JP2002033022A - Conductive multilayer structure resin particle and anisotropic conductive adhesive using it - Google Patents

Conductive multilayer structure resin particle and anisotropic conductive adhesive using it

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JP2002033022A
JP2002033022A JP2000213358A JP2000213358A JP2002033022A JP 2002033022 A JP2002033022 A JP 2002033022A JP 2000213358 A JP2000213358 A JP 2000213358A JP 2000213358 A JP2000213358 A JP 2000213358A JP 2002033022 A JP2002033022 A JP 2002033022A
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resin
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一郎 佐々木
Tatsuo Fujii
達夫 藤井
Shinji Tachibana
真二 立花
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide conductive multilayer structure resin particles for an anisotropic conductive adhesive capable of being connected at a low pressure suppressing the generation of cracks on an ITO electrode and realizing high connection stability, especially long term connection stability, and to provide the anisotropic conductive adhesive containing this particles. SOLUTION: This conductive multilayer structure resin particle is prepared by making at least one layer of inner layers softer than the outermost layer, chemically bonding at least one layer between adjacent two layers, and covering the surface of the outermost layer with metal, and the anisotropic conductive adhesive contains these resin particles.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層構造を有する
導電性樹脂粒子、およびそれを用いたLCD(Liquid
Crystal Display)とその駆動回路基板であるTCP
(Tape Carrier Package)や FPC(Flexible Printe
d Circuit )などとの接続、 COG(Chip On Glas
s)と呼ばれるLCDガラス基板上への半導体チップの
接続、COF(Chip On Flexible printed circuit)
およびCOB(Chip On Board)における半導体チップ
と回路基板との接続、FCA(Flip Chip Attachmen
t)と呼ばれる半導体チップと半導体基板との接続など
に使用される異方導電性接着剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive resin particle having a multilayer structure, and an LCD (Liquid) using the same.
Crystal Display) and its driving circuit board, TCP
(Tape Carrier Package) and FPC (Flexible Printe)
d Circuit), COG (Chip On Glas)
s) Connection of semiconductor chip on LCD glass substrate called COF (Chip On Flexible printed circuit)
Between a semiconductor chip and a circuit board in COB and COB (Chip On Board), FCA (Flip Chip Attachmen)
The present invention relates to an anisotropic conductive adhesive used for connection between a semiconductor chip and a semiconductor substrate, which is called t).

【0002】[0002]

【従来の技術】異方導電性接着剤(Anisotropic Conduc
tive Adhesion)の基本的な構成は接着剤樹脂およびそ
れに分散させる導電性粒子からなる。異方導電性接着剤
の接続上の特徴は、導電性粒子により得られる接続した
い部位の間、すなわちZ軸方向のみに導通し、XY方向
には導通しないという異方性にあり、また使用上の特徴
としては極めて多くの接続部位を同時に接続できること
にある。この異方導電性接着剤は、ACF(Anisotropi
c Conductive Film)として1970年代に電卓の液晶
パネルへの接続に初めて使用されてから、液晶関連業界
では高い信頼性を有する接続材料として広く使用されて
おり、また最近では半導体製造用途にも使用され始めて
いる。
2. Description of the Related Art Anisotropic conductive adhesive
The basic structure of tive adhesion is composed of an adhesive resin and conductive particles dispersed therein. The connection characteristic of the anisotropic conductive adhesive is anisotropy in which conduction is provided only between the portions to be connected obtained by the conductive particles, that is, conduction is performed only in the Z-axis direction, and is not conducted in the XY directions. The feature of this is that an extremely large number of connection portions can be connected simultaneously. This anisotropic conductive adhesive is ACF (Anisotropi
c Conductive Film), which was first used to connect calculators to liquid crystal panels in the 1970s, has been widely used as a highly reliable connection material in the liquid crystal industry, and has recently been used in semiconductor manufacturing applications. Has begun.

【0003】異方導電性接着剤は、液晶のガラス基板上
のITO(Indium Tin Oxide)電極とその駆動回路基
板との間の多極一括接続に広く使用されながら、液晶と
ともに発展し、かつ高性能化を遂げてきた。その間、
電子部品の小型化、液晶のカラー化さらには大型化に
伴う接続部位の多数化により接続部位の小型化かつ接続
部位間の狭小化が進んだが、異方導電性接着剤への要求
は、一貫してファインピッチ対応 接続信頼性の向
上であった。
[0003] Anisotropic conductive adhesives have been developed together with liquid crystals while being widely used for multi-pole connection between an ITO (Indium Tin Oxide) electrode on a liquid crystal glass substrate and a driving circuit substrate thereof, and have been developed with high liquid crystal properties. Performance has been improved. in the meantime,
Although the number of connecting parts has been reduced due to the miniaturization of electronic components, the colorization of liquid crystals, and the increase in size, the number of connecting parts has been reduced and the distance between connecting parts has been reduced, but the demand for anisotropic conductive adhesives has been consistent And improved fine-pitch connection reliability.

【0004】一方、半導体実装の分野では、半導体の高
速作動を目的として、シリコンチップをフェイスダウン
で配置したフリップチップ接続による実装方法が開発さ
れた。特にフリップチップ接続のうちACFを用いた手
法は、シリコンチップと半導体基板の線膨張率の違いに
起因する接続部位への応力集中を抑えるアンダーフィル
工程の省略を可能にし、最近注目を浴びている。さら
に、ACFは同じフリップチップ接続のC4接続(Cont
rolled Collapse Chip Connection)とは異なり鉛フリ
ーの環境にもやさしい材料である。以上の特徴から、液
晶接続用部材としてしか知られていなかった異方導電性
接着剤は、昨今の半導体業界における、CSP(Chip
Size Package,Chip Scale Package)、BGA(Ball
Grid Array)を初めとする小型・高性能化の流れに乗
って、半導体実装分野でも広く知れ渡るようになった。
On the other hand, in the field of semiconductor mounting, a mounting method by flip-chip connection in which silicon chips are arranged face down has been developed for the purpose of operating semiconductors at high speed. In particular, the method using the ACF in the flip chip connection has recently attracted attention because it enables the omission of an underfill process for suppressing stress concentration on a connection portion due to a difference in linear expansion coefficient between a silicon chip and a semiconductor substrate. . Further, the ACF uses the same flip-chip connection C4 connection (Cont.
Unlike rolled Collapse Chip Connection, it is a lead-free environment-friendly material. From the above characteristics, the anisotropic conductive adhesive, which has been known only as a liquid crystal connection member, has been developed by CSP (Chip) in the recent semiconductor industry.
Size Package, Chip Scale Package), BGA (Ball)
With the trend of miniaturization and high performance such as Grid Array), it has become widely known in the field of semiconductor packaging.

【0005】異方導電性接着剤は、液晶の使用量の増加
とともに現在では大量に使用されるようになってきてお
り、また近年では液晶パネルの樹脂フィルム化や上述の
半導体実装分野への応用など新たな用途が開拓されてき
ている。つまり異方導電性接着剤は、量・質ともに変化
を遂げてはいるものの、その要求特性は相変わらず、
ファインピッチ対応、接続信頼性の向上が主である。
その対応としては、異方導電性接着剤の接続メカニズ
ム、特に接続信頼性発現のメカニズムからして、導電性
微粒子の設計によるところが大きい。すなわち異方導電
性接着剤の今後の展開は、そのキーマテリアルである導
電性粒子により大きく左右される。
[0005] Anisotropic conductive adhesives have been used in large quantities at present with the increase in the amount of liquid crystal used, and in recent years, they have been applied to resin films for liquid crystal panels and the above-mentioned semiconductor mounting fields. New applications are being pioneered. In other words, although the anisotropic conductive adhesive has changed in both quantity and quality, its required properties remain unchanged.
Mainly focuses on fine pitch and improved connection reliability.
As a countermeasure, the connection mechanism of the anisotropic conductive adhesive, particularly the mechanism of developing the connection reliability, largely depends on the design of the conductive fine particles. That is, the future development of the anisotropic conductive adhesive is greatly influenced by the conductive particles which are the key material.

【0006】接続信頼性については、まず異方導電性接
着剤の導電メカニズムを理解する必要がある。図1およ
び図2に示したように、加熱し圧着することにより接続
部位間に導電性粒子が位置することで電気的に接続され
る。ここで、安定した電気的接続を得るためには接続部
位間を導電性粒子に押しつけ続けることが必要である。
その押しつけ続ける力は第一に接着剤の硬化収縮による
が、この応力は、接着剤の弾性率、ΔT(硬化温度
と使用温度の差)、Δα(接着剤と被接着材の線膨張
率の差)に比例し、その力が大きすぎると後述するよう
に反りが発生し、接続材料の長期信頼性などが低下す
る。逆に小さすぎると導電性粒子をより変形させるだけ
の力となり得ず、結果として接続抵抗が高くなり好まし
くない。よって小さな力で変形しうる導電性粒子が望ま
しい。
[0006] Regarding connection reliability, it is first necessary to understand the conductive mechanism of the anisotropic conductive adhesive. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the conductive particles are electrically connected by being positioned between the connection parts by heating and pressing. Here, in order to obtain a stable electrical connection, it is necessary to keep pressing between the connection parts against the conductive particles.
The force that continues to press is primarily due to the curing shrinkage of the adhesive, but this stress is due to the elastic modulus of the adhesive, ΔT (difference between curing temperature and use temperature), Δα (linear expansion coefficient of the adhesive and the adherend). If the force is too large, warpage occurs as described later, and the long-term reliability of the connection material is reduced. Conversely, if it is too small, it will not be possible to provide a force for further deforming the conductive particles, resulting in a high connection resistance, which is not preferable. Therefore, conductive particles that can be deformed by a small force are desirable.

【0007】第二には、導電性粒子の変形に対する反発
力である。よってニッケル粉末などの金属粒子よりも樹
脂粒子は好ましい。また、この変形により接続部位と導
電性粒子との接触面積が大きくなることで、接続抵抗は
小さくなり、接続信頼性は向上する。この導電性粒子と
しては例えばカーボンブラックやグラファイトなどのカ
ーボン粒子、アルミニウム、ニッケル、銅、銀、金など
の金属粒子、さらには金属を表面に被覆した樹脂粒子が
これまでに検討されてきている。
The second is a repulsive force against deformation of the conductive particles. Therefore, resin particles are preferable to metal particles such as nickel powder. In addition, the deformation increases the contact area between the connection portion and the conductive particles, thereby reducing the connection resistance and improving the connection reliability. As the conductive particles, for example, carbon particles such as carbon black and graphite, metal particles such as aluminum, nickel, copper, silver, and gold, and resin particles coated on the surface with a metal have been studied.

【0008】さらに金属を表面に被覆した樹脂粒子で
は、その樹脂として、ポリジビニルベンゼン、架橋ポリ
スチレン、架橋アクリル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、
メラミン樹脂などの絶縁性樹脂粒子が検討され、かつ使
用されている。しかしながら、樹脂粒子を用いた場合に
は、以下に示す課題があることが知られている。すなわ
ち、導電性粒子は、接着剤が加熱され、圧着された状態
で接続部位と面接触し、この接触面積が広いほど接触抵
抗が低く好ましい。また、導電性粒子の復元率が高いほ
ど、接続部位に高い接触圧で接触するために接触抵抗を
長期にわたり一定に保ちやすい。ところが、接触面積は
導電性粒子が柔軟なほど広くなり、復元率は導電性粒子
が硬いほど高くなるといった相反するものである。すな
わち、接触抵抗を小さくするために導電性粒子を柔軟に
すると、導電性粒子は塑性変形しやすくなり、弾性に劣
り復元率が小さくなる結果、接触抵抗が安定しにくくな
る。逆に、導電性粒子を硬くすると復元率が大きくな
り、接触圧は上がるものの接触面積は小さく、点接触に
近くなることから接触抵抗が大きくなる。つまり、いず
れの場合も電気的接続の信頼性に欠けるという課題があ
る。このため、中間的な柔らかさと復元率を有する導電
性粒子も考えられなくもないが、この場合には、柔らか
いために変形しやすいという特徴および硬いために復元
率が高いという特徴を保持しつつ、その互いの欠点を補
うことはできず、ちょうど両者の中間的な特性を示すこ
とから、初期抵抗は低くなく不十分であり、エージング
後の電気的接続の長期信頼性も不十分という課題があ
る。
Further, in the case of resin particles whose surface is coated with a metal, polydivinylbenzene, crosslinked polystyrene, crosslinked acrylic resin, benzoguanamine resin,
Insulating resin particles such as melamine resin have been studied and used. However, when resin particles are used, it is known that there are the following problems. That is, the conductive particles are in surface contact with the connection portion in a state where the adhesive is heated and pressed, and the larger the contact area is, the lower the contact resistance is. Further, the higher the restoration rate of the conductive particles, the more easily the contact resistance can be kept constant for a long period of time because the contact portion comes into contact with a high contact pressure. However, the contact area increases as the conductive particles become softer, and the restoration rate increases as the conductive particles become harder. That is, if the conductive particles are made flexible to reduce the contact resistance, the conductive particles are likely to be plastically deformed, and the elastic particles are inferior in elasticity and the restoration rate is reduced, so that the contact resistance is hardly stabilized. Conversely, if the conductive particles are hardened, the restoration rate increases, and the contact pressure increases, but the contact area is small, and the contact resistance increases because the contact area becomes close to point contact. That is, in any case, there is a problem that the reliability of the electrical connection is lacking. For this reason, conductive particles having an intermediate softness and a restoration rate are not conceivable, but in this case, while maintaining the characteristic of being easily deformed due to softness and the characteristic of having a high restoration rate due to being hard. However, they cannot compensate for each other's shortcomings, and since they exhibit characteristics intermediate between the two, the initial resistance is not low but insufficient, and the long-term reliability of electrical connection after aging is also insufficient. is there.

【0009】これらの相反する特性を同時に満足する異
方性導電接着剤用導電粒子として、硬く復元率の高い層
とを柔らかく変形しやすい層を有する多層構造粒子があ
る。具体的には、特開平11−209714では、柔軟
性を有する核と、この核よりも硬質な殻とからなるアク
リル系樹脂であることを特徴とした導電性粒子に関する
技術が開示されている。ここでは復元率に影響を与える
因子として殻/核の重量比に関してのみ記載されている
が、それだけでは粒子の組成によっては復元性に劣り、
結果として異方導電性接着剤としての長期信頼性に劣る
場合がある。
As conductive particles for an anisotropic conductive adhesive which simultaneously satisfy these contradictory properties, there are multilayer particles having a layer that is hard and has a high recovery rate and a layer that is soft and easily deformed. Specifically, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-209714 discloses a technique relating to conductive particles characterized by being an acrylic resin comprising a flexible core and a shell harder than the core. Here, only the weight ratio of shell / nucleus is described as a factor affecting the restitution rate.
As a result, the long-term reliability of the anisotropic conductive adhesive may be poor.

【0010】また、特開平8−193186号では、特
開平11−209714の逆の構造すなわち柔軟性を有
する外層と、この外層よりも硬質な内核とからなること
を特徴とした導電性粒子に関する技術が開示されてい
る。ここでは、特開平11−209714号と同様の弾
性率すなわち柔らかさを有した導電性粒子と比較した場
合に、外層が柔軟性を有することから、可塑性が高く、
すなわち弾性が少ないことから復元率に劣る場合が多
い。また、多層粒子の製造例として、ハイブリダイゼー
ションという2種類の粒子を高速で衝突させることによ
り多層・複合化した粒子を得ている。つまり層間には化
学結合が存在せず、単に2層が独立して存在しているに
過ぎないことから復元率に劣る場合が多い。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-193186 discloses a technique relating to conductive particles characterized by comprising an outer layer having a structure opposite to that of JP-A-11-209714, that is, a flexible outer layer, and an inner core harder than the outer layer. Is disclosed. Here, since the outer layer has flexibility when compared with the conductive particles having the same elastic modulus, that is, softness as in JP-A-11-209714, the plasticity is high,
That is, since the elasticity is low, the restoration rate is often poor. In addition, as an example of producing a multilayer particle, a multilayered / composite particle is obtained by colliding two kinds of particles called hybridization at a high speed. That is, there is no chemical bond between the layers, and only two layers are present independently.

【0011】さらに液晶パネルへFPCを接続した際へ
の対応として、特開平8−188760では、10%圧
縮変位時における圧縮強度が10kgf/mm2以下で
あることを特徴とした導電性粒子が開示されている。し
かしながら、圧縮強度が小さいだけでは長期的な信頼性
が得られる異方導電性接着剤が得られないのは、既に述
べた通りである。
Further, as a measure to cope with the connection of the FPC to the liquid crystal panel, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-188760 discloses conductive particles characterized in that the compressive strength at 10% compressive displacement is 10 kgf / mm 2 or less. Have been. However, as described above, it is not possible to obtain an anisotropic conductive adhesive which can provide long-term reliability only by a small compressive strength.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題点
に鑑み、 柔軟性と復元性という相反する性質を合わせ
持つ導電性多層構造樹脂粒子を提供することを目的とす
る。また、本発明はITO電極のクラックの発生を抑制
する小さな圧力で接続でき、しかも高い接続安定性、特
に長期にわたる接続安定性を発現させる導電性多層構造
樹脂粒子およびその粒子を含有する異方導電性接着剤を
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to provide conductive resin particles having a multilayer structure having the opposite properties of flexibility and resilience. Further, the present invention provides a conductive multi-layered resin particle which can be connected with a small pressure which suppresses the occurrence of cracks in the ITO electrode and which exhibits high connection stability, especially long-term connection stability, and an anisotropic conductive resin containing the particle. It is intended to provide a functional adhesive.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
点を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、内層の少なく
とも一層が最外層より柔軟な層からなり、かつ隣接する
2層間の少なくとも1つが化学的に結合されていること
を特徴とする多層構造樹脂粒子を金属被覆することによ
り得られた導電性樹脂粒子が柔軟性と復元性をあわせも
つことを見出した。また、かかる導電性多層構造樹脂粒
子を接着剤樹脂成分に分散させて得られる異方導電性接
着剤が、ITO電極のクラックの発生を抑制する小さな
圧力で接続でき、しかも高い接続信頼性、特に長期にわ
たる接続安定性を発現することを見いだし、本発明を完
成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, at least one of the inner layers is formed of a layer more flexible than the outermost layer, and between the two adjacent layers. The present inventors have found that conductive resin particles obtained by metal-coating multi-layered resin particles characterized in that at least one of them is chemically bonded have both flexibility and resilience. Further, an anisotropic conductive adhesive obtained by dispersing such conductive multilayer structure resin particles in an adhesive resin component can be connected with a small pressure that suppresses the occurrence of cracks in the ITO electrode, and has high connection reliability, especially The present inventors have found that long-term connection stability is exhibited, and have completed the present invention.

