JP2002028437A - 脱臭装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 臭気の成分の吸着から分解までの処理を行え
る脱臭装置をコンパクトなスペースに容易に設置できる
ようにする。 【解決手段】 脱臭装置（１０）は、臭気を含む被処理
ガスから臭気を分離する装置であって、ケーシング（１
１）と、吸着処理部（１２）と、再生処理部（１３）
と、分解処理部（１４）とを備えている。吸着処理部
（１２）は、ケーシング（１１）内に設けられ、被処理
ガスから臭気の成分を吸着する吸着処理を行うとともに
吸着した臭気の成分を脱着可能なものである。再生処理
部（１３）は、ケーシング（１１）内に設けられ、吸着
処理部（１２）で吸着された臭気の成分を再生用ガスに
より脱着処理するものである。分解処理部（１４）は、
ケーシング（１１）内に設けられ、脱着処理後の臭気の
成分を含む再生用ガスを分解処理するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、脱臭装置、特に、
臭気を含む被処理ガスから臭気を処理する脱臭装置装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】脱臭装置は、印刷工場や塗装工場やゴミ
処理工場などの臭気を含む被処理ガスから臭気の成分を
分離して無臭化する装置である。この種の従来の脱臭装
置として、回転吸着体により臭気の成分を吸着するとと
もに、吸着された成分を回転吸着体から脱着するものが
知られている。この脱臭装置は、ケーシングと、ケーシ
ング内に設けられ、被処理ガスから臭気の成分を吸着す
る吸着処理を行うとともに吸着した臭気の成分を脱着可
能な吸着処理部と、ケーシング内に設けられ、吸着処理
部で吸着された臭気の成分を脱着処理する再生処理部と
を備えている。再生処理部は、回転吸着体の所定回転位
置に回転吸着体と近接した位置に配置された再生部と、
再生部に脱着可能な温度の再生用ガスを供給するガス通
流部とを有している。

【０００３】このような構成の従来の脱臭装置では、被
処理ガスは、回転吸着体を通過する間に被処理ガス中の
臭気の成分だけが吸着され、浄化された空気となって排
出される。また、回転吸着体の再生部に面した位置で
は、再生部から回転吸着体に高温の再生用ガスが流れ、
吸着した成分が脱着され回転吸着体が元の性能に再生さ
れる。この脱着した成分を含む再生用ガスは、別に設け
られた触媒処理装置に送られ、低温での燃焼により無害
な炭酸ガスや水に分解して排出される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成では、
被処理ガスを吸着するだけであれば、１つの装置で実現
できる。しかし、吸着した成分を脱着して分解するに
は、別に触媒処理装置を設けなければならず、両装置間
に加熱された再生用ガスを送るためのダクト工事が必要
になる。このため、２つの装置の据え付け工事と両装置
間のダクト工事とが必要になり、装置の設置が面倒であ
る。また、２つの装置とそれをつなぐダクトとで全体の
装置が構成されるため、全体装置の設置面積が大きくな
り、全体装置の設置場所が制限される。

【０００５】本発明の課題は、臭気の成分の吸着から分
解までの処理を行える脱臭装置をコンパクトなスペース
に容易に設置できるようにすることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る脱臭装置
は、臭気を含む被処理ガスから臭気を分離する装置であ
って、ケーシングと、吸着処理手段と、脱着処理手段
と、分解処理手段とを備えている。吸着処理手段は、ケ
ーシング内に設けられ、被処理ガスから臭気の成分を吸
着する吸着処理を行うとともに吸着した臭気の成分を脱
着可能な手段である。脱着処理手段は、ケーシング内に
設けられ、吸着処理手段で吸着された臭気の成分を再生
用ガスにより脱着処理する手段である。分解処理手段
は、ケーシング内に設けられ、脱着処理後の臭気の成分
を含む再生用ガスを分解処理する手段である。

