JP2002023358A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JP2002023358A
JP2002023358A JP2000201837A JP2000201837A JP2002023358A JP 2002023358 A JP2002023358 A JP 2002023358A JP 2000201837 A JP2000201837 A JP 2000201837A JP 2000201837 A JP2000201837 A JP 2000201837A JP 2002023358 A JP2002023358 A JP 2002023358A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
resin composition
photosensitive resin
alkali
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000201837A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3615995B2 (ja
Inventor
Shuichi Takahashi
修一 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Clariant Japan KK
Original Assignee
Clariant Japan KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2000201837A priority Critical patent/JP3615995B2/ja
Application filed by Clariant Japan KK filed Critical Clariant Japan KK
Priority to EP00964644A priority patent/EP1143298A1/en
Priority to MYPI20004648A priority patent/MY133599A/en
Priority to CNB00802166XA priority patent/CN1208686C/zh
Priority to US09/857,553 priority patent/US6737212B1/en
Priority to KR1020017007045A priority patent/KR20010112227A/ko
Priority to PCT/JP2000/006903 priority patent/WO2001025853A1/ja
Publication of JP2002023358A publication Critical patent/JP2002023358A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3615995B2 publication Critical patent/JP3615995B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】高残膜性および高感度化を両立させることが実
用上可能で、さらに塗布性に優れた感光性樹脂組成物を
提供する。 【構成】アルカリ可溶性樹脂およびキノンジアジド基を
含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物において、アル
カリ可溶性樹脂として、その重アセトン溶液の H−N
MRスペクトルの7.2〜5.6ppmの範囲のピーク
積分値をA、1.3〜0.95ppmの範囲のピーク積
分値をBとした場合にX=B/Aの値が0.01≦X≦
0.13であるアルカリ可溶性樹脂を用いる。この特性
を示すアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂と
メタクリル酸エステルを単量体成分として用いて得られ
た(共)重合体との混合物などが挙げられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、さらに詳細には半導体デバイス、フラットパネルデ
ィスプレー(FPD)等の製造の際に好適に用いられる
感光性樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】LSIなどの半導体集積回路や、FPD
の表示面の製造、サーマルヘッドなどの回路基板の製造
等を初めとする幅広い分野において、微細素子の形成あ
るいは微細加工を行うために、従来からフォトリソグラ
フィー技術が用いられている。フォトリソグラフィー技
術においては、レジストパターンを形成するためにポジ
型またはネガ型感光性樹脂組成物が用いられる。これら
感光性樹脂組成物の内、ポジ型感光性樹脂組成物として
は、アルカリ可溶性樹脂と感光剤としてのキノンジアジ
ド化合物を含有する組成物が広く用いられている。この
組成物は、例えば「ノボラック樹脂/キノンジアジド化
合物」として、特公昭54−23570号公報(米国特
許第3,666,473号明細書)、特公昭56−30
850号公報(米国特許4,115,128号明細
書)、特開昭55−73045号公報、特開昭61−2
05933号公報等多くの文献に種々の組成のものが記
