JP2002008897A - 加速器用真空チェンバ - Google Patents
加速器用真空チェンバInfo
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- JP2002008897A JP2002008897A JP2000183183A JP2000183183A JP2002008897A JP 2002008897 A JP2002008897 A JP 2002008897A JP 2000183183 A JP2000183183 A JP 2000183183A JP 2000183183 A JP2000183183 A JP 2000183183A JP 2002008897 A JP2002008897 A JP 2002008897A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子ビーム溶接装置を使用せずに製作可能な
加速器用真空チェンバを提供する。 【解決手段】 ビーム室構成部材22の形成素材に無酸
素銅を用いて、ビーム室21を進行する電子ビームeに
外乱が与えられないようにし、ビーム室構成部材22の
一側方にポンプ室23を形成し且つ他側方に受光室24
を形成するようにビーム室構成部材22を周方向に取り
囲むチェンバ外殻25の形成素材に、押出し成形加工が
可能なアルミニウム合金、あるいはTIG溶接での部材
相互の接合が可能なステンレス鋼を用いて、部材を相互
に接続するためのチェンバ長手方向への電子ビーム溶接
を排除する。
加速器用真空チェンバを提供する。 【解決手段】 ビーム室構成部材22の形成素材に無酸
素銅を用いて、ビーム室21を進行する電子ビームeに
外乱が与えられないようにし、ビーム室構成部材22の
一側方にポンプ室23を形成し且つ他側方に受光室24
を形成するようにビーム室構成部材22を周方向に取り
囲むチェンバ外殻25の形成素材に、押出し成形加工が
可能なアルミニウム合金、あるいはTIG溶接での部材
相互の接合が可能なステンレス鋼を用いて、部材を相互
に接続するためのチェンバ長手方向への電子ビーム溶接
を排除する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は加速器用真空チェン
バに関するものである。
バに関するものである。
【0002】
【従来の技術】光速に近い速度で移動する電子がその進
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光とよばれる電磁波(光)を放出する。
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光とよばれる電磁波(光)を放出する。
【0003】図3は放射光発生手段の一例であり、この
放射光発生手段は、線形加速装置1とシンクロトロンな
どの粒子加速器2とを備えている。
放射光発生手段は、線形加速装置1とシンクロトロンな
どの粒子加速器2とを備えている。
【0004】線形加速装置1は、電子ビームeを射出す
る電子銃などの電子発生装置3と、一端が電子発生装置
3に接続された直管状の加速ダクト4と、該加速ダクト
4の内方を移動する電子ビームeに高周波電流を付与し
て該電子ビームeを加速する高周波加速装置5とを有し
ている。
る電子銃などの電子発生装置3と、一端が電子発生装置
3に接続された直管状の加速ダクト4と、該加速ダクト
4の内方を移動する電子ビームeに高周波電流を付与し
て該電子ビームeを加速する高周波加速装置5とを有し
ている。
【0005】粒子加速器2は、複数の真空チェンバをフ
ランジ接続することにより形成した無端状ダクト6と、
該無端状ダクト6の湾曲部分において電子ビームeの軌
道を曲げる偏向電磁石7と、無端状ダクト6の内方を移
動する電子ビームeに高周波電流を付与して該電子ビー
ムeを加速する高周波加速装置8とを有している。
ランジ接続することにより形成した無端状ダクト6と、
該無端状ダクト6の湾曲部分において電子ビームeの軌
道を曲げる偏向電磁石7と、無端状ダクト6の内方を移
