する
水処理方法において、膜ろ過を施す前段もしくは後段に
過酸化水素水注入装置を設置することを特徴とする水処
理方法である。
【０００５】また、本発明は、原水にオゾンをエジェク
ター装置で、インライン注入し、膜ろ過装置によりろ過
し、次いでその膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法
において、膜ろ過を施す前段もしくは後段に過酸化水素
水注入装置を設置し、かつオゾン残留箇所に紫外線照射
装置を併設したことを特徴とする水処理方法である。
ター装置で、インライン注入し、膜ろ過装置によりろ過
し、次いでその膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法
において、膜ろ過を施す前段もしくは後段に過酸化水素
水注入装置を設置し、かつオゾン残留箇所に紫外線照射
装置を併設したことを特徴とする水処理方法である。
【０００６】また、本発明は、原水にオゾンをエジェク
ター装置で、インライン注入し、膜ろ過装置によりろ過
し、次いでその膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法
において、前記膜ろ過を施す前段または後段に過酸化水
素水を注入し、かつオゾン残留箇所に紫外線照射装置を
併設することを特徴とする水処理方法である。
ター装置で、インライン注入し、膜ろ過装置によりろ過
し、次いでその膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法
において、前記膜ろ過を施す前段または後段に過酸化水
素水を注入し、かつオゾン残留箇所に紫外線照射装置を
併設することを特徴とする水処理方法である。
【０００７】また、本発明は、オゾン注入量を膜ろ過水
中の残留オゾン濃度が０．１〜５．０ｍｇ／Ｌの範囲内
になるように、オゾン注入量を調整することを特徴とす
る水処理方法である。
中の残留オゾン濃度が０．１〜５．０ｍｇ／Ｌの範囲内
になるように、オゾン注入量を調整することを特徴とす
る水処理方法である。
【０００８】さらに、本発明は、前記膜ろ過装置の膜ろ
過出口に設置したオゾン検知器によって、膜ろ過水の残
留オゾン濃度を連続的に測定し、その測定値に基づい
て、膜ろ過水中の残留オゾン濃度が所定範囲内となるよ
うに、オゾン注入量をフィードバック制御することを特
徴とする水処理方法である。
過出口に設置したオゾン検知器によって、膜ろ過水の残
留オゾン濃度を連続的に測定し、その測定値に基づい
て、膜ろ過水中の残留オゾン濃度が所定範囲内となるよ
うに、オゾン注入量をフィードバック制御することを特
徴とする水処理方法である。
【０００９】また、本発明は、前記膜ろ過装置の膜ろ過
入り口に設置したオゾン検知器によって、膜供給水中の
残留オゾン濃度を連続的に測定し、その測定値に基づい
て、過酸化水素水の注入量が所定範囲内となるように、
過酸化水素水注入量をフィードバック制御することを特
徴とする水処理方法である。
入り口に設置したオゾン検知器によって、膜供給水中の
残留オゾン濃度を連続的に測定し、その測定値に基づい
て、過酸化水素水の注入量が所定範囲内となるように、
過酸化水素水注入量をフィードバック制御することを特
徴とする水処理方法である。
【００１０】さらに、前記膜ろ過装置の膜ろ過出口に設
置したオゾン検知器によって、膜ろ過水の残留オゾン濃
度を連続的に測定し、その測定値に基づいて、過酸化水
素水の注入量が所定範囲内となるように、過酸化水素水
注入量をフィードバック制御することを特徴とする水処
理方法である。
置したオゾン検知器によって、膜ろ過水の残留オゾン濃
度を連続的に測定し、その測定値に基づいて、過酸化水
素水の注入量が所定範囲内となるように、過酸化水素水
注入量をフィードバック制御することを特徴とする水処
理方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係わる実施形態に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００１２】（実施形態１）図１は、本発明の水処理装
置の一実施形態を説明するための処理フローを示す図で
ある。同図に示したように、本発明に基づく水処理装置
は、循環槽または膜供給水槽２，エジェクター注入装置
４、膜ろ過装置５，膜ろ過水槽７、オゾン発生器１０，
過酸化水素水注入装置１３、オゾン検知器１１および１
４、活性炭処理装置２１により構成されている。まず、
原水１を循環槽または膜供給水槽２に供給して、膜供給
ポンプ３から膜ろ過装置５へ送り込む。エジェクター注
入装置４にオゾン発生器１０からのオゾン９がインライ
ン注入され、次いで過酸化水素水注入装置１３により過