載されている。これらノボラック樹脂とキノンジアジド
化合物を含む組成物は、これまでノボラック樹脂および
感光剤の両面から研究開発が行われてきた。ノボラック
樹脂の観点からは、新しい樹脂の開発は勿論であるが、
従来知られた樹脂の物性などを改善することにより優れ
た特性を有する感光性樹脂組成物を得ることもなされて
いる。例えば、特開昭60−140235号公報、特開
平1−105243号公報には、ノボラック樹脂にある
特有の分子量分布をもたせることにより、また特開昭6
0−97347号公報、特開昭60−189739号公
報、特許第2590342号公報には、低分子量成分を
分別除去したノボラック樹脂を用いることにより、優れ
た特性を有する感光性樹脂組成物を提供する技術が開示
されている。また、ネガ形感光性樹脂組成物では、ノボ
ラック樹脂と架橋剤としてのアルコキシメチル化メラミ
ン、酸発生剤としてハロゲン化トリアジンを組み合せた
もの(特開平5−303196号公報)などが知られて
いる。
【0003】しかしながら、半導体素子の集積回路の集
積度は、年々高まっており、半導体素子等の製造におい
ては、サブミクロン以下の線幅のパターン加工が要求さ
れ、前記従来技術では十分に対応できなくなってきてい
る。また、液晶ディスプレー(LCD)などの表示面の
製造においては、マザーガラスの大型化とともに、高精
細化も求められている。このような微細な加工が要求さ
れる用途においては、解像力はもとより、良好なパター
ンの再現性も求められ、さらには製造コストの面から、
製造時のスループット(単位時間当たりの収量)の向
上、感光性樹脂組成物の低コスト化が求められている。
このため感光性樹脂組成物の高感度化および低コスト化
は重要な課題となっている。
【0004】一般に、感光性樹脂組成物の高感度化のた
めには、低分子量の樹脂を用いたり、感光剤の添加量を
減らしたりすることが行われている。しかし、このよう
な方法によると、レジストの耐熱性が低下して、半導体
デバイス等の製造工程において耐エッチング性が低下し
たり、現像性が悪化し、スカム(現像残り)が生じた
り、残膜率が低下するなどの問題が生じる。これまで
に、特定のフェノール化合物から誘導されたノボラック
樹脂混合物の分子量範囲を特定した混合樹脂を用いる技
術(特開平7−271024号公報)、特定のフェノー
ル化合物から誘導されたノボラック樹脂で、分子量範
囲、分散度が特定され、さらにフェノール性水酸基を有
するポリヒドロキシ化合物を含有する技術(特開平8−
184963号公報)、トリヒドロキシベンゾフェノン
のナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとトリヒド
ロキシベンゾフェノンをある一定の割合で混合した感光
成分を用いる技術(特開平8−82926号公報)など
が提案されている。しかしながら前記全ての要件が十分
に満たされたものはなく、このため前記要件を同時に満
足させうる感光性樹脂組成物、すなわち高感度で、良好
な現像性を有し、残膜性に優れた感光性樹脂組成物が望
まれている。また、感光性樹脂組成物の低コスト化のた
め、単価の高い感光剤の添加量を減らすことも望まれて
いる。通常ノボラック樹脂を用いるキノンジアジド系感
光性樹脂組成物においては、キノンジアジド系感光剤を
ノボラック樹脂100重量部に対し25重量部程度用い
ることが必要とされ、感光剤の添加量を減らすと上記し
たような問題が発生する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のような状況に鑑
み、本発明は、感光性樹脂組成物に含有される感光剤を
従来より少量にしてもなお、高残膜性および高感度化を
両立させることが実用上可能で、現像性、塗布性にも優
れ、かつ良好なパターンを形成することができる感光性
樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研
究、検討を行った結果、アルカリ可溶性樹脂およびキノ
ンジアジド基を有する感光剤を含有する感光性樹脂組成
物において、アルカリ可溶性樹脂として、該樹脂の重ア
セトン溶液のH−NMRスペクトルの7.2〜5.6
ppmの範囲のピーク積分値をA、1.3〜0.95p
pmの範囲のピーク積分値をBとした場合に、B/Aの
値Xが0.01≦X≦0.13であるものを用いること
により、上記目的を達成することができることを見出
し、本発明に至ったものである。
【0007】すなわち、本発明は、アルカリ可溶性樹脂
およびキノンジアジド基を有する感光剤を含有する感光
性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂の重アセト
ン溶液のH−NMRスペクトルの7.2〜5.6pp
mの範囲のピーク積分値をA、1.3〜0.95ppm
の範囲のピーク積分値をBとした場合に、B/Aの値X
が0.01≦X≦0.13であることを特徴とする感光
性樹脂組成物を提供するものである。
【0008】ここで、B/Aの値Xが0.01より小さ
い場合には、感光性樹脂組成物の高感度化を図ることが
できず、また残膜性を向上させることもできない。一
方、B/Aの値Xが0.13より大きい場合には、残膜
性は良くなるものの溶解性が極端に悪くなるため、高感
度化を達成することができない。
【0009】以下、本発明をさらに詳細に説明する。本
発明においては、アルカリ可溶性樹脂は上記特性を有す
