JP2002029145A - インク受像シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インク吸収性、耐水性及び印字性に優れたイ
ンク受像シートを得る。 【解決手段】 基材と、この基材の少なくとも一方の面
に形成された無機多孔質層と、この無機多孔質層上の有
機多孔質層とでインク受像シートを構成する。無機多孔
質層は、バインダー樹脂と無機粉粒体とを、前者／後者
＝２／１００〜５０／１００（重量比）程度の割合で含
んでおり、有機多孔質層は、セルロース系樹脂、ビニル
系重合体、ポリスルホン系重合体などで構成できる。前
記無機多孔質層の平均空孔径は０．１〜２０μｍ程度、
空孔率は３５〜７０％程度であり、有機多孔質層の平均
空孔径は０．１〜５μｍ程度、空孔率が２０〜７０％程
度である。有機多孔質層は相転換法によるミクロ相分離
構造を有している。無機多孔質層と有機多孔質層との厚
みの比は、前者／後者＝０．５／１〜１０／１程度であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット記
録方式におけるインクの吸収性、インク定着性、耐水
性、印字性及び画像の耐久性に優れたインク受像シート
に関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット記録方式は、フルカラー
化が容易であり、低騒音で印字品質に優れている。ま
た、インクジェットプリンターは低価格で、しかも高速
化が容易であるため、コンピュータ用記録装置、ワード
プロセッサ、コピー機などの印字・出力装置として広く
用いられている。このようなインクジェット記録方式で
は、使用する記録シートのインク吸収性が低い場合、飛
翔させたインク小滴の周辺にインクが飛散したり、記録
終了後もインクが記録用シートの表面に長時間残り、装
置の一部への接触、取り扱い者への接触や、記録シート
の重ね合せにより、記録部分が汚れる。また、高密度画
像部では、多量に供給されたインクが吸収されないまま
混合されるとともに流れ出し、不鮮明な画像となる。こ
のため、記録用シートは、速やかにインクを吸収するこ
と、及び高い定着性が要求される。

【０００３】インクジェット記録方式において、耐水性
を向上させるため、顔料を用いたインクが検討されてい
る。しかし、染料インクと異なり、粒子状の顔料インク
ではインク受容層に対する定着性ひいては耐水性が低下
する。

【０００４】特開平４−２６３９８２号公報には、基材
上に、酢酸セルロースからなる多孔質層を設け、その上
層に擬ベーマイトからなる色素の担持層を設けた記録シ
ートが提案されている。このような記録シートでは、微
細孔を有する擬ベーマイト層が色素を選択的によく吸着
し、多孔質層が溶媒を吸収するため、色濃度が高く鮮明
な印刷物が得られる。しかし、擬ベーマイト層の細孔が
非常に小さいため、特に顔料インクを用いる場合に画像
の耐久性が劣る。また、多孔質層の細孔も小さいため、
溶媒の吸収性に劣る。

【０００５】ＷＯ９８／２５９９７では、セルロース誘
導体、ビニル系重合体、ポリスルホン系重合体などで構
成され、波長４００ｎｍの光線透過率が３０％以上であ
る多孔質膜が開示されており、前記多孔質膜がミクロ相
分離構造を有することが記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、染料インク又は顔料インクであっても、インク吸収
性、インク定着性、及び印字性に優れ、耐水性及び画像
の耐久性が向上したインク受像シートを提供することに
ある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意検討の結果、基材と、基材上の無
機多孔質層と、この無機多孔質層上の有機多孔質層とで
インク受像シートを構成すると、インク吸収性、インク
定着性、印字性及び画像の耐久性を大幅に改善できるこ
とを見出し、本発明を完成した。

【０００８】すなわち、本発明のインク受像シートは、
基材と、この基材の少なくとも一方の面に形成された無
機多孔質層と、この無機多孔質層上の有機多孔質層とで
構成されている。無機多孔質層は、バインダー樹脂と無
機粉粒体とを、前者／後者＝２／１００〜５０／１００
（重量比）程度の割合で含んでいてもよい。有機多孔質
層は、セルロース系樹脂、ビニル系重合体、ポリスルホ
ン系重合体などで構成できる。前記無機多孔質層の平均
空孔径は０．１〜２０μｍ程度、空孔率は３５〜７０％
程度であってもよい。有機多孔質層は相転換法によるミ
クロ相分離構造を有し、有機多孔質層の平均空孔径は
０．１〜５μｍ程度、空孔率が２０〜７０％程度であっ
てもよい。無機多孔質層と有機多孔質層との厚みの比
は、０．５／１〜１００／１程度であってもよい。

【０００９】

【発明の実施の形態】［基材］基材の材質については特
に制限はなく、透明、半透明、及び不透明のいずれであ
ってもよく、例えば、紙、塗工紙、不織布、プラスチッ
クフィルムなどが挙げられる。プラスチックフィルムを
構成するポリマーとしては、例えば、ポリプロピレンな
どのポリオレフィン、ポリスチレン、ポリビニルアルコ
ール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、酢酸セル
ロースなどのセルロース誘導体、ポリエステル（ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートな
どのポリアルキレンテレフタレート、ポリアルキレンナ
フタレートなど）、ポリアミドなどが挙げられ、さらに
これらの共重合体、ブレンド物、架橋物を用いてもよ
い。

【００１０】これらのフィルムのうち、通常、ポリオレ
フィン（特に、ポリプロピレンなど）、ポリエステル
（特に、ポリエチレンテレフタレートなど）、ポリアミ
ドなどが使用され、特に、機械的強度、作業性などの点
からポリエステル（特にポリエチレンテレフタレートな
ど）が好ましい。

【００１１】プラスチックフィルムなどの基材には、必
要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、滑
剤、顔料などの慣用の添加剤を添加してもよい。また、
無機多孔質層との接着性を改善するため、コロナ放電処
理やアンダーコート処理などの表面処理を行ってもよ
い。

【００１２】基材の厚みは、通常、２０〜２００μｍ程
度の範囲から選択でき、好ましくは５０〜１７０μｍ程
度、さらに好ましくは８０〜１５０μｍ程度である。 ［無機多孔質層］無機多孔質層は、通常、無機粉粒体と
バインダー樹脂とで構成される。無機粉粒体としては、
例えば、シリカ、石英粉、ガラスビーズ、ガラス粉、ガ
ラスフレークなどの酸化ケイ素；ケイ酸カルシウム、ケ
イ酸アルミニウム、アルミノケイ酸マグネシウム、カオ
リン、クレー、タルク、ケイ藻土、ウォラストナイト、
焼成珪成土などのケイ酸塩；酸化亜鉛、酸化チタン、酸
化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化
ジルコニウム、酸化アルミニウム（アルミナなど）、酸
化鉄などの金属酸化物；セリサイトなどの鉱物質基材；
ホワイトカーボンなどの炭素質基材；炭酸カルシウム、
炭酸バリウムなどの金属炭酸塩；硫酸バリウムなどの金
属の硫酸塩；水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物；
アルミニウム粉、鉄粉などの金属粉；炭化ケイ素、窒化
ケイ素、窒化ホウ素などのセラミックス；ゼオライト
（合成ゼオライトなど）などが例示できる。このような
無機粉粒体は、顔料として機能させてもよい。好ましい
無機粉粒体は、前記例示の金属酸化物（酸化アルミニウ
ムなど）、金属炭酸塩、金属水酸化物などである。無機
粉粒体は１種又は２種以上適宜選択して併用可能であ
る。