【０００７】この脱臭装置では、被処理ガスがケーシン
グ内に設けられた吸着処理手段を通過すると、被処理ガ
スに含まれる臭気の成分が吸着され、浄化され被処理ガ
スが排出される。吸着処理手段に吸着された臭気の成分
は、再生用ガスにより脱着処理手段で脱着される。脱着
された臭気の成分を含む再生用ガスは、分解処理手段に
より分解処理されて無臭化される。この吸着処理と脱着
・分解処理を並行して行うことも、所定時間吸着処理を
行った後脱着・分解処理を行うこともできる。ここで
は、１つのケーシング内に吸着処理手段と、脱着処理手
段と、分解処理手段とを設けたので、臭気の成分の吸着
から分解までの処理を行える脱臭装置をコンパクトなス
ペースに容易に設置できる。

【０００８】請求項２に係る脱臭装置は、請求項１に記
載の装置において、脱着処理手段は、吸着処理手段に近
接して配置され、吸着処理手段に再生用ガスを通流させ
ることによって吸着処理手段に吸着された成分を脱着す
るための再生部と、再生部に再生用ガスを通流するガス
通流部とを有し、分解処理手段は、ケーシング内に設け
られ、脱着処理手段で脱着した成分を含む再生用ガスを
触媒処理して無臭化する触媒処理部を有する。この場合
には、脱着処理の際には、通常は加熱された再生用ガス
を再生部に通流することにより、吸着処理手段が加熱さ
れて成分が脱着する。そして脱着された成分を含む再生
用ガスは、触媒処理部に送られて触媒により分解され無
臭化される。ここでは、再生用ガスにより脱着している
ので脱着が容易である。また、触媒により分解処理を行
っているので、用途に応じた触媒により臭気の成分を確
実に分解できる。また、複数の触媒を組み合わせれば、
複数の臭気の成分を分解できるようになる。

【０００９】請求項３に係る脱臭装置は、請求項２に記
載の装置において、吸着処理手段及び脱着処理手段の再
生部は、ケーシングの下部に配置されており、脱着処理
手段のガス通流部及び分解処理手段の触媒処理部は、ケ
ーシングの上部に配置されている。この場合には、加熱
された再生用ガスを使用する脱着処理手段や分解処理手
段がケーシング上部に配置されているので、吸着処理と
脱着・分解処理とを並行して行っても熱が吸着処理手段
側に伝達されにくくなり熱ロスが少なくなる。また、比
較的質量が大きく回転する吸着処理手段がケーシングの
下部に配置されるので装置の安定性も高くなる。

【００１０】請求項４に係る脱臭装置は、請求項２又は
３に記載の装置において、吸着処理手段は、ケーシング
に回転かつ着脱自在に装着され、軸方向に通流する被処
理ガスから臭気の成分を温度に応じて吸着及び脱着可能
な回転吸着体と、回転吸着体を回転駆動する回転駆動部
と、回転吸着体の軸方向に回転吸着体を通過可能な被処
理ガスのガス流を生じさせるためのガス流発生部とを有
し、再生部は、回転吸着体の両面の周方向の一部に近接
しかつ対向してケーシングに装着され、回転吸着体に再
生用ガスを通流させることによって回転吸着体に吸着さ
れた成分を脱着する。この場合には、ガス流発生部によ
って低温の被処理ガスのガス流を発生させることによ
り、回転吸着体を被処理ガスが通過して臭気の成分が吸
着される。また、再生時には、回転駆動部により回転吸
着体を回転させて再生部から高温の再生用ガスを回転吸
着体に通流させることにより、吸着した成分を脱着でき
る。ここでは、回転吸着体を用いているので、吸着処理
と脱着・分解処理との並行処理が容易である。