動する電子ビームeに高周波電流を付与して該電子ビー
ムeを加速する高周波加速装置8とを有している。
【0006】上記の無端状ダクト6の所定の湾曲部分に
は、線形加速装置1から出射される電子ビームeが無端
状ダクト6の直管部分にその軸線に沿って入射し得るよ
うに、前記の加速ダクト4の他端部が接続されている。
は、線形加速装置1から出射される電子ビームeが無端
状ダクト6の直管部分にその軸線に沿って入射し得るよ
うに、前記の加速ダクト4の他端部が接続されている。
【0007】また、加速ダクト4が接続されている部分
とは異なる無端状ダクト6の他の湾曲部分には、該湾曲
部分を光速に近い速度で移動する電子ビームeの進行方
向が曲げられることにより放出される放射光ビームsを
無端状ダクト6の外部へ導くための直管状のビームチャ
ンネル9の一端が接続されている。
とは異なる無端状ダクト6の他の湾曲部分には、該湾曲
部分を光速に近い速度で移動する電子ビームeの進行方
向が曲げられることにより放出される放射光ビームsを
無端状ダクト6の外部へ導くための直管状のビームチャ
ンネル9の一端が接続されている。
【0008】更に、ビームチャンネル9の他端には、前
記の放射光ビームsを利用する実験を行うための実験装
置10が設けられている。
記の放射光ビームsを利用する実験を行うための実験装
置10が設けられている。
【0009】図3に示す放射光発生手段によって放射光
ビームsを放出させる際には、加速ダクト4、無端状ダ
クト6、ビームチャンネル9及び実験装置10の内方を
超高真空状態に減圧して、電子ビームeが光速に近い速
度で移動できる状態とした後、電子発生装置3から出射
される電子ビームeを、高周波加速装置5により加速し
て無端状ダクト6へ入射させる。
ビームsを放出させる際には、加速ダクト4、無端状ダ
クト6、ビームチャンネル9及び実験装置10の内方を
超高真空状態に減圧して、電子ビームeが光速に近い速
度で移動できる状態とした後、電子発生装置3から出射
される電子ビームeを、高周波加速装置5により加速し
て無端状ダクト6へ入射させる。
【0010】この電子ビームeは、高周波加速装置8に
よって加速されて無端状ダクト6を周回するとともに、
偏向電磁石7により無端状ダクト6の各湾曲部分におい
て軌道を曲げられ、これにより、電子ビームeから放射
光ビームsが放出される。
よって加速されて無端状ダクト6を周回するとともに、
偏向電磁石7により無端状ダクト6の各湾曲部分におい
て軌道を曲げられ、これにより、電子ビームeから放射
光ビームsが放出される。
【0011】更に、無端状ダクト6のビームチャンネル
9接続箇所の手前で発生する放射光ビームsは、ビーム
チャンネル9を経て実験装置10に入射する。
9接続箇所の手前で発生する放射光ビームsは、ビーム
チャンネル9を経て実験装置10に入射する。
【0012】図2は従来の加速器用真空チェンバの一例
であり、この加速器用真空チェンバは、電子ビームeが
進行可能なビーム室11を形成する扁平筒状のビーム室
構成部材12と、上下フランジ13a,13bがビーム
室構成部材12の一側部外面に全長にわたって電子ビー
ム溶接で固着された溝形材状のポンプ室構成部材13
と、上下フランジ14a,14bがビーム室構成部材1
2の他側部外面に全長にわたって電子ビーム溶接で固着
された冷却室構成部材14とを備え、ビーム室構成部材
12の一側部にビーム室11からポンプ室構成部材13
の内方へ向かって貫通する排気開口12aを穿設してい
る。
であり、この加速器用真空チェンバは、電子ビームeが
進行可能なビーム室11を形成する扁平筒状のビーム室
構成部材12と、上下フランジ13a,13bがビーム
室構成部材12の一側部外面に全長にわたって電子ビー
ム溶接で固着された溝形材状のポンプ室構成部材13
と、上下フランジ14a,14bがビーム室構成部材1
2の他側部外面に全長にわたって電子ビーム溶接で固着
された冷却室構成部材14とを備え、ビーム室構成部材
12の一側部にビーム室11からポンプ室構成部材13
の内方へ向かって貫通する排気開口12aを穿設してい