【００１３】無機粉粒体の平均粒径は、０．１〜１０μ
ｍ、好ましくは０．１〜５μｍ、さらに好ましくは０．
１〜２μｍ程度である。

【００１４】また、無機多孔質層は、前記無機粉粒体に
加えて、有機系粉粒体を含んでいてもよい。有機系粉粒
体としては、各種樹脂［アミノ樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリスチレン樹脂、アクリル系樹脂［ポリメタクリ
ル酸などの（メタ）アクリル酸系樹脂、ポリメタクリル
酸メチルなどの（メタ）アクリル酸エステル系樹脂な
ど］、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ベン
ゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂など］
の粉粒体などが使用できる。このような有機粉粒体の平
均粒径は、無機粉粒体の平均粒径と同程度の範囲から選
択できる。

【００１５】バインダー樹脂としては、特に制限され
ず、種々の樹脂や高分子などが使用できるが、水性イン
クを使用するインクジェット記録方式においては、親水
性高分子（親水性樹脂）などが好ましい。親水性高分子
としては、例えば、親水性天然高分子又はその誘導体
（アルギン酸ナトリウム、アラビアゴムなど）、セルロ
ース誘導体（セルロースエステル類、カルボキシメチル
セルロースなどのセルロースエーテル類など）、ビニル
アルコール系重合体（ポリビニルアルコール、エチレン
−ビニルアルコール共重合体など）、酢酸ビニル系共重
合体（酢酸ビニル−アクリル酸メチル共重合体など）、
ポリアルキレンオキサイド（ポリエチレンオキサイド、
エチレンオキサイド−プロピレンオキサイドブロック共
重合体など）、カルボキシル基又はスルホン酸基を有す
る重合体又はその塩［アクリル系重合体（ポリ（メタ）
アクリル酸又はその塩（アンモニウム、ナトリウムなど
のアルカリ金属塩）、メタクリル酸メチル−（メタ）ア
クリル酸共重合体、ビニルエーテル系重合体（ポリビニ
ルＣ_1-4アルキルエーテル、メチルビニルエーテル−無
水マレイン酸共重合体など）、スチレン系重合体（スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−（メタ）ア
クリル酸共重合体、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム
など）、ポリビニルスルホン酸ナトリウムなど］、窒素
含有重合体（又はカチオン性ポリマー）又はその塩［ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、
ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドなどの４
級アンモニウム塩、ポリジメチルアミノエチル（メタ）
アクリレート塩酸塩、ポリビニルピリジン、ポリビニル
イミダゾール、ポリエチレンイミン、ポリアミドポリア
ミン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ウ
レタン系樹脂など］などが挙げられる。これらの親水性
高分子は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

【００１６】好ましいバインダー樹脂は、セルロース誘
導体（特にヒドロキシエチルセルロースなど）、ビニル
アルコール系重合体（特にポリビニルアルコール、変性
ポリビニルアルコールなど）、ビニルエステル系重合体
（特に酢酸ビニル系共重合体など）、ポリビニルピロリ
ドン、ウレタン系樹脂などである。

【００１７】また、前記親水性高分子のうち、（１）ポ
リオキシアルキレン単位，（２）アセトアセチル基，
（３）カルボキシル基，（４）酸無水物基および（５）
アミノ基から選択された少なくとも１つの官能基を有す
る高分子も好ましい。

【００１８】前記ビニルエステル系重合体（酢酸ビニル
系共重合体など）は、ビニルエステル（酢酸ビニルな
ど）と他の共重合性モノマー［親水性基（例えば、カル
ボキシル基、スルホン酸基やこれらの塩、ヒドロキシル
基、エーテル基など）を有する親水性モノマーなど］と
の共重合体であり、その部分ケン化物（例えば、ケン化
度１０〜９０％程度の部分ケン化物）なども含まれる。

【００１９】（１）オキシアルキレン単位を有する親水
性高分子において、オキシアルキレン単位を有する好ま
しいモノマーには、オキシアルキレン単位がオキシエチ
レン単位であるビニル単量体である（メタ）アクリレー
ト、特にポリオキシアルキレン（メタ）アリルエーテル
（なかでもポリオキシエチレンアリルエーテル）が含ま
れる。

【００２０】酢酸ビニル系共重合体において、共重合性
モノマーの割合は、画像の鮮明性などを損なわない範囲
で選択でき、例えば、モノマー全体の０．１〜５０モル
％、好ましくは１〜３０モル％、さらに好ましくは２．
５〜２５モル％（例えば、３〜２０モル％）程度であ
る。

【００２１】なお、酢酸ビニルとポリオキシアルキレン
単位を有するビニル単量体との共重合体（変性酢酸ビニ
ル系樹脂）は、例えば、日本合成化学（株）から商品名
「ＯＫＳ−７１５８Ｇ」などとして入手できる。

【００２２】（２）アセトアセチル基変性親水性高分子
には、ヒドロキシル基を有する親水性高分子とアセト酢
酸エステルとの反応により生成するアセトアセチル基含
有親水性高分子、例えば、アセトアセチル基変性酢酸ビ
ニル系共重合体（アセトアセチル基含有ポリビニルアル
コール，アセトアセチル基含有セルロース誘導体など）
が含まれる。

【００２３】（３）カルボキシル基変性親水性高分子に
は、（3a）カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、
例えば、ビニルエステル（酢酸ビニルなど）とカルボキ
シル基含有不飽和単量体（（メタ）アクリル酸などのモ
ノカルボン酸、マレイン酸などのジカルボン酸又はこれ
らの酸無水物もしくはモノアルキルエステルなど）との
共重合体の部分ケン化物、例としては、スチレン−（メ
タ）アクリル酸共重合体、酢酸ビニル−（メタ）アクリ
ル酸共重合体などのケン化物など、（3b）カルボキシル
基含有多糖類、例えば、カルボキシＣ_1-4アルキルセル
ロース、カルボキシメチルデキストランなどが含まれ
る。

【００２４】（４）酸無水物基含有親水性高分子には、
アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、エ
チレン−無水マレイン酸共重合体、（メタ）アクリル酸
エステル−無水マレイン酸共重合体などが含まれる。

【００２５】（５）アミノ基含有親水性高分子には、ポ
リアミド−ポリアミン、ポリビニルアミン、ポリ（Ｎ−
ビニルホルムアミド）の部分加水分解物、アミノ基含有
多糖類などが挙げられる。

