JP2001525440A - 実質的にゲル化していない高分子組成物を含有する溶媒を基礎とする組成物 - Google Patents
実質的にゲル化していない高分子組成物を含有する溶媒を基礎とする組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
非水系溶媒と、実質的にゲル化していない高分子組成物とを含有する溶媒を基礎とする組成物を開示する。その高分子組成物は高分子鎖当たり３．５個以上の反応性官能基を有する付加高分子であるＡ高分子と、そのＡ高分子の反応性官能基と共反応性である、高分子鎖あたり約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子との反応生成物を含む。溶媒を基礎とする組成物は、コーティング液、接着剤、インク、プライマー、オーバプリントワニスなどに利用される。
Description
【０００１】 技術分野 本発明は、実質的にゲルを含有せず、比較的高分子量である高度な機能性高分
子である高分子組成物を含む溶媒を基礎とする組成物に関する。本発明の溶媒を
基礎とする組成物は、コーティング液、接着剤、インク、プライマー及びオーバ
ープリントワニスにて、又は上記用途として特に有用である。
子である高分子組成物を含む溶媒を基礎とする組成物に関する。本発明の溶媒を
基礎とする組成物は、コーティング液、接着剤、インク、プライマー及びオーバ
ープリントワニスにて、又は上記用途として特に有用である。
【０００２】 背景技術 さまざまな高分子材料を含有する溶媒を基礎とする組成物は周知である。かか
る組成物はコーティング組成物、接着剤、プライマー、オーバープリントワニス
などとして、しばしば利用される。しかしながら、かかる応用にて達成される特
性及び性質は、高分子材料にすこぶる左右される。ブロック共重合体はそのよう
な高分子材料の一つである。
る組成物はコーティング組成物、接着剤、プライマー、オーバープリントワニス
などとして、しばしば利用される。しかしながら、かかる応用にて達成される特
性及び性質は、高分子材料にすこぶる左右される。ブロック共重合体はそのよう
な高分子材料の一つである。
【０００３】 Ａ（ＢＡ）ｎ構造を有するブロック共重合体は周知である。例えば、本願の参
考文献として引用される米国特許第５,３６２,８１９号には、Ａブロックが不飽
和ポリエステルであり、好ましくは一つ若しくはあまり好ましくはないが二つの
ヒドロキシル、カルボン酸又はアミノ末端基を有し、Ｂブロックが０℃以下のガ
ラス転移温度（Ｔｇ）を有する可撓性高分子である、ＡＢＡの硬化可能ブロック
共重合体が開示されている。その可撓性高分子は共役ジエン単量体からだけでな
く、ポリエーテル又は飽和ポリエステルから合成されたものを含み、エステル、
アミドウレア又はウレタン基によりＡブロックと結合している。
考文献として引用される米国特許第５,３６２,８１９号には、Ａブロックが不飽
和ポリエステルであり、好ましくは一つ若しくはあまり好ましくはないが二つの
ヒドロキシル、カルボン酸又はアミノ末端基を有し、Ｂブロックが０℃以下のガ
ラス転移温度（Ｔｇ）を有する可撓性高分子である、ＡＢＡの硬化可能ブロック
共重合体が開示されている。その可撓性高分子は共役ジエン単量体からだけでな
く、ポリエーテル又は飽和ポリエステルから合成されたものを含み、エステル、
アミドウレア又はウレタン基によりＡブロックと結合している。
【０００４】 本願の参考文献に引用される米国特許第４,３４７,３３９号には、大部分が四
級アミノ基であるアミノ官能基を有する第一の高分子ブロックと、大部分が四級
アミノ基ではないアミノ官能基を有する第二の高分子ブロックとを有する水溶性
カチオンブロック共重合体が開示されている。その高分子ブロックは他の高分子
のブリッジで結合されているが、第二の高分子ブロックにアミノ官能基と反応す
る第一の高分子ブロック中のクロリド若しくはエポキシドのような官能基を含ま
せることにより結合させることが好ましい。
級アミノ基であるアミノ官能基を有する第一の高分子ブロックと、大部分が四級
アミノ基ではないアミノ官能基を有する第二の高分子ブロックとを有する水溶性
カチオンブロック共重合体が開示されている。その高分子ブロックは他の高分子
のブリッジで結合されているが、第二の高分子ブロックにアミノ官能基と反応す
る第一の高分子ブロック中のクロリド若しくはエポキシドのような官能基を含ま
せることにより結合させることが好ましい。
