JP2002046049A - 光ファイバコネクタの研磨方法 - Google Patents
光ファイバコネクタの研磨方法Info
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- JP2002046049A JP2002046049A JP2001148625A JP2001148625A JP2002046049A JP 2002046049 A JP2002046049 A JP 2002046049A JP 2001148625 A JP2001148625 A JP 2001148625A JP 2001148625 A JP2001148625 A JP 2001148625A JP 2002046049 A JP2002046049 A JP 2002046049A
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- Japan
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- optical fiber
- polishing
- connector
- face
- fiber connector
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- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光ファイバのコア部の凹みを減少させ、本体の
端面からの光ファイバの端面の突き出し量を良好にする
ことができる光ファイバコネクタの研磨方法を提供す
る。 【解決手段】本発明の光ファイバコネクタの研磨方法
は、MTコネクタ1に保持される光ファイバ4の端面を
MTコネクタ1の端面2eよりも突き出させるように研
磨する方法であって、研磨シート11に研磨材とアルコ
ールとを混合した研磨液12を塗布しながら研磨する。
研磨液12は、例えばアルミナ粉末とモノエチレングリ
コールとを混合したものが好ましい。
端面からの光ファイバの端面の突き出し量を良好にする
ことができる光ファイバコネクタの研磨方法を提供す
る。 【解決手段】本発明の光ファイバコネクタの研磨方法
は、MTコネクタ1に保持される光ファイバ4の端面を
MTコネクタ1の端面2eよりも突き出させるように研
磨する方法であって、研磨シート11に研磨材とアルコ
ールとを混合した研磨液12を塗布しながら研磨する。
研磨液12は、例えばアルミナ粉末とモノエチレングリ
コールとを混合したものが好ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光ファイバコネクタ
の研磨方法に関し、特に、MT(Mechanically Trasfer
able)コネクタの端面よりも光ファイバの端面を突き出
させるように研磨する光ファイバコネクタの研磨方法に
関する。
の研磨方法に関し、特に、MT(Mechanically Trasfer
able)コネクタの端面よりも光ファイバの端面を突き出
させるように研磨する光ファイバコネクタの研磨方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】近年、多心コネクタとして樹脂一体成形
のMTコネクタが使用されている。図4(A)に示すよ
うに、MTコネクタ1は、一面に開口部2aが形成され
たプラスチック製のフェルール本体2と、その本体2の
基端面から突設されるゴム製のブーツ部3とを有する。
のMTコネクタが使用されている。図4(A)に示すよ
うに、MTコネクタ1は、一面に開口部2aが形成され
たプラスチック製のフェルール本体2と、その本体2の
基端面から突設されるゴム製のブーツ部3とを有する。
【0003】本体2の基端側には鍔部2bが設けられて
いる。また、本体2の鍔部2b内部には挿通孔2fが形
成されている。挿通孔2fは、上記開口部2aに連通さ
れる。そして、開口部2aに連通して本体2の端面2e
に開口する複数個の貫通孔2cが形成されている。さら
に、本体2の両側には、一対のピン挿入用孔2dが形成
されている(図4(B)参照)。
いる。また、本体2の鍔部2b内部には挿通孔2fが形
成されている。挿通孔2fは、上記開口部2aに連通さ
れる。そして、開口部2aに連通して本体2の端面2e
に開口する複数個の貫通孔2cが形成されている。さら
