JP2002029774A - 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 - Google Patents
情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高ヤング率、高耐候性、高ガラス転移点であ
り、大量生産に適した情報記録媒体基板用ガラスの提
供。 【解決手段】モル％で、ＳｉＯ2：５６〜７５、Ａｌ2Ｏ
3：０〜２０、ＭｇＯ：０〜２０、ＣａＯ：０〜１．９
９、ＳｒＯ：０．１〜２０、ＺｎＯ：０〜４、Ｔｉ
Ｏ2：０〜１０、ＺｒＯ2：０〜４、Ｌｉ2Ｏ：０〜２
０、 Ｎａ2Ｏ：０〜１０、Ｋ2Ｏ：０〜１０、等からな
る情報記録媒体基板用ガラス。
り、大量生産に適した情報記録媒体基板用ガラスの提
供。 【解決手段】モル％で、ＳｉＯ2：５６〜７５、Ａｌ2Ｏ
3：０〜２０、ＭｇＯ：０〜２０、ＣａＯ：０〜１．９
９、ＳｒＯ：０．１〜２０、ＺｎＯ：０〜４、Ｔｉ
Ｏ2：０〜１０、ＺｒＯ2：０〜４、Ｌｉ2Ｏ：０〜２
０、 Ｎａ2Ｏ：０〜１０、Ｋ2Ｏ：０〜１０、等からな
る情報記録媒体基板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高いヤング率・高
い耐候性を有する情報記録媒体基板用ガラスおよび情報
記録媒体用ガラス基板に関する。
い耐候性を有する情報記録媒体基板用ガラスおよび情報
記録媒体用ガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク
（ハードディスク）用基板としてガラス基板が用いられ
ており、モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2：６５．３
％、Ａｌ2Ｏ3：８．６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ
2Ｏ：１２．５％、Ｎａ2Ｏ：１０．１％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）からなる基板が例示さ
れる。この従来ガラスは通常化学強化処理されて使用さ
れる。
（ハードディスク）用基板としてガラス基板が用いられ
ており、モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2：６５．３
％、Ａｌ2Ｏ3：８．６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ
2Ｏ：１２．５％、Ｎａ2Ｏ：１０．１％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）からなる基板が例示さ
れる。この従来ガラスは通常化学強化処理されて使用さ
れる。
【０００３】近年記録容量を増すために、基板の薄板化
による搭載枚数の増加が求められている。一方、記録密
度を増すために磁気ディスクと読み取り磁気ヘッドの間
隔は小さくなっており、前記基板の薄板化にともなう基
板のたわみや反りの増大は磁気ディスク破損の原因とな
る。
による搭載枚数の増加が求められている。一方、記録密
度を増すために磁気ディスクと読み取り磁気ヘッドの間
隔は小さくなっており、前記基板の薄板化にともなう基
板のたわみや反りの増大は磁気ディスク破損の原因とな
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】基板のたわみや反りの
問題を解決するためにヤング率の高いガラスが求められ
ている。なお、前記従来ガラスのヤング率は８２ＧＰａ
である。
問題を解決するためにヤング率の高いガラスが求められ
ている。なお、前記従来ガラスのヤング率は８２ＧＰａ
である。
【０００５】また、情報記録媒体用基板には、その在庫
中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される
下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなること
がないこと、すなわち耐候性が求められる。前記従来ガ
ラスの耐候性は決して高くはないが、化学強化処理によ
って耐候性は許容されるレベルになる。これは、従来ガ
ラスの耐候性を低下させる主因と考えられるアルカリ成
分が、化学強化処理によってガラス表面から抽出除去さ
れるためと考えられる。しかし化学強化処理には、工程
が増加する、化学強化処理後の基板表面によごれが付着
しやすい、等の問題がある。
中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される
下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなること
がないこと、すなわち耐候性が求められる。前記従来ガ
ラスの耐候性は決して高くはないが、化学強化処理によ
って耐候性は許容されるレベルになる。これは、従来ガ
ラスの耐候性を低下させる主因と考えられるアルカリ成
分が、化学強化処理によってガラス表面から抽出除去さ
れるためと考えられる。しかし化学強化処理には、工程
が増加する、化学強化処理後の基板表面によごれが付着
しやすい、等の問題がある。
【０００６】また、記録密度を増すためには磁気記録層
である磁性層の保磁力を増加させることが有効であり、
そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理をより
高い温度で行う必要がある。この観点から、基板に用い
られるガラスのガラス転移点が高いことが求められてい
る。なお、前記従来ガラスのガラス転移点は５００℃で
ある。
である磁性層の保磁力を増加させることが有効であり、
そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理をより
高い温度で行う必要がある。この観点から、基板に用い
られるガラスのガラス転移点が高いことが求められてい
る。なお、前記従来ガラスのガラス転移点は５００℃で
ある。
【０００７】磁気ディスク用ガラス基板は従来、ノート
ブックパソコン等に用いられる２．５インチ基板（ガラ
ス基板外径：６５ｍｍ）が主であったが、今後はサーバ
等に用いられるより大きな基板、すなわち３．０インチ
基板（ガラス基板外径：８４ｍｍ）、３．５インチ基板
（ガラス基板外径：９５ｍｍ）、等も増加する可能性が
高い。したがって、このようなガラス基板に使用される
ガラスは大量生産に適したものであることが求められて