【００２６】また、前記ウレタン系樹脂は、芳香族ジイ
ソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネートな
ど）、芳香脂肪族ジイソシアネート（例えば、キシリレ
ンジイソシアネートなど）、脂環式ジイソシアネート
（例えば、イソホロンジイソシアネートなど）、及び脂
肪族ジイソシアネート（例えば、１，６−ヘキサメチレ
ンジイソシアネートなど）から選択された少なくとも１
つのジイソシアネート成分と、ポリエステルポリオール
（Ｃ_2-10アルキレンジオール及びポリオキシＣ_2-4アル
キレングリコールから選択された少なくとも一種の脂肪
族ジオールとアジピン酸などのＣ_6-20脂肪族ジカルボン
酸との反応により得られたポリエステルジオール、カプ
ロラクトンなどのラクトンから誘導されたポリエステル
ジオールなど）、ポリエーテルポリオール（ポリエーテ
ルジオールなど）、及びポリカーボネートポリオール
（ポリカーボネートジオールなど）から選択された少な
くとも１つのポリオール成分との反応により得られるウ
レタン系重合体で構成できる。前記反応には、必要によ
りジアミン成分を鎖伸長剤として使用してもよい。ウレ
タン系重合体は単独で又は二種以上組み合わせて使用で
きる。

【００２７】ウレタン系樹脂は、水溶液、水性エマルジ
ョンとして用いてもよい。ウレタン系樹脂の水溶液又は
水性エマルジョンは、ウレタン系樹脂を、乳化剤を用い
て、溶解又は乳化分散させて調製してもよく、ウレタン
系樹脂の分子内に遊離のカルボキシル基や３級アミノ基
などのイオン性官能基を導入し、アルカリや酸を用い
て、ウレタン系樹脂を溶解又は分散させることにより調
製してもよい。ウレタン系樹脂としては、通常、第３級
アミノ基を有するカチオン型ウレタン系樹脂が用いられ
る。前記第３級アミノ基はハロゲン化アルキルなどと４
級アンモニウム塩を形成してもよい。このようなカチオ
ン型のウレタン系樹脂としては、例えば、パーマリンＵ
Ｃ-２０（三洋化成（株）製）などを使用してもよい。

【００２８】バインダー樹脂と無機系粉粒体との割合
は、無機多孔質層を形成可能な範囲、例えば、１／１０
０〜１００／１００（重量比）程度の広い範囲から選択
でき、通常、２／１００〜５０／１００（重量比）、好
ましくは３／１００〜３０／１００（重量比）程度であ
る。

【００２９】前記無機多孔質層において、平均空孔径は
０．１〜２０μｍ、好ましくは１〜１５μｍ、さらに好
ましくは３〜１０μｍ程度である。平均空孔径が０．１
μｍ未満では、インクを速やかに吸収するのが困難とな
り、インク受像シート表面での乾燥状態を即座に得られ
ない虞がある。また、平均空孔径が２０μｍを越える
と、無機多孔質層の強度、ひいてはインク受像シートの
強度が低下する虞がある。

【００３０】無機多孔質層の空孔率は３５〜７０％、好
ましくは４０〜６０％程度である。空孔率が３５％未満
では、インクを吸収する表面積が少ないため、インクに
対する吸収能が低く、７０％を越えると、無機多孔質の
強度、ひいてはインク受像シートの強度が低下する虞が
ある。

【００３１】無機多孔質層の厚さは、特に制限されず、
用途に応じて選択でき、例えば、１〜１００μｍ（例え
ば、５〜１００μｍ）、好ましくは２〜７０μｍ、さら
に好ましくは５〜５０μｍ程度である。無機多孔質層の
膜厚が小さすぎると、インクに対する吸収能が低く、イ
ンク受像シート表面での乾燥状態を速やかに得られない
虞が生じる。 ［有機多孔質層］有機多孔質層は、ミクロ相分離構造、
特に相転換法によるミクロ相分離構造を有していてもよ
い。このミクロ相分離構造は、流延した樹脂溶液の組成
変化により相分離したゲル相の凝固により形成され、形
成される細孔の形状は、通常、不定形であり、不規則で
非円形である。

【００３２】前記有機多孔質層を構成する樹脂として
は、前記構造を有する限り、特に制限されず種々の樹脂
（熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂）が使用でき、通
常、熱可塑性樹脂が使用される。以下の樹脂又は重合体
などが例示できる。

【００３３】セルロース系樹脂（セルロース誘導体）：
セルロースエステル、例えば、セルロースアセテート，
セルロースプロピオネート，セルロースブチレート，セ
ルロースアセテートプロピオネート，セルロースアセテ
ートブチレート，セルロースアセテートフタレートなど
の有機酸エステル；硝酸セルロース，硫酸セルロース，
リン酸セルロースなどの無機酸エステル；硝酸酢酸セル
ロースなどの混酸エステルなど

【００３４】セルロースエーテル、例えば、Ｃ_1-4アル
キルセルロース，ベンジルセルロース，ヒドロキシエチ
ルセルロースなどのヒドロキシＣ_2-3アルキルセルロー
ス，カルボキシメチルセルロース，カルボキシエチルセ
ルロース，シアノエチルセルロースなど）

【００３５】ビニル系重合体：オレフィン系重合体、例
えば、オレフィン類の単独又は共重合体（ポリ１−ブテ
ン，ポリイソブテン，ポリブタジエン，ポリイソプレ
ン，エチレン−プロピレン共重合体など）、オレフィン
類と共重合性単量体との共重合体（エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体，エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体，
エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体など）

【００３６】ハロゲン含有ビニル重合体、例えば、ハロ
ゲン含有ビニル単量体の単独又は共重合体（ポリビニル
クロライドなど）、ハロゲン含有ビニル単量体と共重合
性単量体との共重合体（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体，塩化ビニリデン−酢酸ビニル共重合体，塩化ビニリ
デン−（メタ）アクリル酸共重合体，塩化ビニリデン−
（メタ）アクリル酸エステル共重合体など）

【００３７】ビニルエステル系重合体又はその誘導体、
例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール，エチ
レン−ビニルアルコール共重合体，ポリビニルアセター
ル系重合体（ポリビニルフォルマール，ポリビニルアセ
タール，ポリビニルブチラールなど）

【００３８】スチレン系重合体、例えば、芳香族ビニル
単量体（スチレン系単量体）の単独又は共重合体（ポリ
スチレン，ポリ（α−メチルスチレン）など）、芳香族
ビニル単量体と共重合性単量体との共重合体（スチレン
−（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエステル共重合
体，スチレン−無水マレイン酸共重合体，スチレン−マ
レイミド共重合体など） アリルアルコール系重合体（アリルアルコール−Ｃ_1-6
アルキルビニルエーテル共重合体など）、ポリビニルケ
トン類、ポリビニルエーテル類など （メタ）アクリル系重合体、例えば、（メタ）アクリル
系単量体［（メタ）アクリロニトリル，（メタ）アクリ
ル酸エステル単量体など］の単独又は共重合体、（メ
タ）アクリル系単量体と共重合性単量体［ビニルエステ
ル系単量体，複素環式ビニル系単量体，芳香族ビニル単
量体，重合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体などの
ビニル系単量体］との共重合体