【0014】すなわち、本発明は、(1)内層の少なく
とも1層が最外層より柔軟で、隣接する2層間の少なく
とも一つが化学的に結合され、かつ最外層の表面が金属
で被覆された導電性多層構造樹脂粒子、(2)最も柔軟
な層のガラス転移温度と、最も硬質な層のガラス転移温
度との差が、20℃以上であることを特徴とする前記
(1)に記載の導電性多層構造樹脂粒子、(3)化学的
に結合されている隣接する2層のうち、少なくとも1層
がグラフト性単量体を含むことを特徴とする前記(1)
または(2)に記載の導電性多層構造樹脂粒子、(4)
中心部の核が硬質な層、中間層が中心部よりも柔軟な
層、最外層が中間層より硬質な層の3層からなり、さら
に各層間が化学的に結合されていることを特徴とする前
記(1)〜(3)に記載の導電性多層構造樹脂粒子、
(5)導電性多層構造樹脂粒子の10%変形時における
圧縮強度が10kgf/mm以下である前記(1)〜
(4)に記載の導電性多層構造樹脂粒子、(6)さらに
導電性多層構造樹脂粒子の復元率が5〜90%であるこ
とを特徴とする前記(1)〜(5)に記載の導電性多層
構造樹脂粒子、(7)接着剤樹脂成分および前記(1)
〜(6)に記載の導電性多層構造樹脂粒子を含有する異
方導電性接着剤、(8)接着性樹脂成分がゴム弾性を有
する粒子を含有することを特徴とする前記(7)に記載
の異方導電性接着剤、(9)ゴム弾性を有する粒子が2
層以上の多層構造粒子であることを特徴とする前記
(8)に記載の異方導電性接着剤、および(10)前記
(9)に記載のゴム弾性を有する粒子を含有することを
特徴とする応力緩和剤、に関する。
That is, the present invention provides (1) a conductive material in which at least one of the inner layers is more flexible than the outermost layer, at least one of the two adjacent layers is chemically bonded, and the surface of the outermost layer is coated with metal. (2) The conductive particles according to (1), wherein the difference between the glass transition temperature of the softest layer and the glass transition temperature of the hardest layer is 20 ° C. or more. (1) wherein at least one of the two chemically bonded adjacent layers contains a grafting monomer.
Or (4) the conductive multilayer resin particles according to (2);
The core at the center is a hard layer, the middle layer is a layer more flexible than the center, the outermost layer is a layer harder than the middle layer, and each layer is chemically bonded. The conductive multilayer structure resin particles according to the above (1) to (3),
(5) The above (1) to (1), wherein the compressive strength of the conductive multilayer structure resin particles at the time of 10% deformation is 10 kgf / mm 2 or less.
(4) The conductive multi-layer resin particles according to (1) to (5), wherein (6) the conductive multi-layer resin particles further have a restoration rate of 5 to 90%. Multilayer resin particles, (7) adhesive resin component and (1)
(8) The anisotropic conductive adhesive containing the conductive multilayer structure resin particles according to (6), (8) the adhesive resin component contains particles having rubber elasticity, (7). (9) particles having rubber elasticity are 2
(8) It is characterized by containing an anisotropic conductive adhesive according to the above (8) and particles having a rubber elasticity according to the above (9). Stress relief agent.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】樹脂の柔軟性は樹脂のガラス転移
温度と非常に深い関わりがあり、一般にガラス転移温度
が低いほど柔軟性が高い。したがって、本発明に係る内
層の少なくとも1層が最外層より柔軟な層である多層構
造樹脂粒子を製造するためには、最も柔軟な層のガラス
転移温度と、最も硬質な層のガラス転移温度との差が、
20℃以上であることが好ましい。さらに好ましくは、
最も柔軟な層のガラス転移温度は、樹脂層の十分な柔軟
性を得るために、通常約−40〜80℃程度であり、好
ましくは約−20〜80℃程度、さらに好ましくは約0
〜75℃程度である。一方、最も硬質な層のガラス転移
温度は、多層構造樹脂粒子に高い復元率をもたせ、接続
信頼性の高い異方導電性接着剤を得るために、約100
〜140℃程度が好ましく、約105〜130℃程度が
さらに好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The flexibility of a resin is very closely related to the glass transition temperature of the resin. Generally, the lower the glass transition temperature, the higher the flexibility. Therefore, in order to produce a multilayer resin particle in which at least one of the inner layers according to the present invention is a layer that is more flexible than the outermost layer, the glass transition temperature of the most flexible layer, the glass transition temperature of the hardest layer, Is the difference
The temperature is preferably 20 ° C. or higher. More preferably,
The glass transition temperature of the most flexible layer is usually about −40 to 80 ° C., preferably about −20 to 80 ° C., and more preferably about 0 to 80 ° C. in order to obtain sufficient flexibility of the resin layer.
~ 75 ° C. On the other hand, the glass transition temperature of the hardest layer is about 100% in order to give the multilayer structure resin particles a high recovery rate and obtain an anisotropic conductive adhesive having high connection reliability.
The temperature is preferably about 140 ° C to about 140 ° C, and more preferably about 105 ° C to 130 ° C.

【0016】ここで、ガラス転移温度は多層重合体ポリ
マーの各層ごとに、各ポリマーを構成する各々の単量体
の単独重合体のTgnより、式(1)、
Here, the glass transition temperature of each layer of the multilayer polymer polymer is calculated from the Tgn of the homopolymer of each monomer constituting each polymer by the formula (1):

【数1】1/Tg=ΣWn/Tgn (1) ( 式中Tgnは、各成分の単独重合体の絶対温度で表し
たTgであり、Wnは各成分の重量分率である。)から
計算により求められる値を使用する。この式(1)にお
いて用いられる各成分の単独重合体のTgnとしては、
例えばブチルアクリレートでは233K(−40℃)、
メチルメタクリレートでは403K(130℃)であ
る。
1 / Tg = ΣWn / Tgn (1) (where Tgn is the Tg expressed as the absolute temperature of the homopolymer of each component, and Wn is the weight fraction of each component). Use the value determined by As Tgn of the homopolymer of each component used in the formula (1),
For example, butyl acrylate is 233K (-40 ° C),
For methyl methacrylate, it is 403 K (130 ° C.).

【0017】本発明において用いられる多層構造樹脂粒
子は、自体公知の方法またはそれに準ずる方法を用いて
製造することができるが、好ましくは、重合反応により
得られた内側の樹脂層となる重合体の存在下、その外側
の樹脂層を形成する単量体を重合させ、これを順次繰り
返していくという連続した多段階懸濁重合法によって得
ることができる。より具体的には、以下のような方法で
製造することができる。まず重合反応により中心部の樹
脂層を形成させる。ここで、中心部は通常球体である
が、これも層と称する。ついで、好ましくは中心部の樹
脂層を形成する重合反応の重合転化率が約90%以上に
なったときに、第2層の樹脂層を形成するための重合性
単量体を加え、重合反応を行わせる。これを逐次繰り返
し行うことで多層構造樹脂粒子の懸濁液を得ることがで
きる。本発明にかかる多層構造樹脂粒子は、内層の少な
くとも1層が最外層より柔軟であることから、所望の構
造にするためには添加する重合性単量体を以下に述べる
ように選択すればよい。
The resin particles having a multilayer structure used in the present invention can be produced by a method known per se or a method analogous thereto. Preferably, the resin particles having an inner resin layer obtained by a polymerization reaction are used. In the presence, it can be obtained by a continuous multi-stage suspension polymerization method in which a monomer forming the resin layer on the outer side is polymerized and this is sequentially repeated. More specifically, it can be manufactured by the following method. First, a central resin layer is formed by a polymerization reaction. Here, the central portion is usually a sphere, which is also referred to as a layer. Then, preferably, when the polymerization conversion rate of the polymerization reaction for forming the central resin layer becomes about 90% or more, a polymerizable monomer for forming the second layer resin layer is added, and the polymerization reaction is carried out. Is performed. By repeating this process sequentially, a suspension of multilayer resin particles can be obtained. In the multilayered resin particles according to the present invention, since at least one of the inner layers is more flexible than the outermost layer, a polymerizable monomer to be added may be selected as described below to obtain a desired structure. .

【0018】ここで、重合方法は自体公知の方法を用い
てよいが、ラジカル重合が好ましい。ラジカル重合の中
でも懸濁重合がコストの面から見て好ましい。さらに、
懸濁重合により製造される多層構造樹脂粒子は、分散重
合により得られる多層構造樹脂粒子に比べ、コスト以外
に以下のメリットを持つ。まず第一に、懸濁重合では、
その多層構造樹脂粒子に付着した分散安定剤や界面活性
剤を容易にかつほぼ完全に除去することができることか
ら、それらによる電気的特性の阻害が生じない。第二
に、無電解メッキにおける触媒活性化処理の一つである
表面粗化を行うために、各種ポリマー、オリゴマーおよ
び有機溶剤を最外層に配合することが容易である。
Here, the polymerization may be performed by a method known per se, but radical polymerization is preferred. Among radical polymerizations, suspension polymerization is preferred from the viewpoint of cost. further,
The multilayer resin particles produced by suspension polymerization have the following advantages, in addition to the cost, as compared with the multilayer resin particles obtained by dispersion polymerization. First of all, in suspension polymerization,
Since the dispersion stabilizer and the surfactant attached to the multi-layered resin particles can be easily and almost completely removed, the electrical characteristics are not hindered by them. Second, it is easy to mix various polymers, oligomers and organic solvents in the outermost layer in order to perform surface roughening, which is one of the catalyst activation treatments in electroless plating.

【0019】本発明にかかる多層構造樹脂粒子は、復元
力をさらに優れたものとするために、隣接する2層間の
少なくとも一つが化学的に結合されていることを特徴と
する。なかでも、各層が化学的に結合されているのが好
ましい。ここで、化学的に結合されているとは、隣接す
る層間に化学結合が形成されていることをいい、内層を
構成する樹脂と外層を構成する樹脂とが、少なくとも一
部において、例えば炭素−炭素結合、エステル結合、エ
ーテル結合、アミド結合、ジスルフィド結合等で結合し
ていることが好ましい。換言すれば、隣接する2つの層
を化学的に結合することは、通常は、一つの層における
高分子または単量体と、それに隣接する他の層における
高分子化合物または単量体とを二つの層の境界面を貫通
して反応させ、二つの層を架橋する例えば、炭素−炭素
結合、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、ジス
ルフィド結合等を形成せしめることにより行われる。
The multilayered resin particles according to the present invention are characterized in that at least one of two adjacent layers is chemically bonded in order to further improve the restoring force. Especially, it is preferable that each layer is chemically bonded. Here, being chemically bonded means that a chemical bond is formed between adjacent layers, and the resin constituting the inner layer and the resin constituting the outer layer are at least partially, for example, carbon- It is preferable that they are bonded by a carbon bond, an ester bond, an ether bond, an amide bond, a disulfide bond, or the like. In other words, chemically bonding two adjacent layers usually involves combining the polymer or monomer in one layer with the polymer or monomer in another adjacent layer. The reaction is performed by penetrating the interface between the two layers to form a carbon-carbon bond, an ester bond, an ether bond, an amide bond, a disulfide bond, or the like that crosslinks the two layers.

【0020】隣接する2層間を化学的に結合させるため
には、公知の方法を用いてよい。例えば、炭素−炭素結
合形成について好ましい態様の例を挙げる。すなわち、
内層の樹脂層を形成する際にグラフト性単量体を添加し
ておく方法が好ましい。グラフト性単量体は、通常、分
子内に2種以上の不飽和二重結合を有する。これら2種
以上の不飽和二重結合は、他の共重合性単量体と反応す
る速度において異なるものが好ましい。こうすることに
より、内層を形成する重合反応の際に、グラフト性単量
体中の反応速度の速い不飽和二重結合は、他の共重合性
単量体(グラフト性単量体の他の分子を含む)と反応す
るが、他の不飽和二重結合においては反応速度が遅いた
め、他の共重合性単量体と結合せず、接合性を残したま
まの状態となる。ここに、外層を形成するための単量体
を加えれば、該不飽和二重結合において、外層を形成す
るための共重合性単量体と結合し、内層を構成する樹脂
と外層を構成する樹脂との結合を形成することができ
る。
In order to chemically bond two adjacent layers, a known method may be used. For example, an example of a preferred embodiment for forming a carbon-carbon bond will be described. That is,
It is preferable to add a grafting monomer when forming the inner resin layer. The grafting monomer usually has two or more types of unsaturated double bonds in the molecule. The two or more unsaturated double bonds preferably differ in the rate at which they react with other copolymerizable monomers. By doing so, at the time of the polymerization reaction for forming the inner layer, the unsaturated double bond having a high reaction rate in the graftable monomer is not reacted with another copolymerizable monomer (other than the other graftable monomer). (Including molecules), but the reaction rate is slow at other unsaturated double bonds, so that it does not bind to other copolymerizable monomers and remains in a state of bonding. Here, if a monomer for forming the outer layer is added, the unsaturated double bond is combined with a copolymerizable monomer for forming the outer layer, thereby forming the resin forming the inner layer and the outer layer. A bond with the resin can be formed.

【0021】本発明おいて、グラフト性単量体として
は、自体公知の化合物を用いることができるが、例えば
アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ジアリル
マレート、ジアリルフマレート、ジアリルイタコネート
等の不飽和カルボン酸アリルエステル等を挙げることが
できるが、特にアリルメタクリレートが好ましい。これ
らは、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用い
てもよい。
In the present invention, as the grafting monomer, a compound known per se can be used. Allyl acid esters and the like can be mentioned, and allyl methacrylate is particularly preferable. These may be used alone or as a mixture of two or more.

【0022】他の共重合性単量体としては、アルキルア
クリレートまたはアルキルメタクリレート、芳香族ビニ
ル単量体、架橋性単量体、その他の共重合性単量体など
が挙げられる。これらの単量体としては、以下の2層構
造樹脂粒子についての記載の中で挙げるものを用いるこ
とができる。
Other copolymerizable monomers include alkyl acrylates or alkyl methacrylates, aromatic vinyl monomers, crosslinkable monomers, and other copolymerizable monomers. As these monomers, those listed in the following description of the two-layer resin particles can be used.

【0023】以下、多層構造樹脂粒子の製造について、
主に中心部がガラス転移温度(Tg)80℃以下のポリ
マー層であり、外層がガラス転移温度(Tg)100℃
以上のポリマー層である2層構造樹脂粒子を形成する方
法について詳細に述べる。ただし、かかる2層の多層構
造樹脂粒子は本発明の一態様であって、これに限定され
るものでないことはいうまでもない。
Hereinafter, regarding the production of the resin particles having a multilayer structure,
The center is mainly a polymer layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or less, and the outer layer is a glass transition temperature (Tg) of 100 ° C.
The method for forming the above-described two-layer resin particles as the polymer layer will be described in detail. However, it is needless to say that such a two-layered resin particle having a multilayer structure is one embodiment of the present invention and is not limited thereto.

【0024】本発明における一層目反応は、重合により
ガラス転移温度(Tg)80℃以下の樹脂層を形成する
重合性単量体をラジカル重合、つまり懸濁重合により、
ガラス転移温度(Tg)80℃以下の樹脂層を形成させ
る反応である。かかる重合性単量体として好ましいもの
は、(a)アルキルアクリレートまたはアルキルメタク
リレート(以下「アルキル(メタ)アクリレート」と表
す。)が約45〜99.8重量%程度、(b)架橋性単
量体が約0.1〜50重量%程度、(c)層間を化学的
に結合させる役割のグラフト性単量体が約0.1〜5重
量部程度、および(d)その他の共重合性単量体が約0
〜54.8重量%程度からなる単量体混合物である。
In the first reaction of the present invention, a polymerizable monomer which forms a resin layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower by polymerization is subjected to radical polymerization, that is, suspension polymerization.
This is a reaction for forming a resin layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower. Preferred as such a polymerizable monomer are (a) about 45 to 99.8% by weight of an alkyl acrylate or alkyl methacrylate (hereinafter, referred to as "alkyl (meth) acrylate"), and (b) a crosslinkable monomer. About 0.1 to 50% by weight, (c) about 0.1 to 5 parts by weight of a grafting monomer serving to chemically bond between layers, and (d) other copolymerizable monomer. About 0
~ 54.8% by weight of a monomer mixture.

【0025】前記のアルキル(メタ)アクリレートとし
ては、例えばエチル(メタ)アクリレート、プロピル
(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、
シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリ
レート、ラウロイル(メタ)アクリレート、ステアリル
(メタ)アクリレート等アルキル基の炭素数が2〜20
のアルキル(メタ)アクリレートを挙げることができ
る。それらの中でもブチル(メタ)アクリレート、2−
エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メ
タ)アクリレートなどアルキル基の炭素数が2〜10の
ものが好ましく、特にエチルアクリレート、ブチルアク
リレート、2−エチルヘキシルアクリレートが好まし
い。このアルキル(メタ)アクリレートは、重合により
ガラス転移温度(Tg)80℃以下のポリマー層を形成
する重合性単量体中、通常約45〜99.8重量%程
度、好ましくは約51〜99重量%程度の範囲で用いら
れる。なお、「(メタ)アクリレート」は、アクリレー
トまたはメタクリレートを表す。以下も同様である。
Examples of the alkyl (meth) acrylate include ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate,
An alkyl group such as cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, lauroyl (meth) acrylate, and stearyl (meth) acrylate has 2 to 20 carbon atoms.
Alkyl (meth) acrylate. Among them, butyl (meth) acrylate, 2-
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, such as ethylhexyl (meth) acrylate and isononyl (meth) acrylate, is preferred, and ethyl acrylate, butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate are particularly preferred. This alkyl (meth) acrylate is usually about 45 to 99.8% by weight, preferably about 51 to 99% by weight in a polymerizable monomer which forms a polymer layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower by polymerization. %. In addition, "(meth) acrylate" represents acrylate or methacrylate. The same applies to the following.

【0026】この一層目反応には、ガラス転移温度(T
g)80℃以下の樹脂層のゴム弾性および弾性率のコン
トロール、あるいは耐熱性、耐溶剤性等を向上させるた
めに、分子内に2個以上の不飽和二重結合を有する架橋
性単量体を用いるのが好ましい。該架橋性単量体として
は、例えば、ジビニルベンゼン等の芳香族ジビニル単量
体;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、オリゴエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート等のアルカンポリオールポリアク
リレートもしくはアルカンポリオールポリメタクリレー
ト等;またはウレタンジ(メタ)アクリレート、ポリブ
タジエンジ(メタ)アクリレート、エポキシジ(メタ)
アクリレート等を挙げることができる。特にエチレング
リコールジメタクリレート、ブチレングリコールジアク
リレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ウレタン
ジ(メタ)アクリレートまたはポリブタジエンジ(メ
タ)アクリレートが好ましい。このような架橋性単量体
は、重合によりガラス転移温度(Tg)80℃以下のポ
リマー層を形成する重合性単量体中、通常約0.1〜5
0重量%程度、好ましくは約0.5〜45重量%程度の
範囲で用いられる。
The first-stage reaction includes a glass transition temperature (T
g) a crosslinkable monomer having two or more unsaturated double bonds in the molecule in order to control the rubber elasticity and elastic modulus of the resin layer at 80 ° C. or lower, or to improve heat resistance, solvent resistance, etc. It is preferable to use Examples of the crosslinking monomer include aromatic divinyl monomers such as divinylbenzene; ethylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and oligoethylene glycol di (meth) acrylate. Alkane polyol polyacrylate or alkane polyol polymethacrylate such as (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate; or urethane di (meth) acrylate, polybutadiene di (meth) acrylate, epoxy di (Meta)
Acrylate and the like can be mentioned. Particularly, ethylene glycol dimethacrylate, butylene glycol diacrylate, hexanediol diacrylate, urethane di (meth) acrylate or polybutadiene di (meth) acrylate is preferable. Such a crosslinkable monomer is usually about 0.1 to 5 in a polymerizable monomer which forms a polymer layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower by polymerization.
It is used in an amount of about 0% by weight, preferably about 0.5 to 45% by weight.

【0027】分子内に2個以上の異なる種類の不飽和二
重結合を有するグラフト性単量体は多層構造樹脂粒子の
各層を関連づける。つまり、例えば低い弾性率である柔
らかい層はそれだけでは塑性変形を生じてしまうが、隣
り合う層と化学的に結合させることで塑性変形を抑制
し、復元率を高める働きをする。そのグラフト性単量体
としては、例えばアリルアクリレート、アリルメタクリ
レート、ジアリルマレート、ジアリルフマレート、ジア
リルイタコネート等の不飽和カルボン酸アリルエステル
等を挙げることができるが、特にアリルメタクリレート
が好ましい。該グラフト性単量体は、重合によりガラス
転移温度(Tg)80℃以下のポリマー層を形成する重
合性単量体中通常約0.1〜5重量%程度、好ましくは
約0.5〜4重量%程度の範囲で用いられる。
Grafting monomers having two or more different types of unsaturated double bonds in the molecule relate each layer of the multilayer resin particle. That is, for example, a soft layer having a low modulus of elasticity causes plastic deformation by itself, but acts to suppress plastic deformation by chemically bonding to an adjacent layer, thereby increasing the restoration rate. Examples of the grafting monomer include allyl acrylate, allyl methacrylate, diallyl maleate, diallyl fumarate, unsaturated allyl carboxylate such as diallyl itaconate, etc., and allyl methacrylate is particularly preferable. The grafting monomer is usually used in an amount of about 0.1 to 5% by weight, preferably about 0.5 to 4% by weight in the polymerizable monomer which forms a polymer layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower by polymerization. It is used in the range of about% by weight.