るものであればいずれのものでもよい。このような特性
を有するアルカリ可溶性樹脂は、例えばノボラック樹脂
とメタクリル酸系ポリマーの混合など、二種以上のポリ
マーの混合により容易に得ることができる。このような
樹脂混合物として、次の(1)〜(5)の樹脂混合物を
好ましいものとして挙げることができる。 (1)ノボラック樹脂と、ポリメタクリル酸エステルの
少なくとも一種との混合物。 (2)ノボラック樹脂と、ポリメタクリル酸エステルの
少なくとも一種と、ポリアクリル酸エステルの少なくと
も一種との混合物。 (3)ノボラック樹脂と、メタクリル酸エステルの少な
くとも一種およびアクリル酸エステルの少なくとも一種
から得られる共重合体との混合物。 (4)ノボラック樹脂と、ポリメタクリル酸エステル
と、カルボキシル基あるいはカルボン酸無水物基を有す
る有機酸単量体の重合体との混合物。 (5)ノボラック樹脂と、メタクリル酸エステルおよび
カルボキシル基あるいはカルボン酸無水物基を有する有
機酸単量体から得られる共重合体との混合物。
【0010】これらノボラック樹脂と他の樹脂との樹脂
混合物において、樹脂混合物のXを0.01≦X≦0.
13とするために必要とされる他の樹脂の量は、他の樹
脂としてどのような樹脂を用いるかにより異なるため、
一般的な範囲を示すことはできないが、通常ノボラック
樹脂100重量部に対し他の樹脂を0.1〜10.0重
量部とすることによりXの範囲を上記範囲とすることが
できることが多い。上記樹脂は、互いに混練されるか、
溶剤に溶解されるなどして予め均一混合物とされ、本発
明のアルカリ可溶性樹脂成分として用いることが望まし
い。
【0011】上記アルカリ可溶性樹脂の構成成分として
好ましく用いられるノボラック樹脂としては、アルカリ
可溶性樹脂とキノンジアジド基を有する感光剤とを含有
する従来公知の感光性樹脂組成物において用いられるノ
ボラック樹脂であれば何れのものでもよく、特に限定さ
れるものではない。本発明において好ましく用いること
ができるノボラック樹脂は、種々のフェノール類の単独
あるいはそれらの複数種の混合物をホルムアルデヒドな
どのアルデヒド類で重縮合することによって得られる。
【0012】該ノボラック樹脂を構成するフェノール類
としては、例えばフェノール、p−クレゾール、m−ク
レゾール、o−クレゾール、2,3−ジメチルフェノー
ル、2,4−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフ
ェノール、2,6−ジメチルフェノール、3,4−ジメ
チルフェノール、3,5−ジメチルフェノール、2,
3,4−トリメチルフェノール、2,3,5−トリメチ
ルフェノール、3,4,5−トリメチルフェノール、
2,4,5−トリメチルフェノール、メチレンビスフェ
ノール、メチレンビスp−クレゾール、レゾルシン、カ
テコール、2−メチルレゾルシン、4−メチルレゾルシ
ン、o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、p
−クロロフェノール、2,3−ジクロロフェノール、m
−メトキシフェノール、p−メトキシフェノール、p−
ブトキシフェノール、o−エチルフェノール、m−エチ
ルフェノール、p−エチルフェノール、2,3−ジエチ
ルフェノール、2,5−ジエチルフェノール、p−イソ
プロピルフェノール、α−ナフトール、β−ナフトール
などが挙げられ、これらは単独でまたは複数の混合物と
して用いることができる。
【0013】また、アルデヒド類としては、ホルムアル
デヒドの他、パラホルムアルデヒデド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、
クロロアセトアルデヒドなどが挙げられ、これらは単独
でまたは複数の混合物として用いることができる。
【0014】本発明の感光性樹脂組成物において用いら
れるノボラック樹脂の好ましい重量平均分子量は、ポリ
スチレン換算で2,000〜50,000、より好まし
くは3,000〜40,000、さらに好ましくは4,
000〜30,000である。
【0015】一方、上記(1)〜(5)の樹脂混合物に
おいてノボラック樹脂と組み合わせて用いられる、
(a)ポリメタクリル酸エステル、(b)ポリアクリル
酸エステル、(c)メタクリル酸エステルの少なくとも
一種とアクリル酸エステルの少なくとも一種から得られ
る共重合体、(d)カルボキシル基あるいはカルボン酸
無水物基を有する有機酸単量体の重合体、および(e)
メタクリル酸エステルおよびカルボキシル基あるいはカ
ルボン酸無水物基を有する有機酸単量体から得られる共
重合体としては、各々次に示すようなものが好ましいも
のとして挙げられる。
【0016】(a)ポリメタクリル酸エステル ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレー
ト、ポリn−プロピルメタクリレート、ポリn−ブチル
メタクリレート、ポリn−ヘキシルメタクリレート、ポ
リイソプロピルメタクリレート、ポリイソブチルメタク
リレート、ポリt−ブチルメタクリレート、ポリシクロ
ヘキシルメタクリレート、ポリベンジルメタクリレー
ト、ポリフェニルメタクリレート、ポリ1−フェニルエ
チルメタクリレート、ポリ2−フェニルエチルメタクリ
レート、ポリフルフリルメタクリレート、ポリジフェニ
ルメチルメタクリレート、ポリペンタクロルフェニルメ