酸化水素水１２がインライン注入されることにより、オ
ゾン及び過酸化水素水が接触しＯＨラジカルが生成し、
膜供給水と反応することにより促進酸化が行われる。膜
ろ過装置５において得られた膜ろ過水は膜ろ過水槽７へ
送り込まれ、膜ろ過水の一部は膜逆流洗浄水として用い
られ、残りの大部分は活性炭給水ポンプ２０により活性
炭処理装置２１へ送り込まれる。次いで活性炭処理装置
２１により、酸化副生成物等が除去され、最終的に活性
炭処理水２２が得られる。また、膜ろ過装置５において
循環水８を循環槽または膜供給水槽２へ返送することも
でき、循環槽または膜供給水槽より排出される排オゾン
１９は、排オゾン処理装置１８により処理される。
置の一実施形態を説明するための処理フローを示す図で
ある。同図に示したように、本発明に基づく水処理装置
は、循環槽または膜供給水槽２，エジェクター注入装置
４、膜ろ過装置５，膜ろ過水槽７、オゾン発生器１０，
過酸化水素水注入装置１３、オゾン検知器１１および１
４、活性炭処理装置２１により構成されている。まず、
原水１を循環槽または膜供給水槽２に供給して、膜供給
ポンプ３から膜ろ過装置５へ送り込む。エジェクター注
入装置４にオゾン発生器１０からのオゾン９がインライ
ン注入され、次いで過酸化水素水注入装置１３により過
酸化水素水１２がインライン注入されることにより、オ
ゾン及び過酸化水素水が接触しＯＨラジカルが生成し、
膜供給水と反応することにより促進酸化が行われる。膜
ろ過装置５において得られた膜ろ過水は膜ろ過水槽７へ
送り込まれ、膜ろ過水の一部は膜逆流洗浄水として用い
られ、残りの大部分は活性炭給水ポンプ２０により活性
炭処理装置２１へ送り込まれる。次いで活性炭処理装置
２１により、酸化副生成物等が除去され、最終的に活性
炭処理水２２が得られる。また、膜ろ過装置５において
循環水８を循環槽または膜供給水槽２へ返送することも
でき、循環槽または膜供給水槽より排出される排オゾン
１９は、排オゾン処理装置１８により処理される。
【００１３】なお、膜ろ過装置５において、膜ろ過水６
中の残留オゾン濃度がオゾン検知器１１で検出される。
そのオゾンの計測値に基づいて、オゾン発生器１０から
のオゾン供給量が制御される。また、エジェクター注入
装置４により注入されたオゾン９は、膜ろ過装置入り口
に設置したオゾン検知器１４により検出される。そのオ
ゾンの計測値に基づいて、過酸化水素水注入装置１３か
らの過酸化水素水１２の供給量が制御される。オゾン検
知器は１１、１４は溶存オゾン検知器でもよい。
中の残留オゾン濃度がオゾン検知器１１で検出される。
そのオゾンの計測値に基づいて、オゾン発生器１０から
のオゾン供給量が制御される。また、エジェクター注入
装置４により注入されたオゾン９は、膜ろ過装置入り口
に設置したオゾン検知器１４により検出される。そのオ
ゾンの計測値に基づいて、過酸化水素水注入装置１３か
らの過酸化水素水１２の供給量が制御される。オゾン検
知器は１１、１４は溶存オゾン検知器でもよい。
【００１４】本実施形態においては、オゾン検知器１１
において、膜ろ過水６中の残留オゾン濃度が常時計測さ
れ、残留オゾン濃度が０．１〜５．０ｍｇ／Ｌの範囲内
になるように、オゾン発生器１０からインライン注入さ
れるオゾン注入量がオゾン発生器の印可電圧やバルブの
開閉操作により調整される。例えば、ＣＰＵ（中央処理
装置）等による制御手法により膜ろ過水中の残留オゾン
濃度を算出し、インライン注入されるオゾン注入量をフ
ィードバック制御している。また、オゾン検出器１０に
より膜供給水中のオゾン濃度を常時計測し、前記残留オ
ゾン濃度に最適な注入量となるように、過酸化水素水１
２は過酸化水素水注入装置の出力を変動させることによ
り調整される。また、過酸化水素水注入量においては、
オゾン注入制御手法と同様のフィードバック制御してい
る。なお、膜ろ過水６に残留するオゾン量は０．０１〜
１０ｍｇ／Ｌとし、０．１〜５．０ｍｇ／Ｌとするのが
よりよい。膜ろ過水中のオゾン濃度が１０ｍｇ／Ｌより
高くなると、それに追随し過酸化水素水注入量が多くな
り酸化力が強いＯＨラジカルが過剰に発生し、膜ろ過装
置５のろ過膜として耐オゾン性を有する膜材質でも、長
期的にはオゾン及びＯＨラジカルとの反応により膜劣化
が起こる恐れがあるが、膜モジュールの交換時期を考慮
すると、１０ｍｇ／Ｌまでは許容される。以上のことか
ら、膜ろ過水6中の残留オゾン濃度は０．０１〜１０ｍ
ｇ／Ｌとし、望ましくは０．１〜５．０ｍｇ／Ｌがよ
い。
において、膜ろ過水６中の残留オゾン濃度が常時計測さ
れ、残留オゾン濃度が０．１〜５．０ｍｇ／Ｌの範囲内
になるように、オゾン発生器１０からインライン注入さ
れるオゾン注入量がオゾン発生器の印可電圧やバルブの
開閉操作により調整される。例えば、ＣＰＵ（中央処理
