JP2002050710A - 電子部品装置 - Google Patents

電子部品装置

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JP2002050710A
JP2002050710A JP2000232317A JP2000232317A JP2002050710A JP 2002050710 A JP2002050710 A JP 2002050710A JP 2000232317 A JP2000232317 A JP 2000232317A JP 2000232317 A JP2000232317 A JP 2000232317A JP 2002050710 A JP2002050710 A JP 2002050710A
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cavity
electronic component
ceramic package
sealing conductor
conductor
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Kimiya Kawamura
公冶 川村
Hirohisa Takahata
広久 高畠
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Kyocera Corp
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Kyocera Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]

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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】金属製蓋体をセラミックパッケージの上面に配
置した封止用導体に溶接しても、金属成分の飛散がな
く、安定した特性が得られる電子部品装置を提供する。 【解決手段】セラミックパッケージ2に設けたキャビテ
ィー21内に電子部品素子を収納するとともにキャビテ
ィー21の側壁上面に設けた封止用導体5にキャビティ
ー21を気密封止する金属製蓋体4を溶接してなる電子
部品装置において、封止用導体5はキャビティー21側
壁上面の外周寄りに形成されており、かつ側壁上面の全
幅をW、側壁上面で封止用導体の非形成領域の幅Wiと
したとき、Wi/Wが0.2〜0.6である構成とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は圧電素子、水晶振動
子、ICチップ等の電子部品素子をセラミックパッケー
ジに収容し、金属製蓋体で溶接封止して成る電子部品装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】セラミックパッケージのキャビティー
に、例えば、水晶振動子などの電子部品素子を収容し、
金属製蓋体でキャビティーの内部を気密封止した水晶発
振子として、特開平9−246415の構成を図5によ
り説明する。
【0003】図5は例えば圧電素子の1つである水晶振
動子をセラミックパッケージに収容し、金属製蓋体で気
密封止した電子部品装置である水晶振動子の断面図であ
る。
【0004】例えば、水晶発振子は、水晶振動子10
3、セラミックパッケージ102、金属製蓋体104と
から主に構成されている。
【0005】セラミックパッケージ102には、平板状
のセラミック層102a、枠体状のセラミック層102
b、102cが積層して、全体として、上面が開口した
キャビティー1021が形成されている。このキャビテ
ィー1021の内壁面には、水晶振動子103を固定
し、且つ電気的な接続を達成する段差部1022が形成
されている。
【0006】また、セラミックパッケージ102のキャ
ビティー1021の開口周囲には、封止用導体105が
配置されている。例えば、封止用導体105は、キャビ
ティー1021の開口周囲にタングステン、又はモリブ
デンなどのメタライズ層を被着形成し、このメタライズ
層の上面側には、メッキ手法により形成されたメッキ層
が被着され、形成されている。そしてセラミックパッケ
ージ102のキャビティー1021を封止する金属製蓋
体104は、少なくとも接合面にクラッド化された金属
ろう材層が形成されている。
【0007】また、セラミックパッケージ102のキャ
ビティー1021内に、水晶振動子103を収容した