【００１１】請求項５に係る脱臭装置は、請求項３又は
４に記載の装置において、脱着処理手段は、再生部の回
転吸着体の回転方向下流側に隣接して配置された冷却部
を有し、ガス通流部は、再生用ガスとなる外気を冷却部
を通して取り込み再生部を介して分解処理手段まで送り
出す送風部と、送風部で取り込んだ外気を成分を回転吸
着体から脱着可能な再生用温度まで加熱して再生用ガス
にする第１加熱部とを有し、分解処理手段は、触媒処理
部と再生用ガスとを触媒処理可能温度まで加熱する第２
加熱部を有する。この場合には、回転吸着体を回転させ
ると、再生部での脱着処理の際に加熱された回転吸着体
が回転方向下流側に配置された冷却部により冷却される
ので、回転吸着体の吸着能力が迅速に回復する。また、
第１加熱部で加熱した後にさらに触媒処理部を第２加熱
部で加熱しているので、脱着処理と触媒処理とで最適な
温度が得られ、処理効率が向上する。

【００１２】請求項６に係る脱臭装置は、請求項５に記
載の装置において、ガス通流部は、送風部と第１加熱部
との間に配置され、送風部で取り込んだ外気を、分解処
理手段で加熱された再生用ガスと熱交換して加熱すると
ともに分解処理手段で処理された再生用ガスを排気する
排気部を有する。この場合には、排気部によって排気さ
れる再生用ガスとの熱交換で外気が加熱されるので、排
気熱を回収して第１加熱部での加熱に要するエネルギー
を節約できるとともに排気温度を下げることができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】〔全体構成〕図１において、本発
明の一実施形態による熱交換装置を採用した脱臭装置１
０は、主に塗装工場や清掃工場などの比較的異臭を放ち
やすい工場内の臭気を取り除くための装置である。

【００１４】脱臭装置１０は、臭気の成分を含む被処理
ガスを吸着処理により無臭化するとともに、吸着された
成分を加熱された再生用ガスを使用して脱着処理しさら
に脱着された成分を分解処理する装置である。脱臭装置
１０は、上下に分かれた２つの収納空間１１ａ，１１ｂ
を内部に有するケーシング１１と、ケーシング１１の下
収納空間１１ｂに主に配置された吸着処理部１２と、吸
着処理部１２に近接して配置された再生処理部（脱着処
理手段の一例）１３と、ケーシング１１の上収納空間１
１ａに配置された分解処理部１４とを備えている。

【００１５】ケーシング１１は、矩形枠状の部材であ
り、内部に前述した上下の収納空間１１ａ，１１ｂが形
成されるとともに、図２及び図３に示すように、下収納
空間１１ｂの下部には、上方に向けて立設された支柱１
７ａを有するベースフレーム１７が設けられている。支
柱１７ａは、ベースフレーム１７の中央部奥側に配置さ
れており、支柱１７ａの上端に前方に突出する片持ち軸
１８が装着されている。片持ち軸１８は、支柱１７ａの
上面前部にねじ止めされるフランジ部１８ａと、フラン
ジ部１８ａに固定された軸部１８ｂと、軸部１８ｂの先
端に被せられた固定キャップ１８ｃとを有している。こ
の軸部１８ｂに吸着ロータ２０（後述）が回転自在に装
着されている。なお、固定キャップ１８ｃは、軸部１８
ｂの先端にねじ止めされており、軸部１８ｂから吸着ロ
ータ２０が抜けるのを防止するために設けられている。

【００１６】〔吸着処理部の構成〕吸着処理部１２は、
被処理ガスの臭気の成分を吸着処理するものである。吸
着処理部１２は、片持ち軸１８に回転自在かつ着脱自在
に装着された吸着ロータ２０と、吸着ロータ２０を回転
駆動する回転駆動部２１と、吸着ロータ２０の軸方向に
被処理ガスのガス流を発生されるための送風装置２２と
を備えている。吸着ロータ２０は、内部に回転軸芯に平
行な多数のハニカム孔２０ａが形成された円形部材であ
る。ハニカム孔２０ａの内壁面は疎水性ゼオライトや活
性炭などの吸着成分を主成分としており、被処理ガスの
臭気の成分を吸着及び脱着可能である。