【００３９】ポリスルホン系重合体：ポリスルホン，ポ
リエーテルスルホンなど

【００４０】ポリオキシド系重合体：ポリオキシエチレ
ン，ポリオキシプロピレン，ポリオキシエチレン−ポリ
オキシプロピレン共重合体など

【００４１】ポリアミドおよびポリイミド系重合体：ポ
リアミド（ナイロン６，ナイロン６６など），ポリエス
テルアミド，ポリイミド，ポリアミドイミドなど

【００４２】ポリエステル系重合体（飽和ポリエステル
など）：ポリＣ_2-6アルキレンテレフタレート（ポリブ
チレンテレフタレートなど），ポリＣ_2-6アルキレンナ
フタレートを主たる成分とするホモポリエステル又はコ
ポリエステル（ジオール成分及びテレフタル酸の少なく
とも一部が、エチレングリコール，プロピレングリコー
ル，ブタンジオールなどのＣ_2-10アルカンジオール，ポ
リオキシＣ_2-4アルキレングリコール，シクロヘキサン
ジメタノールなどのジオール成分，フタル酸，イソフタ
ル酸などの芳香族ジカルボン酸又はその酸無水物，アジ
ピン酸などのＣ_6-12脂肪族ジカルボン酸などの他のジオ
ール又はジカルボン酸成分で置換したコポリエステルな
ど）

【００４３】ポリカーボネート：芳香族ポリカーボネー
ト（ビスフェノールＡ型ポリカーボネートなど）

【００４４】他の重合体：熱可塑性ウレタン系重合体
（ジオール成分としてポリエステルジオール，ポリエー
テルジオールなどを用いたポリウレタンなど），ポリエ
ーテルエーテルケトン，ポリエーテルエステル，ポリフ
ェニレンエーテル，ポリフェニレンスルフィド，ポリエ
チレンイミンなど これらの樹脂又は重合体は単独でまたは二種以上混合し
て使用できる。

【００４５】好ましい樹脂には、セルロース誘導体、ビ
ニル系重合体およびポリスルホン系重合体から選択され
た少なくとも一種の樹脂が含まれる。

【００４６】ビニル系重合体のうち、（メタ）アクリロ
ニトリル系重合体および（メタ）アクリル酸エステル系
重合体が好ましい。すなわち、（メタ）アクリロニトリ
ル，（メタ）アクリル酸エステル系単量体から選択され
た少なくとも一種の（メタ）アクリル系単量体の単独又
は共重合体、この（メタ）アクリル系単量体と他の共重
合性単量体［ビニルエステル系単量体，複素環式ビニル
系単量体，芳香族ビニル単量体，重合性不飽和ジカルボ
ン酸又はその誘導体などから選択された少なくとも一種
の単量体］との共重合体が好ましい。

【００４７】（メタ）アクリロニトリル系重合体には、
ポリアクリロニトリル、（メタ）アクリロニトリルと共
重合性単量体との共重合体が含まれる。前記共重合性単
量体としては、例えば、ビニルエステル系単量体（酢酸
ビニルなど）、（メタ）アクリル系単量体［（メタ）ア
クリル酸などの（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエス
テル；ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；グリ
シジル（メタ）アクリレートなどのモノ又はジアルキル
アミノ−アルキル（メタ）アクリレート；（メタ）アク
リルアミド又はその誘導体など］、複素環式ビニル系単
量体（ビニルピロリドン，ビニルピリジン，ビニルイミ
ダゾール，ビニルカルバゾールなどの窒素原子，酸素原
子およびイオウ原子から選択された少なくとも一種のヘ
テロ原子を含む５〜６員複素環式ビニル系単量体な
ど）、芳香族ビニル単量体（スチレンなど）、重合性不
飽和ジカルボン酸又はその誘導体（イタコン酸、マレイ
ン酸、無水マレイン酸，フマル酸，これらの低級アルキ
ルエステル，マレイミド，Ｎ−アルキルマレイミド，Ｎ
−フェニルマレイミドなど）などが例示できる。これら
の共重合性単量体は単独で又は二種以上組み合わせて使
用できる。

【００４８】好ましい共重合性単量体には、ビニルエス
テル系単量体（酢酸ビニルなど）、（メタ）アクリル系
単量体［（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸Ｃ
_1-8アルキルエステル、Ｃ_1-4アルキルアミノ−Ｃ_2-4ア
ルキル（メタ）アクリレートなど］、窒素含有複素環式
ビニル系単量体（ビニルピロリドンなど）又はこれらの
組合わせが含まれる。

【００４９】（メタ）アクリロニトリル系共重合体とし
ては、例えば、アクリロニトリル−ビニルピロリドン共
重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−Ｃ_1-8アルキル（メタ）アクリレート共
重合体（アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合
体など）、アクリロニトリル−ビニルピロリドン−Ｃ
_1-8アルキル（メタ）アクリレート共重合体、アクリロ
ニトリル−酢酸ビニル−Ｃ_1-8アルキル（メタ）アクリ
レート共重合体、アクリロニトリル−（メタ）アクリル
酸共重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル−（メタ）
アクリル酸共重合体、アクリロニトリル−Ｃ_1-8アルキ
ル（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体
などが例示できる。

【００５０】（メタ）アクリル酸エステル系重合体とし
ては、前記（メタ）アクリル酸エステルの単独又は共重
合体［例えば、ポリ（メタ）アクリル酸，ポリ（メタ）
アクリル酸Ｃ_1-18アルキルエステルの単独又は共重合
体］、（メタ）アクリル系単量体と共重合性単量体（ビ
ニルエステル系単量体，芳香族ビニル単量体，重合性不
飽和ジカルボン酸又はその誘導体など）との共重合体
［例えば、（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエステル
−スチレン共重合体，（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキ
ルエステル−（メタ）アクリル酸−スチレン共重合体な
ど］などが例示できる。

【００５１】前記有機多孔質層は、水性インクに対する
濡れ性が高く、孔中に水性インクが侵入するに十分な親
水性表面を有するものであってもよい。このような有機
多孔質層は、親水性樹脂で構成できる。なお、親水性樹
脂とは、接触角が８０°未満（好ましくは０〜６０°、
特に０〜４０°程度）の重合体を意味する。接触角と
は、室温で、重合体面上の水滴の広がりが停止した状態
で、水滴の表面と重合体面との交点において、水滴に対
する接線と重合体面との間の角度である。