いる。
ブックパソコン等に用いられる２．５インチ基板（ガラ
ス基板外径：６５ｍｍ）が主であったが、今後はサーバ
等に用いられるより大きな基板、すなわち３．０インチ
基板（ガラス基板外径：８４ｍｍ）、３．５インチ基板
（ガラス基板外径：９５ｍｍ）、等も増加する可能性が
高い。したがって、このようなガラス基板に使用される
ガラスは大量生産に適したものであることが求められて
いる。
【０００８】ガラスの大量生産はガラス溶融窯により行
われる。ガラス溶融窯の溶融ガラスと直接接触する部分
には通常ＡＺＳ（Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2）系電鋳
煉瓦が使用される。したがって、ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対
する溶融ガラスの侵食性が小さいことも求められてい
る。
われる。ガラス溶融窯の溶融ガラスと直接接触する部分
には通常ＡＺＳ（Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2）系電鋳
煉瓦が使用される。したがって、ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対
する溶融ガラスの侵食性が小さいことも求められてい
る。
【０００９】さらに、板ガラスの大量生産はフロート法
をはじめとする連続成形法により広く行われている。こ
のような連続成形法として、フロート法以外にフュージ
ョン法、ダウンドロー法が例示される。したがって、フ
ロート成形等の連続成形が可能なガラスであることが求
められている。
をはじめとする連続成形法により広く行われている。こ
のような連続成形法として、フロート法以外にフュージ
ョン法、ダウンドロー法が例示される。したがって、フ
ロート成形等の連続成形が可能なガラスであることが求
められている。
【００１０】ＷＯ９９／０６３３３には、ヤング率が９
０ＧＰａ以上であり、モル％表示で、ＴｉＯ2：０．１
〜３０、ＣａＯ：１〜４５、ＭｇＯ＋ＣａＯ：５〜４
０、Ｎａ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ：３〜３０、Ａｌ2Ｏ3：０〜１
５、ＳｉＯ2：３５〜６５、であるガラスをダイレクト
プレス成形することを特徴とする情報記録媒体用ガラス
基板の製造方法が開示されている。なお、ダイレクトプ
レス成形は連続成形法ではない。
０ＧＰａ以上であり、モル％表示で、ＴｉＯ2：０．１
〜３０、ＣａＯ：１〜４５、ＭｇＯ＋ＣａＯ：５〜４
０、Ｎａ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ：３〜３０、Ａｌ2Ｏ3：０〜１
５、ＳｉＯ2：３５〜６５、であるガラスをダイレクト
プレス成形することを特徴とする情報記録媒体用ガラス
基板の製造方法が開示されている。なお、ダイレクトプ
レス成形は連続成形法ではない。
【００１１】本発明者は、ＷＯ９９／０６３３３に開示
されているガラスの一部について追試した（後掲表４中
の例３２、例３３）。その結果、ＷＯ９９／０６３３３
に開示されているガラスに対し連続成形法を適用して板
ガラスを製造することは困難ではないか、という感触を
得た。本発明は、上記課題を解決する情報記録媒体基板
用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板の提供を目的
とする。
されているガラスの一部について追試した（後掲表４中
の例３２、例３３）。その結果、ＷＯ９９／０６３３３
に開示されているガラスに対し連続成形法を適用して板
ガラスを製造することは困難ではないか、という感触を
得た。本発明は、上記課題を解決する情報記録媒体基板
用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板の提供を目的
とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、モル％表示で
実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜７５、 Ａｌ2Ｏ3 ０〜２０、 ＭｇＯ ０〜２０、 ＣａＯ ０〜１．９９、 ＳｒＯ ０．１〜２０、 ＺｎＯ ０〜４、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜７、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２０、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０、 Ｋ2Ｏ ０〜１０、 からなる情報記録媒体基板用ガラス、および、前記情報
記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基
板を提供する。
実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜７５、 Ａｌ2Ｏ3 ０〜２０、 ＭｇＯ ０〜２０、 ＣａＯ ０〜１．９９、 ＳｒＯ ０．１〜２０、 ＺｎＯ ０〜４、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜７、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２０、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０、 Ｋ2Ｏ ０〜１０、 からなる情報記録媒体基板用ガラス、および、前記情報
記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基
板を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の情報記録媒体基板用ガラ
ス（以下単に本発明のガラスという。）のヤング率は８
５ＧＰａ以上である。８５ＧＰａ未満では基板のたわみ
や反りの問題が発生する。好ましくは８６ＧＰａ以上、
より好ましくは８８ＧＰａ以上である。
ス（以下単に本発明のガラスという。）のヤング率は８
５ＧＰａ以上である。８５ＧＰａ未満では基板のたわみ
や反りの問題が発生する。好ましくは８６ＧＰａ以上、
より好ましくは８８ＧＰａ以上である。
【００１４】本発明のガラスのガラス転移点は５５０℃
以上であることが好ましい。５５０℃未満では磁性層形