に、本体2の両側には、一対のピン挿入用孔2dが形成
されている(図4(B)参照)。
【0004】MTコネクタ1を使用して光ファイバ4を
保持する場合、まず、光ファイバテープ5の先端部を剥
離し、光ファイバテープ5内に収納された複数心の光フ
ァイバ4を露出させる。
保持する場合、まず、光ファイバテープ5の先端部を剥
離し、光ファイバテープ5内に収納された複数心の光フ
ァイバ4を露出させる。
【0005】次いで、光ファイバ4の先端部を挿通孔2
fから開口部2aに挿入すると共に、その露出した光フ
ァイバ4を、貫通孔2cに挿通させてその先端をこの本
体2の端面2eから突出させる。
fから開口部2aに挿入すると共に、その露出した光フ
ァイバ4を、貫通孔2cに挿通させてその先端をこの本
体2の端面2eから突出させる。
【0006】次いで、開口部2aに接着剤6(例えば、
熱硬化性接着剤)を注入して、この接着剤6によって端
面2eから突出した光ファイバ4を被覆する(図4
(C)参照)。
熱硬化性接着剤)を注入して、この接着剤6によって端
面2eから突出した光ファイバ4を被覆する(図4
(C)参照)。
【0007】次いで、接着剤6を加熱硬化させた後、本
体2の端面2eを研磨して端面2eから突出した光ファ
イバ4及び接着剤6を除去する。これによって、MTコ
ネクタ1に光ファイバ4を保持することができる。
体2の端面2eを研磨して端面2eから突出した光ファ
イバ4及び接着剤6を除去する。これによって、MTコ
ネクタ1に光ファイバ4を保持することができる。
【0008】次いで、図5(A)(B)、図6(A)に
示すように、光ファイバ4を保持した一対のMTコネク
タ1a、1bを、一対の連結ピン7を介して連結する。
即ち、一方のMTコネクタ1aのピン挿入用孔2dに連
結ピン7を挿入した後、他方のMTコネクタ1bのピン
挿入用孔2dに連結ピン7を挿入する。
示すように、光ファイバ4を保持した一対のMTコネク
タ1a、1bを、一対の連結ピン7を介して連結する。
即ち、一方のMTコネクタ1aのピン挿入用孔2dに連
結ピン7を挿入した後、他方のMTコネクタ1bのピン
挿入用孔2dに連結ピン7を挿入する。
【0009】最後に、図6(B)に示すように、一対の
MTコネクタ1a、1bに嵌合クリップ8を嵌合してM
Tコネクタ1a、1b同士を突き合わせ状に保持するこ
とによって光ファイバの接続作業が完了する。なお、こ
の他にMTコネクタ1a、1bをハウジング内に固定
し、コネクタアダプタ内にハウジング付のMTコネクタ
1a、1bを挿入し、突き合わせ固定する方法などもあ
る。
MTコネクタ1a、1bに嵌合クリップ8を嵌合してM
Tコネクタ1a、1b同士を突き合わせ状に保持するこ
とによって光ファイバの接続作業が完了する。なお、こ
の他にMTコネクタ1a、1bをハウジング内に固定
し、コネクタアダプタ内にハウジング付のMTコネクタ
1a、1bを挿入し、突き合わせ固定する方法などもあ
る。
【0010】従来、MTコネクタ1の本体2の端面2e
及び光ファイバ4の端面とを研磨する際、本体2の端面
2eと光ファイバ4の端面とを凹凸なく平らに研磨して
いた。しかし、この場合、接続損失を防止し、反射減衰
量を保証するために、端面2e間に屈折率整合剤(マッ
チングオイル)を付着しなければならず、余分な作業を
必要とする。
及び光ファイバ4の端面とを研磨する際、本体2の端面
2eと光ファイバ4の端面とを凹凸なく平らに研磨して
いた。しかし、この場合、接続損失を防止し、反射減衰
量を保証するために、端面2e間に屈折率整合剤(マッ
チングオイル)を付着しなければならず、余分な作業を
必要とする。
【0011】そこで、本体2の端面2eよりも光ファイ
バ4の端面を数ミクロン突き出させるように研磨して、
光ファイバ4同士を接合させることにより、屈折率整合
剤を用いることなく、低損失、低反射の接続特性を実現
する技術(PC(physical contact)接続)が提案され
ている。この場合に適用される従来の研磨方法は、研磨
シートにアルミナ粉末と蒸留水とを混合した研磨液を塗
布しながら研磨を行っていた。
バ4の端面を数ミクロン突き出させるように研磨して、
光ファイバ4同士を接合させることにより、屈折率整合
剤を用いることなく、低損失、低反射の接続特性を実現
する技術(PC(physical contact)接続)が提案され
ている。この場合に適用される従来の研磨方法は、研磨
シートにアルミナ粉末と蒸留水とを混合した研磨液を塗