【００１７】吸着ロータ２０の中心部には、図４に示す
ように、筒状の１対のボス部２０ｂが設けられている。
ボス部２０ｂの中心には、筒状の軸受部２０ｃがボルト
５０により着脱自在に固定されている。軸受部２０ｃの
両端には中心を片持ち軸１８の軸部１８ｂが貫通する１
対の鍔付きブッシュ２０ｄが軸方向に間隔を隔てて装着
されている。これにより吸着ロータ２０は、片持ち軸１
８を介してベースフレーム１７に回転自在に支持されて
いる。

【００１８】吸着ロータ２０の外周面には、回転駆動部
２１を構成する歯付きベルト２７が歯面を外側に向けて
巻き付け固定されている。吸着ロータ２０の前面には、
図２及び図３に示すように、シール板２９が着脱自在に
装着されている。シール板２９のハニカム孔２０ａ形成
部分に対向する部分には円形の開口２９ａが形成されて
いる。このシール板２９により、送風装置２２が作動す
るとハニカム孔２０ａに被処理ガスのガス流が効率よく
流れる。

【００１９】回転駆動部２１は、駆動用のモータ２５
と、モータ２５の回転軸に装着された歯付きプーリ２６
と、歯付きベルト２７と、歯付きベルト２７に噛み合う
歯付きベルト２８とを有している。モータ２５は、ベー
スフレーム１７に取り付けられたモータブラケット２５
ａに固定されている。歯付きベルト２８は、歯付きベル
ト２７と歯付きプーリ２６に巻回されてモータ２５の回
転を吸着ロータ２０に伝達する。歯付きベルト２８は、
テンション装置３０により張力が付与されている。テン
ション装置３０は、先端にテンションローラ３０ａを有
するアーム部材であり、ベースフレーム１７に揺動自在
かつ張力付与方向（図３時計回りの方向）に付勢された
状態で装着されている。

【００２０】送風装置２２は、ケーシング１１の上収納
空間１１ａに配置された送風ファン２２ａを有してい
る。送風ファン２２ａは、モータ２２ｂにより駆動され
ており、吸着ロータ２０の図１手前側から奥側に吸着ロ
ータ２０の軸方向に被処理ガスの流れを生じさせ、それ
を吸い込んでケーシング１１の上部に設けられた排気口
２２ｃから脱臭装置１０外に排気する。このとき、被処
理ガスの臭気の成分が吸着ロータ２０のハニカム孔２０
ａの内壁面に吸着される。したがって、ハニカム孔２０
ａ内での吸着量は、図１手前側が図１奥側より多くな
る。

【００２１】〔再生処理部の構成〕再生処理部１３は、
吸着ロータ２０に吸着された臭気の成分をハニカム孔２
０ａの内壁から脱着して吸着ロータ２０を再生するため
のものである。再生処理部１３は、ケーシング１１に固
定され吸着ロータ２０に近接して配置された１対の再生
部２３ａ，２３ｂと、ケーシング１１に固定され１対の
再生部２３ａ，２３ｂに隣接して配置された１対の冷却
部２４ａ，２４ｂとを有している。また、再生処理部１
３は、再生部２３ａ，２３ｂに高温の再生用ガスを流す
ための再生用ガス通流部１６を有している。

【００２２】再生部２３ａ，２３ｂは、図１に矢符Ｒで
示す吸着ロータ２０の回転方向上流側に配置されてい
る。再生部２３ａ，２３ｂは、吸着ロータ２０を挟んで
吸着ロータ２０の両面に近接して対向して配置されてい
る。再生部２３ａ，２３ｂは、再生部２３ｂ側（奥側）
から高温に加熱された再生用ガスを流すことにより吸着
ロータ２０のハニカム孔２０ａを加熱し、そこに吸着さ
れた臭気の成分を脱着するためのものである。前側の再
生部２３ａ及び冷却部２４ａは、ケーシング１１に着脱
自在に固定されている。後側の再生部２３ｂ及び冷却部
２４ｂは、支柱１７ａの上部に固定されている。

