JP2001525792A - ジベンゾイルメタン、β，β’−ジフェニルアクリル酸アルキルおよびベンゾトリアゾールシリコーンを含有するスクリーン用化粧品組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 化粧品的に許容可能なビヒクルに、一または複数のジベンゾイルメタン誘導体、一または複数のβ，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル、および一または複数の特定のベンゾトリアゾールシリコーンを含有せしめてなる、新規の化粧品組成物が開示される。これら３つの遮蔽剤の相乗効果により、これらの組成物は、高くなった日光保護ファクターを有する。これらの組成物の、粧品分野における使用もまた開示される。

Description

【発明の詳細な説明】 ジベンゾイルメタン、β，β’−ジフェニルアクリル酸アルキルおよび ベンゾトリアゾールシリコーンを含有するスクリーン用化粧品組成物 本発明は、特に、紫外線に対して皮膚および髪を光保護することを意図した新 規の化粧品組成物（以下、この組成物を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに 、上述した化粧品用途におけるそれらの使用に関する。さらに厳密には、本発明 は、化粧品的に許容可能な支持体に、少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導 体、少なくとも１つのβ，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル、および少なく とも１つの特定のベンゾトリアゾールシリコーンを含有せしめてなる、改善され た日光保護ファクターを有する新規の化粧品組成物に関する。 ２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼し、特に、 ＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚 は、自然なサンタン状態の形成の障害となるサンバーン状態となったり、また紅 斑が形成されたりする。よって、ＵＶ−Ｂは遮蔽するべきである。 また、皮膚をサンタン状態にする３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有する ＵＶ−Ａは、特に、敏感肌または頻繁に太陽光線にさらされている皮膚に悪影響 を与えうる。ＵＶ−Ａは、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮 膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。それらは、紅斑反応の誘因を 促進し、ある個体においてこの反応を拡大し、光毒性または光アレルギー反応を 引き起こす恐れがある。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽することが望ましい。 皮膚の光保護（ＵＶ−Ａおよび／またはＵＶ−Ｂ）を意図した多数の化合物が 、現在までに提案されている。 これらの抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型のエマルションの形態 （すなわち、水性分散連続相と油性分散非連続相とからなる化粧品的に許容可能 なビヒクル）で提供され、このものは、有害な紫外線を選択的に吸収可能な、一 または複数の従来よりの親油性および／または親水性の有機遮蔽剤類を、種々の 濃度で含有してなるものである。これらの遮蔽剤類（およびその量）は、所望の 日光保護ファクター［日光保護ファクター（ＳＰＦ）は、ＵＶ遮蔽剤を用いた場 合に紅斑が形成され始めるまでに必要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合 に紅斑が形成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に表したもので ある］に応じて選択される。 上述した光保護の分野において多くの研究を行ったところ、本出願人は、予期 しないことに、また驚くべきことに、それ自体、従来技術において既に公知の３ 種の特定の遮蔽化合物を組み合わせることにより、相乗効果により、かなり改善 された日光保護ファクターを有する抗日光組成物が得られることを見いだした。 この発見が、本発明の基礎をなすものである。 