JP2001183828A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JP2001183828A
JP2001183828A JP36723799A JP36723799A JP2001183828A JP 2001183828 A JP2001183828 A JP 2001183828A JP 36723799 A JP36723799 A JP 36723799A JP 36723799 A JP36723799 A JP 36723799A JP 2001183828 A JP2001183828 A JP 2001183828A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
photosensitive
weight
alkali
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP36723799A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichi Takahashi
修一 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Clariant Japan KK
Original Assignee
Clariant Japan KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Clariant Japan KK filed Critical Clariant Japan KK
Priority to JP36723799A priority Critical patent/JP2001183828A/ja
Priority to PCT/JP2000/006903 priority patent/WO2001025853A1/ja
Priority to US09/857,553 priority patent/US6737212B1/en
Priority to CNB00802166XA priority patent/CN1208686C/zh
Priority to KR1020017007045A priority patent/KR20010112227A/ko
Priority to MYPI20004648A priority patent/MY133599A/en
Priority to EP00964644A priority patent/EP1143298A1/en
Priority to TW89120783A priority patent/TWI267699B/zh
Publication of JP2001183828A publication Critical patent/JP2001183828A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】高残膜性および高感度化を両立させることが実
用上可能で、さらに塗布性およびレジトパターンの線幅
均一性に優れ、プロセス依存性の小さい感光性樹脂組成
物を提供する。 【構成】アルカリ可溶性樹脂およびキノンジアジド基を
含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物において、アル
カリ可溶性樹脂がポリスチレン換算重量平均分子量3,
000〜12,000のノボラック樹脂を含有し、かつ
キノンジアジド基を含む感光剤がアルカリ可溶性樹脂1
00重量部に対し1〜20重量部である感光性樹脂組成
物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、さらに詳細には半導体デバイス、フラットパネルデ
ィスプレー(FPD)の製造等に好適な感光性樹脂組成
物に関する。
【0002】
【従来の技術】LS1などの半導体集積回路や、FPD
の表示面の製造、サーマルヘッドなどの回路基板の製造
等を初めとする幅広い分野において、微細素子の形成あ
るいは微細加工を行うために、従来からフォトリソグラ
フィー技術が用いられている。フォトリソグラフィー技
術では、レジストパターンを形成するためにポジ型また
はネガ型の感光性樹脂組成物が用いられる。これら感光
性樹脂組成物の内、ポジ型感光性樹脂組成物としては、
アルカリ可溶性樹脂と感光剤としてのキノンジアジド化
合物を含有する組成物が広く用いられている。この組成
物は、例えば「ノボラック樹脂/キノンジアジド化合
物」として、特公昭54−23570号公報(米国特許
第3,666,473号明細書)、特公昭56−308
50号公報(米国特許第4,115,128号明細
書)、特開昭55−73045号公報、特開昭61−2
05933号公報等多くの文献に種々の組成のものが記
載されている。これらノボラック樹脂とキノンジアジド
化合物を含む組成物は、これまでノボラック樹脂および
感光剤の両面から研究開発が行われてきた。ノボラック
樹脂の観点からは、新しい樹脂の開発は勿論であるが、
従来知られた樹脂の物性などを改善することにより、優
れた特性を有する感光性樹脂組成物を得ることもなされ
ている。例えば、特開昭60−140235号公報、特
開平1−105243号公報には、ノボラック樹脂に、
ある特有の分子量分布をもたせることにより、また特開
昭60−97347号公報、特開昭60−189739
号公報、特許第2590342号公報には、低分子量成
分を分別除去したノボラック樹脂を用いることにより、
優れた特性を有する感光性樹脂組成物を提供する技術が
開示されている。また、ネガ型感光性樹脂組成物として
は、ノボラック樹脂と架橋剤としてのアルコキシメチル
化メラミン、酸発生剤としてのハロゲン化トリアジンと
を組み合せたもの(特開平5−303196号公報)な
どが知られている。
【0003】しかしながら、半導体素子の集積回路の集
積度は、年々高まっており、半導体素子等の製造におい