【００２３】冷却部２４ａ，２４ｂは、再生部２３ａ，
２３ｂの回転方向下流側にそれぞれ隣接して配置されて
いる。隣り合う再生部２３ａと冷却部２４ａ及び再生部
２３ｂと冷却部２４ｂは一体形成されている。冷却部２
４ａ，２４ｂは、再生部２３ａ，２３ｂで脱着のために
高温の再生用ガスにより加熱された吸着ロータ２０を加
熱前の再生用ガスを用いて冷却して吸着機能を復元させ
るためのものである。再生用ガスは、冷却部２４ａから
冷却部２４ｂ（奥側）に向けて流れる。この再生及び冷
却により吸着ロータ２０の吸着性能が再生される。

【００２４】再生用ガス通流部１６は、ケーシング１１
の上収納空間１１ａに配置されており、外気を取り込み
送り出すための送風部３１と、送風部３１から送り出さ
れた外気を予備加熱する排気筒３２と、排気筒３２で予
備加熱された外気を加熱して高温の再生用ガスにする第
１加熱部３３とを有している。

【００２５】送風部３１は、シロッコファンからなる送
風ファンであり、冷却部２４ｂと排気筒３２との間に配
置されている。送風部３１は、冷却部２４ｂ及び排気筒
３２と配管で接続されており、冷却部２４ａから吸着ロ
ータ２０及び冷却部２４ｂを通った再生用ガスとなる外
気を排気筒３２に送り込む。

【００２６】排気筒３２は、加熱前の再生用ガスと、排
気される高温の再生用ガスとを熱交換して、排気される
再生用ガスの排気熱を回収して温度を下げるとともに、
加熱前の再生用ガスの温度を上げて第１加熱部３３での
加熱効率を高め加熱に要するエネルギーを節約するため
に設けられている。排気筒３２は、同芯に配置された３
本の薄肉ステンレスパイプ部材により構成された三重構
造のものである。

【００２７】第１加熱部３３は、排気筒３２により僅か
に暖められた外気を再生部２３ａ，２３ｂでの臭気の成
分の脱着に必要な温度（たとえば、１５０℃〜２００
℃）まで加熱して再生用ガスにするためのものである。
すなわち、第１加熱部３３は吸着ロータ２０を成分の脱
着に必要な温度まで間接的に加熱するために設けられて
いる。第１加熱部３３は、たとえばＵ字状に折り曲げら
れた管内に螺旋状に巻かれたヒータ線を配置した複数本
のシーズヒータを有している。この第１加熱部３３で
は、送風部３１での送風量を絞ることによって再生用ガ
スを２５０℃〜３００℃程度に加熱することも可能であ
る。第１加熱部３３の入口は、配管により排気筒３２に
接続されている。第１加熱部３３の出口は、配管により
再生部２３ｂに接続されており、加熱された再生用ガス
は、再生部２３ｂ，２３ａに送られる。再生部２３ｂか
ら再生部２３ａへの高温の再生用ガスによって吸着ロー
タ２０のハニカム孔２０ａに吸着された臭気の成分が脱
着して再生用ガスとともに分解処理部１４に送られる。

【００２８】〔分解処理部の構成〕分解処理部１４は、
再生処理部１３で脱着された臭気の成分を触媒により分
解するものである。分解処理部１４は、再生部２３ｂ，
２３ａを通った再生用ガスに含まれる臭気の成分をさら
に加熱し加熱された再生用ガスを触媒処理して臭気の成
分を分解する。