後、この金属製蓋体104を、封止用導体105上に載
置し、両者をビーム溶接やシーム溶接により封着してい
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来、図5の
ような構造で、ビーム溶接やシーム溶接の手法にて溶接
すると、セラミックパッケージ102側の封止用導体1
05と、金属製蓋体104のクラッド層とが、溶解しあ
い接合されるものの、セラミックパッケージ102側の
封止用導体105の表面の凹凸状態や、金属製蓋体10
4の当接部にバリやそりがあると、両者の接触状態が均
一化せず、溶接時の電流を供給している時に、この間隙
に放電スパークや溶けた金属成分(異物)の飛散が発生
することがあった。
【0009】特に、この飛散した金属成分(異物)は、
キャビティー1021の内部に飛散すると、キャビティ
ー1021の内部を汚染したり、水晶振動子103に付
着したりする。特に、水晶振動子103に付着すると、
発振特性が大きく変動してしまい、その結果、所定特性
が得られないという問題があった。即ち、非常に信頼性
を悪くしていた。
【0010】本発明は上述の問題に鑑みて案出されたも
のであり、その目的は、溶接時、異物となる金属成分が
キャビティー内部に飛散することを有効に抑制し、キャ
ビティーの内部に収容された電子部品素子の安定した動
作を可能とする電子部品装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、セラミックパ
ッケージに設けたキャビティー内に電子部品素子を収納
するとともにキャビティーの側壁上面に設けた封止用導
体にキャビティーを気密封止する金属製蓋体を溶接して
なる電子部品装置において、前記封止用導体はキャビテ
ィー側壁上面の外周寄りに形成されており、かつ前記側
壁上面の全幅をW、側壁上面で封止用導体の非形成領域
の幅Wiとしたとき、Wi/Wが0.2〜0.6である
ことを特徴とする電子部品装置を提供することにある。
【作用】本発明の電子部品装置の構成によれば、封止用
導体はキャビティー側壁上面の外周寄りに形成されてお
り、かつ前記側壁上面の全幅をW、側壁上面で封止用導
体の非形成領域の幅Wiとしたとき、Wi/Wが0.2
〜0.6であるために、ビーム溶接やシーム溶接などで
金属製蓋体の縁部を溶接しスパークにより金属成分の飛
散が発生したとしても、側壁上面で封止用導体の非形成
領域の幅Wiが長いためにキャビティー内部に入り込む
ことを防止することができ、電子部品素子に金属成分が
付着して動作停止を生じさせるなどの信頼性が低下する
のを防止することができる。結局、電気的特性が良好
で、高い信頼性の電子部品装置が提供できる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の電子部品装置、そ
の一例である水晶発振子を、図面を用いて詳説する。図
1は、本発明の水晶発振子に係る断面図、図2は金属製
蓋体部分の要部の拡大図、図3はセラミックパッケージ
の主要部分の拡大図である。
【0013】図1において、水晶発振子1は、セラミッ
クパッケージ2、電子部品素子である水晶振動子3、金
属製蓋体4、セラミックパッケージ2と金属製蓋体4を
ビーム溶接やシーム溶接により封止するための封止用導
体5で主に構成されている。
【0014】このようなセラミックパッケージ2は、例
えば、周知の多層配線基板の技術を用いて形成される。
例えば、セラミックパッケージ2は、平板状のセラミッ
ク層2a、中央部が開口したリング状のセラミック層2
b、中央部が開口したリング状のセラミック層2cとが
積層して構成されている。尚、セラミック層2bの開口
面積が、セラミック層2cの開口形状に比較して小さく
なっている。
【0015】これにより、セラミックパッケージ2は、
上面開口を有するキャビティー21が形成されるととも
に、上述のセラミック層2bと2cの開口寸法の違いか
ら、キャビティー21の内壁面には段差部22、23が
形成される。
【0016】ここで、段差部22は、水晶振動子3が機
械的に固定及び電気的に接続される電極パッドが形成さ
れる。
【0017】また、セラミックパッケージ2の底面に
は、該電極パッドに導通する端子電極が形成され、セラ
ミックパッケージ2のキャビティー21の開口周囲に封
止用導体が形成され、また、セラミックパッケージ2の
厚み方向には、不図示であるが電極パッドと端子電極と
を導通するビアホール導体、封止用導体と端子電極とを
導通するビアホール導体が形成されている。
【0018】また、封止用導体5はキャビティー21の
