JP2002042385A - マスタ−スタンパの製造方法及び光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板上に形成したピット及びグルーブが平滑
な各面を有する台形状として成形できる基板成形用のマ
スタ−スタンパを製造する方法を提供する。を提供す
る。 【解決手段】 ＲＯＭ領域、追記領域を設けた基板１上
に、有機色素膜２と反射膜３とを少なくとも積層したＰ
−ＲＯＭ Ａの基板１を成形するマスタ−スタンパ１４
を製造する方法であって、第１工程〜第７工程を備えて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスタ−スタンパ
の製造方法及び光情報記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】情報記録媒体として、コンパクトディス
ク（以下「ＣＤ」と記す）に代表されるように、予め記
録された幾何学的な凹凸として形成されたピットを読み
出す再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクがあり、また記
録可能な光ディスクとして、有機色素を用いた1回だけ
記録出来る追記型ディスク（あるいは、ライトワンスデ
ィスクとも呼ばれる）として、ＣＤ−Ｒがある。

【０００３】また、前記した再生専用領域と追記領域と
の両方の領域を同心円状に形成して1枚のディスクの中
に混在させたパ−シャルＲＯＭ（以下「Ｐ−ＲＯＭ」と
記す）あるいはハイブリッドディスクと呼ばれるディス
クも提案されている。

【０００４】さらに、光磁気膜又は相変化膜を用いた書
換え可能なディスクとして、デジタル多用途ディスク
（以下「ＤＶＤ」と記す）−ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＡＭ等が
提案されており、記録再生領域がグル−ブによるＲＡＭ
領域と、コントロ−ルデ−タやコピ−プロテクションデ
−タはエンボスピットで形成されたＲＯＭ領域とが混在
した形で提案されている。

【０００５】さて、前記したＰ−ＲＯＭあるいは書換え
可能なディスクは、一般的にＲＯＭ領域はピット、追記
領域又はＲＡＭ領域はグル−ブと呼ばれるトラッキング
を取るための案内溝が設けてある。このピットとグル−
ブとの深さは、一般的にピットが深くグル−ブは浅くし
てあり、どちらも記録又は再生時の回転制御とアドレス
信号を読み出す方法として、単一周波数によるウオブリ
ング方式が採用されている。即ち、このウオブリングさ
れたピットとウオブリングされたグルーブとを用いてい
る。

【０００６】ところで，前記したピットの深さとグル−
ブの深さとを変えてピット及びグルーブを形成する方法
としては、主に次の（１）〜（３）の方法がある。 （１） カッティング時に記録ビ−ムのレ−ザ光強度を
変える方法であり、一方の記録ビームは強い照射光量で
レジストの底まで打ち抜き、原盤内に深いピットを作成
する。もう１つは弱い照射光量でレジストの途中まで露
光する、いわゆるハ−フカットで、原盤内に浅いグル−
ブを形成するといった２ビ−ムでカッティングする方法
である（例えば特許第２９９８６８１号公報）。

【０００７】（２） 原盤表面に対するレジストの塗布
を２回に分けて行う方法であり、まず第1露光はマ−カ
マスクを用いた密着露光によりレジストを露光して、そ
れをマスクに石英原盤をエッチングし、次のグル−ブ形
成もマスクを用いてレジストを密着露光をしてパタ−ン
を形成する。深さの変更は石英原盤のエッチング条件で
深さを変える方法である（例えば特許第２９９７３８４
号公報）。

【０００８】（３） グル−ブとピットとを重ねて同時
露光をしてＲＯＭ領域のピット列に沿ってこのピット列
より浅い連続グル−ブを形成する方法である（例えば特
開平５−３６０８７号公報）。

【０００９】一般に２ビ−ム露光方式は、簡単であるが
グル−ブはレジストを原盤表面（ガラス面）まで打ち抜
かないハ−フカットであるために、グル−ブ底面が荒れ
るから、ジッタ等の信号特性が悪化するという問題があ
る。その対策として、前記した（１）の方法では、グル
−ブは記録に不適としてランドのみ用いて記録するよう
にしている。しかし、高密度記録対応のＤＶＤ−ＲＷや
ＤＶＤ−ＲＡＭにおいては、グル−ブ及びランドに共に
記録しなければならないので、この（１）の方法は採用
できない。

