JP2000143848A - インク受像シート及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インク吸収性及びインク定着性に優れたイン
ク受像シートを得る。 【解決手段】 一方の表面の平均空孔径が０．０５〜３
μｍ程度であり、空孔が前記一方の表面から他方の表面
に向かって大きくなり、前記他方の表面の平均空孔径が
前記一方の表面の平均空孔径の２〜２０倍程度である多
孔質膜でインク受像シートを構成する。前記多孔質膜の
空孔率は、２０〜７０％程度であってもよい。前記多孔
質膜は、セルロース系樹脂、ビニル系重合体及びポリス
ルホン系重合などの樹脂で構成できる。前記インク受像
シートは、樹脂とこの樹脂に対する良溶媒及び貧溶媒と
を含む塗膜を乾式相転換し、前記多孔質膜を形成するこ
とにより製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、インク受像シート
及びその製造方法に関する。さらに詳しくはインクジェ
ット記録方式におけるインクの吸収性、インク定着性及
び印字性に優れたインク受像シート及びその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット記録方式は、フルカラー
化が容易であり、低騒音で印字品質に優れている。ま
た、インクジェットプリンターは低価格で、しかも高速
化が容易であるため、コンピュータ用記録装置、ワード
プロセッサ、コピー機などの印字・出力装置として広く
用いられている。インクジェット記録用のインク成分と
しては、安全性、記録適性の点から主に水系インクが使
用され、ノズルから記録用シートにむけてインク小滴を
飛翔させることにより記録が行われる。そして、使用す
る記録シートのインク吸収性が低い場合、飛翔させたイ
ンク小滴の周辺にインクが飛散したり、記録終了後もイ
ンクが記録用シートの表面に長時間残り、装置の一部へ
の接触、取り扱い者への接触や、記録シートの重ね合せ
により、記録部分が汚れる。また、高密度画像部では、
多量に供給されたインクが吸収されないまま混合される
とともに流れ出し、不鮮明な画像となる。このため、記
録用シートは、速やかにインクを吸収すること、及び高
い定着性が要求される。

【０００３】特公昭６３−５６８７６号公報には連続被
膜中に空孔を有する多孔性樹脂層を備えたインクジェッ
ト記録用シートが開示されている。このようなシートで
は、多孔性樹脂層を備えることにより、インク定着性は
向上するものと考えられるが、空孔を有する多孔性樹脂
だけでインク吸収層を形成した場合、インク吸収性（特
に印字表面の速乾性など）及び印字結果などに限界があ
る。

【０００４】特開平４−２６３９８２号公報には、基材
上に、酢酸セルロースからなる多孔質層を設け、その上
層に擬ベーマイトからなる色素の担持層を設けた記録シ
ートが提案されている。

【０００５】特開昭６１−８６２５１号公報には、基材
フィルム層の少なくとも片面に、液体吸収層を積層する
とともに、この液体吸収層に多孔質プラスチックシート
薄膜層（直径0 ．01〜0 ．1 μｍの孔が多数形成された
ポリエチレン又はポリプロピレンフィルム）を熱プレス
により積層した記録用シートが開示されている。しか
し、前記多孔質薄膜層の調製方法については記載されて
いない。

【０００６】ＷＯ９８／２５９９７では、セルロース誘
導体、ビニル形重合体、ポリスルホン系重合体などで構
成され、波長４００ｎｍの光線透過率が３０％以上であ
る多孔質膜が開示されており、前記多孔質膜がミクロ相
分離構造を有することが記載されている。

【０００７】なお、インクジェット記録方式において、
耐水性を向上させるため、顔料を用いたインクが検討さ
れている。しかし、染料インクと異なり、粒子状の顔料
インクではインク受容層に対する定着性ひいては耐水性
が低下する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、染料インク又は顔料インクであっても、インク吸収
性、インク定着性及び印字性に優れ、画像の耐久性が向
上したインク受像シート及びその製造方法を提供するこ
とにある。

【０００９】本発明の他の目的は、インク吸収性がさら
に向上したインク受像シート及びその製造方法を提供す
ることにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意検討の結果、一方の表面から他方
の表面に向かって（厚み方向に向かって）空孔径が大き
くなる多孔質膜でインク受像シートを構成すると、イン
ク吸収性、インク定着性及び印字性を大幅に改善できる
ことを見出し、本発明を完成した。

【００１１】すなわち、本発明のインク受像シートは、
一方の表面の平均空孔径が０．０５〜３μｍ程度であ
り、空孔が前記一方の表面から他方の表面に向かって大
きくなり、前記他方の表面の平均空孔径が、前記一方の
表面の平均空孔径の２〜２０倍程度である多孔質膜で構
成されている。前記多孔質膜の空孔率は、２０〜７０％
程度であってもよい。前記多孔質膜は、セルロース系樹
脂、ビニル系重合体及びポリスルホン系重合体などの樹
脂で構成できる。

【００１２】本発明のインク受像シートは、少なくとも
前記多孔質膜で構成でき、樹脂とこの樹脂に対する良溶
媒及び貧溶媒とを含む塗膜を乾式相転換し、前記多孔質
膜を形成することにより製造できる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。 ［多孔質膜］本発明のインク受像シートは、少なくとも
一方の表面から他方の表面へ厚み方向に向かって空孔径
が大きくなる多孔質膜で構成されている。この多孔質膜
では、一方の表面の空孔に比べて、通常、他方の表面側
の空孔の空孔径が大きい。そのため、印字の際に、前記
一方の表面に飛翔したインク（顔料インクなどであって
もよい水性インクなど）は、一方の表面側の細孔を通過
して、他方の表面側の比較的大きな空孔に速やかに吸収
されるため、鮮明な画像を得ることができるとともに、
シート表面の見かけ上の乾燥状態をより速く得ることが
できる。

【００１４】前記インク受像シートにおいて、一方の表
面の平均空孔径は０．０５〜３μｍ、好ましくは０．１
〜３μｍ、さらに好ましくは０．３〜２．５μｍ程度で
あり、多孔質膜中の空孔は、一方の表面から他方の表面
へ厚み方向に向かって大きくなっている。他方の表面に
おける平均空孔径は、前記一方の表面の平均空孔径の２
〜２０倍、好ましくは５〜１５倍、さらに好ましくは７
〜１０倍程度である。前記一方の表面の平均空孔径が、
０．０５μｍ未満であったり、他方の表面の平均空孔径
が２倍未満では、インクが空孔に吸収され難く、乾燥
性、インク定着性及び画像の耐久性が低下し、前記一方
の表面の平均空孔径が３μｍを超えたり、他方の表面の
平均空孔径が２０倍を超えると、画像の鮮明性や塗膜の
強度などが低下する。

【００１５】インク吸収性は多孔質膜の空孔率にも影響
される。前記多孔質膜において、膜全体の空孔率は２０
〜７０％、好ましくは３０〜６０％程度である。空孔率
が２０％未満では、吸収面の表面積が少ないため、膜の
インクに対する吸収能が低く、７０％を超えると、多孔
質膜自体の強度が低下する虞がある。

【００１６】多孔質層は透明，半透明又は不透明のいず
れであってもよい。本発明では、孔径や空孔率を調整す
ることにより、用途によっては透明性の高い多孔質膜を
得ることも可能である。透明性の高い多孔質膜は、例え
ば、他方の表面の平均空孔径が０．４μｍ以下であり、
一方の表面の平均孔径が、０．１〜０．２μｍ程度であ
る。このようなインク受像シートは、波長４００ｎｍで
の光線透過率が、５５％以上（すなわち５５〜１００
％）、好ましくは６０〜１００％、さらに好ましくは７
０〜１００％、特に７５〜１００％程度であれば、ＯＨ
Ｐ用シートとしても有用である。透明性を重視する場
合、多孔質膜の空孔率は、例えば、２０〜７０％、好ま
しくは２０〜６０％（例えば、２０〜４５％）程度であ
るのが望ましい。

【００１７】前記多孔質膜は、樹脂で構成されており、
ミクロ相分離構造、特に乾式相転換によるミクロ相分離
構造を有していてもよい。このミクロ相分離構造は、流
延した樹脂溶液の組成変化により相分離したゲル相の凝
固により形成され、形成される細孔の形状は、通常、不
定形であり、不規則で非円形である。