よって、本発明の主題の一つにあっては、化粧品的に許容可能なビヒクルに、 ｉ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体、ｉｉ） 第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのβ，β’−ジフェニルアクリル酸アルキ ル誘導体、およびｉｉｉ）第３の遮蔽剤として、次の式： または ｛上式（１）または（２）中、 −Ｒは、同一でも異なっていてもよく、Ｃ₁−Ｃ₁₀のアルキル、フェニ ル、３，３，３−トリフルオロプロピル、およびトリメチルシリルオキシ基から 選択され、基Ｒの数基準で、その少なくとも８０％はメチルであり、 −Ｂは、同一でも異なっていてもよく、基Ｒおよび基Ａから選択され、 −ｒは、０〜５０の整数であり、ｓは、０〜２０の整数であり、ｓ＝０ であれば、２つの符号Ｂの少なくとも１つはＡを示し、 −ｕは、１〜６の整数であり、ｔは、０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは ３以上であると理解され、 −符号Ａは、ケイ素原子に直接結合する１価の基で、次の式（３）： ［上式（３）中、 −Ｙは、同一でも異なっていてもよく、Ｃ₁−Ｃ₈のアルキル基、ハロゲ ン、およびＣ₁−Ｃ₄のアルコキシ基から選択され、アルコキシ基の場合、同一の 芳香環の２つの近接したＹ基は、協同して、アルキリデン基が１または２の炭素 原子を有するアルキリデンジオキシ基を形成可能であり、 −Ｘは、ＯまたはＮＨを表し、 −Ｚは、水素またはＣ₁−Ｃ₄のアルキル基を表し、 −ｎは、０〜３の整数であり、 −ｍは、０または１であり、 −ｐは、１〜１０の整数である］ に相当するものである｝ の一つに相当する、少なくとも１つのベンゾトリアゾールシリコーン類を含有し てなることを特徴とする新規の化粧品組成物、特に、抗日光組成物が提案される 。 また、本発明の主題は、紫外線、特に、太陽光線に対して、皮膚および／また は髪を保護するための美容処理方法において、上述した化粧品組成物を有効量皮 膚および／または髪に適用することを特徴とする方法にある。 本発明の他の特徴、観点および利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、 明らかにあるであろう。 本発明の組成物に必須の第１の遮蔽剤（以下、遮蔽剤Ａと称す）は、ジベンゾ イルメタン誘導体である。ジベンゾイルメタン誘導体は、ＵＶ−Ａ線を遮蔽する 薬剤として、それ自体、既によく知られた生成物で、特に、仏国特許公開第２３ ２６４０５号、仏国特許公開第２４４０９３３号、および欧州特許公開第０１１ ４６０７号に記載されており、これらの生成物の事実上の定義について、この公 報の教示を出典明示により完全に本明細書に取り込む。 本発明が特に対象とするジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定さ れるものではないが、特に： −２−メチルジベンゾイルメタン、 −４−メチルジベンゾイルメタン、 −４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチルジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 −２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 −４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン 、 −２−メチル−５−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン 、 −２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイル メタン、 を挙げることができる。 上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、本発明においては、特に、ギバ ウダン（Givaudan）社から「パーソル（Parsol）１７８９」の商品名で販売され ている、４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンが、最も好まし く使用され、この遮蔽剤は、次の構造式（Ｉ）： に相当するものである。 本発明において、他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、４−イソプロピ ルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤は、メルク（Merck）社から「ユーソレッ クス（Eusolex）８０２０」の名称で販売されており、次の構造式（ＩＩ）： に相当するものである。 ジベンゾイルメタン誘導体は、本発明の組成物中に、組成物の全重量に対して ０．１重量％〜８重量％、好ましくは０．２重量％〜５重量％の含有量で存在す る。 本発明の組成物に必須の第２の遮蔽剤（以下、遮蔽剤Ｂと称す）は、β，β’ −ジフェニルアクリル酸アルキルである。