装置）等による制御手法により膜ろ過水中の残留オゾン
濃度を算出し、インライン注入されるオゾン注入量をフ
ィードバック制御している。また、オゾン検出器１０に
より膜供給水中のオゾン濃度を常時計測し、前記残留オ
ゾン濃度に最適な注入量となるように、過酸化水素水１
２は過酸化水素水注入装置の出力を変動させることによ
り調整される。また、過酸化水素水注入量においては、
オゾン注入制御手法と同様のフィードバック制御してい
る。なお、膜ろ過水６に残留するオゾン量は０．０１〜
１０ｍｇ／Ｌとし、０．１〜５．０ｍｇ／Ｌとするのが
よりよい。膜ろ過水中のオゾン濃度が１０ｍｇ／Ｌより
高くなると、それに追随し過酸化水素水注入量が多くな
り酸化力が強いＯＨラジカルが過剰に発生し、膜ろ過装
置５のろ過膜として耐オゾン性を有する膜材質でも、長
期的にはオゾン及びＯＨラジカルとの反応により膜劣化
が起こる恐れがあるが、膜モジュールの交換時期を考慮
すると、１０ｍｇ／Ｌまでは許容される。以上のことか
ら、膜ろ過水6中の残留オゾン濃度は０．０１〜１０ｍ
ｇ／Ｌとし、望ましくは０．１〜５．０ｍｇ／Ｌがよ
い。
【００１５】次に、本発明における過酸化水素水注入装
置１３及び膜ろ過装置５について説明する。過酸化水素
水注入装置１３は、エジェクター注入装置４によりオゾ
ン９を注入した後、オゾンを残留させた状態の膜供給水
に適切な濃度の過酸化水素水をインライン注入する装置
であり、膜供給水中の膜ファウリング物質である有機物
だけでなく、有毒な有機塩素化合物や環境ホルモン等の
難分解性物質を分解する事ができる。膜ろ過装置5は、
供給水にオゾンを溶解させた状況で過酸化水素水を加え
ることにより、ＯＨラジカルを発生させ、ＯＨラジカル
存在下で膜ろ過をするため、膜供給水中の膜ファウリン
グ物質である生物や有機物による膜の目詰まりを防止
し、かつ高い透過流束を得ることができる。
置１３及び膜ろ過装置５について説明する。過酸化水素
水注入装置１３は、エジェクター注入装置４によりオゾ
ン９を注入した後、オゾンを残留させた状態の膜供給水
に適切な濃度の過酸化水素水をインライン注入する装置
であり、膜供給水中の膜ファウリング物質である有機物
だけでなく、有毒な有機塩素化合物や環境ホルモン等の
難分解性物質を分解する事ができる。膜ろ過装置5は、
供給水にオゾンを溶解させた状況で過酸化水素水を加え
ることにより、ＯＨラジカルを発生させ、ＯＨラジカル
存在下で膜ろ過をするため、膜供給水中の膜ファウリン
グ物質である生物や有機物による膜の目詰まりを防止
し、かつ高い透過流束を得ることができる。
【００１６】膜ろ過装置５で使用される膜としては、濁
質成分及び細菌類を除去することのできる膜であり、精
密ろ過膜または限外ろ過膜が用いられる。精密ろ過膜の
場合は、公称孔径０．０１〜０．５μｍのものが用いら
れ、限外ろ過膜の場合は、分画分子量１０００〜２０万
ダルトンのものが用いられる。そして、膜モジュールの
形状は、中空糸状、スパイラル状、チューブラ状、平膜
状が用いられる。膜素材及びモジュール接着部は、高濃
度のオゾンと接触するために、耐オゾン性の素材を使用
することが望ましい。膜素材については、フッ化ビニリ
デン重合体樹脂等の耐オゾン性の有機樹脂またはセラミ
ック等の無機材料を用いることができる。また、膜モジ
ュールのろ過方式は、全量ろ過方式とクロスフローろ過
方式があり、いずれのろ過方式でもかまわない。また、
膜ろ過への通水方式は、外圧型と内圧型があり、どちら
の方式でも問題ない。
質成分及び細菌類を除去することのできる膜であり、精
密ろ過膜または限外ろ過膜が用いられる。精密ろ過膜の
場合は、公称孔径０．０１〜０．５μｍのものが用いら
れ、限外ろ過膜の場合は、分画分子量１０００〜２０万
ダルトンのものが用いられる。そして、膜モジュールの
形状は、中空糸状、スパイラル状、チューブラ状、平膜
状が用いられる。膜素材及びモジュール接着部は、高濃
度のオゾンと接触するために、耐オゾン性の素材を使用
することが望ましい。膜素材については、フッ化ビニリ
デン重合体樹脂等の耐オゾン性の有機樹脂またはセラミ
ック等の無機材料を用いることができる。また、膜モジ
ュールのろ過方式は、全量ろ過方式とクロスフローろ過
方式があり、いずれのろ過方式でもかまわない。また、
膜ろ過への通水方式は、外圧型と内圧型があり、どちら
の方式でも問題ない。
【００１７】また、循環槽または膜供給水槽２から排出
される排オゾンガス１９は、排オゾンガス処理設備１８
に導入され処理される。排オゾンガス処理設備１８の形
式は、活性炭式、熱分解式、触媒式等などの形式でも問
題ない。
される排オゾンガス１９は、排オゾンガス処理設備１８
に導入され処理される。排オゾンガス処理設備１８の形
式は、活性炭式、熱分解式、触媒式等などの形式でも問
題ない。