【0028】さらに、一層目反応における、アルキル
(メタ)アクリレート、架橋性単量体およびグラフト性
単量体と共重合可能な共重合性単量体としては、例えば
スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳
香族ビニル単量体または芳香族ビニリデン;アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニルまたは
シアン化ビニリデン;メチルメタクリレート、メチルア
クリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリ
レート等のアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル
(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレート
等の芳香族(メタ)アクリレート等を挙げることができ
る。これらのうち、スチレン、アクリロニトリル、メチ
ルメタクリレートが好適に使用される。またエポキシ
基、カルボキシル基、水酸基、アミノ基等の官能基を持
った単量体を共重合させることもできる。例えばエポキ
シ基を持つ単量体としては、グリシジルメタクリレート
等が挙げられ、カルボキシル基を持つ単量体としては、
メタクリル酸、アクリル酸、マレイン酸、イタコン酸等
が挙げられる。水酸基を持つ単量体としては、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、アミノ基
を持つ単量体としては、ジエチルアミノエチルメタクリ
レート、ジエチルアミノエチルアクリレート等が挙げら
れる。これらの共重合性単量体は、重合によりガラス転
移温度(Tg)80℃以下の樹脂層を形成する重合性単
量体中、通常約0〜54.8重量%程度、好ましくは約
0〜39.5重量%程度の範囲で用いられる。
Further, as the copolymerizable monomer copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate, the crosslinking monomer and the grafting monomer in the first-layer reaction, for example, styrene, vinyltoluene, α-methyl Aromatic vinyl monomers such as styrene or aromatic vinylidene; vinyl cyanide or vinylidene cyanide such as acrylonitrile and methacrylonitrile; alkyl (meth) acrylates such as methyl methacrylate, methyl acrylate, urethane acrylate and urethane methacrylate; benzyl ( And aromatic (meth) acrylates such as meth) acrylate and phenoxyethyl acrylate. Of these, styrene, acrylonitrile, and methyl methacrylate are preferably used. Further, a monomer having a functional group such as an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, or an amino group can be copolymerized. For example, as a monomer having an epoxy group, glycidyl methacrylate and the like, and as a monomer having a carboxyl group,
Examples include methacrylic acid, acrylic acid, maleic acid, and itaconic acid. Examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate. Examples of the monomer having an amino group include diethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl acrylate. These copolymerizable monomers are generally about 0 to 54.8% by weight, preferably about 0 to 54.8% by weight, of the polymerizable monomers forming a resin layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower by polymerization. It is used in a range of about 39.5% by weight.

【0029】この一層目反応は、先に述べた重合により
ガラス転移温度(Tg)80℃以下の樹脂層を形成する
重合性単量体、分散安定剤、油溶性のラジカル重合開始
剤および分散媒である水あるいは有機溶媒を重合容器に
仕込んで、攪拌下ラジカル重合、すなわち懸濁重合ある
いは分散重合により得られるが、先に述べたように懸濁
重合が好ましい。
The first reaction is carried out by a polymerizable monomer, a dispersion stabilizer, an oil-soluble radical polymerization initiator, and a dispersion medium which form a resin layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower by the above-mentioned polymerization. Water or an organic solvent is charged into a polymerization vessel, and is obtained by radical polymerization with stirring, that is, suspension polymerization or dispersion polymerization, but suspension polymerization is preferred as described above.

【0030】以下に、懸濁重合の工程を例示する。油溶
性のラジカル開始剤としては、例えばベンゾイルパーオ
キサイド、o−メトキシベンゾイルパーオキサイド、o
−クロロベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロ
ピルベンゼンハイドロパーオキサイド等の有機過酸化
物、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’
−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル等のアゾ
系化合物等が例示される。これらのラジカル重合開始剤
のうち、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等が
好ましく用いられる。またこれらのラジカル重合開始剤
は一種類又は二種類以上使用できる。ラジカル重合開始
剤の使用量は、例えば一層目反応の重合性単量体100
重量部に対して約0.1〜5重量部程度、好ましくは約
0.1〜3重量部程度である。
The following is an example of the suspension polymerization process. Examples of the oil-soluble radical initiator include, for example, benzoyl peroxide, o-methoxybenzoyl peroxide, o
Organic peroxides such as chlorobenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2 ′
And azo compounds such as -azobis-2,4-dimethylvaleronitrile. Among these radical polymerization initiators, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, 2,2′-azobisisobutyronitrile and the like are preferably used. One or more of these radical polymerization initiators can be used. The amount of the radical polymerization initiator used is, for example, 100
It is about 0.1 to 5 parts by weight, preferably about 0.1 to 3 parts by weight based on parts by weight.

【0031】前記分散安定剤としては、例えば、ゼラチ
ン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレン
−ポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリアク
リルアミド、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、アル
ギン酸ナトリウム、ポリビニルアルコール部分ケン化物
等の水溶性高分子、リン酸三カルシウム、酸化チタン、
炭酸カルシウム、二酸化ケイ素等の無機物などが例示で
きる。これらの分散安定剤のうち、特にポリビニルアル
コール部分ケン化物、ヒドロキシプロピルセルロース、
リン酸三カルシウムが好ましく用いられる。またこれら
の分散安定剤は一種類又は二種類以上使用できる。分散
安定剤の使用量は、例えば一層目反応の重合性単量体1
00重量部に対して約0.1〜30重量部程度、好まし
くは約0.5〜10重量部程度である。
Examples of the dispersion stabilizer include gelatin, methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose,
Water-soluble polymers such as hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, polyethylene glycol, polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymer, polyacrylamide, polyacrylic acid, polyacrylate, sodium alginate, and partially saponified polyvinyl alcohol; Calcium, titanium oxide,
Examples thereof include inorganic substances such as calcium carbonate and silicon dioxide. Among these dispersion stabilizers, particularly partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxypropyl cellulose,
Tricalcium phosphate is preferably used. One or more of these dispersion stabilizers can be used. The amount of the dispersion stabilizer used is, for example, the amount of the polymerizable monomer 1 in the first reaction.
The amount is about 0.1 to 30 parts by weight, preferably about 0.5 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight.

【0032】所望により単量体液滴の分散安定化のため
界面活性剤、例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム、
ラウリル硫酸ナトリウム、ナトリウムジオクチルスルホ
サクシネート等のアニオン界面活性剤やポリエチレング
リコールノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
モノステアレート等などのノニオン界面活性剤等を添加
しても良いまたこれらの界面活性剤は一種類又は二種類
以上使用できる。界面活性剤の使用量は、例えば一層目
反応の重合性単量体100重量部に対して約0.05〜
2重量部程度である。また所望により水相重合の禁止
剤、例えば亜硝酸ナトリウム等を添加しても良い。
If desired, a surfactant such as sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium dialkylsulfosuccinate, may be used to stabilize the dispersion of the monomer droplets.
Anionic surfactants such as sodium lauryl sulfate and sodium dioctyl sulfosuccinate, and nonionic surfactants such as polyethylene glycol nonyl phenyl ether and polyoxyethylene monostearate may be added. Types or two or more types can be used. The amount of the surfactant used is, for example, about 0.05 to 100 parts by weight of the polymerizable monomer in the first reaction.
It is about 2 parts by weight. If desired, an aqueous phase polymerization inhibitor such as sodium nitrite may be added.

【0033】上記重合性単量体を懸濁重合してガラス転
移温度(Tg)80℃以下の樹脂粒子を生成させる工程
では、反応開始に先立って、重合性単量体、分散安定
剤、油溶性のラジカル重合開始剤およびイオン交換水の
混合物を攪拌による剪断力により、単量体液滴を所望の
大きさに調整するのが好ましい。この場合、20μm以
下の微小な単量体液滴を形成するためには、ホモミキサ
ー、ホモディスパー、ホモジナイザー、クレアミック
ス、ラインミキサー等の各種の分散手段を使用するのが
好ましいが、よりシャープな粒径分布を得るにはクレア
ミックスがさらに好ましい。単量体液滴の大きさおよび
その分布は用いる分散機の種類およびその回転速度など
による剪断力の調整により、制御することが可能であ
る。
In the step of suspension polymerizing the polymerizable monomer to form resin particles having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or less, prior to the start of the reaction, the polymerizable monomer, dispersion stabilizer, oil, It is preferable to adjust the monomer droplets to a desired size by a shearing force caused by stirring a mixture of a soluble radical polymerization initiator and ion-exchanged water. In this case, in order to form fine monomer droplets of 20 μm or less, it is preferable to use various dispersing means such as a homomixer, a homodisper, a homogenizer, a clear mix, and a line mixer. Clear mix is more preferred for obtaining a diameter distribution. The size and distribution of the monomer droplets can be controlled by adjusting the shearing force according to the type of disperser used and the rotational speed thereof.

【0034】このようにして調製された重合性単量体液
滴を、通常ラジカル重合開始剤の10時間半減期温度程
度以上に昇温し、重合反応を行うことにより一層目反応
のガラス転移温度(Tg)80℃以下のポリマー粒子懸
濁液が得られる。例えば、ラウロイルパーオキサイドを
用いる場合は55℃以上に、2,2’−アゾビスイソブ
チロニトリルを用いる場合は65℃以上に昇温し、ラジ
カル重合を行うことにより、一層目反応のTg80℃以
下の樹脂粒子懸濁液が得られる。
The polymerizable monomer droplets thus prepared are usually heated to about 10 hours half-life temperature of the radical polymerization initiator or more, and the polymerization reaction is carried out, whereby the glass transition temperature of the first reaction is increased. Tg) A polymer particle suspension of 80 ° C. or lower is obtained. For example, when lauroyl peroxide is used, the temperature is raised to 55 ° C. or more, and when 2,2′-azobisisobutyronitrile is used, the temperature is raised to 65 ° C. or more, and radical polymerization is carried out, so that the Tg of the first reaction is 80 ° C. The following resin particle suspension is obtained.

【0035】次に二層目反応においては、上述した一層
目反応で得られたガラス転移温度(Tg)80℃以下の
樹脂粒子懸濁液の存在下に、重合によりガラス転移温度
(Tg)100℃以上の樹脂層を形成する重合性単量体
を添加し、ラジカル重合によりガラス転移温度(Tg)
100℃以上の樹脂層を形成させ、多層構造樹脂粒子懸
濁液を得る反応である。
Next, in the second layer reaction, in the presence of the resin particle suspension having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or lower obtained by the above-mentioned first layer reaction, the glass transition temperature (Tg) is raised to 100 by polymerization. Glass transition temperature (Tg) by adding a polymerizable monomer that forms a resin layer of at least
This is a reaction in which a resin layer at 100 ° C. or higher is formed to obtain a multilayer resin particle suspension.

【0036】重合によりガラス転移温度(Tg)100
℃以上のポリマー層を形成する重合性単量体として好ま
しいものは、(e)アルキル(メタ)アクリレートおよ
び(f)芳香族ビニル単量体からなる群から選ばれた少
なくとも1種類の単量体、所望によりさらに(g)分子
内に2個以上の不飽和二重結合を有する架橋性単量体お
よび(h)その他の共重合可能な共重合性単量体からな
るものである。アルキル(メタ)アクリレートとして
は、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレートなど、炭素数1
〜4のアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。芳
香族ビニル単量体としては、たとえばスチレン、ビニル
トルエン、α−メチルスチレンなどを挙げることができ
る。これらの単量体の合計使用量は、二層目反応に用い
られる重合性単量体中、通常約50〜100重量%程
度、好ましくは約60〜100重量%程度である。
Glass transition temperature (Tg) of 100 due to polymerization
Preferred as the polymerizable monomer forming the polymer layer at a temperature of at least ° C is at least one monomer selected from the group consisting of (e) an alkyl (meth) acrylate and (f) an aromatic vinyl monomer. And (g) a crosslinkable monomer having two or more unsaturated double bonds in the molecule, if desired, and (h) another copolymerizable copolymerizable monomer. Examples of the alkyl (meth) acrylate include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, and the like.
To 4 alkyl (meth) acrylates. Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, vinyl toluene, α-methylstyrene, and the like. The total amount of these monomers used is generally about 50 to 100% by weight, preferably about 60 to 100% by weight, of the polymerizable monomers used in the second layer reaction.

【0037】二層目反応において分子内に2個以上の不
飽和二重結合を有する架橋性単量体を用いることが好ま
しい。架橋性単量体は、導電性多層構造樹脂粒子の加熱
時における塑性変形を抑制することもできる。この分子
内に2個以上の不飽和二重結合を有する架橋性単量体と
しては、〔0026〕欄に記載のものと同じものが使用
でき、二層目反応の重合性単量体中、通常約0〜20重
量%程度、好ましくは約0〜10重量%程度の範囲で使
用することができる。
In the second layer reaction, it is preferable to use a crosslinkable monomer having two or more unsaturated double bonds in the molecule. The crosslinkable monomer can also suppress plastic deformation during heating of the conductive multilayer structure resin particles. As the crosslinkable monomer having two or more unsaturated double bonds in the molecule, the same ones as described in the section [0026] can be used. Among the polymerizable monomers in the second layer reaction, Usually, it can be used in the range of about 0 to 20% by weight, preferably about 0 to 10% by weight.

【0038】この二層目反応においては、アルキル(メ
タ)アクリレート、芳香族ビニル単量体および架橋性単
量体の単量体と共にこれらと共重合可能なその他の共重
合性単量体としては、例えば(メタ)アクリロニトリル
等のシアン化ビニルまたはシアン化ビニリデン;メチル
メタクリレート等のアルキルメタクリレート;エチルア
クリレート、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレ
ート;ウレタン(メタ)アクリレート;エポキシ(メ
タ)クリレート;ポリブタジエンジ(メタ)クリレー
ト;アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ジア
リルマレート、ジアリルフマレート、ジアリルイタコネ
ート等の不飽和カルボン酸アリルエステル等が挙げられ
る。また、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、アミ
ノ基、アミド基等の官能基を持った単量体を共重合させ
ることもできる。これにより無電解メッキにて表面を金
属被覆する際、触媒となるPdイオンを担持することも
できる。例えばエポキシ基を持つ単量体としては、グリ
シジルメタクリレート等が挙げられ、カルボキシル基を
持つ単量体としてはメタクリル酸、アクリル酸、マレイ
ン酸、イタコン酸等が挙げられる。水酸基を持つ単量体
としては、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−
ヒドロキシエチルアクリレート等が挙げられる。アミノ
基を持つ単量体としては、ジエチルアミノエチルメタク
リレート、ジエチルアミノエチルアクリレート等が挙げ
られる。また、アミド基をもつ単量体としては、(メ
タ)アクリルアミド等が挙げられる。上記共重合可能な
共重合性単量体の使用量は、二層目反応における重合性
単量体中、通常約0〜50重量%程度、好ましくは約0
〜40重量%程度である。
In the second-layer reaction, other copolymerizable monomers copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate, the aromatic vinyl monomer and the crosslinkable monomer are as follows. For example, vinyl cyanide or vinylidene cyanide such as (meth) acrylonitrile; alkyl methacrylate such as methyl methacrylate; alkyl acrylate such as ethyl acrylate and butyl acrylate; urethane (meth) acrylate; epoxy (meth) acrylate; polybutadiene di (meth) Acrylates; allyl acrylates, allyl methacrylates, diallyl maleates, diallyl fumarate, diallyl itaconate, and other unsaturated carboxylic acid allyl esters. Further, a monomer having a functional group such as an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, or an amide group can be copolymerized. Thereby, when the surface is metal-coated by electroless plating, Pd ions serving as a catalyst can be supported. For example, a monomer having an epoxy group includes glycidyl methacrylate, and a monomer having a carboxyl group includes methacrylic acid, acrylic acid, maleic acid, itaconic acid, and the like. Examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate.
And hydroxyethyl acrylate. Examples of the monomer having an amino group include diethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl acrylate. Examples of the monomer having an amide group include (meth) acrylamide. The amount of the copolymerizable monomer that can be copolymerized is usually about 0 to 50% by weight, preferably about 0% by weight, of the polymerizable monomer in the second layer reaction.
About 40% by weight.

【0039】上記の二層目反応に用いられる重合性単量
体の添加時期は、樹脂粒子の脱水時や乾燥時に樹脂粒子
間で凝集、融着が起こる可能性を低くするため、一層目
反応の重合転化率が90%以上となった時期が好まし
い。二層目反応における重合性単量体の添加方法として
は、先に述べた界面活性剤もしくは分散安定剤と共に予
め乳化液、あるいは懸濁液を調製し、一括もしくは所望
の時間をかけて供給する方法が好ましく用いられる。
The polymerizable monomer used in the second layer reaction is added at the time of adding the polymerizable monomer during the dehydration or drying of the resin particles in order to reduce the possibility of aggregation and fusion between the resin particles. It is preferable that the time when the polymerization conversion rate becomes 90% or more. As a method of adding the polymerizable monomer in the second-layer reaction, an emulsion or suspension is prepared in advance together with the surfactant or the dispersion stabilizer described above, and supplied in a lump or over a desired time. The method is preferably used.

【0040】二層目反応において更に重合開始剤を添加
することもできるが、油溶性のラジカル重合開始剤の場
合は二層目反応の重合性単量体に溶解して添加し、ま
た、水溶性ラジカル重合開始剤の場合は水溶液の状態で
別途添加することができる。二層目反応に使用できる重
合開始剤としては、〔0030〕欄に記載の油溶性のラ
ジカル重合開始剤が使用できる。また水溶性ラジカル重
合開始剤としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム
等の過硫酸塩系重合開始剤、2,2’−アゾビス(2−
アミジノプロパン)ジハイドロクロライド、2,2’−
アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)
−プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2−(2
−イミダゾリン−2−イル)プロパン)、メチルプロパ
ンイソ酪酸ジメチル等のアゾ系重合開始剤等を用いるこ
とができる。またこれらのラジカル重合開始剤は一種類
又は二種類以上使用できる。ラジカル重合開始剤の使用
量は、新たな粒子や異形の粒子を生成を抑制し、多層構
造を有利に形成できるように、例えば二層目反応の重合
性単量体100重量部に対し約0.05〜10重量部程
度、好ましくは約0.1〜3重量部程度である。
In the second-layer reaction, a polymerization initiator can be further added. In the case of an oil-soluble radical polymerization initiator, the polymerization initiator is dissolved in the polymerizable monomer of the second-layer reaction and added. In the case of a radical polymerization initiator, it can be separately added in the state of an aqueous solution. As the polymerization initiator that can be used in the second layer reaction, the oil-soluble radical polymerization initiator described in the section [0030] can be used. Examples of the water-soluble radical polymerization initiator include persulfate polymerization initiators such as sodium persulfate and potassium persulfate, and 2,2′-azobis (2-
Amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-
Azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl)
-Propionamide], 2,2′-azobis (2- (2
Azo polymerization initiators such as -imidazolin-2-yl) propane) and dimethyl methylpropaneisobutyrate can be used. One or more of these radical polymerization initiators can be used. The amount of the radical polymerization initiator used is, for example, about 0 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable monomer in the second-layer reaction so as to suppress generation of new particles or irregularly shaped particles and to advantageously form a multilayer structure. The amount is about 0.05 to 10 parts by weight, preferably about 0.1 to 3 parts by weight.

【0041】中心部のガラス転移温度(Tg)80℃以
下の樹脂層と外層のガラス転移温度(Tg)100℃以
上の樹脂層の重量比は、通常約95/5〜30/70程
度、好ましくは約90/10〜40/60程度、さらに
好ましくは約85/15〜50/50程度の範囲であ
る。この比率を変えることが柔らかさの調整に相当し、
中心部の比率を高めることが多層構造樹脂粒子を柔らか
くすることになり、外層の比率を高めることが多層構造
樹脂粒子の復元率を高めることになる。この比率および
各層特に中心部のガラス転移温度(Tg)の低さにほぼ
対応する柔らかさが、後述する導電性多層構造樹脂粒子
の10%圧縮強度を決定する。この10%圧縮強度は導
電性多層構造樹脂粒子の接触抵抗や接触安定性に非常に
深く関わる。また、中心部と外層の比率は、ポリマー粒
子の脱水時や乾燥時に生ずるポリマー粒子間での凝集も
しくは融着にも関係し、さらに中心部の割合があまり高
いとブロッキング等により作業性の悪化もしくは金属メ
ッキをかける際の分散性に問題が生じることがある。
The weight ratio of the resin layer having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or less at the center to the resin layer having a glass transition temperature (Tg) of 100 ° C. or more of the outer layer is generally about 95/5 to 30/70, preferably about 95/5 to 30/70. Is in the range of about 90/10 to 40/60, more preferably in the range of about 85/15 to 50/50. Changing this ratio is equivalent to adjusting the softness,
Increasing the ratio of the central portion softens the multilayer structure resin particles, and increasing the ratio of the outer layer increases the restoration rate of the multilayer structure resin particles. This ratio and the softness substantially corresponding to the low glass transition temperature (Tg) of each layer, especially at the center, determine the 10% compressive strength of the conductive multilayer structure resin particles described later. This 10% compressive strength is very closely related to the contact resistance and contact stability of the conductive multilayer structure resin particles. In addition, the ratio of the central portion and the outer layer is also related to aggregation or fusion between the polymer particles that occurs during dehydration or drying of the polymer particles. A problem may occur in dispersibility when applying metal plating.