る。
【0013】ビーム室構成部材12の形成素材には、ビ
ーム室11内を進行する電子ビームeに対して外乱を与
えないようにするために、無酸素銅を用いている。
ーム室11内を進行する電子ビームeに対して外乱を与
えないようにするために、無酸素銅を用いている。
【0014】また、ポンプ室構成部材13、冷却室構成
部材14の形成素材にも、無酸素銅を用い、ビーム室構
成部材12に対してポンプ室構成部材13のフランジ1
3a,13bを固着する溶接継手13d,13e、並び
に、ビーム室構成部材12に対して冷却室構成部材14
のフランジ14a,14bを固着する溶接継手14d,
14eが、各構成部材12,13,14の内方の気密を
保持している。
部材14の形成素材にも、無酸素銅を用い、ビーム室構
成部材12に対してポンプ室構成部材13のフランジ1
3a,13bを固着する溶接継手13d,13e、並び
に、ビーム室構成部材12に対して冷却室構成部材14
のフランジ14a,14bを固着する溶接継手14d,
14eが、各構成部材12,13,14の内方の気密を
保持している。
【0015】ビーム室構成部材12の一側部外面、ポン
プ室構成部材13のフランジ13a,13b及びウエブ
13cで囲まれる空間であるポンプ室15内には、非蒸
発型ゲッタポンプ(図示せず)が配置されており、該非
蒸発型ゲッタポンプによって、ポンプ室15に排気開口
12aを介して連通するビーム室11を、高真空状態に
保持している。
プ室構成部材13のフランジ13a,13b及びウエブ
13cで囲まれる空間であるポンプ室15内には、非蒸
発型ゲッタポンプ(図示せず)が配置されており、該非
蒸発型ゲッタポンプによって、ポンプ室15に排気開口
12aを介して連通するビーム室11を、高真空状態に
保持している。
【0016】ビーム室構成部材12の他部側外面、冷却
室構成部材14のフランジ14a,14b及びウエブ1
4cで囲まれる空間である冷却室16内には、冷却水が
流通するようになっており、該冷却水によって、電子ビ
ームeの軌道上を発光点とする放射光ビームsが、ビー
ム室構成部材12の他側部内面に入射することによる温
度上昇を抑制し、当該ビーム室構成部材12の変形や損
傷を防止している。
室構成部材14のフランジ14a,14b及びウエブ1
4cで囲まれる空間である冷却室16内には、冷却水が
流通するようになっており、該冷却水によって、電子ビ
ームeの軌道上を発光点とする放射光ビームsが、ビー
ム室構成部材12の他側部内面に入射することによる温
度上昇を抑制し、当該ビーム室構成部材12の変形や損
傷を防止している。
【0017】また、加速器用真空チェンバの端部には、
接続用のフランジ部材(図示せず)が電子ビーム溶接に
よって固着されている。
接続用のフランジ部材(図示せず)が電子ビーム溶接に
よって固着されている。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2に
示す加速器用真空チャンバでは、ビーム室構成部材12
に対してポンプ室構成部材13並びに冷却室構成部材1
4を固着するための溶接継手13d,13e,14d,
14cを、チェンバ全長にわたり形成させているので、
当該チェンバ全長に応じた大型の電子ビーム溶接装置が
必要になる。
示す加速器用真空チャンバでは、ビーム室構成部材12
に対してポンプ室構成部材13並びに冷却室構成部材1
4を固着するための溶接継手13d,13e,14d,
14cを、チェンバ全長にわたり形成させているので、
当該チェンバ全長に応じた大型の電子ビーム溶接装置が
必要になる。
【0019】そこで、ビーム室構成部材12、ポンプ室
構成部材13、及び冷却室構成部材14を一体的にシー
ムレス(無継手)成形することも考えられるが、無酸素
銅は複雑な形状の引抜成形加工が困難であるため、真空
チェンバの形成素材に無酸素銅を適用できない。
構成部材13、及び冷却室構成部材14を一体的にシー
ムレス(無継手)成形することも考えられるが、無酸素
銅は複雑な形状の引抜成形加工が困難であるため、真空
チェンバの形成素材に無酸素銅を適用できない。