【００２９】分解処理部１４は、図５に示すように、１
対のシーズヒータ３５ａ，３５ｂからなる第２加熱部３
５と、各シーズヒータ３５ａ，３５ｂの通流方向下流側
に配置された１対の熱触媒３６ａ，３６ｂからなる触媒
処理部３６とを有している。シーズヒータ３５ａ，３５
ｂは内部に螺旋状に巻かれたヒータ線を有している。第
２加熱部３５は、触媒処理部３６での触媒処理に必要な
温度（たとえば２５０℃〜３００℃）に熱触媒３６ａ，
３６ｂを輻射熱により加熱するためのものである。これ
により、再生用ガスも前記温度まで加熱される。この第
２加熱部３５でも、送風部３１での送風量を絞ることに
よって再生用ガスや熱触媒３６ａ，３６ｂを３５０℃〜
４００℃程度に加熱することも可能である。触媒処理部
３６の上流側の熱触媒３６ａは、下流側の熱触媒３６ｂ
での処理を円滑に進めるための前処理用の触媒であり、
たとえば、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケ
ル、銅、バナジウム、及びこれらの酸化物からなる群か
ら選択される少なくとも一種を含む触媒である。熱触媒
３６ｂは、貴金属系触媒であり、たとえば、金、銀、白
金、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、レニウム、
イリジウムからなる群から選択される少なくとも一種を
含む触媒である。

【００３０】このような２種の熱触媒３６ａ，３６ｂを
使用することにより、硫黄系化合物や窒素系化合物やア
ルデヒド類などの臭気の成分を含む再生用ガスを効率よ
く無臭化できる。

【００３１】〔脱臭装置の動作〕通常は、吸着ロータ２
０をたとえば、静止させた状態で、送風装置２２により
被処理ガスを吸着ロータ２０のハニカム孔２０ａに取り
込み、臭気の成分を吸着する。臭気の成分が吸着され無
臭化された被処理ガスは、送風ファン２２ａにより排気
口２２ｃから排出される。

【００３２】吸着ロータ２０で吸着が進むと、ハニカム
孔２０ａの内壁が臭気の成分で覆われて吸着性能が劣化
する。このため、たとえば１日１回の再生処理を行う。
再生処理時には、吸着ロータ２０を回転させ、送風部３
１を運転するとともに、第１加熱部３３及び第２加熱部
３５により再生用ガスを加熱する。送風部３１を運転す
ると、冷却部２４ａから吸着ロータ２０のハニカム孔２
０ａを通って冷却部２４ｂに外気が通流され、吸着ロー
タ２０が冷却される。そして、送風部３１を通って排気
筒３２に送られる。排気筒３２では、前述したように、
触媒処理が終了して高温になった再生用ガスと熱交換が
行われ、たとえば、４０℃の外気が１１０℃程度に加熱
される。

【００３３】排気筒３２で僅かに加熱された外気は、第
１加熱部３３に送られて、たとえば１５０℃〜２００℃
程度に加熱され再生用ガスになる。得られた再生用ガス
は再生部２３ｂに送られ、再生部２３ｂからハニカム孔
２０ａを通って再生部２３ａに向けて流れる。これによ
り、ハニカム孔２０ａに吸着された成分が内壁から気化
して脱着され、再生用ガスとともに分解処理部１４に送
られる。分解処理部１４に送られた臭気の成分を含む再
生用ガスは、第２加熱部３５によりさらに、たとえば２
５０℃〜３００度程度に加熱され、触媒処理部３６によ
り分解処理され無臭化される。

【００３４】この結果、吸着ロータ２０に吸着された成
分が分解されて無臭化され、無臭化された再生用ガスは
排気筒３２で排気熱を回収されて、たとえば温度を２８
０℃から２４０℃に下げた状態で外部に排出される。ま
た、再生部２３ｂ，２３ａで加熱され臭気の成分が除去
された吸着ロータ２０が冷却部２４ａ，２４ｂで冷却さ
れ、吸着ロータ２０の吸着性能が元の状態に戻り、吸着
ロータ２０が再生される。

【００３５】吸着ロータ２０を洗浄などのために取り外
すときには、まず、吸着ロータ２０の前部に装着された
再生部２３ａ及び冷却部２４ａを取り外す。続いてシー
ル板２９を取り外す。そして、回転駆動部２１のテンシ
ョン装置３０を緩めて歯付きベルト２８を片持ち軸１８
の奥側に外す。最後に片持ち軸１８の軸部１８ｂの先端
にねじ止めされた固定キャップ１８ｃを取り外すと、吸
着ロータ２０を前側に取り外しできる。この状態を図３
に示す。吸着ロータ２０の取付の際にはこの手順と逆の
手順で作業を行えばよい。