【００１８】前記多孔質膜を構成する樹脂としては、前
記特徴を有する多孔質膜を形成できる限り、特に制限さ
れず種々の樹脂（熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂）が
使用でき、通常、熱可塑性樹脂が使用される。以下の樹
脂又は重合体などが例示できる。

【００１９】セルロース系樹脂（セルロース誘導体）： セルロースエステル、例えば、セルロースアセテート，
セルロースプロピオネート，セルロースブチレート，セ
ルロースアセテートプロピオネート，セルロースアセテ
ートブチレート，セルロースアセテートフタレートなど
の有機酸エステル；硝酸セルロース，硫酸セルロース，
リン酸セルロースなどの無機酸エステル；硝酸酢酸セル
ロースなどの混酸エステルなど セルロースエーテル、例えば、メチルセルロース，エチ
ルセルロース，イソプロピルセルロース，ブチルセルロ
ース，ベンジルセルロース，ヒドロキシエチルセルロー
ス，ヒドロキシプロピルセルロース，カルボキシメチル
セルロース，カルボキシエチルセルロース，シアノエチ
ルセルロースなど ビニル系重合体： オレフィン系重合体、例えば、オレフィン類の単独又は
共重合体（ポリエチレン，ポリプロピレン，ポリ１−ブ
テン，ポリイソブテン，ポリブタジエン，ポリイソプレ
ン，ポリアレン，エチレン−プロピレン共重合体な
ど）、オレフィル類と共重合性単量体との共重合体（エ
チレン−酢酸ビニル共重合体，エチレン−（メタ）アク
リル酸共重合体，エチレン−（メタ）アクリル酸エステ
ル共重合体、変性ポリオレフィンなど） ハロゲン含有ビニル重合体、例えば、ハロゲン含有ビニ
ル単量体の単独又は共重合体（ポリビニルクロライド，
ポリビニリデンクロライド，ポリビニルブロマイド，ポ
リビニルフロライド，ポリビニリデンフロライドな
ど）、ハロゲン含有ビニル単量体と共重合性単量体との
共重合体（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体，塩化ビニ
リデン−酢酸ビニル共重合体，塩化ビニリデン−（メ
タ）アクリルアミド共重合体，塩化ビニリデン−（メ
タ）アクリル酸共重合体，塩化ビニリデン−（メタ）ア
クリル酸エステル共重合体など） ビニルエステル系重合体又はその誘導体、例えば、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール，エチレン−ビニル
アルコール共重合体，ポリビニルアセタール系重合体
（ポリビニルフォルマール，ポリビニルアセタール，ポ
リビニルブチラールなど） スチレン系重合体、例えば、芳香族ビニル単量体（スチ
レン系単量体）の単独又は共重合体（ポリスチレン，ポ
リ（α−メチルスチレン），ポリ（４−クロロスチレ
ン）など）、芳香族ビニル単量体と共重合性単量体との
共重合体（スチレン−（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキ
ルエステル共重合体，スチレン−無水マレイン酸共重合
体，スチレン−マレイミド共重合体など） アリルアルコール系重合体、例えば、アリルアルコール
−Ｃ_1-6 アルキルビニルエーテル共重合体（アリルアル
コール−メチルビニルエーテル共重合体など）ポリビニ
ルケトン類、例えば、ポリビニルメチルケトン，ポリビ
ニルメチルイソブチルケトン，ポリメチルイソプロペニ
ルケトンなど ポリアルキルビニルエーテル、例えば、ポリメチルビニ
ルエーテル，メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共
重合体など （メタ）アクリル系重合体、例えば、（メタ）アクリル
系単量体［（メタ）アクリロニトリル，（メタ）アクリ
ル酸エステル単量体など］の単独又は共重合体、（メ
タ）アクリル系単量体と共重合性単量体［ビニルエステ
ル系単量体，複素環式ビニル系単量体，芳香族ビニル単
量体，重合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体などの
ビニル系単量体］との共重合体 ポリスルホン系重合体：ポリスルホン，ポリエーテルス
ルホンなど ポリオキシド系重合体：ポリオキシメチレンやポリオキ
シメチレンコポリマー（ポリアセタール樹脂），ポリオ
キシエチレン，ポリオキシプロピレン，ポリオキシエチ
レン−ポリオキシプロピレン共重合体など ポリアミドおよびポリイミド系重合体：ポリアミド（ナ
イロン６，ナイロン６６，ナイロン１１，ナイロン１
２，ナイロン６／１１，ナイロン６／１２など），ポリ
エステルアミド，ポリイミド，ポリアミドイミドなど ポリエステル系重合体（飽和ポリエステルなど）：ポリ
Ｃ_2-6 アルキレンテレフタレート（ポリエチレンテレフ
タレート，ポリブチレンテレフタレートなど），ポリＣ
_2-6 アルキレンナフタレート（ポリエチレンナフタレー
トなど）、コポリエステル（ジオール成分及びテレフタ
ル酸の少なくとも一部が、エチレングリコール，プロピ
レングリコール，ブタンジオール，ヘキサンジオール，
ポリオキシＣ_2-4 アルキレングリコール，シクロヘキサ
ンジメタノールなどのジオール成分，フタル酸，イソフ
タル酸などの芳香族ジカルボン酸またはその酸無水物，
アジピン酸などのＣ_6-12脂肪族ジカルボン酸などの他の
ジオール成分またはジカルボン酸成分で置換したポリア
ルキレンテレフタレート系コポリエステルやポリアルキ
レンナフタレート系コポリエステルなど） ポリカーボネート：芳香族ポリカーボネート（ビスフェ
ノールＡ型ポリカーボネートなど） 他の重合体：熱可塑性ウレタン系重合体（ジオール成分
としてポリエステルジオール，ポリエーテルジオールな
どを用いたポリウレタンなど），ポリエーテルエーテル
ケトン，ポリエーテルエステル，ポリフェニレンエーテ
ル，ポリフェニレンスルフィド，ポリエチレンイミンな
ど これらの樹脂又は重合体は単独でまたは二種以上混合し
て使用できる。

【００２０】好ましい樹脂には、セルロース誘導体、ビ
ニル系重合体およびポリスルホン系重合体から選択され
た少なくとも一種の樹脂が含まれる。好ましいセルロー
ス誘導体は、セルロースエステル、例えば、セルロース
有機酸エステル（例えば、炭素数２〜４程度の有機酸と
のエステル）、特にセルロースアセテート（セルロース
ジアセテートやセルローストリアセテートなど）が含ま
れる。

【００２１】セルロース誘導体（セルロースエステルな
ど）の粘度平均重合度は、例えば、５０〜８００、好ま
しくは７５〜５００、さらに好ましくは１００〜２５０
（特に１００〜２００）程度である。粘度平均重合度１
００〜１９０程度のセルロースアセテートも有効に使用
できる。

【００２２】セルロースアセテートなどのセルロースエ
ステルの粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田
和夫、斎藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻１号、１０５〜
１２０頁、１９６２年）により測定できる。すなわち、
メチレンクロライド／メタノール＝９／１（重量比）の
混合溶液に精秤したセルロースエステルを溶解し、所定
の濃度ｃ（２．００ｇ／Ｌ）の溶液を調整する。この溶
液をオストワルド粘度計に注入し、２５℃で粘度計の刻
線間を溶液が通過する時間（秒）ｔを測定する。一方、
前記混合溶剤単独についても上記と同様にして通過する
時間（秒）ｔ₀を測定し、下記式に従って、粘度平均重
合度を算出する。

【００２３】η_rel ＝ｔ／ｔ₀ ［η］＝（ｌｎη_rel ）／ｃ ＤＰ＝［η］／（６×１０^-4） （式中、ｔは溶液の通過時間（秒）、ｔ₀ は溶媒の通過
時間（秒）、ｃは溶液のセルロースエステル濃度（ｇ／
Ｌ）、η_rel は相対粘度、［η］は極限粘度、ＤＰは平
均重合度を示す） セルロース誘導体の平均置換度は、１〜３程度の範囲か
ら選択できる。例えば、好ましいセルロースアセテート
では、例えば、平均酢化度４２〜６２％（４３〜６０
％）程度、好ましくは４２〜５７％程度である。置換度
（酢化度）が小さすぎると溶媒に対する溶解度が低下す
る。また、粘度平均重合度が小さすぎると多孔質膜の孔
径が小さくなり、非多孔質膜となりやすく、大きすぎる
と孔径が大きくなりやすい。