【0020】また、電子ビーム溶接による部材相互の接
合を排除するために、ビーム室構成部材12、ポンプ室
構成部材13、及び冷却室構成部材14に、無酸素銅以
外の形成素材を用いたとすると、ビーム室11を進行す
る電子ビームeに外乱が与えられてしまうことになる。
合を排除するために、ビーム室構成部材12、ポンプ室
構成部材13、及び冷却室構成部材14に、無酸素銅以
外の形成素材を用いたとすると、ビーム室11を進行す
る電子ビームeに外乱が与えられてしまうことになる。
【0021】本発明は上述した実情に鑑みてなしたもの
で、電子ビーム溶接装置を使用せずに製作可能な加速器
用真空チェンバを提供することを目的としている。
で、電子ビーム溶接装置を使用せずに製作可能な加速器
用真空チェンバを提供することを目的としている。
【0022】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の加速器用真空チェンバでは、電子ビームが
進行可能なビーム室を形成する無酸素銅製のビーム室構
成部材と、該ビーム室構成部材の一側方にポンプ室を形
成し且つ他側方に受光室を形成するようにビーム室構成
部材を周方向に取り囲むチェンバ外殻と、内部に冷却媒
体が流通するマスク部材とを備え、ビーム室構成部材の
一側部にビーム室からポンプ室へ貫通する排気開口を穿
設し、ビーム室構成部材の他側部にビーム室から受光室
へ貫通する光通過開口を穿設し、チェンバ外殻に外部か
ら受光室へ向かって貫通するマスク装着孔を穿設し、該
マスク装着孔にマスク部材を、チェンバ外殻内の気密を
保持し且つビーム室から光通過開口を経て受光室へ進む
放射光ビームがマスク部材に入射し得るように挿入して
いる。
に、本発明の加速器用真空チェンバでは、電子ビームが
進行可能なビーム室を形成する無酸素銅製のビーム室構
成部材と、該ビーム室構成部材の一側方にポンプ室を形
成し且つ他側方に受光室を形成するようにビーム室構成
部材を周方向に取り囲むチェンバ外殻と、内部に冷却媒
体が流通するマスク部材とを備え、ビーム室構成部材の
一側部にビーム室からポンプ室へ貫通する排気開口を穿
設し、ビーム室構成部材の他側部にビーム室から受光室
へ貫通する光通過開口を穿設し、チェンバ外殻に外部か
ら受光室へ向かって貫通するマスク装着孔を穿設し、該
マスク装着孔にマスク部材を、チェンバ外殻内の気密を
保持し且つビーム室から光通過開口を経て受光室へ進む
放射光ビームがマスク部材に入射し得るように挿入して
いる。
【0023】本発明の加速器用真空チェンバにおいて
は、ビーム室構成部材の形成素材に無酸素銅を用いて、
ビーム室を進行する電子ビームに対して外乱が与えられ
ないようにし、チェンバ外殻の形成素材に無酸素銅以外
のものを用いて、部材を相互に接合するためのチェンバ
長手方向への電子ビーム溶接を排除する。
は、ビーム室構成部材の形成素材に無酸素銅を用いて、
ビーム室を進行する電子ビームに対して外乱が与えられ
ないようにし、チェンバ外殻の形成素材に無酸素銅以外
のものを用いて、部材を相互に接合するためのチェンバ
長手方向への電子ビーム溶接を排除する。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
示例とともに説明する。
示例とともに説明する。
【0025】図1は本発明の加速器用真空チェンバの実
施の形態の一例であり、この加速器用真空チェンバは、
電子ビームeが進行可能なビーム室21を形成する扁平
筒状のビーム室構成部材22と、該ビーム室構成部材2
2の一側方にポンプ室23を形成し且つ他側方に受光室
24を形成するようにビーム室構成部材22を周方向に
取り囲んだ扁平筒状のチェンバ外殻25と、放射光ビー
ムsを受光するマスク部材26とを備え、ビーム室構成
部材22の一側部にビーム室21からポンプ室23へ貫
通する排気開口22aを設け、ビーム室構成部材22の
他側部にビーム室21から受光室24へ貫通する光通過
開口22bを設け、更に、チェンバ外殻25の所定箇所
に外部から受光室24へ貫通し且つ光通過開口22bに
対峙するマスク装着孔25aを設けている。