成熱処理温度を充分高くできず、磁性層の保磁力増加が
困難になるおそれがある。より好ましくは５６０℃以
上、さらに好ましくは５７０℃以上、一層好ましくは５
８０℃以上、最も好ましくは５９０℃以上である。
以上であることが好ましい。５５０℃未満では磁性層形
成熱処理温度を充分高くできず、磁性層の保磁力増加が
困難になるおそれがある。より好ましくは５６０℃以
上、さらに好ましくは５７０℃以上、一層好ましくは５
８０℃以上、最も好ましくは５９０℃以上である。
【００１５】本発明のガラスの液相温度をＴL（単位：
℃）、粘度が１０4Ｐ（ポアズ）となる温度をＴ4（単
位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５０であることが好まし
い。ＴL−Ｔ4≧５０ではフロート成形が困難になるおそ
れがある。より好ましくはＴL−Ｔ 4＜４０、特に好まし
くはＴL−Ｔ4＜３０である。
℃）、粘度が１０4Ｐ（ポアズ）となる温度をＴ4（単
位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５０であることが好まし
い。ＴL−Ｔ4≧５０ではフロート成形が困難になるおそ
れがある。より好ましくはＴL−Ｔ 4＜４０、特に好まし
くはＴL−Ｔ4＜３０である。
【００１６】本発明のガラスの組成について以下モル％
を単に％と表示して説明する。なお、本発明のガラスは
実質的に、 ＳｉＯ2 ６０〜７０、 Ａｌ2Ｏ3 ３〜８、 ＭｇＯ ２〜８、 ＣａＯ ０〜１、 ＳｒＯ ４〜１３、 ＺｎＯ ０〜３、 ＴｉＯ2 ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜３、 Ｌｉ2Ｏ ２〜１２、 Ｎａ2Ｏ ０〜４、 Ｋ2Ｏ ０〜２、 からなることが好ましい。
を単に％と表示して説明する。なお、本発明のガラスは
実質的に、 ＳｉＯ2 ６０〜７０、 Ａｌ2Ｏ3 ３〜８、 ＭｇＯ ２〜８、 ＣａＯ ０〜１、 ＳｒＯ ４〜１３、 ＺｎＯ ０〜３、 ＴｉＯ2 ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜３、 Ｌｉ2Ｏ ２〜１２、 Ｎａ2Ｏ ０〜４、 Ｋ2Ｏ ０〜２、 からなることが好ましい。
【００１７】また、実質的に、 ＳｉＯ2 ６２〜６８、 Ａｌ2Ｏ3 ４〜７、 ＭｇＯ ４〜６．５、 ＣａＯ ０〜０．５、 ＳｒＯ ８〜１１、 ＺｎＯ ０〜２．５、 ＴｉＯ2 ２〜５、 ＺｒＯ2 ０．６〜２、 Ｌｉ2Ｏ ５〜８、 Ｎａ2Ｏ ０．３〜２．５、 Ｋ2Ｏ ０〜１、 からなることがより好ましい。
【００１８】ＳｉＯ2はガラスの骨格を形成する必須成
分である。５６％未満では、化学耐久性、特に耐酸性が
低下する、または液相温度が高くなりすぎる。好ましく
は５８％以上、より好ましくは６０％以上、特に好まし
くは６１％以上、最も好ましくは６２％以上である。７
５％超では、溶解温度が高くなりすぎる、またヤング率
が低下する。好ましくは７２％以下、より好ましくは７
０％以下、特に好ましくは６８％以下である。
分である。５６％未満では、化学耐久性、特に耐酸性が
低下する、または液相温度が高くなりすぎる。好ましく
は５８％以上、より好ましくは６０％以上、特に好まし
くは６１％以上、最も好ましくは６２％以上である。７
５％超では、溶解温度が高くなりすぎる、またヤング率
が低下する。好ましくは７２％以下、より好ましくは７
０％以下、特に好ましくは６８％以下である。
【００１９】Ａｌ2Ｏ3は必須成分ではないが、ヤング率
を高くし、またガラス転移点を高くし、さらには耐候性
を高くする効果があり、２０％まで含有してもよい。２
０％超では液相温度が高くなりすぎる、またＡＺＳ系電
鋳煉瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは１５％
以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％
以下、最も好ましくは７％以下である。また、 Ａｌ2Ｏ
3を含有する場合、その含有量は１％以上であることが
好ましい。より好ましくは２％以上、さらに好ましくは
４％以上である。
を高くし、またガラス転移点を高くし、さらには耐候性
を高くする効果があり、２０％まで含有してもよい。２
０％超では液相温度が高くなりすぎる、またＡＺＳ系電
鋳煉瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは１５％
以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％
以下、最も好ましくは７％以下である。また、 Ａｌ2Ｏ
3を含有する場合、その含有量は１％以上であることが
好ましい。より好ましくは２％以上、さらに好ましくは
４％以上である。
【００２０】ＭｇＯは必須成分ではないが、ヤング率を
高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、
２０％まで含有してもよい。２０％超ではガラスが不安
定になる。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０
％以下、さらに好ましくは８％以下、特に好ましくは７
％以下、最も好ましくは６．５％以下である。また、Ｍ
ｇＯを含有する場合、その含有量は１％以上であること
が好ましい。より好ましくは２％以上、さらに好ましく
は４％以上である。
高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、
２０％まで含有してもよい。２０％超ではガラスが不安
定になる。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０
％以下、さらに好ましくは８％以下、特に好ましくは７
％以下、最も好ましくは６．５％以下である。また、Ｍ
ｇＯを含有する場合、その含有量は１％以上であること
が好ましい。より好ましくは２％以上、さらに好ましく
は４％以上である。
【００２１】ＣａＯは必須成分ではないが、ヤング率を
高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、
１．９９％まで含有してもよい。１．９９％超では耐候
性を低下させる、または液相温度が高くなりすぎるおそ
れがある。好ましくは１％以下、より好ましくは０．５
％以下である。なお、液相温度をより低下させたい場
合、または耐候性をより向上させたい場合には実質的に