本発明で使用可能なβ，β’−ジフェ ニルアクリル酸アルキル誘導体としては、２−エチルヘキシル−α−シアノ−β ， β’−ジフェニルアクラート、またはα−シアノ−β，β’−ジフェニルアクリ ル酸エチルを挙げることができる。 オクトクリレン（octocrylene）としても公知の２−エチルヘキシル−α−シ アノ−β，β’−ジフェニルアクラートは、ＵＶ−Ｂ活性において、それ自体、 既によく知られた液状の親油性遮蔽剤である。これは、商業的に入手可能な生成 物であり、ＢＡＳＦ社から「ユビヌル（Uvinul）Ｎ５３９」の名称で販売されて いる。この化合物は、次の式（ＩＩＩ）： ［上式（ＩＩＩ）中、φは、フェニル基を示す］ に相当する。 さらに、エトクリレン（etocrylene）として公知の、α−シアノ−β，β’− ジフェニルアクリル酸エチルは、ＵＶ−Ｂ活性において、それ自体、既に公知の 遮蔽剤である。これは、商業的に入手可能な生成物であり、ＢＡＳＦ社から「ユ ビヌルＮ３５」の名称で販売されている。この化合物は、次の式（ＩＶ）： ［上式（ＩＶ）中、φは、フェニル基を示す］ に相当する。 さらに一般的には、本発明で使用可能なβ，β’−ジフェニルアクリル酸アル キルは、既に欧州特許公開第０５１４４９１号に記載されているものであり、こ の点に関し、この出願の教示を完全に本明細書に含む。上述した欧州特許公開第 ０５１４４９１号には、β，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル誘導体が、２ 成分の組合せに対して、経時的、特に長くさらされている間の一定の保護を保証 するため、ジベンゾイルメタン誘導体を光化学的に安定化することができること が教示されていることに言及しておく。しかしながら、この公報には、当初の内 因性のＳＰＦに関し、本発明における３要素による組合せの相乗効果については 、記載も示唆もされていない。 好ましくは、β，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル誘導体は、組成物の全 重量に対して０．１重量％〜２０重量％の含有量で、本発明の組成物中に存在す る。さらに好ましくは、この含有量は、組成物の全重量に対して０．２重量％〜 １５重量％である。 本発明の組成物に必須の第３の遮蔽剤（以下、遮蔽剤Ｃと称す）は、特定のベ ンゾトリアゾールシリコーンである。本発明で使用される特定のベンゾトリアゾ ールシリコーンは、公知の一般的な種類のベンゾトリアゾールシリコーン類から 選択され、次の式： または ｛上式（１）または（２）中： −Ｒは、同一でも異なっていてもよく、Ｃ₁−Ｃ₁₀のアルキル、フェニ ル、３，３，３−トリフルオロプロピル、およびトリメチルシリルオキシ基から 選択され、基Ｒの数基準で少なくとも８０％はメチルであり、 −Ｂは、同一でも異なっていてもよく、基Ｒまたは基Ａから選択され、 −ｒは、０〜５０の整数であり、ｓは、０〜２０の整数であり、ｓ＝０ であれば、２つの符号Ｂの少なくとも１つはＡを示し、 −ｕは、１〜６の整数であり、ｔは、０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは ３以上であると理解され、 −符号Ａは、ケイ素原子に直接結合する１価の基で、次の式（３）：［上式（３）中、 −Ｙは、同一でも異なっていてもよく、Ｃ₁−Ｃ₈のアルキル基、ハロゲ ン、およびＣ₁−Ｃ₄のアルコキシ基から選択され、アルコキシ基の場合、同一の 芳香環の２つの近接したＹ基は、協同して、アルキリデン基が１または２の炭素 原子を含有するアルキリデンジオキシ基を形成可能であり、 −Ｘは、ＯまたはＮＨを表し、 −Ｚは、水素またはＣ₁−Ｃ₄のアルキル基を表し、 −ｎは、０〜３の整数であり、 −ｍは、０または１であり、 −ｐは、１〜１０の整数である］ に相当するものである｝ に相当するものである。 上述した式（３）から明らかなように、ベンゾトリアゾール単位に対する単位 鎖−（Ｘ）_m−（ＣＨ₂）_p−ＣＨ（Ｚ）−ＣＨ₂−の結合は、シリコーン鎖のケイ 素原子に対する前記ベンゾトリアゾール単位の結合を確実にするものであるが、 これは、本発明において、次の式： に示す、ベンゾトリアゾールの２つの芳香環によって提供される全ての利用可能 な位置で起こり得る。 この結合は、好ましくは３、４、５位（ヒドロキシル官能基を有する芳香環） 、または４’位（トリアゾール環に隣接したベンゼン環）で生じるが、さらに好 ましくは、３、４または５位で生じる。本発明の好ましい実施態様では、３位で 結合する。 同様に、一または複数の置換単位Ｙの結合は、ベンゾトリアゾールの他の全て の可能な位置で結合され得る。しかしながら、この結合は、好ましくは３、４、 ４’、５および／または６位で生じる。本発明の好ましい実施態様においては、 単位Ｙは５位で結合する。 