施の形態の一例であり、この加速器用真空チェンバは、
電子ビームeが進行可能なビーム室21を形成する扁平
筒状のビーム室構成部材22と、該ビーム室構成部材2
2の一側方にポンプ室23を形成し且つ他側方に受光室
24を形成するようにビーム室構成部材22を周方向に
取り囲んだ扁平筒状のチェンバ外殻25と、放射光ビー
ムsを受光するマスク部材26とを備え、ビーム室構成
部材22の一側部にビーム室21からポンプ室23へ貫
通する排気開口22aを設け、ビーム室構成部材22の
他側部にビーム室21から受光室24へ貫通する光通過
開口22bを設け、更に、チェンバ外殻25の所定箇所
に外部から受光室24へ貫通し且つ光通過開口22bに
対峙するマスク装着孔25aを設けている。
【0026】ビーム室構成部材22の形成素材には、ビ
ーム室21内を進行する電子ビームeに対して外乱を与
えないようにするために、無酸素銅を用いている。
ーム室21内を進行する電子ビームeに対して外乱を与
えないようにするために、無酸素銅を用いている。
【0027】チェンバ外殻25の形成素材には、押出成
形加工などのようなシームレス成形が容易なアルミニウ
ム合金、あるいは、TIG溶接による部材相互の接合が
可能なステンレス鋼を用いている。
形加工などのようなシームレス成形が容易なアルミニウ
ム合金、あるいは、TIG溶接による部材相互の接合が
可能なステンレス鋼を用いている。
【0028】すなわち、チェンバ外殻25の形成素材に
アルミニウム合金を用いた場合には、当該チェンバ外殻
25を押出成形加工によって一体的に形成し、チェンバ
外殻25の形成素材にステンレス鋼を用いた場合には、
TIG溶接により複数の部材を相互に接合して、当該チ
ェンバ外殻25を組み立てる。
アルミニウム合金を用いた場合には、当該チェンバ外殻
25を押出成形加工によって一体的に形成し、チェンバ
外殻25の形成素材にステンレス鋼を用いた場合には、
TIG溶接により複数の部材を相互に接合して、当該チ
ェンバ外殻25を組み立てる。
【0029】ビーム室構成部材22の外周面平坦部分と
チェンバ外殻25の内周面平坦部分とは、ろう付け接合
によって相互に固着されている。
チェンバ外殻25の内周面平坦部分とは、ろう付け接合
によって相互に固着されている。
【0030】光通過開口22bは、電子ビームeの軌道
上を発光点とする放射光ビームsが、ビーム室21内か
ら光通過開口22bを経て受光室24内へ進入し得るよ
うに、ビーム室構成部材22の全長にわたって形成され
ている。
上を発光点とする放射光ビームsが、ビーム室21内か
ら光通過開口22bを経て受光室24内へ進入し得るよ
うに、ビーム室構成部材22の全長にわたって形成され
ている。
【0031】また、排気開口22aは、ビーム室構成部
材22の長手方向に所定間隔で複数形成してもよいし、
あるいは、ビーム室構成部材22の全長にわたって形成
してもよい。
材22の長手方向に所定間隔で複数形成してもよいし、
あるいは、ビーム室構成部材22の全長にわたって形成
してもよい。
【0032】排気開口22aをビーム室構成部材22の
全長にわたって形成する場合には、ビーム室構成部材2
2が、上下に2分割されることになる。
全長にわたって形成する場合には、ビーム室構成部材2
2が、上下に2分割されることになる。
【0033】ポンプ室23内には、非蒸発型ゲッタポン
プ(図示せず)が配置されており、該非蒸発型ゲッタポ
ンプによって、ポンプ室23に排気開口22aを介して
連通するビーム室21を、高真空状態に保持できるよう
になっている。
プ(図示せず)が配置されており、該非蒸発型ゲッタポ
ンプによって、ポンプ室23に排気開口22aを介して
連通するビーム室21を、高真空状態に保持できるよう
になっている。
【0034】チェンバ外殻25の外面には、マスク装着
孔25aを周方向に取り囲むようにチェンバ外殻25と
同材質のスタンドパイプ27の一端部が、TIG溶接に
より固着され、当該スタンドパイプ27の他端部には、
チェンバ外殻25と同材質のフランジ部材28が、TI
G溶接により同軸に固着されている。