布しながら研磨を行っていた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の研磨方
法では、研磨することにより光ファイバ4のコア部がク
ラッド部よりも削られてしまい、光ファイバ4のコア部
が凹んでしまうという課題がある。その結果、光コネク
タ同士を接続した際、コア部同士の間に隙間が生じ、反
射減衰量など光伝送に悪影響を及ぼし、光コネクタの信
頼性が低下するおそれがあった。
法では、研磨することにより光ファイバ4のコア部がク
ラッド部よりも削られてしまい、光ファイバ4のコア部
が凹んでしまうという課題がある。その結果、光コネク
タ同士を接続した際、コア部同士の間に隙間が生じ、反
射減衰量など光伝送に悪影響を及ぼし、光コネクタの信
頼性が低下するおそれがあった。
【0013】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、光ファイバのコア部の凹みを減少させ、
本体の端面からの光ファイバの端面の突き出し量を良好
にすることができる光ファイバコネクタの研磨方法を提
供することを目的とする。
たものであり、光ファイバのコア部の凹みを減少させ、
本体の端面からの光ファイバの端面の突き出し量を良好
にすることができる光ファイバコネクタの研磨方法を提
供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の光ファイバコネ
クタの研磨方法は、光ファイバコネクタに保持される光
ファイバの端面を前記光ファイバコネクタの端面よりも
突き出させるように研磨する光ファイバコネクタの研磨
方法であって、研磨シートに研磨材とアルコールとを有
する研磨液を塗布しながら研磨することを特徴とするも
のである。
クタの研磨方法は、光ファイバコネクタに保持される光
ファイバの端面を前記光ファイバコネクタの端面よりも
突き出させるように研磨する光ファイバコネクタの研磨
方法であって、研磨シートに研磨材とアルコールとを有
する研磨液を塗布しながら研磨することを特徴とするも
のである。
【0015】前記研磨液は、アルミナ粉末と多価アルコ
ールとを混合したものであってもよい。
ールとを混合したものであってもよい。
【0016】前記研磨液は、アルミナ粉末とモノエチレ
ングリコールとを混合したものであってもよい。
ングリコールとを混合したものであってもよい。
【0017】前記研磨液は、重量比でアルミナ粉末1に
対してモノエチレングリコールを1乃至2の割合で混合
したものであってもよい。
対してモノエチレングリコールを1乃至2の割合で混合
したものであってもよい。
【0018】本発明によれば、研磨シートに研磨材とア
ルコールとを混合した研磨液を塗布しながら研磨するの
で、光ファイバのコア部の凹みを減少させることがで
き、本体の端面からの光ファイバの端面の突き出し量を
良好にすることができる。
ルコールとを混合した研磨液を塗布しながら研磨するの
で、光ファイバのコア部の凹みを減少させることがで
き、本体の端面からの光ファイバの端面の突き出し量を
良好にすることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。なお、従来技術と同一の部材
は同一の符号を付して適宜説明を省略する。
を参照しながら説明する。なお、従来技術と同一の部材
は同一の符号を付して適宜説明を省略する。
【0020】本発明の実施の形態では、開口部2aに接
着剤6(例えば、熱硬化性接着剤)を注入して、この接
着剤6によって本体の端面2eから突出した光ファイバ
4を被覆し(図4(C)参照)、接着剤6を加熱硬化さ
せた後、本体2の端面2eに付着した接着剤6を削り落
とす(図1(A)参照)。この接着剤落とし工程は約6
0秒間行う。
着剤6(例えば、熱硬化性接着剤)を注入して、この接
着剤6によって本体の端面2eから突出した光ファイバ
4を被覆し(図4(C)参照)、接着剤6を加熱硬化さ
せた後、本体2の端面2eに付着した接着剤6を削り落
とす(図1(A)参照)。この接着剤落とし工程は約6
0秒間行う。
【0021】次いで、平面度を良好にし、本体の端面2
eのキズを少なくするために平面出しを行う(図1
(B)参照)。この平面出し工程は約30秒間行う。
eのキズを少なくするために平面出しを行う(図1
(B)参照)。この平面出し工程は約30秒間行う。
【0022】次いで、光ファイバ4の端面を本体2の端
