JP2002006525A

JP2002006525A - 粗表面を有する光散乱粒子を含むブロッキング層

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Publication number: JP2002006525A
Application number: JP2001144254A
Authority: JP
Inventors: Abukar H Wehelie; エイチウェヘリーアブカー; John S Chambers; エスチャンバースジョン; Huoy-Jen Yuh; ユーヒョイジェン; Harold F Hammond; エフハモンドハロルド
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 2000-05-22
Filing date: 2001-05-15
Publication date: 2002-01-09
Anticipated expiration: 2021-05-15
Also published as: JP4740473B2; US6156468A

Abstract

(57)【要約】【課題】静電プリンタに有用な感光体であって、電荷
ブロッキング層を改良したものを提供する。【解決手段】 (a) 基体；(b) バインダー中に分散させ
た複数の光散乱粒子を含み、これらの光散乱粒子がバイ
ンダーと異なる屈折率、約0.8μmよりも大きい数平均粒
度、および約50 m²/gmよりも大きい比表面積により形成
された表面粗さとを有するような電荷ブロッキング層；
および(c) 像形成層を含む感光体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】(背景技術)干渉照射(coherent illuminati
on)は、感光体上に像形成する電子写真プリンティング
において使用されている。残念なことに、多層型感光体
における干渉照射は、“合板(plywood)効果”または
“干渉フリンジ効果”として知られているプリント質の
欠陥をもたらす。この欠陥は、干渉光が多層型感光体の
各界面から反射するときに生ずる１連の明暗干渉像から
なっている。有機感光体においては、主として、空気/
電荷輸送層界面(即ち、トップ表面)からの反射およびア
ンダーコーティング層即ち電荷ブロッキング層/基体界
面(即ち、基体表面)からの反射が干渉フリンジ効果の原
因となる。この効果は、強力な電荷輸送層表面反射また
は強力な基体表面反射を低減させまたは抑制した場合
に、低減させることができる。

【０００２】μmサイズのSiO₂分散体または他の粒子を
電荷輸送層中に混入させることにより電荷輸送層表面を
粗面化する方法、適切なオーバーコーティング層を塗布
する方法等が、空気/電荷輸送層界面の鏡面反射を抑制
するのに提案されている。

【０００３】また、例えば、反射防止材料や光散乱材料
のような特定の材料の基体表面上へのコーティング方
法、基体表面の乾燥吹付け仕上げや液体ホーニング仕上
げのような粗面化方法も基体表面の鏡面反射強度を抑制
するのに提案されている。例えば、感光体の基体表面
は、表面に対してセラミックまたはガラス粒子を噴射す
ることによって粗面化している。

【０００４】通常の感光体は下記の特許に開示されてお
り、これら特許の多くは、電荷ブロッキング層中に光散
乱粒子の存在を記載している：Yuの米国特許第5,660,96
1号；Yuの米国特許第5,215,839号；およびKatayama等の
米国特許第5,958,638号。

【０００５】光散乱粒子を用いる通常の電荷ブロッキン
グ層における課題は、光散乱粒子に適する材料の範囲が
幾分限定されていることである。多くの高分子材料は、
適切な範囲の粒度、密度および分散安定性を有するが、
電荷ブロッキング層で用いるバインダー樹脂にあまりに
も近すぎる屈折率値を有する。バインダーの屈折率と同
じような屈折率を有する光散乱粒子は、得られるプリン
トの合板効果を低減させるには不十分な光散乱性を生じ
得る。高分子材料よりも高い屈折率を典型的に有し得る
金属酸化物を光散乱粒子として選択することは、問題が
ある、何故ならば、金属酸化物のような無機粒子は、一
般に高分子材料よりも高密度を有し得、電荷ブロッキン
グ層の均質性および得られるプリント質に悪影響を及ぼ
す粒子沈降問題を生じ得るからである。即ち、上述した
問題を回避または最小にする改良された電荷ブロッキン
グが求められている。用語“電荷ブロッキング層”また
は“ブロッキング層”は、用語“アンダーコーティング
層”と互換的に用いる。

【０００６】(発明の開示)本発明は、各実施態様におい
て、(a) 基体；(b) バインダー中に分散させた複数の光
散乱粒子を含み、これらの光散乱粒子がバインダーと異
なる屈折率、約0.8μmよりも大きい数平均粒度、および
約50 m²/gmよりも大きい比表面積により形成された表面
粗さとを有するような電荷ブロッキング層；および(c)
像形成層を含む感光体を提供することによって達成され
る。

【０００７】電子写真像形成部材(例えば、感光体)の代
表的な構造を図1〜3に示す。特に断らない限り、各図面
中の同じ参照番号は同じまたは類似の特性を示す。これ
らの像形成部材は、カール防止層1、支持基体2、導電性
接地平面(ground plane)3、電荷ブロッキング層4、接着
層5、電荷発生層6、電荷輸送層7、オーバーコーティン
グ層8および接地ストリップ9を有している。図3におい
ては、像形成層10(電荷発生材料と電荷輸送材料の両方
を含有する)が、個々の電荷発生層6と電荷輸送層7に置
換わっている。

【０００８】各図面において明らかなように、感光体の
製造に当っては、電荷発生材料(CGM)と電荷輸送材料(CT
M)を、CGMとCTMが異なる層として存在するラミネートタ
イプ形状(例えば、図１と図2)またはCGMとCTMが同じ層
に存在する単一層形状(例えば、図3)のいずれかで、基
体表面上にバインダー樹脂と一緒に付着させ得る。本発
明を用いる感光体は、導電性層上に電荷発生層6および
任意層としての電荷輸送層7を塗布することによって製
造できる。各実施態様において、電荷発生層と電荷輸送
層(存在する場合の)は、いずれの順序で塗布してもよ
い。

【０００９】カール防止層ある用途においては、任意層としてのカール防止層1が
用いられ、この層は、電気絶縁性または僅かに半導電性
であるフィルム形成性の有機または無機ポリマーを含
む。カール防止層は、平坦性および/または耐磨耗性を
提供する。

【００１０】カール防止層1は、各像形成層とは反対側
の基体2の裏面上に形成させ得る。カール防止層は、フ
ィルム形成性樹脂以外に、接着促進ポリエステル添加剤
を含み得る。カール防止層として有用なフィルム形成性
樹脂の例には、限定するものではないが、ポリアクリレ
ート、ポリスチレン、ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフ
ェニルカーボネート)、ポリ(4,4'-シクロヘキシリデン
ジフェニルカーボネート)、これらの混合物等がある。

【００１１】添加剤は、カール防止層中に、カール防止
層の約0.5〜約40重量％の範囲で存在し得る。好ましい
添加剤には、さらに耐磨耗性を改善しおよび/または電
荷緩和特性を与え得る有機および無機粒子がある。好ま
しい有機粒子には、テフロン（登録商標）粉末、カーボ
ンブラックおよびグラファイト粒子がある。好ましい無
機粒子には、シリカ、酸化亜鉛および酸化錫等のような
絶縁性および半導電性金属酸化物粒子がある。さらなる
半導電性添加剤は、米国特許第5,853,906号に記載され
ているような酸化型オリゴマー塩である。好ましいオリ
ゴマー塩は、酸化したN,N,N',N'-テトラ-p-トリル-4,4'
-ビフェニルジアミン塩である。