【００２４】ビニル系重合体のうち、（メタ）アクリロ
ニトリル系重合体および（メタ）アクリル酸エステル系
重合体が好ましい。すなわち、（メタ）アクリロニトリ
ル，（メタ）アクリル酸エステル系単量体から選択され
た少なくとも一種の（メタ）アクリル系単量体の単独又
は共重合体、この（メタ）アクリル系単量体と他の共重
合性単量体［ビニルエステル系単量体，複素環式ビニル
系単量体，芳香族ビニル単量体，重合性不飽和ジカルボ
ン酸又はその誘導体などから選択された少なくとも一種
の単量体］との共重合体が好ましい。

【００２５】（メタ）アクリロニトリル系重合体には、
ポリアクリロニトリル、ポリメタアクリロニトリル，
（メタ）アクリロニトリルと共重合性単量体との共重合
体が含まれる。前記共重合性単量体としては、例えば、
ビニルエステル系単量体（ギ酸ビニル，酢酸ビニル，プ
ロピオン酸ビニルなど）、（メタ）アクリル系単量体
［（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸メチル，
（メタ）アクリル酸エチル，（メタ）アクリル酸ブチ
ル，（メタ）アクリル酸ヘキシル，（メタ）アクリル酸
２−エチルヘキシルなどの（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10ア
ルキルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエ
チル，（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル，
（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチルなどのヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレート、グリシジル（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート，ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト，ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレートなど
のアルキルアミノ−アルキル（メタ）アクリレート、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリル
アミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、アルコキ
シメチル（メタ）アクリルアミドなど］、複素環式ビニ
ル系単量体（ビニルピロリドン，ビニルピリジン，ビニ
ルピペリジン，ビニルイミダゾール，ビニルカルバゾー
ルなどの窒素原子，酸素原子およびイオウ原子から選択
された少なくとも一種のヘテロ原子を含む５〜６員複素
環式ビニル系単量体など）、芳香族ビニル単量体（スチ
レン，ビニルトルエン，α−メチルスチレンなど）、重
合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体（イタコン酸、
マレイン酸、無水マレイン酸，フマル酸，これらの低級
アルキルエステル又は酸無水物，マレイミド，Ｎ−アル
キルマレイミド，Ｎ−フェニルマレイミドなど）などが
例示できる。これらの共重合性単量体は単独で又は二種
以上組み合わせて使用できる。

【００２６】好ましい共重合性単量体には、ビニルエス
テル系単量体（酢酸ビニルなど）、（メタ）アクリル系
単量体［（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸Ｃ
_1-8 アルキルエステル、Ｃ_1-4 アルキルアミノ−Ｃ_2-4
アルキル（メタ）アクリレートなど］、窒素含有複素環
式ビニル系単量体（ビニルピロリドンなど）又はこれら
の組合わせが含まれる。

【００２７】（メタ）アクリロニトリル系共重合体とし
ては、例えば、アクリロニトリル−ビニルピロリドン共
重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−Ｃ_1-8 アルキル（メタ）アクリレート共
重合体（アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合
体など）、アクリロニトリル−ビニルピロリドン−Ｃ
_1-8 アルキル（メタ）アクリレート共重合体、アクリロ
ニトリル−酢酸ビニル−Ｃ_1-8 アルキル（メタ）アクリ
レート共重合体、アクリロニトリル−（メタ）アクリル
酸共重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル−（メタ）
アクリル酸共重合体、アクリロニトリル−Ｃ_1-8 アルキ
ル（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体
などが例示できる。

【００２８】（メタ）アクリル酸エステル系重合体とし
ては、前記（メタ）アクリル酸エステルの単独又は共重
合体［例えば、ポリ（メタ）アクリル酸，ポリ（メタ）
アクリル酸Ｃ_1-18アルキルエステルの単独又は共重合体
（ポリ（メタ）アクリル酸メチル，ポリ（メタ）アクリ
ル酸エチル，ポリ（メタ）アクリル酸ブチル，メタクリ
ル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体などの（メ
タ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエステル−（メタ）アク
リル酸共重合体，メタクリル酸メチル−アクリル酸Ｃ
_1-10アルキルエステル共重合体などのメタクリル酸Ｃ
_1-10アルキルエステル−アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエス
テル共重合体など］、（メタ）アクリル系単量体と共重
合性単量体（ビニルエステル系単量体，芳香族ビニル単
量体，重合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体など）
との共重合体［例えば、メタクリル酸メチル−スチレン
共重合体などの（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエス
テル−スチレン共重合体，メタクリル酸メチル−（メ
タ）アクリル酸−スチレン共重合体などの（メタ）アク
リル酸Ｃ_1-10アルキルエステル−（メタ）アクリル酸−
スチレン共重合体など］などが例示できる。

【００２９】前記多孔質層は、水性インクに対する濡れ
性が高く、孔中に水性インクが侵入するに十分な親水性
表面を有するものであってもよい。このような多孔質層
は、親水性樹脂で構成できる。なお、親水性樹脂とは、
接触角が８０°未満（好ましくは０〜６０°、特に０〜
４０°程度）の重合体を意味する。接触角とは、室温
で、重合体面上の水滴の広がりが停止した状態で、水滴
の表面と重合体面との交点において、水滴に対する接線
と重合体面との間の角度である。

【００３０】多孔質膜の膜厚は、特に制限されず用途に
応じて選択でき、例えば、１〜１００μｍ、好ましくは
２〜７０μｍ、さらに好ましくは３〜５０μｍ程度であ
る。膜厚が小さすぎると強度が不十分となる。また、透
明性の高いインク受像シートを所望する場合、膜厚が１
００μｍを越えると、透明性が低下する虞がある。本発
明のインク受像シートは、基材の少なくとも一方の面
に、前記他方の面が接するように前記多孔質膜を形成し
てもよく、基材と多孔質膜との間（又は界面）にはイン
ク吸収層を介在させてもよい。 ［基材］基材の材質については、特に制限はなく、透
明、半透明、及び不透明のいずれであってもよい二次元
的構造の基材、例えば、紙、塗工紙、不織布、プラスチ
ックフィルムなどが挙げられ、これらのうち、プラスチ
ックフィルムが好ましい。例えば、オーバーヘッドプロ
ジェクター（ＯＨＰ）用に使用する場合、基材は、通常
透明のプラスチックフィルムである。プラスチックフィ
ルムを構成するポリマーとしては、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリ（メ
タ）アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリビニルア
ルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、酢酸
セルロースなどのセルロース誘導体、ポリエステル（ポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
トなどのポリアルキレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリア
ルキレンナフタレートなど）、ポリカーボネート、ポリ
アミド（ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド
６／１０、ポリアミド６／１２など）、ポリエステルア
ミド、ポリイミド、ポリアミドイミドなどが挙げられ、
さらにこれらの共重合体、ブレンド物、架橋物を用いて
もよい。

【００３１】これらのフィルムのうち、通常、ポリオレ
フィン（特に、ポリプロピレンなど）、ポリエステル
（特に、ポリエチレンテレフタレートなど）、ポリアミ
ドなどが使用され、特に、機械的強度、作業性などの点
からポリエステル（特にポリエチレンテレフタレートな
ど）が好ましい。

【００３２】プラスチックフィルムなどの基材には、必
要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、滑
剤、顔料などの慣用の添加剤を添加してもよい。また、
多孔質膜やインク吸収層との接着性を改善するため、コ
ロナ放電処理やアンダーコート処理などの表面処理を行
ってもよい。