面2eよりも突き出させるように研磨する(図1(C)
参照)。この突き出し工程は約90秒間行う。
面2eよりも突き出させるように研磨する(図1(C)
参照)。この突き出し工程は約90秒間行う。
【0023】最後に、光ファイバ4面の細かいキズを取
り除いて仕上げる。この仕上げ工程は、約5秒間行う。
り除いて仕上げる。この仕上げ工程は、約5秒間行う。
【0024】上記の突き出し工程では、図2に示すよう
に、研磨装置(図示せず)の研磨定盤9にバインダ10
を介して厚さ約1mmの研磨シート11を取り付けた
後、研磨材とアルコール(例えば多価アルコール)とを
混合した研磨液12を研磨シート11に塗布しながら研
磨定盤9を回転させて、本体2の端面2eと光ファイバ
4の端面を研磨する。
に、研磨装置(図示せず)の研磨定盤9にバインダ10
を介して厚さ約1mmの研磨シート11を取り付けた
後、研磨材とアルコール(例えば多価アルコール)とを
混合した研磨液12を研磨シート11に塗布しながら研
磨定盤9を回転させて、本体2の端面2eと光ファイバ
4の端面を研磨する。
【0025】研磨シート11は、例えばダイヤモンドシ
ートを用いる。研磨液12は、例えばアルミナ粉末とモ
ノエチレングリコールを1:2の比率で混合した液を使
用する。従来は、アルミナ粉末と蒸留水とを混合した研
磨液を用いていたが、この場合、ファイバ面の仕上がり
が悪く、仕上げ工程で酸化セリウムと蒸留水を混合した
研磨液を使用して研磨しなければならなかったが、この
方法では数秒研磨しただけでも、光ファイバ4のコア部
に凹み4aが生じてしまう。
ートを用いる。研磨液12は、例えばアルミナ粉末とモ
ノエチレングリコールを1:2の比率で混合した液を使
用する。従来は、アルミナ粉末と蒸留水とを混合した研
磨液を用いていたが、この場合、ファイバ面の仕上がり
が悪く、仕上げ工程で酸化セリウムと蒸留水を混合した
研磨液を使用して研磨しなければならなかったが、この
方法では数秒研磨しただけでも、光ファイバ4のコア部
に凹み4aが生じてしまう。
【0026】これに対し、本実施形態例のようにアルミ
ナ粉末とモノエチレングリコールとを混合した研磨液1
2を用いることによって光ファイバ4面の仕上がりも良
好になり、仕上げ工程で酸化セリウムと蒸留水とを混合
した研磨液を使用しなくても、ファイバコアの凹み4a
を減少させることができる。
ナ粉末とモノエチレングリコールとを混合した研磨液1
2を用いることによって光ファイバ4面の仕上がりも良
好になり、仕上げ工程で酸化セリウムと蒸留水とを混合
した研磨液を使用しなくても、ファイバコアの凹み4a
を減少させることができる。
【0027】図3は、これらの点について検討した実験
結果を示すものである。図3(A)、(B)はそれぞれ
MTコネクタ1を研磨した後のMTコネクタ端面の表面
粗さを表面粗さ形状測定機を使って測定した結果を示す
ものであり、図3(A)は従来方法の結果、図3(B)
は本実施形態例の方法の結果を示している。
結果を示すものである。図3(A)、(B)はそれぞれ
MTコネクタ1を研磨した後のMTコネクタ端面の表面
粗さを表面粗さ形状測定機を使って測定した結果を示す
ものであり、図3(A)は従来方法の結果、図3(B)
は本実施形態例の方法の結果を示している。
【0028】図3(A)に示すように、従来の方法で
は、光ファイバ4のコア部に深さ約0.1μm弱の凹み
4aが生じている。
は、光ファイバ4のコア部に深さ約0.1μm弱の凹み
4aが生じている。
【0029】一方、図3(B)に示すように、本実施形
態例の研磨方法では、光ファイバ4のコア部に凹みは見
当たらない。
態例の研磨方法では、光ファイバ4のコア部に凹みは見
当たらない。
【0030】そのため、これらの研磨方法で研廃された
MTコネクタを用いて図6に示すような突き合わせ接続
した場合のフレネル反射量は、本実施形態例の方法で研
磨したMTコネクタを用いた方が従来の方法で研磨した
場合に比べて少なかった。
MTコネクタを用いて図6に示すような突き合わせ接続
した場合のフレネル反射量は、本実施形態例の方法で研
磨したMTコネクタを用いた方が従来の方法で研磨した
場合に比べて少なかった。
【0031】次に、本発明者が行った研磨液の評価実験
について説明する。表1に示すように、研磨液(研磨
材)が重量比でアルミナ粉末1に対してモノエチレング
リコールを1乃至3の割合で混合したもの、及び研磨液