孔25aを周方向に取り囲むようにチェンバ外殻25と
同材質のスタンドパイプ27の一端部が、TIG溶接に
より固着され、当該スタンドパイプ27の他端部には、
チェンバ外殻25と同材質のフランジ部材28が、TI
G溶接により同軸に固着されている。
【0035】マスク部材26の形成素材には、熱伝導が
優れた無酸素銅を用いている。
優れた無酸素銅を用いている。
【0036】このマスク部材26には、基端面から部材
内部を先端近傍へ延び且つ基端面へ戻る形状の冷却水通
路26aが形成されている。
内部を先端近傍へ延び且つ基端面へ戻る形状の冷却水通
路26aが形成されている。
【0037】マスク部材26の基端寄り部分には、無酸
素銅を形成素材とするフランジ部材29が外嵌してお
り、マスク部材26とフランジ部材29とは、電子ビー
ム溶接によって相互に固着されている。
素銅を形成素材とするフランジ部材29が外嵌してお
り、マスク部材26とフランジ部材29とは、電子ビー
ム溶接によって相互に固着されている。
【0038】更に、マスク部材26は、先端部分が受光
室24内に位置するようにスタンドパイプ27に挿入さ
れ、チェンバ外殻25の気密が保持されるように、フラ
ンジ部材28,29をボルト締結している。
室24内に位置するようにスタンドパイプ27に挿入さ
れ、チェンバ外殻25の気密が保持されるように、フラ
ンジ部材28,29をボルト締結している。
【0039】これにより、電子ビームeの軌道上を発光
点とし且つビーム室21から光通過開口22bを経て受
光室24へ進む放射光ビームsを、マスク部材26で遮
るとともに、冷却水通路26aに冷却水Wを連続的に流
通させて、マスク部材26の温度上昇を抑制する。
点とし且つビーム室21から光通過開口22bを経て受
光室24へ進む放射光ビームsを、マスク部材26で遮
るとともに、冷却水通路26aに冷却水Wを連続的に流
通させて、マスク部材26の温度上昇を抑制する。
【0040】このように、図1に示す加速器用真空チェ
ンバにおいては、ビーム室構成部材22の形成素材に無
酸素銅を用いているので、ビーム室21を進行する電子
ビームeに対して外乱を与えることがない。
ンバにおいては、ビーム室構成部材22の形成素材に無
酸素銅を用いているので、ビーム室21を進行する電子
ビームeに対して外乱を与えることがない。
【0041】また、チェンバ外殻25の形成素材にアル
ミニウム合金やステンレス鋼を用い、ビーム室構成部材
22の外周面平坦部分とチェンバ外殻25の内周面平坦
部分とをろう付け接合によって相互に固着し、部材を相
互に接続するためのチェンバ長手方向への電子ビーム溶
接を排除できるので、電子ビーム溶接装置を使用せずに
加速器用真空チェンバを製作することが可能になる。
ミニウム合金やステンレス鋼を用い、ビーム室構成部材
22の外周面平坦部分とチェンバ外殻25の内周面平坦
部分とをろう付け接合によって相互に固着し、部材を相
互に接続するためのチェンバ長手方向への電子ビーム溶
接を排除できるので、電子ビーム溶接装置を使用せずに
加速器用真空チェンバを製作することが可能になる。
【0042】なお、本発明の加速器用チェンバは上述し
た実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲において変更を加え得ることは勿
論である。
た実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲において変更を加え得ることは勿
論である。
【0043】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の加速器用真
空チェンバによれば、ビーム室構成部材の形成素材に無
酸素銅を用いているので、ビーム室を進行する電子ビー
ムに対して外乱が与えられることがなく、また、チェン
バ外殻の形成素材に無酸素銅以外のものを用いることに
よって、部材を相互に接合するためのチェンバ長手方向
への電子ビーム溶接を排除できるので、電子ビーム溶接
装置を使用せずに加速器用真空チェンバを製作すること
が可能になる、という優れた効果を奏し得る。