タクリレート、ポリナフチルメタクリレート、あるいは
これらの共重合体など
【0017】(b)ポリアクリル酸エステル ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポ
リn−プロピルアクリレート、ポリn−ブチルアクリレ
ート、ポリn−ヘキシルアクリレート、ポリイソプロピ
ルアクリレート、ポリイソブチルアクリレート、ポリt
−ブチルメタクリレート、ポリベンジルアクリレート、
ポリ2−クロルエチルアクリレート、ポリメチル−α−
クロルアクリレート、ポリフェニルα−ブロモアクリレ
ート、あるいはこれらの共重合体など
【0018】(c)メタクリル酸エステルの少なくとも
一種およびアクリル酸エステルの少なくとも一種から得
られる共重合体 上記ポリメタクリル酸エステルを構成するメタクリル酸
エステルの少なくとも一種、および、上記ポリアクリル
酸エステルを構成するアクリル酸エステルの少なくとも
一種から得られる共重合体
【0019】(d)カルボキシル基あるいはカルボン酸
無水物基を有する有機酸単量体の重合体 ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリイタコン酸、
ポリ無水マレイン酸、ポリ−2−アクリロイルハイドロ
ジェンフタレート、ポリ−2−アクリロイルオキシプロ
ピルハイドロジェンフタレート、あるいはこれらの共重
合体など
【0020】(e)メタクリル酸エステルの少なくとも
一種およびカルボキシル基あるいはカルボン酸無水物基
を有する有機酸単量体少なくとも一種から得られる共重
合体 上記ポリメタクリル酸エステルを構成する単量体の少な
くとも一種と、上記カルボキシル基あるいはカルボン酸
無水物基を有する有機酸単量体の重合体を構成する単量
体の少なくとも一種から得られる共重合体 これら(a)〜(e)として例示された重合体および共
重合体は、各々単独で用いられてもよいし、二種以上の
併用であってもよい。
【0021】本発明の感光性樹脂組成物の構成成分であ
るキノンジアジド基を有する感光剤としては、従来公知
のキノンジアジド基を有する感光剤の何れのものをも用
いることができるが、例えば1,2−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸クロライドや1,2−ナフトキノ
ンジアジド−5−スルホン酸クロライドなどのナフトキ
ノンジアジドスルホン酸クロライドやベンゾキノンジア
ジドスルホン酸クロライドのようなキノンジアジドスル
ホン酸ハライド類と、この酸ハライドと縮合反応可能な
官能基を有する低分子化合物または高分子化合物とを反
応させることによって得られるものが好ましい。ここで
酸ハライドと縮合可能な官能基としては水酸基、アミノ
基等があげられるが、特に水酸基が好適である。水酸基
を含む低分子化合物としては、例えばハイドロキノン、
レゾルシン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,
6−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,4’−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、2,2,4,4’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,4,6’
−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等があげられ、水酸
基を含む高分子化合物としては、ノボラック樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン等があげられる。これらキノンジア
ジド基を有する感光剤は、本発明においては、感光性樹
脂組成物中の樹脂成分100重量部に対し、1〜25重
量部、好ましくは5〜25重量部用いられる。
【0022】本発明のアルカリ可溶性樹脂、感光剤を溶
解させる溶剤としては、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等の
エチレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレング
リコールモノアルキルエーテルアセテート類;プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル等のプロピレングリコールモノア
ルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキ
ルエーテルアセテート類;乳酸メチル、乳酸エチル等の
乳酸エステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類;メチルエチルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘ
キサノン等のケトン類;N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン等のアミド類;γ−ブチロラ
クトン等のラクトン類等を挙げることができる。これら
の溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。