ては、サブミクロン以下の線幅のパターン加工が要求さ
れ、前記従来技術では十分に対応できなくなってきてい
る。また、液晶ディスプレー(LCD)などの表示面の
製造においてもマザーガラスの大型化とともに、高精細
化も求められている。この高精細化のためには、感光性
樹脂組成物に、優れた塗布性やプロセス条件への依存性
の小ささ、レジストパターンの優れた線幅均一性などが
要求される。上記塗布性の改善のための一手法として
は、感光性樹脂組成物中に添加される界面活性剤の種類
や量の検討が行われてきた。その他には、沸点、動粘
度、蒸発速度を限定した溶剤を含む感光性樹脂組成物
(特開平10−186637号公報)やプロピレングリ
コール、ジプロピレングリコールから選ばれた溶剤の検
討が報告されている。また、このような微細な加工が要
求される用途においては、解像力はもとより、良好なパ
ターンの再現性も求められ、さらには製造コストの面か
ら、製造時のスループット(単位時間当たりの収量)の
向上、感光性樹脂組成物の低コスト化が求められてい
る。こうした状況下、感光性樹脂組成物の高感度化およ
び低コスト化は重要な課題となっている。
【0004】一般に、感光性樹脂組成物の高感度化のた
めに、低分子量の樹脂を用いたり、感光剤の添加量を減
らしたりすることが行われている。しかし、このような
方法によると、レジストの耐熱性が低下して、半導体デ
バイス等の製造工程において耐エッチング性が低下した
り、現像性が悪化し、スカム(現像残り)が生じたり、
残膜率が低下するなどの問題が生じる。これまでに、特
定のフェノール化合物から誘導されたノボラック樹脂の
分子量範囲を特定した混合樹脂を用いる技術(特開平7
−271024号公報)、特定のフェノール化合物から
誘導されたノボラック樹脂で分子量範囲、分散度が特定
され、さらにフェノール性水酸基を有するポリヒドロキ
シ化合物を含有する技術(特開平8−184963号公
報)、トリヒロドキシベンゾフェノンのナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステルとトリヒドロキシベンゾフェ
ノンをある一定の割合で混合する感光成分を用いる技術
(特開平8−82926号公報)などが提案されてい
る。しかしながら前記全ての要件が十分に満たされたも
のはなく、このためこれらの要件を満足させうる感光性
樹脂組成物が望まれている。また、感光性樹脂組成物の
低コスト化のためにも、単価の高い感光剤の添加量を減
らすことが望まれているが、感光剤の添加量を減らすと
上記したような問題が発生する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のような状況に鑑
み、本発明は、感光剤の含有量を従来より少量にしても
なお、高残膜性と高感度化を両立させることが実用上可
能で、塗布性およびレジストパターンの線幅均一性に優
れ、かつプロセス条件への依存性が小さく、良好なパタ
ーンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供す
ることを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研
究、検討を行った結果、アルカリ可溶性樹脂およびキノ
ンジアジド基を含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物
において、感光剤の量を従来より少量にした場合におい
ても、アルカリ可溶性樹脂としてノボラック樹脂を用
い、その分子量を従来感光性樹脂組成物に用いられてい
るノボラック樹脂の分子量より小さいものを用いること
により、上記目的を達成することができることを見いだ
し、本発明に至ったものである。すなわち、本発明は、
アルカリ可溶性樹脂およびキノンジアジド基を含む感光
剤を含有する感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶
性樹脂が、ポリスチレン換算重量平均分子量3,000
〜12,000のノボラック樹脂を少なくとも含有し、
かつキノンジアジド基を含む感光剤の量が、感光性樹脂
組成物中の樹脂成分100重量部に対し1〜20重量部
であることを特徴とする感光性樹脂組成物に関する。
【0007】以下、本発明をさらに詳細に説明する。本
発明においては、アルカリ可溶性樹脂としてポリスチレ
ン換算重量平均分子量が3,000〜12,000であ
るノボラック樹脂が用いられる。本発明において用いら
れるノボラック樹脂は、アルカリ可溶性樹脂とキノンジ
アジド基を含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物にお
いて用いられている従来公知のノボラック樹脂と同じも
のであってよい。本発明のノボラック樹脂は、公知のノ
ボラック樹脂同様、例えば、種々のフェノール類の単独
あるいはそれらの複数種の混合物をフォルマリンなどの
アルデヒド類で重縮合する方法によって製造することが
できる。
【0008】本発明のノボラック樹脂を構成するフェノ
ール類としては、例えばフェノール、p−クレゾール、
m−クレゾール、o−クレゾール、2,3−ジメチルフ
ェノール、2,4−ジメチルフェノール、2,5−ジメ
チルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、3,4
−ジメチルフェノール、3,5−ジメチルフェノール、
2,3,4−トリメチルフェノール、2,3,5−トリ
メチルフェノール、3,4,5−トリメチルフェノー
ル、2,4,5−トリメチルフェノール、メチレンビス
フェノール、メチレンビスp−クレゾール、レゾルシ
ン、カテコール、2−メチルレゾルシン、4−メチルレ
ゾルシン、o−クロロフェノール、m−クロロフェノー
ル、p−クロロフェノール、2,3−ジクロロフェノー
ル、m−メトキシフェノール、p−メトキシフェノー
ル、p−ブトキシフェノール、o−エチルフェノール、