含有しないことが好ましい。
高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、
１．９９％まで含有してもよい。１．９９％超では耐候
性を低下させる、または液相温度が高くなりすぎるおそ
れがある。好ましくは１％以下、より好ましくは０．５
％以下である。なお、液相温度をより低下させたい場
合、または耐候性をより向上させたい場合には実質的に
含有しないことが好ましい。
【００２２】ＳｒＯは液相温度を低下させ、またガラス
の溶解性を向上させる効果があり必須成分である。０．
１％未満では前記効果が小さい。好ましくは１％以上、
より好ましくは２％以上、さらに好ましくは４％以上、
特に好ましくは６％以上、最も好ましくは８％以上であ
る。２０％超ではヤング率が低下する、またはガラスが
不安定になる。好ましくは１６％以下、より好ましくは
１３％以下、さらに好ましくは１２％以下、特に好まし
くは１１％以下である。
の溶解性を向上させる効果があり必須成分である。０．
１％未満では前記効果が小さい。好ましくは１％以上、
より好ましくは２％以上、さらに好ましくは４％以上、
特に好ましくは６％以上、最も好ましくは８％以上であ
る。２０％超ではヤング率が低下する、またはガラスが
不安定になる。好ましくは１６％以下、より好ましくは
１３％以下、さらに好ましくは１２％以下、特に好まし
くは１１％以下である。
【００２３】ＺｎＯは必須成分ではないが、ヤング率を
高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、
４％まで含有してもよい。４％超では液相温度が高くな
りすぎるおそれがある。好ましくは３．５％以下、より
好ましくは３％以下、特に好ましくは２．５％以下であ
る。また、ＺｎＯを含有する場合、その含有量は０．１
％以上であることが好ましい。より好ましくは０．５％
以上、特に好ましくは１％以上である。
高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、
４％まで含有してもよい。４％超では液相温度が高くな
りすぎるおそれがある。好ましくは３．５％以下、より
好ましくは３％以下、特に好ましくは２．５％以下であ
る。また、ＺｎＯを含有する場合、その含有量は０．１
％以上であることが好ましい。より好ましくは０．５％
以上、特に好ましくは１％以上である。
【００２４】ＴｉＯ2は必須成分ではないが、ヤング率
を高くし、また耐候性を高くする効果があり、１０％ま
で含有してもよい。１０％超では液相温度が高くなりす
ぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるお
それがある。好ましくは８％以下、より好ましくは６％
以下、特に好ましくは５％以下である。また、ＴｉＯ 2
を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好
ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは２．
５％以上である。なお、分相または着色をより抑制した
い場合、または液相温度をより低下させたい場合にはＴ
ｉＯ2を実質的に含有しないことが好ましい。
を高くし、また耐候性を高くする効果があり、１０％ま
で含有してもよい。１０％超では液相温度が高くなりす
ぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるお
それがある。好ましくは８％以下、より好ましくは６％
以下、特に好ましくは５％以下である。また、ＴｉＯ 2
を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好
ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは２．
５％以上である。なお、分相または着色をより抑制した
い場合、または液相温度をより低下させたい場合にはＴ
ｉＯ2を実質的に含有しないことが好ましい。
【００２５】ＺｒＯ2は必須成分ではないが、ヤング率
を高くし、また耐候性を高くし、ガラス転移点を高くす
る効果があり、４％まで含有してもよい。４％超では液
相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは３％
以下、より好ましくは２％以下である。また、ＺｒＯ2
を含有する場合、その含有量は０．１％以上であること
が好ましい。より好ましくは０．２％以上、特に好まし
くは０．３％以上、最も好ましくは０．６％以上であ
る。
を高くし、また耐候性を高くし、ガラス転移点を高くす
る効果があり、４％まで含有してもよい。４％超では液
相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは３％
以下、より好ましくは２％以下である。また、ＺｒＯ2
を含有する場合、その含有量は０．１％以上であること
が好ましい。より好ましくは０．２％以上、特に好まし
くは０．３％以上、最も好ましくは０．６％以上であ
る。
【００２６】Ｌｉ2Ｏは必須成分ではないが、ガラスの
溶解性を向上させ、またヤング率を高くする効果があ
り、２０％まで含有してもよい。２０％超では、液相温
度が高くなりすぎる。好ましくは１２％以下、より好ま
しくは１０％以下、さらに好ましくは９％以下、特に好
ましくは８％以下である。Ｌｉ2Ｏを含有する場合、そ
の含有量は１％以上であることが好ましい。より好まし
くは２％以上、さらに好ましくは４％以上、特に好まし
くは５％以上である。なお、ガラス転移点をより高くし
たい、またはＴ4を高くしたい場合にはＬｉ2Ｏを実質的
に含有しないことが好ましい。
溶解性を向上させ、またヤング率を高くする効果があ
り、２０％まで含有してもよい。２０％超では、液相温
度が高くなりすぎる。好ましくは１２％以下、より好ま
しくは１０％以下、さらに好ましくは９％以下、特に好
ましくは８％以下である。Ｌｉ2Ｏを含有する場合、そ
の含有量は１％以上であることが好ましい。より好まし
くは２％以上、さらに好ましくは４％以上、特に好まし
くは５％以上である。なお、ガラス転移点をより高くし
たい、またはＴ4を高くしたい場合にはＬｉ2Ｏを実質的
に含有しないことが好ましい。
【００２７】Ｎａ2Ｏは必須成分ではないが、ガラスの
溶解性を向上させる効果があり、１０％まで含有しても
よい。１０％超ではヤング率が低下するおそれがある、