【００３６】このような構成の脱臭装置１０では、吸着
処理部１２と再生処理部１３と分解処理部１４とがケー
シング１１に一体で設けられているので、臭気の成分の
吸着から分解までの処理を行える脱臭装置１０を、コン
パクトなスペースに容易に設置できる。しかも、吸着ロ
ータ２０が片持ち支持されているので、メンテナンスに
要するスペースを脱臭装置１０の前面にのみ設ければよ
い。このため、さらにコンパクトなスペースに脱臭装置
１０を設置できる。

【００３７】また、３つの処理部１２，１３，１４をケ
ーシング１１内に一体化したので、熱回収を行いやすく
なるとともに、高温部がケーシング１１の上部に集約さ
れるので、熱ロスが少なくなる。さらに、吸着・脱着・
分解のプロセスを統合的に制御しやすくなり、３つの処
理のバランスを最適に維持しやすくなる。このため、安
定した脱臭能力を適正なエネルギーで維持できるように
なる。

【００３８】〔他の実施形態〕 （ａ） 前記実施形態では、吸着処理と再生処理（脱着
処理）とを別々にバッチ処理で行ったが、再生処理を吸
着処理と並行して同時に行ってもよい。２つの処理を同
時に行う場合に、吸着ロータ２０を、たとえば１時間に
１回転程度の低速で回転させた状態で吸着処理と再生処
理との２つの処理を同時に行えばよい。

【００３９】（ｂ） 前記実施形態では、メンテナンス
スペースを小さくするために、吸着ロータ２０を片持ち
軸１８により支持したが、吸着ロータ２０の支持形態は
前記実施形態に限定されない。

【００４０】（ｃ） 前記実施形態では、分解処理部１
４に２種の熱触媒３６ａ，３６ｂを用いたが、熱触媒
は、１種でも複数種でもよい。また、その種類も前記実
施形態に限定されず、被処理ガスの臭気の成分に応じて
種々の熱触媒を使用できる。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、１つのケーシング内に
吸着処理手段と、脱着処理手段と、分解処理手段とを設
けたので、臭気の成分の吸着から分解までの処理を行え
る脱臭装置をコンパクトなスペースに容易に設置でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を採用した脱臭装置の透視
斜視図。

【図２】その側面一部断面図。

【図３】その展開透視斜視図。

【図４】吸着ロータ中心部の縦断面図。

【図５】触媒処理部の断面模式図。

【符号の説明】

１０ 脱臭装置 １１ ケーシング １２ 吸着処理部 １３ 再生処理部 １４ 分解処理部 １６ ガス通流部 ２０ 吸着ロータ ２１ 回転駆動部 ２２ 送風装置 ２３ａ，２３ｂ 再生部 ２４ａ，２４ｂ 冷却部 ３１ 送風ファン ３２ 排気筒 ３３ 第１加熱部 ３５ 第２加熱部 ３６ 触媒処理部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 53/86 ＺＡＢ (72)発明者 高井 基次 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 (72)発明者 宇佐見 禎一 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 (72)発明者 香川 謙吉 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 Ｆターム(参考） 4C080 AA07 BB02 CC01 HH05 JJ03 KK08 LL02 MM04 MM05 QQ14 4D002 AB02 AC07 AC10 BA04 CA05 CA11 DA41 DA45 EA05 EA08 4D048 AA19 AA22 AB03 BA23Y BA25Y BA28Y BA29Y BA30Y BA31Y BA32Y BA33Y BA34Y BA35Y BA36Y BA37Y BA38Y BA41Y CA01 CC52 CD01 CD08