【００３３】基材の厚みは、用途に応じて当業者の所望
により選択できるが、通常、インクジェットプリンター
に挿入して画像を形成することを考慮すると、例えば、
２０〜２００μｍ程度の範囲から選択でき、好ましくは
５０〜１７０μｍ程度、さらに好ましくは８０〜１５０
μｍ程度である。基材の厚みが２０μｍより薄いと、強
度及び剛性面からプリンタへの挿入、シートの反り、及
びシートの取り扱いに困難を来たし、２００μｍより厚
いと、１枚当たりの価格の上昇、シートの重量の増大に
より多数のシートの持ち運び性などが低下しやすい。

【００３４】基材上に多孔質膜を設ける場合、多孔質膜
の膜厚は、３μｍ以上（例えば、３〜１００μｍ程
度）、好ましくは５〜７０μｍ、さらに好ましくは５〜
５０μｍ程度である。 ［インク吸収層］インク吸収層は、インク又はインクの
溶媒成分を吸収可能な物質で構成でき、特に制限はな
い。インクジェット記録式においては、水性インクが多
用されているため、インク吸収層は、通常、親水性高分
子（親水性樹脂）で構成できる。

【００３５】前記親水性高分子としては、例えば、親水
性天然高分子又はその誘導体（デンプン、コーンスター
チ、アルギン酸ナトリウム、アラビアゴム、ゼラチン、
カゼイン、デキストリンなど）、セルロース誘導体（メ
チルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロース
スルフェート、シアノエチルセルロースなど）、ビニル
アルコール系重合体（ポリビニルアルコール、エチレン
−ビニルアルコール共重合体など）、エチレン系重合体
（エチレン−無水マレイン酸共重合体など）、酢酸ビニ
ル系共重合体（酢酸ビニル−アクリル酸メチル共重合体
など）、ポリアルキレンオキサイド（ポリエチレンオキ
サイド、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイドブ
ロック共重合体など）、カルボキシル基又はスルホン酸
基を有する重合体又はその塩［アクリル系重合体（ポリ
（メタ）アクリル酸又はその塩（アンモニウム、ナトリ
ウムなどのアルカリ金属塩）、メタクリル酸メチル−
（メタ）アクリル酸共重合体、アクリル酸−ポリビニル
アルコール共重合体など）、ビニルエーテル系重合体
（ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルイソブチルエ
ーテルなどのポリビニルアルキルエーテル、メチルビニ
ルエーテル−無水マレイン酸共重合体など）、スチレン
系重合体（スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレ
ン−（メタ）アクリル酸共重合体、ポリスチレンスルホ
ン酸ナトリウムなど）、ポリビニルスルホン酸ナトリウ
ムなど］、窒素含有重合体（又はカチオン性ポリマー）
又はその塩（ポリビニルベンジルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロ
ライドなどの４級アンモニウム塩、ポリジメチルアミノ
エチル（メタ）アクリレート塩酸塩、ポリビニルピリジ
ン、ポリビニルイミダゾール、ポリエチレンイミン、ポ
リアミドポリアミン、ポリアクリルアミド、ポリビニル
ピロリドンなど）などが挙げられる。これらの親水性高
分子は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

【００３６】これらの親水性高分子のうち、セルロース
誘導体（特にヒドロキシエチルセルロースなど）、ビニ
ルアルコール系重合体（特にポリビニルアルコールな
ど）、ビニルエステル系重合体（特に酢酸ビニル系共重
合体など）、ポリビニルピロリドンなどが好ましい。

【００３７】また、（１）ポリオキシアルキレン単位，
（２）アセトアセチル基，（３）カルボキシル基，
（４）酸無水物基および（５）アミノ基から選択された
少なくとも１つの官能基を有する親水性高分子も好まし
い。

【００３８】（１）前記ポリオキシアルキレン単位を有
する親水性高分子には、前記多孔質膜を構成する重合体
と同様のビニルエステル系重合体（エーテル基などの親
水性基を有するポリオキシアルキレン−酢酸ビニル共重
合体など）が使用できる。

【００３９】（２）アセトアセチル基変性親水性高分子
には、ヒドロキシル基を有する親水性高分子とアセト酢
酸エステルとの反応により生成するアセトアセチル基含
有親水性高分子、例えば、アセトアセチル基変性酢酸ビ
ニル系共重合体（アセトアセチル基含有ポリビニルアル
コール，アセトアセチル基含有セルロース誘導体など）
が含まれる。

【００４０】（３）カルボキシル基変性親水性高分子に
は、（3a）カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、
例えば、ビニルエステル（酢酸ビニルなど）とカルボキ
シル基含有不飽和単量体（（メタ）アクリル酸などのモ
ノカルボン酸、マレイン酸などのジカルボン酸又はこれ
らの酸無水物もしくはモノアルキルエステルなど）との
共重合体の部分ケン化物、例としては、スチレン−（メ
タ）アクリル酸共重合体、酢酸ビニル−（メタ）アクリ
ル酸共重合体などのケン化物など、（3b）カルボキシル
基含有多糖類、例えば、カルボキシＣ_1-4 アルキルセル
ロース、カルボキシメチルデキストランなどが含まれ
る。

【００４１】（４）酸無水物基含有親水性高分子には、
アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、エ
チレン−無水マレイン酸共重合体、（メタ）アクリル酸
エステル−無水マレイン酸共重合体などが含まれる。

【００４２】（５）アミノ基含有親水性高分子には、ポ
リアミド−ポリアミン、ポリビニルアミン、ポリ（Ｎ−
ビニルホルムアミド）の部分加水分解物、アミノ基含有
多糖類などが挙げられる。

【００４３】前記親水性高分子には、耐水性を付与する
ために、架橋剤を添加してもよい。架橋剤は、前記親水
性高分子を架橋可能である限り、特に限定されない。例
えば、前記親水性高分子がヒドロキシル基を有する場
合、架橋剤としては、有機系架橋剤［カルボキシル基又
は酸無水物基を有する化合物（多価カルボン酸又はその
酸無水物など）、アルデヒド基を有する化合物、エポキ
シ基を有する化合物、窒素含有化合物（尿素樹脂、グア
ナミン樹脂、メラミン樹脂などのアミノ樹脂；エチレン
ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリオキシアルキ
レン型ジアミン又はポリアミン（すなわち、ポリエーテ
ル型ジアミン又はポリアミン）などの脂肪族、脂環族、
芳香族ジアミン又はポリアミンなど）、アクリルアミド
基を有する化合物、イソシアネート基を有する化合物
（ポリイソシアネート、ブロック型ポリイソシアネート
など）］、金属化合物などの無機系架橋剤［ホウ酸又は
ホウ酸塩（硼砂など）、ジルコニウム化合物（例えばハ
ロゲン化物、硫酸などの無機酸や酢酸などの有機酸との
塩など）、チタニウム化合物（例えば、テトラエトキシ
チタネートなどのアルコキシドなど）、アルミニウム化
合物（例えば、トリメトキシアルミネートなどのアルコ
キシドなど）、リン化合物（例えば、亜リン酸エステ
ル、ビスフェノールＡ変性ポリリン酸など）、シランカ
ップリング剤（アルコキシ基、グリシジル基などの反応
性官能基を有するシリコーン化合物）など］などが使用
でき、多価カルボン酸又はその酸無水物、金属化合物な
どが好ましい。例えば、前記親水性高分子がカルボキシ
ル基を有する場合、エポキシ基を有する化合物、イソシ
アネート基を有する化合物及び金属化合物などが使用で
きる。これらの架橋剤は、単独で又は二種以上を組み合
わせて使用できる。

【００４４】多価カルボン酸又はその塩、あるいは多価
カルボン酸の無水物を、ヒドロキシル基含有親水性高分
子と組み合わせると、インク吸収性、アンチブロッキン
グ性、画像の鮮明性（印字品質）及び耐水性を改善でき
る。