上述した式（１）および（２）において、アルキル基は直鎖状または分枝状で あってよく、特に、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル 、イソブチル、tert−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ネオペンチル、ｎ−ヘ キシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシルおよびtert−オクチ ル基から選択されうる。本発明の好ましいアルキル基Ｒは、メチル、エチル、プ ロピル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルおよび２−エチルヘキシル基である。さらに 好ましくは、Ｒ基は、全てメチル基である。 上述した式（１）または（２）の化合物の中でも、式（１）に相当するもの、 すなわち、直鎖状の短鎖を含有するジオルガノシロキサン類が好ましく使用され る。 上述した式（１）の化合物の中でも、基Ｂが両方とも基Ｒであるものが、好ま しく使用される。 本発明の範囲内にある直鎖状のジオルガノシロキサン類としては、次の特性： −Ｂは基Ｒであり、 −Ｒはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 −ｒは０〜１５；ｓは１〜１０であり、 −ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチル、tert−ブチル、 およびＣ₁−Ｃ₄のアルコキシから選択され、 −Ｚは水素またはメチルであり、 −ｍ＝０、または［ｍ＝１およびＸ＝０］、 −ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを有するランダム誘導体類または明確 に定まったブロック誘導体類が特に好ましい。 本発明に特に適した化合物の種類の一つは、次の一般式（４）： ［上式（４）中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｄは、 の二価の基を表す］ で定義されるものである。 本発明の特に好ましい実施態様におけるベンゾトリアゾールシリコーンは、次 の式： に相当する化合物［本明細書中、以下、化合物（ｃ）と称す］である。 式（１）および（２）のシリコーン遮蔽剤を調製するために、例えば、全ての 基Ａが水素原子である対応するシリコーンで出発し、従来からのヒドロシリル化 反応（すなわち、 １５ ） を使用する方法が行われる。この出発シリコーンを、以下、ＳｉＨ含有誘導体と 称する。これらのＳｉＨ含有誘導体は、シリコーン工業においてよく知られた生 成物であり、一般的に、商業的に入手可能である。それらは、例えば、米国特許 第３２２０９７２号、米国特許第３６９７４７３号および米国特許第４３４０７ ０９号に記載されている。 このＳｉＨ含有誘導体は、次の式（１ｂ）： ［上式（１ｂ）中、Ｒ、ｒおよびｓは上述した式（１）と同様の意味を有するも のであり、基Ｂ’は、同一でも異なっていてもよく、基Ｒおよび水素原子から選 択される］ 、または次の式（２ｂ）： ［上式（２ｂ）中、Ｒ、ｔおよびｕは、上述した式（２）と同様の意味を有する ものである］ のいずれかで表されるものであってよい。 よって、式（１ｂ）または（２ｂ）のこのＳｉＨ含有誘導体で、標準的なヒド ロシリル化反応がなされ、この反応は、触媒として有効量のプラチナ触媒の存在 下において、次の式（３ｂ）：［上式（３ｂ）中、Ｙ、Ｘ、Ｚ、ｎ、ｍ、およびｐは、上述した式（３）と同様 の意味を有するものである］ で示される有機ベンゾトリアゾール誘導体でなされる。 上述した式（３ｂ）の生成物を調製するのに適した方法は、特に、米国特許第 ４３１６０３３号および米国特許第４３２８３４６号に記載されている。 さらに、上述した式（１ｂ）または式（２ｂ）の化合物と、上述した式（３ｂ ）の化合物との間で、ヒドロシリル化反応をさせるための操作条件の詳細は、欧 州特許出願第０３９２８８３号に記載されており、この点に関し、この出願の教 示を参照として完全に本明細書に含む。 上述したベンゾトリアゾールシリコーンは、本発明の組成物中において、組成 物の全重量に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量％の量で 、一般的に使用される。 実用的な観点からは、上述した３つの遮蔽剤Ａ、ＢおよびＣは、組み合わせた 結果付与される日光保護ファクターにおける相乗効果が最良になるように選択さ れた割合で各々最終組成物中に存在するのが好ましいことは無論である。この最 適な相乗効果が効果的に達成される［遮蔽剤Ａ／遮蔽剤Ｂ／遮蔽剤Ｃ］の重量比 の正確な範囲は、使用される遮蔽剤Ａ、ＢおよびＣの全量に応じて、わずかに変 わりうる。 本発明の特に好ましい実施態様における、［遮蔽剤Ａ／遮蔽剤Ｂ／遮蔽剤Ｃ］ の重量比は、１／１／１である。 