【0042】このようにして製造される多層構造樹脂粒
子の重量平均粒子径は通常約2μmを超えて100μm
程度までで、好ましくは約2.5〜20μm程度、さら
に好ましくは約3〜15μm程度の範囲のものである。
重量平均粒子径は、粒子径分布をシャープに調製し、ま
た、分散安定剤の量の増加を防ぐ観点から、上記の範囲
が好ましい。
The weight-average particle diameter of the multilayer resin particles thus produced usually exceeds about 2 μm to 100 μm.
And preferably in the range of about 2.5 to 20 μm, more preferably about 3 to 15 μm.
The weight average particle diameter is preferably in the above range from the viewpoint of adjusting the particle diameter distribution sharply and preventing an increase in the amount of the dispersion stabilizer.

【0043】なお、粒子径分布をシャープにするため
に、中心部の重合性単量体成分に、電荷制御剤としての
各種金属錯体や4級アンモニウム塩、あるいはさらに重
合性単量体可溶の重合体として、例えば変性アクリル樹
脂やアクリル−スチレン系オリゴマーを含有することが
可能である。粒子径分布すなわち粒子径の均一さはでき
るだけシャープなものが好ましいが、そのためにコスト
高となることから、dw/dn値として1.3以下が好
ましい。なお、本発明で規定する「 dw/dn 」と
は、電気抵抗法による粒子径測定機コールターカウンタ
ー(ベックマン・コールター社製)による測定の重量平
均粒子径dwを数平均粒子径dnで除した値である。
In order to sharpen the particle size distribution, various metal complexes or quaternary ammonium salts as a charge controlling agent or a polymerizable monomer soluble As the polymer, for example, a modified acrylic resin or an acrylic-styrene-based oligomer can be contained. It is preferable that the particle size distribution, that is, the uniformity of the particle size is as sharp as possible. However, because of this, the cost is high. In addition, “dw / dn” defined in the present invention is a value obtained by dividing a weight average particle diameter dw measured by a particle diameter measuring machine Coulter counter (manufactured by Beckman Coulter) by an electric resistance method by a number average particle diameter dn. It is.

【0044】また最外層を形成する樹脂には、約1μm
以下のサイズの一次粒子径であるゴム成分を有した多層
構造粒子あるいはブタジエンジアクリレートを含有させ
ることができる。こうすることで、粒子表面に過マンガ
ン酸塩によるエッチングで粒子表面を約1μm以下のサ
イズに粗化することが可能になり、その結果無電解にお
ける触媒Pdの賦与が十分にかつ均質に得られることか
ら、高品位なメッキを掛けることができるという利点が
ある。
The resin forming the outermost layer has a thickness of about 1 μm.
Multilayer structured particles or butadiene diacrylate having a rubber component having the following primary particle size can be contained. By doing so, it becomes possible to roughen the particle surface to a size of about 1 μm or less by etching with a permanganate on the particle surface, and as a result, the application of the catalyst Pd in electroless can be obtained sufficiently and uniformly. Therefore, there is an advantage that high-quality plating can be applied.

【0045】反応終了後に得られた多層構造樹脂粒子の
単離方法としては、例えば遠心分離機や減圧濾過機によ
り脱水し、減圧乾燥機等により乾燥する方法や、噴霧乾
燥等が挙げられる。また単離前に、多層構造樹脂粒子に
付着した分散安定剤や界面活性剤さらには副生成物であ
る乳化重合粒子を除去するため各々適当な洗浄を行うこ
とが好ましい。多層構造樹脂粒子の乾燥は、常圧または
減圧下、約70℃程度以下の低温で行うことが好まし
い。乾燥温度を低温で行うのは一部ポリマー粒子が融着
するのを防ぐためである。得られた多層構造樹脂粒子
は、解砕機にて凝集があればほぐしてやり、例えば、1
00〜400メッシュ程度の篩にかけて製品とすること
ができる。またこれら多層構造樹脂粒子は、さらに所望
により、微粒子状シリカ等の無機微粒子、滑剤、酸化防
止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、シランカップリング
剤、他のポリマー微粒子等と混合してもよい。
Examples of a method for isolating the multilayered resin particles obtained after the completion of the reaction include a method of dehydrating with a centrifugal separator or a vacuum filter and drying with a vacuum dryer or the like, and a spray drying method. Before isolation, it is preferable to carry out appropriate washing to remove the dispersion stabilizer and the surfactant attached to the multilayer structure resin particles and the emulsion polymerization particles which are by-products. The drying of the multilayer resin particles is preferably performed at a low temperature of about 70 ° C. or less under normal pressure or reduced pressure. The reason why the drying is performed at a low temperature is to prevent some of the polymer particles from fusing. The obtained resin particles having a multilayer structure are loosened if coagulated by a crusher.
The product can be obtained by passing through a sieve of about 00 to 400 mesh. These multilayer resin particles may be further mixed with inorganic fine particles such as fine silica particles, lubricants, antioxidants, heat stabilizers, ultraviolet absorbers, silane coupling agents, other polymer fine particles, and the like, if desired. .

【0046】本発明の導電性多層構造樹脂粒子は、上記
多層構造樹脂粒子に金属被覆することにより得られる。
その金属被覆の手法には、金属粒子とのハイブリダイ
ゼーション、または無電解メッキなどが挙げられる
が、変形に対して柔軟性を持つように薄くしかも粒子と
の密着性を十分に得るためには、後者が好ましい。
The conductive multilayer resin particles of the present invention can be obtained by coating the above multilayer resin particles with a metal.
The method of metal coating includes hybridization with metal particles, or electroless plating. The latter is preferred.

【0047】適用できるメッキ金属としては、Fe、C
o、Ni、Cu、Pd、AgまたはAu等が挙げられる
が、経済的な面からNiが最も代表的な物質となる。Z
nやMnは単独では適用できないが、合金として適用可
能である。本発明に係る無電解メッキ粉末は、同種金属
の単層メッキであってもよいし、2種以上の異種金属に
よる多層メッキであってもよい。本発明においては、高
い導電性と信頼性を得るために、一層目に無電解ニッケ
ルメッキ、引き続き二層目として無電解金メッキを行う
のが好ましい。また、微細なメッキ金属粒子は、その種
類やメッキ方法によって結晶質又は非晶質のいずれであ
ってもよい。更に、同様の理由から、このメッキ金属粒
子は磁性又は非磁性を示すものでありうる。
The applicable plating metals include Fe and C.
Although o, Ni, Cu, Pd, Ag, Au, etc. are mentioned, Ni is the most typical substance from an economical viewpoint. Z
Although n and Mn cannot be applied alone, they can be applied as an alloy. The electroless plating powder according to the present invention may be a single-layer plating of the same metal or a multilayer plating of two or more different metals. In the present invention, in order to obtain high conductivity and reliability, it is preferable to perform electroless nickel plating on the first layer and electroless gold plating on the second layer. The fine plated metal particles may be either crystalline or amorphous depending on the type and plating method. Further, for the same reason, the plated metal particles may be magnetic or non-magnetic.

【0048】無電解金属メッキは、自体公知の方法また
はそれに準ずる方法で行ってよい。例えば、具体的に
は、まず触媒であるPdを多層構造樹脂粒子表面に薄く
かつ均質に賦与したのち、無電解金属メッキを行う方法
等が挙げられる。こうすることにより、Pdからなる触
媒核を中心にして、無電解メッキ中の金属イオンが析出
し、成長するので、均質なメッキができる。
The electroless metal plating may be performed by a method known per se or a method analogous thereto. For example, specifically, there is a method in which Pd as a catalyst is thinly and uniformly applied to the surface of the multilayer structure resin particles, and then electroless metal plating is performed. By doing so, the metal ions in the electroless plating are deposited and grown around the catalyst nucleus made of Pd, so that uniform plating can be performed.

【0049】触媒であるPdを多層構造樹脂粒子表面に
薄くかつ均質に賦与する活性化処理の方法は、自体公知
の方法またはそれに準ずる方法で行ってよい。具体的に
は、例えば、予め多層構造樹脂粒子の表面をクロム酸、
過マンガン酸でエッチングしたり、機械的に多層構造樹
脂粒子の表面を荒らしておいたりしておく。エッチング
は、例えば約50〜70℃程度のクロム酸−硫酸混液に
数十分浸漬させることによって行うことができる。つい
で、(1)可溶性第1スズ塩(例えば、塩化第1スズま
たはフッ化第1スズなど)の約1〜10g/L程度の塩
酸酸性水溶液に常温で数分浸漬するかまたは該水溶液を
スプレー処理し、塩化パラジウムの約0.1〜1g/L
程度の塩酸酸性水溶液に常温で数分浸漬するかまたは該
水溶液をスプレー処理する方法、または(2)約0.1
g/L程度の塩化パラジウムおよび約1〜5g/L程度
の塩化第1スズの塩酸酸性コロイダル水溶液に常温で数
分浸漬させ、塩酸もしくは硫酸、または水酸化ナトリウ
ムの10〜20%水溶液に常温で数分浸漬させる方法が
挙げられる。これらの方法で金属パラジウムが生成し、
多層構造樹脂粒子表面に金属パラジウムが賦与される。
The activation treatment for applying Pd as a catalyst to the surface of the multilayer resin particles thinly and uniformly may be performed by a method known per se or a method analogous thereto. Specifically, for example, the surface of the multilayer structure resin particles is previously chromic acid,
Etching with permanganic acid or mechanically roughening the surface of the multilayer resin particles are performed. The etching can be performed, for example, by immersing in a chromic acid-sulfuric acid mixed solution at about 50 to 70 ° C. for several tens of minutes. Then, (1) dipping in a hydrochloric acid aqueous solution of about 1 to 10 g / L of a soluble stannous salt (for example, stannous chloride or stannous fluoride) at room temperature for several minutes or spraying the aqueous solution Treated, about 0.1-1 g / L of palladium chloride
Immersion in a hydrochloric acid aqueous solution of about several minutes at room temperature or spraying the aqueous solution, or (2) about 0.1
g / L of palladium chloride and about 1 to 5 g / L of stannous chloride in an aqueous colloidal hydrochloric acid solution at room temperature for several minutes, and then in a 10 to 20% aqueous solution of hydrochloric acid, sulfuric acid, or sodium hydroxide at room temperature. For example, a method of immersing for several minutes may be mentioned. Metal palladium is formed by these methods,
Metal palladium is applied to the surface of the multilayer resin particles.

【0050】上記活性化処理は、2価のパラジウム化合
物とアミノシランとを反応させた錯化合物を用いてもよ
い。すなわち該錯化合物は加熱することにより、金属パ
ラジウムを生成し、多層構造樹脂粒子表面に金属パラジ
ウムが賦与される。2価のパラジウム化合物としては、
例えば、塩化パラジウム(II)、フッ化パラジウム(I
I)、臭化パラジウム(II)、ヨウ化パラジウム(I
I)、硫酸パラジウム(II)、硝酸パラジウム(II)、
酸化パラジウム(II)または硫化パラジウム(II)等が
挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上
を混合して用いても良い。中でも、ハロゲン化物が好ま
しく、塩化パラジウム(II)がより好ましい。
In the activation treatment, a complex compound obtained by reacting a divalent palladium compound with aminosilane may be used. That is, by heating the complex compound, metallic palladium is generated, and metallic palladium is provided on the surface of the multilayer resin particle. As the divalent palladium compound,
For example, palladium (II) chloride, palladium fluoride (I
I), palladium (II) bromide, palladium iodide (I
I), palladium (II) sulfate, palladium (II) nitrate,
Palladium (II) oxide or palladium (II) sulfide is exemplified. These may be used alone or as a mixture of two or more. Of these, halides are preferred, and palladium (II) chloride is more preferred.

【0051】アミノシランとしては、上記2価のパラジ
ウム化合物と錯体を形成するアミノ基またはイミノ基を
有し、かつ2価のパラジウムを金属パラジウムに還元す
ることができるアミノシリル基を有するものが好まし
い。かかるアミノシランとしては、例えば3−(2−ア
ミノエチルアミノプロピル)ジメトキシエチルシラン、
3−(2−アミノエチルアミノプロピル)メトキシジエ
チルシラン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)
トリエチルシラン、ビス(エチルアミノ)ジメチルシラ
ン、ビス(ブチルアミノ)ジメチルシラン、ヘキサメチ
ルジシラザン、N,N’−ビストリメチルシリルウレ
ア、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルシクロトリ
シラザン、1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメ
チルシクロテトラシラザン、アミノメチルトリメチルシ
ラン、ブチルアミノメチルトリメチルシラン、イソプロ
ピルアミノメチルトリメチルシラン、2−アミノエチル
アミノメチルジメチルフェニルシラン、1,3−ビス
(2−アミノエチルアミノメチル)−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン等が挙げられる。これらは単
独で用いても良いし、2種以上を混合して用いても良
い。
As the aminosilane, those having an amino group or an imino group forming a complex with the above-mentioned divalent palladium compound and having an aminosilyl group capable of reducing divalent palladium to metallic palladium are preferable. Examples of such aminosilane include 3- (2-aminoethylaminopropyl) dimethoxyethylsilane,
3- (2-aminoethylaminopropyl) methoxydiethylsilane, 3- (2-aminoethylaminopropyl)
Triethylsilane, bis (ethylamino) dimethylsilane, bis (butylamino) dimethylsilane, hexamethyldisilazane, N, N'-bistrimethylsilylurea, 1,1,3,3,5,5-hexamethylcyclotrisilazane 1,1,3,3,5,5,7,7-octamethylcyclotetrasilazane, aminomethyltrimethylsilane, butylaminomethyltrimethylsilane, isopropylaminomethyltrimethylsilane, 2-aminoethylaminomethyldimethylphenylsilane, 1,3-bis (2-aminoethylaminomethyl) -1,1,3,3-
Tetramethyldisiloxane and the like can be mentioned. These may be used alone or as a mixture of two or more.

【0052】2価のパラジウム化合物とアミノシランと
を反応させた錯化合物を得るには、公知の方法を用いて
よく、例えば、3−(2−アミノエチルアミノプロピ
ル)ジメトキシメチルシラン5mLにメタノール5mL
を加え、さらに塩化パラジウム(II)20分間振とうす
ることにより製造することができる。得られた化合物で
は、パラジウム化合物がアミノシランのアミノ基に配位
しており、加熱するとケイ素に近接するメチル基の水素
により2価のパラジウムは還元されて金属パラジウムを
生成する。加熱温度は、約50〜200℃が好ましい。
In order to obtain a complex compound obtained by reacting a divalent palladium compound with aminosilane, a known method may be used. For example, 5-mL of 3- (2-aminoethylaminopropyl) dimethoxymethylsilane and 5 mL of methanol
And shaken for 20 minutes with palladium (II) chloride to produce the compound. In the obtained compound, the palladium compound is coordinated to the amino group of the aminosilane, and when heated, divalent palladium is reduced by hydrogen of a methyl group close to silicon to generate metallic palladium. The heating temperature is preferably about 50 to 200 ° C.

【0053】また、多層構造樹脂粒子に金属イオンとキ
レート又は塩を形成し得る表面処理したのちパラジウム
イオンを担持させるという方法等が挙げられる。多層構
造樹脂粒子に金属イオンとキレート又は塩を形成し得る
よう処理する方法としては、非ポリマー性の表面処理剤
にて処理する方法が挙げられる。本発明において非ポリ
マー性表面処理剤としては、カルボキシル基、エステル
基、アミノ基、水酸基、ニトリル基、ハロゲン基、シリ
コン又はチタンに結合するアルコキシ基等の官能基を少
なくとも1個以上有する有機化合物であってパラジウム
イオンとキレート又は塩を形成し得るものをいう。かか
る表面処理剤として具体的には、例えばγ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−β−アミノエチル−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン化
合物;ヘキサメチレンジアミン、トリメチレンジアミ
ン、ジアミノドデカン等のアミノ化合物;マレイン酸、
セバシン酸、アジビン酸等のジカルボン酸;トリエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、ジグリコール
アミン等のグリコール化合物;マロンニトリル等のニト
リル化合物;イソプロピルトリ(ジオクチルピロフォス
フェート)チタネート、チタニウムジ(ジオクチルピロ
フォスフェート)オキシアセテート、イソプロピルトリ
イソステアロイルチタネート等のチタネート化合物;リ
ノール酸、リノレン酸等の不飽和脂肪酸が用いられる。
Further, a method of treating the multilayer resin particles with a surface treatment capable of forming a chelate or a salt with metal ions and then supporting palladium ions thereon may be mentioned. Examples of a method for treating the multilayer resin particles so as to form a chelate or a salt with a metal ion include a method of treating with a non-polymeric surface treating agent. In the present invention, the non-polymeric surface treatment agent is an organic compound having at least one functional group such as a carboxyl group, an ester group, an amino group, a hydroxyl group, a nitrile group, a halogen group, and an alkoxy group bonded to silicon or titanium. A substance that can form a chelate or salt with palladium ions. Specific examples of such a surface treatment agent include, for example, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-aminoethyl-γ-
Aminosilane compounds such as aminopropyltrimethoxysilane; amino compounds such as hexamethylenediamine, trimethylenediamine, diaminododecane; maleic acid;
Dicarboxylic acids such as sebacic acid and adibic acid; glycol compounds such as triethylene glycol, polyethylene glycol and diglycolamine; nitrile compounds such as malononitrile; isopropyl tri (dioctyl pyrophosphate) titanate and titanium di (dioctyl pyrophosphate) Titanate compounds such as oxyacetate and isopropyltriisostearoyl titanate; and unsaturated fatty acids such as linoleic acid and linolenic acid are used.

【0054】多層構造樹脂粒子にパラジウムイオンを上
記表面処理剤にて担持させるには、この表面処理剤を適
当な溶媒、例えば水、エチルアルコール、アセトン、ト
ルエン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ジオキサン等の有機溶媒に溶解させて溶液とし、こ
の溶液に多層構造樹脂粒子を浸漬等の方法により常温又
は加熱下に接触させたあと溶媒を揮散させる温式法や、
へンシェルミキサー等を用いて機械的に溶液を被覆させ
る乾式法等がある。溶液中の表面処理剤の濃度および使
用量は多層構造樹脂粒子の表面積もしくは物性等、また
は表面処理剤や溶媒等の種類によって異なるものの、特
に限度はないが、少なくとも多層構造樹脂粒子に該表面
処理剤の単分子層が形成しうる量を必要とする。好まし
い態様の一つとしては、多層構造樹脂粒子の比表面積1
/g当り約0.3〜100mg程度である。
In order to carry palladium ions on the multilayered resin particles with the above-mentioned surface treating agent, the surface treating agent may be coated with a suitable solvent such as water, ethyl alcohol, acetone, toluene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane or the like. A solution method by dissolving in an organic solvent, and a warm method of evaporating the solvent after contacting the solution at room temperature or under heating by a method such as immersing the multilayer structure resin particles in the solution,
There is a dry method or the like in which a solution is mechanically coated using a Henschel mixer or the like. The concentration and amount of the surface treatment agent in the solution vary depending on the surface area or physical properties of the multilayer resin particles, or the type of the surface treatment agent or the solvent, but are not particularly limited, but at least the surface treatment is applied to the multilayer resin particles. It requires an amount that can form a monolayer of the agent. As one of preferred embodiments, the specific surface area of the multilayer resin particles is 1
m is about 0.3~100mg about per 2 / g.

【0055】上記表面処理剤にて多層構造樹脂粒子の表
面にパラジウムイオンを担持させる方法としては、上記
表面処理剤とパラジウムイオンとの混合溶液を予め調整
して上記のような処理を行う場合や、予め上記のような
表面処理したあと、次いでパラジウム塩水溶液にて浸漬
やスプレーあるいは浸潤混合操作にて行う場合があげら
れる。溶媒が水の場合には前者の方法にて予めパラジウ
ムイオンを表面処理剤に補足させた溶液で処理する方が
操作上好ましい。なお、いずれの場合にも、可溶性のパ
ラジウム塩の濃度は、好ましくは約0.05〜1.0g
/L程度、より好ましくは約0.05〜0.5g/L程
度である。ここで、可溶性のパラジウム塩としては、例
えば、上述の2価のパラジウム塩が挙げられる。
As a method for supporting palladium ions on the surface of the multilayer resin particles with the surface treatment agent, there are cases where the above-mentioned treatment is carried out by previously preparing a mixed solution of the surface treatment agent and palladium ions. After the above-mentioned surface treatment, there is a case where the immersion, spraying, or infiltration mixing operation is performed with an aqueous palladium salt solution. When the solvent is water, it is preferable in terms of operation that the former method be used to carry out treatment with a solution in which palladium ions are previously captured by a surface treatment agent. In each case, the concentration of the soluble palladium salt is preferably about 0.05 to 1.0 g.
/ L, more preferably about 0.05 to 0.5 g / L. Here, examples of the soluble palladium salt include the above-mentioned divalent palladium salt.