【００４５】多価カルボン酸としては、分子中に２以上
の複数のカルボキシル基を有する化合物、例えば、脂肪
族ポリカルボン酸（シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸などのＣ_2-10脂肪族飽和ポリカル
ボン酸など、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、
シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのＣ_4-6 脂
肪族不飽和ポリカルボン酸など）、脂環族ポリカルボン
酸（１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、テトラヒド
ロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ハイミック酸など
のＣ_8-10脂環族ポリカルボン酸など）、芳香族ポリカル
ボン酸（フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸などのＣ
_8-12芳香族ポリカルボン酸又はその酸無水物など）、オ
キシポリカルボン酸（タルトロン酸、リンゴ酸、酒石
酸、クエン酸などのＣ_3-6 オキシ多価カルボン酸な
ど）、窒素、酸素及び硫黄原子から選択された少なくと
も一種のヘテロ原子を有する複素環式多価カルボン酸
（ピリジンカルボン酸、ピリジントリカルボン酸、ピリ
ジンテトラカルボン酸、イソ糖酸、トロピン酸など）が
例示できる。これらの多価カルボン酸には、脂肪族、脂
環族又は芳香族Ｃ_2-10ポリカルボン酸（特にＣ_3-10ポリ
カルボン酸）が含まれる。

【００４６】さらに好ましい多価カルボン酸は、水溶性
又は、水分散性である場合が多く、温度３０℃において
水１００ｇに対して５ｇ以上（好ましくは１０ｇ以上、
さらに好ましくは３０ｇ以上）溶解する水溶性多価カル
ボン酸である。このような多価カルボン酸には、Ｃ_2-6
脂肪族多価カルボン酸（特にＣ_3-5 脂肪族多価カルボン
酸）などが含まれる。多価カルボン酸としては、マレイ
ン酸又はその酸無水物（無水マレイン酸）が特に好まし
い。

【００４７】多価カルボン酸は塩としても使用でき、多
価カルボン酸のカルボキシル基の一部又は全部が塩基と
の塩を形成してもよい。多価カルボン酸塩には、無機塩
基（アンモニア、カリウム、ナトリウムなどのアルカリ
金属など）との塩、有機塩基（第３級アミンなど）との
塩が含まれる。

【００４８】アルデヒド基を有する化合物としては、複
数のアルデヒド基を有する化合物、例えば、グリオキザ
ール、マロンジアルデヒド、グルタルアルデヒド、テレ
フタルアルデヒド、ジアルデヒドデンプン、アクロレイ
ン共重合アクリル樹脂などが例示できる。

【００４９】エポキシ基を有する化合物としては、複数
のエポキシ基を有する化合物、例えば、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパントリグリシジルエーテル、１，２−３，４
−ジエポキシブタンなどが例示できる。

【００５０】インク吸収層には、硬化反応を促進するた
めに、硬化剤（硬化触媒又は硬化促進剤）を添加しても
よい。硬化剤としては、例えば、有機スズ化合物、有機
アルミニウム化合物、有機チタニウム化合物、有機ジル
コニウム化合物、酸性化合物、酸性リン酸エステル、前
記酸性リン酸エステルとアミンの混合物または反応物が
挙げられる。これらの硬化剤は単独で又は２種以上を混
合して用いることができる。

【００５１】硬化剤の使用量は、硬化性を促進できる範
囲、例えば、固形分換算で、親水性高分子で構成された
樹脂組成物１００重量部に対して０. ０１〜１０重量
部、好ましくは０. １〜５重量部程度である。

【００５２】多孔質膜及び／又はインク吸収層には、必
要に応じて、染料固着剤を含有していてもよい。また、
多孔質膜及び／又はインク吸収層を染料固着剤で処理
（含浸、浸漬など）してもよい。染料固着剤を用いる
と、例えば、染料インクを使用しても、染料の定着性、
画像の鮮明性及び画像の耐久性を向上できる。染料固着
剤（高分子染料固着剤）は、通常、分子中にカチオン基
（特に、グアニジル基や第４級アンモニウム塩型の強い
カチオン基）を有している。染料固着剤は水溶性であっ
てもよい。

【００５３】染料固着剤としては、例えば、ジシアン系
固着剤（ジシアンジアミド−ホルマリン重縮合体な
ど）、ポリアミン系固着剤［ジエチレントリアミン，ト
リエチレンテトラミン，ジプロピレントリアミン，ポリ
アリルアミンなどの脂肪族ポリアミン、フェニレンジア
ミンなどの芳香族ポリアミン、ジシアンジアミドと（ポ
リ）Ｃ_2-4 アルキレンポリアミンとの縮合体（ジシアン
ジアミド−ジエチレントリアミン重縮合体など）］、ポ
リカチオン系固着剤などが例示できる。ポリカチオン系
固着剤としては、例えば、エピクロルヒドリン−ジＣ
_1-4 アルキルアミン付加重合体（エピクロルヒドリン−
ジメチルアミン付加重合体など）、アリルアミン又はそ
の塩の重合体（ポリアリルアミン又はその塩酸塩の重合
体、例えば、日東紡績（株），PAA-10C ，PAA-HCl-3L，
PAA-HCl-10L など）、ジアリルＣ_1-4 アルキルアミン又
はその塩の重合体（ジアリルメチルアミン又はその塩酸
塩の重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-M-1 な
ど）、ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩の重合
体（ジアリルジメチルアンモニウムクロライドの重合
体、例えば、日東紡績（株），PAS-H-5L，PAS-H-10L な
ど）、ジアリルアミン又はその塩と二酸化イオウとの共
重合体（ジアリルアミン塩酸塩−二酸化イオウ共重合
体、例えば、日東紡績（株），PAS-92など），ジアリル
ジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩−二酸化イオウ共重合
体（ジアリルジメチルアンモニウムクロライド−二酸化
イオウ共重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-A-1 ，
PAS-A-5 ，PAS-A-120L，PAS-A-120Aなど），ジアリルジ
Ｃ_1-4 アルキルアンモニウム塩とジアリルアミン又はそ
の塩もしくは誘導体との共重合体（ジアリルジメチルア
ンモニウムクロライド−ジアリルアミン塩酸塩誘導体の
共重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-880 など）、
ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩重合体，ジＣ
_1-4 アルキルアミノエチル（メタ）アクリレート４級塩
の重合体、ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩−
アクリルアミド共重合体（ジアリルジメチルアンモニウ
ムクロライド−アクリルアミド共重合体、例えば、日東
紡績（株），PAS-J-81など）、アミン−カルボン酸共重
合体（例えば、日東紡績（株），PAS-410 など）などが
例示できる。これらの染料固着剤も単独で又は二種以上
混合して使用できる。

【００５４】染料固着剤の使用量は、定着性を向上でき
る範囲、例えば、固形分換算で、樹脂１００重量部に対
して０．１〜４０重量部、好ましくは１〜３０重量部、
さらに好ましくは２〜２０重量部程度の範囲から選択で
きる。

【００５５】また、インク吸収層には、必要に応じて、
他の成分、例えば、水性エマルジョン（例えば、アクリ
ル樹脂エマルジョン、エチレン−酢酸ビニル共重合体エ
マルジョン、酢酸ビニル系エマルジョンなど）を含有さ
せてもよい。

【００５６】多孔質膜及び／又はインク吸収層には、粉
粒体（顔料など）を含有させてもよい。粉粒体として
は、例えば、無機粉粒体（ホワイトカーボン、微粒子状
珪酸カルシウム、ゼオライト、アミノ珪酸マグネシウ
ム、焼成珪成土、微粒子状炭酸マグネシウム、微粒子状
アルミナ、シリカ、タルク、カオリン、デラミカオリ
ン、クレー、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム、二酸化チタン、水酸化アルミニ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、珪酸マ
グネシウム、硫酸カルシウム、セリサイト、ベントナイ
ト、スメクタイトなどの鉱物質粉粒体など）、有機粉粒
体［ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの架橋又は非架僑
有機微粒子、微小中空粒子などの有機質粉粒体など］が
挙げられる。これらの粉粒体は１種又は２種以上適宜選
択して併用可能である。なお、粉粒体を用いる場合、バ
インダー樹脂としては前記親水性高分子（親水性樹脂）
が使用できる。

【００５７】粉粒体とバインダー樹脂との割合は、例え
ば、バインダー樹脂１００重量部に対して粉粒体０．１
〜８０重量部、好ましくは０．２〜５０重量部程度であ
る。多孔質膜及び／又はインク吸収層は、さらに特性を
損なわない範囲で慣用の添加剤、例えば、消泡剤、塗布
性改良剤、増粘剤、滑剤、安定剤（酸化防止剤、紫外線
吸収剤、熱安定剤など）、帯電防止剤、アンチブロッキ
ング剤などを含有していてもよい。

