JP2002063741A - 光ディスク - Google Patents

光ディスク

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JP2002063741A
JP2002063741A JP2001211517A JP2001211517A JP2002063741A JP 2002063741 A JP2002063741 A JP 2002063741A JP 2001211517 A JP2001211517 A JP 2001211517A JP 2001211517 A JP2001211517 A JP 2001211517A JP 2002063741 A JP2002063741 A JP 2002063741A
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JP
Japan
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optical disk
signal
replica substrate
tracking
signal mark
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JP2001211517A
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English (en)
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Hiroki Kuramoto
浩樹 蔵本
Masaki Yoshii
正樹 吉井
Naotake Ebinuma
尚武 海老沼
Masahiro Oshima
正啓 尾島
Keizo Kato
惠三 加藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】不良信号マークがなく、トラッキングおよび情
報信号の良好な光ディスクを得る。 【構成】信号マークの密度が低い(105個/mm2以下)光
ディスク(例えばサンプルサーボ方式光ディスク)や小
型,薄型の光ディスクにおいて、トラッキングおよび情
報用の信号マークを突起形状にした光ディスク。 【効果】トラッキングおよび情報用の信号マークの多重
転写を防止することができ、トラッキングおよび情報読
み出し安定性の良い光ディスクを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は情報記録再生可能な
光ディスクに係り、特に、良好なトラッキングおよび情
報信号の得られる光ディスクに関する。
【0002】
【従来の技術】光ディスクには、再生専用型,追加記録
型,書換可能型の3タイプがある。
【0003】このうち、再生専用型は音声情報を記録し
たCD、画像情報を記録したビデオディスク、文字情報
を記録したCD−ROMなどがある。これらの光ディス
クは大容量記録のため情報を再生するための情報ビット
となる信号マークは一般に、高密度(200000〜400000個
/mm2)になっている。
【0004】また、追加記録型,書換可能型の光ディス
クは文書ファイル,ビデオファイル用として実用化され
ている。これらの光ディスクにおけるトラッキング方式
は連続溝サーボ方式とサンプルサーボ方式の2方式があ
る。連続サーボ方式は従来から開発されてきた方式であ
るが、サンプルサーボ方式はトラッキング安定性が良い
ことから開発が活発化してきている。以下、サンプルサ
ーボ方式光ディスクについて説明する。
【0005】図5に従来のサンプルサーボ方式光ディス
ク9の概要を示す。図5に示すように、サンプルサーボ
方式は情報記録領域3にトラッキングのための案内溝は
用いず、トラックのところどころにトラッキング用の信
号マーク10を設ける。図5(a)に示すように、この
信号マーク10はトラック中心から左右にずらしてお
き、このサンプル点を検出しながらトラッキングを行
う。図6はサンプルサーボ方式光ディスク9の断面図で
あるが、光ディスクのレプリカ基板11の表面上にはピ
ット形状の信号マーク10が形成されている。そして、
レプリカ基板上に記録層17が構成され、情報信号の記
録および再生が行われる。
【0006】光ディスク9を構成する基板は射出成形に
よるプラスチックのレプリカ基板11であり、図7に示
す光ディスク基板成形用金型12により成形される。金
型12にはスタンパ13が設けられ、キャビティ14内
に溶融樹脂を鋳込むことにより、スタンパ13の表面の
突起15を凹状ピットとして転写し、図6に示すように
光ディスクのレプリカ基板11の表面にピット形状の信
号マーク10が形成される。この信号マーク10のピッ
トの光学的深さはλ/4(λは読み取りレーザ波長)であ
る。サンプルサーボ方式光ディスク9の場合、信号マー
ク10はディスク一周で1000〜3000個所必要であり、そ
の他の部分はミラー面である。したがって、光ディスク