【００５２】有機多孔質層において、平均空孔径は、
０．０１〜５μｍ（例えば、０．１〜５μｍ）、好まし
くは、０．１〜３μｍ程度である。平均空孔径が０．０
１μｍ未満では、インクが空孔に吸収されにくく、乾燥
性、インク定着性、及び画像の耐久性が低下し、５μｍ
を超えると画像の鮮明性や塗膜の強度などが低下する虞
がある。

【００５３】なお、有機多孔質層の平均空孔径より、前
記無機多孔質層の平均空孔径を大きくすると、インク受
像シートの表面において速やかに乾燥状態が得られると
共に、画像の鮮明性を向上できる。このような場合、無
機多孔質層の平均空孔径は、例えば、３〜１５μｍ、好
ましくは５〜１０μｍ程度であり、有機多孔質層の平均
空孔径は、例えば、０．１〜２μｍ、好ましくは０．２
〜１．５μｍ程度である。

【００５４】また、有機多孔質層において、空孔率は２
０〜７０％、好ましくは３０〜６０％程度である。空孔
率が２０％未満では、インク吸収性が低下し、インクが
無機多孔質層へスムーズに移行しない虞が生じ、７０％
を超えると有機多孔質層の強度が低下する虞がある。

【００５５】有機多孔質層の膜厚は、例えば、１〜３０
０μｍ、好ましくは１〜１００μｍ、さらに好ましくは
３〜５０μｍ（例えば、５〜５０μｍ）程度である。膜
厚が小さすぎると強度が不十分となり、膜厚が大きすぎ
ると、画像の鮮明性が低下する虞がある。

【００５６】無機多孔質層と有機多孔質層との厚みの比
は、例えば、前者／後者＝０．５／１〜１０／１、好ま
しくは１／１〜５／１、さらに好ましくは１／１〜３／
１程度である。

【００５７】前記無機多孔質層及び／又は有機多孔質層
には、耐水性を付与するために、架橋剤を添加してもよ
く、硬化反応を促進するために、硬化剤（硬化触媒又は
硬化促進剤）を添加してもよい。

【００５８】多孔質層を構成する樹脂がヒドロキシル基
を有する場合、架橋剤としては、カルボキシル基又は酸
無水物基を有する化合物（多価カルボン酸又はその酸無
水物など）、アルデヒド化合物、エポキシ化合物、窒素
含有化合物（尿素樹脂、グアナミン樹脂、メラミン樹脂
などのアミノ樹脂；エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン、ポリオキシアルキレン型ジアミン又はポリア
ミン（すなわち、ポリエーテル型ジアミン又はポリアミ
ン）などの脂肪族、脂環族、芳香族ジアミン又はポリア
ミンなど）、アクリルアミド化合物、イソシアネート化
合物（ポリイソシアネート、ブロック型ポリイソシアネ
ートなど）］、金属化合物［ホウ酸又はホウ酸塩（硼砂
など）、ジルコニウム化合物（例えばハロゲン化物、硫
酸などの無機酸や酢酸などの有機酸との塩など）、チタ
ニウム化合物（例えば、テトラエトキシチタネートなど
のアルコキシドなど）、アルミニウム化合物（例えば、
トリメトキシアルミネートなどのアルコキシドなど）、
リン化合物（例えば、亜リン酸エステル、ビスフェノー
ルＡ変性ポリリン酸など）、シランカップリング剤（ア
ルコキシ基、グリシジル基などの反応性官能基を有する
シリコーン化合物）など］などが使用でき、多価カルボ
ン酸又はその酸無水物、金属化合物などが好ましい。こ
れらの架橋剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて使
用できる。

【００５９】前記硬化剤としては、例えば、有機アルミ
ニウム化合物、有機チタニウム化合物、有機ジルコニウ
ム化合物、酸性化合物、酸性リン酸エステル、前記酸性
リン酸エステルとアミンの混合物または反応物が挙げら
れる。これらの硬化剤は単独で又は２種以上を混合して
用いることができる。

【００６０】硬化剤の使用量は、硬化性を促進できる範
囲、例えば、固形分換算で、無機多孔質層及び／又は有
機多孔質層を構成する樹脂成分１００重量部に対して
０.０１〜１０重量部、好ましくは０.１〜５重量部程度
である。

【００６１】無機多孔質層及び／又は有機多孔質層は、
必要に応じて、染料固着剤を含有していてもよい。ま
た、無機多孔質層及び／又は有機多孔質層を染料固着剤
で処理（含浸、浸漬など）してもよい。染料固着剤を用
いると、例えば、染料インクを使用しても、染料の定着
性、画像の鮮明性及び画像の耐久性を向上できる。染料
固着剤（高分子染料固着剤）は、通常、分子中にカチオ
ン基（特に、グアニジル基や第４級アンモニウム塩型の
強いカチオン基）を有している。染料固着剤は水溶性で
あってもよい。染料固着剤としては、特開平１０−２６
４５１１号公報に開示されている染料固着剤、例えば、
ジシアン系固着剤、ポリアミン系固着剤、ポリカチオン
系固着剤などが利用できる。 ［インク受像シートの製造方法］本発明のインク受像シ
ートは、基材の少なくとも一方の面に、無機粉粒体とバ
インダー樹脂とを含む塗布液を塗布して、無機多孔質層
を形成し、この無機多孔質層上に有機多孔質層の構成成
分を含む樹脂溶液を塗布し、相分離により有機多孔質層
を形成することにより製造できる。

【００６２】無機多孔質層は、バインダー樹脂と無機粉
粒体とを含む塗布液を、適当な溶媒（水、水溶性であっ
てもよい親水性溶媒、疎水性溶媒又はこれらの混合溶
媒）を用いて調製し、基材フィルムの少なくとも一方の
面にこの塗布液を塗布し、必要により乾燥させることに
より形成できる。

【００６３】無機多孔質層を構成する成分を含む塗布液
の濃度は、特に制限されないが、例えば、０．１〜３０
重量％、好ましくは１〜２０重量％、さらに好ましくは
３〜１５重量％程度の範囲から選択できる。

【００６４】無機多孔質層上の有機多孔質層は、ミクロ
相分離法、例えば、有機多孔質層を構成する樹脂の良溶
媒溶液を流延又は塗布し、前記樹脂に対する貧溶媒に浸
漬する湿式相分離法で製造することも可能であるもの
の、乾式相転換法、すなわち、有機多孔質層を構成する
樹脂と、この樹脂に対する良溶媒と、前記樹脂に対する
貧溶媒とを含む均一なドープを、基材の少なくとも一方
の面に形成された無機多孔質層上に流延又は塗布し、溶
媒を蒸発させてミクロ相分離を生じさせることにより製
造できる。このような乾式相転換による有機多孔質層の
製造は、例えば、特開平１１−７１４７６号公報を参照
できる。このような乾式相転換法では、良溶媒よりも沸
点の高い溶媒（高沸点溶媒）を貧溶媒として使用するこ
とが肝要である。