【００１８】（実施形態２）図2は、本発明の水処理装
置の一実施形態を説明するための処理フローを示す図で
ある。同図は、過酸化水素水の注入箇所、前記注入制御
及び残留オゾン検知器１４を用いない以外は実施形態1
と同様である。即ち、原水１を循環槽または膜供給水槽
２に供給して、膜供給ポンプ３から膜ろ過装置５へ送り
込む。エジェクター注入装置４にオゾン発生器１０から
のオゾン９がインライン注入され、膜供給水はオゾン接
触し酸化処理される。膜ろ過装置５において得られた膜
ろ過水６には過酸化水素水注入装置１６により過酸化水
素水１５がインライン注入され、膜ろ過水６中の残留オ
ゾンと過酸化水素水１５が接触しＯＨラジカルが生成
し、膜ろ過水と反応することにより促進酸化が行われ
る。次いで、膜ろ過水６は膜ろ過水槽７へ送り込まれ、
膜ろ過水の一部は膜逆流洗浄水として用いられ、残りの
大部分は活性炭給水ポンプ２０により活性炭処理装置２
１へ送り込まれる。次いで活性炭処理装置２１により、
酸化副生成物等が除去され、最終的に活性炭処理水２２
が得られる。また、膜ろ過装置５において循環水８を循
環槽または膜供給水槽２へ返送することもでき、循環槽
または膜供給水槽より排出される排オゾン１９は、排オ
ゾン処理装置１８により処理される。
置の一実施形態を説明するための処理フローを示す図で
ある。同図は、過酸化水素水の注入箇所、前記注入制御
及び残留オゾン検知器１４を用いない以外は実施形態1
と同様である。即ち、原水１を循環槽または膜供給水槽
２に供給して、膜供給ポンプ３から膜ろ過装置５へ送り
込む。エジェクター注入装置４にオゾン発生器１０から
のオゾン９がインライン注入され、膜供給水はオゾン接
触し酸化処理される。膜ろ過装置５において得られた膜
ろ過水６には過酸化水素水注入装置１６により過酸化水
素水１５がインライン注入され、膜ろ過水６中の残留オ
ゾンと過酸化水素水１５が接触しＯＨラジカルが生成
し、膜ろ過水と反応することにより促進酸化が行われ
る。次いで、膜ろ過水６は膜ろ過水槽７へ送り込まれ、
膜ろ過水の一部は膜逆流洗浄水として用いられ、残りの
大部分は活性炭給水ポンプ２０により活性炭処理装置２
１へ送り込まれる。次いで活性炭処理装置２１により、
酸化副生成物等が除去され、最終的に活性炭処理水２２
が得られる。また、膜ろ過装置５において循環水８を循
環槽または膜供給水槽２へ返送することもでき、循環槽
または膜供給水槽より排出される排オゾン１９は、排オ
ゾン処理装置１８により処理される。
【００１９】次に、本発明における過酸化水素水注入装
置１６について説明する。過酸化水素水注入装置１６
は、オゾンを残留させた状態の膜ろ過水６に適切な濃度
の過酸化水素水１５をインライン注入する装置であり、
オゾン酸化処理及び膜ろ過で処理されなかった、有毒な
有機塩素化合物や環境ホルモン等の難分解性物質を分解
する事ができる。なお、膜ろ過装置５において、膜ろ過
水６中の残留オゾン濃度がオゾン検知器１１で検出され
る。そのオゾンの計測値に基づいて、オゾン発生器１０
からのオゾン供給量が制御される。また、前記オゾン検
知器１１オゾンの計測値に基づいて、過酸化水素水注入
装置１６からの過酸化水素水１５の供給量が制御され
る。
置１６について説明する。過酸化水素水注入装置１６
は、オゾンを残留させた状態の膜ろ過水６に適切な濃度
の過酸化水素水１５をインライン注入する装置であり、
オゾン酸化処理及び膜ろ過で処理されなかった、有毒な
有機塩素化合物や環境ホルモン等の難分解性物質を分解
する事ができる。なお、膜ろ過装置５において、膜ろ過
水６中の残留オゾン濃度がオゾン検知器１１で検出され
る。そのオゾンの計測値に基づいて、オゾン発生器１０
からのオゾン供給量が制御される。また、前記オゾン検
知器１１オゾンの計測値に基づいて、過酸化水素水注入
装置１６からの過酸化水素水１５の供給量が制御され
る。
【００２０】（実施形態３）図３は、本発明の水処理装
置の一実施形態を説明するための処理フローを示す図で
ある。同図は、過酸化水素水注入装置を具備しないこと
と、膜ろ過装置５の後段に紫外線照射装置を設置してい
る以外は実施形態１と同様である。即ち、原水１を循環
槽または膜供給水槽２に供給して、膜供給ポンプ３から
膜ろ過装置５へ送り込む。エジェクター注入装置４にオ
ゾン発生器１０からのオゾン９がインライン注入され、
膜供給水はオゾン接触し酸化処理される。膜ろ過装置５
において得られた膜ろ過水６に紫外線照射装置１７によ
り紫外線を照射することにより、膜ろ過水６中の残留オ
ゾンと紫外線により効率的にＯＨラジカルが生成し、膜
ろ過水と反応することにより促進酸化が行われる。次い
で、膜ろ過水６は膜ろ過水槽7へ送り込まれ、膜ろ過水
の一部は膜逆流洗浄水として用いられ、残りの大部分は
活性炭給水ポンプ２０により活性炭処理装置２１へ送り