また耐候性が低下するおそれがある。好ましくは６％以
下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以
下、特に好ましくは２．５％以下である。また、Ｎａ 2
Ｏを含有する場合、その含有量は好ましくは０．１％以
上、より好ましくは０．３％以上である。
溶解性を向上させる効果があり、１０％まで含有しても
よい。１０％超ではヤング率が低下するおそれがある、
また耐候性が低下するおそれがある。好ましくは６％以
下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以
下、特に好ましくは２．５％以下である。また、Ｎａ 2
Ｏを含有する場合、その含有量は好ましくは０．１％以
上、より好ましくは０．３％以上である。
【００２８】Ｋ2Ｏは必須成分ではないが、ガラスの溶
解性を向上させる効果があり、１０％まで含有してもよ
い。１０％超ではヤング率が低下するおそれがある。好
ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ま
しくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ま
た、Ｋ2Ｏを含有する場合、その含有量は好ましくは
０．１％以上、より好ましくは０．２％以上である。な
お、ヤング率をより高くしたい場合は、Ｋ2Ｏを実質的
に含有しないことが好ましい。
解性を向上させる効果があり、１０％まで含有してもよ
い。１０％超ではヤング率が低下するおそれがある。好
ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ま
しくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ま
た、Ｋ2Ｏを含有する場合、その含有量は好ましくは
０．１％以上、より好ましくは０．２％以上である。な
お、ヤング率をより高くしたい場合は、Ｋ2Ｏを実質的
に含有しないことが好ましい。
【００２９】耐候性をより高くし、かつＡＺＳ系電鋳煉
瓦に対する侵食性をより小さくしたい場合にはＬｉ
2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計は１５％以下
であることが好ましい。より好ましくは１０％以下、特
に好ましくは９％以下、最も好ましくは８％以下であ
る。
瓦に対する侵食性をより小さくしたい場合にはＬｉ
2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計は１５％以下
であることが好ましい。より好ましくは１０％以下、特
に好ましくは９％以下、最も好ましくは８％以下であ
る。
【００３０】また、ヤング率をより高くし、耐候性をよ
り高くし、かつＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性をより
小さくしたい場合には、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の
合計は１０％以下であることが好ましい。より好ましく
は６％以下、特に好ましくは４％以下、最も好ましくは
２％以下である。
り高くし、かつＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性をより
小さくしたい場合には、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の
合計は１０％以下であることが好ましい。より好ましく
は６％以下、特に好ましくは４％以下、最も好ましくは
２％以下である。
【００３１】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤を合計で１％まで含有しても
よい。ＳｒＯと同様の効果を得るためにＢａＯを２％ま
で含有してもよい。ＴｉＯ2と同様の効果を得るために
ＳｎＯ2を２％まで含有してもよい。ガラスの溶解性や
安定性を向上させるために、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等
を合計で３％まで含有してもよい。
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤を合計で１％まで含有しても
よい。ＳｒＯと同様の効果を得るためにＢａＯを２％ま
で含有してもよい。ＴｉＯ2と同様の効果を得るために
ＳｎＯ2を２％まで含有してもよい。ガラスの溶解性や
安定性を向上させるために、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等
を合計で３％まで含有してもよい。
【００３２】なお、液相温度をより低下させたい場合
は、Ｓｃ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ
2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ
2Ｏ3、Ｄｙ 2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙｂ
2Ｏ3、Ｌｕ2Ｏ3、のいずれも実質的に含有しないように
することが好ましい。
は、Ｓｃ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ
2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ
2Ｏ3、Ｄｙ 2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙｂ
2Ｏ3、Ｌｕ2Ｏ3、のいずれも実質的に含有しないように
することが好ましい。
【００３３】本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、２気圧の水蒸気
雰囲気に２０時間保持したとき、該ガラス基板表面に存
在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLが１個
／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満
の付着物の数ＮSが１０5個／ｃｍ2以下であることが好
ましい。
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、２気圧の水蒸気
雰囲気に２０時間保持したとき、該ガラス基板表面に存