【００６５】上記乾式相分離プロセスにおいて、有機多
孔質層の孔径を制御するには、良溶媒と貧溶媒の選定が
重要である。

【００６６】良溶媒としては、樹脂の種類などに応じ
て、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルプロピルケトンなどのＣ_3-5ジアルキルケト
ン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（ギ酸エチル
などのギ酸Ｃ_1-4アルキルエステル、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの酢酸Ｃ_1-4アルキルエステ
ル、プロピオン酸エチル、乳酸エチルなど）、エーテル
類（１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン，テトラ
ヒドロピラン，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエー
テル，ジメトキシエタンなどの環状又は鎖状Ｃ_4-6エー
テル）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、ブチルセロソルブなどのＣ_1-4アルキル−セロ
ソルブ）、セロソルブアセテート類（メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブアセテートなどのＣ_1-4
アルキル−セロソルブアセテート）、芳香族炭化水素類
（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭
化水素類（塩化メチレン、塩化エチレンなど）、アミド
類（ホルムアミド，アセトアミドなどのアシルアミド
類、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミ
ド，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのモノ又はジＣ_1-4アシルアミド
類）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなどのジ
Ｃ_1-3アルキルスルホキシド）、ニトリル類（アセトニ
トリル、クロロアセトニトリル、プロピオニトリル、ブ
チロニトリルなどＣ_1-6アルキルニトリル，ベンゾニト
リルなど）、有機酸類（ギ酸、酢酸、プロピオン酸な
ど）、有機酸無水物（無水マレイン酸、無水酢酸な
ど）、およびこれらの混合物から選択できる。良溶媒
は、ニトロ化合物（ニトロメタン、ニトロエタン、ニト
ロプロパンなど）、低級アルコール類（メタノール、エ
タノールなどのＣ_1-4アルコール、ジアセトンアルコー
ルなど）を含んでいてもよい。

【００６７】良溶媒は樹脂の種類に応じて選択できる。
例えば、セルロース誘導体の好ましい良溶媒には、アセ
トンなどのＣ_3-5ジアルキルケトン類（特にアセトン、
メチルエチルケトン）、酢酸エチルなどの酢酸Ｃ_1-4ア
ルキルエステル類（特に酢酸メチル、酢酸エチル）、ジ
オキサン、ジメトキシエタンなどの環状又は鎖状Ｃ_{4- 6}
エーテル類、Ｃ_1-4アルキル−セロソルブ類（特にメチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ）、Ｃ_1-4アルキル−
セロソルブアセテート類（特にメチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブアセテート）およびこれらの混
合溶媒などが含まれる。セルロース誘導体がセルロース
アセテートである場合、特に好ましい良溶媒には少なく
ともＣ_3-5ジアルキルケトン類（特にアセトン）、Ｃ_1-2
アルキル−セロソルブ類（中でもメチルセロソルブ）な
どを含む溶媒が含まれる。

【００６８】ビニル系重合体のうち（メタ）アクリル酸
系重合体の好ましい良溶媒には、ケトン類（アセトン、
メチルエチルケトン、メチルプロピルケトンなどのＣ
_3-5ジアルキルケトン、シクロヘキサノンなど）、エス
テル類（ギ酸エチルなどのギ酸Ｃ_1-4アルキルエステ
ル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸Ｃ
_1-4アルキルエステル、プロピオン酸エチル、乳酸エチ
ルなど）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キ
シレンなど）、ハロゲン化炭化水素類（塩化メチレン、
塩化エチレンなど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなど）、スル
ホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、エーテル類
（テトラヒドロフラン，１，４−ジオキサンなどの環状
エーテルなど）およびこれらの混合溶媒などが含まれ
る。

【００６９】良溶媒の沸点は、３５〜２００℃（例え
ば、３５〜１８０℃）、好ましくは３５〜１７０℃（例
えば、３５〜１６０℃）、さらに好ましくは４０〜１６
０℃（例えば、４０〜１２５℃）程度の範囲から選択で
き、通常、３５〜１５０℃（例えば、３５〜１３０℃）
程度である。良溶媒は、その蒸気圧が２００ｍｍＨｇに
なる温度が、１０〜７０℃、好ましくは１０〜５０℃程
度である。

【００７０】貧溶媒とは、樹脂に対する溶解性がない
か、又は溶解性の低い溶媒を意味し、前記良溶媒よりも
沸点が高ければいずれの溶媒も使用できる。そのため貧
溶媒の種類は、特に制限されない。貧溶媒としては、例
えば、エステル類（ギ酸アミル、ギ酸イソアミルなどの
ギ酸Ｃ_5-8アルキルエステル、酢酸ブチル，酢酸アミ
ル、酢酸ヘキシル、酢酸オクチル，酢酸３−メトキシブ
チル，酢酸３−エトキシブチル，プロピオン酸ブチル，
プロピオン酸３−メトキシブチルなどのＣ_1-4アルコキ
シ基を有していてもよいＣ_2-4脂肪族カルボン酸Ｃ_3-10
アルキルエステル（例えば、Ｃ_1-4アルコキシ基を有し
ていてもよい酢酸Ｃ_4-10アルキルエステル）、安息香酸
メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピルなどの安息
香酸Ｃ_1-4アルキルエステル類）、アルコール類（シク
ロペンタノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘ
キサノール、ジメチルシクロヘキサノール、シクロオク
タノールなどのＣ_1-4アルキル基が置換していてもよい
Ｃ_4-8シクロアルカノール、アミルアルコール、イソア
ミルアルコール、ヘキシルアルコールなどのＣ_5-8アル
コール類、２−ブトキシエタノール，３−ブトキシプロ
パノールなどのＣ_2-6アルコキシ−Ｃ_1-4アルコール類、
フルフリルアルコールなどの複素環式アルコールな
ど）、ケトン類（メチルブチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルペンチルケトン、メチルイソペンチル
ケトン、２，６−ジメチル−４−ヘプタノンなどのＣ
_3-10ジアルキルケトン（特にＣ_6-10ジアルキルケト
ン）、アセトニルアセトン、アセトフェノンなど）、エ
ーテル類（メチルフェニルエーテル、メトキシトルエ
ン、ジブチルエーテル、ベンジルエチルエーテルなどの
Ｃ_7-10エーテル)、脂肪族炭化水素類（ヘキサン，オク
タン，ノナン，デカンなどのＣ_5-20脂肪族炭化水素類）
およびこれらの混合物が例示できる。

【００７１】セルロース誘導体の好ましい貧溶媒には、
エステル類（ギ酸Ｃ_5-8アルキルエステル、安息香酸Ｃ
_1-4アルキルエステルなど）、Ｃ_4-8シクロアルカノー
ル、Ｃ _6-10ジアルキルケトンおよびＣ_7-10エーテルから
選択された少なくとも一種の溶媒、特に少なくともＣ
_5-7シクロアルカノール（中でもシクロヘキサノール
類）を含む溶媒が含まれる。シクロヘキサノール類に
は、シクロヘキサノール，メチルシクロヘキサノール、
ジメチルシクロヘキサノールなどのモノ又はジＣ_1-2ア
ルキル置換体が含まれる。