込まれる。次いで活性炭処理装置２１により、酸化副生
成物等が除去され、最終的に活性炭処理水２２が得られ
る。また、膜ろ過装置５において循環水８を循環槽また
は膜供給水槽２へ返送することもでき、循環槽または膜
供給水槽２より排出される排オゾン１９は、排オゾン処
理装置１８により処理される。
置の一実施形態を説明するための処理フローを示す図で
ある。同図は、過酸化水素水注入装置を具備しないこと
と、膜ろ過装置５の後段に紫外線照射装置を設置してい
る以外は実施形態１と同様である。即ち、原水１を循環
槽または膜供給水槽２に供給して、膜供給ポンプ３から
膜ろ過装置５へ送り込む。エジェクター注入装置４にオ
ゾン発生器１０からのオゾン９がインライン注入され、
膜供給水はオゾン接触し酸化処理される。膜ろ過装置５
において得られた膜ろ過水６に紫外線照射装置１７によ
り紫外線を照射することにより、膜ろ過水６中の残留オ
ゾンと紫外線により効率的にＯＨラジカルが生成し、膜
ろ過水と反応することにより促進酸化が行われる。次い
で、膜ろ過水６は膜ろ過水槽7へ送り込まれ、膜ろ過水
の一部は膜逆流洗浄水として用いられ、残りの大部分は
活性炭給水ポンプ２０により活性炭処理装置２１へ送り
込まれる。次いで活性炭処理装置２１により、酸化副生
成物等が除去され、最終的に活性炭処理水２２が得られ
る。また、膜ろ過装置５において循環水８を循環槽また
は膜供給水槽２へ返送することもでき、循環槽または膜
供給水槽２より排出される排オゾン１９は、排オゾン処
理装置１８により処理される。
【００２１】次に、本発明における紫外線照射装置１７
について説明する。紫外線照射装置の紫外線ランプは膜
ろ過装置５の出口部に、オゾンを残留させた状態の膜ろ
過水６に紫外線を照射できるように設置されており、オ
ゾン酸化処理及び膜ろ過で処理されなかった、有毒な有
機塩素化合物や環境ホルモン等の難分解性物質を分解す
る事ができる。なお、紫外線照射箇所については、膜出
口だけでなく膜ろ過水槽７及び膜ろ過水槽出口でも可能
であるが、溶存オゾン濃度の高い箇所が促進酸化が効率
的に行えることを考慮すると、膜ろ過出口付近に設置す
ることが望ましい。また、紫外線照射ランプについて
は、膜ろ過装置５によって汚濁物質が除去された膜ろ過
水６を処理することから、紫外線ランプの薬品洗浄周期
を延ばすことが可能である。また紫外線ランプには低圧
水銀ランプ、中圧水銀ランプが用いられる。
について説明する。紫外線照射装置の紫外線ランプは膜
ろ過装置５の出口部に、オゾンを残留させた状態の膜ろ
過水６に紫外線を照射できるように設置されており、オ
ゾン酸化処理及び膜ろ過で処理されなかった、有毒な有
機塩素化合物や環境ホルモン等の難分解性物質を分解す
る事ができる。なお、紫外線照射箇所については、膜出
口だけでなく膜ろ過水槽７及び膜ろ過水槽出口でも可能
であるが、溶存オゾン濃度の高い箇所が促進酸化が効率
的に行えることを考慮すると、膜ろ過出口付近に設置す
ることが望ましい。また、紫外線照射ランプについて
は、膜ろ過装置５によって汚濁物質が除去された膜ろ過
水６を処理することから、紫外線ランプの薬品洗浄周期
を延ばすことが可能である。また紫外線ランプには低圧
水銀ランプ、中圧水銀ランプが用いられる。
【００２２】（実施形態４）図４、及び図５は、本発明
の水処理装置の一実施形態を説明するための処理フロー
を示す図である。図４は、実施形態１及び実施例３もし
くは図５は実施形態２と実施例３を組み合わせた形態で
あり、即ち、原水１を循環槽または膜供給水槽２に供給
して、膜供給ポンプ３から膜ろ過装置５へ送り込む。エ
ジェクター注入装置4にオゾン発生器１０からのオゾン
９がインライン注入され、次いで過酸化水素水注入装置
１６により過酸化水素水１５がインライン注入されるこ
とにより、オゾン及び過酸化水素水が接触し、膜供給水
と促進酸化が行われる。または、膜ろ過装置５において
得られた膜ろ過水６に過酸化水素水注入装置１３により
過酸化水素水１２がインライン注入され、膜ろ過水６中
の残留オゾンと過酸化水素水が接触し、前記同様膜ろ過
水と反応することにより促進酸化が行われる。膜ろ過装
置５において得られた膜ろ過水６に紫外線照射装置１７
により紫外線を照射することにより、膜ろ過水６中の残
留オゾン、過酸化水素水及び紫外線により効率的にＯＨ
ラジカルが生成し、膜ろ過水と反応することにより促進
酸化が行われる。膜ろ過水６は膜ろ過水槽７へ送り込ま
れ、膜ろ過水の一部は膜逆流洗浄水として用いられ、残
りの大部分は活性炭給水ポンプ２０により活性炭処理装
置２１へ送り込まれる。次いで活性炭処理装置２１によ
り、酸化副生成物等が除去され、最終的に活性炭処理水
２２が得られる。また、膜ろ過装置5において循環水8を
循環槽または膜供給水槽２へ返送することもでき、循環