9のレプリカ基板11全体においてピット形状の信号マ
ーク10の占める面積は約10%程度と非常に少ない。
【0007】従来のサンプルサーボ方式光ディスクに関
するものとして、ピット形状の信号マークの転写性能を
向上させるために、例えば特開昭63−211137あ
るいは特開平3−203826に記載されているものが
知られている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記したサンプルサー
ボ方式のように信号マークの密度が低い(105個/mm2
以下)光ディスクのレプリカ基板を射出成形法で成形す
ると図8の部分平面図に示すように正常なピット形状の
信号マーク10以外に不良のピット形状の信号マーク1
6が成形条件に依存して、レプリカ基板11の全面ある
いは局部的に多重に転写する。特開昭63−21113
7に記載の方法により不良信号マークをなくすことがで
きるが、この場合、成形条件はかなり限られたものとな
り、光ディスクとして必要な他の性質(例えば、光学的
特性,形状精度)を満足させることが困難であった。ま
た、特開平3−203826に記載の方法では、ダミー
の凹状溝を形成するため余分な工程を必要とし、凹状溝
の最適な形状を見出すのに手間がかかるという問題があ
った。さらに、トラックピッチの狭い光ディスクではダ
ミーの凹状溝が信号特性に悪影響を与えるため、適用で
きないという問題があった。
【0009】また、φ2.5″光ディスクのような小型
の光ディスクおよびレプリカ基板の厚さが1.0mm以下
の薄型の光ディスクにおいても、同様にピット形状の不
良信号マーク16が発生し、この場合、特開昭63−2
11137に記載の方法では、不良信号マーク16をな
くすのは不可能であった。
【0010】この不良信号マーク16の多重転写はトラ
ッキング信号および情報信号に悪影響を及ぼし、トラッ
キングおよび情報の読み出しが正常に行えないという問
題が生じた。
【0011】本発明の目的は、不良ピットの信号マーク
の多重転写をなくし、良好なトラッキング信号および情
報信号の得られる光ディスクを供給することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は信号マークの密度が低い(105個/mm2
下)光ディスク(例えばサンプルサーボ方式光ディスク)
あるいは小型,薄型の光ディスクにおいて、信号マーク
を突起形状にしたものである。
【0013】
【作用】従来の光ディスク(例えばサンプルサーボ方式
光ディスク)ではトラッキングおよび情報用の信号マー
クはピット形状として形成されていた。このようなピッ
トをレプリカ基板上に形成するためにスタンパにはピッ
トに対応するための突起が形成されている。射出成形法
により、スタンパ表面の突起がレプリカ基板上にピット
として形成されるが、この射出成形過程について説明す
る。レプリカ基板の材料となる樹脂を溶融状態にし、こ
の溶融樹脂をスタンパが取り付けられた金型内に射出,
充填する。射出,充填により金型内の樹脂圧は上昇し、
その後保圧力(樹脂の固化収縮分を補填するために加え
る圧力)により、この圧力に保持され冷却過程へと移
り、保圧力は解除され冷却終了後離型を行い、取り出し
てレプリカ基板となる。不良ピットの多重転写は、この
成形過程の保圧力解除時に発生すると考えられる。図9
にこの不良信号マークの発生メカニズムの説明図を示
す。図9に示すように射出,充填,保圧過程によりスタ
ンパ13表面上の突起15が正常ピット信号マーク10
としてレプリカ基板11に転写される。その後、保圧解
除時に冷却によるレプリカ基板11の熱収縮が起こり、
スタンパ13とレプリカ基板11とが離れる。そして、
圧力変動(圧力低下)によりレプリカ基板11の比容積
が増大し、レプリカ基板11が再びスタンパ13に押し
つけられ、正常ピットの信号マーク10以外に不良ピッ
トの信号マーク16が転写される。このレプリカ基板1
1の熱収縮と比容積増大の現象が繰返し起こり、不良ピ
ットの信号マーク16が多重に転写されると考えられ
る。特に、サンプルサーボ方式光ディスクでは信号マー
クとなるピットの割合がレプリカ基板全体の約10%と
小さいためレプリカ基板とスタンパが離れ易く、容易に
不良ピットの信号マークが生じる。また、小型の光ディ
スクのレプリカ基板では保圧解除時の樹脂温度が高いた
め、薄型の光ディスクのレプリカ基板では熱収縮力が大
きいため、容易に不良ピットの信号マークが生じる。
【0014】本発明は、信号マークの密度が低い(105
個/mm2以下)光ディスク(例えばサンプルサーボ方式光
ディスク)あるいは小型,薄型の光ディスクにおいて、
トラッキングおよび情報用の信号マークを突起形状にし
たものであり、この突起をレプリカ基板に形成するため
に、スタンパには凹状ピットが形成されている。これに
より、上記したように射出成形時にレプリカ基板がスタ
ンパと離れ、再度押しつけられても、基板表面の樹脂の
粘度は高いため、スタンパの凹状ピットに樹脂が入り込