【００７２】アクリロニトリル系重合体、（メタ）アク
リル酸エステル系重合体、ポリスルホン系重合体の好ま
しい貧溶媒には、Ｃ_1-4アルコキシ基を有していてもよ
い酢酸アルキルエステル（酢酸３−メトキシブチル、酢
酸３−メトキシペンチルなどの酢酸Ｃ_1-4アルコキシＣ
_3-7アルキルエステルなど）、２−ブトキシエタノー
ル、２−ヘキシルオキシエタノールなどのＣ_4-8アルコ
キシＣ_1-4アルキルアルコール、ケトン類（メチルブチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケ
トン、メチルイソペンチルケトンなどのＣ_6-10ジアルキ
ルケトン、アセトニルアセトン、アセトフェノン）など
が含まれる。

【００７３】貧溶媒の沸点は、通常、１００〜２３０
℃、好ましくは１２０〜２００℃程度である。貧溶媒
は、通常、前記良溶媒よりも２０℃以上（２０〜６０℃
程度）、好ましくは３０〜５０℃程度高い沸点を有して
いる。貧溶媒は、その蒸気圧が２００ｍｍＨｇになる温
度が５０〜２００℃、好ましくは７０〜１５０℃程度で
ある。

【００７４】良溶媒及び貧溶媒のそれぞれの蒸気圧が２
００ｍｍＨｇになる温度の差は、５０〜２００℃、好ま
しくは７０〜１５０℃程度である。

【００７５】良溶媒と貧溶媒との割合は、樹脂の均一溶
液を形成できる限り特に制限されず、通常、良溶媒１０
０重量部に対して貧溶媒１〜２００重量部（例えば、２
〜２００重量部) 、好ましくは３〜１８０重量部( 例え
ば、５〜１８０重量部) 、さらに好ましくは５〜１７０
重量部( 例えば、１０〜１７０重量部) 程度であり、通
常、５〜１５０重量部程度である。

【００７６】さらに、ドープ液の樹脂の含有量は、樹脂
（重合体）の重合度などに応じて選択でき、例えば、３
〜３０重量％、好ましくは３〜２５重量％、特に３〜２
０重量％（例えば、３〜１５重量％）程度である。

【００７７】ドープ液は、樹脂５〜３０重量％程度の良
溶媒溶液１００重量部に対して、貧溶媒５〜１７０重量
部程度を含んでいる。ドープ液は、好ましくは、樹脂５
〜２０重量％（特に５〜１５重量％）程度の良溶媒溶液
１００重量部に対して、析出を抑制しつつ、貧溶媒５〜
１７０重量部（好ましくは５〜１５０重量部）程度を添
加することにより調製できる。

【００７８】前記ドープ液及び無機多孔質層を構成する
成分を含む塗布液は、慣用の流延又は塗布方法、例え
ば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレードコ
ーター、ロッドコーター、バーコーター、コンマコータ
ー、グラビアコーター、シルクスクリーンコーター法な
どにより、基材又は無機多孔質層上に流延又は塗布され
る。

【００７９】塗布されたドープ液を乾燥する乾燥工程で
は、沸点の低い良溶媒が優先的に蒸発する。この良溶媒
の蒸発の進行に伴い、ドープ液中の樹脂の溶解性が低下
し、樹脂はミセル（ゲル相）を形成して貧溶媒相と相分
離する。さらに乾燥が進むと、ミセルが接触し網目構造
が形成され、貧溶媒の蒸発の完了により、有機多孔質層
が形成される。

【００８０】塗布されたドープ液は、一段で乾燥でき、
乾燥工程における乾燥温度は、例えば、５０〜１５０
℃、好ましくは８０〜１３０℃程度であり、乾燥時間
は、例えば、２秒〜３０分、好ましくは１〜１０分程度
である。また、ドープ液は、先ず低温で乾燥して、沸点
の低い良溶媒を蒸発させ（例えば、実質的に沸点の低い
良溶媒の蒸発を完了させ）、次いで高温での乾燥により
残存する貧溶媒の蒸発を行う二段階乾燥を行ってもよ
い。このような二段階による乾燥方法は、例えば、特開
平１１−７１４７６号公報を参照できる。

【００８１】無機多孔質層及び／又は有機多孔質層を構
成する塗布液（又はドープ）には、これらの多孔質層の
特性を損なわない範囲で慣用の添加剤、例えば、消泡
剤、塗布性改良剤、増粘剤、滑剤、安定剤（酸化防止
剤，紫外線吸収剤，熱安定剤など）、帯電防止剤、アン
チブロッキング剤などを添加してもよい。

【００８２】前記乾式相転換により無機多孔質層上に有
機多孔質層を形成すると、インク吸収性、インク定着
性、及び耐水性などの特性に優れたインク受像シートを
高い生産性で製造することができる。

【００８３】前記製造方法により得られたインク受像シ
ートは、インク吸収性、インク定着性及び耐水性に優
れ、画像の鮮明性（印字品質）が良好であり、インクの
小滴を飛翔させて記録するインクジェット方式による記
録用シートとして有用であるが、オフセット印刷、フレ
キソ印刷などの印刷用シート（特に水性インキ用シー
ト）などとしても利用できる。また、基材や無機多孔質
層の透明性が高い場合には、オーバーヘッドプロジェク
ター（ＯＨＰ）用のシートとしても利用できる。

【００８４】

【発明の効果】本発明のインク受像シートは、基材と、
この基材の少なくとも一方の面に形成された無機多孔質
層と、この無機多孔質層上の有機多孔質層とで構成する
ため、インク吸収性、インク定着性、耐水性及び印字性
に優れ、画像の耐久性を向上できるとともに、染料イン
ク又は顔料インクを用いて印字しても、高品質の画像を
形成できる。

【００８５】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。

【００８６】実施例及び比較例で得られたインク受像シ
ートにおける平均孔径、空孔率、耐水性、印字性および
インク吸収性は、以下のようにして評価した。

【００８７】なお、画像形成にはインクジェットプリン
ター（ＥＮＣＡＤ製、ＮＯＶＡＪＥＴ・ＰＲＯ）を使用
し、実施例及び比較例で得られた記録用シートに、顔料
タイプ水性インク（イエロー、マゼンタ、シアン、ブラ
ックの各々の色）をベタで印刷し、記録画像を形成し
た。 ［平均孔径および空孔率］＜多孔質層＞倍率５０００倍
で撮影した電子顕微鏡表面写真において、３箇所の所定
面積（２ｃｍ×２ｃｍ）を画像処理装置で処理し、電子
顕微鏡表面写真の各孔を真円として孔径を測定し、平均
することにより平均空孔径を求めた。