槽または膜供給水槽より排出される排オゾン１９は、排
オゾン処理装置１８により処理される。
の水処理装置の一実施形態を説明するための処理フロー
を示す図である。図４は、実施形態１及び実施例３もし
くは図５は実施形態２と実施例３を組み合わせた形態で
あり、即ち、原水１を循環槽または膜供給水槽２に供給
して、膜供給ポンプ３から膜ろ過装置５へ送り込む。エ
ジェクター注入装置4にオゾン発生器１０からのオゾン
９がインライン注入され、次いで過酸化水素水注入装置
１６により過酸化水素水１５がインライン注入されるこ
とにより、オゾン及び過酸化水素水が接触し、膜供給水
と促進酸化が行われる。または、膜ろ過装置５において
得られた膜ろ過水６に過酸化水素水注入装置１３により
過酸化水素水１２がインライン注入され、膜ろ過水６中
の残留オゾンと過酸化水素水が接触し、前記同様膜ろ過
水と反応することにより促進酸化が行われる。膜ろ過装
置５において得られた膜ろ過水６に紫外線照射装置１７
により紫外線を照射することにより、膜ろ過水６中の残
留オゾン、過酸化水素水及び紫外線により効率的にＯＨ
ラジカルが生成し、膜ろ過水と反応することにより促進
酸化が行われる。膜ろ過水６は膜ろ過水槽７へ送り込ま
れ、膜ろ過水の一部は膜逆流洗浄水として用いられ、残
りの大部分は活性炭給水ポンプ２０により活性炭処理装
置２１へ送り込まれる。次いで活性炭処理装置２１によ
り、酸化副生成物等が除去され、最終的に活性炭処理水
２２が得られる。また、膜ろ過装置5において循環水8を
循環槽または膜供給水槽２へ返送することもでき、循環
槽または膜供給水槽より排出される排オゾン１９は、排
オゾン処理装置１８により処理される。
【００２３】次に、本発明における紫外線照射装置１７
について説明する。紫外線照射装置の紫外線ランプは膜
ろ過装置5の出口部に、オゾンを残留させた状態の膜ろ
過水６に紫外線を照射できるように設置されており、オ
ゾン酸化処理及び膜ろ過で処理されなかった、有毒な有
機塩素化合物や環境ホルモン等の難分解性物質を分解す
る事ができる。なお、紫外線照射箇所については、膜出
口だけでなく膜ろ過水槽７及び膜ろ過水槽出口でも可能
であるが、溶存オゾン濃度の高い箇所が促進酸化が効率
的に行えることを考慮すると、膜ろ過出口付近に設置す
ることが望ましい。また、紫外線照射ランプについて
は、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプが用いられる。
について説明する。紫外線照射装置の紫外線ランプは膜
ろ過装置5の出口部に、オゾンを残留させた状態の膜ろ
過水６に紫外線を照射できるように設置されており、オ
ゾン酸化処理及び膜ろ過で処理されなかった、有毒な有
機塩素化合物や環境ホルモン等の難分解性物質を分解す
る事ができる。なお、紫外線照射箇所については、膜出
口だけでなく膜ろ過水槽７及び膜ろ過水槽出口でも可能
であるが、溶存オゾン濃度の高い箇所が促進酸化が効率
的に行えることを考慮すると、膜ろ過出口付近に設置す
ることが望ましい。また、紫外線照射ランプについて
は、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプが用いられる。
【００２４】本発明においては、実施形態１もしくは実
施形態２と実施形態３のプロセスを組み合わせることに
より、促進酸化を向上させ、実施形態１から３では処理
が困難な難分解性物質による汚染が進行している原水に
適用することが可能である。
施形態２と実施形態３のプロセスを組み合わせることに
より、促進酸化を向上させ、実施形態１から３では処理
が困難な難分解性物質による汚染が進行している原水に
適用することが可能である。
【００２５】更に、本発明においては、膜ろ過装置の膜
ろ過出口に設置したオゾン検知器によって、膜ろ過水中
の残留オゾン濃度を連続的に測定し、その測定値に基づ
いて、膜ろ過水中の残留オゾン濃度が所定範囲内となる
ように、オゾン注入量をフィードバック制御するもので
あり、また、膜ろ過装置の膜ろ過出口に設置したオゾン
検知器によって、膜ろ過水中の残留オゾン濃度を連続的
に測定し、その測定値に基づいて、過酸化水素水の注入
量が所定範囲内となるように、過酸化水素水注入量をフ
ィードバック制御する。また、本発明においては、膜ろ
過装置の膜ろ過入り口に設置したオゾン検知器によっ
て、膜供給水中の残留オゾン濃度を連続的に測定し、そ
の測定値に基づいて、過酸化水素水の注入量が所定範囲
内となるように、過酸化水素水注入量をフィードバック
制御が可能である。
ろ過出口に設置したオゾン検知器によって、膜ろ過水中
の残留オゾン濃度を連続的に測定し、その測定値に基づ
いて、膜ろ過水中の残留オゾン濃度が所定範囲内となる
ように、オゾン注入量をフィードバック制御するもので