【００１０】また、一般にエッチング方式では、２回に
分けて露光するために、グル−ブとランドとの位置情報
を一致させることが非常に難しい問題がある。そのため
に、前記した（２）の方法では、マスクを用いた露光に
よる位置合わせを行っているが、この場合マスクを作成
する必要や、露光時のディフェクト増大の問題があり、
あまり実用的ではない。

【００１１】さらに、前記した（３）の方法のように、
ＲＯＭ領域において２ビ−ムを利用してグル−ブとピッ
トとを重ねて同時露光するものがあるが、ＲＯＭ領域
（ピット）の再生ジッタは向上するが、ＲＡＭ領域（グ
ルーブ）はハ−フカットであるために、この再生ジッタ
等の信号特性は悪化する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】前述した問題点をさら
に具体的に説明する。まず、前記した書換え可能なＤＶ
Ｄ−ＲＷのディスクについては、繰り返し記録可能なＲ
ＡＭ領域のグル−ブは、ここに連続記録されるＨＦ信号
（高周波信号）には影響を与えずに、記録時の回転制御
とアドレス信号を読み出す方法として、単一周波数によ
るウオブリングが採用されている。このグル−ブ形状と
しては、深さｄ２＝約３０ｎｍ、グル−ブトップの幅ｗ
３＝約４００ｎｍ、グル−ブ底の幅ｗ４＝約３００ｎｍ
の台形グル−ブが用いられている。

【００１３】また、このＲＡＭ領域（デ−タ記録領域）
より内周側にはコントロ−ルデ−タやコピ−プロテクシ
ョン等を含むリ−ドイン領域があり、一般のＲＯＭ領域
と同じエンボスピットで形成されている。このエンボス
ピットは、ピットとランドとの深さの差による読み出し
レ−ザ光の位相差を利用して信号を読み出すために、λ
／（４×ｎｓ）の位相深さ｛但し、λ：レ−ザ波長６３
５ｎｍ、ｎｓ：ＰＣ（ポリカーボネイト）製基板屈折率
１．５８｝より、やや浅めの約８０ｎｍの深さに設定し
てある。このように深さの違うピットとグル−ブが完全
に同期したウオブリングで連続して繋がっていなければ
ならず、こうしたディスク基板の製作は困難である。

【００１４】前記したグル−ブとピットとを重ねて同時
露光する（３）の方法を用いて、ＤＶＤ−ＲＷを作成し
た結果、ＲＯＭ領域及びＲＡＭ領域を再生したときのジ
ッタは非常に悪かった。この原因を調べた結果、ＲＡＭ
領域のグル−ブがハ−フカットでカットされて、グル−
ブ形状が台形でなくＶ溝になっているために、ＲＯＭ領
域のピットのエッジが平坦でない。また、ＲＡＭ領域の
グル−ブでもＶ溝だと特にグル−ブのエッジがギザギザ
になったり、グル−ブ底面の凸凹がどうしても発生して
おり、ＤＶＤ−ＲＷの場合は再生ジッタ８％以下の規格
となっているため、ハ−フカットのこうした形状のグル
−ブではどうしても規格内のジッタは得られなかった。

【００１５】さらに、前記したＰ−ＲＯＭに関しては、
ＲＯＭ領域のピット、ＲＡＭ領域はグル−ブと呼ばれる
トラッキングを取るための案内溝が設けてある。このＲ
ＯＭ領域とＲＡＭ領域とを１枚のディスクの自由な場所
に設けるようにするには、ＲＯＭ領域とＲＡＭ領域とを
含むディスク全面に有機色素を塗布する必要がある。し
かしＲＯＭ領域とＲＡＭ領域の両方に有機色素を塗布し
て有機色素膜を形成しこの有機色素膜上に反射膜、保護
膜を形成してディスクとして完成状態になった後に、こ
のＲＯＭ領域あるいはＲＡＭ領域の両方から良好な信号
を得るためには、ＲＯＭ領域のピット深さとＲＡＭ領域
のグル−ブ深さとを厳密に制御する必要がある。このＰ
−ＲＯＭを実現するためには、ピットの深さｄ１＝２０
０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下（好ましくは２８０〜３２０
ｎｍ）、グル−ブの深さｄ２＝１００ｎｍ以上１９０ｎ
ｍ以下（好ましくは１５０ｎｍ〜１７０ｎｍ）であり、
グル−ブの深さｄ２はピットの深さｄ１より浅くしなけ
ればならず（ｄ１＞ｄ２）、しかも信号特性の良いディ
スクを作成することは非常に困難であった。

