JP2002026711A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP2002026711A JP2000210762A JP2000210762A JP2002026711A JP 2002026711 A JP2002026711 A JP 2002026711A JP 2000210762 A JP2000210762 A JP 2000210762A JP 2000210762 A JP2000210762 A JP 2000210762A JP 2002026711 A JP2002026711 A JP 2002026711A
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    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スレッショルド電圧の低い素子および高い素
子が混在した半導体集積回路においてパワーダウン時の
低消費電流を実現し,誤動作を防止すること。 【解決手段】 LVTブロック130とHVTブロック
140を有する半導体集積回路100において,LVT
ブロック130の電源をコントロールするパワースイッ
チ120と,LVTブロック130に電源を供給しない
時,LVTブロック130からの出力信号を所定のレベ
ルに固定する出力ラッパー150と,LVTブロック1
30に電源を供給しない時,LVTブロック130への
入力電圧を所定のレベルに固定する入力ラッパー160
とを備えるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路にか
かり,特に,携帯機器におけるシステムLSIのよう
に,動作時はスピード性能を求められ,非動作時は低消
費電力を求められる半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来,半導体集積回路は,例えばPMO
S,NMOS等のトランジスタを組み合わせて実現して
いる。同一のトランジスタサイズで,このインバータ回
路を高速に動作させるためには,このトランジスタのス
レッショルド電圧を低い値,通常は約0.6V程度のス
レッショルド電圧に対して,例えば0.2V程度にする
ことが一番効果的である。
【0003】しかしながら,スレッショルド電圧を低い
値に設定すると,ゲートがオフの状態においてもリーク
電流が発生し,非動作時の消費電流が増加する。このた
め,次のような対策が従来提案されていた。
【0004】図14は,従来の半導体集積回路10の構
成図である。図14に示すように,トランジスタ回路3
0の電源線に,電源供給用のスレッショルド電圧の高い
素子,すなわちゲートがオフの時であってもリーク電流
が流れない素子を用いたパワースイッチ20を取り付け
る,MTCMOS(Multi Threshold−
Voltage CMOS)構成とし,非動作時は電源
の供給を断つ方式である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら,スレッ
ショルド電圧の低い素子で構成されるブロック(以下L
VTブロックと記載する)だけで構成されているLSI
の場合には特に問題はなかったが,システムLSIのよ
うにスレッショルド電圧の高い素子で構成されるブロッ
ク(以下HVTブロックと記載する)とLVTブロック
が混在するLSIでは,LVTブロックに電源に供給し
ていない時,すなわちパワーダウン時にLVTブロック
の出力がハイインピーダンスになることにより,動作し
ているHVTブロックの入力信号もハイインピーダンス
になってしまい,HVTブロックにおいて誤動作や,多
大な電力を消費してしまうという問題があった。
【0006】本発明は,従来の半導体集積回路が有する
上記問題点に鑑みてなされたものであり,本発明の目的
は,HVTブロックとLVTブロックが混在したLSI
においてパワーダウン時の低消費電流を実現することの
可能な,新規かつ改良された半導体集積回路を提供する
ことである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め,本発明の第1の観点によれば,異なるスレッショル
ド電圧をもつ素子が混在する半導体集積回路において,
LVTブロックの電源をコントロールする手段と,LV
Tブロックに電源を供給しない時,LVTブロックから
の出力信号を所定のレベルに固定する手段と,LVTブ
ロックに電源を供給しない時,LVTブロックへの入力
電圧を所定のレベルに固定する手段とを有する半導体集
積回路が提供される。ここで,LVTブロックへの入力
電圧を所定のレベルに固定する手段は,LVTブロック
の回路構成によっては,省くことができる。
【0008】出力信号のレベルは,GND,VDD,お
よびLVTブロックへ供給していた電源を切る直前に出
力されていた値とすることができる。入力電圧は,ハイ