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】臭気を含む被処理ガスから臭気を処理する
   脱臭装置（１０）であって、 ケーシング（１１）と、 前記ケーシング（１１）内に設けられ、前記被処理ガス
   から前記臭気の成分を吸着する吸着処理を行うとともに
   吸着した前記臭気の成分を脱着可能な吸着処理手段（１
   ２）と、 前記ケーシング（１１）内に設けられ、前記吸着処理手
   段（１２）で吸着された前記臭気の成分を再生用ガスに
   より脱着処理する脱着処理手段（１３）と、 前記ケーシング（１１）内に設けられ、前記脱着処理後
   の前記臭気の成分を含む前記再生用ガスを分解処理する
   分解処理手段（１４）と、を備えた脱臭装置。
2. 【請求項２】前記脱着処理手段（１３）は、前記吸着処
   理手段（１２）に近接して配置され、前記吸着処理手段
   （１２）に前記再生用ガスを通流させることによって前
   記吸着処理手段（１２）に吸着された前記成分を脱着す
   るための再生部（２３ａ），（２３ｂ）と、前記再生部
   （２３ａ），（２３ｂ）に前記再生用ガスを通流するガ
   ス通流部（１６）とを有し、 前記分解処理手段（１４）は、前記ケーシング内（１
   １）に設けられ、前記脱着処理手段で脱着した前記成分
   を含む前記再生用ガスを触媒処理して無臭化する触媒処
   理部（３６）を有する、請求項１に記載の脱臭装置。
3. 【請求項３】前記吸着処理手段（１２）及び前記脱着処
   理手段（１３）の再生部（２３ａ），（２３ｂ）は、前
   記ケーシング（１１）の下部に配置されており、前記脱
   着処理手段（１３）のガス通流部（１６）及び前記分解
   処理手段（１４）の前記触媒処理部（３６）は、前記ケ
   ーシング（１１）の上部に配置されている、請求項２に
   記載の脱臭装置。
4. 【請求項４】前記吸着処理手段（１２）は、前記ケーシ
   ング（１１）に回転かつ着脱自在に装着され、軸方向に
   通流する前記被処理ガスから前記臭気の成分を温度に応
   じて吸着及び脱着可能な回転吸着体（２０）と、前記回
   転吸着体（２０）を回転駆動する回転駆動部（２１）
   と、前記回転吸着体（２０）の軸方向に前記回転吸着体
   （２０）を通過可能な前記被処理ガスのガス流を生じさ
   せるためのガス流発生部（２２）とを有し、 前記再生部（２３ａ），（２３ｂ）は、前記回転吸着体
   （２０）の両面の周方向の一部に近接しかつ対向して前
   記ケーシング（１１）に装着され、前記回転吸着体（２
   ０）に前記再生用ガスを通流させることによって前記回
   転吸着体（２０）に吸着された前記成分を脱着する、請
   求項２又は３に記載の脱臭装置。
5. 【請求項５】前記脱着処理手段（１３）は、前記再生部
   （２３ａ），（２３ｂ）の前記回転吸着体（２０）の回
   転方向下流側に隣接して配置された冷却部（２４ａ），
   （２４ｂ）を有し、 前記ガス通流部（１６）は、前記再生用ガスとなる外気
   を前記冷却部（２４ａ），（２４ｂ）を通して取り込み
   前記再生部（２３ａ），（２３ｂ）を介して前記分解処
   理手段（１４）まで送り出す送風部（３１）と、前記送
   風部（３１）で取り込んだ外気を前記成分を前記回転吸
   着体（２０）から脱着可能な再生用温度まで加熱して前
   記再生用ガスにする第１加熱部（３３）とを有し、 前記分解処理手段（１４）は、前記触媒処理部（３６）
   と前記再生用ガスとを触媒処理可能温度まで加熱する第
   ２加熱部（３５）を有する、請求項３又は４に記載の脱
   臭装置。
6. 【請求項６】前記ガス通流部（１６）は、前記送風部
   （３１）と第１加熱部（３３）との間に配置され、前記
   送風部（３１）で取り込んだ外気を、前記分解処理手段
   （１４）で加熱された前記再生用ガスと熱交換して加熱
   するとともに前記分解処理手段（１４）で処理された前
   記再生用ガスを排気する排気部（３２）を有する、請求
   項５に記載の脱臭装置。