【００１６】この有機色素を用いるＰ−ＲＯＭを、前記
した（３）の方法のように、グル−ブとピットとを重ね
て同時露光する２ビ−ムカットでカッティングをしてデ
ィスクを作成した結果、ＲＯＭ領域及びＲＡＭ領域の各
再生ジッタともに４０ｎｓとなり、オレンジブック規格
であるジッタ３５ｎｓ以下を達成することが出来なかっ
た。その原因を調べた結果、上記ＤＶＤ−ＲＷの時と同
じように、グル−ブ露光がハ−フカットであるためにグ
ル−ブ形状の安定性再現性が悪いことが原因であること
がわかった。因みにオレンジブック規格とは世界標準規
格であるＣＤ−Ｒの規格中に規定されているハイブリッ
ド（パーシャルＲＯＭ）の規格のことである。

【００１７】そこで、本発明は、まず基体上の再生専用
領域及び記録再生領域にそれぞれ対応する領域にウオブ
リングした連続グル−ブを形成し、この後、再生専用領
域内に形成されている連続グル−ブにフォーカスを合わ
せつつ、この連続グルーブに追従してトラッキングを取
りながら、連続グルーブ上のアドレス情報を読んでい
き、連続グルーブ上の所定位置が到来したら、ここにピ
ットを露光することによって、ウオブリングした連続グ
ル−ブ内にありかつ連続グル−ブの深さよりも深いピッ
トを形成し、次に再生専用領域及び記録再生領域にそれ
ぞれ対応するピット及び連続グル−ブを設けた基体上に
金属電鋳を施し、最後にこの基体上から金属膜を剥離す
ることによってマスタ−スタンパを製造する方法を提供
し、また、このマスタ−スタンパを用いて成形した基板
上に記録膜、反射膜を少なくとも積層することによって
得た光情報記録媒体を提供することによって、この基板
に形成されているピット及びグルーブの各形状は凹凸が
ほとんどなく平坦な面を有する台形状とすることがで
き、また、この基板に形成されているピット及びグルー
ブに対して読出し用レーザ光を照射することにより得ら
れる戻り光の位相が、ピット及びグルーブとで所定の位
相関係（例えば互いに逆位相の関係）を得ることができ
るから、この結果、再生専用領域及び記録再生領域から
の読出し信号にはジッタが少なくなり、高Ｃ／Ｎの再生
信号を得ることを目的とするものである。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明は、次の（１）〜（３）の構成を有する
マスタ−スタンパの製造方法及び光情報記録媒体を提供
する。 （１） 図２に示すように、再生専用領域（ＲＯＭ領
域）及び記録再生領域（追記領域、ＲＡＭ領域、書換え
領域）を設けた基板１上に、記録膜（有機色素膜、光磁
気膜、相変化膜）２と反射膜３とを少なくとも積層して
なる光情報記録媒体（Ｐ−ＲＯＭ、書換え型光情報記録
媒体）Ａの前記基板１を成形するマスタ−スタンパ１４
を製造するためのマスタ−スタンパの製造方法であっ
て、平坦な基体（石英原盤）８上に第1レジスト９を塗
布する第１工程と、前記再生専用領域及び前記記録再生
領域に対応する前記第1レジスト９上の領域に、ウオブ
リングした連続グル−ブ７を露光し、この露光の後に現
像する第２工程と、前記第１レジスト９をマスクにして
前記基体８をドライエッチングし、このドライエッチン
グの後に前記第１レジスト９を除去して、前記基体８上
の前記再生専用領域及び前記記録再生領域に対応する領
域に、ウオブリングした前記連続グル−ブ７を形成する
第３工程と、少なくとも前記再生専用領域（前記基体８
上の再生専用領域及び記録再生領域を含む全面領域）に
第２レジスト１２を塗布する第４工程と、前記再生専用
領域内にある前記連続グル−ブ７ａをピットの露光直前
までに走査して得たトラッキング情報及びアドレス情報
に基づいて、前記第２レジスト１２上に所要のピットを
露光し、この露光の後に現像する第５工程と、前記第２
レジスト１２をマスクにして前記基体８をドライエッチ
ングし、このドライエッチングの後に前記第２レジスト
１２を除去して、前記再生専用領域に対応する前記基体
８上に、ウオブリングした前記連続グル−ブ７内にあり
かつ前記連続グル−ブ７の深さｄ２よりも深い（深さｄ
１の）ピット５を形成する第６工程と、前記再生専用領
域及び前記記録再生領域にそれぞれ対応する前記ピット
５及び前記連続グル−ブ７を設けた前記基体８上に、金
属（ニッケル）電鋳１３を施す第７工程とを備え，前記
第７工程後、前記基体８上から金属膜を剥離することに
より、マスタ−スタンパ１４を製造することを特徴とす
るマスタ−スタンパの製造方法。 （２） 請求項１記載のマスタ−スタンパの製造方法に
より製造されたマスタ−スタンパ１４を用いて成形した
基板１を備えた光情報記録媒体Ａであって、前記基板１
上に、記録膜２と反射膜３とを少なくとも積層してな
り、前記前記基板１には、ウオブリングした連続グルー
ブ７を設けた記録再生領域と、ウオブリングした前記連
続グル−ブ７内にありかつ前記連続グル−ブ７の深さｄ
２よりも深い（深さｄ１の）ピット５を設けた再生専用
領域とを有することを特徴とする光情報記録媒体。 （３） 請求項２記載の光情報記録媒体であって、前記
記録膜２は、有機色素膜、光磁気膜、相変化膜のいずれ
か１であることを特徴とするマスタ−スタンパの製造方
法。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明のマスタ−スタンパ
の製造方法及び光情報記録媒体の実施の形態につきその
好ましい実施例について、図１〜図３を用いて説明す
る。図１は本発明の光情報記録媒体の断面構造図、図２
は本発明のマスタ−スタンパの製造方法の工程を説明す
るための図、図３はレーザ露光装置の光学系を説明する
ための図である。