【００８８】空孔率（％）は、計算式（孔の全面積／測
定面積）×１００により算出した。

【００８９】＜多孔質インク吸収層＞ 倍率２００倍で
撮影した電子顕微鏡表面写真において、３箇所の所定面
積（２ｃｍ×２ｃｍ）を画像処理装置で処理し、電子顕
微鏡表面写真の各孔を真円として孔径を測定し、平均す
ることにより平均空孔径を求めた。

【００９０】空孔率（％）は、多孔質層の計算と同様と
した。 [耐水性]２５℃にて十分に水を含んだ綿棒で印字部を１
０往復こすり、下記の基準で印字部を目視で評価した。

【００９１】 ◎ 印字部が完全に残っている ○ 印字部に滲みが認められる × 印字部が残っていない ［印字性］印字した画像形成部を下記の基準で、目視で
評価した。

【００９２】 ◎ 滲みがなく、画像が鮮明である ○ やや滲みを生ずる × 滲みを激しく生ずる ［インク吸収性］印字した後、一定時間ごとに印字部に
ＰＰＣ用コピー紙を載せ、コピー用紙の上から過重（２
５０ｇ／ｃｍ²（２．４５×１０⁴Ｐａ））を１０秒間か
けた後、コピー用紙を剥がし、インクの裏移りの程度を
目視で判断し、裏移りが認められなくなるまでの時間を
基準にしてインク吸収性を評価した。

【００９３】◎ 裏移りが認められなくなるまでの時間
が１分以内である ○ 裏移りが認められなくなるまでの時間が３分以内で
ある × 裏移りが認められなくなるまでの時間が５分以内で
ある 実施例１ ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ＩＣ
Ｉジャパン（株）製、「メリネックス３３９」、厚さ７
５μｍ）上に、変性ポリビニルアルコール（日本合成化
学工業（株）製、「ＯＫＳ７１５８Ｇ」、けん化度８８
％）５重量％の水溶液１００重量部に対し、粒径１μｍ
の酸化アルミニウム粒子１００重量部を添加した塗布液
を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１２
０℃で３分間乾燥させ、無機多孔質インク吸収層を得
た。この無機多孔質インク吸収層の平均空孔径は、７．
１μｍであり、空孔率は６０．２％であった。

【００９４】次いで、酢酸セルロース（平均酢化度：５
５、粘度平均重合度：２５０）１０重量％のアセトン溶
液１００重量部にシクロヘキサノール１００重量部を添
加した塗布液を、有機多孔質層の厚みが１０μｍになる
よう塗布し１２０℃で５間分乾燥した。得られたインク
受像シートにおいて、有機多孔質層の空孔率は５１．１
％であり、表面の平均空孔径は１．２μｍであった。

【００９５】実施例２ 実施例１と同様のＰＥＴフィルム上に、カチオン性ウレ
タンエマルション（三洋化成（株）製、「パーマリンＵ
Ｃ−２０」）１０重量％の水溶液１００重量部に対し、
粒径１μｍの酸化アルミニウム粒子７０重量部を添加し
た塗布液を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布
し、１２０℃で３分間乾燥させ、無機多孔質インク吸収
層を得た。この無機多孔質インク吸収層の平均空孔径
は、６．３μｍであり、空孔率は５５．８％であった。

【００９６】次いで、アクリロニトリル（ＡＮ）−ビニ
ルピロリドン（ＶＰ）共重合体（ＤＵＹ、ＡＮ／ＶＰ＝
０．９８／０．０２モル比、ダイセル化学工業（株）
製）１０重量％のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液１
００重量部に、よく攪拌しながら酢酸３−メトキシブチ
ル１５重量部を添加して作製した塗布液を、有機多孔質
層の厚みが１０μｍになるよう塗布し、７０℃−９０％
ＲＨの条件で１．５分乾燥した後、１２０℃で３分間乾
燥した。得られたインク受像シートにおいて、有機多孔
質層の空孔率は、４７．６％であり、表面の平均空孔径
は０．３μｍであった。

【００９７】比較例１ 実施例１と同様のＰＥＴフィルム上に、変性ポリビニル
アルコール（日本合成化学工業（株）製、「ＯＫＳ７１
５８Ｇ」、けん化度８８％）１８重量％の水溶液１００
重量部に対し、マレイン酸２重量部を添加した塗布液
を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１２
０℃で３分間乾燥させた。

【００９８】比較例２ 塗布液を酢酸セルロース（平均酢化度：５５、粘度平均
重合度：２５０）１０重量％のアセトン溶液とする以外
は、実施例１と同様にした。得られたインク受像シート
の表面は、孔を有しない透明な層であった。

【００９９】比較例３ 実施例１と同様のＰＥＴフィルム上に、酢酸セルロース
（平均酢化度：５５、粘度平均重合度：２５０）１０重
量％のアセトン溶液１００重量部にシクロヘキサノール
１００重量部を添加した塗布液を、多孔質層の厚みが１
０μｍになるよう塗布し１２０℃で５間分乾燥した。得
られたインク受像シートにおいて、多孔質層の空孔率は
５１．１％であり、表面の平均空孔径は１．２μｍであ
った。

【０１００】

【表１】 表１から明らかなように、実施例のインク受像シートを
用いると、耐水性、印字性、インク吸収性が良好であ
る。これに対して，比較例1のインク受像シートは、シ
ートの構成が多孔質でないため、インク吸収性、耐水性
が劣っている。比較例２のインク受像シートを用いる
と、多孔質膜が形成されていないため、全ての項目にお
いて劣っている。また、比較例３のインク受像シートで
は、インクを受容するだけの厚みを有していないため、
にじみを激しく呈し、印字性が悪い。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C056 EA05 EA13 FB01 FB02 FB03 FC06 2H086 BA01 BA13 BA15 BA19 BA33 BA35 BA36 BA41

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材と、この基材の少なくとも一方の面
   に形成された無機多孔質層と、この無機多孔質層上の有
   機多孔質層とで構成されているインク受像シート。
2. 【請求項２】 無機多孔質層が、バインダー樹脂と無機
   粉粒体とを、前者／後者＝２／１００〜５０／１００
   （重量比）の割合で含む請求項１記載のインク受像シー
   ト。
3. 【請求項３】 有機多孔質層が、セルロース系樹脂、ビ
   ニル系重合体及びポリスルホン系重合体から選択された
   少なくとも一種で構成されている請求項１記載のインク
   受像シート。
4. 【請求項４】 無機多孔質層の平均空孔径が０．１〜２
   ０μｍ、空孔率が３５〜７０％であり、有機多孔質層が
   相転換法によるミクロ相分離構造を有し、かつ有機多孔
   質層の平均空孔径が０．１〜５μｍ、空孔率が２０〜７
   ０％である請求項１記載のインク受像シート。
5. 【請求項５】 無機多孔質層の厚さが５〜１００μｍ、
   有機多孔質層の厚さが１〜１００μｍであり、無機多孔
   質層と有機多孔質層との厚みの比が、前者／後者＝０．
   ５／１〜１０／１である請求項１記載のインク受像シー
   ト。