【0023】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じ染料、接着助剤および界面活性剤等を配合することが
できる。染料の例としては、メチルバイオレット、クリ
スタルバイオレット、マラカイトグリーン等が、接着助
剤の例としては、アルキルイミダゾリン、酪酸、アルキ
ル酸、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルメチルエー
テル、t−ブチルノボラック、エポキシシラン、エポキ
シポリマー、シラン等が、界面活性剤の例としては、非
イオン系界面活性剤、例えばポリグリコール類とその誘
導体、すなわちポリプロピレングリコール、またはポリ
オキシエチレンラウリルエーテル、フッ素含有界面活性
剤、例えばフロラード(商品名、住友3M社製)、メガ
ファック(商品名、大日本インキ化学工業社製)、スル
フロン(商品名、旭ガラス社製)、または有機シロキサ
ン界面活性剤、例えばKP341(商品名、信越化学工
業社製)がある。
【0024】なお、本発明において、アルカリ可溶性樹
脂の重アセトン溶液のH−NMRスペクトルの7.2
〜5.6ppmの範囲のピーク積分値A、1.3〜0.
95ppmの範囲のピーク積分値Bは次のようにして測
定され、その値を用いてX=B/Aは算出される。すな
わち、まず、アルカリ可溶性樹脂をプロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテートに溶解し、この溶液を
回転塗布により基板上に塗布して薄膜を形成する。この
薄膜を重アセトンに溶解することによりNMRスペクト
ル測定試料を調製し、この試料を用いてH−NMRス
ペクトル測定を行い、得られたチャートから、7.2〜
5.6ppmの範囲のピーク積分値を算出してAとし、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの
溶剤ピークを除く1.3〜0.95ppmの範囲のピー
ク積分値を算出してBとし、B/Aの値Xを算出する。
【0025】
【実施例】以下に本発明をその実施例をもって更に具体
的に説明するが、本発明の態様はこれらの実施例に限定
されるものではない。
【0026】実施例1(樹脂のNMR測定、感光性樹脂
組成物の調整およびその評価) (樹脂のNMR測定)重量平均分子量がポリスチレン換
算で10,000のノボラック樹脂と重量平均分子量が
ポリスチレン換算で13,000のポリn−ブチルメタ
クリレートを100:3の混合比(重量)で混合したア
ルカリ可溶性樹脂の重アセトン溶液の H−NMRスペ
クトル測定を上記測定法に従って行った。得られたチャ
ートから、7.2〜5.6ppmの範囲のピーク積分値
Aと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ートの溶剤ピークを除く1.3〜0.95ppmの範囲
のピーク積分値Bを算出し、B/Aの値Xを求めたとこ
ろ、Xは0.042であった。なお、測定に際し、アル
カリ可溶性樹脂薄膜にかえ、以下で調製する感光性樹脂
組成物を用いて得られたレジストフィルムから測定用試
料を作成し、NMRスペクトル測定を行ったところ、ア
ルカリ可溶性樹脂によるX値の測定結果と同じ結果が得
られた。
【0027】(感光性樹脂組成物の調整)上記の樹脂混
合物からなるアルカリ可溶性樹脂100重量部、および
2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルフォニルクロ
ライドのエステル化物18重量部をプロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテートに溶解し、回転塗布の
際にレジスト膜上にできる放射線状のしわ、いわゆるス
トリエーションを防止するために、更にフッ素系界面活
性剤、フロラード−472(住友3M社製)を300p
pm添加して攪拌した後、0.2μmのフィルターでろ
過して、本発明の感光性樹脂組成物を調製した。
【0028】(感光性樹脂組成物の評価)上記で調製さ
れた感光性樹脂組成物を4インチシリコンウェハー上に
回転塗布し、100℃、90秒間ホットプレートにてベ
ーク後、1.5μm厚のレジスト膜を得た。このレジス
ト膜にニコン社製g線ステッパー(FX−604F)に
てラインとスペース幅が1:1となった種々の線幅がそ
ろったテストパターンを露光し、2.38重量%水酸化
テトラメチルアンモニウム水溶液で23℃、60秒間現
像した。そして、5μmのライン・アンド・スペースが
1:1に解像されている露光エネルギー量を感度として
観察を行った。また、この時現像前の膜厚(L)およ
び現像後の膜厚(L)を各々測定し、これにより残膜
率[(L/L)×100]を算出した。さらに、上
記感光性樹脂組成物をクロム膜付ガラス基板(360m
m×465mm)上に塗布し、100℃、90秒間ホッ
トプレートにてベーク後、1.5μm厚のレジスト膜を
得、次いで、面内の600点の膜厚測定を行い、面内最
大膜厚差(r)および標準偏差(σ)を測定して、塗布
性(膜厚均一性)を確認した。結果を表1に示す。
【0029】実施例2 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに重量平均分子
量がポリスチレン換算で13,000のポリ(メチルメ
タクリレート−co−n−ブチルメタクリレート)[7