【００２０】本発明の光情報記録媒体は、予め情報が記
録された再生専用領域であるＲＯＭ領域と、随時又は追
加して情報の書き込みが可能な追記領域とを備えたいわ
ゆるＰ−ＲＯＭ（パ−シャルＲＯＭ）あるいはハイブリ
ッドディスク等の追記型光情報記録媒体に関する。ま
た、本発明の光情報記録媒体は、光磁気媒体、相変化媒
体を記録膜として用いたかつグル−ブで形成されたＲＡ
Ｍ領域と、このＲＡＭ領域よりも内周側にありコントロ
−ルデ−タやコピ−プロテクションデ−タ等を含む前記
ＲＯＭ領域のピットと同じエンボスピットで形成されて
いるリ−ドイン領域とを有する書換型光情報記録媒体に
関する。

【００２１】前記した追記型光情報記録媒体と書換型光
情報記録媒体とは、下記する記録層２を構成する媒体の
種類が違うだけでその他の構成は略同一であるから（即
ち追記型光情報記録媒体の記録層は有機色素膜で構成さ
れ，これに対して書換型光情報記録媒体の記録層は光磁
気媒体膜、相変化媒体膜で構成されているから）、以
下、本発明の光情報記録媒体の実施例として追記型光情
報記録媒体についてのみ説明する。

【００２２】さて、本発明の光情報記録媒体の一実施例
である追記型の光情報記録媒体Ａは、図１に示すよう
に，光透過性のディスク基板１の信号面１ａ上に、有機
色素膜である記録膜２、反射膜３、保護膜４が順次積層
されている。ディスク基板１の信号面１ａの反対側にあ
る光入射面１ｂには、記録又は再生用のレーザ光が照射
方向Ｌ側から照射される。ディスク基板１の信号面１ａ
上には、ＲＯＭ領域内にピット５、ランド６、追記領域
内にグルーブ７がそれぞれ形成されている。図１はＲＯ
Ｍ領域と追記領域の境界部分を示している。ＲＯＭ領域
は図中中央から左側に延在しており，一方追記領域は図
中中央から右側に延在している。

【００２３】前記した光情報記録媒体ＡはＲＯＭ領域
（ピット５）と追記領域（グルーブ７）が同一基板１上
に設けられている。そしてＲＯＭ領域（ピット５）と追
記領域（グルーブ７）に形成されている連続グルーブ７
の各アドレス情報との同期を完全に取ってピット５を形
成してある。このピット５の深さｄ１を深く、グル−ブ
７の深さｄ２をピット５より浅くする（ｄ１＞ｄ２）。
また、ピット５はグル−ブ７上にピットを重ねて露光す
ることにより形成される（２重露光によりピット５が形
成される）。この結果，ピット５、グル−ブ７ともに、
完全にきれいな（底面部、両側面部に凹凸がなく平滑で
ある）台形をした形状が得られることにより、ジッタ等
の信号特性が良好なディスクを得ることができる。