インピーダンスであることが好ましい。
【0009】また,本発明の第2の観点によれば,異な
るスレッショルド電圧をもつ素子が混在する半導体集積
回路において,LVTブロックの電源をコントロールす
る手段と,LVTブロックに電源を供給しない時,HV
Tブロックからの出力信号を所定のレベルに固定する手
段と,LVTブロックに電源を供給しない時,HVTブ
ロックへの入力電圧を所定のレベルに固定する手段とを
有する半導体集積回路が提供される。ここで,HVTブ
ロックからの出力信号を所定のレベルに固定する手段
は,LVTブロックの回路構成によっては,省くことが
できる。
【0010】入力電圧のレベルは,GND,VDD,お
よびLVTブロックへ供給していた電源を切る直前にH
VTブロックに入力されていた値とすることができる。
出力信号は,ハイインピーダンスであることが好まし
い。
【0011】かかる構成によれば,LVTブロックへ供
給していた電源を切った状態でも,HVTブロックにお
いて誤動作や,多大な電力消費が起こることのない半導
体集積回路が提供される。
【0012】
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら,
本発明にかかる半導体集積回路の好適な実施の形態につ
いて詳細に説明する。なお,本明細書及び図面におい
て,実質的に同一の機能構成を有する構成要素について
は,同一の符号を付することにより重複説明を省略す
る。
【0013】(第1の実施の形態)図1は,本発明の第
1の実施形態にかかる半導体集積回路100の構成図で
ある。図1に示すように,半導体集積回路100は,パ
ワースイッチ120,LVTブロック130,HVTブ
ロック140,出力ラッパー150,入力ラッパー16
0を有している。
【0014】パワースイッチ120は,LVTブロック
130に電源を供給する。出力ラッパー150は,LV
Tブロックのパワーダウン時にLVTブロックからの出
力レベルを固定する。入力ラッパー160は,LVTブ
ロックのパワーダウン時にLVTブロックへレベルを入
力させず,ハイインピーダンスにする。このような構成
により,パワーダウン時のHVTブロックの誤操作防止
および低消費電流化を可能にしている。
【0015】半導体集積回路100の動作について,図
2を参照しながら説明する。図2は,半導体集積回路1
00におけるモード移行のシーケンスを示した図であ
る。まず,パワーダウンモードからの復帰動作について
説明する。
【0016】パワースイッチ120のパワーコントロー
ル信号をON状態にし,LVTブロック130に電源を
供給する(時刻t11)。入力ラッパー160の入力コ
ントロール信号をON状態にし,LVTブロックへの入
力信号を受け付け可能にする(時刻t12)。
【0017】LVTブロック130にパワーオンリセッ
ト動作が必要な場合はリセット動作を行う。その後,出
力ラッパー150のマスク信号をOFF状態にし,LV
Tブロック130への出力信号を伝達可能にする(時刻
t13)。この後は通常の動作となる。
【0018】次に,パワーダウンモードへの移行動作の
説明を行う。出力ラッパー150のマスク信号をON状
態とし,LVTブロック130からの出力レベルを所定
のレベルに固定する(時刻t14)。
【0019】同時に入力ラッパー160の入力コントロ
ール信号をOFF状態にし,LVTブロック130への
入力信号をハイインピーダンスにする(時刻t15)。
その後,パワースイッチ120のパワーコントロール信
号をOFF状態にし,LVTブロック130への電源供
給を断つ(時刻t16)。
【0020】以上説明したように,本実施の形態によれ
ば,上述のように動作する入力ラッパー160と出力ラ
ッパー150をLVTブロック130に接続することに
より,LVTブロック130へ電源を供給しないパワー
ダウン時もLVTブロック130からの出力レベルを所
定のレベルに固定でき,かつLVTブロック130への
入力信号をハイインピーダンスにできるため,パワーダ
ウン時も動作しているHVTブロック140の誤動作を
防止できる。
【0021】さらに,HVTブロック140の入力レベ
ルがハイインピーダンスになることにより入力部に電流
が流れないため,低消費電力化が可能である。またこの
電流はLSIをラッチアップさせるトリガにもなりうる
ので,ラッチアップの防止にもつながる。
【0022】(第2の実施の形態)図3は,第2の実施
の形態にかかる半導体集積回路200を示す図である。
図3に示すように,半導体集積回路200は,パワース
イッチ220,LVTブロック230,HVTブロック
240,出力ラッパー250,入力ラッパー260を有
しており,概略的な構成は,第1の実施形態にかかる半
導体集積回路100と同一である。
【0023】半導体集積回路200においては,パワー
スイッチ220をPMOS222およびインバータ回路
224で,LVTブロック230からの出力ラッパー2
50を2入力ANDゲート254およびインバータ回路