側壁上面の外周寄りに形成されており、位置としては、
キャビティー開口部の側壁上面の全幅をW、前記側壁上
面で封止用導体の非形成領域の幅をWiとしたときにW
i/Wが0.2〜0.6となる位置に設けられている。
該封止用導体膜5はキャビティー21の周辺にタングス
テン、またはモリブデンなどのメタライズ層を被着形成
し、このメタライズ層の上面側に、メッキ手法により形
成されたメッキ層が被着されており、その厚みは金属製
蓋体30〜60μm程度、好ましくは50〜60μmで
あり、その表面には例えば、NiメッキとAuメッキが
施されている。
【0019】このような電極パッド、端子電極、封止用
導体及びビアホール導体は、所定セラミックグリーンシ
ートに貫通孔を形成し、貫通孔内にモリブデンやタング
ステンなどの高融点金属材料から成る導電性ペーストを
充填印刷するとともに、シート表面に所定形状に導電性
ペーストを印刷する。その後、セラミックグリーンシー
トを積層圧着した後、所定雰囲気で焼成することにより
形成される。
【0020】尚、上述の形成方法は、グリーンシートの
積層による製造方法であるが、例えばセラミック粉末に
よるプレス成型で形成できる。
【0021】水晶振動子3は、所定結晶軸でカットされ
た短冊状の水晶基板と、該水晶基板の両主面に形成され
る励振電極と、該励振電極から水晶基板の一方の端部に
延びる引き出し電極を具備している。
【0022】金属製蓋体4は、図2に示すように、実質
的にコバールや42アロイなどの金属材料の平板状板体
41と、接合面側に被着したろう材層42、接合面と反
対側の表面に被着したメッキ層43とから構成されてい
る。例えば、平板状板体41は50〜100μm、例え
ば100μmの厚みであり、接合面側のろう材層42は
低融点ろう材、例えば、Au合金、Sn、はんだ、アル
ミニウム合金等などが例示できる。この低融点ろう材層
42は、金属製蓋体4の加工時に、平板状板体41に対
してクラッドなどにより一体的に被着形成されている。
そのろう材層42の厚みは、例えば10〜50μm、例
えば15μmである。また、ここでは金属製蓋体4は接
合面側にろう材層、接合面と反対側にはメッキ層を被着
した例で説明するが、少なくとも接合面にろう材層が形
成されていればよく、図示しないが、金属製蓋体4の両
面にろう材層が形成されていても構わない。
【0023】このような金属製蓋体4は、セラミックパ
ッケージ2の上面に被着形成した封止用導体膜5上に載
置した時、封止用導体膜5の外縁の一部が、金属製蓋体
4の周囲から露出するような寸法となっている。この外
縁の露出幅dは、50〜100μm程度露出させること
が望ましい。露出幅が50μm未満では、この金属製蓋
体4の端面部分に適正なフィレットが形成されず溶着状
態を目視にて確認することが困難となる。また、露出幅
が100μmを超えるとキャビティー21の壁面と金属
製蓋体4の端面との距離が小さくなり、セラミックパッ
ケージ2にクラックが発生しやすくなる。
【0024】ここで、外周側導体5の幅Woについて、
幅Woは約100〜300μmが望ましい。仮に、10
0μm未満では、リーク不良が発生し易くなり、また、
安定した溶接が困難となる。尚、300μmを越える
と、該封止用導体膜を形成した枠体状セラミック層2c
自身が大型化してしまう。
【0025】Wiは40〜100μm程度することが望
ましい。40μm未満では、この溝50の間隔でスパー
クが発生しやすくなる。また、100μmを越えると該
封止用導体膜を形成した枠体状セラミック層2c自身が
大型化してしまう。
【0026】以上の、Wi、Woの値を考慮し、さら
に、Wは通常200μmから500μmであることを考
慮すると、前記封止用導体の位置は、Wi/Wが0.2
〜0.6で表される位置に形成されることが良いことが
わかる。
【0027】上述の電子部品装置は、次のように組み立
てられる。まず、セラミックパッケージ2のキャビティ
ー21の段差部上の電極パッドにAgを含有する導電性
樹脂ペーストを供給し、水晶振動子3の引き出し電極が
電極パッドと接続するように、導電性樹脂ペーストに、
水晶振動子3を載置する。そして、導電性樹脂ペースト
を硬化して、セラミックパッケージ2に水晶振動子3を
固定する。
【0028】次に、水晶振動子3の周波数調整をした
後、窒素ガス中、又は真空中で金属製蓋体4をセラミッ
クパッケージ2の開口周辺の封止用導体5上に、前述の
ように載置する。
【0029】次に、金属製蓋体4の外周の縁部にビーム
溶接またはシーム溶接にて、電子ビームを照射しなが
ら、または所定電流を供給しながら、金属製蓋体4の場