在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLが１個
／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満
の付着物の数ＮSが１０5個／ｃｍ2以下であることが好
ましい。
【００３４】ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０5個／
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下
地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この
付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス
基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭い
ても除去できないものである。ＮLはより好ましくは
０．５個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ2
以下である。ＮSはより好ましくは０．８×１０5個／ｃ
ｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下
である。
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下
地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この
付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス
基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭い
ても除去できないものである。ＮLはより好ましくは
０．５個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ2
以下である。ＮSはより好ましくは０．８×１０5個／ｃ
ｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下
である。
【００３５】本発明のガラスおよびガラス基板の製造方
法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえ
ば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるよう
に調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリ
ング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、
周知のフロート法、プレス法、フュージョン法またダウ
ンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成
形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行っ
た後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法
としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適で
ある。また、フロート法以外の連続成形法、たとえば、
フュージョン法、ダウンドロー法にも好適である。本発
明のガラスおよびガラス基板は、特に磁気ディスク基板
に好適である。
法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえ
ば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるよう
に調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリ
ング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、
周知のフロート法、プレス法、フュージョン法またダウ
ンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成
形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行っ
た後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法
としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適で
ある。また、フロート法以外の連続成形法、たとえば、
フュージョン法、ダウンドロー法にも好適である。本発
明のガラスおよびガラス基板は、特に磁気ディスク基板
に好適である。
【００３６】
【実施例】各成分の原料を表のＳｉＯ2からＹ2Ｏ3まで
の欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白
金るつぼを用いて１４５０〜１５５０℃の温度で３〜５
時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融
ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化し
た。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷
した。
の欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白
金るつぼを用いて１４５０〜１５５０℃の温度で３〜５
時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融
ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化し
た。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷
した。
【００３７】こうして得られたガラス板について、ヤン
グ率Ｅ（単位：ＧＰａ）、ガラス転移点Ｔg（単位：
℃）、液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4Ｐとなる
温度Ｔ4（単位：℃）、前記ＮL（単位：個／ｃｍ2）お