むことはない。このため、不良信号マークが生じること
はなく、トラッキングおよび情報信号の良好な光ディス
クを得ることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例について
図1(a),(b)を用いて説明する。図1(a)は本
発明の一実施例である光ディスクの概要図である。この
光ディスク1はプラスチックのレプリカ基板2を単板あ
るいは張り合わせることにより構成される。レプリカ基
板2においてデータ等を記録するための情報領域3には
トラッキングあるいは情報の読み出しを行うための信号
マーク4が形成されている。この信号マーク4の密度は
105個/mm2以下である。図1(b)にレプリカ基板2
の情報領域における部分拡大断面図を示す。レプリカ基
板2の情報領域3におけるトラッキングあるいは情報読
み出し用の信号マーク4は図1(b)に示すように突起
形状となっている。この信号マーク4の突起の高さはλ
/4(λは読み取りレーザ波長)が最適であり、長さは例
えば0.3〜2.0μmである。また、この信号マーク
4の突起はトラッキングおよび情報信号特性を劣化させ
ることのない範囲であればどのような形状でもよい。そ
して、レプリカ基板上に記録層17が構成され、情報信
号の記録および再生が行われる。
【0016】また、本発明は信号マークが半径15mm以
下からリードインになる小型の光ディスクやレプリカ基
板の厚さが1.0mm以下であるような薄型の光ディスク
に関して、レプリカ基板の情報領域におけるトラッキン
グあるいは情報読み出し用の信号マークを突起形状にし
たものである。
【0017】図2(a),(b)は本発明の他の実施例
を示すサンプルサーボ方式光ディスクの部分平面図およ
び部分断面図である。このサンプルサーボ方式光ディス
ク5を構成するレプリカ基板6の情報領域にはトラッキ
ングを行うための信号マーク4が形成されている。図2
(b)に示すようにこのトラッキング用の信号マーク4
は突起形状となっている。この信号マーク4の突起の高
さはλ/4(λは読み取りレーザ波長)であり、長さは時
間軸で90nsであり、半径30mm、回転数1800rpm
においては0.5μmとなる。また、この信号マーク4
の突起はトラッキング信号特性を劣化させることのない
範囲であればどのような形状でもよい。
【0018】次にレプリカ基板2の情報領域3における
突起形状の信号マーク4を形成するための方法について
述べる。本発明の光ディスク1を構成するプラスチック
のレプリカ基板2は射出成形法により成形される。この
時に用いるスタンパの断面図を図3に示す。このスタン
パ7を用いることにより、情報領域3に突起形状の信号
マーク4を形成することができる。図3に示すようにス
タンパ7の表面にはレプリカ基板2の情報領域3の信号
マーク4に対応する部分に凹状のピット8が形成されて
いる。このスタンパ7を用いて射出成形法によりレプリ
カ基板2を成形することにより突起形状の信号マーク4
を形成することができる。また、このスタンパ7は従来
のスタンパと同様な方法で容易に製造することができ
る。
【0019】図3に示すスタンパ7を用いてレプリカ基
板を射出成形した場合のレプリカ基板の熱収縮と圧力変
動によるレプリカ基板とスタンパの状態を図4に示す。
図4に示すように射出,充填,保圧過程によりスタンパ
7表面上の凹状ピット8が突起形状の信号マーク4とし
てレプリカ基板2に転写される。その後、保圧解除時に
冷却によるレプリカ基板2の熱収縮が起こり、スタンパ
7とレプリカ基板2とが離れる。そして、圧力変動(圧
力低下)によりレプリカ基板2の比容積が増大し、レプ
リカ基板2が再びスタンパ7に押しつけられる。この場
合、本発明におけるレプリカ基板2では、この現象が繰
返し起こっても、基板表面の樹脂の粘度は高いため、ス
タンパ7の凹状ピット8に樹脂が入り込むことはなく、
従来の光ディスクにおけるレプリカ基板上に発生したよ
うな不良信号マークが生じることはない。
【0020】本発明の光ディスクのレプリカ基板成形に
おいては、射出成形時の金型温度をレプリカ基板樹脂の
熱変形温度以上で成形することにより、信号マークの信
号特性が良好な光ディスクを得ることができる。図10
は金型温度と信号マークの突起の高さとの関係をレプリ
カ基板がポリカーボネート樹脂の場合について示したも
のである。ここで、信号マークの突起の高さが高いほ
ど、スタンパの凹状ピットを高精度に転写していること
を示し、信号マークの信号特性が向上する。図10に示
すように、金型温度がポリカーボネート樹脂の熱変形温
度126℃以上で信号マークの突起の高さは高くなり、
スタンパの凹状ピットを高精度に転写していることがわ
かる。これにより、本発明の光ディスクのレプリカ基板
の射出成形時の金型温度をレプリカ基板樹脂の熱変形温
度以上で成形することにより、信号マークの信号特性が
良好な光ディスクを得ることができる。
【0021】また、本発明の光ディスクのレプリカ基板
の射出成形における成形条件(樹脂温度,射出率,保圧