(研磨材)が重量比でアルミナ粉末1に対して蒸留水を
1乃至3の割合で混合したものについて、それぞれファ
イバ凹み、突き出し性、作業性について評価した。
について説明する。表1に示すように、研磨液(研磨
材)が重量比でアルミナ粉末1に対してモノエチレング
リコールを1乃至3の割合で混合したもの、及び研磨液
(研磨材)が重量比でアルミナ粉末1に対して蒸留水を
1乃至3の割合で混合したものについて、それぞれファ
イバ凹み、突き出し性、作業性について評価した。
【0032】
【表1】 表1からわかるように、研磨液は、重量比でアルミナ粉
末1に対してモノエチレングリコールを1乃至2の割合
で混合したものが、ファイバの凹みがなく、かつ突き出
し量が良好であることがわかる。
末1に対してモノエチレングリコールを1乃至2の割合
で混合したものが、ファイバの凹みがなく、かつ突き出
し量が良好であることがわかる。
【0033】また、本発明者は、研磨液の濃度実験を行
った。通常は、混合液は重量比でアルミナ粉末1に対し
てモノエチレングリコール2の割合で混合している。実
験では、表2の割合でモノエチレングリコールと蒸留水
を混合して実験を行った。
った。通常は、混合液は重量比でアルミナ粉末1に対し
てモノエチレングリコール2の割合で混合している。実
験では、表2の割合でモノエチレングリコールと蒸留水
を混合して実験を行った。
【0034】
【表2】 表3は、上記の実験結果である。表3からわかるよう
に、濃度を変化させてもコアの凹みがなく、かつ端面仕
上がりが良好であることがわかる。ただし、モノエチレ
ングリコールの濃度が低くなるにつれて、突き出し量が
小さくなっていることがわかる。
に、濃度を変化させてもコアの凹みがなく、かつ端面仕
上がりが良好であることがわかる。ただし、モノエチレ
ングリコールの濃度が低くなるにつれて、突き出し量が
小さくなっていることがわかる。
【0035】
【表3】 本発明は、上記実施の形態に限定されることはなく、特
許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲内におい
て、種々の変更が可能である。例えば、本発明をMTコ
ネクタ以外の光ファイバコネクタに適用してもよい。
許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲内におい
て、種々の変更が可能である。例えば、本発明をMTコ
ネクタ以外の光ファイバコネクタに適用してもよい。
【0036】
【発明の効果】本発明によれば、研磨シートに研磨材と
アルコールとを混合した研磨液を塗布しながら研磨する
ので、光ファイバのコア部の凹みを減少させることがで
き、本体の端面からの光ファイバの端面の突き出し量を
良好にすることができる。その結果、良好な反射減衰量
を得ることができ、光コネクタの信頼性が向上する。
アルコールとを混合した研磨液を塗布しながら研磨する
ので、光ファイバのコア部の凹みを減少させることがで
き、本体の端面からの光ファイバの端面の突き出し量を
良好にすることができる。その結果、良好な反射減衰量
を得ることができ、光コネクタの信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)乃至(C)は、本発明の実施の形態に係
る光ファイバコネクタの研磨方法を説明するための平面
図である。
る光ファイバコネクタの研磨方法を説明するための平面
図である。
【図2】本発明の実施の形態に係る光ファイバコネクタ
の研磨方法に用いられる研磨シート及び研磨液を示す側
面図である。
の研磨方法に用いられる研磨シート及び研磨液を示す側
面図である。
【図3】(A)は従来の研磨方法により研磨した場合に
おける光ファイバのコア部の凹みを示し、(B)は本発
明の研磨方法により研磨した場合における光ファイバの
コア部の凹みを示す説明図である。
おける光ファイバのコア部の凹みを示し、(B)は本発
明の研磨方法により研磨した場合における光ファイバの
コア部の凹みを示す説明図である。
【図4】(A)はMTコネクタを示す平面図、(B)は
その正面図、(C)は、接着剤によって本体の端面から
突出した光ファイバを被覆している状態を示す平面図で
ある。
その正面図、(C)は、接着剤によって本体の端面から
突出した光ファイバを被覆している状態を示す平面図で
ある。
【図5】(A)は一対のMTコネクタを連結する前の状
態を示す平面図、(B)は一対のMTコネクタを連結し