あり、また、膜ろ過装置の膜ろ過出口に設置したオゾン
検知器によって、膜ろ過水中の残留オゾン濃度を連続的
に測定し、その測定値に基づいて、過酸化水素水の注入
量が所定範囲内となるように、過酸化水素水注入量をフ
ィードバック制御する。また、本発明においては、膜ろ
過装置の膜ろ過入り口に設置したオゾン検知器によっ
て、膜供給水中の残留オゾン濃度を連続的に測定し、そ
の測定値に基づいて、過酸化水素水の注入量が所定範囲
内となるように、過酸化水素水注入量をフィードバック
制御が可能である。
【００２６】
【発明の効果】本発明は、オゾン及び膜ろ過では分解除
去が困難である有機塩素系化合物及び環境ホルモン等の
有害物質を処理することが可能であり、前記物質が処理
水に混入することを抑制でき、かつ活性炭の耐用期間を
のばすことができる水処理方法である。
去が困難である有機塩素系化合物及び環境ホルモン等の
有害物質を処理することが可能であり、前記物質が処理
水に混入することを抑制でき、かつ活性炭の耐用期間を
のばすことができる水処理方法である。
【図１】本発明の一実施形態の処理フローを示す図。
【図２】本発明の他の実施形態を示す処理フロー図。
【図３】本発明の他の実施形態を示す処理フロー図。
【図４】本発明の他の実施形態を示す処理フロー図。
【図５】本発明の他の実施形態を示す処理フロー図。
１ 原水 ２ 循環槽、膜供給水槽 ３ 膜供給ポンプ ４ エジェクター注入装置 ５ 膜ろ過装置 ６ 膜ろ過水 ７ 膜ろ過水槽 ８ 循環水 ９ オゾン １０ オゾン発生器 １１ オゾン検知器 １２ 過酸化水素水 １３ 過酸化水素水注入装置 １４ オゾン検知器 １５ 過酸化水素水 １６ 過酸化水素水注入装置 １７ 紫外線照射装置 １８ 排オゾン処理装置 １９ 排オゾン ２０ 活性炭給水ポンプ ２１ 活性炭処理装置 ２２ 活性炭処理水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 1/78 Ｃ０２Ｆ 1/78 9/00 ５０２ 9/00 ５０２Ｅ ５０２Ｈ ５０２Ｎ ５０２Ｒ ５０３ ５０３Ａ ５０３Ｃ ５０３Ｇ ５０４ ５０４Ｂ ５０４Ｄ ５０４Ｅ (71)出願人 000005234 富士電機株式会社 神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号 (72)発明者 磯村欽三 東京都港区虎ノ門一丁目１番３号 磯村豊 水機工株式会社内 (72)発明者 中谷健治 東京都港区虎ノ門一丁目１番３号 磯村豊 水機工株式会社内 (72)発明者 峯岸寅太郎 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 水野健一郎 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 森吉彦 静岡県富士市鮫島２−１ 旭化成工業株式 会社内 (72)発明者 橋野昌年 静岡県富士市鮫島２−１ 旭化成工業株式 会社内 (72)発明者 高橋和孝 神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号 富士電機株式会社内 (72)発明者 角川功明 神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号 富士電機株式会社内 Ｆターム(参考） 4D006 GA06 GA07 HA01 HA21 HA41 HA61 JB06 KA03 KA71 KA72 KB04 KB12 KC03 KD21 KD22 MA01 MA02 MA03 MA04 MB11 MC29 PB06 PB08 4D024 AA02 AA04 AA05 AB11 BA02 CA01 DB04 DB05 DB10 DB23 DB24 4D037 AA02 AA05 AA11 AB14 BA18 BB09 CA01 CA03 CA11 CA12 4D050 AA02 AA04 AA12 AA15 AB19 BB02 BB09 BC09 BD08 CA06 CA07 CA09
Claims (7)
- 【請求項１】 原水にオゾンをエジェクター装置でイン
ライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその膜
ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、前記膜
ろ過を施す前段または後段に過酸化水素水を注入するこ
とを特徴とする水処理方法。 - 【請求項２】 原水にオゾンをエジェクター装置でイン
ライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその膜
ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、オゾン
残留箇所に紫外線を照射させることを特徴とする水処理
方法。 - 【請求項３】 原水にオゾンをエジェクター装置で、イ
ンライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその
膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、前記
膜ろ過を施す前段または後段に過酸化水素水を注入し、
かつオゾン残留箇所に紫外線を照射することを特徴とす
る水処理方法。 - 【請求項４】 オゾン注入量を膜ろ過水中の残留オゾン
濃度が０．１〜５．０ｍｇ／Ｌの範囲内になるように、
オゾン注入量を調整することを特徴とする請求項１また
は請求項２または請求項３記載の水処理方法。 - 【請求項５】 原水にオゾンをエジェクター装置で、イ
ンライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその
膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、前記
膜ろ過装置の膜ろ過出口に設置したオゾン検知器によっ
て、膜ろ過水の残留オゾン濃度を連続的に測定し、その
測定値に基づいて、膜ろ過水中の残留オゾン濃度が所定
範囲内となるように、オゾン注入量をフィードバック制
御することを特徴とする水処理方法。 - 【請求項６】 原水にオゾンをエジェクター装置で、イ
ンライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその
膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、前記
膜ろ過装置の膜ろ過入り口に設置したオゾン検知器によ
って、膜供給水中の残留オゾン濃度を連続的に測定し、
その測定値に基づいて、過酸化水素水の注入量が所定範
囲内となるように、過酸化水素水注入量をフィードバッ
ク制御することを特徴とする水処理方法。 - 【請求項７】 原水にオゾンをエジェクター装置で、イ
ンライン注入し、膜ろ過装置によりろ過し、次いでその
膜ろ過水を活性炭で処理する水処理方法において、前記
膜ろ過装置の膜ろ過出口に設置したオゾン検知器によっ
て、膜ろ過水の残留オゾン濃度を連続的に測定し、その
測定値に基づいて、過酸化水素水の注入量が所定範囲内
となるように、過酸化水素水注入量をフィードバック制
御することを特徴とする水処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000274679A JP2002079247A (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000274679A JP2002079247A (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 水処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002079247A true JP2002079247A (ja) | 2002-03-19 |
Family
ID=18760406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000274679A Pending JP2002079247A (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002079247A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002153891A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-05-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 難分解性物質含有排水の処理方法及びその装置 |
-
2000
- 2000-09-11 JP JP2000274679A patent/JP2002079247A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002153891A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-05-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 難分解性物質含有排水の処理方法及びその装置 |
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