m−エチルフェノール、p−エチルフェノール、2,3
−ジエチルフェノール、2,5−ジエチルフェノール、
p−イソプロピルフェノール、α−ナフトール、β−ナ
フトールなどが挙げられ、これらは単独でまたは複数の
混合物として用いることができる。
【0009】また、アルデヒド類としては、ホルマリン
の他、パラホルムアルデヒデド、アセトアルデヒド、ベ
ンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロ
アセトアルデヒドなどが挙げられ、これらは単独でまた
は複数の混合物として用いることができる。本発明の感
光性樹脂組成物において用いられるノボラック樹脂の重
量平均分子量は、ポリスチレン換算で3,000〜1
2,000、より好ましくは4,000〜10,000
である。
【0010】本発明においては、上記ポリスチレン換算
重量平均分子量が3,000〜12,000であるノボ
ラック樹脂とともに、本発明の目的の達成を妨げない範
囲において、従来公知の、アルカリ可溶性樹脂とキノン
ジアジド基を含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物に
おいて用いられているアルカリ可溶性樹脂を用いること
ができる。
【0011】一方、本発明において、キノンジアジド基
を含む感光剤は、感光性樹脂組成物中の樹脂成分100
重量部に対し、従来普通に用いられている量より少ない
量であって、実用上残膜率の低下を招くと考えられてい
た1〜20重量部の量で用いられる。本発明において
は、アルカリ可溶性樹脂としてポリスチレン換算重量平
均分子量が3,000〜12,000であるノボラック
樹脂を用いるとともに、感光剤の量を上記の通りの量と
することによって、塗布性が改善され、それと同時にレ
ジストパターンのプロセス依存性が小さく、優れた線幅
均一性を示す感光性樹脂組成物が得られる。しかし、感
光性樹脂組成物中の樹脂成分として、ポリスチレン換算
重量平均分子量が3,000〜12,000であるノボ
ラック樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂のみを樹脂成分と
して用いる場合には、残膜性が悪く、レジストとして機
能し難くなる場合が生じる。この問題を解決するため、
本発明の感光性樹脂組成物中に、アルカリ可溶性樹脂と
ともに、第二樹脂成分として、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、アルキルまたは(置
換)アリールアクリレート、アルキルまたは(置換)ア
リールメタクリレート、スチレン、アミノスチレン、N
−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール、2−
ビニルキノリン、ビニルシクロヘキサン、ビニルナフタ
レン、ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビ
ニルフタルイミド等から選ばれる少なくとも二種のモノ
マーから得られる共重合体を用いることが望ましい。こ
れら重合体は単独で用いられてもよいし、二種以上を併
用してもよい。これら重合体の添加により、残膜性の問
題を解決することができることは予想外のことである。
第二樹脂成分としては、ポリアクリル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステルなどの重合体、アルキルまたは
(置換)アリールアクリレート、あるいはアルキルまた
は(置換)アリールメタクリレートなどのアクリル酸エ
ステルおよびメタクリル酸エステルから選ばれる少なく
とも二種の単量体から得られる共重合体、およびこれら
の任意の混合物が特に好ましいものである。
【0012】また、本発明において第二樹脂成分として
用いられる重合体は、以下の溶解速度の算出方法で算出
された2.38重量%水酸化テトラメチルアンモニウム
水溶液に対する溶解速度が、1500Å/分以下である
ことが好ましい。 (溶解速度の算出方法)第二樹脂成分として用いられる
重合体の溶液をシリコンウェハー上に回転塗布し、10
0℃、90秒間ホットプレートにてベ一ク後、約1.5
μm厚の重合体膜を形成する。この時の重合体膜の膜厚
(Å)を測定し、次いでこの重合体膜を2.38重
量%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で、23
℃、60秒間現像する。現像後、再度重合体の膜厚d
(Å)を測定し、現像前後の膜厚差(d−d)を溶
解速度(Å/分)とする。
【0013】本発明において、第二樹脂成分として好ま
しく用いられるポリアクリル酸エステルあるいはポリメ
タクリル酸エステルとしては、具体的には、例えば次の
ようなものが挙げられる。 ポリアクリル酸エステル:ポリメチルアクリレート、ポ
リエチルアクリレート、ポリn−プロピルアクリレー
ト、ポリイソプロピルアクリレート、ポリn−ブチルア
クリレート、ポリイソブチルアクリレート、ポリt−ブ
チルアクリレート、ポリn−ヘキシルアクリレート、ポ
リシクロヘキシルアクリレート、ポリベンジルアクリレ
ート、ポリ2−クロルエチルアクリレート、ポリメチル
−α−クロルアクリレート、ポリフェニルα−ブロモア
クリレートなど ポリメタクリル酸エステル:ポリメチルメタクリレー
ト、ポリエチルメタクリレート、ポリn−プロピルメタ
クリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリn
−ブチルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレー
ト、ポリt−ブチルメタクリレート、ポリn−ヘキシル
メタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、
ポリベンジルメタクリレート、ポリフェニルメタクリレ
ート、ポリ1−フェニルエチルメタクリレート、ポリ2