【０００５】 本願の参考文献に引用される米国特許第４,８５１,４７４号には、少なくとも
一つのポリエステルブロックと、一つ以上の共役ジエン高分子のようなエラスト
マー高分子ブロックとからなるブロック共重合体が開示されている。そのエラス
トマーブロックは、末端の官能基、つまり、高分子ブロックにつきたった２個の
官能基を導入させて機能化させている。
一つのポリエステルブロックと、一つ以上の共役ジエン高分子のようなエラスト
マー高分子ブロックとからなるブロック共重合体が開示されている。そのエラス
トマーブロックは、末端の官能基、つまり、高分子ブロックにつきたった２個の
官能基を導入させて機能化させている。
【０００６】 本願の参考文献に引用される米国特許第５,００８,３３４号には、ジオールと
一つ以上のジエポキシドの反応生成物であるＡブロックと、エポキシ基を保護さ
せ、カルボキシル末端ポリブタジエン又はポリブタジエン/アクリロニトリル/共
重合体のＢブロックとを有するＡＢＡブロック共重合体を含有する樹脂が開示さ
れている。アミン樹脂は、（ｉ）ジオールと少なくとも一つのジエポキシドの反
応生成物と、（ｉｉ）電着塗装配合に利用されるＡＢＡブロック共重合体との混
合物である樹脂から合成される。
一つ以上のジエポキシドの反応生成物であるＡブロックと、エポキシ基を保護さ
せ、カルボキシル末端ポリブタジエン又はポリブタジエン/アクリロニトリル/共
重合体のＢブロックとを有するＡＢＡブロック共重合体を含有する樹脂が開示さ
れている。アミン樹脂は、（ｉ）ジオールと少なくとも一つのジエポキシドの反
応生成物と、（ｉｉ）電着塗装配合に利用されるＡＢＡブロック共重合体との混
合物である樹脂から合成される。
【０００７】 本願の参考文献に引用される米国特許第５,３１４,９５４号には、例えば、ヒ
ドロキシ、アミノ又はカルボキシル基のような末端官能基を有するスチレン高分
子と過剰の芳香族ジカルボン酸ジハライドと重縮合させ、その後、生じた縮合物
を芳香族ジヒドロキシ化合物と界面重合させることにより生成させた芳香族ポリ
エステルーポリスチレンブロック共重合体が開示されている。上記芳香族ポリエ
ステルーポリスチレンブロック共重合体は、最小の非共重合スチレンを有し、光
学装置の調製に有用であるといわれている。
ドロキシ、アミノ又はカルボキシル基のような末端官能基を有するスチレン高分
子と過剰の芳香族ジカルボン酸ジハライドと重縮合させ、その後、生じた縮合物
を芳香族ジヒドロキシ化合物と界面重合させることにより生成させた芳香族ポリ
エステルーポリスチレンブロック共重合体が開示されている。上記芳香族ポリエ
ステルーポリスチレンブロック共重合体は、最小の非共重合スチレンを有し、光
学装置の調製に有用であるといわれている。
【０００８】 高弾性回復と高耐熱性とを有する弾性ヤーンを実現させるポリエステルブロッ
ク共重合体が、本願の参考文献に引用される米国特許第５,３８４,１８４号に開
示されている。そのポリエステルブロック共重合体は、（Ａ）主な酸成分として
のベンゼンジカルボン酸と、主なグリコール成分としてのヒドロキシル基間に５
から１２の炭素原子を有するジオールとからなる３０から９０重量％のポリエス
テルセグメントと、（Ｂ）主な酸成分としての芳香族ジカルボン酸と、主なグリ
コール成分としてのエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチ
レングリコール又は１、４−シクロヘキサンジメタノールとからなる７０から１
０重量％のポリエステルセグメントとからなる。
ク共重合体が、本願の参考文献に引用される米国特許第５,３８４,１８４号に開
示されている。そのポリエステルブロック共重合体は、（Ａ）主な酸成分として
のベンゼンジカルボン酸と、主なグリコール成分としてのヒドロキシル基間に５
から１２の炭素原子を有するジオールとからなる３０から９０重量％のポリエス
テルセグメントと、（Ｂ）主な酸成分としての芳香族ジカルボン酸と、主なグリ
コール成分としてのエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチ
レングリコール又は１、４−シクロヘキサンジメタノールとからなる７０から１
０重量％のポリエステルセグメントとからなる。
【０００９】 本願の参考文献に引用される米国特許第５,４９６,８７６号には、反応性末端
基を有するポリアミド高分子と反応性末端基を有するポリエーテル配列との共重
縮合により構成されたポリエーテルアミドブロック共重合体が開示されている。