よび前記ＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）を、以下に示す
方法により測定した。結果を表１に示す。
グ率Ｅ（単位：ＧＰａ）、ガラス転移点Ｔg（単位：
℃）、液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4Ｐとなる
温度Ｔ4（単位：℃）、前記ＮL（単位：個／ｃｍ2）お
よび前記ＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）を、以下に示す
方法により測定した。結果を表１に示す。
【００３８】Ｅ：厚さが１０〜２０ｍｍ、大きさが４ｃ
ｍ×４ｃｍのガラス板について、超音波パルス法により
測定した。 Ｔg：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料と
して室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸
び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくな
る温度、すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲
線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とし
た。
ｍ×４ｃｍのガラス板について、超音波パルス法により
測定した。 Ｔg：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料と
して室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸
び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくな
る温度、すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲
線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とし
た。
【００３９】ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス
粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、
温度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出してい
るガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。 Ｔ4：回転粘度計により測定した。
粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、
温度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出してい
るガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。 Ｔ4：回転粘度計により測定した。
【００４０】ＮL、ＮS：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気
圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラ
ス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察
し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１
μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントした。
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気
圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラ
ス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察
し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１
μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントした。
【００４１】例１〜３０のガラスは実施例、例３１〜３
３のガラスは比較例である。例３１は従来ガラスであ
り、例３２および例３３はＷＯ９９／０６３３３に開示
されているガラスである。
３のガラスは比較例である。例３１は従来ガラスであ
り、例３２および例３３はＷＯ９９／０６３３３に開示
されているガラスである。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
【００４４】
【表３】
【００４５】
【表４】
【００４６】
【発明の効果】本発明によれば、以下のような特長を有
する情報記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （１）ヤング率が高く、基板のたわみや反りが小さく、
基板を薄板化できる。これにより、記録装置の磁気ディ
スク搭載枚数を増加できる。 （２）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。したがってこの付着
物に起因する、下地膜、磁性膜、保護膜等の膜はがれが
起こりにくい。 （３）ガラス転移点が高く、磁性層形成熱処理温度を高
くできる。これにより、磁性層の保磁力を増加でき記録
密度を増加できる。
する情報記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （１）ヤング率が高く、基板のたわみや反りが小さく、
基板を薄板化できる。これにより、記録装置の磁気ディ
スク搭載枚数を増加できる。 （２）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。したがってこの付着
物に起因する、下地膜、磁性膜、保護膜等の膜はがれが
起こりにくい。 （３）ガラス転移点が高く、磁性層形成熱処理温度を高
くできる。これにより、磁性層の保磁力を増加でき記録
密度を増加できる。
【００４７】（４）ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が