空チェンバによれば、ビーム室構成部材の形成素材に無
酸素銅を用いているので、ビーム室を進行する電子ビー
ムに対して外乱が与えられることがなく、また、チェン
バ外殻の形成素材に無酸素銅以外のものを用いることに
よって、部材を相互に接合するためのチェンバ長手方向
への電子ビーム溶接を排除できるので、電子ビーム溶接
装置を使用せずに加速器用真空チェンバを製作すること
が可能になる、という優れた効果を奏し得る。
【図1】本発明の加速器用真空チェンバの実施の形態の
一例を示す部分切断斜視図である。
一例を示す部分切断斜視図である。
【図2】従来の加速器用真空チェンバの一例を示す部分
切断斜視図である。
切断斜視図である。
【図3】放射光発生手段の一例を示す概念図である。
21 ビーム室 22 ビーム室構成部材 22a 排気開口 22b 光通過開口 23 ポンプ室 24 受光室 25 チェンバ外殻 25a マスク装着孔 26 マスク部材 e 電子ビーム s 放射光ビーム W 冷却水(冷却媒体)
Claims (1)
- 【請求項1】 電子ビームが進行可能なビーム室を形成
する無酸素銅製のビーム室構成部材と、該ビーム室構成
部材の一側方にポンプ室を形成し且つ他側方に受光室を
形成するようにビーム室構成部材を周方向に取り囲むチ
ェンバ外殻と、内部に冷却媒体が流通するマスク部材と
を備え、ビーム室構成部材の一側部にビーム室からポン
プ室へ貫通する排気開口を穿設し、ビーム室構成部材の
他側部にビーム室から受光室へ貫通する光通過開口を穿
設し、チェンバ外殻に外部から受光室へ向かって貫通す
るマスク装着孔を穿設し、該マスク装着孔にマスク部材
を、チェンバ外殻内の気密を保持し且つビーム室から光
通過開口を経て受光室へ進む放射光ビームがマスク部材
に入射し得るように挿入したことを特徴とする加速器用
真空チェンバ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000183183A JP2002008897A (ja) | 2000-06-19 | 2000-06-19 | 加速器用真空チェンバ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000183183A JP2002008897A (ja) | 2000-06-19 | 2000-06-19 | 加速器用真空チェンバ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002008897A true JP2002008897A (ja) | 2002-01-11 |
Family
ID=18683805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000183183A Pending JP2002008897A (ja) | 2000-06-19 | 2000-06-19 | 加速器用真空チェンバ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002008897A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111654968A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-09-11 | 中国原子能科学研究院 | 用于带电粒子加速器的带电粒子处理装置及加速器 |
-
2000
- 2000-06-19 JP JP2000183183A patent/JP2002008897A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111654968A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-09-11 | 中国原子能科学研究院 | 用于带电粒子加速器的带电粒子处理装置及加速器 |
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