た後の状態を示す平面図である。
態を示す平面図、(B)は一対のMTコネクタを連結し
た後の状態を示す平面図である。
【図6】(A)は一対のMTコネクタを連結した後の状
態を示す側面図、(B)は、一対のMTコネクタに嵌合
クリップを嵌合してMTコネクタ同士を突き合わせ状に
保持した状態を示す側面図である。
態を示す側面図、(B)は、一対のMTコネクタに嵌合
クリップを嵌合してMTコネクタ同士を突き合わせ状に
保持した状態を示す側面図である。
1:MTコネクタ 2:本体 2a:開口部 2b:鍔部 2c:貫通孔 2d:ピン挿入用孔 2e:端面 2f:挿通孔 3:ブーツ部 4:光ファイバ 4a:凹み 5:光ファイバテープ 6:接着剤 7:連結ピン 8:嵌合クリップ 9:研磨定盤 10:バインダ 11:研磨シート 12:研磨液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 昭夫 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内 (72)発明者 末松 克輝 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内 (72)発明者 山田 邦雄 千葉県松戸市松飛台286番地の23 株式会 社精工技研内 (72)発明者 成田 武彦 千葉県松戸市松飛台286番地の23 株式会 社精工技研内 Fターム(参考) 3C047 FF08 GG15 3C049 AA07 AC04 CA01 CB01 CB03
Claims (4)
- 【請求項1】光ファイバコネクタに保持される光ファイ
バの端面を前記光ファイバコネクタの端面よりも突き出
させるように研磨する光ファイバコネクタの研磨方法で
あって、 研磨シートに研磨材とアルコールとを有する研磨液を塗
布しながら研磨することを特徴とする光ファイバコネク
タの研磨方法。 - 【請求項2】前記研磨液は、アルミナ粉末と多価アルコ
ールとを混合したものであることを特徴とする請求項1
に記載の光ファイバコネクタの研磨方法。 - 【請求項3】前記研磨液は、アルミナ粉末とモノエチレ
ングリコールとを混合したものであることを特徴とする
請求項1に記載の光ファイバコネクタの研磨方法。 - 【請求項4】前記研磨液は、重量比でアルミナ粉末1に
対してモノエチレングリコールを1乃至2の割合で混合
したものであることを特徴とする請求項3に記載の光フ
ァイバコネクタの研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001148625A JP2002046049A (ja) | 2000-05-25 | 2001-05-18 | 光ファイバコネクタの研磨方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000154735 | 2000-05-25 | ||
JP2000-154735 | 2000-05-25 | ||
JP2001148625A JP2002046049A (ja) | 2000-05-25 | 2001-05-18 | 光ファイバコネクタの研磨方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002046049A true JP2002046049A (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=26592592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001148625A Pending JP2002046049A (ja) | 2000-05-25 | 2001-05-18 | 光ファイバコネクタの研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002046049A (ja) |
-
2001
- 2001-05-18 JP JP2001148625A patent/JP2002046049A/ja active Pending
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040615 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041019 |