もちろん、本発明の抗日光用化粧品組成物は、上述した３つの遮蔽剤以外にも 、一または複数の、親水性または親油性でＵＶ−Ａおよび／またはＵＶ−Ｂに対 する活性のある、補足的な遮蔽剤（吸収剤）を含有してもよい。これらの補足的 な遮蔽剤は、特に、ケイ酸誘導体類、サリチル酸誘導体類、ショウノウ誘導体類 、トリアジン誘導体類、ベンゾフェノン誘導体類、およびｐ−アミノ安息香酸誘 導体類から選択される。 また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、および／ま たは褐色にするための薬剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。 さらに本発明の化粧品組成物は、被覆された、またはされていない、金属酸化 物の顔料類または微小顔料類（ナノピグメント）（平均主粒子径：一般的に、５ ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体、ＵＶ 光保護剤としてよく知られている、酸化チタン（アモルファス、またはルチルお よび／またはアナターゼ型の結晶）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムまた は酸化セリウムの微小顔料類を、さらに含有してもよい。また、標準的なコーテ ィング剤は、アルミナおよび／またはステアリン酸アルミニウムである。このよ うな、被覆された、または被覆されていない、金属酸化物の微小顔料類としては 、特に、欧州特許公開第０５１８７７２号および欧州特許公開第０５１８７７３ 号に記載されているものがある。 またさらに、本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性または 非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、不透明化剤、安定化剤、柔軟剤、シ リコーン類、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、 界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴射剤、塩基性または 酸性化剤、染料、または化粧品、特に、エマルションの形態の抗日光組成物の製 造において通常使用されている任意の他の成分から選択される標準的な化粧品用 アジュバントを含有してもよい。 脂肪物質は、油またはロウまたはそれらの混合物からなるものであってよく、 それらは、脂肪酸、脂肪アルコールおよび脂肪酸エステルを、さらに含有しても よい。油は、動物性油、植物性油、鉱物性油または合成油、特に、流動ワセリン 、流動パラフィン、揮発性または非揮発性のシリコーン油、イソパラフィン類、 ポリ−α−オレフィン、フッ化油および過フッ化油から選択され得る。同様に、 ロウは、それ自体公知の、動物性、化石、植物性、鉱物性、または合成ロウから 選択されうる。 有機溶媒類としては、低級アルコール類およびポリオール類を挙げることがで きる。 増粘剤は、特に、架橋したポリアクリル酸、および変性した、または変性して いないグアガム類、およびセルロースガム類、例えばヒドロキシプロピルグアガ ム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース 、またはヒドロキシエチルセルロースから選択される。 もちろん、当業者は、本発明の３つの組み合わせによる固有の有利な特性が、 考慮される添加により、全く、または実質的に悪影響を受けないように、上述し た任意の補足的な化合物（類）および／またはそれらの量を、注意して選択する であろう。 本発明に関連した組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型また は油中水型のエマルションの調製を意図した技術により、調製されうる。 この組成物は、特に、単一または複合エマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ ／Ｏ、またはＷ／Ｏ／Ｗ）の形態、例えば、クリーム、ミルク、ゲル、またはク リーム−ゲル、パウダー、棒状固体の形態で提供されてもよく、また、任意にエ アゾールとして包装されてもよく、フォームまたはスプレーの形態であってもよ い。 好ましくは、この組成物は、水中油型エマルションの形態である。 組成物がエマルションである場合、その水相は、公知の方法［バンハム（Bang ham）、スタンディッシュ（Standish）、およびワトキンス（Watkins）の、J．M ol．Biol．13，238(1965)、仏国特許第２３１５９９１号、および仏国特許第２ ４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい 。 本発明の化粧品組成物は、抗日光組成物またはメークアップ用製品のような、 紫外線に対してヒトの皮膚または髪を保護するための組成物として使用すること ができる。 