−フェニルエチルメタクリレート、ポリフルフリルメタ
クリレート、ポリジフェニルメチルメタクリレート、ポ
リペンタクロルフェニルメタクリレート、ポリナフチル
メタクリレートなど
【0014】上記第二樹脂成分をなす重合体あるいは共
重合体の好ましい重量平均分子量は、ポリスチレン換算
で2,000〜80,000、より好ましくは5,00
0〜40,000、さらに好ましくは7,000〜1
5,000である。これら重合体あるいは共重合体とノ
ボラック樹脂との比は、重量比で、通常1:100〜1
0:100、好ましくは2:100〜5:100であ
る。
【0015】本発明の感光性樹脂組成物において用いら
れるキノンジアジド基を含む感光剤としては、従来公知
のキノンジアジド基を含む感光剤の何れのものをも用い
ることができるが、ナフトキノンジアジドスルホン酸ク
ロリドやベンゾキノンジアジドスルホン酸クロリドのよ
うなキノンジアジドスルホン酸ハライドと、この酸ハラ
イドと縮合反応可能な官能基を有する低分子化合物また
は高分子化合物とを反応させることによって得られるも
のが好ましい。ここで酸ハライドと縮合可能な官能基と
しては水酸基、アミノ基等があげられるが、特に水酸基
が好適である。水酸基を含む低分子化合物としては、た
とえばハイドロキノン、レゾルシン、2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベン
ゾフェノン、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、2,2’,3,4,6’−ペンタヒドロキシベンゾ
フェノン等があげられ、水酸基を含む高分子化合物とし
ては、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン等があ
げられる。これらキノンジアジド基を含む感光剤は、本
発明においては、感光性樹脂組成物中の樹脂成分100
重量部に対し、1〜20重量部、好ましくは10〜20
重量部用いられる。なお、本発明において感光性樹脂組
成物中の樹脂成分とは、感光性樹脂組成物中に存在する
アルカリ可溶性樹脂、上記第二樹脂成分をも含む全樹脂
を指すものである。
【0016】本発明のアルカリ可溶性樹脂、第二樹脂成
分並びに感光剤を溶解させる溶剤としては、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセ
テート類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレ
ングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレング
リコールモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸メチ
ル、乳酸エチル酸の乳酸エステル類、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、2−ヘ
プタノン、シクロヘキサノン等のケトン類、N,N−ジ
メチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド
類、γ−ブチロラクトン等のラクトン類等をあげること
ができる。これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
【0017】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じ染料、接着助剤および界面活性剤等を配合することが
できる。染料の例としては、メチルバイオレット、クリ
スタルバイオレット、マラカイトグリーン等が、接着助
剤の例としては、アルキルイミダゾリン、酪酸、アルキ
ル酸、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルメチルエー
テル、t−ブチルノボラック、エポキシシラン、エポキ
シポリマー、シラン等が、界面活性剤の例としては、非
イオン系界面活性剤、例えばポリグリコール類とその誘
導体、すなわちポリプロピレングリコールまたはポリオ
キシエチレンラウリルエーテル、フッ素含有界面活性
剤、例えばフロラード(商品名、住友3M社製)、メガ
ファック(商品名、大日本インキ化学工業社製)、スル
フロン(商品名、旭ガラス社製)、または有機シロキサ
ン界面活性剤、例えばKP341(商品名、信越化学工
業社製)がある。
【0018】
【実施例】以下に本発明をその実施例をもって説明する
が、本発明の態様はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【0019】実施例1 重量平均分子量がポリスチレン換算で6,000のノボ
ラック樹脂と重量平均分子量がポリスチレン換算で1
0,000のポリt−ブチルメタクリレート(PtBM
A)との100:3の混合比からなる混合物100重量
部、および2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾ
フェノンと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルフ
ォニルクロライドのエステル化物19重量部を、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解
し、これに、回転塗布の際にレジスト膜上にできる放射
状のしわ、いわゆるストリエーションを防止するため、
更にフッ素系界面活性剤、フロラード−472(住友3
M社製)を300ppm添加して攪拌した後、0.2μ
mのフィルターでろ過して、本発明の感光性樹脂組成物
を調整した。この感光性樹脂組成物の感度および塗布性
を、以下のようにして測定した。結果を表1および表2
に示す。
【0020】(感度)感光性樹脂組成物を4インチシリ
コンウェハー上に回転塗布し、ベーク温度を95℃、1