力,保圧時間)と信号マークの突起の高さとの関係をレ
プリカ基板がポリカーボネート樹脂の場合について図1
1,図12,図13,図14に示す。ここで、標準条件
は金型温度120℃、樹脂温度330℃、射出率75cm
3/s、保圧力30Mpa、保圧時間1.Osである。これら
の実験データをもとに成形条件を決定し、本発明の光デ
ィスクのレプリカ基板を成形することにより、信号マー
クの信号特性が良好な光ディスクを得ることができる。
【0022】また、本発明の光ディスクのレプリカ基板
を射出圧縮成形を行い成形することにより、高精度な突
起形状の信号マークを形成できる。図15は、圧縮圧力
と信号マークの突起の高さとの関係を示したものであ
る。図15に示すように圧縮圧力が大きくなるにしたが
って信号マークの突起高さが高くなることがわかり、射
出圧縮成形の効果を確認することができる。これより、
本発明の光ディスクのレプリカ基板を射出圧縮成形を行
い成形することにより、高精度な突起形状の信号マーク
を形成でき、信号マークの信号特性が良好な光ディスク
を得ることができる。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、トラッキングおよび情
報用の信号マークの多重転写を防止することができるの
で、トラッキングおよび情報読み出し安定性の良い光デ
ィスクを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す光ディスク
【図2】本発明の実施例を示すサンプルサーボ方式光デ
ィスクの部分平面図および部分断面図
【図3】本発明の光ディスクのレプリカ基板成形用スタ
ンパの断面図
【図4】本発明の光ディスクのレプリカ基板における保
圧解除後の状態説明図
【図5】従来のサンプルサーボ方式光ディスクの概要図
【図6】従来のサンプルサーボ方式光ディスクの断面図
【図7】光ディスク基板成形用金型
【図8】多重転写した不良信号マークの状態を示す部分
平面図
【図9】不良信号マークの発生メカニズムの説明図
【図10】金型温度と信号マークの突起高さの関係
【図11】樹脂温度と信号マークの突起高さの関係
【図12】射出率と信号マークの突起高さの関係
【図13】保圧力と信号マークの突起高さの関係
【図14】保圧時間と信号マークの突起高さの関係
【図15】圧縮圧力と信号マークの突起高さの関係
【符号の説明】
1…光ディスク、2,11…レプリカ基板、3,6…情
報領域、4…突起形状の信号マーク、5,9…サンプル
サーボ方式光ディスク、7,13…スタンパ、8……ス
タンパ表面のピット、10…ピット形状の信号マーク、
12…光ディスク基板成形用金型、14…キャビティ、
15…スタンパ表面の突起、16…ピット形状の不良信
号マーク、17…記録層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 海老沼 尚武 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所横浜工場内 (72)発明者 尾島 正啓 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株 式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 加藤 惠三 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株 式会社日立製作所中央研究所内 Fターム(参考) 5D029 KB03 WB01 WD01 5D090 AA01 CC14 DD01 FF03 GG22 5D121 CA10 DD05 DD07

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】情報を記録再生することができる光ディス
    クにおいて、突起形状で形成されたトラッキング用の信
    号マークを有することを特徴とする光ディスク。
  2. 【請求項2】光ディスクの製造方法において、 トラッキング用の信号マークを転写する凹部を有するス
    タンパを用いて射出成形することを特徴とする光ディス
    クの製造方法。
  3. 【請求項3】情報を記録再生することができる光ディス
    クにおいて、トラッキング用の信号マークを転写する凹
    部を有するスタンパを用いた射出成形で形成される突起
    形状を有することを特徴とする光ディスク。
JP2001211517A 2001-07-12 2001-07-12 光ディスク Pending JP2002063741A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006003921A1 (ja) * 2004-07-01 2006-01-12 Riken 微細パターン形成方法および微細パターン形成装置

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