本発明の化粧品組成物が、紫外線からヒトの皮膚を保護するため、すなわち抗 日光組成物として使用される場合、それは、脂肪物質または溶媒に分散または懸 濁した形態、または非イオン性の小胞体分散液の形態、またはエマルション、好 ましくは水中油型のエマルションの形態、例えば、クリームまたはミルク、また は膏薬、ゲル、クリーム−ゲル、棒状固体、スティック、泡状エアゾールまたは スプレーの形態とされ得る。 本発明の化粧品組成物が、髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー 、ローション、ゲル、エマルション、非イオン性の小胞体分散液、髪用ラッカー の形態で提供されるものであってよく、また、例えばシャンプーの前または後、 染色または脱色の前または後、パーマネントウエーブまたは髪のストレート化の 前、 処理中、後に適用されてすすがれる組成物、スタイリングまたはトリートメント 用のローションまたはゲル、ブロー乾燥または髪のセット用のローションまたは ゲル、パーマネントウエーブ、髪のストレート化、染色、または脱色用の組成物 を構成するものであってもよい。 組成物が、まつげ、眉毛、まつげ、または皮膚用のメークアップ製品、例えば 、皮膚用トリートメントクリーム、ファンデーション、棒状口紅、アイシャドウ 、ほほ紅、マスカラ、またはアイライナーとして使用される場合、それは、無水 または水性、固体またはペーストの形態、例えば、水中油型または油中水型のエ マルション、非イオン性の小胞体分散液または懸濁液とされ得る。 指針として、水中油型のエマルションタイプのビヒクルを有する本発明の抗日 光組成物において、水相（特に、親水性の遮蔽剤を含有する）は、組成物の全重 量に対して５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相（特に、親油 性の遮蔽剤を含有する）は、組成物の全重量に対して５〜５０重量％、好ましく は１０〜３０重量％、（共）乳化剤（類）は、組成物の全重量に対して０．５〜 ２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。 次に本発明の実施例を例証するが、本発明の範囲を限定するものではない。実施例１ 以下の成分（量は、組成物の全重量に対する重量％で表す）を含有する、種々 の水中油型エマルションの形態の組成物を調製した： −４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジ ベンゾイルメタン ｘ％ −２−エチルヘキシル−α−シアノ−β，β’ −ジフェニルアクラート ｙ％ −ベンゾトリアゾールシリコーン［本明細書 中において上述した化合物（ｃ）］ ｚ％ −ヘンケル（Henkel）社から「シンノワック ス（Sinnowax）・ＡＯ」の名称で販売され ている３３ｍｏｌのＥＯでオキシエチレン 化されたセチルステアリルアルコールとセ チルステアリルアルコールの混合物（８０ ／２０） ７％ −ガッテホセ（Gattefosse）社から「ゲレオ ール・コペオクス（Geleol Copeaux）」の 商品名で販売されているモノステアリン酸 グリセリル ２％ −ヘンケル社から「ロロル（Lorol）・Ｃ１６」 の名称で販売されているセチルアルコール １．５％ −バイヤー（Bayer）社から「イソヘキサデ カン（Isohexadecane）」の商品名で販売 されている２，２，４，４，６，６，８− ヘプタメチルノナン １５％ −ローンプーレンク（Rhone-Poulenc）社か ら「シルビオン（Silbione）・７０・０４ ７・Ｖ・３００」の名称で販売されている ポリジメチルシロキサン １．５％ −グリセロール ２０％ −防腐剤 適量 −水 全体を１００％にする量 以下に示す、４つのエマルションを調製した：各々、４−（tert−ブチル）− ４’−メトキシジベンゾイルメタンを単独で、２−エチルヘキシル−α−シアノ −β，β’−ジフェニルアクラートを単独で、またベンゾトリアゾールシリコー ン（ｃ）を単独で含有する３つの比較用エマルションＡ、Ｂ、Ｃ、および［４− （tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル− α−シアノ−β，β’−ジフェニルアクラート、およびベンゾトリアゾールシリ コーン（ｃ）を含有する］本発明のエマルションＤの４つのエマルションを調製 した。４つのエマルションＡ、Ｂ、ＣおよびＤ中の遮蔽剤の各々の量を、次の表 （Ｉ）に示す： 表（Ｉ）： ついで、これら各々の組成物の日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。こ のファクターは、ビー・エル・ディフィー（B.L．Diffey）らの「J．Soc．Cosme t．Chem．