【００５８】インク吸収層の厚みは、用途に応じて選択
でき、例えば、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μ
ｍ程度であり、通常、５〜３０μｍ程度である。インク
吸収層を設ける場合、多孔質膜の膜厚は、１μｍ以上
（例えば、１〜１５μｍ程度）、好ましくは１．５〜１
２μｍ程度である。 ［インク受像シートの製造方法］本発明のインク受像シ
ートは、樹脂とこの樹脂に対する良溶媒及び貧溶媒とを
含む塗膜を乾式相転換し、前記多孔質膜を形成すること
により製造できる。また、基材の少なくとも一方の面
に、前記多孔質膜を形成してもよく、前記基材の少なく
とも一方の面にインク吸収層を形成し、このインク吸収
層上に多孔質膜を形成してもよい。

【００５９】前記多孔質膜は、ミクロ相分離法、例え
ば、多孔質膜を構成する樹脂の良溶媒溶液を流延又は塗
布し、前記樹脂に対する貧溶媒に浸漬する湿式相分離法
で製造することも可能であるものの、乾式相転換法、す
なわち、樹脂と、この樹脂に対する良溶媒と、前記樹脂
に対する貧溶媒とを含む均一なドープを基材に流延又は
塗布し、溶媒を蒸発させてミクロ相分離を生じさせるこ
とにより製造できる。特に、乾式相転換法では、良溶媒
よりも沸点の高い溶媒（高沸点溶媒）を貧溶媒として使
用することが肝要である。

【００６０】上記乾式相分離プロセスにおいて、多孔質
膜の孔径を制御し、前記特徴を有する多孔質膜を得るに
は、良溶媒と貧溶媒の選定が重要である。良溶媒として
は、高分子の種類などに応じて、例えば、ケトン類（ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトンな
どのＣ_3-5 ジアルキルケトン、シクロヘキサノンな
ど）、エステル類（ギ酸エチルなどのギ酸Ｃ_1-4 アルキ
ルエステル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど
の酢酸Ｃ_1-4 アルキルエステル、プロピオン酸エチル、
乳酸エチルなど）、エーテル類（１，４−ジオキサン、
テトラヒドロフラン，テトラヒドロピラン，ジエチルエ
ーテル，ジイソプロピルエーテル，ジメトキシエタンな
どの環状又は鎖状Ｃ_4-6 エーテル）、セロソルブ類（メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ
などのＣ_1-4 アルキル−セロソルブ）、セロソルブアセ
テート類（メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテートなどのＣ_1-4 アルキル−セロソルブアセ
テート）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キ
シレンなど）、ハロゲン化炭化水素類（塩化メチレン、
塩化エチレンなど）、アミド類（ホルムアミド，アセト
アミドなどのアシルアミド類、Ｎ−メチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルアセトアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのモノ又は
ジＣ_1-4 アシルアミド類）、スルホキシド類（ジメチル
スルホキシドなどのジＣ _1-3 アルキルスルホキシド）、
ニトリル類（アセトニトリル、クロロアセトニトリル、
プロピオニトリル、ブチロニトリルなどＣ_1-6 アルキル
ニトリル，ベンゾニトリルなど）、有機酸類（ギ酸、酢
酸、プロピオン酸など）、有機酸無水物（無水マレイン
酸、無水酢酸など）、およびこれらの混合物から選択で
きる。良溶媒は、ニトロ化合物（ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパンなど）、低級アルコール類（メ
タノール、エタノールなどのＣ_1-4 アルコール、ジアセ
トンアルコールなど）を含んでいてもよい。

【００６１】良溶媒は樹脂の種類に応じて選択できる。
例えば、セルロース誘導体の好ましい良溶媒には、アセ
トンなどのＣ_3-5 ジアルキルケトン類（特にアセトン、
メチルエチルケトン）、酢酸エチルなどの酢酸Ｃ_1-4 ア
ルキルエステル類（特に酢酸メチル、酢酸エチル）、ジ
オキサン、ジメトキシエタンなどの環状又は鎖状Ｃ_{4- 6}
エーテル類、メチルセロソルブなどのＣ_1-4 アルキル−
セロソルブ類（特にメチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ）、メチルセロソルブアセテートなどのＣ_{1- 4} アルキ
ル−セロソルブアセテート類（特にメチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート）およびこれら
の混合溶媒などが含まれる。セルロース誘導体がセルロ
ースアセテートである場合、特に好ましい良溶媒には少
なくともＣ_3-5 ジアルキルケトン類（特にアセトン）、
Ｃ_1-2 アルキル−セロソルブ類（中でもメチルセロソル
ブ）などを含む溶媒が含まれる。

【００６２】良溶媒の沸点は、３５〜２００℃（例え
ば、３５〜１８０℃）、好ましくは３５〜１７０℃（例
えば、３５〜１６０℃）、さらに好ましくは４０〜１６
０℃（例えば、４０〜１２５℃）程度の範囲から選択で
き、通常、３５〜１５０℃（例えば、３５〜１３０℃）
程度である。

【００６３】良溶媒は、その蒸気圧が２００ｍｍＨｇに
なる温度が、１０〜７０℃、好ましくは１０〜５０℃程
度である。貧溶媒とは、樹脂に対する溶解性がないか、
又は溶解性の低い溶媒を意味し、前記良溶媒よりも沸点
が高ければいずれの溶媒も使用できる。そのため貧溶媒
の種類は、特に制限されない。貧溶媒としては、例え
ば、エステル類（ギ酸アミル、ギ酸イソアミルなどのギ
酸Ｃ_5-8 アルキルエステル、酢酸ブチル，酢酸アミル、
酢酸ヘキシル、酢酸オクチル，酢酸３−メトキシブチ
ル，酢酸３−エトキシブチル，プロピオン酸ブチル，プ
ロピオン酸３−メトキシブチルなどのＣ_1-4 アルコキシ
基を有していてもよいＣ_2-4 脂肪族カルボン酸Ｃ_3-10ア
ルキルエステル（例えば、Ｃ_1-4 アルコキシ基を有して
いてもよい酢酸Ｃ_4-10アルキルエステル）、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、安息香酸プロピルなどの安息香
酸Ｃ_1-4 アルキルエステル類）、アルコール類（シクロ
ペンタノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキ
サノール、ジメチルシクロヘキサノール、シクロオクタ
ノールなどのＣ_1-4 アルキル基が置換していてもよいＣ
_4-8 シクロアルカノール、アミルアルコール、イソアミ
ルアルコール、ヘキシルアルコールなどのＣ_5-8 アルコ
ール類、２−ブトキシエタノール，３−ブトキシプロパ
ノールなどのＣ_2-6 アルコキシ−Ｃ_1-4 アルコール類、
フルフリルアルコールなどの複素環式アルコールな
ど）、ケトン類（メチルブチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルペンチルケトン、メチルイソペンチル
ケトン、２，６−ジメチル−４−ヘプタノンなどのＣ
_3-10ジアルキルケトン（特にＣ_6-10ジアルキルケト
ン）、アセトニルアセトン、アセトフェノンなど）、エ
ーテル類（メチルフェニルエーテル、メトキシトルエ
ン、ジブチルエーテル、ベンジルエチルエーテルなどの
Ｃ_7-10エーテル) 、脂肪族炭化水素類（ヘキサン，オク
タン，ノナン，デカンなどのＣ_5-20脂肪族炭化水素類）
およびこれらの混合物が例示できる。

【００６４】セルロース誘導体の好ましい貧溶媒には、
エステル類（ギ酸Ｃ_5-8 アルキルエステル、安息香酸Ｃ
_1-4 アルキルエステルなど）、Ｃ_4-8 シクロアルカノー
ル、Ｃ_6-10ジアルキルケトンおよびＣ_7-10エーテルから
選択された少なくとも一種の溶媒、特に少なくともＣ
_5-7 シクロアルカノール（中でもシクロヘキサノール
類）を含む溶媒が含まれる。シクロヘキサノール類に
は、シクロヘキサノール，メチルシクロヘキサノール、
ジメチルシクロヘキサノールなどのモノ又はジＣ_1-2ア
ルキル置換体が含まれる。