小さく、ガラス溶融窯を用いた大量生産ができる。 （５）フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法等
の連続成形法による成形ができ、高品質のガラス基板を
大量生産できる。
小さく、ガラス溶融窯を用いた大量生産ができる。 （５）フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法等
の連続成形法による成形ができ、高品質のガラス基板を
大量生産できる。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA01 BB01 BB06 CC04 DA06 DA07 DB01 DB02 DB03 DB04 DC01 DD01 DE01 DE02 DE03 DF01 EA01 EA02 EA03 EA04 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EF02 EF03 EF04 EG01 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM29 NN29 NN33 NN34 5D006 CB04 CB07
Claims (6)
- 【請求項１】モル％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜７５、 Ａｌ2Ｏ3 ０〜２０、 ＭｇＯ ０〜２０、 ＣａＯ ０〜１．９９、 ＳｒＯ ０．１〜２０、 ＺｎＯ ０〜４、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜７、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２０、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０、 Ｋ2Ｏ ０〜１０、 からなる情報記録媒体基板用ガラス。
- 【請求項２】ヤング率が８５ＧＰａ以上である請求項１
に記載の情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項３】ガラス転移点が５５０℃以上である請求項
１または２に記載の情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項４】液相温度をＴL（単位：℃）、粘度が１０4
Ｐとなる温度をＴ4（単位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５
０である請求項１、２または３に記載の情報記録媒体基
板用ガラス。 - 【請求項５】請求項１、２、３または４に記載の情報記
録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基
板。 - 【請求項６】請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基
板であって、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時
間保持した該ガラス基板表面に存在する、大きさが１０
μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であり、大き
さが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０5個／
ｃｍ2以下である情報記録媒体用ガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000219073A JP4572453B2 (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000219073A JP4572453B2 (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002029774A true JP2002029774A (ja) | 2002-01-29 |
| JP2002029774A5 JP2002029774A5 (ja) | 2007-07-05 |
| JP4572453B2 JP4572453B2 (ja) | 2010-11-04 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000219073A Expired - Fee Related JP4572453B2 (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
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|---|---|
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Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
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| WO2008062847A1 (fr) * | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Asahi Glass Company, Limited | Verre pour substrat support d'enregistrement d'informations |
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-
2000
- 2000-07-19 JP JP2000219073A patent/JP4572453B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US8603653B2 (en) | 2009-08-10 | 2013-12-10 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate and method of manufacturing the same, and magnetic recording medium |
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