【００１２】添加剤として有用な典型的な接着促進剤に
は、限定するものではないが、デュポン49,000(duPont
社)；バイテル(Vitel) PE-100、バイテル PE-200、バイ
テルPE-307(Googyear社)；およびこれらの混合物等があ
る。フィルム形成性樹脂の重量基準で、通常約1〜約15
重量％の接着促進剤をフィルム形成性樹脂添加剤として
使用する。

【００１３】カール防止層の厚さは、典型的には約3μm
〜約35μm、好ましくは約14μmである。しかしながら、
上記範囲外の厚さも使用できる。カール防止コーティン
グは、上記フィルム形成性樹脂と接着促進剤を塩化メチ
レンのような溶媒中に溶解させて調製した溶液として塗
布することができる。この溶液は、感光体装置の支持基
体の裏面(各像形成層に対して反対面)に、例えばウェブ
コーティング法または当該技術で公知の他の方法により
塗布できる。オーバーコート層とカール防止層のコーテ
ィングは、電荷輸送層、電荷発生層、接着層、ブロッキ
ング層、接地平面および基体を含む多層感光体上にウェ
ブコーティングすることによって同時に行い得る。次い
で、湿潤フィルムコーティングを乾燥させてカール防止
層1を得る。

【００１４】支持基体上述したように、感光体は、先ず基体2、即ち、支持体
を用意することによって製造する。基体は、不透明また
は実質的透明であり得、所定の機械的特性を有する任意
の数多くの適当な材料を含み得る。

【００１５】基体は、無機または有機組成物のような非
導電性材料の層または導電性材料の層を含み得る。非導
電性材料を用いる場合、そのような非導電性材料上に導
電性接地平面を設けることが必要である。基体として導
電性材料を用いる場合、別の接地平面は必要ではない。
基体は、可撓質または硬質であり得、例えば、シート、
スクロール、エンドレス可撓性ベルト、ウェブ、シリン
ダー等のような任意の多くの種々の形状を有し得る。感
光体は、アルミニウムドラムのような硬質の不透明導電
性基体上にコーティングしてもよい。

【００１６】種々の樹脂を非導電性材料として使用で
き、そのような樹脂には、限定するものではないが、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレ
タン等がある。そのような基体は、好ましくは、E.I. d
uPont de Nemours & Co.社から入手し得るMYLAR^TM、ICI
Americans社から入手し得るMELINEX^TM、またはAmerica
n Hoechst社から入手し得るHOSTAPHAN^TMとして知られる
商業的に入手可能な二軸配向型ポリエステルを含む。基
体が含み得る他の材料には、E.I. duPont de Nemours &
Co.社からTEDLAR^TMとして入手し得るポリフッ化ビニ
ル、Phillips Petroleum社からMARLEX^TMとして入手し得
るポリエチレンおよびポリプロピレン、Phillips Petro
leum社からRYTON^TMとして入手し得るポリフェニレンス
ルフィド、E.I. duPont de Nemours & Co.社から入手し
得るKAPTON^TMとして入手し得るポリアミドのような高分
子材料がある。また、感光体は、絶縁性プラスチックド
ラム上にもコーティングし得るが、その表面には、上述
したように、導電性接地平面が既にコーティングされて
いる。そのような基体は、シーム型またはシームレスの
いずれであってもよい。

【００１７】導電性基体を用いる場合、任意の適当な導
電性材料を使用し得る。例えば、導電性材料としては、
限定するものではないが、金属酸化物、硫化物、ケイ化
物、第4級アンモニウム塩化合物、ポリアセチレンまた
はその熱分解および分子ドープ化生成物のような導電性
ポリマー、電荷移送性コンプレックス、ポリフェニレン
シラン、またはポリフェニレンシランからの分子ドープ
化生成物を含有するバインダー中のアルミニウム、チタ
ニウム、ニッケル、クロム、黄銅、金、ステンレススチ
ール、カーボンブラック、グラファイト等のような金属
のフレーク、粉末または繊維状物がある。導電性プラス
チックドラム、並びに好ましくはアルミニウムのような
材料から製せられた導電性金属ドラムも使用できる。

【００１８】基体の好ましい厚さは、所定の機械的性能
および経済性のような多くの要因に依存する。基体の厚
さは、典型的には約65μm〜約150μmの範囲内にあり、
好ましくは、小直径ロール、例えば、19 mm径ロールで
サイクル操作するときの最適の可撓性と最小の表面曲げ
応力誘発のためには、約75μm〜約125μmである。可撓
性ベルト用の基体は、最終の光導電性装置に悪影響を及
ぼさない限り、例えば200μmを越える実質的な厚さまた
は例えば50μm未満の最小厚さを有し得る。ドラムを用
いる場合、基体の厚さは、所定の剛性を与えるに十分で
あるべきである。その厚さは、通常約1〜6 mmである。

【００１９】層を塗布すべき基体表面は、そのような層
のより大きい接着性を促進するために好ましくは清浄化
する。清浄化は、例えば、基体層の表面をプラズマ放
電、イオンボンバート等に暴露させることにより実施で
きる。溶媒洗浄のような他の方法も使用できる。金属層
を形成させるのに用いる方法においては、その如何にか
かわらず、金属酸化物の薄層が空気への暴露時に殆どの
金属外表面上に一般に生ずる。即ち、その金属層を覆う
他の層が“連続層”として特徴付けされる場合、これら
の被覆連続層は、実際には、酸化性金属層の外表面上に
形成した薄い金属酸化物層と接触していることを意味す
る。

【００２０】導電性接地平面上述したように、本発明に従って製造した感光体は、導
電性または非導電性の基体を含む。非導電性基体を用い
る場合、導電性接地平面3を用いなければならず、その
接地平面が導電性層として作用する。導電性基体を用い
る場合、基体が導電性層として作用するが、導電性接地
平面を設けてもよい。

【００２１】導電性接地平面を用いる場合、該平面は基
体上に位置させる。導電性接地平面用に適する材料に
は、限定するものではないが、アルミニウム、ジルコニ
ウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チ
タン、ニッケル、ステンレススチール、クロム、タング
ステン、モリブデン、銅、並びにこれらの混合物および
合金がある。

【００２２】接地平面は、溶液コーティング、蒸着およ
びスパッタリングのような公知のコーティング方法によ
って塗布できる。導電性接地平面を塗布する好ましい方
法は、蒸着による。他の適切な方法も使用できる。接地
平面の好ましい厚さは、実質的に広い範囲内にあるが、
光導電性部材に望まれる光透過性と可撓性に依存する。
従って、可撓性の感光性像形成装置においては、この導
電性層の厚さは、好ましくは約20〜約750オングストロ
ームであり；より好ましくは、導電性、可撓性および光
透過性の最適の組合せにおいては、約50〜約200オング
ストロームである。しかしながら、接地平面は、必要に
応じ、不透明であってもよい。

【００２３】電荷ブロッキング層任意層としての導電性接地平面の塗布後、電荷ブロッキ
ング層4をその上に塗布できる。正荷電された感光体に
おける電子ブロッキング層は、正孔を感光体の像形成表
面から導電性層に向けて移行させる。負荷電感光体にお
いては、導電性層から相対する光導電性層への正孔注入
を防止するバリヤーを形成し得る任意の適当な正孔ブロ
ッキング層を用いることができる。

【００２４】ブロッキング層は、好ましくは導電性層上
に位置させる。多くの異なるタイプの層に関連して本明
細書において用いる“上”なる用語は、各層が連続して
いる場合に限定するものでないことを理解すべきであ
る。むしろ、この用語は、各層の相対的位置を称し、不
特定の中間層も含むものである。ブロッキング層4は光
散乱粒子とバインダーを含み、その光散乱粒子は、本明
細書で述べる特性を有する。

【００２５】本発明の重要な局面は、暴露光を散乱させ
る粗表面を有する光散乱粒子の使用にある。その粗表面
は、同じ粒度の平滑表面よりも、例えば少なくとも約50
％以上恐らく約10倍以上の光散乱度での光散乱性を与え
る。即ち、本発明は、高レベルの入射光散乱を提供し、
それによって合板効果を低減または最小にする。さら
に、上記粗表面が電荷ブロッキング層分散体中の光散乱
粒子の分散安定性も改善し得る。

【００２６】表面粗さの尺度は、吸着質として窒素を用
いる標準のブルナー(Brunauer)、エメット(Emmett)およ
びテーラー(Teller)法（“BET”とも称する）である。
この方法は、粒子の重量グラム（“gm”と略記）当りの
比表面積を測定する。BET測定は、特定の平衡圧と一定
温度におけるガス単分子層の物理的吸着に基づく非破壊
的な表面積および有孔容量分析である。次いで、BET範
囲のラングミュー(Langmuir)の力学吸着理論を用いて各
圧力で吸着されたガス容量から表面積を算出する。同じ
粒子においては、窒素BET比表面積が大きいほど、表面
は粗である。BET法および表面積の算出は、例えば、S.
Ross and I. Morrison, Colloidal Systems and Interf
aces, pp. 50-51 (john Wiley & Sons 1998)に記載され
ている。本発明の光散乱粒子の比表面積は、例えば約50
m²/gmより大、好ましくは約100 m²/gmより大、より好
ましくは約50〜約400 m²/gm、とりわけ約100〜約300m²/
gmである。

【００２７】光散乱粒子用の好ましい材料は、非晶質の
シリカおよび鉱物類のような無機材料である。合成シリ
カには、沈降性シリカ、熱分解法シリカ、エーロゲルお
よびヒドロゲルがある。これらのタイプのシリカは、約
1.42の屈折率を有する。典型的な鉱物類には、例えば、
金属酸化物を含む酸化物、ケイ酸塩、炭酸塩、硫酸塩、
亜硫酸塩、沃化物、水酸化物、塩化物、フッ化物、リン
酸塩、クロム酸塩、亜クロム酸塩、クレー、イオウ等が
ある。本明細書で使用するときの“鉱物”なる表現は、
天然産の元素、明確な範囲の化学組成と特性を有する化
合物および混合物、またはこれらの合成物のような地殻
無機構成分として定義する。これら鉱物類は、バインダ
ーの反応基と反応し得る化学反応基を有し得る。鉱物類
の典型的な化学反応基には、例えば、ヒドロオキサイ
ド、オキサイド、シラノール等がある。

【００２８】本発明の光散乱粒子は、好ましくは、約40
0〜約950 nmの波長を有する照射光のすべてを実質的に
散乱させて干渉フリンジを低減させる能力を有すべきで
ある。換言すれば、どのブロッキング層分散体において
用いた特定の光散乱粒子も、用いた電荷発生体層を露光
させる活性化光の周波数の実質的すべてを抑制または低
減させ得るべきである。

【００２９】光散乱粒子の粒度は、光散乱の有効性にお
いて重要である。光散乱粒子は、露光波長の半分よりも
大きいが乾燥電荷ブロッキング層の厚さよりも小さい数
平均粒度を有して粒子の突出を回避すべきである。光散
乱粒子は、例えば約0.8μmより大、好ましくは約1μmよ
り大、より好ましくは約0.8〜約10μm、とりわけ約１〜
約3μm、さらには約1〜10μmのような数平均粒度を有し
得る。光散乱粒子の粒度は、最終電荷ブロッキング層中
の、即ち、電荷ブロッキング層作成後の光散乱粒子の粒
度に基づく。

【００３０】光散乱粒子は、例えば球状、概して球状ま
たは不規則形状のような任意の適当な形状を有し得る。
光散乱粒子は、光散乱粒子について本明細書で説明する
ような具体的材料の有する密度値のような任意の適当な
密度を有し得る。

【００３１】光散乱粒子は、好ましくは、典型的には約
1.54〜約1.60範囲の屈折率であるバインダーの屈折率と
は異なる屈折率を有する。光散乱粒子とバインダーの屈
折率の差は、例えば少なくとも約0.08、好ましくは少な
くとも約1.0、より好ましくは約0.08〜約1.5、とりわけ
約0.1〜約1.0、最適には約0.15〜約0.8であり得る。特
に断らない限り、比較した２つの材料における屈折率値
の差の大きさは重要であるが、1方の材料がもう1方の材
料よりも高い(または低い)屈折率を有するということで
はない。

【００３２】屈折率値は、CRC Handbook of Chemistry
and Physicsのような参考書を参照し、特定の材料につ
いて記載された値を検索することによって決定する。特
定の材料についての屈折率値がどの参考書にも載ってい
ない場合には、その材料の屈折率値は、公知の標準方法
によって測定する。

【００３３】バインダーの屈折率と異なる屈折率を有す
る光散乱粒子の選定は、適切な光散乱性の達成と合板効
果の削減に当って重要である。バインダーの典型的な屈
折率値1.54〜1.60と有意に異なる屈折率を有する光散乱
粒子用の適切な材料には、例えば、ヒュームドシリカ、
沈降シリカおよびシリカゲルのような合成非晶質シリカ
がある。また、同等の興味ある他の鉱物類には、酸化ア
ルミニウム(コランダム)、酸化アンチモン(方安鉱、ア
ンチモン華)、酸化砒素(ヒ華、クラウデタイト(Claudet
ite))、酸化鉄(ヘマタイト、マグネタイト)、酸化鉛(リ
サージ、鉛丹)、酸化マグネシウム(ペリクレース)、酸
化マンガン(黒マンガン鉱、マンガノサイト、軟マンガ
ン鉱)、酸化ニッケル(ブンゼン石)、酸化錫(スズ石)、
酸化チタン(チタン石)、酸化亜鉛(紅亜鉛鉱)、酸化ジル
コニウム(バデレーイット)、硫酸バリウム(重晶石)、硫
酸鉛(硫酸鉛鉱)、硫酸カリウム(アーカナイト(Arcanit
e))、硫酸ナトリウム(サーナダイト(Thernadite))、亜
硫酸アンチモン(輝安鉱)、硫化砒素(雄黄、鶏冠石)、硫
化カドミウム(硫カドミウム鉱)、硫化カルシウム(オル
ダマイト(Oldhamite))、硫化鉄(白鉄鉱、黄鉄鉱、磁硫
鉄鉱)、硫化鉛(方鉛鉱)、硫化亜鉛(セン亜鉛鉱、ウルツ
鉱)、炭酸バリウム(毒重石)、炭酸鉄(リョウ鉄鉱)、炭
酸鉛(白鉛鉱)、炭酸マグネシウム(マグネサイト)、炭酸
マンガン(菱マンガン鉱)、炭酸ナトリウム(サーモナト
ライト(Thermonatrite))、炭酸亜鉛(炭酸亜鉛鉱)、水酸
化アルミニウム(ベーマイト、ジアスポル、水バン土)、
水酸化鉄(針鉄鉱、レピドクロサイト(Lepidocrocit
e))、水酸化マンガン(ピドロクロイト(Pydrochroit
e))、塩化銅(ナントカイト(Nantokite))、塩化鉛(コチ
ュニット(Cotunnite))、塩化銀(角銀鉱)、沃化銀(ジョ
ディライト(Jodyrite)、ミアサイト(Miersite))、クロ
ム酸鉛(赤鉛鉱)、ケイ酸ベリリウム(フェナカイト)、ア
ルミノケイ酸ナトリウム(ソーダ沸石、メソライト(Meso
lite)、スコレサイト(Scolecite))、トマソナイト(Thom
asonite))、ケイ酸ジルコニウム(ジルコン)、並びに錐
輝石(エイギライン(Aegirine))、土イオウ(イオウ)、カ
ーボランダム(モイサナイト(Moissanite))、クロムスピ
ネル(クロム鉄鉱)、エプソン塩(エプソマイト)、ざくろ
石(鉄ばんざくろ石、紅ざくろ石、マンガンざくろ石)、
インドクレース(ヴェスブ石)、鉄スピネル(ヘルシナイ
ト)、リチオフィライト(トリフィリット)、褐れん石(ア
ラナイト(Allanite))、カンラン石(オリヴィン)、緑れ
ん石(エピドーテ(Epidote))、チタン石(せっ石)、硫酸
亜鉛等がある。光散乱粒子用の好ましい金属酸化物に
は、二酸化チタンおよび酸化亜鉛(即ち、ZnO)がある。

【００３４】所望に応じて、光散乱粒子は、シランカッ
プリング剤、チタネートカップリング剤、ジルコネート
カップリング剤、またはポリジメチルシロキサン等のポ
リアルキルシロキサンのようなポリマーからなる表面処
理物質による表面処理加工に供し得、この処理によっ
て、親水性を抑制し、疎水性または有機親和性を促進さ
せ、さらに恐らくは光散乱粒子とバインダーとの物理的
/化学的相互作用を改善し得る。この表面処理加工は、
例えば、バインダー、光散乱粒子、溶媒、および電荷ブ
ロッキング層中に見出される任意成分としての他の成分
を含有する電荷ブロッキング層分散液中の光散乱粒子の
分散安定性を改善し得る。

【００３５】表面処理物質の種類としては、アルコキシ
シラン化合物のようなシランカップリング剤；ケイ素と
結合したハロゲン、窒素、イオウ等の原子からなるシラ
ン化剤；チタネートカップリング剤；アルミニウムカッ
プリング剤等がある。不飽和結合を有するカップリング
剤の例には、下記のような化合物がある：アリルトリメ
トキシシラン、アリルトリエトキシシラン、3-(1-アミ
ノプロポキシ)-3,3-ジメチル-1-プロペニルトリメトキ
シシラン、(3-アクリロキシプロピル)トリメトキシシラ
ン、(3-アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラ
ン、(3-アシルオキシプロピル)ジメチルメトキシシラ
ン、N-3-(アクリロキシ-2-ヒドロキシプロピル)-3-アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、3-ブテニルトリエトキ
シシラン、2-(クロロメチル)アリルトリメトキシシラ
ン、1,3-ジビニルテトラメチルジシラザン、メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、O-(ビニロキシエ
チル)-N-(トリエトキシシリルプロピル)ウレタン、アリ
ルジメチルクロロシラン、アリルメチルジクロロシラ
ン、アリルジクロロシラン、アリルジメトキシシラン、
ブテニルメチルジクロロシラン等。

【００３６】光散乱粒子を上記表面処理物質で表面処理
する方法は、2つの広いカテゴリー、即ち、前処理法と
同時混合法がある。前処理法には、湿式法と乾式法があ
る。湿式法は、下記の2つのカテゴリーがある：直接溶
解法、エマルジョン法およびアミンアダクト法のような
水性処理方法；および溶媒処理方法。

【００３７】湿式法は、光散乱粒子を、有機溶媒または
水とその中に溶解または分散させた表面処理物質とを含
有する混合液中に混入し；得られた混合液を数分〜約1
時間攪拌し、必要に応じて、混合液を加熱処理し；さら
に、得られた光散乱粒子を濾別し、次いで光散乱粒子を
乾燥させる各工程を含む。また、表面処理物質を有機溶
媒または水とその中に分散させた光散乱粒子とを含有す
る混合液中に混入してもよく、その後の各工程は上記と
同じ方法で実施し得る。直接溶解法は水溶性の表面処理
物質を使用し、エマルジョン法は水乳化性の表面処理物
質を使用し、アミンアダクト法はリン酸残基を有する表
面処理物質を使用する。アミンアダクト法においては、
混合液にトリアルキルアミンまたはトリアルキロールア
ミンのような第3級アミンを添加し、それによって混合
液のpHを7〜10に調整し、且つ混合液を冷却しながら処
理して中和発熱反応による液温の上昇を抑制するのが好
ましい。湿式法においては、使用可能な表面処理物質
が、使用有機溶媒または水に可溶性または懸濁性の物質
に限定される。

【００３８】乾式法においては、表面処理物質を光散乱
粒子に直接加え、ミキサー等で攪拌する。光散乱粒子は
前以って乾燥させて粒子表面の水分を除去しておくのが
好ましい。例えば、光散乱粒子を、数rpm程度の速度で
回転させたヘンシェルミキサー等内で約100℃の温度で
予備乾燥させて、表面処理物質を加える。表面処理物質
を、光散乱粒子に加える前に、有機溶媒中に溶解または
分散させてもよい。この時点で、表面処理物質を乾燥空
気またはN₂ガスと一緒にスプレーすることにより、光散
乱粒子を表面処理物質と均一に混合し得る。表面処理物
質を加えた後、得られた混合物を、好ましくは、1000 r
pmを越えない速度で回転させたミキサー内で約80℃で10
分間攪拌する。同時混合法は、光散乱粒子とバインダー
の混練中に、光散乱粒子を表面処理するようように用い
る。

【００３９】光散乱粒子上の表面処理物質の量は、光散
乱粒子の重量基準で、例えば約0.01〜約30重量％の範囲
である。光散乱粒子上の表面処理物質の好ましい量は、
光散乱粒子の重量基準で約0.1〜約20重量％の範囲であ
る。

【００４０】電荷ブロッキング層中で用いる光散乱粒子
の量は、その表面粗さ、平均粒度、ブロッキング層中の
分散粒子の屈折率とバインダーの屈折率との差異度、お
よび乾燥させ架橋させたブロッキング層の厚さによる。
ブロッキング層に到達する照射エネルギーを有効に散乱
させて、各上部被覆層に反射して戻る照射光が実質的に
ないような十分の光散乱粒子が存在すべきである。光散
乱粒子は、電荷ブロッキング層中に、ブロッキング層の
重量基準で約2〜約60重量％、好ましくは約5〜約30重量
％の範囲の量で存在し得る。

【００４１】バインダーとして適する材料には、ポリビ
ニルブチラール、エポキシ樹脂、ポリエステル、フェノ
ール樹脂、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン
等のポリマー類；米国特許第4,338,387号、第4,286,033
号および第4,291,110号に記載されているようなトリメ
トキシシリルプロピルエチレンジアミン、N-ベータ(ア
ミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、4
-アミノベンゼンスルホニルチタン酸イソプロピル、ジ
(4-アミノベンゾイル)イソステアロイルチタン酸イソプ
ロピル、トリ(N-エチルアミノ)チタン酸イソプロピル、
トリアンスラニルチタン酸イソプロピル、トリ(N,N-ジ
メチル-エチルアミノ)チタン酸イソプロピル、チタニウ
ム-4-アミノベンゼンスルホネートオキシアセテート、
チタニウム 4-アミノベンゾエートイソステアレートオ
キシアセテート、γ-アミノプロピルメチルジメトキシ
シラン、およびγ-アミノプロピルトリメトキシシラン
のような窒素含有シロキサン類または窒素含有チタン化
合物類がある。バインダーは、DURITE（登録商標） P97
およびDURITE（登録商標） ESD-556Cのような線状フェ
ノール系組成物（共に、Borden Chemical社から入手可
能)、並びにVARCUN（登録商標） 29108 (OxyChem社から
入手可能)のような非線状フェノール系組成物であり得
る。バインダーは、乾燥ブロッキング層の重量基準で約
10〜約80重量％の範囲の量で存在し得る。

【００４２】電荷ブロッキング層は、例えばジフェノキ
ノンおよび二酸化チタンのようなn-タイプ粒子のような
電荷輸送材料、並びにポリビニルピリジンのような正孔
ブロッキング材料を含む他の成分も任意成分として含有
し得る。これらの任意成分は、ブロッキング層の重量基
準で0〜約80重量％の範囲の量で存在し得る。ブロッキ
ング層4は、連続であるべきで、例えば約0.01〜約10μ
m、好ましくは約0.05〜約5μmの範囲の厚さを有し得
る。

【００４３】ブロッキング層4は、スプレー法、ディッ
プコーティング法、延伸棒コーティング法、グラビアコ
ーティング法、シルクスクリーン法、エアナイフコーテ
ィング法、逆転ロールコーティング法、蒸着、化学処理
等のような任意の適当な方法によって塗布できる。薄層
を得るのに好都合なのは、ブロッキング層を好ましくは
稀溶液の形で塗布し、溶媒をコーティングの付着後に減
圧、加熱等によるような通常の方法により除去する。一
般に、約0.5：100〜約30：100のブロッキング層材料対
溶媒の重量比で、スプレーおよびディップコーティング
において満足できる結果が得られる。

【００４４】さらに、本発明は、電子写真感光体の製造
方法も提供し、この方法においては、電荷ブロッキング
層を、光散乱粒子、バインダー樹脂および溶媒からなる
コーティング液を用いることによって形成させる。

【００４５】溶媒は、C_1〜3の低級アルコールの共沸混
合物と、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロ
エタン、1,2-ジクロロプロパン、トルエンおよびテトラ
ヒドロフランからなる群から選ばれた他の有機溶媒との
混合物であり得る有機溶媒であり得る。上記の共沸混合
物は、液相の組成と蒸気相の組成がある圧力において互
いに一致して一定の沸点を有する混合物を生ずるような
混合溶液である。例えば、35重量部のメタノールと65重
量部の1,2-ジクロロエタンから成る混合物は共沸溶液で
ある。共沸組成物は、均一な蒸発をもたらし、それによ
ってコーティング欠陥のない均一な電荷ブロッキング層
を形成し、電荷ブロッキング層コーティング用溶液の貯
蔵安定性を改善する。

【００４６】溶媒は、約80(キシレン)/20(有機溶媒)〜
約20/80範囲の重量比のキシレンと有機溶媒の混合物で
あり得る。その有機溶媒は、好ましくはメタノール、エ
タノール、ブタノールまたはこれらの混合物のような低
級アルコール溶媒(即ち、1〜5個の炭素原子を有する)で
あるアルコールであり得る。キシレンとトルエンのよう
な炭化水素有機溶媒との混合物も使用できる。

【００４７】電荷ブロッキング層は、バインダー樹脂と
光散乱粒子を上記溶媒中に分散させてブロッキング層用
のコーティング液を調製し、導電性支持体をこのコーテ
ィング液でコーティングし乾燥させることによって形成
させる。溶媒は、溶媒中での分散性を改善し、且つ時間
経過につれてのゲル化からコーティング溶液を防止する
ように選択する。さらに、溶媒は、コーティング溶液の
組成が時間経過につれて変化するのを防止し、それによ
ってコーティング溶液の貯蔵安定性を改善し且つコーテ
ィング溶液を再生させ得るようにも使用できる。

【００４８】電荷ブロッキング分散液の固形分(即ち、
バインダーおよび光散乱粒子のような全固形分)は、分
散液の重量基準で例えば約２〜約50重量％の範囲であ
る。溶媒または2種以上の溶媒混合物は、電荷ブロッキ
ング分散液の重量基準で約50〜約98重量％の範囲の量で
存在し得る。各成分の適切な重量比は、下記のとおりで
ある：例えば約2(光散乱粒子)/98(バインダー)〜約60
(光散乱粒子)/40(バインダー)、好ましくは約5/95〜約4
0/60の範囲の光散乱粒子対バインダー比。

【００４９】接着層ブロッキング層と電荷発生層間の中間層5は、必要に応
じて、接着性を促進させるように塗布し得る。しかしな
がら、本発明においては、ディップコーティングしたア
ルミニウムドラムを接着層なしで使用し得る。

【００５０】さらに、接着層は、必要に応じて、感光体
内のどの層間においても使用し得、各隣接層の接着を確
実にすることができる。また、或いはさらに、接着材料
は、付着させる各々の層の片方または両方に混入させて
もよい。そのような任意層としての接着層は、好ましく
は、約0.01〜約0.2μmの厚さを有し得る。そのような接
着層は、例えば、接着材料を適切な溶媒中に溶解させ、
手コーティング、スプレーコーティング、ディップコー
ティング、延伸棒コーティング、グラビアコーティン
グ、シルクスクリーニング、エアナイフコーティング、
蒸着、化学処理、ロールコーティング、針金巻き棒コー
ティング等により塗布し、乾燥させて溶媒を除去するこ
とによって塗布できる。適し得る接着剤には、例えば、
ポリエステル、デュポン 49,000 (E. I. duPont de Nem
ours & Co.社から入手可能)、VitelPE-100 (Goodyear T
ire and Rubber社から入手可能)、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリメチル
メタクリレート等のようなフィルム形成性ポリマーがあ
る。接着層は、約50,000〜約100,000好ましくは約70,00
0のMwと好ましくは約35,000のMnを有するポリエステル
からなり得る。

【００５１】像形成層像形成層とは、電荷発生層、電荷輸送層、または電荷発
生層と電荷輸送層の両方を含有する1層以上の層を称す
る。n-タイプまたはp-タイプの電荷発生材料のいずれか
を、本発明の感光体において使用できる。

【００５２】用語“n-タイプ”とは、主として電子を輸
送する材料を称する。典型的なn-タイプ材料には、ジブ
ロモアンタンスロン、ベンズイミダゾールペリレン、酸
化亜鉛、二酸化チタン、クロロジアンブルーおよびビス
アゾ顔料のようなアゾ化合物類、置換2,4-ジブロモトリ
アジン類、多核芳香族キノン類、硫化亜鉛等がある。

【００５３】用語“p-タイプ”とは、正孔を輸送する材
料を称する。典型的なp-タイプ有機顔料には、例えば、
無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ガリ
ウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン、クロロガリウムフタロシアニン、銅フタロシアニン
等がある。

【００５４】例示としての有機光導電性電荷発生材料に
は、スダンレッド、ダイアンブルー、ジャヌスグリーン
B等のようなアゾ顔料；アルゴールイエロー、ピレンキ
ノン、インダンスレンブリリアントバイオレット RRP等
のようなキノン顔料；キノシアニン顔料；ベンズイミダ
ゾールペリレンのようなペリレン顔料；インジゴ、チオ
インジゴ等のようなインジゴ顔料；インドファストオレ
ンジ等のようなビスベンゾイミダゾール顔料；銅フタロ
シアニン、アルミノクロロフタロシアニン、ヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン等のようなフタロシアニン顔
料；キナクリドン顔料；またはアズレン化合物がある。
適し得る無機光導電性電荷発生には、例えば、硫化カド
ミウム、スルホセレン化カドミウム、セレン化カドミウ
ム、結晶性および非晶質セレン、酸化鉛および他のカル
コゲナイド類がある。セレン合金類も本発明の実施態様
に属し、例えば、セレン-砒素、セレン-テルル-砒素お
よびセレン-砒素がある。

【００５５】任意の適当な不活性樹脂バインダー材料
を、電荷発生層において使用できる。典型的な有機樹脂
バインダーには、ポリカーボネート、アクリレートポリ
マー、メタクリレートポリマー、ビニルポリマー、セル
ロースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリ
アミド、ポリウレタン、エポキシ、ポリビニルアセター
ル等がある。

【００５６】コーティング組成物として有用な分散液を
調製するには、溶媒を電荷発生材料と一緒に使用する。
溶媒は、例えば、シクロヘキサン、メチルエチルケト
ン、テトラヒドロフラン、アルキルアセテート、および
これらの混合物であり得る。アルキルアセテート(酢酸
ブチルおよび酢酸アミルのような)は、アルキル基中に3
〜5個の炭素原子を有し得る。コーティング組成物中の
溶媒の量は、組成物の重量基準で、例えば約70〜約98重
量％の範囲である。

【００５７】コーティング組成物中の電荷発生材料の量
は、溶媒を含む組成物の重量基準で、例えば約0.5〜約3
0重量％の範囲である。乾燥光導電性コーティング中に
分散させた光導電性粒子(即ち、電荷発生材料)の量は、
使用する特定の光導電性顔料粒子により、ある程度変化
する。例えば、チタニルフタロシアニンおよび無金属フ
タロシアニンのようなフタロシアニン有機顔料を用いる
場合、満足できる結果は、乾燥光導電性コーティング
が、乾燥光導電性コーティングの総重量基準で、約30〜
約90重量％の全フタロシアニン顔料を含むときに達成さ
れる。光導電特性はコーティングした平方センチ当りの
顔料の相対量に影響されるので、乾燥光導電性コーティ
ング層が厚めの場合、低めの顔料添加量を用いる。逆
に、乾燥光導電性層が薄めのときは、高めの顔料添加量
が望ましい。

【００５８】一般に、満足できる結果は、光導電性コー
ティングをディップコーティングによって塗布したとき
には、約0.6μｍ未満の平均光導電性粒子粒度において
達成される。好ましくは、平均光導電性粒子粒度は、約
0.4μｍ未満である。また、好ましくは、光導電性粒子
の粒度は、これら粒子を分散させる乾燥こそコーティン
グの厚さよりも小さめである。

【００５９】電荷発生層においては、電荷発生材料("CG
M")対バインダーの重量比は、30(CGM)：70(バインダー)
〜70(CGM)：30(バインダー)の範囲である。

【００６０】電荷発生層(光導電性層とも称する)と電荷
輸送層を含む多層型感光体においては、満足できる結果
は、約0.1〜約10μmの乾燥光導電性層厚において達成し
得る。好ましくは、光導電性層の厚さは、約0.2〜約4μ
mである。しかしながら、これらの厚さも、顔料添加量
に依存する。即ち、高めの顔料添加量は、薄めの光導電
性コーティングの使用を可能にする。上記範囲外の厚さ
も、本発明の目的が達成される限り使用できる。

【００６１】任意の適当な方法を用いて、光導電性粒子
をコーティング組成物のバインダーと溶媒中に分散させ
得る。典型的な分散方法には、例えば、ボールミリン
グ、ロールミリング、垂直攪拌器内でのミリング、サン
ドミリング等がある。ボールまたはロールミリングを用
いる典型的なミリング時間は、約4〜約6日間である。

【００６２】電荷輸送材料には、光励起された正孔の注
入を支持し或いは光導電性材料からの電子を輸送でき、
且つこれら正孔または電子の有機層を通しての輸送を可
能にして表面電荷を選択的に消散させ得る有機ポリマー
または非高分子材料がある。具体的な電荷輸送材料に
は、例えば、アンスラセン、ピレン、フェナンスレン、
コロネン等のような主鎖または側鎖中に多環式芳香族環
を有する化合物から選ばれた正正孔輸送材料、或いはイ
ンドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾ
ール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサ
ジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾー
ルおよびヒドラゾン化合物のような窒素含有へテロ環化
合物がある。典型的な正孔輸送材料には、カルバゾー
ル、N-エチルカルバゾール、N-イソプロピルカルバゾー
ル、N-フェニルカルバゾール、テトラフェニルピレン、
1-メチルピレン、ペリレン、クリセン、アンスラセン、
テトラフェン、2-フェニルナフタレン、アゾピレン、1-
エチルピレン、アセチルピレン、2,3-ベンゾクリセン、
2,4-ベンゾピレン、1,4-ブロモピレン、ポリ(N-ビニル
カルバゾール)、ポリ(ビニルピレン)、ポリ(ビニルテト
ラフェン)、ポリ(ビニルテトラセン)およびポリ(ビニル
ペリレン)のような電子供与体材料がある。適し得る電
荷輸送材料には、2,4,7-トリニトロ-9-フルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロ-フルオレノン、ジニトロアンス
ラセン、ジニトロアクリデン、テトラシアノピレン、ジ
ニトロアンスラキノンおよびブチルカルボニルフルオレ
ンマロノニトリルのような電子受容体がある(米国特許
第4,921,769号参照)。他の正孔輸送材料には、N,N'-ジ
フェニル-N,N'-ビス(アルキルフェニル)-(1,1'-ビフェ
ニル)-4,4'-ジアミン(アルキルは、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ヘキシル等からなる群より選ばれる)
のような米国特許第4,265,990号に記載されているアリ
ールアミンがある。他の公知の電荷輸送層分子も使用で
きる、例えば、米国特許第4,921,773号および第4,464,4
50号を参照されたい。

【００６３】任意の適当な不活性樹脂バインダーを、電
荷輸送層において使用できる。塩化メチレンに可溶性の
典型的な不活性樹脂バインダーには、ポリカーボネート
樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリア
リレート、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリエー
テル、ポリスルホン等がある。分子量は、約20,000〜約
150,000の範囲で変動し得る。

【００６４】電荷輸送層においては、電荷輸送材料("CT
M")対バインダーの重量比は、30(CTM)：70(バインダー)
〜70(CTM)：30(バインダー)の範囲である。

【００６５】任意の適当な方法を用いて、電荷輸送層と
電荷発生層を基体に塗布できる。典型的なコーティング
方法には、ディップコーティング、ロールコーティン
グ、スプレーコーティング、回転アトマイザー等があ
る。これらのコーティング方法においては、広範囲の固
形分濃度を使用できる。好ましくは、固形分含量は、分
散液の総重量基準で約2〜30重量％である。“固形分”
なる表現は、電荷発生層コーティング分散液の光導電性
顔料粒子とバインダー成分、並びに電荷輸送層コーティ
ング分散液の電荷輸送粒子とバインダー成分を称する。
これらの固形分濃度は、ディップコーティング、ロール
コーティングおよびスプレーコーティング等において有
用である。一般に、高めの濃度の分散液がロールコーテ
ィングにおいては好ましい。塗布したコーティングの乾
燥は、オーブン乾燥、赤外線照射乾燥、空気乾燥等のよ
うな任意の適当な通常の方法によって実施できる。一般
に、電荷発生層の厚さは約0.1〜約3μmの範囲であり、
電荷輸送層の厚さは約5〜約100μmであるが、これらの
範囲以外の厚さも使用できる。一般に、電荷輸送層対電
荷発生層の厚さの比は、約2：1〜200：1に維持するのが
好ましく、ある場合には、400：1ほどに高い。

【００６６】本明細書で説明した材料と手順を用いて、
バインダー、電荷発生材料および電荷輸送材料を含有す
る単一像形成層タイプの感光体を形成できる。例えば、
単一像形成層用の分散液の固形分含量は、分散液の重量
基準で約2〜約30重量％の範囲であり得る。

【００６７】像形成層が電荷発生層機能と電荷輸送層機
能を兼ね備えた単一層である場合、層中に含有される各
成分の具体的量は、下記のとおりである：電荷発生材料
(約5〜約40重量％)、電荷輸送材料(約20〜約60重量％)
およびバインダー(像形成層の残余)。

【００６８】オーバーコーティング層本発明に従う諸実施態様においては、必要に応じて、単
数または複数のオーバーコーティング層8をさらに含み
得、これらの層は、使用する場合、電荷発生層上または
電荷輸送層上に位置させる。この層は、電気絶縁性また
は僅かに半導電性の有機ポリマーまたは無機ポリマーを
含む。そのようなオーバーコーティング層は、電荷輸送
層材料で必要に応じてドープ化したフィルム形成性バイ
ンダーを含む。

【００６９】任意の適当なフィルム形成性不活性樹脂バ
インダーを、本発明のオーバーコーティング層において
使用できる。例えば、このフィルム形成性バインダー
は、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエ
ーテルイミド、ポリフェニレンビニレンおよびポリアク
リレートのような数多くの樹脂の内の任意のものであ
る。オーバーコーティング層において用いる樹脂バイン
ダーは、存在し得るカール防止層中または電荷輸送層中
で使用した樹脂バインダーと同じものまたは異なるもの
であってもよい。バインダー樹脂は、約2×10⁵ psi (0.
14×10⁵ g/cm²)より大きいヤング率、10％を越えない破
壊伸び、および約150℃よりも高いガラス転移温度を有
する。バインダーは、さらに、バインダー混合物であり
得る。好ましい高分子フィルム形成性バインダーには、
Farbenfabriken Bayer社から入手可能な重量平均分子量
約50,000〜約100,000を有するポリカーボネートであるM
AKROLON^TM、三菱化学社から入手可能な4,4'-シクロヘキ
シリデンジフェニルポリカーボネート、General Electr
ic社から入手可能な高分子量LEXAN^TM、Union Carbide社
から入手可能なARDEL^TMポリアリレート DE-100、および
MAKROLON^TMとGoodyear Tire and Rubber社から入手可能
なコポリエステルVITEL^TM PE-100またはVITEL^TM PE-200
とのポリマーブレンドがある。

【００７０】各実施態様において、オーバーコーティン
グ層の約1〜約10重量％のVITEL^TMコポリマーがブレンド
組成物において好ましく、より好ましいのは約3〜約7重
量％である。オーバーコーティング層において樹脂とし
て使用できる他のポリマーには、Celanese社からのDURE
L^TMポリアリレート；General Electric社からのポリカ
ーボネートコポリマー LEXAN^TM 3250、LEXAN^TM PPC 450
1およびLEXAN^TM PPC 4701；およびDow社からのCALIBRE
^TMがある。

【００７１】添加剤は、オーバーコーティング層の約0.
5〜約40重量％の範囲でオーバーコーティング層中に存
在し得る。好ましい添加剤には、耐磨耗性をさらに改善
しおよび/または電荷緩和特性を与え得る有機および無
機粒子がある。好ましい有機粒子には、テフロン（登録
商標）粉末、カーボンブラックおよびグラファイト粒子
がある。好ましい無機粒子には、シリカ、酸化亜鉛、酸
化錫等のような絶縁性および半導電性の金属酸化物粒子
がある。他の半導電性添加剤は、米国特許第5,853,906
号に記載されているような酸化型オリゴマー塩である。
好ましいオリゴマー塩は、酸化したN,N,N',N'-テトラ-p
-トリル-4,4'-ビフェニルジアミン塩である。

【００７２】オーバーコーティング層は、任意の適当な
通常の方法によって調製し、多くの塗布方法のいずれか
によって塗布できる。典型的な塗布方法には、例えば、
手コーティング、スプレーコーティング、ウェブコーテ
ィング、ディップコーティング等がある。付着コーティ
ングの乾燥は、オーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等
のような任意の適当な通常の方法によって実施できる。

【００７３】約3〜約7μmのオーバーコーティングが、
電荷輸送分子の漏出、結晶化、および電荷輸送層の亀裂
を防止するのに有効である。好ましくは、約3〜約5μm
の厚さを有する層を用いる。

【００７４】接地ストリップ接地ストリップ9は、フィルム形成性バインダーと導電
性粒子を含み得る。セルロースを用いて導電性粒子を分
散させ得る。任意の適当な導電性粒子を導電性接地スト
リップ層9において使用できる。接地ストリップ9は、例
えば、米国特許第4,664,995号に列挙されている材料の
ような材料を含み得る。典型的な導電性粒子には、限定
するものではないが、カーボンブラック、グラファイ
ト、銅、銀、金、ニッケル、タンタル、クロム、ジルコ
ニウム、バナジウム、ニオブ、インジウム酸化錫等があ
る。

【００７５】導電性粒子は、任意の適当な形状を有し得
る。典型的な形状には、不規則形、顆粒形、球形、楕円
形、立方形、フレーク、フィラメント等がある。好まし
くは、導電性粒子は、導電性接地ストリップ層の厚さよ
りも小さい粒度を有して、導電性接地ストリップ層が過
度に不規則な外表面を有するのを回避すべきである。約
10μm未満の平均粒度が、乾燥接地ストリップ層の外表
面での導電性粒子の過度の突出を回避し、乾燥接地スト
リップ層マトリックス中での導電性粒子の比較的均一な
分散を確実にする。接地ストリップにおいて使用する導
電性粒子の濃度は、使用する特定の導電性材料の導電度
のような要因に依存する。各実施態様において、接地ス
トリップ層は、約7〜約42μm、好ましくは約14〜約27μ
mの厚さを有し得る。

【００７６】（発明を実施するための最良の形態）実施例以下の実施例において、すべてのパーセントおよび部
は、特に断らない限り重量による。

【００７７】各実施例における光散乱粒子の表面積の測
定手順表面積は、Micromeritics モデル ASAP 2405によるBET
測定によって測定した。約0.25 gの粒子サンプルをチャ
ンバー内に入れ、BET分析前の2日間完全真空下に50℃で
脱ガスした。次いで、真空を解除し、窒素ガスをチャン
バー内に液体窒素源から加えて所望の分圧とした。加え
た窒素容量をモニターし、記録した。このプロセスを、
0.08〜0.25の相対圧範囲において26の異なる分圧におい
て繰返した。表面積は、BET理論に従い、吸着質として
窒素ガスを77ケルビン(LN₂)で用いて測定した。

【００７８】合板効果についてのプリント試験各感光体像形成サンプルを、周囲条件下の4517 Xeroxプ
リンターで、合板プリント質について評価した。ワン・
オン・ツー・オフ(one-on-two-off)プリント像をプリント
出力に用いた。次いで、得られたプリントを合板欠陥に
ついて評価した。均一な無彩色濃度(gray density)のプ
リントアウトは、許容し得るプリント質であった。合板
模様に似た大面積の不均一濃度は、許容し得なかった。

【００７９】実施例1 電荷ブロッキング層を、80重量％のTiO₂と20重量％のフ
ェノール形バインダー組成物からなるコーティング分散
体から形成させた。電荷ブロッキング層コーティング分
散体は、40 gの針状TiO₂粒子(STR60N、Saikai Chemical
社から入手可能)を、1：1重量比のキシレン/n-ブタノー
ル溶媒混合物75 g中に溶解させた10 gの線状フェノール
系バインダー組成物 (VARCUM（登録商標） 29112、OxyC
hem社から入手可能)の溶液に分散させることによって調
製した。この分散液を、直径0.4mmのジルコニウム球を
含むアトライター(Szegvariアトライターシステム、Uni
on Process社から入手可能)内で4時間ミリングした。分
散液中の平均TiO₂粒度を測定したところ、0.12μmであ
った。次に、このTiO₂分散液に、5 gmのシリカ粒子(Amo
rphous Silica 100、数平均粒度 1.7μm、窒素BET比表
面積 234 m²/gm、Espirit Chenical社から入手)を加え
た。Amorphous Silica 100は、表面処理してポリジメチ
ルシロキサンのオーバーコーティングを有する非晶質シ
リカ粒子であった。次いで、この分散液を24時間ロール
処理した。その後、得られた分散液を直径30 mmの平滑
表面アルミニウムドラム基体上にディップコーティング
させ、150℃の温度で30分間乾燥させてブロッキング層
を得た。得られた乾燥ブロッキング層コーティングは、
極めて均一で不透明であった。この乾燥ブロッキング層
フィルムは、約3μmの厚さを有していた。

【００８０】電荷発生層コーティング分散液を、1：1重
量比のキシレン/n-ブタノール溶媒混合物368 g中に溶解
させた10 gのVMCH(Union Carbide社から入手可能)の溶
液中に、平均粒度約0.4μmを有する塩化ガリウムフタロ
シアニン粒子22 gを分散させることによって調製した。
VMCHは、86重量％の塩化ビニル、13重量％の酢酸ビニル
および1重量％のマレイン酸からなり、約27,000の分子
量を有していた。この分散液を、直径0.4 mmのジルコニ
ウム球を含むダイノミル(dynomill)ミル(KDL、GlenMill
社から入手可能)内で4時間ミリングした。上記電荷ブロ
ッキング層コーティングを有するドラムをこの電荷発生
層コーティング分散液中にディッピングし、20 cm/分の
速度で引いた。得られたコーティングドラムを風乾させ
て、0.5μm厚の電荷発生層を形成させた。

【００８１】80 gのモノクロロベンゼンと320 gのテト
ラヒドロフランを含有する溶媒混合物中に溶解させた40
gのN,N'-ジフェニル-N,N'-ビス（メチルフェニル）-
（1,1'-ビフェニル）-4,4'-ジアミンと60 gのポリ(4,4'
-ジフェニル-1,1'-シクロヘキサンカーボネート)(PCZ 4
00、三菱化学社から入手可能)を含有する電荷輸送層コ
ーティング溶液を調製した。この電荷輸送層コーティン
グ溶液を、上記コーティングドラム上に、ドラムをこの
電荷輸送層コーティング溶液中にディッピングし150 cm
/秒の速度で引くことによって塗布した。コーティング
したドラムを110℃で20分間乾燥させて20μm厚の電荷輸
送層を形成させた。得られた感光体ドラムをプリント試
験した。無彩色プリントは、合板模様がなく均一であっ
た。

【００８２】比較例１実施例1で述べた手順を繰返したが、ブロッキング層を
シリカ粒子でドーピングしなかった。乾燥ブロッキング
層は、均一で極めて透明であった。得られた感光体をプ
リント試験した。無彩色レベルのプリントは、明白な合
板模様を有して不均一であった。

【００８３】比較例2 実施例１で述べた手順を繰返したが、SiO₂粒子を混合し
た後、分散液をダイノミルに12回通してミリングした。
ダイノミル処理は、電荷発生体層分散液に対する実施例
1における処理と同じであった。そのようなミリング処
理は、SiO₂粒子を破壊した。次いで、得られたブロッキ
ング層分散液を実施例1で述べた平滑基体上にコーティ
ングした。乾燥コーティングを電子顕微鏡で検査した。
その時、コーティング内部のSiO₂粒子の粒度を測定し
た。コーティング内の平均SiO₂粒度は、上記のダイノミ
ル処理により0.7μmに低下していた。感光体サンプル
は、ブロッキング層としてコーティングしたこの分散液
により作成した。得られたブロッキング層は、均一であ
り僅かに曇っていた。得られた感光体をプリント試験し
た。無彩色レベルのプリントは、合板模様を有して不均
一であった。

【００８４】比較例3 実施例1において述べた手順を繰返したが、球形SiO₂粒
子(KE-P100、1μm径、Espirit Chemical社から入手可
能)をAmorphous Silica 100の代りに加えた。これらの
シリカ粒子は、3.45 m²/gmの窒素BET比表面積を有す
る。感光体サンプルは、ブロッキング層としてコーティ
ングしたこの分散液により作成した。得られたブロッキ
ング層は、均一であり僅かに曇っていた。得られた感光
体をプリント試験した。無彩色レベルのプリントは、合
板模様を有して不均一であった。

【００８５】比較例4 実施例1において述べた手順を繰返したが、モノ分散型
球形ポリマー粒子(Epostar S-6、0.6μm径、Espirit Ch
emical社から入手可能)をAmorphous Silica 100の代り
に加えた。これらのポリマー粒子は、架橋メラニンとベ
ンゾグアナミン樹脂から調製されていた。これらのポリ
マー粒子は、2 m²/gmの窒素BET比表面積を有する。感光
体サンプルは、ブロッキング層としてコーティングした
この分散液により作成した。得られたブロッキング層
は、均一であり僅かに曇っていた。得られた感光体をプ
リント試験した。無彩色レベルのプリントは、合板模様
を有して不均一であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光体の第1の実施態様の簡略化した
側面図である。

【図２】本発明の感光体の第2の実施態様の簡略化した
側面図である。

【図３】本発明の感光体の第3の実施態様の簡略化した
側面図である。

フロントページの続き (72)発明者ジョンエスチャンバースアメリカ合衆国ニューヨーク州 14620 ロチェスターニコルソンストリート 31 (72)発明者ヒョイジェンユーアメリカ合衆国ニューヨーク州 14534 ピッツフォードフォールメドードライヴ 31 (72)発明者ハロルドエフハモンドアメリカ合衆国ニューヨーク州 14580 ウェブスターアピアンドライヴ 1143 Ｆターム(参考） 2H068 AA21 AA44 AA49 FA17 FB07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】 (a) 基体；(b) バインダー中に分散させ
た複数の光散乱粒子を含み、これらの光散乱粒子がバイ
ンダーと異なる屈折率、約0.8μmよりも大きい数平均粒
度、および約50 m²/gmよりも大きい比表面積により形成
された表面粗さとを有するような電荷ブロッキング層；
および(c) 像形成層を含む感光体。