【００２４】次に、具体的な［実施例１］〜［実施例
４］について説明する。 ［実施例１］上記の光情報記録媒体Ａ（図１）を製造す
るための原盤製造工程を、図２に沿って説明する。

【００２５】（１） まず石英原盤８を研磨洗浄し、カ
ッティング面８ａを平坦化する（図２に示す工程
（１））。 （２） 石英原盤８のカッティング面８ａ上に、第1の
レジスト（膜厚は１００ｎｍ〜３００ｎｍ）９を塗布
し、８０℃で３０分プリベ−クする（図２に示す工程
（２））。

【００２６】（３） カッテング用レーザ光１０を集光
レンズ１１で第1のレジスト９上に集光し、第1のレジス
ト９上にＲＯＭ領域及び追記領域の全ての領域にウオブ
リングした連続グル−ブを露光する（図２に示す工程
（３））。 （４） 石英原盤８を回転させながら現像液をスプレ−
してレジスト現像し、水洗した後乾燥させる（図２に示
す工程（４））。

【００２７】（５） 第1のレジスト９をマスクにして
ドライエッチングで石英原盤８をエッチングしグル−ブ
７，７ａを形成する。エッチングガスとしてはフロン１
４（ＣＦ₄）又はフロン２３（ＣＨＦ₃）もしくはＣＦ₄
に酸素（Ｏ₂）を０〜１０％（好ましくは５％）加えた
ガスを使用する。エッチング条件としては、ガス圧力１
３．３Ｐa,ガス流量１５ｓｃｃｍ、高周波（ＲＦ）パワ
−２００Ｗ、エッチング速度１ｎｍ／ｓ、である（図２
に示す工程（５））。６はランド。

【００２８】（６） 第1のレジスト９を除去し洗浄し
乾燥する。除去する方法として、有機溶剤を用いるウエ
ット処理又は酸素プラズマを用いるドライ処理どちらで
も良く、また併用しても良い（図２に示す工程
（６））。 （７） 上記グル−ブ７，７ａが形成された石英原盤８
上に第２のレジスト１２を前記した（２）と同様に塗布
しプリベ−クする（図２に示す工程（７））。

【００２９】（８） カッテング用レーザ光１０を集光
レンズ１１で第２のレジスト１２上に集光し、ＲＯＭ領
域だけに上記グル−ブ７ａをもとにトラッキングを取り
ながら、さらに必要に応じてトラックのアドレスをデコ
−ドする方法によってピットをグル−ブ７ａと同期し
て、グル−ブ７ａ上に重ねてピットを露光する（図２に
示す工程（８））。

【００３０】（９） 前記した（４）と同様にして第２
のレジスト１２を現像する（図２に示す工程（９））。 （１０） 前記した（５）と同様に第２のレジスト１２
をマスクにしてピット５のエッチングを行なう（図２に
示す工程（１０））。 （１１） 前記した（６）と同様に第２のレジスト１２
を除去し洗浄し乾燥する（図２に示す工程（１１））。

【００３１】（１２） エッチングし、ピット５とグル
−ブ７とが出来た石英原盤８の表面８ａをＮｉスパッタ
（膜厚１００ｎｍ）して表面を導電化した後、ニッケル
メッキを用いたＮｉ電鋳１３をして（膜厚２５０μm）
マスタ−スタンパ１４を形成する（図２に示す工程（１
２））。

【００３２】（１３） 石英原盤８からマスタ−スタン
パ１４を剥がし、マスタ−スタンパ１４の裏面平坦加工
や裏ずりを行い所定の板厚加工し、さらに内周穴加工及
び外周加工を行いマスタ−スタンパ（成形用スタンパ）
１４が完成する。尚石英原盤８は再洗浄して、何回も
（取り扱い上のキズ発生等もあるので１０回位までは可
能）使用してマスタ−スタンパ１４を作ることが可能で
ある（図２に示す工程（１３））。

【００３３】以上の（１）〜（１３）の工程を得て、前
記した光情報記録媒体Ａのディスク基板１を成形するた
めのマスタ−スタンパ１４の製造を行うことができる。
この後、成形用スタンパとしてマスタ−スタンパ１４を
射出成形機に取り付けて、一般的にはポリカ−ボネイト
樹脂（ＰＣ）を用いてディスク基板１を成形する。その
後、ディスク基板１上に、有機色素膜である記録膜２、
反射膜３、保護膜４を順次成膜することにより光情報記
録媒体Ａが完成する。