【0056】かくして、多層構造樹脂粒子の表面にパラ
ジウムイオンを担持させた後は溶媒を加熱又は風乾など
所望の方法にて除去して乾燥する。なお、表面処理剤が
加熟において脱水縮合するようなものについては、単に
溶媒の揮散のみならず、約0.5〜3時間程度、約11
0〜130℃で加熱処理をさらに施してキュアリングさ
せることが好ましい。
After the palladium ions are carried on the surfaces of the multilayer resin particles, the solvent is removed by a desired method such as heating or air drying, followed by drying. In the case where the surface treatment agent dehydrates and condenses during ripening, not only the evaporation of the solvent but also about 0.5 to 3 hours and about 11 hours.
It is preferable to further perform a heat treatment at 0 to 130 ° C. for curing.

【0057】多層構造樹脂粒子に対するパラジウムイオ
ンの担持量は、それらの種類や表面処理剤の種類または
使用目的によって一様ではないが、多くの場合パラジウ
ム金属として約0.001〜0.1重量%程度、好まし
くは約0.01%〜0.05重量%の範囲が適当であ
る。
The amount of palladium carried on the resin particles having a multilayer structure is not uniform depending on the kind of the surface treating agent or the purpose of use, but in many cases, about 0.001 to 0.1% by weight of palladium metal. A suitable range is, preferably, about 0.01% to 0.05% by weight.

【0058】多層構造樹脂粒子が、パラジウムイオンを
キレート又は塩として補足できる場合は、上記表面処理
は必要ない。そのような多層構造樹脂粒子としては、ア
ミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、水
酸基、ニトリル基又はカルボキシル基の1種又は2種以
上を最外層の表面に有するものが挙げられる。かかる多
層構造樹脂粒子にパラジウムイオンを担持させるには、
上述の方法と同一の方法を用いてよい。
When the multilayer resin particles can capture palladium ion as a chelate or salt, the above surface treatment is not necessary. Examples of such multilayer resin particles include those having one or more of an amino group, an imino group, an amide group, an imide group, a cyano group, a hydroxyl group, a nitrile group and a carboxyl group on the surface of the outermost layer. . To carry palladium ions on such multilayer resin particles,
The same method as described above may be used.

【0059】通常は、次いで無電解メッキ処理を行う
が、多層構造樹脂粒子に捕捉されたパラジウムを以下で
述べるメッキ液で用いる還元剤により多層構造樹脂粒子
表面を還元させる操作を予め行っておいてもよい。この
還元処理は、パラジウムイオンの捕捉処理後に還元剤を
添加してもよいが、好ましくは捕捉処理後の分離および
水洗したのちに、次のメッキ工程に移行させるために調
製した水性懸濁体に還元剤を溶液として又はそれ自体を
添加して活性化処理を完結させる。還元剤の添加量は、
多層構造樹脂粒子の比表面積により異なるので一様では
ないが、懸濁体に対して約0.01〜10g/L程度が
適当である。この場合、錯化剤が存在している方が好ま
しいが、必ずしも不可欠なものではない。錯化剤として
は、以下で述べるメッキ液で用いる錯化剤を用いてよ
い。また、温度は常温であってもよいし、加温させても
よく、特に限定されるものではない。このような操作を
行うことによって、均一な触媒核が形成されるため、こ
れが次の無電解メッキ工程の作用と相俟って強固な連続
性メッキ金属皮膜を形成することができる。
Normally, an electroless plating treatment is then performed. However, an operation of reducing the surface of the multilayer resin particles with the reducing agent used in the plating solution described below is performed in advance on the palladium captured by the multilayer resin particles. Is also good. In this reduction treatment, a reducing agent may be added after the trapping treatment of the palladium ion, but preferably, after separation and washing after the trapping treatment, the aqueous suspension prepared for the next plating step is transferred to the aqueous suspension. The activation treatment is completed by adding the reducing agent as a solution or itself. The amount of reducing agent added is
It is not uniform because it differs depending on the specific surface area of the multilayer resin particles, but about 0.01 to 10 g / L is appropriate for the suspension. In this case, the presence of a complexing agent is preferred, but not essential. As the complexing agent, a complexing agent used in a plating solution described below may be used. The temperature may be room temperature or may be heated, and is not particularly limited. By performing such an operation, a uniform catalyst nucleus is formed, and this can be combined with the operation of the next electroless plating step to form a strong continuous plating metal film.

【0060】上記のような予備工程を経た後、無電解メ
ッキを行う。無電解メッキするに当り、凝集した多層構
造樹脂粒子に施されたメッキ皮膜は、摩擦下の使用にあ
たり未処理面の露出が生ずることがあるので、これを避
けるべく多層構造樹脂粒子を充分に分散させておくこと
が望ましい。なお、同様の理由で前工程でも、充分な分
散処理が施される方がよい。水性懸濁体の分散性は多層
構造樹脂粒子の物性によって異なるので、分散方法は適
宜所望の手段、例えば、通常攪拌から高速攪拌、あるい
はホモミキサーまたはホモディスパーのような各種分散
材を用い、多層構造樹脂粒子のアグロメレートをできる
だけ除去した一次粒子に近い分散状態の懸濁体を調製す
ることが望ましい。なお、多層構造樹脂粒子を分散させ
るに際し、例えば界面活性剤等の分散剤を所望により用
いることができる。該界面活性剤は当業界で用いられて
いる自体公知のものを用いてよい。
After the preliminary steps as described above, electroless plating is performed. In electroless plating, the plating film applied to the aggregated multilayer resin particles may expose the untreated surface when used under friction, so that the multilayer resin particles are sufficiently dispersed to avoid this. It is desirable to keep it. For the same reason, it is better to perform a sufficient dispersion treatment in the previous step. Since the dispersibility of the aqueous suspension varies depending on the physical properties of the resin particles having a multilayer structure, the dispersion method may be appropriately determined by any desired means, for example, from normal stirring to high-speed stirring, or by using various dispersing materials such as a homomixer or homodisper. It is desirable to prepare a suspension in a dispersed state close to primary particles from which agglomerates of the structural resin particles have been removed as much as possible. In dispersing the multilayer resin particles, a dispersant such as a surfactant can be used as desired. As the surfactant, those known per se used in the art may be used.

【0061】懸濁体の濃度は、特に限定する理由はない
が、スラリー濃度が低いとメッキ濃度が低下するので処
理容量が大となるから経済的でなく、また、逆のその濃
度が濃くなると芯材の分散性が悪くなるので芯材の物性
に応じ適宜所望のスラリー濃度に設定すればよい。多く
の場合約1〜500g/L程度、好ましくは約5〜30
0g/L程度の範囲にある。また、この懸濁体中の多層
構造樹脂粒子をメッキするに当り、メッキが効果的に実
施されるべく懸濁体の温度をメッキ可能温度、多くの場
合、約55℃程度以上に予め調節しておくことが望まし
い。
There is no particular limitation on the concentration of the suspension, but if the slurry concentration is low, the plating concentration will decrease and the processing capacity will increase, which is not economical. Since the dispersibility of the core material deteriorates, a desired slurry concentration may be appropriately set according to the physical properties of the core material. In many cases, about 1 to 500 g / L, preferably about 5 to 30 g / L
It is in the range of about 0 g / L. In plating the resin particles having a multilayer structure in the suspension, the temperature of the suspension is adjusted in advance to a plating temperature, often about 55 ° C. or more, so that plating can be performed effectively. It is desirable to keep.

【0062】次に、多層構造樹脂粒子の水性懸濁体の調
製は、無電解メッキ液を構成する少なくとも1種の薬剤
を含有する水性媒体、特に錯化剤の水溶液を分散媒とし
ておこなうことが好ましい。したがって、第1工程の還
元処理後は特に分離操作を必要としないので、水素ガス
の発生が終了した後そのまま第2工程の操作へ連続的に
移行すればよい。上記において、無電解メッキ液を構成
する成分の少なくとも1種とは、錯化剤、酸又はアルカ
リ剤、界面活性剤を主として指し、所望によりメッキ老
化液を用いることができる。
Next, the aqueous suspension of the resin particles having a multilayer structure is prepared by using an aqueous medium containing at least one agent constituting the electroless plating solution, in particular, an aqueous solution of a complexing agent as a dispersion medium. preferable. Therefore, after the reduction treatment in the first step, a separation operation is not particularly required, so that the operation may be continuously shifted to the operation in the second step as it is after the generation of hydrogen gas is completed. In the above, at least one of the components constituting the electroless plating solution mainly refers to a complexing agent, an acid or alkali agent, and a surfactant, and a plating aging solution can be used if desired.

【0063】該錯化剤は、通常メッキ金属イオンに対し
錯化作用のある化合物をいい、例えばクエン酸、ヒドロ
キシ酢酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸等のカ
ルボン酸またはそのアルカリ金属塩やアンモニウム塩等
のカルボン酸塩、グリシン等のアミノ酸、エチレンジア
ミン、アルキルアミン等のアミン類、その他のアンモニ
ウム、EDTA、ピロリン酸(塩)等が挙げられる。そ
れらは単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよ
い。錯化剤の懸濁体における含有量は、約1〜100g
/L程度、好ましくは約5〜50g/L程度の範囲とす
る。また、酸もしくはアルカリ剤、または界面活性剤
は、当業界で用いられている公知の物質を、公知の割合
で用いてよい。
The complexing agent generally refers to a compound having a complexing effect on plating metal ions, for example, a carboxylic acid such as citric acid, hydroxyacetic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, or an alkali metal salt thereof. Examples include carboxylate such as ammonium salt, amino acid such as glycine, amines such as ethylenediamine and alkylamine, other ammonium, EDTA, pyrophosphate (salt) and the like. They may be used alone or in combination of two or more. The content of the complexing agent in the suspension is about 1 to 100 g.
/ L, preferably about 5 to 50 g / L. In addition, as the acid or alkali agent, or the surfactant, a known substance used in the art may be used in a known ratio.

【0064】また、多層構造樹脂粒子の水性懸濁体のp
Hは4〜14の範囲にあるが、この範囲の設定は、メッ
キ金属、および用いる還元剤の種類によって異なる。一
例を挙げると表1の如くである。
Further, p of the aqueous suspension of the multilayer resin particles is
H is in the range of 4 to 14, but the setting of this range differs depending on the plating metal and the type of reducing agent used. An example is shown in Table 1.

【表1】 [Table 1]

【0065】このようにして調製した多層構造樹脂粒子
の水性懸濁体に、無電解メッキ反応をさせるために予め
調製されたメッキ液を徐々に添加する。この場合、該懸
濁体に無電解メッキ構成液を少なくとも2液にしてそれ
ぞれ個別かつ同時に添加してメッキ反応を行わせること
が好ましい。無電解メッキ構成液としては、金属塩、還
元剤、その他上記した錯化剤、pH調整剤あるいは所望
により添加できる光沢付与剤等が挙げられる。
To the aqueous suspension of resin particles having a multilayer structure thus prepared, a plating solution prepared in advance for causing an electroless plating reaction is gradually added. In this case, it is preferable that at least two electroless plating liquids are separately and simultaneously added to the suspension to carry out a plating reaction. Examples of the electroless plating solution include a metal salt, a reducing agent, the above-mentioned complexing agent, a pH adjusting agent, and a gloss imparting agent that can be added as desired.

【0066】適用できる金属塩としては、例えば、硫酸
ニッケルもしくは塩化ニッケル等のニッケル塩、硫酸銅
もしくは硝酸銅等の銅塩、硫酸コバルト、塩化鉄もしく
は硫酸鉄等の鉄塩、硝酸銀もしくはシアン化銀等の銀
塩、シアン化金もしくは塩化金酸等の金塩、塩化パラジ
ウム等のパラジウム塩、また、所望により亜鉛もしくは
マンガン等の可溶性塩も合金成分として用いることがで
きる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を混合
してもよい。
Examples of applicable metal salts include nickel salts such as nickel sulfate or nickel chloride, copper salts such as copper sulfate or copper nitrate, iron salts such as cobalt sulfate, iron chloride or iron sulfate, silver nitrate or silver cyanide. And the like, a gold salt such as gold cyanide or chloroauric acid, a palladium salt such as palladium chloride, and a soluble salt such as zinc or manganese can be used as an alloy component if desired. These may be used alone or as a mixture of two or more.

【0067】次に還元剤としては、例えば次亜リン酸ナ
トリウム、水酸化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリ
ウム、ジメチルアミンボラン、ヒドラジン又はホルマリ
ン等が用いられる。これらは単独で用いてもよいし、2
種以上を混合してもよい。
Next, as a reducing agent, for example, sodium hypophosphite, sodium borohydride, potassium borohydride, dimethylamine borane, hydrazine or formalin is used. These may be used alone or 2
More than one species may be mixed.

【0068】金属塩と還元剤の添加すべき配合割合はそ
れらの組合せにより異なるため一様ではないが、多くの
場合それらの組合せと適正な配合割合は概ね表2のよう
な関係にあることが好ましい。
The mixing ratios of the metal salt and the reducing agent to be added are not uniform because they differ depending on their combination. preferable.

【表2】 [Table 2]

【0069】薬剤濃度は各薬剤の飽和濃度まででよく特
に限定しないが、薄い場合は経済的でないので下限は実
用上から自ずと限定される。薬剤溶液の添加速度はメッ
キ反応に直接的に影響し、多層構造樹脂粒子の表面積ま
たは物性等に著しく関係するので、これらを考慮しメッ
キ皮膜のむらが生じないよう均一且つ強固な皮膜を形成
させるよう制御して添加することが必要であり、徐々に
定量的に添加する方が好ましい。なお、当然のことなが
ら、所望により攪拌、超音波分散処理などを与えておく
ことが好ましく、また、温度も制御できるように設定し
ておくことが好ましい。
The drug concentration may be up to the saturation concentration of each drug and is not particularly limited. However, if the concentration is low, it is not economical, so the lower limit is naturally limited from practical use. Since the addition rate of the chemical solution directly affects the plating reaction and is significantly related to the surface area or physical properties of the multilayer resin particles, it is necessary to take these factors into consideration so that a uniform and strong film is formed so that the plating film does not become uneven. It is necessary to control the addition, and it is preferable to add it gradually and quantitatively. Needless to say, it is preferable that stirring, ultrasonic dispersion treatment, or the like be applied as required, and that the temperature be set so that it can be controlled.

【0070】無電解メッキ液は、水性懸濁体に添加して
その容量の大小に応じて希釈されるために、通常のメッ
キ液濃度の浴に被メッキ基材である多層構造樹脂粒子を
浸漬処理してメッキ操作を行うのと異なり、通常のメッ
キ液濃度よりも濃い状態で使用することができる。メッ
キ液を添加することにより速やかにメッキ反応が始まる
が、各薬剤が適正な割合で添加されれば添加した金属塩
は全て還元され、多層構造樹脂粒子表面に析出するの
で、添加量に応じてメッキ皮膜の膜厚を任意に調節する
ことができる。
Since the electroless plating solution is added to the aqueous suspension and diluted according to the volume of the electroless plating solution, the resin particles having a multilayer structure, which is a substrate to be plated, are immersed in a bath having a normal plating solution concentration. Unlike the case where the plating operation is performed after the treatment, the plating solution can be used in a state where the concentration is higher than a normal plating solution concentration. The plating reaction starts immediately by adding the plating solution, but if each chemical is added at an appropriate ratio, all the added metal salts are reduced and precipitated on the surface of the multilayer structure resin particles. The thickness of the plating film can be arbitrarily adjusted.

【0071】このようにして得た金属被覆多層構造樹脂
粒子は、更にその上に異種金属を、幾層にも被覆するこ
とができる。この場合、上記のメッキ反応終了後、異種
金属メッキ液を同様の操作で添加してもよいし、又は一
度反応液を分別し、新たな懸濁液を調製して改めて異種
金属メッキ液を添加してもよい。本発明においては、一
層目にニッケルメッキ、引き続き二層目に金メッキを行
うのが好ましく、一層目のニッケルメッキの厚さは約
0.05〜0.3μm程度、二層目の金メッキの厚さは
それより薄く約0.005〜0.05μm程度の範囲で
行われる。
The thus obtained metal-coated multi-layered resin particles can be further coated with different kinds of metals in any number of layers. In this case, after the completion of the plating reaction, the dissimilar metal plating solution may be added by the same operation, or the reaction solution may be separated once, a new suspension may be prepared, and the dissimilar metal plating solution may be added again. May be. In the present invention, it is preferable to perform nickel plating on the first layer and subsequently gold plating on the second layer. The thickness of the first nickel plating is about 0.05 to 0.3 μm, and the thickness of the second layer gold plating is preferably about 0.05 to 0.3 μm. Is performed in a range of about 0.005 to 0.05 μm which is thinner.

【0072】メッキ液の添加終了後、水素ガスの発生が
完全に認められなくなってから、好ましくはなお暫時攪
拌を続けて熟成させ、メッキ反応操作を終了する。次い
で常法により分離、洗浄および乾燥したのち、所望によ
り解砕して導電性多層構造樹脂粒子を得る。
After the completion of the addition of the plating solution, the generation of hydrogen gas is completely stopped. After that, it is preferable to continue stirring for a while to ripen the solution, thereby completing the plating reaction operation. Next, after separation, washing and drying by a conventional method, the resultant is crushed as required to obtain conductive multilayer resin particles.

【0073】導電性多層構造樹脂粒子の10%圧縮強度
は、約0.2〜5.0kg/mm2程度、好ましくは約
0.5〜3.5kg/mm2程度とすることが望ましい。
導電性多層構造樹脂粒子が容易に変形し過ぎて、導電性
多層構造樹脂粒子の周りに存在する接着剤樹脂を押しの
けて接続部位に接触することができず、接続が不安定に
なったり、導電粒子間が短絡して線間絶縁抵抗が保てな
くなる等の不具合を生じるの防ぐため、ITO電極のク
ラック発生を抑制するため、またさらに、わずかの力で
は接続部位に十分に面接触しづらくなり、これにより長
期にわたる接続信頼性に欠けこととなるのを防ぐため、
上記範囲が好ましい。なお、本発明で規定する「10%
圧縮強度」は、通常使用される微小圧縮試験機(島津製
作所株式会社製:MCTM−500)を用いた場合の導
電性多層構造樹脂粒子の粒子径が10%変位したときの
強度を示すものである。
[0073] 10% compressive strength of the conductive multilayer structure resin particles is about 0.2~5.0kg / mm 2, preferably it is desirable to be about 0.5~3.5kg / mm 2 approximately.
The conductive multi-layered structure resin particles are easily deformed too much, so that the adhesive resin existing around the conductive multi-layered structure resin particles cannot be pushed away to come into contact with the connection portion, and the connection becomes unstable or the conductive In order to prevent problems such as a short circuit between particles and loss of insulation resistance between lines, etc. , To prevent this from causing unreliable long-term connectivity,
The above range is preferred. Note that “10%
"Compression strength" indicates the strength when the particle diameter of the conductive multilayer structure resin particles is displaced by 10% when using a commonly used micro compression tester (MCTM-500, manufactured by Shimadzu Corporation). is there.

【0074】導電性多層構造樹脂粒子の復元率は、約5
〜90%程度、好ましくは約10〜60%程度であるこ
とが望ましい。接続に必要な接触圧を高く保つ一方で、
圧縮強度が高まり、異方導電性接着剤の接続に極めて大
きな力が必要となるのを避けるため、上記範囲が好まし
い。なお、本発明で規定する「復元率」とは、前記した
微小圧縮試験機によって測定されるもので、荷重を1g
重かけた後に荷重を除去し、変位がもとへ戻る比率を
「%」で示したものである。詳細に説明すれば、導電性
多層構造樹脂粒子に微小圧縮試験機で荷重をかけていく
と荷重−圧縮変位の関係は、図3に示すように、荷重の
増加とともに圧縮変位が増加し、1g重となった図中A
の点で荷重を除去すると変位が戻る。このときの圧縮変
位aに対する復元量bの比率、すなわち、(b/a)×
100が復元率(%)である。
The restoration rate of the conductive multilayer structure resin particles is about 5
It is desirably about 90%, preferably about 10-60%. While keeping the contact pressure required for connection high,
The above range is preferable to increase the compressive strength and avoid the need for an extremely large force to connect the anisotropic conductive adhesive. The "restoration rate" defined in the present invention is a value measured by the above-mentioned micro-compression tester, and a load of 1 g
The rate at which the load is removed after applying the load and the displacement returns to the original state is indicated by "%". More specifically, when a load is applied to the conductive multi-layered structure resin particles with a micro compression tester, the load-compression displacement relationship shows that the compression displacement increases as the load increases, as shown in FIG. A in the overlapped figure
When the load is removed at the point, the displacement returns. The ratio of the restoration amount b to the compression displacement a at this time, that is, (b / a) ×
100 is the restoration rate (%).