00℃、105℃と変え、90秒間ホットプレートにて
ベ一クして、各々1.5μm厚のレジスト膜を得る。各
レジスト膜にニコン社製g線ステッパー(FX−604
F)にてラインとスペース幅が1:1となった種々の線
幅がそろったテストパターンを露光し、2.38重量%
水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で23℃、60
秒間現像する。そして5μmのライン・アンド・スペー
スが1:1に解像されている露光エネルギー量を感度S
として観察を行う。
【0021】(塗布性)感光性樹脂組成物をクロム膜付
ガラス基板(360mm×465mm)上に回転塗布
し、100℃、90秒間ホットプレートにてベ一ク後、
1.5μm厚のレジスト膜を得る。次に、塗布性(膜厚
均一性)を確認するために面内の600点の膜厚測定を
行い、面内最大膜厚差(r)および標準偏差(σ)を測
定する。
【0022】比較例1 重量平均分子量がポリスチレン換算で15,000のノ
ボラック樹脂を用いること以外は実施例1と同様に行
い、表1および表2の結果を得た。
【0023】比較例2 重量平均分子量がポリスチレン換算で10,000のノ
ボラック樹脂を100重量部とし、3,4,4’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノンと1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルフォニルクロライドのエステル化物の
添加量を25重量部とすること以外は実施例1と同様に
行い、表1および表2の結果を得た。
【0024】
【表1】
【0025】
【表2】
【0026】実施例、比較例で得られたレジストパター
ンは、何れにもスカムは認められず、レジストパターン
の形状も良好であった。しかしながら上記表1および表
2から明らかなように、塗布性、ベーク条件による感度
差△S(ベーク温度105℃としたときの感度とベーク
温度95℃としたときの感度の差)、すなわちプロセス
条件によるレジストパターンの線幅均一性に関し、本発
明の感光性樹脂組成物は、比較例の感光性樹脂組成物に
比べきわめて良好である。これが、アルカリ可溶性樹脂
の主な構成要素であるノボラック樹脂の分子量を小さく
すること、および感光剤の添加量を少なくすることによ
ってはじめて達成されることも、表1および表2から明
らかである。また△Sが小さいということは一定露光量
のもと、同一基板内で温度分布などにより温度差が生じ
た場合も所望のレジストパターンの寸法の変動が小さ
い、すなわち線幅均一性が優れていることになる。した
がって、本発明の感光性樹脂組成物により、高感度化、
塗布性の改善、プロセス依存性の改善そしてレジストパ
ターンの線幅均一性の向上を図ることができることがわ
かる。これらの特性は、特に高精細な液晶ディスプレー
の製造のためには欠かせない要件である。
【0027】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により、高残
膜性および高感度化を両立させることが実用上可能で、
さらに塗布性およびレジストパターンの線幅均一性に優
れ、プロセス依存性の小さい感光性樹脂組成物を得るこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/027 (C08L 61/06 //(C08L 61/06 33:04) 33:04) H01L 21/30 502R Fターム(参考) 2H025 AA02 AA04 AA09 AA10 AB14 AB16 AB20 AC01 AD03 BE01 CB14 CB29 CB41 CB42 CB55 FA01 4J002 BG042 BG052 BG082 CC041 CC051 CC061 EQ036 FD206

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アルカリ可溶性樹脂およびキノンジアジド
    基を含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物において、
    アルカリ可溶性樹脂が、ポリスチレン換算重量平均分子
    量3,000〜12,000のノボラック樹脂を少なく
    とも含有し、かつキノンジアジド基を含む感光剤の量
    が、感光性樹脂組成物中の樹脂成分100重量部に対し
    1〜20重量部であることを特徴とする感光性樹脂組成
    物。
  2. 【請求項2】感光性樹脂組成物中の樹脂成分が、ノボラ
    ック樹脂と、ポリアクリル酸エステルおよびポリメタク
    リル酸エステルから選ばれる少なくとも一種とを含むこ
    とを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
  3. 【請求項3】感光性樹脂組成物中の樹脂成分が、ノボラ
    ック樹脂と、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エ
    ステルから選ばれる少なくとも二種の単量体から得られ
    る共重合体とを含むことを特徴とする請求項1記載の感
    光性樹脂組成物。
JP36723799A 1999-10-07 1999-12-24 感光性樹脂組成物 Pending JP2001183828A (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36723799A JP2001183828A (ja) 1999-12-24 1999-12-24 感光性樹脂組成物
PCT/JP2000/006903 WO2001025853A1 (fr) 1999-10-07 2000-10-04 Composition photosensible
US09/857,553 US6737212B1 (en) 1999-10-07 2000-10-04 Photosensitive composition