【００３４】ところで、上記の［実施例１］の工程
（３），（８）で用いられるカッティングマシン（レー
ザ露光装置）は、図３に示す光学系を有するものであ
る。即ち、前記した工程（８）の露光にて、石英原盤８
上のＲＯＭ領域内に形成してあるグルーブ７（工程
（３）の露光で）に対して、フォーカスを合わせつつ、
グルーブ７に追従してトラッキングを取りながら、連続
したグルーブ７上のアドレス情報を読んでいき、連続し
たグルーブ７上の所定位置が到来したら、ＲＯＭ領域内
のグルーブ７ａ上にピット５をカッティングする装置で
ある。通常のカッティング光学系（カッティング用レー
ザ光源１６〜ＡＯＭ（音響光学光変調器）１７〜ミラー
１８〜ＡＯＤ（Acousto Optical Deflector，音響光
学偏向素子）１９〜λ／２板２０〜ミラー２１〜プリズ
ム２２〜ミラー２３〜集光レンズ１１で構成される光学
系）に加えて、前記トラッキング及びアドレス同期を取
る新光学系（トラッキング用レーザ光源）２４、偏光ビ
ームスプリッタ（ＰＢＳ）２５、ホトダイオード２６、
アドレス信号検出回路２７、トラッキング誤差検出回路
２８、増幅器（ＡＭＰ）２９で構成される光学系）を備
えたものである。前記したＡＯＤ１８はウオブリングし
たグルーブ７に対応するように露光ビームに対して光学
偏向を施すためのものである。

【００３５】前記した新光学系の動作は、トラッキング
用レーザ光源２４から、ＰＢＳ２５、プリズム２２、ミ
ラー２３、集光レンズ１１を経て、石英基盤８上の追記
領域内のグルーブ７上にトラッキング用レーザを照射
し、そのレーザの戻り光をホトダイオード２６で検出
し、アドレス信号検出回路２７でこのグルーブ７のグル
ーブアドレス情報を読み、このグルーブアドレス情報を
ＡＯＭ（Acousto OpticalModulator，音響光学変調
器）１７に供給してここのピットアドレス情報を元にピ
ット情報を記録する。又、ホトダイオード２６の出力
は、トラッキング誤差検出回路２８でトラッキング誤差
信号を検出し、このトラッキング誤差信号をＡＭＰ２９
を介して１８〜ＡＯＤ１９にすることでトラッキングサ
ーボを行い、ピット５をカッティング中のカッティング
用レーザ光を追記領域内のグルーブ７に２重に同期させ
て、ＲＯＭ領域内のグルーブ７ａ上にピット５を２重露
光する。ＡＯＭ１７はカッティング用レーザ光源１６か
ら出射されたレーザ光に対して光変調を施すためのもの
である。

【００３６】［実施例２］前述した［実施例１］によっ
て作成された石英原盤８（図２に示す工程（１１））、
あるいは、マスタ−スタンパ１４によって成形されたデ
ィスク基板１には、図１に示すように，ＲＯＭ領域にピ
ット５、追記領域にグル−ブ７がそれぞれ設けてあり、
この両領域上に、有機色素膜である記録膜２、反射膜
３、保護膜４を順次成膜することによって前述したＰ−
ＲＯＭが得られる。

【００３７】ここで、このＰ−ＲＯＭの、ピット５、グ
ル−ブ７に対する読出し用レ−ザ光の位相差を考慮する
と（例えば読出し用レ−ザ光をピット５に照射した戻り
光の位相と、読出し用レ−ザ光をグル−ブ７に照射した
戻り光の位相とは、互いに逆相の関係であることを考慮
すると）、図１に示すように、ピット５の深さｄ１を２
５０ｎｍ〜３２０ｎｍと深くして、グル−ブ７の形状は
台形にして深さｄ２はピット５の深さｄ１より浅い１５
０ｎｍ〜１９０ｎｍの形状のディスク（Ｐ−ＲＯＭ）を
作成すれば良いことが分かるので、それに基づいてＰ−
ＲＯＭを作成した。