0:30]を用いること以外は実施例1と同様に行い、
表1の結果を得た。
【0030】実施例3 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに重量平均分子
量がポリスチレン換算で13,000のポリ(メチルメ
タクリレート−co−n−ブチルメタクリレート−co
−アクリル酸)[70:29:1]を用いること以外は
実施例1と同様に行い、表1の結果を得た。
【0031】実施例4 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに重量平均分子
量がポリスチレン換算で13,000のポリメチルメタ
クリレートとポリn−ブチルメタクリレートの混合物
(70:30)を用いること以外は実施例1と同様に行
い、表1の結果を得た。
【0032】比較例1(樹脂のNMR測定,感光性樹脂
組成物の調整およびその評価) 重量平均分子量がポリスチレン換算で10,000のノ
ボラック樹脂の重アセトン溶液のH−NMRスペクト
ル測定を行ったところ、7.2〜5.6ppmの範囲の
ピーク積分値Aと1.3〜0.95ppmの範囲のピー
ク積分値Bの比B/Aの値Xは0であった。上記の樹脂
を100重量部とし、2,3,4,4’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノンと1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルフォニルクロライドのエステル化物23重量部
をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
に溶解した後は、実施例1と同様に行い、感度、残膜
率、塗布性の評価を行った。結果を表1に示す。
【0033】比較例2 2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルフォニルクロ
ライドのエステル化物を18重量部にすること以外は比
較例1と同様に行った。結果を表1に示す。
【0034】
【表1】
【0035】表1に示される実施例1〜4および比較例
1〜2の結果から、本発明の感光性樹脂組成物にあって
は、キノンジアジド感光剤の添加量が従来の添加量(比
較例1)に比べ少量でよく、しかもこの少量の添加によ
って従来の感光性樹脂組成物に比べ高感度の感光性樹脂
組成物を得ることができる上、残膜率、塗布性において
も従来の感光性樹脂組成物に比べ改善された感光性樹脂
組成物が得られることが分かる。
【0036】実施例5 実施例1で用いたノボラック樹脂とポリn−ブチルメタ
クリレートの混合比を重量比で100:10とし、2,
3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルフォニルクロライ
ドのエステル化物の量を12重量部とすること以外は実
施例1と同様に行い、感度、残膜率の評価を行った。結
果を表2に示す。
【0037】実施例6 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに重量平均分子
量がポリスチレン換算で13,000のポリ(メチルメ
タクリレート−co−n−ブチルメタクリレート)[7
0:30]を用いること以外は実施例5と同様に行い、
表2の結果を得た。
【0038】実施例7 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに重量平均分子
量がポリスチレン換算で13,000のポリ(メチルメ
タクリレート−co−n−ブチルメタクリレート−co
−アクリル酸)[70:29:1]を用いること以外は
実施例5と同様に行い、表2の結果を得た。
【0039】実施例8 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに重量平均分子
量がポリスチレン換算で13,000のポリメチルメタ
クリレートとポリn−ブチルメタクリレートの混合物
(70:30)を用いること以外は実施例5と同様に行
い、表2の結果を得た。
【0040】比較例3 ポリn−ブチルメタクリレートを用いないこと以外は実
施例5と同様に行い、表2の結果を得た。
【0041】
【表2】
【0042】表2から、本発明の感光性樹脂組成物にお
いては、従来ではフォトレジスト材料として機能しない
少量の感光剤量でも、残膜率が100%を示すことが分
かる。したがって、本発明では、幅広く組成を構成可能
とでき、また大幅なコストダウンを可能にすることがで
きることが分かる。
【0043】実施例9 実施例1で用いたノボラック樹脂とポリn−ブチルメタ
クリレートの混合比を重量比で100:0.25とし、
2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルフォニルクロ
ライドのエステル化物を23重量部とすること以外は実
施例5と同様に行い、表3の結果を得た。
【0044】実施例10 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに、重量平均分
子量がポリスチレン換算で13,000のポリ(メチル
メタクリレート−co−n−ブチルメタクリレート)
[70:30]を用いること以外は実施例9と同様に行
い、表3の結果を得た。
【0045】実施例11 ポリn−ブチルメタクリレートのかわりに、重量平均分