CNB00802166XA CN1208686C (zh) 1999-10-07 2000-10-04 辐射敏感性组合物
KR1020017007045A KR20010112227A (ko) 1999-10-07 2000-10-04 감광성 조성물
MYPI20004648A MY133599A (en) 1999-10-07 2000-10-04 Photosensitive composition
EP00964644A EP1143298A1 (en) 1999-10-07 2000-10-04 Photosensitive composition
TW89120783A TWI267699B (en) 1999-10-07 2000-10-05 Photo-sensitive compositions

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36723799A JP2001183828A (ja) 1999-12-24 1999-12-24 感光性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001183828A true JP2001183828A (ja) 2001-07-06

Family

ID=18488821

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP36723799A Pending JP2001183828A (ja) 1999-10-07 1999-12-24 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001183828A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001235859A (ja) * 2000-02-24 2001-08-31 Clariant (Japan) Kk 感光性樹脂組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001235859A (ja) * 2000-02-24 2001-08-31 Clariant (Japan) Kk 感光性樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100857042B1 (ko) i선 대응 고해상 감광성 수지 조성물 및 패턴 형성방법
JP4213366B2 (ja) 厚膜レジストパターンの形成方法
EP1143298A1 (en) Photosensitive composition
JP3974718B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP2625882B2 (ja) ポジ型レジスト用組成物
JP4068253B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
JP2625883B2 (ja) ポジ型レジスト組成物
JP3515916B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物およびこれを用いた多層レジスト材料
JP2005221515A (ja) システムlcd製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法
JP4068260B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP3615981B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2629271B2 (ja) ポジ型レジスト用組成物
JP3076523B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物
JP3615977B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP3373072B2 (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
JP3615995B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2001183828A (ja) 感光性樹脂組成物
JP3449826B2 (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
JPH06116329A (ja) 化学的に改質されたヒドロキシスチレンポリマー樹脂及び光活性レジスト組成物中でのそれらの使用
JP2002072473A (ja) 感光性樹脂組成物
TW538308B (en) Photo sensitive resin composition
JP3503916B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物
JPH04362645A (ja) ポジ型レジスト組成物
JP2001235859A (ja) 感光性樹脂組成物
WO1993009473A1 (en) Selected structurally defined novolak binder resins

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20050228

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050228

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090324

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100309