【００３８】このＰ−ＲＯＭからの再生信号特性を見た
結果、ＲＯＭ領域及び追記領域どちらからも良好な信号
特性が得られた。電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微
鏡（ＡＦＭ）等で、ピット５及びグル−ブ７の形状を調
べた結果、ピット深さｄ１＝２８０ｎｍ、ピット幅（上
部）ｗ１＝６００ｎｍ、グル−ブ深さｄ２＝１６０ｎ
ｍ、グル−ブ幅ｗ４＝６３０ｎｍであり、どちらもきれ
いな台形をしていた。なおランド６の有機色素の膜厚２
ａ＝１００ｎｍであった。

【００３９】前記の［実施例２］では記録又は読出し用
のレーザ光のレ−ザ波長７８０ｎｍについて記述してい
るが、たとえばＤＶＤ−Ｒのパ−シャルＲＯＭ（Ｐ−Ｒ
ＯＭ）の場合は、レ−ザ波長６５０ｎｍのレーザ光を用
いるので、これによる最適なピット深さ及びグル−ブ深
さは上記の深さｄ１，ｄ２の（６５０／７８０）倍とな
るので、この場合、ピット深さｄ１＝２０５ｎｍ〜２６
５ｎｍ、グル−ブ深さｄ２＝１２５ｎｍ〜１６０ｎｍが
良いと考えられる。

【００４０】［実施例３］前述した［実施例１］に従っ
て作成した書換え可能なＤＶＤ−ＲＷのディスクにおい
て、前記した追記領域の替わりに置換した書換え領域の
グル−ブ７は、連続記録されるＨＦ信号には影響を与え
ずに、記録時の回転制御とアドレス信号を読み出す方法
として、単一周波数によるウオブリングが採用されてお
り、グル−ブ形状としては、グルーブの深さｄ２＝約３
０ｎｍ、グル−ブトップの幅ｗ３＝約４００ｎｍ、グル
−ブ底の幅ｗ４＝約３００ｎｍの台形グル−ブが良い。

【００４１】またデ−タ記録領域（ＲＯＭ領域及び書換
え領域）より内周側にはコントロ−ルデ−タやコピ−プ
ロテクション等を含むリ−ドイン領域があり、ＲＯＭ領
域のピット５と同じエンボスピットで形成する。このエ
ンボスピットは、前記した［実施例１］に示す方法でグ
ル−ブ７にトラッキングを取りながら、さらにアドレス
情報も同期を取るために必要に応じてトラックのアドレ
スをデコ−ドする方法でグル−ブ７ａ上にピットを重ね
て露光して形成する。

【００４２】このピット形状としては、ピット５とラン
ド６との深さの差ｄ１による前記した読出し用のレ−ザ
光の位相差を利用して信号を読み出すために、λ／（４
×ｎｓ)の位相深さ｛λ：レ−ザ波長６３５ｎｍ、ｎ
ｓ：ＰＣ基板１屈折率１．５８｝よりやや浅めの約８０
ｎｍの深さｄ１に設定してある。またピットトップの幅
ｗ１＝約４３０ｎｍ、ピット底の幅ｗ２＝約３００ｎｍ
の台形ピットが良い。これらに基づいて、ＤＶＤ−ＲＷ
のディスクを作成した結果、ジッタ等の再生信号特性は
ＲＯＭ領域及び書換え領域とも良好な特性を示した。

【００４３】［実施例４］前記した［実施例２］のＰ−
ＲＯＭ及び［実施例３］のＤＶＤ−ＲＷの各ディスクの
耐湿性を向上するために、透明なディスク基板１のピッ
ト５が設けられている面とは反対の面側（通常ミラ−面
と呼ぶ。光入射面１ｂ）に、スパッタで成膜したＳｉＮ
_X, ＳｉＯ_X等の屈折率２.1前後の透明な誘電体膜を５ｎ
ｍ以上成膜すると、下記する表１に示すように、ディス
クの吸水率が少なくなり、耐湿性が向上する。この透明
な誘電体膜の膜厚は好ましくは１０ｎｍの厚さで成膜す
ると良い。

【００４４】

【表１】

【００４５】前記したＳｉＮ_Xの成膜条件としては、圧
力０．６Ｐａ、Ａｒ流量２０ｓｃｃｍ、Ｎ₂流量１２ｓ
ｃｃｍ、ＤＣ電力２５０Ｗ（０．５Ａ−５００Ｖ）の条
件で反応性スパッタ方法で成膜した。

【００４６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明は、まず基
体上の再生専用領域及び記録再生領域にそれぞれ対応す
る領域にウオブリングした連続グル−ブを形成し、この
後、再生専用領域内に形成されている連続グル−ブにフ
ォーカスを合わせつつ、この連続グルーブに追従してト
ラッキングを取りながら、連続グルーブ上のアドレス情
報を読んでいき、連続グルーブ上の所定位置が到来した
ら、ここにピットを露光することによって、ウオブリン
グした連続グル−ブ内にありかつ連続グル−ブの深さよ
りも深いピットを形成し、次に再生専用領域及び記録再
生領域にそれぞれ対応するピット及び連続グル−ブを設
けた基体上に金属電鋳を施し、最後にこの基体上から金
属膜を剥離することによってマスタ−スタンパを製造す
る方法を提供することができ、また、このマスタ−スタ
ンパを用いて成形した基板上に記録膜、反射膜を少なく
とも積層することによって得た光情報記録媒体を提供す
ることができることによって、この基板に形成されてい
るピット及びグルーブの各形状は凹凸がほとんどなく平
坦な面を有する台形状とすることができ、また、この基
板に形成されているピット及びグルーブに対して読出し
用レーザ光を照射することにより得られる戻り光の位相
が、ピット及びグルーブとで所定の位相関係（例えば互
いに逆位相の関係）を得ることができるから、この結
果、再生専用領域及び記録再生領域からの読出し信号に
はジッタが少なくなり、高Ｃ／Ｎの再生信号を得る効果
を奏することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の光情報記録媒体の断面構造図であ
る。

【図２】 本発明のマスタ−スタンパの製造方法の工程
を説明するための図である。

【図３】 レーザ露光装置の光学系を説明するための図
である。

【符号の説明】

１ 基板、ディスク基板 ２ 記録膜 ３ 反射膜 ５ ピット ７ グル−ブ ８ 石英原盤（基体） ９ 第1レジスト １２ 第２レジスト １３ 電鋳 １４ マスタ−スタンパ Ａ 光情報記録媒体 ｄ１，ｄ２ 深さ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 再生専用領域及び記録再生領域を設けた
   基板上に、記録膜と反射膜とを少なくとも積層してなる
   光情報記録媒体の前記基板を成形するマスタ−スタンパ
   を製造するためのマスタ−スタンパの製造方法であっ
   て、 平坦な基体上に第1レジストを塗布する第１工程と、 前記再生専用領域及び前記記録再生領域に対応する前記
   第1レジスト上の領域に、ウオブリングした連続グル−
   ブを露光し、この露光の後に現像する第２工程と、 前記第１レジストをマスクにして前記基体をドライエッ
   チングし、このドライエッチングの後に前記第１レジス
   トを除去して、前記基体上の前記再生専用領域及び前記
   記録再生領域に対応する領域に、ウオブリングした前記
   連続グル−ブを形成する第３工程と、 少なくとも前記再生専用領域に対応する前記基体上の領
   域に第２レジストを塗布する第４工程と、 前記再生専用領域内にある前記連続グル−ブをピットの
   露光直前までに走査して得たトラッキング情報及びアド
   レス情報に基づいて、前記第２レジスト上に所要のピッ
   トを露光し、この露光の後に現像する第５工程と、 前記第２レジストをマスクにして前記基体をドライエッ
   チングし、このドライエッチングの後に前記第２レジス
   トを除去して、前記再生専用領域に対応する前記基体上
   に、ウオブリングした前記連続グル−ブ内にありかつ前
   記連続グル−ブの深さよりも深いピットを形成する第６
   工程と、 前記再生専用領域及び前記記録再生領域にそれぞれ対応
   する前記ピット及び前記連続グル−ブを設けた前記基体
   上に、金属電鋳を施す第７工程とを備え， 前記第７工程後、前記基体上から金属膜を剥離すること
   により、マスタ−スタンパを製造することを特徴とする
   マスタ−スタンパの製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載のマスタ−スタンパの製造
   方法により製造されたマスタ−スタンパを用いて成形し
   た基板を備えた光情報記録媒体であって、 前記基板上に、記録膜と反射膜とを少なくとも積層して
   なり、 前記基板には、ウオブリングした連続グルーブを設けた
   記録再生領域と、ウオブリングした前記連続グル−ブ内
   にありかつ前記連続グル−ブの深さよりも深いピットを
   設けた再生専用領域とを有することを特徴とする光情報
   記録媒体。
3. 【請求項３】 請求項２記載の光情報記録媒体であっ
   て、 前記記録膜は、有機色素膜、光磁気膜、相変化膜のいず
   れか１であることを特徴とする光情報記録媒体。