子量がポリスチレン換算で13,000のポリ(メチル
メタクリレート−co−n−ブチルメタクリレート−c
o−アクリル酸)[70:29:1]を用いること以外
は実施例9と同様に行い、表3の結果を得た。
【0046】
【表3】
【0047】表3から、混合樹脂の少量の添加によって
も、感度および残膜率の向上が可能であり、また感度向
上の可能性もあることが分かる。
【0048】なお、図1および図2に、ノボラック樹
脂:アクリルポリマー=100:10の混合樹脂フィル
ム試料のH−NMRスペクトル測定で得られたチャー
トと、この混合樹脂をアルカリ可溶性樹脂として用いて
作成されたレジストフィルム試料のH−NMRスペク
トル測定で得られたチャートを示す。これらのチャート
に示されるように、混合樹脂フィルム試料から得られる
チャートとレジストフィルム試料から得られるチャート
では、試料中に含有される成分の違いに基づく若干のス
ペクトル差が見られるものの、7.2〜5.6ppmの
範囲のピーク積分値Aとプロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートの溶剤ピークを除いた1.3〜
0.95ppmの範囲のピーク積分値Bとの比であるB
/Aの値Xには両者ほとんど差はない。このことは、図
示されたチャートを得るために用いられている樹脂組成
に限られるものでなく、上記各実施例の樹脂組成につい
ても同様である。実施例1にはこのことについて具体的
に記載したが、それ以外の実施例の樹脂組成について
も、各々の実施例の樹脂フィルム試料とレジストフィル
ム試料により得られたXの値は実質的に同じ値を示す。
【0049】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により、高残
膜性および高感度化を同時に満たす感光性樹脂組成物を
得ることができる上、さらに本発明の感光性樹脂組成物
は、塗布性も改善され、また従来よりも組成構成の幅を
広く選択することができ、特に感光剤量の低減により、
大幅なコストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ノボラック樹脂:アクリルポリマー=100:
10の混合樹脂フィルム試料のH−NMRスペクトル
測定で得られたチャート。
【図2】アルカリ可溶性樹脂として図1の混合樹脂を用
いて作成されたレジストフィルム試料のH−NMRス
ペクトル測定で得られたチャート。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アルカリ可溶性樹脂およびキノンジアジド
    基を有する感光剤を含有する感光性樹脂組成物におい
    て、アルカリ可溶性樹脂の重アセトン溶液のH−NM
    Rスペクトルの7.2〜5.6ppmの範囲のピーク積
    分値をA、1.3〜0.95ppmの範囲のピーク積分
    値をBとした場合に、B/Aの値Xが0.01≦X≦
    0.13であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
JP2000201837A 1999-10-07 2000-07-04 感光性樹脂組成物 Expired - Fee Related JP3615995B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000201837A JP3615995B2 (ja) 2000-07-04 2000-07-04 感光性樹脂組成物
MYPI20004648A MY133599A (en) 1999-10-07 2000-10-04 Photosensitive composition
CNB00802166XA CN1208686C (zh) 1999-10-07 2000-10-04 辐射敏感性组合物
US09/857,553 US6737212B1 (en) 1999-10-07 2000-10-04 Photosensitive composition
EP00964644A EP1143298A1 (en) 1999-10-07 2000-10-04 Photosensitive composition
KR1020017007045A KR20010112227A (ko) 1999-10-07 2000-10-04 감광성 조성물
PCT/JP2000/006903 WO2001025853A1 (fr) 1999-10-07 2000-10-04 Composition photosensible

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000201837A JP3615995B2 (ja) 2000-07-04 2000-07-04 感光性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002023358A true JP2002023358A (ja) 2002-01-23
JP3615995B2 JP3615995B2 (ja) 2005-02-02

Family