合はろう材層42とセラミックパッケージ2の外周側の
封止用導体膜5で溶接する。これにより、金属製蓋体4
とセラミックパッケージ2とが気密的に封止される。
【0030】ここで、Wi/Wが0.2〜0.6となる
位置に周設されている。そして、電子ビームの照射やロ
ーラ電極による電流を加えることにより、金属製蓋体4
の外周側縁部より溶融されることになるため、リング状
枠体の外周側の封止用導体が形成されている部分で溶接
接合が達成される。
【0031】この時、封止用導体の表面に凹凸や金属製
蓋体4に金属バリやそりがあって、金属製蓋体4と封止
用導体との間でスパークが発生し、ろう材層42やメッ
キ層5の金属成分が、キャビティー21側に飛散しよう
としても、リング状セラミック層の幅を2等分した内周
側に封止用導体を形成していない部分を周設させている
ことにより、飛散した金属成分が遮断される。
【0032】その結果、少なくともキャビティー21の
内部に金属成分の飛散が抑制され、キャビティー21内
に異物として存在することがなく、また、水晶振動子3
の表面に付着することが一切ない。
【0033】これにより、電気的特性が良好で、高い信
頼性の水晶発振子となる。
【0034】また、本発明の別の実施例として、図4に
示すように、封止用導体5はWi/Wが0.2〜0.6
となる位置に設けられているのだが、封止用導体膜5よ
りも、内周側に硬化された絶縁性接着剤などの絶縁体5
aが均一な幅で封止用導体膜5と同様に周設されてもよ
い。この絶縁体5aの厚みは、封止用導体5とほぼ同一
であることが好ましいが、上限としては封止用導体の厚
みを超えないレベルが良い。理由は、金属製蓋体を用い
て溶接する際、不良となる危険があるからである。
【0035】上述の実施例では、セラミックパッケージ
2のキャビティー21内部に水晶振動子である圧電振動
子を配置したが、その他に弾性表面波素子やICチップ
などの電子部品素子を収容してもよい。
【0036】また、上述の実施例では、電子部品素子3
と電極パッドとの接続が導電性樹脂ペーストによって行
なわれているが、電子部品素子によって、ボンディング
ワイヤー、半田バンプを用いてフリップチップ接合して
も構わない。
【0037】また、必要に応じて、キャビティー21内
部に、弾性表面波素子や圧電振動子やICチップなどの
電子部品素子3とともに、所定回路を構成する各種チッ
プ状電子部品も収容配置される。
【0038】
【発明の効果】以上のように、本発明の電子部品装置で
は、封止用導体がキャビティー側壁上面の外側よりで、
Wi/Wが0.2〜0.6となる位置に形成されている
ために、ビーム溶接やシーム溶接などで金属製蓋体の縁
部を溶接しスパークにより金属成分の飛散が発生したと
しても、側壁上面で封止用導体の非形成領域の幅Wiが
長いためにキャビティー内部に入り込むことを防止する
ことができ、電子部品素子に金属成分が付着して動作停
止を生じさせるなどの信頼性が低下するのを防止するこ
とができる。これにより、電子部品の信頼性を向上させ
るとともに、特性の維持向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子部品装置である水晶発振子の断面
図である。
【図2】本発明の電子部品装置である水晶発振子に用い
る金属製蓋体の部分断面図である。
【図3】本発明の電子部品装置である水晶発振子に用い
るセラミックパッケージの要部断面図である。
【図4】本発明の電子部品装置である水晶発振子の別の
例の断面図である。
【図5】従来の水晶発振子の断面図である。
【符号の説明】
1・・・水晶発振子 2・・・セラミックパッケージ 3・・・水晶振動子 4・・・金属製蓋体 5・・・封止用導体 101・・・水晶発振子 102・・・セラミックパッケージ 103・・・水晶振動子 104・・・金属製蓋体 105・・・封止用導体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミックパッケージに設けたキャビテ
    ィー内に電子部品素子を収納するとともにキャビティー
    の側壁上面に設けた封止用導体にキャビティーを気密封
    止する金属製蓋体を溶接してなる電子部品装置におい
    て、 前記封止用導体はキャビティー側壁上面の外周寄りに形
    成されており、かつ前記側壁上面の全幅をW、側壁上面
    で封止用導体の非形成領域の幅をWiとしたとき、Wi
    /Wが0.2〜0.6であることを特徴とする電子部品
    装置。
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