252で,LVTブロックへの入力ラッパー260をト
ライステートバッファ262でおのおの構成することに
より,パワーダウン時のHVTブロックの誤操作防止お
よび低消費電流化を可能にしている。
【0024】LVTブロック230からの出力ラッパー
250を,2入力ANDゲート254およびインバータ
回路252で構成すると,マスク信号をON状態にした
際,LVTブロック230からの出力をGNDレベルに
固定できる。
【0025】また,LVTブロック230への入力ラッ
パー260をトライステートバッファ262で構成する
と,入力コントロール信号がOFF状態のときには,出
力がハイインピーダンスになる。よって第1の実施の形
態と同様の効果を得られる。
【0026】(第3の実施の形態)図4は,第3の実施
の形態にかかる出力ラッパー350を示す図である。図
4に示すように,本実施の形態では,第2の実施形態に
かかる半導体集積回路200におけるLVTブロック2
30からの出力ラッパー250に替えて,2入力ORゲ
ート352で構成する出力ラッパー350を用いる。
【0027】すなわち,LVTブロック230の出力端
子232からの出力を2入力ORゲート352の入力端
子356に,マスク信号を,入力端子354に入力す
る。また,2入力ORゲート352の出力端子358か
らの出力をHVTブロック240の入力端子244に入
力する。
【0028】本実施の形態は,LVTブロックからの出
力ラッパー350の構成以外は第2の実施形態と同様な
ため,LVTブロックの出力ラッパー350が2入力O
Rゲート352で構成可能であることのみ説明する。
【0029】LVTブロックからの出力ラッパーを2入
力ORゲートで構成した場合,マスク信号をON状態に
すると,LVTブロックからの出力をVDDレベルに固
定できるため,パワーダウン時のHVTブロックの誤操
作防止および低消費電流化が可能になる。よって,本構
成をとることにより,第1および第2の実施形態と同様
の効果を得られる。
【0030】(第4の実施の形態)図5は,本発明の第
4の実施形態にかかる半導体集積回路400の構成図,
図6は,パワーダウン時も状態保持可能なフリップフロ
ップ回路を示す図である。図5に示すように,半導体集
積回路400は,パワースイッチ420,LVTブロッ
ク430,HVTブロック440,出力ラッパー45
0,入力ラッパー460を有しており,概略的な構成
は,第1の実施形態にかかる半導体集積回路100と同
一である。
【0031】半導体集積回路400においては,パワー
スイッチ420をPMOS422およびインバータ回路
424で,LVTブロック430への入力ラッパー46
0をトライステートバッファ462でおのおの構成す
る。
【0032】また,図6のようなLVTブロック内のラ
ッチやフリップフロッブ回路等のデータ保持回路に,パ
ワーダウン時もデータが保持可能な構成のものを使用
し,LVTブロック430からの出力ラッパー450を
ラッチ回路452で構成することにより,パワーダウン
時のHVTブロックの誤操作防止および低消費電流化を
可能にしている。
【0033】次に,半導体集積回路400の動作の説明
を行う。図11はモード移行のシーケンスを示す図であ
る。まず,パワーダウンモードからの復帰動作について
説明する。
【0034】パワースイッチ420のパワーコントロー
ル信号をON状態にし,LVTブロック430に電源を
供給する(時刻t41)。この時,フリップフロップ等
の状態保持回路は図6の一例のようにパワーダウン時も
パワーダウン前の状態を保持可能となっている。
【0035】入力ラッパー460の入力コントロール信
号をON状態にし,LVTブロック430への入力信号
を受け付け可能にする(時刻t42)。出力ラッパー4
50のマスク信号をOFF状態にし,LVTブロック4
30の出力信号を伝達可能にする(時刻t43)。この
出力ラッパ450もLVTブロック430のパワーダウ
ン前の出力状態を保持している。よって,リセット動作
なしに,容易にパワーダウン前の状態に復帰可能であ
る。この後は通常の動作となる。
【0036】次に,パワーダウンモードへの移行動作の
説明を行う。出力ラッパー450のマスク信号をON状
態とし,LVTブロック430からの出力レベルをパワ
ーダウン前最終レベルに固定する(時刻t44)。
【0037】入力ラッパー460の入力コントロール信
号をOFF状態にし,LVTブロック430への入力信
号をハイインピーダンスにする(時刻t45)。パワー
スイッチ420のパワーコントロール信号をOFF状態
にし,LVTブロック430への電源供給を断つ(時刻
t46)。この時,フリップフロップ等の状態保持回路
は図6の一例のように,パワーダウン時もパワーダウン
前の状態が保持可能となっている。
【0038】かかる構成をとることにより,第1の実施
の形態と同様の効果を得られる上に,LVTブロック4
30内のデータ保持回路はパワーダウンの前後でデータ