ID=18699452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000201837A Expired - Fee Related JP3615995B2 (ja) 1999-10-07 2000-07-04 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3615995B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1347014A3 (en) * 2002-03-20 2004-04-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared-photosensitive composition
JP2012032782A (ja) * 2010-05-31 2012-02-16 Rohm & Haas Electronic Materials Llc フォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1347014A3 (en) * 2002-03-20 2004-04-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared-photosensitive composition
US6902863B2 (en) 2002-03-20 2005-06-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared-sensitive photosensitive composition
CN100340921C (zh) * 2002-03-20 2007-10-03 富士胶片株式会社 红外敏感的光敏组合物
JP2012032782A (ja) * 2010-05-31 2012-02-16 Rohm & Haas Electronic Materials Llc フォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3615995B2 (ja) 2005-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03200252A (ja) ポジ型レジスト組成物
KR100857042B1 (ko) i선 대응 고해상 감광성 수지 조성물 및 패턴 형성방법
US6737212B1 (en) Photosensitive composition
JP3848653B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP4213366B2 (ja) 厚膜レジストパターンの形成方法
JP4068253B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
JP3894477B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP4068260B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP3615981B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2000267270A (ja) ロールコート用感光性樹脂組成物およびロールコート方法
JPH03200255A (ja) ポジ型レジスト組成物
JP3615995B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JPH041651A (ja) ポジ型レジスト組成物
JP3615977B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP3076523B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物
TW538308B (en) Photo sensitive resin composition
JP2002072473A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2001183828A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2001235859A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2619050B2 (ja) ポジ型感光性組成物
JP2004045618A (ja) ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法
JP2003233174A (ja) ポジ型ホトレジスト組成物及び液晶表示素子製造用レジストパターンの形成方法
JPH0432847A (ja) 新規ポジ型感光性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041012

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041102

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071112

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101112

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees