JP2002005915A - ガスクロマト装置 - Google Patents
ガスクロマト装置Info
- Publication number
- JP2002005915A JP2002005915A JP2000187452A JP2000187452A JP2002005915A JP 2002005915 A JP2002005915 A JP 2002005915A JP 2000187452 A JP2000187452 A JP 2000187452A JP 2000187452 A JP2000187452 A JP 2000187452A JP 2002005915 A JP2002005915 A JP 2002005915A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- pressure
- measured
- sampling
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガスクロマト装置において、大気圧に変化が
あっても高精度の分析結果を得る。 【解決手段】 ガスクロマト装置は、サンプリングガス
を供給するサンプリングガス供給部１０と、サンプリン
グガスを一定量採取するガスサンプリング部１１と、採
取したサンプルガスを各ガス成分に分離するガス成分分
離部１２と、分離した各ガス成分の成分量を検出し、そ
の成分量に応じたピーク波形を出力するガス成分量検出
部１３と、ピーク波形の面積と、装置本体調整時に予め
設定したピーク波形の基準面積とを比較して、サンプル
ガス中の各ガス成分濃度を算出するデータ処理部１４と
を備えている。このようなガスクロマト装置において、
サンプルガスを採取するときのサンプルガスの圧力を検
出する圧力検出器１６と、圧力検出器１６での検出圧力
と、装置本体調整時に予め設定した基準圧力との比較を
行って、サンプルガス中の各ガス成分濃度を補正する補
正演算部１５とを設ける。
あっても高精度の分析結果を得る。 【解決手段】 ガスクロマト装置は、サンプリングガス
を供給するサンプリングガス供給部１０と、サンプリン
グガスを一定量採取するガスサンプリング部１１と、採
取したサンプルガスを各ガス成分に分離するガス成分分
離部１２と、分離した各ガス成分の成分量を検出し、そ
の成分量に応じたピーク波形を出力するガス成分量検出
部１３と、ピーク波形の面積と、装置本体調整時に予め
設定したピーク波形の基準面積とを比較して、サンプル
ガス中の各ガス成分濃度を算出するデータ処理部１４と
を備えている。このようなガスクロマト装置において、
サンプルガスを採取するときのサンプルガスの圧力を検
出する圧力検出器１６と、圧力検出器１６での検出圧力
と、装置本体調整時に予め設定した基準圧力との比較を
行って、サンプルガス中の各ガス成分濃度を補正する補
正演算部１５とを設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定ガス中の各
ガス成分の濃度を検出するガスクロマト装置に関する。
ガス成分の濃度を検出するガスクロマト装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の代表的なガスクロマト装置につい
て、その構成と動作を説明する。ガスクロマト装置は、
図６に示すように、被測定されるサンプリングガスをガ
スクロマト装置に導入するサンプリングガス供給部１
と、このサンプリングガス供給部１に配管接続されサン
プリングガス中から一定量のサンプルガスを採取するガ
スサンプリング部２と、ガスサンプリング部２で採取さ
れキャリアガスと共に送られてくるサンプルガスを各ガ
ス成分に分離するガス成分分離部３と、ガス成分分離部
３で分離したガス成分とキャリアガスの混合ガスからガ
ス成分量を検出するガス成分量検出部４と、ガス成分量
検出部４の信号を入力してサンプルガスの組成を算出す
るデータ処理部５と、を備えている。
て、その構成と動作を説明する。ガスクロマト装置は、
図６に示すように、被測定されるサンプリングガスをガ
スクロマト装置に導入するサンプリングガス供給部１
と、このサンプリングガス供給部１に配管接続されサン
プリングガス中から一定量のサンプルガスを採取するガ
スサンプリング部２と、ガスサンプリング部２で採取さ
れキャリアガスと共に送られてくるサンプルガスを各ガ
ス成分に分離するガス成分分離部３と、ガス成分分離部
３で分離したガス成分とキャリアガスの混合ガスからガ
ス成分量を検出するガス成分量検出部４と、ガス成分量
検出部４の信号を入力してサンプルガスの組成を算出す
るデータ処理部５と、を備えている。
【０００３】サンプリングガス供給部１は弁を有し、こ
の弁を開くとサンプリングガスがガスサンプリング部２
に供給され、そのサンプリングガスはガスサンプリング
部２内のサンプルガス計量管（図示省略）を通って排気
される。このとき、ガスサンプリング部２には、もう一
方のラインを介してキャリアガスが供給されており、こ
のキャリアガスはガス成分分離部３およびガス成分量検
出部４を通って排気されている。
の弁を開くとサンプリングガスがガスサンプリング部２
に供給され、そのサンプリングガスはガスサンプリング
部２内のサンプルガス計量管（図示省略）を通って排気
される。このとき、ガスサンプリング部２には、もう一
方のラインを介してキャリアガスが供給されており、こ
のキャリアガスはガス成分分離部３およびガス成分量検
出部４を通って排気されている。
【０００４】サンプリングガス供給部１は、サンプリン
グガス供給開始から一定時間経過して、サンプルガス計
量管の内部が十分にサンプリングガスで充たされた後に
閉じられる。サンプルガス計量管後流の排気配管は適切
な場所で大気開放されており、サンプリングガス供給部
１が閉じてサンプルガス計量管内の圧力が大気圧と同等
になると、ガスサンプリング部２は一定量のサンプルガ
スを採取する。採取したサンプルガスは、一定流量のキ
ャリアガスでガス成分分離部３に運ばれる。
グガス供給開始から一定時間経過して、サンプルガス計
量管の内部が十分にサンプリングガスで充たされた後に
閉じられる。サンプルガス計量管後流の排気配管は適切
な場所で大気開放されており、サンプリングガス供給部
１が閉じてサンプルガス計量管内の圧力が大気圧と同等
になると、ガスサンプリング部２は一定量のサンプルガ
スを採取する。採取したサンプルガスは、一定流量のキ
ャリアガスでガス成分分離部３に運ばれる。
【０００５】ガス成分分離部３はカラムシステムによっ
て構成され、サンプルガスを各ガス成分に分離する。分
離されたガス成分は、キャリアガスによってガス成分と
キャリアガスの混合ガスとして所定の順序とタイミング
でガス成分量検出部４に運ばれる。
て構成され、サンプルガスを各ガス成分に分離する。分
離されたガス成分は、キャリアガスによってガス成分と
キャリアガスの混合ガスとして所定の順序とタイミング
でガス成分量検出部４に運ばれる。
【０００６】ガス成分量検出部４は、各ガス成分量に対
応したガスクロマトのピーク波形をデータ処理部５に出
力する。データ処理部５は所定の方法、例えば面積式な
らば各ガス成分のピーク波形面積を計算し、予め設定し
た基準濃度・基準面積との比でサンプルガス中の各ガス
成分濃度を求める。
応したガスクロマトのピーク波形をデータ処理部５に出
力する。データ処理部５は所定の方法、例えば面積式な
らば各ガス成分のピーク波形面積を計算し、予め設定し
た基準濃度・基準面積との比でサンプルガス中の各ガス
成分濃度を求める。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の技術
では、サンプルガス採取時にサンプリングガスの供給を
停止することによって、後流が大気開放されているサン
プルガス計量管内の圧力は大気圧と同等となり、一定体
積のサンプルガス計量管で一定量のサンプルガスが採取
できるとものとみなしていた。
では、サンプルガス採取時にサンプリングガスの供給を
停止することによって、後流が大気開放されているサン
プルガス計量管内の圧力は大気圧と同等となり、一定体
積のサンプルガス計量管で一定量のサンプルガスが採取
できるとものとみなしていた。
【０００８】しかし、大気圧は気象条件によって常に変
化しており、その変化幅は１気圧の数％に達する場合も
ある。このため大気圧と同等の圧力下で採取した一定体
積のサンプルガスは一定量とならず、サンプルガスのモ
ル数は大気圧変化と同様に変化する。このモル数変化
は、ガスクロマトのピーク波形面積の変化となり、サン
プルガス中の各ガス成分濃度計算結果の精度低下や再現
性の低下を招く要因になっている。
化しており、その変化幅は１気圧の数％に達する場合も
ある。このため大気圧と同等の圧力下で採取した一定体
積のサンプルガスは一定量とならず、サンプルガスのモ
ル数は大気圧変化と同様に変化する。このモル数変化
は、ガスクロマトのピーク波形面積の変化となり、サン
プルガス中の各ガス成分濃度計算結果の精度低下や再現
性の低下を招く要因になっている。
【０００９】また、ガス成分分離部のカラムシステム
は、ガス成分分離特性が変化するので、適切な時期にそ
の変化に対応したガスクロマト装置の調整を行い、デー
タ処理部の基準濃度・基準面積も再設定しなければなら
ない。再設定した基準濃度・基準面積は、調整時の大気
圧下で採取したサンプルガスをベースにしているので、
その後の通常分析時の大気圧との間に差があれば、各ガ
ス成分濃度の計算結果に差を生じる要因となる。
は、ガス成分分離特性が変化するので、適切な時期にそ
の変化に対応したガスクロマト装置の調整を行い、デー
タ処理部の基準濃度・基準面積も再設定しなければなら
ない。再設定した基準濃度・基準面積は、調整時の大気
圧下で採取したサンプルガスをベースにしているので、
その後の通常分析時の大気圧との間に差があれば、各ガ
ス成分濃度の計算結果に差を生じる要因となる。
【００１０】本発明の目的は、ガスクロマト装置におい
て、大気圧等に変化があっても高精度の分析結果を得る
ことができ、かつ再現性の安定を図ることである。
て、大気圧等に変化があっても高精度の分析結果を得る
ことができ、かつ再現性の安定を図ることである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、被測定ガスを一定圧力かつ一定温度で供
給するガス供給手段と、ガス供給手段から供給されてく
る被測定ガスを一定量採取するサンプリング手段と、サ
ンプリング手段で採取した被測定ガスを各ガス成分に分
離するガス成分分離手段と、ガス成分分離手段で分離し
た各ガス成分の成分量を検出し、その成分量に応じたピ
ーク波形を出力するガス成分量検出手段と、ガス成分量
検出手段から出力されるピーク波形の面積と、ガスクロ
マト装置本体調整時に予め設定したピーク波形の基準面
積とを比較して、被測定ガス中の各ガス成分濃度を算出
するデータ処理手段とを備えたガスクロマト装置におい
て、サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、圧力検出手
段での検出圧力と、ガスクロマト装置本体調整時に予め
設定した基準圧力との比較を行って、被測定ガス中の各
ガス成分濃度を補正する補正手段とを備えたことを特徴
としている。
に、本発明は、被測定ガスを一定圧力かつ一定温度で供
給するガス供給手段と、ガス供給手段から供給されてく
る被測定ガスを一定量採取するサンプリング手段と、サ
ンプリング手段で採取した被測定ガスを各ガス成分に分
離するガス成分分離手段と、ガス成分分離手段で分離し
た各ガス成分の成分量を検出し、その成分量に応じたピ
ーク波形を出力するガス成分量検出手段と、ガス成分量
検出手段から出力されるピーク波形の面積と、ガスクロ
マト装置本体調整時に予め設定したピーク波形の基準面
積とを比較して、被測定ガス中の各ガス成分濃度を算出
するデータ処理手段とを備えたガスクロマト装置におい
て、サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、圧力検出手
段での検出圧力と、ガスクロマト装置本体調整時に予め
設定した基準圧力との比較を行って、被測定ガス中の各
ガス成分濃度を補正する補正手段とを備えたことを特徴
としている。
【００１２】上記構成によれば、大気圧が変化して、採
取した被測定ガスのモル数が変化すると、ガスクロマト
のピーク波形の面積も変化するが、補正手段が、圧力検
出手段での検出圧力と、ガスクロマト装置本体調整時に
予め設定した基準圧力との比較を行って補正を行うの
で、被測定ガス中の各ガス成分の濃度は高精度に分析さ
れ、また再現性の低下を招くこともない。
取した被測定ガスのモル数が変化すると、ガスクロマト
のピーク波形の面積も変化するが、補正手段が、圧力検
出手段での検出圧力と、ガスクロマト装置本体調整時に
予め設定した基準圧力との比較を行って補正を行うの
で、被測定ガス中の各ガス成分の濃度は高精度に分析さ
れ、また再現性の低下を招くこともない。
【００１３】また、本発明は、被測定ガスを一定圧力か
つ一定温度で供給するガス供給手段と、ガス供給手段か
ら供給されてくる被測定ガスを一定量採取するサンプリ
ング手段と、サンプリング手段で採取した被測定ガスを
各ガス成分に分離するガス成分分離手段と、ガス成分分
離手段で分離した各ガス成分の成分量を検出するガス成
分量検出手段と、ガス成分量検出手段で検出した各ガス
成分の成分量データを取り込んで、被測定ガス中の各ガ
ス成分濃度を算出するデータ処理手段とを備えたガスク
ロマト装置において、サンプリング手段で被測定ガスを
採取するときの被測定ガスの温度を検出する温度検出手
段と、温度検出手段での検出温度と予め設定した基準温
度との比較を行って、被測定ガス中の各ガス成分濃度を
補正する補正手段とを備えたことを特徴としている。
つ一定温度で供給するガス供給手段と、ガス供給手段か
ら供給されてくる被測定ガスを一定量採取するサンプリ
ング手段と、サンプリング手段で採取した被測定ガスを
各ガス成分に分離するガス成分分離手段と、ガス成分分
離手段で分離した各ガス成分の成分量を検出するガス成
分量検出手段と、ガス成分量検出手段で検出した各ガス
成分の成分量データを取り込んで、被測定ガス中の各ガ
ス成分濃度を算出するデータ処理手段とを備えたガスク
ロマト装置において、サンプリング手段で被測定ガスを
採取するときの被測定ガスの温度を検出する温度検出手
段と、温度検出手段での検出温度と予め設定した基準温
度との比較を行って、被測定ガス中の各ガス成分濃度を
補正する補正手段とを備えたことを特徴としている。
【００１４】上記構成によれば、温度検出器で検出した
温度を熱力学温度とすると、大気圧が変化して、採取し
た被測定ガスのモル数が変化したときに、温度検出器で
の検出温度にも変化が現れるので、補正手段が、温度検
出手段での検出温度と、予め設定した基準圧力との比較
を行って補正を行うことにより、被測定ガス中の各ガス
成分の濃度を高精度に分析できる。なお、この場合、基
準温度はガスクロマト装置本体調整時に設定した温度で
ある。
温度を熱力学温度とすると、大気圧が変化して、採取し
た被測定ガスのモル数が変化したときに、温度検出器で
の検出温度にも変化が現れるので、補正手段が、温度検
出手段での検出温度と、予め設定した基準圧力との比較
を行って補正を行うことにより、被測定ガス中の各ガス
成分の濃度を高精度に分析できる。なお、この場合、基
準温度はガスクロマト装置本体調整時に設定した温度で
ある。
【００１５】また、サンプリング手段で被測定ガスを採
取するときの被測定ガスの圧力を検出する圧力検出手段
と、サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの温度を検出する温度検出手段とを設け、補正
手段が、圧力検出手段での検出圧力と予め設定した基準
圧力との比較、および温度検出手段での検出温度と予め
設定した基準温度との比較を行って、被測定ガス中の各
ガス成分濃度を補正するように構成することもできる。
取するときの被測定ガスの圧力を検出する圧力検出手段
と、サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの温度を検出する温度検出手段とを設け、補正
手段が、圧力検出手段での検出圧力と予め設定した基準
圧力との比較、および温度検出手段での検出温度と予め
設定した基準温度との比較を行って、被測定ガス中の各
ガス成分濃度を補正するように構成することもできる。
【００１６】なお、圧力検出手段で検出する圧力と基準
圧力は絶対圧力である。
圧力は絶対圧力である。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従って説明する。 （実施の形態１）図１は、本発明の実施の形態１による
ガスクロマト装置の概略構成を示している。図１に示す
ように、本実施の形態のガスクロマト装置は、サンプリ
ングガス供給部１０、ガスサンプリング部１１、ガス成
分分離部１２、ガス成分量検出部１３、データ処理部１
４、補正演算部１５、および大気圧検出器１６を備えて
いる。
に従って説明する。 （実施の形態１）図１は、本発明の実施の形態１による
ガスクロマト装置の概略構成を示している。図１に示す
ように、本実施の形態のガスクロマト装置は、サンプリ
ングガス供給部１０、ガスサンプリング部１１、ガス成
分分離部１２、ガス成分量検出部１３、データ処理部１
４、補正演算部１５、および大気圧検出器１６を備えて
いる。
【００１８】サンプリングガス供給部１０にはサンプリ
ングガスが一定圧力かつ一定温度で送られてきており、
サンプリングガス供給部１０の弁を開くと、サンプリン
グガスがガスサンプリング部１１へ供給される。
ングガスが一定圧力かつ一定温度で送られてきており、
サンプリングガス供給部１０の弁を開くと、サンプリン
グガスがガスサンプリング部１１へ供給される。
【００１９】ガスサンプリング部１１にはサンプルガス
計量管（図示省略）が設けられ、サンプリングガス供給
部１０から供給されてきたサンプリングガスはサンプル
ガス計量管を流れて排気される。一方、ガスサンプリン
グ部１１にはキャリアガスのラインが接続されており、
サンプルガス軽量管内にサンプリングガスが充たされて
いる状態でサンプリングガス供給部１０の弁を閉じて、
サンプルガス計量管をキャリアガスのライン側に切り換
えると、一定量のサンプルガスを採取することができ
る。このとき、ガスクロマト装置周辺の大気圧Ｐは大気
圧検出器１６で検出される。また、採取したサンプルガ
スは一定量のキャリアガスに搬送されてガス成分分離部
１２へ送られる。
計量管（図示省略）が設けられ、サンプリングガス供給
部１０から供給されてきたサンプリングガスはサンプル
ガス計量管を流れて排気される。一方、ガスサンプリン
グ部１１にはキャリアガスのラインが接続されており、
サンプルガス軽量管内にサンプリングガスが充たされて
いる状態でサンプリングガス供給部１０の弁を閉じて、
サンプルガス計量管をキャリアガスのライン側に切り換
えると、一定量のサンプルガスを採取することができ
る。このとき、ガスクロマト装置周辺の大気圧Ｐは大気
圧検出器１６で検出される。また、採取したサンプルガ
スは一定量のキャリアガスに搬送されてガス成分分離部
１２へ送られる。
【００２０】ガス成分分離部１２にはカラムシステムが
設けられており、各ガス成分の粘性係数や沸点や極性に
よって、サンプルガスをガス成分毎に分離する。分離さ
れたガス成分は、キャリアガスによってガス成分とキャ
リアガスの混合ガスとして所定の順序とタイミングでガ
ス成分量検出部１３へ送られる。
設けられており、各ガス成分の粘性係数や沸点や極性に
よって、サンプルガスをガス成分毎に分離する。分離さ
れたガス成分は、キャリアガスによってガス成分とキャ
リアガスの混合ガスとして所定の順序とタイミングでガ
ス成分量検出部１３へ送られる。
【００２１】ガス成分量検出部１３は、図２に示すよう
なガス成分量に対応したガスクロマトのピーク波形を求
め、そのピーク波形のデータをデータ処理部１４に出力
する。
なガス成分量に対応したガスクロマトのピーク波形を求
め、そのピーク波形のデータをデータ処理部１４に出力
する。
【００２２】一方、補正演算部１５は、大気圧検出器１
６で検出した大気圧Ｐと、予め設定したサンプルガス計
量管内の基準圧力Ｐ０との比Ｐ／Ｐ０を演算する。Ｐ０
を絶対圧力とすれば、サンプリングしたサンプルガスの
モル数と予め設定したサンプルガスのモル数の比は、比
Ｐ／Ｐ０に比例するので、補正演算部１５は、比Ｐ／Ｐ
０を補正信号としてデータ処理部１４に出力する。な
お、大気圧Ｐおよび基準圧力Ｐ０は絶対圧力である。
６で検出した大気圧Ｐと、予め設定したサンプルガス計
量管内の基準圧力Ｐ０との比Ｐ／Ｐ０を演算する。Ｐ０
を絶対圧力とすれば、サンプリングしたサンプルガスの
モル数と予め設定したサンプルガスのモル数の比は、比
Ｐ／Ｐ０に比例するので、補正演算部１５は、比Ｐ／Ｐ
０を補正信号としてデータ処理部１４に出力する。な
お、大気圧Ｐおよび基準圧力Ｐ０は絶対圧力である。
【００２３】データ処理部１４は、ガス成分量検出部１
３から入力したピーク波形のデータから所定の方法でガ
ス成分のピーク波形面積Ｓを計算するとともに、そのピ
ーク波形面積Ｓと、予め設定したピーク波形の基準面積
Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０を算出する。さらにデータ処理部１
４は、ピーク波形面積Ｓと基準面積Ｓ０との比Ｓ／
Ｓ ０、補正演算器１５からの補正信号Ｐ／Ｐ０、および
予め設定したガス成分の基準濃度Ａ０から、ガス成分の
濃度Ａを下記（１）式のようにして求める。 Ａ＝Ａ０×(Ｓ／Ｓ０)×(Ｐ／Ｐ０) ………………（１）
３から入力したピーク波形のデータから所定の方法でガ
ス成分のピーク波形面積Ｓを計算するとともに、そのピ
ーク波形面積Ｓと、予め設定したピーク波形の基準面積
Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０を算出する。さらにデータ処理部１
４は、ピーク波形面積Ｓと基準面積Ｓ０との比Ｓ／
Ｓ ０、補正演算器１５からの補正信号Ｐ／Ｐ０、および
予め設定したガス成分の基準濃度Ａ０から、ガス成分の
濃度Ａを下記（１）式のようにして求める。 Ａ＝Ａ０×(Ｓ／Ｓ０)×(Ｐ／Ｐ０) ………………（１）
【００２４】（実施の形態２）図３は、本発明の実施の
形態２によるガスクロマト装置の概略構成を示してい
る。本実施の形態では、実施の形態１のような大気圧検
出器１６の代わりに、ガスサンプリング部１１のサンプ
ルガス計量管内の圧力を検出する圧力検出器２０が設け
られている。この圧力検出器２０も、サンプルガス計量
管をキャリアガスのライン側に切り換えたときに、サン
プルガス計量管内の圧力Ｐを検出する。他の構成は実施
の形態１の場合と同様である。
形態２によるガスクロマト装置の概略構成を示してい
る。本実施の形態では、実施の形態１のような大気圧検
出器１６の代わりに、ガスサンプリング部１１のサンプ
ルガス計量管内の圧力を検出する圧力検出器２０が設け
られている。この圧力検出器２０も、サンプルガス計量
管をキャリアガスのライン側に切り換えたときに、サン
プルガス計量管内の圧力Ｐを検出する。他の構成は実施
の形態１の場合と同様である。
【００２５】補正演算部１５は、圧力検出器２０で検出
したサンプルガス計量管内の圧力Ｐと、予め設定したサ
ンプルガス計量管内の基準圧力Ｐ０との比Ｐ／Ｐ０を演
算する。ＰおよびＰ０を絶対圧力とすれば、サンプリン
グしたサンプルガスのモル数と予め設定したサンプルガ
スのモル数の比は、比Ｐ／Ｐ０に比例するので、補正演
算部１５は、比Ｐ／Ｐ０を補正信号としてデータ処理部
１４に出力する。なお、圧力Ｐおよび基準圧力Ｐ０は絶
対圧力である。
したサンプルガス計量管内の圧力Ｐと、予め設定したサ
ンプルガス計量管内の基準圧力Ｐ０との比Ｐ／Ｐ０を演
算する。ＰおよびＰ０を絶対圧力とすれば、サンプリン
グしたサンプルガスのモル数と予め設定したサンプルガ
スのモル数の比は、比Ｐ／Ｐ０に比例するので、補正演
算部１５は、比Ｐ／Ｐ０を補正信号としてデータ処理部
１４に出力する。なお、圧力Ｐおよび基準圧力Ｐ０は絶
対圧力である。
【００２６】そしてデータ処理部１４は、実施の形態１
の場合と同様に、ピーク波形面積Ｓと基準面積Ｓ０との
比Ｓ／Ｓ０、補正演算器１５からの補正信号Ｐ／Ｐ０、
および予め設定したガス成分の基準濃度Ａ０から、ガス
成分の濃度Ａを上記（１）式のようにして求める。
の場合と同様に、ピーク波形面積Ｓと基準面積Ｓ０との
比Ｓ／Ｓ０、補正演算器１５からの補正信号Ｐ／Ｐ０、
および予め設定したガス成分の基準濃度Ａ０から、ガス
成分の濃度Ａを上記（１）式のようにして求める。
【００２７】（実施の形態３）図４は、本発明の実施の
形態３によるガスクロマト装置の概略構成を示してい
る。本実施の形態では、サンプルガス計量管内の温度を
検出する温度検出器３０が設けられている。この温度検
出器３０は、サンプルガス計量管をキャリアガスのライ
ン側に切り換えたときに、サンプルガス計量管内の温度
Ｔを検出する。他の構成は実施の形態１の場合と同様で
ある。
形態３によるガスクロマト装置の概略構成を示してい
る。本実施の形態では、サンプルガス計量管内の温度を
検出する温度検出器３０が設けられている。この温度検
出器３０は、サンプルガス計量管をキャリアガスのライ
ン側に切り換えたときに、サンプルガス計量管内の温度
Ｔを検出する。他の構成は実施の形態１の場合と同様で
ある。
【００２８】補正演算部１５は、温度検出器３０で検出
したサンプルガス計量管内の温度Ｔと、予め設定したサ
ンプルガス計量管内の基準温度Ｔ０との比Ｔ０／Ｔを演
算する。ＴおよびＴ０を熱力学温度とすれば、サンプリ
ングしたサンプルガスのモル数と予め設定したサンプル
ガスのモル数の比は、Ｔ０／Ｔに比例するので、補正演
算器１５は、比Ｔ０／Ｔを補正信号としてデータ処理部
１４に出力する。
したサンプルガス計量管内の温度Ｔと、予め設定したサ
ンプルガス計量管内の基準温度Ｔ０との比Ｔ０／Ｔを演
算する。ＴおよびＴ０を熱力学温度とすれば、サンプリ
ングしたサンプルガスのモル数と予め設定したサンプル
ガスのモル数の比は、Ｔ０／Ｔに比例するので、補正演
算器１５は、比Ｔ０／Ｔを補正信号としてデータ処理部
１４に出力する。
【００２９】データ処理部１４は、実施の形態１の場合
と同様に、ガス成分量検出部１３から入力したピーク波
形のデータから所定の方法でガス成分のピーク波形面積
Ｓを計算するとともに、そのピーク波形面積Ｓと、予め
設定したピーク波形の基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０を算
出する。さらにデータ処理部１４は、ピーク波形面積Ｓ
と基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０、補正演算器１５からの
補正信号Ｔ０／Ｔ、および予め設定したガス成分の基準
濃度Ａ０から、ガス成分の濃度Ａを下記（２）式のよう
にして求める。 Ａ＝Ａ０×(Ｓ／Ｓ０)×(Ｔ０／Ｔ) ………………（２）
と同様に、ガス成分量検出部１３から入力したピーク波
形のデータから所定の方法でガス成分のピーク波形面積
Ｓを計算するとともに、そのピーク波形面積Ｓと、予め
設定したピーク波形の基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０を算
出する。さらにデータ処理部１４は、ピーク波形面積Ｓ
と基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０、補正演算器１５からの
補正信号Ｔ０／Ｔ、および予め設定したガス成分の基準
濃度Ａ０から、ガス成分の濃度Ａを下記（２）式のよう
にして求める。 Ａ＝Ａ０×(Ｓ／Ｓ０)×(Ｔ０／Ｔ) ………………（２）
【００３０】（実施の形態４）図５は、本発明の実施の
形態４によるガスクロマト装置の概略構成を示してい
る。本実施の形態では、サンプルガス計量管下流側の圧
力を検出する圧力検出器２１、およびサンプルガス計量
管内の温度を検出する温度検出器３０が設けられてい
る。圧力検出器２１および温度検出器３０は、サンプル
ガス計量管をキャリアガスのライン側に切り換えたとき
に、サンプルガス計量管下流側の圧力およびサンプルガ
ス計量管内の温度をそれぞれ検出する。また、本実施の
形態では、実施の形態１〜３のようなサンプリングガス
供給部１０の代わりに、サンプリングガス供給制御部４
０が設けられている。他の構成は実施の形態１〜３の場
合と同様である。
形態４によるガスクロマト装置の概略構成を示してい
る。本実施の形態では、サンプルガス計量管下流側の圧
力を検出する圧力検出器２１、およびサンプルガス計量
管内の温度を検出する温度検出器３０が設けられてい
る。圧力検出器２１および温度検出器３０は、サンプル
ガス計量管をキャリアガスのライン側に切り換えたとき
に、サンプルガス計量管下流側の圧力およびサンプルガ
ス計量管内の温度をそれぞれ検出する。また、本実施の
形態では、実施の形態１〜３のようなサンプリングガス
供給部１０の代わりに、サンプリングガス供給制御部４
０が設けられている。他の構成は実施の形態１〜３の場
合と同様である。
【００３１】サンプリングガス供給制御部４０は、サン
プリングガスをガスサンプリング部１１に供給するだけ
でなく、サンプリングガスを適正な圧力・温度に調整す
る機能や複数のサンプリングガスを指定された順序でガ
スサンプリング部１１に供給する機能を備えている。サ
ンプリングガス供給制御部４０からサンプリングガスが
ガスサンプリング部１１に供給開始され、サンプルガス
計量管内がサンプリングガスで充たされた状態で、サン
プルガス計量管をキャリアガスのライン側に切り換える
と、一定量のサンプルガスが採取される。このとき、圧
力検出器２１はサンプルガス計量管下流側の圧力Ｐを、
温度検出器３０はサンプルガス計量管内の温度Ｔをそれ
ぞれ検出し、両検出値は補正演算部１５に取り込まれ
る。
プリングガスをガスサンプリング部１１に供給するだけ
でなく、サンプリングガスを適正な圧力・温度に調整す
る機能や複数のサンプリングガスを指定された順序でガ
スサンプリング部１１に供給する機能を備えている。サ
ンプリングガス供給制御部４０からサンプリングガスが
ガスサンプリング部１１に供給開始され、サンプルガス
計量管内がサンプリングガスで充たされた状態で、サン
プルガス計量管をキャリアガスのライン側に切り換える
と、一定量のサンプルガスが採取される。このとき、圧
力検出器２１はサンプルガス計量管下流側の圧力Ｐを、
温度検出器３０はサンプルガス計量管内の温度Ｔをそれ
ぞれ検出し、両検出値は補正演算部１５に取り込まれ
る。
【００３２】補正演算器１５は、入力された前記圧力Ｐ
と予め設定したサンプルガス計量管下流側の基準圧力Ｐ
０との比Ｐ／Ｐ０を演算する。ＰおよびＰ０を絶対圧力
とすれば、サンプリングしたサンプルガスのモル数と予
め設定したサンプルガスのモル数の比は、比Ｐ／Ｐ０に
比例する。また補正演算器１５は、入力された前記温度
Ｔと予め設定したサンプルガス計量管内の基準温度Ｔ０
の比Ｔ０／Ｔも演算する。ＴおよびＴ０を熱力学温度と
すれば、サンプリングしたサンプルガスのモル数と予め
設定したサンプルガスのモル数の比は、比Ｔ０／Ｔに比
例する。そして、サンプリングしたサンプルガスのモル
数と予め設定したサンプルガスのモル数の比は、比Ｐ／
Ｐ０と比Ｔ０／Ｔに比例するので、補正演算器１５は、
(Ｐ／Ｐ ０)×(Ｔ０／Ｔ)を補正信号としてデータ処理部
１４に出力する。なお、圧力Ｐおよび基準圧力Ｐ０は絶
対圧力である。
と予め設定したサンプルガス計量管下流側の基準圧力Ｐ
０との比Ｐ／Ｐ０を演算する。ＰおよびＰ０を絶対圧力
とすれば、サンプリングしたサンプルガスのモル数と予
め設定したサンプルガスのモル数の比は、比Ｐ／Ｐ０に
比例する。また補正演算器１５は、入力された前記温度
Ｔと予め設定したサンプルガス計量管内の基準温度Ｔ０
の比Ｔ０／Ｔも演算する。ＴおよびＴ０を熱力学温度と
すれば、サンプリングしたサンプルガスのモル数と予め
設定したサンプルガスのモル数の比は、比Ｔ０／Ｔに比
例する。そして、サンプリングしたサンプルガスのモル
数と予め設定したサンプルガスのモル数の比は、比Ｐ／
Ｐ０と比Ｔ０／Ｔに比例するので、補正演算器１５は、
(Ｐ／Ｐ ０)×(Ｔ０／Ｔ)を補正信号としてデータ処理部
１４に出力する。なお、圧力Ｐおよび基準圧力Ｐ０は絶
対圧力である。
【００３３】データ処理部１４は、実施の形態１〜３の
場合と同様に、ガス成分量検出部１３から入力したピー
ク波形のデータから所定の方法でガス成分のピーク波形
面積Ｓを計算するとともに、そのピーク波形面積Ｓと、
予め設定したピーク波形の基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０
を算出する。さらにデータ処理部１４は、ピーク波形面
積Ｓと基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０、補正演算器１５か
らの補正信号(Ｐ／Ｐ ０)×(Ｔ０／Ｔ)、および予め設定
したガス成分の基準濃度Ａ０から、ガス成分の濃度Ａを
下記（３）式のようにして求める。 Ａ＝Ａ０×(Ｓ／Ｓ０)×(Ｐ／Ｐ０)×(Ｔ０／Ｔ) ………………（３ ）
場合と同様に、ガス成分量検出部１３から入力したピー
ク波形のデータから所定の方法でガス成分のピーク波形
面積Ｓを計算するとともに、そのピーク波形面積Ｓと、
予め設定したピーク波形の基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０
を算出する。さらにデータ処理部１４は、ピーク波形面
積Ｓと基準面積Ｓ０との比Ｓ／Ｓ０、補正演算器１５か
らの補正信号(Ｐ／Ｐ ０)×(Ｔ０／Ｔ)、および予め設定
したガス成分の基準濃度Ａ０から、ガス成分の濃度Ａを
下記（３）式のようにして求める。 Ａ＝Ａ０×(Ｓ／Ｓ０)×(Ｐ／Ｐ０)×(Ｔ０／Ｔ) ………………（３ ）
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
サンプリングガスの圧力・温度変化によってサンプルガ
スのモル数が変化しても、精度の高いガスクロマト装置
の分析結果を得ることができ、かつ再現性の安定を図る
ことができる。
サンプリングガスの圧力・温度変化によってサンプルガ
スのモル数が変化しても、精度の高いガスクロマト装置
の分析結果を得ることができ、かつ再現性の安定を図る
ことができる。
【図１】本発明の実施の形態１によるガスクロマト装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【図２】ガスクロマトピーク波形の一例を示した図であ
る。
る。
【図３】本発明の実施の形態２によるガスクロマト装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【図４】本発明の実施の形態３によるガスクロマト装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【図５】本発明の実施の形態４によるガスクロマト装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【図６】従来技術によるガスクロマト装置の概略構成図
である。
である。
１０ サンプリングガス供給部 １１ ガスサンプリング部 １２ ガス成分分離部 １３ ガス成分量検出部 １４ データ処理部 １５ 補正演算部 １６ 大気圧検出部 ２０ 圧力検出器 ２１ 圧力検出器 ３０ 温度検出器 ４０ サンプリングガス制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江口 昭喜 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所火力・水力事業部内 (72)発明者 吉田 正 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所火力・水力事業部内
Claims (6)
- 【請求項１】 被測定ガスを一定圧力かつ一定温度で供
給するガス供給手段と、該ガス供給手段から供給されて
くる被測定ガスを一定量採取するサンプリング手段と、
該サンプリング手段で採取した被測定ガスを各ガス成分
に分離するガス成分分離手段と、前記ガス成分分離手段
で分離した各ガス成分の成分量を検出し、その成分量に
応じたピーク波形を出力するガス成分量検出手段と、前
記ガス成分量検出手段から出力されるピーク波形の面積
と、ガスクロマト装置本体調整時に予め設定したピーク
波形の基準面積とを比較して、被測定ガス中の各ガス成
分濃度を算出するデータ処理手段と、を備えたガスクロ
マト装置において、 前記サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、 前記圧力検出手段での検出圧力と、ガスクロマト装置本
体調整時に予め設定した基準圧力との比較を行って、被
測定ガス中の各ガス成分濃度を補正する補正手段と、を
備えたことを特徴とするガスクロマト装置。 - 【請求項２】 被測定ガスを一定圧力かつ一定温度で供
給するガス供給手段と、該ガス供給手段から供給されて
くる被測定ガスを一定量採取するサンプリング手段と、
該サンプリング手段で採取した被測定ガスを各ガス成分
に分離するガス成分分離手段と、前記ガス成分分離手段
で分離した各ガス成分の成分量を検出するガス成分量検
出手段と、前記ガス成分量検出手段で検出した各ガス成
分の成分量データを取り込んで、被測定ガス中の各ガス
成分濃度を算出するデータ処理手段と、を備えたガスク
ロマト装置において、 前記サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの温度を検出する温度検出手段と、 前記温度検出手段での検出温度と予め設定した基準温度
との比較を行って、被測定ガス中の各ガス成分濃度を補
正する補正手段と、を備えたことを特徴とするガスクロ
マト装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載のガスクロマト装置にお
いて、 前記基準温度はガスクロマト装置本体調整時に設定した
温度であることを特徴とするガスクロマト装置。 - 【請求項４】 被測定ガスを一定圧力かつ一定温度で供
給するガス供給手段と、該ガス供給手段から供給されて
くる被測定ガスを一定量採取するサンプリング手段と、
該サンプリング手段で採取した被測定ガスを各ガス成分
に分離するガス成分分離手段と、前記ガス成分分離手段
で分離した各ガス成分の成分量を検出するガス成分量検
出手段と、前記ガス成分量検出手段で検出した各ガス成
分の成分量データを取り込んで、被測定ガス中の各ガス
成分濃度を算出するデータ処理手段と、を備えたガスク
ロマト装置において、 前記サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、 前記サンプリング手段で被測定ガスを採取するときの被
測定ガスの温度を検出する温度検出手段と、 前記圧力検出手段での検出圧力と予め設定した基準圧力
との比較、および前記温度検出手段での検出温度と予め
設定した基準温度との比較を行って、被測定ガス中の各
ガス成分濃度を補正する補正手段と、を備えたことを特
徴とするガスクロマト装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載のガスクロマト装置にお
いて、 前記基準圧力はガスクロマト装置本体調整時に設定した
圧力であり、かつ前記基準温度はガスクロマト装置本体
調整時に設定した温度であることを特徴とするガスクロ
マト装置。 - 【請求項６】 請求項１，４又は５に記載のガスクロマ
ト装置において、 前記圧力検出手段で検出する圧力と前記基準圧力は絶対
圧力であることを特徴とするガスクロマト装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000187452A JP2002005915A (ja) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | ガスクロマト装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000187452A JP2002005915A (ja) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | ガスクロマト装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002005915A true JP2002005915A (ja) | 2002-01-09 |
Family
ID=18687426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000187452A Pending JP2002005915A (ja) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | ガスクロマト装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002005915A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009519230A (ja) * | 2005-11-23 | 2009-05-14 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 気相部分酸化の安全な運転法 |
| KR20170059383A (ko) * | 2015-11-20 | 2017-05-30 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 | 발생 가스 분석 장치의 교정 방법 및 발생 가스 분석 장치 |
-
2000
- 2000-06-22 JP JP2000187452A patent/JP2002005915A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009519230A (ja) * | 2005-11-23 | 2009-05-14 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 気相部分酸化の安全な運転法 |
| KR20170059383A (ko) * | 2015-11-20 | 2017-05-30 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 | 발생 가스 분석 장치의 교정 방법 및 발생 가스 분석 장치 |
| JP2017096695A (ja) * | 2015-11-20 | 2017-06-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 発生ガス分析装置の校正方法及び発生ガス分析装置 |
| CN107064396A (zh) * | 2015-11-20 | 2017-08-18 | 日本株式会社日立高新技术科学 | 产生气体分析装置的校正方法以及产生气体分析装置 |
| KR102143124B1 (ko) | 2015-11-20 | 2020-08-10 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 | 발생 가스 분석 장치의 교정 방법 및 발생 가스 분석 장치 |
| CN107064396B (zh) * | 2015-11-20 | 2020-09-22 | 日本株式会社日立高新技术科学 | 产生气体分析装置的校正方法以及产生气体分析装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69214290D1 (de) | Ausschaltung des temperaturfehlers eines coriolis-durchflussmessers | |
| JPH05288737A (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
| GB2297045A (en) | Sensor drift correction in a gas chromatograph | |
| CA2431674A1 (en) | Device and method for measuring breath alcohol | |
| DK200000141A (da) | Fluidmålesystemer med en reduceret samlet størrelse og vægt og et udvidet dynamisk område | |
| US4290296A (en) | Method and apparatus for gas dosing for linearization | |
| EP0672893B1 (en) | Improved acoustic displacement flowmeter | |
| GB2391700A (en) | Ion mobility spectrometer with GC column and internal regulated gas cycle | |
| JP2002005915A (ja) | ガスクロマト装置 | |
| JP2002350299A (ja) | におい測定方法及び装置 | |
| JPH0943220A (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
| DE3909974A1 (de) | Messanordnung und verfahren zur messung des feststoffmassenstromes von stroemenden gas-feststoff-gemischen | |
| JPH04120461A (ja) | Ｓｆ↓６ガス分析装置 | |
| JPS57192851A (en) | Limiting current type oxygen concentration detector compensated for temperature of measured output | |
| JP4137283B2 (ja) | 燃料ガス分析装置 | |
| JP3075178B2 (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
| JPH0712791A (ja) | ガスクロマトグラフにおけるキャリアガス圧設定方法 | |
| JPH0425656Y2 (ja) | ||
| JP2828239B2 (ja) | 気体試料導入装置 | |
| JPH06186182A (ja) | 熱量が既知の都市ガス中の水素ガス濃度測定方法 | |
| JPH0792153A (ja) | プロセスガスクロマトグラフの校正方法 | |
| JPH0783893A (ja) | 濃縮管のバックフラッシュ方法 | |
| JPS5833161A (ja) | 大気圧補償形自動ガスクロマトグラフ | |
| JPS58186048A (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
| JPH05126813A (ja) | ガスクロマトグラフ |