に変化がなく,LVTブロック430からの出力ラッパ
ー450によって出力レベルもパワーダウンの前後で変
化ないので,パワーダウン前後で,同じ状況にすること
ができる。
【0039】(第5の実施の形態)図8は,第5の実施
形態にかかる半導体集積回路500の構成図である。図
5に示すように,半導体集積回路500はパワースイッ
チ520,LVTブロック530,HVTブロック54
0,出力ラッパー550を有している。
【0040】本実施の形態にかかる半導体集積回路50
0は,LVTブロック530への入力ラッパーのコント
ロールが不要な以外は第1の実施の形態と同様なため,
LVTブロック530への入力ラッパーが省略できる理
由のみ説明する。
【0041】LVTブロック530の入力ピンの状態が
電気的に電源線とつながっていない,いわゆる絶縁され
た状態であるとき,LVTブロック530への電源供給
が絶たれた状態下において,LVTブロック530の入
力ピンへ信号レベルが印可されても,電源線と電気的に
接続されていないため,ラッチアップや消費電流の増大
等の問題が発生しない。よって本条件が満たせた場合
は,LVTブロック530への入力ラッパーは省略で
き,第1の実施形態と同様の効果が得られる。
【0042】このとき,パワースイッチ520,出力ラ
ッパー550の例としては,第2,3および第4の実施
形態において示した回路構成を用いることができる。
【0043】(第6の実施の形態)図9は,本発明の第
6の実施形態にかかる半導体集積回路600の構成図で
ある。図9に示すように,半導体集積回路600は,パ
ワースイッチ620,LVTブロック630,HVTブ
ロック640,出力ラッパー650,入力ラッパー66
0を有している。
【0044】パワースイッチ620は,LVTブロック
630に電源を供給する。入力ラッパー660は,LV
Tブロックがパワーダウン時にHVTブロック640へ
入力するレベルを固定する。出力ラッパー650は,L
VTブロック630がパワーダウン時にHVTブロック
640から出力するレベルをハイインピーダンスにす
る。このように構成することにより,パワーダウン時の
HVTブロック640の誤操作防止および低消費電流化
を可能にしている。
【0045】次に半導体集積回路600の動作の説明を
行う。図10はモード移行のシーケンスを示す図であ
る。まず,パワーダウンモードからの復帰動作について
説明する。
【0046】パワースイッチ620のパワーコントロー
ル信号をON状態に,LVTブロック630に電源を供
給する(時刻t61)。出力ラッパー650の出力コン
トロール信号をON状態にし,HVTブロック640か
ら信号レベルを出力する(時刻t62)。
【0047】LVTブロック630にパワーオンリセッ
ト動作が必要な場合はリセット動作を行う。その後,入
力ラッパー660のマスク信号をOFF状態にし,HV
Tブロック640への入力信号を受け付け可能な状態と
する(時刻t63)。この後は通常の動作となる。
【0048】次に,パワーダウンモードへの移行動作の
説明を行う。入力ラッパー660のマスク信号をON状
態とし,HVTブロック640への入力信号を所定のレ
ベルに固定する(時刻t64)。
【0049】出力ラッパー650の出力コントロール信
号をOFFにし,HVTブロック640からの出力をハ
イインピーダンスにする(時刻t65)。パワースイッ
チ620のパワーコントロール信号をOFF状態にし,
LVTブロック630への電源の供給を断つ(時刻t6
6)。
【0050】このように動作する入力ラッパー660と
出力ラッパー650をHVTブロック640に接続する
ことにより,LVTブロック630へ電源を供給しない
パワーダウン時もHVTブロック640への入力レベル
を所定のしべルに固定できる。
【0051】さらに,HVTブロック640からの出力
信号をハイインピーダンスにできるため,パワーダウン
時も動作しているHVTブロック640の誤動作を防止
し,かつHVTブロック640の入力レベルがハイイン
ピーダンスになることによる入力部への電流が流れない
ため,低消費電力化が実現できる。またこの電流はLS
Iをラッチアップさせるトリガにもなりうるので,ラッ
チアップの防止にもつながる。
【0052】(第7の実施の形態)図11は,第7の実
施の形態にかかる半導体集積回路700を示す図であ
る。図11に示すように,半導体集積回路700は,パ
ワースイッチ720,LVTブロック730,HVTブ
ロック740,出力ラッパー750,入力ラッパー76
0を有しており,概略的な構成は,第6の実施形態にか
かる半導体集積回路600と同一である。
【0053】半導体集積回路700においては,パワー
スイッチ720をPMOS722およびインバータ回路
724で,HVTブロック740への入力ラッパー76
0を2入力ANDゲート764およびインバータ回路7
62で,HVTブロック740からの出力ラッパー75
0をトライステートバッファ752でおのおの構成する
ことにより,パワーダウン時のHVTブロックの誤操作
防止および低消費電流化を可能にしている。
【0054】HVTブロック740への入力ラッパー7
60を,2入力ANDゲート764およびインバータ回
路762で構成すると,マスク信号をON状態にした
際,HVTブロック740への入力をGNDレベルに固
定できる。
【0055】また,HVTブロック740からの出力ラ
ッパー760をトライステートバッファ752で構成す
ると,出力コントロール信号がOFF状態のときには,
出力がハイインピーダンスになる。よって第6の実施の
形態と同様の効果を得られる。
【0056】(第8の実施の形態)図12は,第8の実
施の形態にかかる入力ラッパー860を示す図である。
図12に示すように,本実施の形態では,第7の実施形
態のHVTブロック740への入力ラッパー760に替
えて,2入力ORゲート862で構成する入力ラッパー
860を用いる。
【0057】すなわち,LVTブロック730の出力端
子732からの出力を2入力ORゲート862の入力端
子864に,マスク信号を,入力端子866に入力す
る。また,2入力ORゲート862の出力端子868か
らの出力をHVTブロック740の入力端子744に入
力する。
【0058】本実施の形態は,HVTブロックへの入力
ラッパー860の構成以外は第7の実施形態と同様なた
め,HVTブロックの入力ラッパー860が2入力OR
ゲート862で構成可能であることのみ説明する。
【0059】HVTブロック740への入力ラッパー8
60を2入力ORゲート862で構成した場合,マスク
信号をON状態にすると,HVTブロックへの入力をV
DDレベルに固定できるため,パワーダウン時のHVT
ブロックの誤操作防止および低消費電流化が可能にな
る。よって,本構成をとることにより,第6および第7
の実施形態と同様の効果を得られる。
【0060】また,本実施の形態にかかる入力ラッパー
860に替えて,例えば第4の実施形態にかかるラッチ
回路452を用いると,HVTブロックへの入力レベル
をパワーダウン前の最終レベルに固定でき,第6,7お
よび8の実施形態と同様の効果が得られる。
【0061】(第9の実施の形態)図13は,第9の実
施形態にかかる半導体集積回路900の構成図である。
図13に示すように,半導体集積回路900はパワース
イッチ920,LVTブロック930,HVTブロック
940,入力ラッパー960を有している。
【0062】本実施の形態にかかる半導体集積回路90
0は,HVTブロック940からの出力ラッパーのコン
トロールが不要な以外は第7の実施の形態と同様なた
め,HVTブロック940からの出力ラッパーが省略で
きる理由のみ説明する。
【0063】LVTブロック930の入力ピンの状態が
電気的に電源線とつながっていない,いわゆる絶縁され
た状態であるとき,LVTブロック930への電源供給
が絶たれた状態下において,LVTブロック930の入
力ピンへ信号レベルが印可されても,電源線と電気的に
接続されていないため,ラッチアップや消費電流の増大
等の問題が発生しない。よって本条件が満たせた場合
は,HVTブロック940からの出力ラッパーは省略で
き,第7の実施形態と同様の効果が得られる。
【0064】このとき,パワースイッチ920,入力ラ
ッパー960の例としては,第7および第8の実施形態
における回路構成を用いることができる。
【0065】以上,添付図面を参照しながら本発明にか
かる半導体集積回路の好適な実施形態について説明した
が,本発明はかかる例に限定されない。当業者であれ
ば,特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内に
おいて各種の変更例または修正例に想到し得ることは明
らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範
囲に属するものと了解される。
【0066】例えば,入力ラッパーと出力ラッパーは,
同一のブロックに設ける例を示したが,必ずしも同一の
ブロックに設ける必要はない。また,第2,3,4,7
および8に示した,パワースイッチ,入力ラッパー,出
力ラッパーの回路構成の例は,これに限定されるもので
はない。実質的に同一の機能を有するものであれば,使
用可能である。
【0067】
【発明の効果】以上説明したように,本発明によれば,
HVTブロックとLVTブロックが混在したLSIにお
いてパワーダウン時の低消費電流を実現するとともに,
HVTブロックの誤動作を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態にかかる半導体集積回
路100の構成図である。
【図2】本発明の第1の実施形態にかかるモード移行の
シーケンスを示した図である。
【図3】本発明の第2の実施形態にかかる半導体集積回
路200の構成図である。
【図4】本発明の第3の実施形態にかかる出力ラッパー
350を示した図である。
【図5】本発明の第4の実施形態にかかる半導体集積回
路400の構成図である。
【図6】パワーダウン時も状態保持可能なフリップフロ
ップ回路の構成図である。
【図7】本発明の第4の実施形態にかかるモード移行の
シーケンスを示した図である。
【図8】本発明の第5の実施形態にかかる半導体集積回
路500の構成図である。
【図9】本発明の第6の実施形態にかかる半導体集積回
路600の構成図である。
【図10】本発明の第6の実施形態にかかるモード移行
のシーケンスを示した図である。
【図11】本発明の第7の実施形態にかかる半導体集積
回路700の構成図である。
【図12】本発明の第8の実施形態にかかる入力ラッパ
ー860を示した図である。
【図13】本発明の第9の実施形態にかかる半導体集積
回路900の構成図である。
【図14】MTCMOS回路10の構成図である。
【符号の説明】
100 半導体集積回路 120 パワースイッチ 130 LVTブロック 140 HVTブロック 150 出力ラッパー 160 入力ラッパー

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 異なるスレッショルド電圧をもつ素子が
    混在する半導体集積回路において,低いスレッショルド
    電圧を持つ素子で構成されるブロックの電源をコントロ
    ールする手段と,前記低いスレッショルド電圧を持つ素
    子で構成されるブロックの電源を供給しない時,前記低
    いスレッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロック
    からの出力信号を所定のレベルに固定する手段と,前記
    低いスレッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロッ
    クに電源を供給しない時,前記低いスレッショルド電圧
    を持つ素子で構成されるブロックへの入力電圧を所定の
    レベルに固定する手段とを有することを特徴とする半導
    体集積回路。
  2. 【請求項2】 異なるスレッショルド電圧をもつ素子が
    混在する半導体集積回路において,低いスレッショルド
    電圧を持つ素子で構成されるブロックの電源をコントロ
    ールする手段と,前記低いスレッショルド電圧を持つ素
    子で構成されるブロックに電源を供給しない時,前記低
    いスレッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロック
    からの出力信号を所定のレベルに固定する手段とを有す
    ることを特徴とする半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 前記入力電圧のレベルは,ハイインピー
    ダンスであることを特徴とする請求項1に記載の半導体
    集積回路。
  4. 【請求項4】 前記出力信号のレベルは,接地電位(G
    ND)であることを特徴とする請求項1,2および3に
    記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】 前記出力信号のレベルは,電源電位(V
    DD)であることを特徴とする請求項1,2および3に
    記載の半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 前記出力信号のレベルは,前記低いスレ
    ッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロックへ供給
    していた電源を切る直前に出力されていた値を保持する
    ことを特徴とする請求項1,2および3に記載の半導体
    集積回路。
  7. 【請求項7】 異なるスレッショルド電圧をもつ素子が
    混在する半導体集積回路において,低いスレッショルド
    電圧を持つ素子で構成されるブロックの電源をコントロ
    ールする手段と,前記低いスレッショルド電圧を持つ素
    子で構成されるブロックに電源を供給しない時,高いス
    レッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロックから
    の出力信号を所定のレベルに固定する手段と,前記低い
    スレッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロックに
    電源を供給しない時,前記高いスレッショルド電圧を持
    つ素子で構成されるブロックへの入力電圧を所定のレベ
    ルに固定する手段とを有することを特徴とする半導体集
    積回路。
  8. 【請求項8】 異なるスレッショルド電圧をもつ素子が
    混在する半導体集積回路において,低いスレッショルド
    電圧を持つ素子で構成されるブロックの電源をコントロ
    ールする手段と,前記低いスレッショルド電圧を持つ素
    子で構成されるブロックに電源を供給しない時,高いス
    レッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロックへの
    入力電圧を所定のレベルに固定する手段とを有すること
    を特徴とする半導体集積回路。
  9. 【請求項9】 前記出力信号のレベルは,ハイインピー
    ダンスであることを特徴とする請求項7に記載の半導体
    集積回路。
  10. 【請求項10】 前記入力電圧のレベルは,接地電位
    (GND)であることを特徴とする請求項7,8および
    9に記載の半導体集積回路。
  11. 【請求項11】 前記入力電圧のレベルは,電源電位
    (VDD)であることを特徴とする請求項7,8および
    9に記載の半導体集積回路。
  12. 【請求項12】 前記入力電圧のレベルは,前記低いス
    レッショルド電圧を持つ素子で構成されるブロックへ供
    給していた電源を切る直前に前記高いスレッショルド電
    圧を持つ素子で構成されるブロックへ入力されていた値
    を保持することを特徴とする請求項7,8および9に記
    載の半導体集積回路。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004248143A (ja) * 2003-02-17 2004-09-02 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
JP2006344640A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置
US7230477B2 (en) 2002-01-28 2007-06-12 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device
JP2008535300A (ja) 2005-03-24 2008-08-28 エイアールエム リミテッド 演算およびスリープ・モード中のデータ格納回路並びに方法
JP2009010980A (ja) * 2008-08-18 2009-01-15 Renesas Technology Corp 半導体集積回路
JP2010283885A (ja) * 2010-09-06 2010-12-16 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置
US7855593B2 (en) 2004-04-20 2010-12-21 Renesas Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device
JP2012059991A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Toshiba Corp 半導体集積回路

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6968469B1 (en) 2000-06-16 2005-11-22 Transmeta Corporation System and method for preserving internal processor context when the processor is powered down and restoring the internal processor context when processor is restored
US6628139B2 (en) * 2001-08-03 2003-09-30 Micron Technology, Inc. Digital logic devices with extremely skewed trip points and reset circuitry for rapidly propagating signal edges
JP2005033169A (ja) * 2003-03-28 2005-02-03 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置とcmos回路の高速化方法
KR101045295B1 (ko) * 2004-04-29 2011-06-29 삼성전자주식회사 Mtcmos 플립-플롭, 그를 포함하는 mtcmos회로, 및 그 생성 방법
KR100564634B1 (ko) * 2004-10-08 2006-03-28 삼성전자주식회사 단락전류 방지회로를 구비한 mtcmos 회로 시스템
DE102004051168B3 (de) * 2004-10-20 2006-07-20 Siemens Ag Motorsteuerung
US7248090B2 (en) * 2005-01-10 2007-07-24 Qualcomm, Incorporated Multi-threshold MOS circuits