【0075】本発明の異方導電性接着剤は、接着剤を構
成する接着樹脂、前述の導電性多層構造樹脂粒子、及び
各種添加剤から成るものであり、導電性多層構造樹脂粒
子の使用量は、接着剤樹脂成分100重量部に対し通常
約0.1〜20重量部程度、好ましくは約0.5〜15
重量部程度、より好ましくは約1〜10重量部程度であ
る。接続抵抗が高くなるのを避け、接続信頼性を向上さ
せるため、またさらに溶融粘度が上昇し接続するために
非常に高い圧力が必要となるのを避け、接続の異方性を
十分に確保するためには、上記範囲内であることが好ま
しい。
The anisotropic conductive adhesive of the present invention comprises the adhesive resin constituting the adhesive, the above-mentioned conductive multilayer resin particles, and various additives. Is usually about 0.1 to 20 parts by weight, preferably about 0.5 to 15 parts by weight, per 100 parts by weight of the adhesive resin component.
It is about 1 part by weight, more preferably about 1 to 10 parts by weight. To avoid high connection resistance, to improve connection reliability, and to further increase the melt viscosity and avoid the need for very high pressure for connection, ensure sufficient connection anisotropy. For this purpose, it is preferable to be within the above range.

【0076】本発明において用いられる異方導電性接着
剤の接着樹脂成分は、通常、接着剤として用いられてい
るものであれば使用できる。つまり熱可塑性樹脂、熱硬
化性いずれでも加熱によって接着性能が発現するもので
あればよい。具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、カルボキシル変性エチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−イソブチルアクリレート共重合体、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリエステル、ポリビニルエーテル、
ポリビニルブチラール、ポリウレタン、SBSブロック
共重合体、カルボキシル変性SBS共重合体、SIS共
重合体、SEBS共重合体、マレイン酸変性SEBS共
重合体、ポリブタジエンゴム、クロロプレンゴム、カル
ボキシル変性クロロプレンゴム、スチレン−ブタジエン
ゴム、イソブチレン−イソプレン共重合体、アクリロニ
トリル−ブタジエンゴム(以下、NBRと表す。)、カ
ルボキシル変性NBR、アミン変性NBR、エポキシ樹
脂、エポキシエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノール
樹脂またはシリコーン樹脂などから選ばれる1種または
2種以上の組み合わせにより得られるものを主剤として
調整されたものが挙げられる。そのなかで好ましくは熱
可塑性樹脂としてはスチレン−ブタジエンゴムやSEB
Sなどがリワーク性に優れる。熱硬化性樹脂としてはエ
ポキシ樹脂が好ましい。これらのうち接着力が高く、耐
熱性、電気絶縁性に優れ、しかも溶融粘度が低く、低圧
力で接続が可能であるという利点から、エポキシ樹脂が
最も好ましい。
The adhesive resin component of the anisotropic conductive adhesive used in the present invention can be used as long as it is generally used as an adhesive. That is, any of a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be used as long as the adhesive performance is exhibited by heating. Specifically, ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxyl-modified ethylene-vinyl acetate copolymer,
Ethylene-isobutyl acrylate copolymer, polyamide, polyimide, polyester, polyvinyl ether,
Polyvinyl butyral, polyurethane, SBS block copolymer, carboxyl modified SBS copolymer, SIS copolymer, SEBS copolymer, maleic acid modified SEBS copolymer, polybutadiene rubber, chloroprene rubber, carboxyl modified chloroprene rubber, styrene-butadiene 1 selected from rubber, isobutylene-isoprene copolymer, acrylonitrile-butadiene rubber (hereinafter, referred to as NBR), carboxyl-modified NBR, amine-modified NBR, epoxy resin, epoxy ester resin, acrylic resin, phenol resin, or silicone resin Examples include those prepared by using, as a main agent, those obtained by a kind or a combination of two or more kinds. Among them, styrene-butadiene rubber or SEB is preferable as the thermoplastic resin.
S has excellent reworkability. Epoxy resin is preferred as the thermosetting resin. Among these, epoxy resins are most preferred because of their advantages of high adhesive strength, excellent heat resistance and electrical insulation, low melt viscosity, and low pressure connection.

【0077】本発明において用いられる異方導電性接着
剤には、応力緩和剤としてゴム弾性を有する粒子を添加
するのが好ましい。応力緩和剤としてのゴム弾性を有す
る粒子は、接着樹脂硬化物と被接着材との線膨張率の違
いにより生ずる反りを抑え、結果として異方導電性接着
剤の信頼性を高めるものである。ゴム弾性とは、通常は
小さな弾性率かつ大きな破断伸びを有し、大きく変性し
た際にその外力を取り除くと元の大きさに戻る、すなわ
ち復元力を有する材料が持つ性質である。ゴム弾性を有
する粒子としては、例えばシリコーンゴム、アクリルゴ
ム、ウレタンゴム、ブタジエン含有ゴムなどを用いるこ
とができる。また、ゴム状ポリマーからなる層を含んだ
多層構造粒子がハンドリング、さらには一次粒子として
の分散性に優れることによる製造再現性・安定性、コス
ト、応力緩和効果を初めとする総合的な観点から好まし
い。
The anisotropic conductive adhesive used in the present invention preferably contains rubber elastic particles as a stress relaxing agent. The particles having rubber elasticity as the stress relieving agent suppress warpage caused by the difference in the coefficient of linear expansion between the cured adhesive resin and the adherend, and as a result, enhance the reliability of the anisotropic conductive adhesive. Rubber elasticity is a property of a material which usually has a small elastic modulus and a large elongation at break, and returns to its original size when external force is removed when the material is greatly denatured, that is, a material having a restoring force. As the particles having rubber elasticity, for example, silicone rubber, acrylic rubber, urethane rubber, butadiene-containing rubber and the like can be used. In addition, multilayer structure particles including a layer made of rubber-like polymer are handled, and from the comprehensive viewpoint including production reproducibility and stability, cost, and stress relaxation effect due to excellent dispersibility as primary particles. preferable.

【0078】本発明にかかるゴム弾性を有する多層構造
粒子は、少なくとも1層がゴム弾性を有するゴム状ポリ
マーからなる多層構造粒子であって、例えば、トルエン
可溶分が5%以下で、かつトルエン膨潤度が50〜50
0%であることを特徴とする多層構造粒子が好ましい。
The rubber-elastic multilayer structure particles according to the present invention are multilayer particles having at least one layer made of a rubber-like polymer having rubber elasticity. Swelling degree 50-50
Multilayer particles characterized by 0% are preferred.

【0079】本発明におけるゴム弾性を有する多層構造
粒子は、例えば先の段階の重合体の存在下、後の段階の
重合体が順次にシード重合するような連続した多段階乳
化重合法によって得ることができる。具体的には、まず
乳化重合によってシードラテックスを調製し、次いで、
シード重合により1層目を合成し、さらにシード重合を
繰り返すことにより2層目以降を形成し多層構造粒子を
得ることができる。
The multi-layered particles having rubber elasticity according to the present invention can be obtained, for example, by a continuous multi-stage emulsion polymerization method in which the polymer of the subsequent stage is sequentially subjected to seed polymerization in the presence of the polymer of the previous stage. Can be. Specifically, first, a seed latex is prepared by emulsion polymerization, and then
The first layer is synthesized by seed polymerization, and the second and subsequent layers are formed by repeating seed polymerization to obtain multilayer structure particles.

【0080】以下ゴム弾性を有する多層構造粒子の製造
について詳細に述べる。ただし、以下の構造のゴム弾性
を有する多層構造粒子は、本発明の一態様であり、これ
に限定されないことはいうまでもない。まず、室温25
℃において、1層目がゴム状ポリマーであって、2層目
がガラス状ポリマーからなる2層構造粒子の製造につい
て述べる。はじめにシード粒子の重合は要求特性に応じ
た単量体を一括添加し、乳化重合することにより行われ
る。単量体としてはメチルメタクリレート、エチルアク
リレートが好ましい。
Hereinafter, the production of the multilayer particles having rubber elasticity will be described in detail. However, it is needless to say that the multilayer particles having rubber elasticity having the following structure are one embodiment of the present invention and are not limited thereto. First, room temperature 25
The production of particles having a two-layer structure in which the first layer is a rubber-like polymer and the second layer is a glass-like polymer at ° C will be described. First, the polymerization of the seed particles is performed by adding a monomer corresponding to the required characteristics all at once and emulsion-polymerizing. As the monomer, methyl methacrylate and ethyl acrylate are preferable.

【0081】1層目の重合はシードラテックスの存在
下、ゴム状ポリマーを形成する単量体を乳化重合させ
る。ゴム弾性を有する粒子としての特性をより発揮する
ため、1層目を構成するポリマーのガラス転移温度は約
25℃以下、中でも−10℃以下が好ましい。ここでガ
ラス転移温度とは、動的な粘弾性測定におけるtanδ
のピーク値の温度をいう。
In the polymerization of the first layer, monomers forming a rubbery polymer are emulsion-polymerized in the presence of seed latex. In order to further exhibit the characteristics as particles having rubber elasticity, the polymer constituting the first layer has a glass transition temperature of about 25 ° C. or lower, preferably −10 ° C. or lower. Here, the glass transition temperature is tan δ in dynamic viscoelasticity measurement.
Refers to the temperature of the peak value.

【0082】この1層目の乳化重合において用いるゴム
状ポリマーを形成する単量体の主要成分としては共役ジ
エンまたはアルキル基の炭素数が2〜8であるアルキル
アクリレートまたはこれらの混合物が好ましい。共役ジ
エンとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン
等を挙げることができるが、特に、ブタジエンが好まし
い。アルキル基の炭素数が2〜8である上記アルキルア
クリレートとしては、エチルアクリレート、プロピルア
クリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアク
リレート、2−エチルヘキシルアクリレート等を挙げる
ことができるが、特に、ブチルアクリレートが好まし
い。
The main component of the monomer forming the rubbery polymer used in the emulsion polymerization of the first layer is preferably a conjugated diene, an alkyl acrylate having an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, or a mixture thereof. Examples of the conjugated diene include butadiene, isoprene, chloroprene, and the like, with butadiene being particularly preferred. Examples of the alkyl acrylate having an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms include ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate, with butyl acrylate being particularly preferred.

【0083】この1層目の重合においては、上記共役ジ
エンもしくはアルキルアクリレート又はこれらの混合物
と共に、これらに共重合可能な単量体、例えばスチレ
ン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビ
ニルまたは芳香族ビニリデン;アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル等のシアン化ビニルまたはシアン化ビニ
リデン;メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート
等のアルキルメタクリレート;ベンジルアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、ベンジルメタクリレー
ト等の芳香族(メタ)アクリレート等を共重合させるこ
ともできる。また、エポキシ基、カルボキシル基、水酸
基、アミノ基などの官能基を持った単量体を共重合させ
ることもできる。たとえばエポキシ基を持つ単量体とし
ては、グリシジルメタクリレートが挙げられ、カルボキ
シル基を持つ単量体としては、メタクリル酸、アクリル
酸、マレイン酸もしくはイタコン酸が挙げられる。ま
た、水酸基を持つ単量体としては、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレートもしくは2−ヒドロキシエチルアクリ
レートが挙げられる。
In the polymerization of the first layer, together with the conjugated diene or alkyl acrylate or a mixture thereof, a monomer copolymerizable therewith, for example, aromatic vinyl such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene or the like. Aromatic vinylidene; vinyl cyanide or vinylidene cyanide such as acrylonitrile and methacrylonitrile; alkyl methacrylate such as methyl methacrylate and butyl methacrylate; benzyl acrylate;
Aromatic (meth) acrylates such as phenoxyethyl acrylate and benzyl methacrylate can be copolymerized. Further, a monomer having a functional group such as an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, or an amino group can be copolymerized. For example, a monomer having an epoxy group includes glycidyl methacrylate, and a monomer having a carboxyl group includes methacrylic acid, acrylic acid, maleic acid or itaconic acid. Examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-hydroxyethyl acrylate.

【0084】本発明においては、1層目の重合での共役
ジエンの使用にかかわらず共重合性単量体として、架橋
性単量体及びグラフト性単量体の使用は特に好ましく、
これにより溶媒、高分子溶液および液状樹脂中でのより
良好な分散を得ることができる。架橋性単量体は、通常
はビニル基等の複数の同種の重合性基を有し、これらが
反応に関与する単量体をさし、グラフト性単量体は、通
常はアリル基とアクリロイル基の組み合わせのように反
応性の異なる複数の重合性基を有し、これらが反応に関
与する単量体をさす。
In the present invention, it is particularly preferable to use a crosslinkable monomer and a graftable monomer as the copolymerizable monomer regardless of the use of the conjugated diene in the polymerization of the first layer.
Thereby, better dispersion in the solvent, the polymer solution and the liquid resin can be obtained. The crosslinkable monomer usually has a plurality of the same type of polymerizable groups such as a vinyl group, and refers to a monomer which participates in the reaction. It has a plurality of polymerizable groups having different reactivities, such as a combination of groups, and refers to monomers that participate in the reaction.

【0085】上記架橋性単量体としては、ジビニルベン
ゼン等の芳香族ジビニル化合物、エチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ブチレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオール
ジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、
オリゴエチレングリコールジアクリレート、オリゴエチ
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート等のアルカ
ンポリオールポリアクリレートまたはアルカンポリオー
ルポリメタクリレート等を挙げることができるが、特
に、ブチレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオ
ールジアクリレートが好ましく用いられる。このような
架橋性単量体は、1層目の重合において用いる全単量体
量の約0.2〜10.0重量%程度、好ましくは約0.
2〜4.0重量%程度の範囲で用いることができる。
Examples of the crosslinking monomer include aromatic divinyl compounds such as divinylbenzene, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and the like.
Butylene glycol diacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate,
Oligoethylene glycol diacrylate, oligoethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate,
Examples thereof include alkane polyol polyacrylates such as trimethylolpropane trimethacrylate, and alkane polyol polymethacrylates. In particular, butylene glycol diacrylate and hexanediol diacrylate are preferably used. Such a crosslinkable monomer is used in an amount of about 0.2 to 10.0% by weight, preferably about 0.2% by weight, based on the total amount of monomers used in the polymerization of the first layer.
It can be used in the range of about 2 to 4.0% by weight.

【0086】グラフト性単量体として、例えばアリルア
クリレート、アリルメタクリレート、ジアリルマレー
ト、ジアリルフマレート、ジアリルイタコネート等の不
飽和カルボン酸アリルエステル等を挙げることができる
が、特にアリルメタクリレートが好ましく用いられる。
このようなグラフト性単量体は、1層目の重合において
用いる全単量体量の約0.2〜10.0重量%程度、好
ましくは約0.2〜4.0重量%程度の範囲で用いるこ
とができる。
Examples of the grafting monomer include allyl acrylate, allyl methacrylate, diallyl maleate, diallyl fumarate, diallyl itaconate, and other unsaturated carboxylic acid allyl esters. Particularly, allyl methacrylate is preferably used. Can be
Such a grafting monomer is in the range of about 0.2 to 10.0% by weight, preferably about 0.2 to 4.0% by weight, based on the total amount of monomers used in the polymerization of the first layer. Can be used.

【0087】次に2層目の重合は、上述したように1層
目のゴム状ポリマーラテックスを調製した後、その存在
下、ガラス状ポリマーを形成する単量体を用いて行わ
れ、ガラス転移温度約40℃以上、好ましくは約60℃
以上を有するガラス状ポリマーを最外層に形成すること
ができる。
Next, the polymerization of the second layer is carried out by preparing a rubber-like polymer latex of the first layer as described above and then using a monomer forming a glassy polymer in the presence of the rubber-like polymer latex. Temperature about 40 ° C or higher, preferably about 60 ° C
The glassy polymer having the above can be formed in the outermost layer.

【0088】ガラス状ポリマーを形成する単量体として
はメチルメタクリレートまたはスチレンと、これらと共
重合可能な単量体が好ましく用いられる。メチルメタク
リレートまたはスチレンと共重合可能な単量体として、
エチルアクリレートもしくはブチルアクリレート等のア
ルキルアクリレート;エチルメタクリレートもしくはブ
チルメタクリレート等のアルキルメタクリレート;ビニ
ルトルエンもしくはα−メチルスチレン等の芳香族ビニ
ルまたは芳香族ビニリデン;アクリロニトリルもしくは
メタクリロニトリル等のシアン化ビニルまたはシアン化
ビニリデン等のビニル重合性単量体を挙げることができ
るが、特に、エチルアクリレート又はアクリロニトリル
が好ましく用いられる。また、エポキシ基、カルボキシ
ル基、水酸基、アミノ基などの官能基を持った単量体を
共重合させることができる。たとえばエポキシ基を持つ
単量体としては、グリシジルメタクリレートが挙げら
れ、カルボキシル基を持つ単量体としては、メタクリル
酸、アクリル酸、マレイン酸もしくはイタコン酸が挙げ
られる。また、水酸基を持つ単量体としては、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレートもしくは2−ヒドロキシエ
チルアクリレートが挙げられる。
As the monomer forming the glassy polymer, methyl methacrylate or styrene and a monomer copolymerizable therewith are preferably used. As a monomer copolymerizable with methyl methacrylate or styrene,
Alkyl acrylates such as ethyl acrylate or butyl acrylate; alkyl methacrylates such as ethyl methacrylate or butyl methacrylate; aromatic vinyl or aromatic vinylidene such as vinyl toluene or α-methylstyrene; vinyl cyanide or cyanide such as acrylonitrile or methacrylonitrile A vinyl polymerizable monomer such as vinylidene can be used, and in particular, ethyl acrylate or acrylonitrile is preferably used. Further, a monomer having a functional group such as an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, or an amino group can be copolymerized. For example, a monomer having an epoxy group includes glycidyl methacrylate, and a monomer having a carboxyl group includes methacrylic acid, acrylic acid, maleic acid or itaconic acid. Examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-hydroxyethyl acrylate.

【0089】2層目の重合においても、共重合性単量体
として、架橋性単量体を少量用いることによって、より
高い分散性を有する多層構造粒子を得ることができる。
架橋性単量体を用いる場合は、前述の架橋性単量体を2
層目の重合に用いる全単量体量の約5.0重量%程度以
下、特に約0.1〜2.0重量%程度用いることが好ま
しい。
Also in the polymerization of the second layer, a multilayer structure particle having higher dispersibility can be obtained by using a small amount of a crosslinking monomer as a copolymerizable monomer.
When a crosslinkable monomer is used, the aforementioned crosslinkable monomer is
It is preferable to use about 5.0% by weight or less, especially about 0.1 to 2.0% by weight of the total amount of monomers used for the polymerization of the layer.

【0090】本発明に係る多層構造粒子において、ゴム
状ポリマーからなる1層目は、多層構造粒子全体に対し
て40重量%〜90重量%が好ましい。
In the multilayer particles according to the present invention, the first layer made of a rubbery polymer is preferably 40% by weight to 90% by weight based on the whole multilayer structure particles.

【0091】多層構造粒子の製造において、上記単量体
の乳化重合に用いる重合開始剤としては、例えば過硫酸
ナトリウムもしくは過硫酸カリウム等の過硫酸塩系重合
開始剤;アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾ
ビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩、2,2’−ア
ゾビス((2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパ
ン)もしくはメチルプロパンイソ酪酸ジメチル等のアゾ
系重合開始剤;クメンハイドロパーオキサイド、ジイソ
プロピルベンゼンハイドロパーオキサイド等の有機過酸
化物系開始剤を挙げることができる。また、重合に用い
る界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウムもしくはナトリウムジオクチルスルホサクシネ
ート等のアニオン性界面活性剤;ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテルもしくはポリオキシエチレンモノ
ステアレートなどのノニオン性界面活性剤を挙げること
ができる。
In the production of the particles having a multilayer structure, examples of the polymerization initiator used for emulsion polymerization of the above monomers include persulfate polymerization initiators such as sodium persulfate and potassium persulfate; azobisisobutyronitrile; Azo-based polymerization initiators such as 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-azobis ((2- (2-imidazolin-2-yl) propane) or dimethyl methylpropaneisobutyrate Organic peroxide initiators such as cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, etc. Examples of the surfactant used for polymerization include sodium dodecylbenzenesulfonate and sodium dioctylsulfosuccinate. Anionic surfactant; polyoxyethylene nonylphenyl ether Or it can be exemplified nonionic surfactants such as polyoxyethylene monostearate.