【００６５】貧溶媒の沸点は、通常、１００〜２３０
℃、好ましくは１２０〜２００℃程度である。貧溶媒
は、通常、前記良溶媒よりも２０℃以上（２０〜６０℃
程度）、好ましくは３０〜５０℃程度高い沸点を有して
いる。

【００６６】貧溶媒は、その蒸気圧が２００ｍｍＨｇに
なる温度が５０〜２００℃、好ましくは７０〜１５０℃
程度である。また、良溶媒及び貧溶媒のそれぞれの蒸気
圧が２００ｍｍＨｇになる温度の差は、５０〜２００
℃、好ましくは７０〜１５０℃程度である。

【００６７】良溶媒と貧溶媒との割合は、樹脂の均一溶
液を形成できる限り特に制限されず、通常、良溶媒１０
０重量部に対して貧溶媒１〜２００重量部（例えば、２
〜２００重量部) 、好ましくは３〜１８０重量部( 例え
ば、５〜１８０重量部) 、さらに好ましくは５〜１７０
重量部( 例えば、１０〜１７０重量部) 程度であり、通
常、５〜１５０重量部程度である。

【００６８】さらに、ドープ液の樹脂の含有量は、樹脂
（重合体）の重合度などに応じて選択でき、例えば、３
〜３０重量％、好ましくは３〜２５重量％、特に３〜２
０重量％（例えば、３〜１５重量％）程度である。

【００６９】ドープ液は、樹脂５〜３０重量％程度の良
溶媒溶液１００重量部に対して、貧溶媒５〜１７０重量
部程度を含んでいる。ドープ液は、好ましくは、樹脂５
〜２０重量％（特に５〜１５重量％）程度の良溶媒溶液
１００重量部に対して、析出を抑制しつつ、貧溶媒５〜
１７０重量部（好ましくは５〜１５０重量部）程度を添
加することにより調製できる。

【００７０】ドープ液（塗布液）には、多孔質膜の特性
を損なわない範囲で慣用の添加剤、例えば、消泡剤、塗
布性改良剤、増粘剤、滑剤、安定剤（酸化防止剤，紫外
線吸収剤，熱安定剤など）、帯電防止剤、アンチブロッ
キング剤などを添加してもよい。

【００７１】ドープ液は、慣用の流延又は塗布方法、例
えば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレード
コーター、ロッドコーター、バーコーター、コンマコー
ター、グラビアコーター、シルクスクリーンコーター法
などにより、基材のうち少なくとも一方の面に流延又は
塗布される。

【００７２】なお、ＷＯ９８／２５９９７では、高湿度
下、二段階でドープ液を乾燥する方法が開示されてい
る。しかし、本発明では、高湿度下、二段階での乾燥は
不要であり、簡便かつ効率よく多孔質膜を形成できる。

【００７３】塗布されたドープ液を乾燥する乾燥工程で
は、沸点の低い良溶媒が優先的に蒸発する。この良溶媒
の蒸発の進行に伴い、ドープ液中の樹脂の溶解性が低下
し、樹脂はミセル（ゲル相）を形成して貧溶媒相と相分
離する。さらに乾燥が進むと、ミセルが接触し網目構造
が形成され、貧溶媒の蒸発の完了により、多孔質膜又は
多孔質フィルムが形成される。

【００７４】塗布されたドープ液の乾燥工程では、一段
で乾燥してもよく、先ず低温で乾燥して、沸点の低い良
溶媒を蒸発させ（例えば、実質的に沸点の低い良溶媒の
蒸発を完了させ）、次いで高温での乾燥により残存する
貧溶媒の蒸発を行う二段階乾燥を行ってもよい。二段階
乾燥する場合、乾燥条件は使用する良溶媒、貧溶媒の種
類に応じて選択でき、一般に、一段目の乾燥は、温度１
０〜１００℃（好ましくは２０〜７０℃、例えば、２０
〜６０℃）程度で３０秒〜６０分（好ましくは１〜６０
分）程度行い、二段目の乾燥は、一段目の温度よりも高
い温度、例えば、温度５０〜１５０℃（好ましくは６０
〜１３０℃）程度で２秒〜３０分（例えば２秒〜１０
分）程度行ってもよい。二段目の乾燥温度は、通常、一
段目の温度よりも２０℃以上（２０〜１２０℃、好まし
くは５０〜１１０℃程度）高い温度から選択できる。例
えば、良溶媒としてアセトンなどのＣ_3-5 ジアルキルケ
トン、貧溶媒としてシクロヘキサノールなどのシクロア
ルカノール類を使用する場合などには、特に二段階乾燥
を行うことなく、簡便に乾燥することができ、容易にミ
クロ相分離膜を得ることができる。

【００７５】前記乾式相転換により多孔質膜を製造する
と、インク吸収性及びインク定着性に優れたインク受像
シートを高い生産性で製造することができる。前記製造
方法により得られたインク受像シートは、インクの小滴
を飛翔させて記録するインクジェット方式による記録用
シートとして有用であるが、オフセット印刷、フレキソ
印刷などの印刷用シート（特に水性インキ用シート）な
どとしても利用できる。

【００７６】本発明のインク受像シートは、インク吸収
性及びインク定着性に優れ、画像の鮮明性（印字品質）
が良好であり、インクジェットによる記録に適してい
る。

【００７７】

【発明の効果】本発明のインク受像シートは、一方の表
面から厚み方向に向かって空孔径が大きくなる多孔質膜
で構成するため、染料又は顔料インクであってもインク
吸収性、インク定着性及び印字性に優れ、画像の耐久性
を向上できる。また、多孔質膜とインク吸収層とでイン
ク受像シートを構成するので、さらにインク吸収性を改
善できる。

【００７８】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。

【００７９】なお、文中、特に断りのない限り、部また
は％は重量基準である。実施例及び比較例で得られたイ
ンク受像シートにおける平均孔径、空孔率、膜厚方向の
孔径、耐水性、印字性およびインク吸収性は、以下のよ
うにして評価した。なお、画像形成にはインクジェット
プリンター（ＥＮＣＡＤ製、ＮＯＶＡＪＥＴ・ＰＲＯ）
を使用し、実施例及び比較例で得られた記録用シート
に、顔料タイプ水性インク（イエロー、マゼンタ、シア
ン、ブラックの各々の色）をベタで印刷し、記録画像を
形成した。 ［平均孔径および空孔率］倍率５０００倍で撮影した電
子顕微鏡表面写真において、３箇所の所定面積（２ｃｍ
×２ｃｍ）を画像処理装置で処理し、電子顕微鏡表面写
真の各孔を真円として孔径を測定し、平均することによ
り一方の表面の平均空孔径を求めた。

【００８０】また、裏面（他方の表面）の平均空孔径
は、離型紙、基材又はインク吸収層から多孔質膜を剥離
し、前記一方の表面と同様に平均空孔径を求めた。空孔
率（％）は、計算式（孔の全面積／測定面積）×１００
により算出した。

【００８１】[耐水性]２５℃にて十分に水を含んだ綿棒
で印字部を１０往復こすり、下記の基準で印字部を目視
で評価した。

【００８２】 ◎ 印字部が完全に残っている ○ 印字部に滲みが認められる × 印字部が残っていない ［印字性］印字した画像形成部を下記の基準で、目視で
評価した。

【００８３】 ◎ 滲みがなく、画像が鮮明である ○ やや滲みを生ずる × 滲みを激しく生ずる ［インク吸収性］印字した後、一定時間ごとに印字部に
ＰＰＣ用コピー紙を載せ、コピー用紙の上から過重（２
５０ｇ／ｃｍ² ）を１０秒間かけた後、コピー用紙を剥
がし、インクの裏移りの程度を目視で判断し、裏移りが
認められなくなるまでの時間を基準にしてインク吸収性
を評価した。