(40-127-133)（1989）」に記載されている方法を、in vitroにおいて 使用して決定した；この方法は、２９０〜４００nmの範囲内の波長において、５ nm毎に単色光保護ファクター（monochromatic protection factors）を測定し、 付与された数式に従い、そこから日光保護ファクターを算出することからなる。 結果（３回のテストの平均値に相当）を次の表（ＩＩ）に示す。 表（ＩＩ）： これらの結果には、本発明の組成物Ｄにおいては、相乗効果が得られることが 明確に示されている。本発明の３つの遮蔽剤［４−（tert−ブチル）−４’−メ トキシジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−α−シアノ−β，β’−ジフ ェニルアクラート、およびベンゾトリアゾールシリコーン（ｃ）］の相乗混合物 を含有する組成物ＤのＳＰＦは、同じ量の、４−（tert−ブチル）−４’−メト キシジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−α−シアノ−β，β’−ジフェ ニルアクラート、およびベンゾトリアゾールシリコーン（ｃ）を、各々単独で含 有する組成物Ａ、Ｂ、ＣのＳＰＦよりも、有意に高い。実施例２： 実施例１のエマルションと同一の共通のビヒクルを有し、４−（tert−ブチル ）−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−α−シアノ−β ，β’−ジフェニルアクラート、およびベンゾトリアゾールシリコーン（ｃ）を 、各々以下の表（ＩＩＩ）に示す割合で含有する、比較用組成物Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ 、ＪおよびＫを調製した： 表（ＩＩＩ）： ついで、各々の組成物の日光保護ファクターを、実施例１で使用したものと同 様の手順で決定した。 結果（３回のテストの平均値に相当）を次の表（ＩＶ）に示す： 表（ＩＶ）： ２つの補足的な遮蔽剤を含有する組成物Ｈ、ＪまたはＫにおいて得られたＳＰ Ｆを、遮蔽剤ｘ、ｙまたはｚのうち一つのみを含有する、組成物Ｅ、ＦまたはＧ において得られた各々のＳＰＦに加えたとしても、得られたＳＰＦは、遮蔽剤が ６％と、全て同一の割合である本発明の３つの遮蔽剤の相乗的組合せを有する、 本発明の実施例１の組成物ＤのＳＰＦよりもかなり低い。これらの値の概要を表 （Ｖ）に示す。 表（Ｖ）：

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＡ，ＢＢ ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ， ＧＨ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＣ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＴＴ， ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 化粧品的に許容可能なビヒクルに、ｉ）第１の遮蔽剤として、少なくとも １つのジベンゾイルメタン誘導体、ｉｉ）第２の遮蔽剤として、少なくとも１つ のβ，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル誘導体、およびｉｉｉ）第３の遮蔽 剤として、次の式： または ｛上式（１）または（２）中、 −Ｒは、同一でも異なっていてもよく、Ｃ₁−Ｃ₁₀のアルキル、フェニ ル、３，３，３−トリフルオロプロピル、およびトリメチルシリルオキシ基から 選択され、基Ｒの数基準でその少なくとも８０％はメチルであり、 −Ｂは、同一でも異なっていてもよく、基Ｒおよび基Ａから選択され、 −ｒは、０〜５０の整数であり、ｓは、０〜２０の整数であり、ｓ＝０ であれば、２つの符号Ｂの少なくとも１つはＡを示し、 −ｕは、１〜６の整数であり、ｔは、０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは ３以上であり、 −符号Ａは、ケイ素原子に直接結合する１価の基で、次の式（３）：［上式（３）中、 −Ｙは、同一でも異なっていてもよく、Ｃ₁−Ｃ₈のアルキル基、ハロゲ ン、およびＣ₁−Ｃ₄のアルコキシ基から選択され、アルコキシ基の場合、同一の 芳香環の２つの近接したＹ基は、協同して、アルキリデン基が１または２の炭素 原子を有するアルキリデンジオキシ基を形成可能であり、 −Ｘは、０またはＮＨを表し、 −Ｚは、水素またはＣ₁−Ｃ₄のアルキル基を表し、 −ｎは、０〜３の整数であり、 −ｍは、０または１であり、 −ｐは、１〜１０の整数である］ に相当するものである｝ の一つに相当する、少なくとも１つのベンゾトリアゾールシリコーンを含有せし めてなることを特徴とする抗日光組成物等の化粧品組成物。 ２． ジベンゾイルメタン誘導体が： −２−メチルジベンゾイルメタン、 −４−メチルジベンゾイルメタン、 −４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチルジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 −２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 −４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン 、 −２−メチル−５−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン 、 −２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイル メタン、 から選択されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。 ３． ジベンゾイルメタン誘導体が、４−tert−ブチル−４’−メトキシジベン ゾイルメタンであることを特徴とする請求項２に記載の組成物。 ４． ジベンゾイルメタン誘導体が、４−イソプロピルジベンゾイルメタンであ ることを特徴とする請求項２に記載の組成物。 ５． ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して０．１重量％〜８ 重量％の含有量で、組成物中に存在することを特徴とする請求項１ないし４のい ずれか１項に記載の組成物。 ６． 前記含有量が、組成物の全重量に対して０．２重量％〜５重量％であるこ とを特徴とする請求項５に記載の組成物。 ７． β，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル誘導体が、２−エチルヘキシル −α−シアノ−β，β’−ジフェニルアクラート、およびα−シアノ−β，β’ −ジフェニルアクリル酸エチルから選択されることを特徴とする請求項１ないし ６のいずれか１項に記載の組成物。 ８． β，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル誘導体が、２−エチルヘキシル −α−シアノ−β，β’−ジフェニルアクラートであることを特徴とする請求項 ７に記載の組成物。 ９． β，β’−ジフェニルアクリル酸アルキル誘導体が、組成物の全重量に対 して０．１重量％〜２０重量％の含有量で、組成物中に存在することを特徴とす る請求項１ないし８のいずれか１項に記載の組成物。 １０． 前記含有量が、組成物の全重量に対して０．２重量％〜１５重量％であ ることを特徴とする請求項９に記載の組成物。 １１． ベンゾトリアゾールシリコーンが、基Ｂが基Ｒから選択される、一般式 （１）の化合物から選択されることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか １項に記載の組成物。 １２． ベンゾトリアゾールシリコーンが、次の特性： −Ｒはアルキル、好ましくはメチルであり、 −ｒは０〜１５；ｓは１〜１０であり、 −ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙは、メチル、tert−ブチル およびＣ₁−Ｃ₄のアルコキシから選択され、 −Ｚは水素またはメチルであり、 −ｍ＝０、または［ｍ＝１およびＸ＝Ｏ］、 −ｐは１である、 のうち、少なくとも１つを有するものから選択されることを特徴とする請求項１ １に記載の組成物。 １３． 前記ベンゾトリアゾールシリコーンが、前記特性の全てを有することを 特徴とする請求項１２に記載の組成物。 １４． ベンゾトリアゾールシリコーンが、次の一般式（４）： ［上式（４）中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｄは次の式： で示される二価の基を表す］ に示される化合物から選択されることを特徴とする請求項１３に記載の組成物。 １５． ベンゾトリアゾールシリコーンが、次の式： に相当するものであることを特徴とする請求項１４に記載の組成物。 １６． 前記ベンゾトリアゾールシリコーンが、組成物の全重量に対して０．１ 〜１５重量％の含有量で、組成物中に存在することを特徴とする請求項１ないし １５のいずれか１項に記載の組成物。 １７． 前記含有量が、組成物の全重量に対して０．２〜１０重量％であること を特徴とする請求項１６に記載の組成物。 １８． 請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の組成物を有効量、皮膚およ び／または髪に適用することからなる、太陽光線等のＵＶ線から皮膚および／ま たは髪を保護するための美容処理方法。