【0092】次に、1層目がガラス状ポリマー、2層目
がゴム状ポリマー、3層目がガラス状ポリマーからなる
3層構造粒子の製造について述べる。ここで、ガラス状
ポリマーの組成またはゴム状ポリマーの組成は、前述し
た各々のポリマーの組成と同一のものを用いることがで
きる。
Next, the production of three-layer structured particles in which the first layer is a glassy polymer, the second layer is a rubbery polymer, and the third layer is a glassy polymer will be described. Here, the composition of the glassy polymer or the composition of the rubbery polymer may be the same as the composition of each polymer described above.

【0093】まず1層目の重合は、前述のシードラテッ
クスの存在下ガラス状ポリマーを形成する単量体を用い
て行われ、ガラス転移温度が約40℃以上、好ましくは
約60℃以上を有するガラス状ポリマーを1層目に形成
することが好ましい。
First, the polymerization of the first layer is carried out using a monomer which forms a glassy polymer in the presence of the aforementioned seed latex, and has a glass transition temperature of about 40 ° C. or higher, preferably about 60 ° C. or higher. Preferably, the glassy polymer is formed in the first layer.

【0094】続いて2層目の重合は1層目ガラス状ポリ
マーラテックスの存在下、ゴム状ポリマーを形成する単
量体を乳化重合させる。2層目を構成するポリマーとし
てのガラス転移温度は約25℃以下、好ましくは約−1
0℃以下である。
Subsequently, in the polymerization of the second layer, a monomer forming a rubbery polymer is emulsion-polymerized in the presence of the glassy polymer latex of the first layer. The glass transition temperature of the polymer constituting the second layer is about 25 ° C. or less, preferably about −1
0 ° C. or less.

【0095】最後に3層目の重合は、上述したように2
層ラテックスの存在下、ガラス状ポリマーを形成する単
量体を用いて行われ、ガラス転移温度約40℃以上、好
ましくは約60℃以上を有するガラス状ポリマーを最外
層に形成することが好ましい。
Finally, the polymerization of the third layer is carried out as described above.
It is preferably carried out in the presence of a layer latex using a monomer which forms a glassy polymer, and forms a glassy polymer having a glass transition temperature of about 40 ° C. or higher, preferably about 60 ° C. or higher in the outermost layer.

【0096】このように製造された3層構造粒子におい
て、ゴム状ポリマーからなる2層目が3層構造粒子全体
に対して約30重量%〜80重量%程度であることが好
ましく、一層目:二層目:三層目=10〜50:30〜
80:10〜60(重量比)程度が好ましい。
In the thus-produced three-layer structured particles, the second layer composed of the rubbery polymer preferably accounts for about 30% to 80% by weight based on the entire three-layer structured particles. Second layer: Third layer = 10 to 50:30
It is preferably about 80:10 to 60 (weight ratio).

【0097】本発明に係るゴム弾性を有する多層構造粒
子は、4層以上であっても良い。ただしゴム状ポリマー
からなる層が少なくとも1層以上存在しなければなら
ず、最外層はガラス状ポリマーからなることが好まし
い。またゴム状ポリマーからなる層の重量割合が、多層
構造粒子全体に対し約30重量%〜80重量%程度であ
ることが好ましい。
The multilayer particles having rubber elasticity according to the present invention may have four or more layers. However, at least one layer made of a rubbery polymer must be present, and the outermost layer is preferably made of a glassy polymer. Further, the weight ratio of the layer made of the rubbery polymer is preferably about 30% by weight to 80% by weight with respect to the whole multilayer structure particles.

【0098】このようにして製造された多層構造粒子の
粒子径は特に制限ないが、通常約100〜1000nm
程度、好ましくは約120〜750nm程度である。
The particle size of the thus-produced multilayer structure particles is not particularly limited, but is usually about 100 to 1000 nm.
Degree, preferably about 120 to 750 nm.

【0099】本発明に係るゴム弾性を有する多層構造粒
子は、トルエン可溶分が5%以下で、かつトルエン膨潤
度が50〜500%であることが好ましい。ここでトル
エン可溶分とは一定量の多層構造粒子を20倍量のトル
エンに浸漬させた際にトルエン中に溶出した成分のもと
の多層構造粒子に対する重量比をいう。またトルエン膨
潤度とは一定量の多層構造粒子を10倍量のトルエンに
浸漬し、一定時間経過後の膨潤による体積増加量を表
す。
The rubber elastic multilayer particles according to the present invention preferably have a toluene-soluble content of 5% or less and a toluene swelling degree of 50 to 500%. The term "toluene-soluble component" as used herein refers to the weight ratio of components eluted in toluene when a certain amount of multilayer structure particles are immersed in 20 times the amount of toluene, relative to the original multilayer structure particles. Further, the degree of toluene swelling indicates a volume increase due to swelling after a certain amount of time when a certain amount of the multilayer particles is immersed in 10 times the amount of toluene.

【0100】乳化重合終了後、ゴム弾性を有する多層構
造粒子に滑剤および/または無機粒子の乳化液、もしく
は懸濁液を添加してもよい。本発明における多層構造粒
子と滑剤および/または無機粒子との混合割合は、多層
構造粒子100重量部に対し、滑剤および/または無機
粒子約0.3〜10重量部程度が好ましい。
After the completion of the emulsion polymerization, an emulsion or suspension of lubricant and / or inorganic particles may be added to the multilayer particles having rubber elasticity. In the present invention, the mixing ratio of the multilayer structure particles and the lubricant and / or inorganic particles is preferably about 0.3 to 10 parts by weight of the lubricant and / or inorganic particles with respect to 100 parts by weight of the multilayer structure particles.

【0101】滑剤としては、流動パラフィン、パラフィ
ンワックス、マイクロワックスもしくはポリエチレンワ
ックス等の炭化水素系ワックス;ステアリン酸、12−
ヒドロキシステアリン酸もしくはステアリルアルコール
等の脂肪酸高級アルコール系ワックス;ステアリン酸ア
ミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、メチレンビ
スステアリン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミ
ドもしくはエチレンビスオレイン酸アミド等のアミド系
ワックス;ステアリン酸ブチル、ステアリン酸モノグリ
セリド、ペンタエリスリトールテトラステアレート、硬
化ひまし油もしくはステアリルステアレート等のエステ
ル系ワックス;ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸
亜鉛、ステアリン酸マグネシウムもしくはステアリン酸
鉛等の金属石鹸等が用いられる。
Examples of the lubricant include hydrocarbon waxes such as liquid paraffin, paraffin wax, micro wax and polyethylene wax; stearic acid, 12-
Fatty acid higher alcohol waxes such as hydroxystearic acid or stearyl alcohol; amide waxes such as stearic acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, methylenebisstearic acid amide, ethylenebisstearic acid amide or ethylenebisoleic acid amide; stearin Ester waxes such as butyl acid, monoglyceride stearate, pentaerythritol tetrastearate, hydrogenated castor oil and stearyl stearate; and metal soaps such as calcium stearate, zinc stearate, magnesium stearate and lead stearate are used.

【0102】無機粒子としては、アルミナなどのアルミ
ニウム化合物、炭酸カルシウムなどのカルシウム化合
物、酸化チタンなどのチタン化合物、またはコロイダル
シリカなどのシリコン化合物等が用いられる。
As the inorganic particles, aluminum compounds such as alumina, calcium compounds such as calcium carbonate, titanium compounds such as titanium oxide, and silicon compounds such as colloidal silica are used.

【0103】本発明の多層構造粒子は、上記のように製
造し、これを凍結融解して粒子を分離した後、遠心脱
水、乾燥して、粒状、フレーク状または粉体として取り
出すことができる。スプレー・ドライヤーによる噴霧乾
燥や塩析による多層構造粒子の取り出し方法もあるが、
不純物の混入を嫌う電気・電子材料等において使用する
場合は、凍結融解を経る方法が好ましい。
The multilayer structured particles of the present invention can be produced as described above, freeze-thawed to separate the particles, centrifugally dehydrated, dried, and taken out as granules, flakes or powder. There are also methods of removing multi-layer particles by spray drying with a spray dryer or salting out,
When used in electric / electronic materials or the like which do not like inclusion of impurities, a method through freeze-thawing is preferable.

【0104】本発明に係る異方導電性接着剤には、その
他に、粘着付与剤、反応性助剤、金属酸化物、光開始
剤、増感剤、硬化剤、加硫剤、劣化防止剤、耐熱添加
剤、熱伝導向上剤、軟化剤、着色剤、各種カップリング
剤または金属不活性剤などを適宜添加してもよい。粘着
付与剤としては、例えばロジン、ロジン誘導体、テルペ
ン樹脂、テルペンフェノール樹脂、石油樹脂、クマロン
−インデン樹脂、スチレン系樹脂、イソプレン系樹脂、
アルキルフェノール樹脂、キシレン樹脂などが挙げられ
る。反応性助剤すなわち架橋剤としては、例えばポリオ
ール、イソシアネート類、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウ
トロピン類、アミン類、酸無水物、過酸化物などが挙げ
られる。
The anisotropic conductive adhesive according to the present invention further includes a tackifier, a reactive auxiliary, a metal oxide, a photoinitiator, a sensitizer, a curing agent, a vulcanizing agent, and a deterioration inhibitor. A heat-resistant additive, a heat conduction improver, a softener, a coloring agent, various coupling agents, a metal deactivator, and the like may be appropriately added. Examples of the tackifier include rosin, rosin derivative, terpene resin, terpene phenol resin, petroleum resin, cumarone-indene resin, styrene resin, isoprene resin,
Examples thereof include an alkylphenol resin and a xylene resin. Examples of the reactive auxiliary agent, that is, a crosslinking agent, include polyols, isocyanates, melamine resins, urea resins, utropines, amines, acid anhydrides, peroxides, and the like.

【0105】本発明の異方導電性接着剤は、通常、当業
者間において広く使用されている製造装置を用い、本発
明の導電性多層構造樹脂粒子、接着剤樹脂成分、硬化
剤、さらに所望により各種添加剤を配合し、接着性樹脂
成分が熱硬化性樹脂の場合は有機溶媒中で混合すること
により、熱可塑性樹脂の場合は接着剤樹脂成分の軟化点
以上の温度、具体的には約50〜130℃程度、好まし
くは約60〜110℃程度で溶融混練することにより製
造される。
The anisotropic conductive adhesive of the present invention is usually prepared by using a production apparatus widely used by those skilled in the art, and the conductive multilayer resin particles of the present invention, the adhesive resin component, the curing agent, By blending various additives, by mixing in an organic solvent when the adhesive resin component is a thermosetting resin, in the case of a thermoplastic resin, a temperature equal to or higher than the softening point of the adhesive resin component, specifically, It is manufactured by melt-kneading at about 50 to 130 ° C, preferably about 60 to 110 ° C.

【0106】[0106]

【実施例】実施例、比較例中に用いる略語は下記の通り
である。 単量体 n−ブチルアクリレート BA メチルメタクリレート MMA エチルアクリレート EA スチレン SM 架橋性単量体 1,4−ブチレングリコールジアクリレート BGA ジビニルベンゼン DVB グラフト性単量体 アリルメタクリレート ALMA 分散剤 ケン化度88%ポリビニルアルコール PVA リン酸三カルシウム TCP その他 ジオクチルスルホコハク酸エステルナトリウム塩 SSS 脱イオン水 DIW 炭酸水素ナトリウム SHC 過硫酸ナトリウム SPS ラウロイルパーオキサイド LPO 2,2’−アゾビスイソブチロニトリル AIBN 電荷制御剤 P−53 (オリエント化学工業株式会社 製 第4級アンモニウム塩) 変性アクリル樹脂 BR−77 (三菱レイヨン株式会社 製 カルボキシル基変性アクリル樹脂)
The abbreviations used in the examples and comparative examples are as follows. Monomer n-butyl acrylate BA methyl methacrylate MMA ethyl acrylate EA styrene SM crosslinkable monomer 1,4-butylene glycol diacrylate BGA divinylbenzene DVB graftable monomer allyl methacrylate ALMA dispersant saponification degree 88% polyvinyl alcohol PVA Tricalcium phosphate TCP Other Dioctyl sulfosuccinate sodium salt SSS Deionized water DIW Sodium bicarbonate SHC Sodium persulfate SPS Lauroyl peroxide LPO 2,2'-azobisisobutyronitrile AIBN Charge control agent P-53 (Orient Chemical Industry Co., Ltd. Quaternary ammonium salt) Modified acrylic resin BR-77 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. carboxyl group-modified acrylic resin)

【0107】また、式(1)により各層のTgを計算す
る際、各成分の単独重合体のTgとして、以下の値を用
いている。 BA −40℃ MMA 130℃ EA −24℃ SM 105℃ BGA 100℃ DVB 100℃ ALMA 100℃
In calculating the Tg of each layer according to the formula (1), the following values are used as the Tg of the homopolymer of each component. BA -40 ° C MMA 130 ° C EA -24 ° C SM 105 ° C BGA 100 ° C DVB 100 ° C ALMA 100 ° C

【0108】〔重量平均粒子径の測定方法〕懸濁重合あ
るいは分散重合により合成した多層構造樹脂粒子につい
ては、コールターマルチサイザーII(ベックマン・コー
ルター株式会社製)を用い、電気抵抗法により測定し
た。また、乳化重合により合成した多層構造粒子につい
ては、大塚電子(株)製 動的光散乱測定装置(LPA
−3000/LPA−3100)を用い、動的光散乱法
により測定した。
[Method of Measuring Weight Average Particle Size] Multilayer resin particles synthesized by suspension polymerization or dispersion polymerization were measured by an electric resistance method using Coulter Multisizer II (manufactured by Beckman Coulter, Inc.). For multilayer particles synthesized by emulsion polymerization, a dynamic light scattering measurement device (LPA manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.)
-3000 / LPA-3100) using a dynamic light scattering method.

【0109】〔10%圧縮強度、復元率の測定〕微小圧
縮試験機MCTM−500(島津製作所株式会社製)を
用い、10%圧縮強度は試験モード;1(圧縮試験)、
試験荷重;50g重、変位フルスケール;50μm、圧
子;平面50μmφ、負荷速度1.975g重/sec
という条件で測定した。 復元率は試験モード;2(負荷・除荷試験)、反転荷
重;1.00g重、負荷速度;0.455g重/se
c、変位フルスケール;50μm、圧子;平面50μm
φ、原点用荷重;0.10g重という条件で測定した。
[Measurement of 10% Compressive Strength and Restoration Ratio] Using a micro compression tester MCTM-500 (manufactured by Shimadzu Corporation), the 10% compressive strength was set in a test mode: 1 (compression test).
Test load: 50 g weight, displacement full scale: 50 μm, indenter: plane 50 μmφ, loading speed 1.975 g weight / sec
It was measured under the following conditions. Restoration rate is test mode: 2 (load / unload test), reversal load: 1.00 g weight, loading speed: 0.455 g weight / sec
c, displacement full scale; 50 μm, indenter; plane 50 μm
φ, load for origin; measured under the condition of 0.10 g weight.

【0110】〔実施例1〕 導電性多層構造樹脂粒子Aの製造 7リットル重合容器内にDIW 2870gおよび5%
PVA水溶液 430gを加え、TKホモミキサー(特
殊機化工業株式会社製)により11000rpmで攪拌
を行ないながら、あらかじめ重合開始剤としてLPO
14.6gを溶解した、MMA 595g、BA 34
1g、BGA 19.5g、ALMA19.5gからな
る単量体混合液を一括で添加した。さらに一時間分散処
理を行い単量体液滴を得た。この容器に撹拌機および還
流冷却器を取り付け、窒素気流下で攪拌しながら55℃
に昇温した。そのまま2時間反応を行った後、60℃に
昇温し、以下に示す二層目を形成する単量体乳化液を1
0分かけて連続的に添加した。 〔二層目を形成する単量体乳化液〕 MMA 451.5g EA 52.5g BGA 10.5g AIBN 10.5g 1%SSS水溶液 210.0g 1%SHC水溶液 52.5g DIW 105.0g
Example 1 Production of Conductive Multilayer Structure Resin Particles A In a 7 liter polymerization vessel, 2870 g of DIW and 5%
430 g of an aqueous PVA solution was added, and while stirring at 11,000 rpm with a TK homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.), LPO was used as a polymerization initiator in advance.
14.6 g dissolved, 595 g MMA, BA 34
A monomer mixture consisting of 1 g, 19.5 g of BGA, and 19.5 g of ALMA was added all at once. Further, dispersion treatment was performed for one hour to obtain monomer droplets. This vessel was equipped with a stirrer and a reflux condenser, and was stirred at 55 ° C. under a nitrogen stream.
The temperature rose. After the reaction was continued for 2 hours, the temperature was raised to 60 ° C., and the monomer emulsion for forming the second layer shown below was added to 1
Added continuously over 0 minutes. [Monomer emulsion forming the second layer] MMA 451.5 g EA 52.5 g BGA 10.5 g AIBN 10.5 g 1% SSS aqueous solution 210.0 g 1% SHC aqueous solution 52.5 g DIW 105.0 g

【0111】重合が始まり発熱ピークが観測された時点
で80℃まで昇温し、2時間熟成反応を行った。得られ
た懸濁液から25%水酸化ナトリウム水溶液および35
%過酸化水素水によりPVAを除去し、室温まで冷却し
た後遠心機を用いて脱水洗浄し、γ―アミノプロピルト
リメトキシシラン1.5gをメタノール13.5gに溶
解したものを、均質に振りかけ十分に混合した。更に6
0℃にて一昼夜送風乾燥し、200メッシュの篩にかけ
ることにより、多層構造樹脂粒子1350gを得た。引
き続き、分級機 ターボプレックス50ATP(ホソカ
ワミクロン株式会社製)により空気分級を行い、無電解
ニッケルメッキを0.1μm厚、無電解金メッキを0.
02μm厚で施し、金属被覆多層構造樹脂粒子Aを得
た。この金属被覆多層構造樹脂粒子Aの重量平均粒子径
は、4.9μmで、粒子径分布dw/dnは、1.14
であった。また、金属被覆多層構造樹脂粒子Aの(1)
式より求められるTgは第一層が47℃、第二層が10
5℃である。
When the polymerization started and an exothermic peak was observed, the temperature was raised to 80 ° C., and an aging reaction was performed for 2 hours. 25% aqueous sodium hydroxide solution and 35%
After removing PVA with aqueous hydrogen peroxide solution, cooling to room temperature, washing with dehydration using a centrifuge, and dissolving 1.5 g of γ-aminopropyltrimethoxysilane in 13.5 g of methanol, sprinkle uniformly and sufficiently. Was mixed. 6 more
It was blast-dried at 0 ° C. all day and night and sieved through a 200-mesh sieve to obtain 1350 g of multilayer-structured resin particles. Subsequently, air classification was performed using a classifier Turboplex 50ATP (manufactured by Hosokawa Micron Corporation), and 0.1 μm thick electroless nickel plating and 0.1 μm electroless gold plating.
The coating was performed at a thickness of 02 μm to obtain metal-coated multilayer structure resin particles A. The weight average particle diameter of the metal-coated multilayer structure resin particles A is 4.9 μm, and the particle diameter distribution dw / dn is 1.14.
Met. Further, (1) of the metal-coated multilayer structure resin particles A
The Tg obtained from the equation is 47 ° C. for the first layer and 10 ° C. for the second layer.
5 ° C.

【0112】〔実施例2〕 導電性多層構造樹脂粒子Bの製造 分散重合により調製した以外は実施例1と同様にして金
属被覆多層構造樹脂粒子Bを得た。この金属被覆多層構
造樹脂粒子Bの重量平均粒子径は、4.8μmで、粒子
径分布dw/dnは、1.07であった。また、金属被
覆多層構造樹脂粒子Bの(1)式より求められるTgは
第一層が47℃、第二層が105℃である。
Example 2 Production of Conductive Multilayer Structure Resin Particles B Metal-coated multilayer structure resin particles B were obtained in the same manner as in Example 1 except that the particles were prepared by dispersion polymerization. The weight average particle diameter of the metal-coated multilayer structure resin particles B was 4.8 μm, and the particle diameter distribution dw / dn was 1.07. In addition, the Tg of the metal-coated multilayer structure resin particles B obtained from the equation (1) is 47 ° C. for the first layer and 105 ° C. for the second layer.