【００８４】 ◎ 裏移りが認められなくなるまでの時間が１分以内で
ある ○ 裏移りが認められなくなるまでの時間が３分以内で
ある × 裏移りが認められなくなるまでの時間が５分以内で
ある 実施例１ 酢酸セルロース（酢化度５５％、粘度平均重合度２５
０、以下ＣＡと略記する）１０重量％のアセトン溶液１
００重量部に、よく撹拌しながらシクロヘキサノール１
００重量部を添加してドープを作製した。離型紙上に、
乾燥後の厚み５０μｍとなるように塗布し、１１０℃で
５分間乾燥した。離型紙から剥離したフィルムは、一方
の表面の平均空孔径が１．３μｍ、裏面の平均空孔径が
６．８μｍ、一方の表面の空孔率が５６％の多孔質フィ
ルムであった。図１に得られたフィルムにおける表面の
電子顕微鏡写真を示し、図２に前記フィルムにおける裏
面の電子顕微鏡写真を示す。

【００８５】実施例２ ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略記する）
フィルム上に、実施例１のドープを、乾燥後の多孔質層
の厚みが５０μｍとなるよう塗布し、１１０℃で５分間
乾燥した。得られたフィルムは表面の平均空孔径が１．
０μｍ、ＰＥＴフィルムに接する面（裏面）の平均空孔
径が５．５μｍ、表面の空孔率が５２％の多孔質層を表
面に有する積層フィルムであった。

【００８６】実施例３ ＰＥＴ上に、２０重量％変性ポリビニルアルコール（日
本合成化学工業（株）製，「OKS7158G」，ケン化度８８
％）水溶液１００重量部に対して、マレイン酸２重量部
を添加した塗布液を、乾燥後のインク吸収層の厚みが１
０μｍになるように塗布し、１２０℃で３分間乾燥して
インク吸収層を形成した。さらにこのインク吸収層に、
実施例１のドープを、乾燥後の多孔質層の厚みが５μｍ
となるよう塗布し、１１０℃で５分間乾燥した。得られ
たフィルムは、表面の平均孔空孔径が１．０μｍ、イン
ク吸収層に接する面（裏面）の平均空孔径が５．５μ
ｍ、表面の空孔率５２％の多孔質層を表面に有する積層
フィルムであった。

【００８７】実施例４ アクリロニトリル( ＡＮ) −ビニルピロリドン( ＶＰ)
共重合体（ＤＵＹ、ＡＮ/ ＶＰ＝０．９８/ ０．０２モ
ル比、 ダイセル化学工業（株）製）の１３％Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド溶液１００重量部に、よく攪拌しな
がら酢酸３−メトキシブチル１５重量部を添加して塗布
液を作製した。ＰＥＴフィルム上に、実施例３と同様に
インク吸収層を介して、乾燥後のフィルムの厚みが５μ
ｍになるように前記塗布液を塗布し、７０℃、９０％Ｒ
Ｈの条件で１．５分乾燥したのち、１２０℃で３分間乾
燥した。得られたフィルムは表面の平均空孔径が０．３
μｍ、インク吸収層に接する面（裏面）の平均空孔径が
１．６μｍ、表面の空孔率が５２％の多孔質層を表面に
有する積層フィルムであった。

【００８８】実施例５ ポリメチルメタクリレート(Scientific Polymer Produc
ts社製、以下ＰＭＭＡと略記) の１３％Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド溶液１００重量部に、よく攪拌しながら
酢酸３−メトキシブチル１５重量部を添加して塗布液を
作製した。ＰＥＴフィルム上に、実施例３と同様にイン
ク吸収層を介して、乾燥後のフィルムの厚みが５μｍに
なるように前記塗布液を塗布し、６０℃、９５％ＲＨの
条件で１．５分乾燥したのち、１２０℃で３分間乾燥し
た。得られたフィルムは表面の平均空孔径が０．５μ
ｍ、インク吸収層に接する面（裏面）の平均空孔径が
２．２μｍ、表面の空孔率が４５％の多孔質層を表面に
有する積層フィルムであった。

【００８９】実施例６ ポリエーテルスルホン［住友化学工業( 株) 社製、以下
ＰＥＳと略記する］の１４％Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムア
ミド溶液１００重量部に、よく攪拌しながら酢酸３−メ
トキシブチル３０重量部を添加して塗布液を作製した。
ＰＥＴフィルム上に、実施例３と同様にインク吸収層を
介して、乾燥後のフィルムの厚みが５μｍになるように
前記塗布液を塗布し、６０℃、９５％ＲＨの条件で１．
５分乾燥したのち、１２０℃で３分間乾燥した。得られ
たフィルムは表面の平均空孔径が０．８μｍ、インク吸
収層に接する面の平均空孔径が３．１μｍ、表面の空孔
率が４７％の多孔質層を表面に有する積層フィルムであ
った。

【００９０】比較例１ 実施例１と同様にして作製したフィルムを裏表反転させ
て、インクジェットプリンターによる印字を行った。

【００９１】比較例２ ＰＥＴフィルム上に、５重量％変性ポリビニルアルコー
ル（日本合成化学工業（株）製、「OKS7158G」、ケン化
度８８％）水溶液100 重量部に対し、粒径5 μｍの酸化
アルミニウム粒子１００重量部を添加した塗布液を、乾
燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１２０℃で
３分間乾燥させた。得られたフィルムは、表面の平均空
孔径が４．６μｍ、ＰＥＴフィルムに接する面（裏面）
の平均空孔径が４．３μｍ、表面の空孔率が２０．３％
の多孔質層を表面に有する積層フィルムであった。

【００９２】結果を表１に示す。なお、表中、表面とは
多孔質膜の一方の表面（すなわち、印字面）を示し、裏
面とは多孔質膜の他方の表面（すなわち、印字面の反対
の面）を示す。

【００９３】

【表１】

【００９４】表から明らかなように、実施例のインク受
像シートを用いると、耐水性、印字性及びインク吸収性
のいずれもが良好である。これに対し、比較例では、耐
水性及びインク吸収性は比較的良好であるものの、表面
の平均空孔径が大きく、顔料インクがシート内部へ過度
に浸透してしまうため、印字性が低下する。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１で得られた多孔質フィルムにお
ける表面の電子顕微鏡写真である。

【図２】図２は実施例１で得られた多孔質フィルムにお
ける裏面の電子顕微鏡写真である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C056 EA13 FC06 2H086 BA02 BA16 BA41 4F006 AA02 AA12 AA15 AA19 AA22 AA35 AA36 AA38 AA39 AB03 AB12 AB13 AB14 AB16 AB17 AB20 AB23 AB24 AB32 AB33 AB35 AB37 AB38 BA01 CA03 CA10

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方の表面の平均空孔径が０．０５〜３
   μｍであり、空孔が前記一方の表面から他方の表面に向
   かって大きくなり、前記他方の表面の平均空孔径が、前
   記一方の表面の平均空孔径の２〜２０倍である多孔質膜
   で構成されているインク受像シート。
2. 【請求項２】 多孔質膜の空孔率が２０〜７０％である
   請求項１記載のインク受像シート。
3. 【請求項３】 多孔質膜が、乾式相転換によるミクロ相
   分離構造を有している請求項１記載のインク受像シー
   ト。
4. 【請求項４】 多孔質膜が、セルロース系樹脂、ビニル
   系重合体及びポリスルホン系重合体から選択された少な
   くとも一種の樹脂で構成されている請求項１記載のイン
   ク受像シート。
5. 【請求項５】 多孔質膜が、セルロースエステル、( メ
   タ）アクリロニトリル系重合体、( メタ）アクリル酸エ
   ステル系重合体及びポリスルホン系重合体から選択され
   た少なくとも一種で構成されている請求項１記載のイン
   ク受像シート。
6. 【請求項６】 基材の少なくとも一方の面に、多孔質膜
   が形成されたインク受像シートであって、前記多孔質膜
   の表面の平均空孔径が０．０５〜３μｍである請求項１
   記載のインク受像シート。
7. 【請求項７】 基材と多孔質膜との界面にインク吸収層
   が形成されている請求項６記載のインク受像シート。
8. 【請求項８】 インク吸収層が親水性樹脂で形成されて
   いる請求項７記載のインク受像シート。
9. 【請求項９】 樹脂とこの樹脂に対する良溶媒及び貧溶
   媒とを含む塗膜を乾式相転換し、請求項１記載の多孔質
   膜を形成するインク受像シートの製造方法。