US7164301B2 (en) * 2005-05-10 2007-01-16 Freescale Semiconductor, Inc State retention power gating latch circuit
US8421502B2 (en) * 2005-11-10 2013-04-16 Intel Corporation Power reducing logic and non-destructive latch circuits and applications

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5486774A (en) * 1991-11-26 1996-01-23 Nippon Telegraph And Telephone Corporation CMOS logic circuits having low and high-threshold voltage transistors
JP3080062B2 (ja) * 1998-04-06 2000-08-21 日本電気株式会社 半導体集積回路
JP4300598B2 (ja) * 1998-06-30 2009-07-22 ソニー株式会社 半導体回路の設計方法および製造方法
JP3519284B2 (ja) 1998-09-25 2004-04-12 Necエレクトロニクス株式会社 半導体集積論理回路及びその制御方法
JP2000114935A (ja) * 1998-10-02 2000-04-21 Nec Corp 順序回路

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8829968B2 (en) 2002-01-28 2014-09-09 Renesas Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device
US7230477B2 (en) 2002-01-28 2007-06-12 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device
US8222945B2 (en) 2002-01-28 2012-07-17 Renesas Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device
US7612601B2 (en) 2002-01-28 2009-11-03 Renesas Technology Corporation Semiconductor integrated circuit device
KR100938729B1 (ko) 2002-01-28 2010-01-26 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 반도체 집적 회로 장치
US8063691B2 (en) 2002-01-28 2011-11-22 Renesas Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device
JP2004248143A (ja) * 2003-02-17 2004-09-02 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
US7855593B2 (en) 2004-04-20 2010-12-21 Renesas Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device
JP2008535300A (ja) 2005-03-24 2008-08-28 エイアールエム リミテッド 演算およびスリープ・モード中のデータ格納回路並びに方法
JP2006344640A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置
JP4602443B2 (ja) * 2008-08-18 2010-12-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路
JP2009010980A (ja) * 2008-08-18 2009-01-15 Renesas Technology Corp 半導体集積回路
JP2010283885A (ja) * 2010-09-06 2010-12-16 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置
JP2012059991A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Toshiba Corp 半導体集積回路

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