【0113】〔実施例3〕 導電性多層構造樹脂粒子Cの製造 表1に示す組成の3層多層構造樹脂粒子とし、以下に記
載する3点以外は実施例1同様にして金属被覆多層構造
樹脂粒子Cを得た。 分散安定剤としてはTCPを単量体100重量部に対
して15重量部、PVAの代わりに用いた。第一層目
の重合時に粒子径のシャープ化を目的に単量体100重
量部に対してBR−77を1重量部、さらに微細化した
P−53を0.5重量部単量体混合液に添加した。
TCPの2倍量の35%塩酸を添加することでTCPを
溶解し、脱水、洗浄した。この金属被覆多層構造樹脂粒
子Cの重量平均粒子径は、5.1μmで、粒子径分布d
w/dnは、1.10であった。また、この多層構造樹
脂粒子Cの(1)式より求められるTgは第一層が10
5℃、第二層が36℃、第三層が106℃である。
Example 3 Production of Conductive Multilayer Resin Particles C Three-layer resin particles having the composition shown in Table 1 were used. The metal-coated multi-layer resin was prepared in the same manner as in Example 1 except for the following three points. Particle C was obtained. As a dispersion stabilizer, 15 parts by weight of TCP was used instead of PVA based on 100 parts by weight of the monomer. 1 part by weight of BR-77 and 0.5 part by weight of finer P-53 with respect to 100 parts by weight of monomer for the purpose of sharpening the particle diameter during the first layer polymerization Was added.
By adding 35% hydrochloric acid twice as much as TCP, TCP was dissolved, dehydrated and washed. The weight average particle diameter of the metal-coated multilayer structure resin particles C is 5.1 μm, and the particle diameter distribution d
w / dn was 1.10. The Tg of the multilayer resin particles C obtained from the equation (1) is 10% for the first layer.
5 ° C, 36 ° C for the second layer and 106 ° C for the third layer.

【0114】〔実施例4〕 ゴム弾性を有する多層構造粒子の製造 3リットル重合容器内にDIW 121g、1%NP水
溶液 3.1g、1%SHC水溶液20.5gを仕込
み、窒素気流下で攪拌しながら70℃に昇温した。EA
10.2gを添加し、10分間かけて分散させた後、2
%SPS水溶液5.1gを添加して1時間攪拌下反応を
行った。最後にDIW561gで希釈しシードラテック
スとした。続いて70℃において2%SPS水溶液85
gを添加し、以下の単量体ー乳化液1264.8gを2
40分かけて連続フィード後、90℃に昇温して1時間
熟成反応を行い中心核をなす粒子を含有するラテックス
を得た。 〔一層目を形成する単量体乳化液〕 BA 789.4g BGA 16.8g ALMA 33.6g 1%NP水溶液 340.0g 1%SHC水溶液 42.5g DIW 42.5g
Example 4 Production of Multilayered Particles Having Rubber Elasticity 121 g of DIW, 3.1 g of 1% NP aqueous solution, and 20.5 g of 1% SHC aqueous solution were charged into a 3 liter polymerization vessel, and stirred under a nitrogen stream. While heating, the temperature was raised to 70 ° C. EA
After adding 10.2 g and dispersing for 10 minutes, 2
Then, 5.1 g of a% SPS aqueous solution was added, and the reaction was carried out with stirring for 1 hour. Finally, it was diluted with 561 g of DIW to obtain a seed latex. Subsequently, 2% SPS aqueous solution 85 at 70 ° C.
g, and 1264.8 g of the following monomer-emulsion liquid was added to 2
After continuous feeding for 40 minutes, the temperature was raised to 90 ° C., and an aging reaction was performed for 1 hour to obtain a latex containing particles forming a central nucleus. [Monomer emulsion forming the first layer] BA 789.4 g BGA 16.8 g ALMA 33.6 g 1% NP aqueous solution 340.0 g 1% SHC aqueous solution 42.5 g DIW 42.5 g

【0115】次に70℃に冷却して二層目の重合を行っ
た。2%SPS水溶液15gを添加し、以下の単量体乳
化液270gを180分かけて連続フィード後、90℃
に昇温して1時間熟成反応を行った。 〔二層目を形成する単量体乳化液〕 MMA 133.5g EA 15.0g BGA 1.5g 1%NP水溶液 60.0g 1%SHC水溶液 15.0g DIW 45.0g 熟成終了後、30℃まで冷却し、300メッシュのステ
ンレス金網で濾過し、重量平均粒子径0.57μmのゴ
ム弾性を有する多層構造粒子を含有するラテックスを得
た。このラテックスを−30℃で凍結し、融解後、遠心
機で脱水、洗浄した後、60℃で一昼夜送風乾燥してゴ
ム弾性を有する多層構造粒子950gを得た。
Next, the mixture was cooled to 70 ° C. to perform the second polymerization. 15 g of a 2% SPS aqueous solution was added, and 270 g of the following monomer emulsion was continuously fed over 180 minutes.
And aged for 1 hour. [Monomer emulsion forming second layer] MMA 133.5 g EA 15.0 g BGA 1.5 g 1% NP aqueous solution 60.0 g 1% SHC aqueous solution 15.0 g DIW 45.0 g After ripening, up to 30 ° C The mixture was cooled and filtered through a 300-mesh stainless steel wire mesh to obtain a latex containing a rubber-elastic multilayered particle having a weight average particle diameter of 0.57 μm. This latex was frozen at −30 ° C., thawed, dehydrated and washed with a centrifuge, and then blast-dried at 60 ° C. all day and night to obtain 950 g of rubber elastic multilayer particles.

【0116】〔実施例5〕 異方導電接着剤Aの製造 エポキシ樹脂(エポトートYD−128;東都化成株式
会社製)30重量部、フェノキシ樹脂(フェノトートY
P−50;東都化成株式会社製)40重量部、硬化剤
(ノバキュアHX3921HP;旭化成株式会社製)、
シランカップリング剤(KBE−503;信越化学株式
会社製)1重量部、メチルエチルケトン18部を十分に
混合したのち、最後に実施例1で得られた導電性多層構
造樹脂粒子Aを5重量部均質に分散させて、異方導電性
接着剤Aを得た。この異方導電性接着剤Aを表面処理し
た50μm厚のPETフィルム上に膜厚15μmの仕上
がり厚さで塗布、乾燥したのち2mm幅で裁断すること
で異方導電性接着フィルムを得た。
Example 5 Production of Anisotropic Conductive Adhesive A 30 parts by weight of an epoxy resin (Epototo YD-128; manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and a phenoxy resin (Phenotote Y)
P-50; 40 parts by weight, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., a curing agent (NOVACURE HX3921HP; manufactured by Asahi Kasei Corporation),
After sufficiently mixing 1 part by weight of a silane coupling agent (KBE-503; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 18 parts of methyl ethyl ketone, finally, 5 parts by weight of the conductive multilayer structure resin particles A obtained in Example 1 were homogeneously mixed. To obtain an anisotropic conductive adhesive A. This anisotropic conductive adhesive A was coated on a surface-treated 50 μm-thick PET film with a finished thickness of 15 μm, dried, and then cut into 2 mm width to obtain an anisotropic conductive adhesive film.

【0117】異方導電性接着剤による接続 1.1mm厚のITOベタ電極(面積抵抗率30Ω/
□)を有するガラス基板に異方導電性接着フィルムを貼
付した後、PETフィルムを剥がした。引き続き、75
μm厚ポリイミドにパターン幅25μm、パターンピッ
チ75μmの銅パターンを形成したTCPと、仮圧着し
た後、加熱温度160℃、加熱時間15秒、圧力30k
g/cmで加熱圧着により接続した。
Connection with anisotropic conductive adhesive 1.1 mm thick solid ITO electrode (area resistivity 30 Ω /
After attaching the anisotropic conductive adhesive film to the glass substrate having □), the PET film was peeled off. Continue with 75
TCP having a copper pattern having a pattern width of 25 μm and a pattern pitch of 75 μm formed on a μm-thick polyimide and temporarily press-bonded, heated at 160 ° C., heated for 15 seconds, and pressured at 30 k
g / cm 2 and connected by thermocompression bonding.

【0118】異方導電性接着剤の評価 TCPにおいて隣接する2ヶの銅端子間の導通抵抗を測
定した(初期抵抗)。導通抵抗が10Ωを越えると実用
上好ましくない。接続信頼性としては、85℃×30分
〜−40℃×30分の熱衝撃試験を1000サイクル行
った後の導通抵抗および80℃、90%RHにおいて1
000時間放置する高温高湿試験を行った後の導通抵抗
を測定した。結果を表2に示す。
Evaluation of Anisotropic Conductive Adhesive The conduction resistance between two adjacent copper terminals was measured by TCP (initial resistance). If the conduction resistance exceeds 10Ω, it is not practically preferable. The connection reliability was as follows.
The conduction resistance after a high-temperature and high-humidity test in which the sample was left for 000 hours was measured. Table 2 shows the results.

【0119】〔実施例6〕 異方導電接着剤Bの製造 導電性多層構造樹脂粒子として、実施例2で製造したも
のを使用した以外は実施例5と同様にして異方導電性接
着剤Bを得た。これらの異方導電性接着剤を用いて実施
例5と同様に評価を行った。
Example 6 Production of Anisotropic Conductive Adhesive B Anisotropic conductive adhesive B was produced in the same manner as in Example 5 except that the resin particles produced in Example 2 were used as the conductive multilayer structure resin particles. I got Evaluation was performed in the same manner as in Example 5 using these anisotropic conductive adhesives.

【0120】〔実施例7〕 異方導電接着剤Cの製造 導電性多層構造樹脂粒子とし実施例3で製造したものを
使用し、接着剤成分に実施例4で示したゴム弾性を有す
る多層構造粒子を樹脂成分100重量部に対し5重量部
添加する以外は実施例5と同様にして異方導電性接着剤
Cを得た。これらの異方導電性接着剤を用いて実施例5
と同様に評価を行った。
Example 7 Production of Anisotropic Conductive Adhesive C The conductive multilayer resin particles produced in Example 3 were used as the conductive multilayer resin particles, and a multilayer structure having rubber elasticity shown in Example 4 as an adhesive component was used. An anisotropic conductive adhesive C was obtained in the same manner as in Example 5, except that 5 parts by weight of the particles were added to 100 parts by weight of the resin component. Example 5 using these anisotropic conductive adhesives
The evaluation was performed in the same manner as described above.

【0121】〔比較例1〕 導電性多層構造樹脂粒子Dの製造 第一層におけるグラフト性単量体ALMAの代わりにM
MAを含有する以外は実施例1と同様にして、導電性多
層構造樹脂粒子Dを得た。この導電性多層構造樹脂粒子
Dの重量平均粒子径は、4.9μmで、粒子径分布dw
/dnは、1.14であった。また、この導電性多層構
造樹脂粒子Dの(1)式より求められるTgは第一層が
48℃、第二層が105℃である。
Comparative Example 1 Production of Resin Particles D with Conductive Multilayer Structure In place of the graftable monomer ALMA in the first layer, M
Except for containing MA, a conductive multilayer structure resin particle D was obtained in the same manner as in Example 1. The weight average particle diameter of the conductive multilayer structure resin particles D is 4.9 μm, and the particle diameter distribution dw
/ Dn was 1.14. In addition, the Tg of the conductive multilayer structure resin particles D obtained from the equation (1) is 48 ° C. for the first layer and 105 ° C. for the second layer.

【0122】〔比較例2〕 導電性多層構造樹脂粒子Eの製造 第一層と第二層が逆の組成からなる以外は実施例1と同
様にして、導電性多層構造樹脂粒子Eを得た。この導電
性多層構造樹脂粒子Eの重量平均粒子径は、4.9μm
で、粒子径分布dw/dnは、1.14であった。ま
た、この導電性多層構造樹脂粒子Eの(1)式より求め
られるTgは第一層が105℃、第二層が47℃であ
る。
Comparative Example 2 Production of Conductive Multilayer Structure Resin Particles E Conductive multilayer structure resin particles E were obtained in the same manner as in Example 1 except that the first layer and the second layer had the opposite compositions. . The weight average particle diameter of the conductive multilayer structure resin particles E is 4.9 μm.
The particle size distribution dw / dn was 1.14. Further, the Tg of the conductive multilayer structure resin particles E obtained from the equation (1) is 105 ° C. for the first layer and 47 ° C. for the second layer.

【0123】〔比較例3,4〕 異方導電接着剤D、Eの製造 導電性多層構造樹脂粒子とし比較例1または2で製造し
た導電性多層構造樹脂粒子D、Eを使用した以外は実施
例3と同様にして異方導電性接着剤D、Eを得た。これ
らの異方導電性接着剤を用いて実施例5と同様に評価を
行った。
[Comparative Examples 3 and 4] Production of Anisotropic Conductive Adhesives D and E Except that conductive multilayer resin particles D and E produced in Comparative Examples 1 and 2 were used as conductive multilayer resin particles. Anisotropic conductive adhesives D and E were obtained in the same manner as in Example 3. Evaluation was performed in the same manner as in Example 5 using these anisotropic conductive adhesives.

【0124】[0124]

【表3】 [Table 3]

【0125】[0125]

【表4】 [Table 4]

【0126】[0126]

【発明の効果】本発明に係る導電性多層構造樹脂粒子
は、柔軟性と硬質性という相反する性質をあわせもち、
小さい圧縮強度で変形する一方、復元率にも優れてい
る。本発明に係る異方導電性接着剤は、上記導電性多層
構造樹脂粒子を含有しているので、接続させるのに大き
な力を必要とせず、その結果ITO電極のクラック発生
を抑制することができる。また、接続面積も大きくなる
ため、電気的接続の信頼性も向上するという効果も奏す
る。また、本発明に係る異方導電性接着剤は、含有され
ている導電性多層構造樹脂粒子が復元率にも優れている
ため、接続部位に高い接触圧で接触するため接触抵抗を
長期にわたり一定に保ちやすいという効果も奏する。さ
らに、本発明に係る異方導電性接着剤は、ゴム弾性を有
する粒子、特に多層構造粒子を含有するため、接着樹脂
硬化物と被接着材との線膨張率の違いにより生ずる反り
を抑え、結果として異方導電性接着剤の信頼性を高める
ことができる。
The conductive multilayer resin particles according to the present invention have the opposite properties of flexibility and hardness.
While deforming with a small compressive strength, it has an excellent restoration rate. Since the anisotropic conductive adhesive according to the present invention contains the conductive multilayer structure resin particles, it does not require a large force for connection, and as a result, the occurrence of cracks in the ITO electrode can be suppressed. . Further, since the connection area is increased, the effect of improving the reliability of the electrical connection is also achieved. Further, the anisotropic conductive adhesive according to the present invention has a high contact pressure with a high contact pressure on the connection site because the conductive multilayer structure resin particles contained therein are also excellent in the restoration rate, so that the contact resistance is constant for a long time. It also has the effect of being easy to maintain. Further, the anisotropic conductive adhesive according to the present invention contains particles having rubber elasticity, particularly particles having a multilayer structure, so that the warpage caused by the difference in the linear expansion coefficient between the cured adhesive resin and the material to be bonded is suppressed, As a result, the reliability of the anisotropic conductive adhesive can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る異方導電性接着剤による接着前
の微視的構造を示す。
FIG. 1 shows a microscopic structure before bonding with an anisotropic conductive adhesive according to the present invention.

【図2】 本発明に係る異方導電性接着剤による接着後
の接着部の微視的構造を示す。
FIG. 2 shows a microscopic structure of a bonded portion after bonding with an anisotropic conductive adhesive according to the present invention.

【図3】 復元率を算出する際に用いる図である。FIG. 3 is a diagram used when calculating a restoration rate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 TCP、FPCまたは半導体チップなど 2 ガラスまたは樹脂基板など 3 異方導電性接着剤 4 接続部位(2がガラスの場合にはITO電極) 5 導電性多層構造樹脂粒子 20 導電性多層構造樹脂粒子 21 接着剤の収縮応力 22 導電性多層構造樹脂粒子の反発力 23 導電方向 24 接続部位 25 ゴム弾性を有する粒子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 TCP, FPC or semiconductor chip etc. 2 Glass or resin substrate etc. 3 Anisotropic conductive adhesive 4 Connection part (ITO electrode when 2 is glass) 5 Conductive multilayer structure resin particles 20 Conductive multilayer structure resin particles 21 Shrinkage stress of adhesive 22 Repulsive force of conductive multilayer structure resin particles 23 Conduction direction 24 Connection site 25 Particles having rubber elasticity

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01B 5/16 H01B 5/16 (72)発明者 立花 真二 大阪府大阪市淀川区十三本町2丁目17番85 号 武田薬品工業株式会社化学品カンパニ ー内 Fターム(参考) 4J040 CA041 CA071 CA081 CA141 DA051 DA061 DA141 DD051 DD071 DF021 DF022 DM011 EB031 EC001 ED001 EF001 EG001 EH031 EK031 KA03 LA09 5G301 DA05 DA29 DA57 DD03 5G307 AA08 HA02 HB03 HC02 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) H01B 5/16 H01B 5/16 (72) Inventor Shinji Tachibana 2-chome, Jusanhoncho, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka No.17-85 Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. Chemicals Company F-term (reference) 4J040 CA041 CA071 CA081 CA141 DA051 DA061 DA141 DD051 DD071 DF021 DF022 DM011 EB031 EC001 ED001 EF001 EG001 EH031 EK031 KA03 LA09 5G301 DA03 DA03 DA03 DA03 DA03 DA03 DA03G HC02

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内層の少なくとも1層が最外層より柔軟
で、隣接する2層間の少なくとも一つが化学的に結合さ
れ、かつ最外層の表面が金属で被覆された導電性多層構
造樹脂粒子。
1. A conductive multi-layered resin particle in which at least one of the inner layers is more flexible than the outermost layer, at least one of two adjacent layers is chemically bonded, and the surface of the outermost layer is coated with a metal.
【請求項2】 最も柔軟な層のガラス転移温度と、最も
硬質な層のガラス転移温度との差が、20℃以上である
ことを特徴とする請求項1に記載の導電性多層構造樹脂
粒子。
2. The conductive multilayer resin particle according to claim 1, wherein the difference between the glass transition temperature of the softest layer and the glass transition temperature of the hardest layer is 20 ° C. or more. .
【請求項3】 化学的に結合されている隣接する2層の
うち、少なくとも1層がグラフト性単量体を含むことを
特徴とする請求項1または2に記載の導電性多層構造樹
脂粒子。
3. The conductive multilayer structure resin particles according to claim 1, wherein at least one of two adjacent layers chemically bonded includes a grafting monomer.
【請求項4】 中心部の核が硬質な層、中間層が中心部
よりも柔軟な層、最外層が中間層より硬質な層の3層か
らなり、さらに各層間が化学的に結合されていることを
特徴とする請求項1〜3に記載の導電性多層構造樹脂粒
子。
4. A core having a hard core at the center, a middle layer being more flexible than the center, and an outermost layer being a layer harder than the middle layer. The conductive multilayer structure resin particles according to claim 1, wherein
【請求項5】 導電性多層構造樹脂粒子の10%変形時
における圧縮強度が10kgf/mm以下である請求
項1〜4に記載の導電性多層構造樹脂粒子。
5. The conductive multilayer structure resin particles according to claim 1, wherein the compressive strength of the conductive multilayer structure resin particles at the time of 10% deformation is 10 kgf / mm 2 or less.
【請求項6】 さらに導電性多層構造樹脂粒子の復元率
が5〜90%であることを特徴とする請求項1〜5に記
載の導電性多層構造樹脂粒子。
6. The conductive multilayer structure resin particles according to claim 1, wherein the resin multilayer structure resin particles have a restoration rate of 5 to 90%.
【請求項7】 接着剤樹脂成分および請求項1〜6に記
載の導電性多層構造樹脂粒子を含有する異方導電性接着
剤。
7. An anisotropic conductive adhesive containing an adhesive resin component and the conductive multi-layered structure resin particles according to claim 1.
【請求項8】 接着性樹脂成分がゴム弾性を有する粒子
を含有することを特徴とする請求項7に記載の異方導電
性接着剤。
8. The anisotropic conductive adhesive according to claim 7, wherein the adhesive resin component contains particles having rubber elasticity.
【請求項9】 ゴム弾性を有する粒子が2層以上の多層
構造粒子であることを特徴とする請求項8に記載の異方
導電性接着剤。
9. The anisotropic conductive adhesive according to claim 8, wherein the particles having rubber elasticity are particles having a multilayer structure of two or more layers.
【請求項10】 請求項9に記載のゴム弾性を有する粒
子を含有することを特徴とする応力緩和剤。
10. A stress relaxing agent comprising the particles having rubber elasticity according to claim 9. Description:
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