上記ポリエーテルアミドブロック共重合体は、スチレン/ジエン共重合体とブレ ンドされ、熱可塑性高分子組成物を構成する。
基を有するポリアミド高分子と反応性末端基を有するポリエーテル配列との共重
縮合により構成されたポリエーテルアミドブロック共重合体が開示されている。
上記ポリエーテルアミドブロック共重合体は、スチレン/ジエン共重合体とブレ ンドされ、熱可塑性高分子組成物を構成する。
【００１０】 本願の参考文献に引用される米国特許第４,１８０,５２８号には、付加高分子
であるＡブロックと直鎖状飽和ポリエステルであるＢブロックとを有するＡＢＡ
型のブロック共重合体が開示されている。ＡブロックとＢブロックは付加重合に
より結合されている。
であるＡブロックと直鎖状飽和ポリエステルであるＢブロックとを有するＡＢＡ
型のブロック共重合体が開示されている。ＡブロックとＢブロックは付加重合に
より結合されている。
【００１１】 本願の参考文献に引用される欧州特許出願第０６８７６９０/Ａ号には、高温 重合方法が開示されており、それにより比較的低分子量を有する末端不飽和オリ
ゴマーが生成できる。更に、上記文献には、カルボン酸基を有する末端不飽和オ
リゴマーが二つ以上のアルコール性官能基を有する多官能性アルコールと反応し
てポリエステルが生じることをも開示している。しかしながら、相対的に高い官
能性を有する末端不飽和オリゴマーは開示されていない。
ゴマーが生成できる。更に、上記文献には、カルボン酸基を有する末端不飽和オ
リゴマーが二つ以上のアルコール性官能基を有する多官能性アルコールと反応し
てポリエステルが生じることをも開示している。しかしながら、相対的に高い官
能性を有する末端不飽和オリゴマーは開示されていない。
【００１２】 高官能性であり、好ましくは高い酸官能性だけでなく、高分子量であることが
好ましいが、容易にゲルにはならない少なくとも一つの高分子組成物を含有する
溶媒を基礎とする組成物が、非常に望まれている。
好ましいが、容易にゲルにはならない少なくとも一つの高分子組成物を含有する
溶媒を基礎とする組成物が、非常に望まれている。
【００１３】 発明の要約開示 本発明は、（ｉ）非水系溶媒と、（ｉｉ）高分子鎖当たり３．５個以上の反応
性官能基を有する付加高分子であるＡ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反
応性である、高分子鎖当たり約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子との反
応生成物を含む高分子組成物とからなる溶媒を基礎とする組成物に関する。Ｂ高
分子の共反応性官能基の全ては、実質的に共反応していることが好ましい。Ａ高
分子の反応性官能基は縮合反応性官能基であることが、さらに好ましい。
性官能基を有する付加高分子であるＡ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反
応性である、高分子鎖当たり約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子との反
応生成物を含む高分子組成物とからなる溶媒を基礎とする組成物に関する。Ｂ高
分子の共反応性官能基の全ては、実質的に共反応していることが好ましい。Ａ高
分子の反応性官能基は縮合反応性官能基であることが、さらに好ましい。
【００１４】 一般には、Ａ高分子のＢ高分子に対するモル比は、約３：１から約２：１．７
である。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ａ高分子のＢ高分子に対するモル比は、
二つの高分子の数平均分子量（Ｍｎ）に基づいて、約２：１から約２：１．７で
あることが好ましい。Ｂ高分子は三官能である際には、Ａ高分子のＢ高分子に対
するモル比は約３：１であることが好ましい。
である。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ａ高分子のＢ高分子に対するモル比は、
二つの高分子の数平均分子量（Ｍｎ）に基づいて、約２：１から約２：１．７で
あることが好ましい。Ｂ高分子は三官能である際には、Ａ高分子のＢ高分子に対
するモル比は約３：１であることが好ましい。
【００１５】 縮合反応性官能基は、カルボキシル、ヒドロキシル、エポキシ、イソシアナー
ト（isocyanato）、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカ
ルボニル又はアミノからなる群から選択されたものであることが好ましい。好適
実施例では、Ａ高分子は、高分子鎖当たり３．５個以上のカルボン酸官能基を有
する。さらに、このＡ高分子は低分子量スチレン/アクリル酸/α‐メチルスチレ
ン高分子であることが好ましい。
ト（isocyanato）、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカ
ルボニル又はアミノからなる群から選択されたものであることが好ましい。好適
実施例では、Ａ高分子は、高分子鎖当たり３．５個以上のカルボン酸官能基を有
する。さらに、このＡ高分子は低分子量スチレン/アクリル酸/α‐メチルスチレ
ン高分子であることが好ましい。
【００１６】 別の好適実施例では、Ａ高分子は、高分子鎖当たり３．５個以上のヒドロキシ
ル官能基を有する。この場合には、そのＡ高分子は低分子量スチレン/２−エチ ルヘキシルアクリレート/２−ヒドロキシエチルメタクリレート高分子であるこ とが、さらに好ましい。
ル官能基を有する。この場合には、そのＡ高分子は低分子量スチレン/２−エチ ルヘキシルアクリレート/２−ヒドロキシエチルメタクリレート高分子であるこ とが、さらに好ましい。
【００１７】 Ｂ高分子は、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタン、ポリオル
ガノシロキサン及びポリ（エーテル）からなる群から選択された縮合高分子であ
ることが好ましい。そのＢ高分子の共反応性官能基は、ヒドロキシル、エポキシ
、オキサゾリニル、又はアミノ基であることが、さらに好ましい。 本発明の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、ゲル化する若
しくはゲル粒子を予期せずに全く含まない比較的高分子量である高官能性高分子
である。かかる高分子組成物は、その有用性及び性能特性を向上させる幅広い分
子量分布を有する。本発明の溶媒を基礎とする組成物は、コーティング液、接着
剤、インク、プライマー、オーバープリントワニスなどとして利用される。
ガノシロキサン及びポリ（エーテル）からなる群から選択された縮合高分子であ
ることが好ましい。そのＢ高分子の共反応性官能基は、ヒドロキシル、エポキシ
、オキサゾリニル、又はアミノ基であることが、さらに好ましい。 本発明の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、ゲル化する若
しくはゲル粒子を予期せずに全く含まない比較的高分子量である高官能性高分子
である。かかる高分子組成物は、その有用性及び性能特性を向上させる幅広い分
子量分布を有する。本発明の溶媒を基礎とする組成物は、コーティング液、接着
剤、インク、プライマー、オーバープリントワニスなどとして利用される。
【００１８】 本発明の実施のベストモード 本発明の溶媒を基礎とする組成物は、（ｉ）少なくとも一つの非水系溶媒と、
（ｉｉ）高分子鎖当たり３．５個以上の反応性官能基を有する付加高分子である
Ａ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を有し、高分子鎖当たり約２個
から約３個の官能基を有するＢ高分子との反応生成物からなる少なくとも一つの
高分子組成物とを含む少なくとも一つの成分の混合物である。
（ｉｉ）高分子鎖当たり３．５個以上の反応性官能基を有する付加高分子である
Ａ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を有し、高分子鎖当たり約２個
から約３個の官能基を有するＢ高分子との反応生成物からなる少なくとも一つの
高分子組成物とを含む少なくとも一つの成分の混合物である。
【００１９】 用語「溶媒を基礎とする」とは、少なくとも非水系溶媒として本願で開示され
、少なくとも一つの非ゲル化高分子組成物を実質的に混合させること意味する。
高分子組成物は、その溶媒に溶解可能であることが好ましい。しかしながら、混
合物が部分的に溶解することが起これば、本発明の意味するところに含まれる。
さらに、溶媒に全く溶解しない高分子組成物も、本発明に包含される。さらに、
一つ以上の高分子組成物がその溶解度以上に溶解する量を添加させることも、本
発明の混合物の意味するところに包含される。
、少なくとも一つの非ゲル化高分子組成物を実質的に混合させること意味する。
高分子組成物は、その溶媒に溶解可能であることが好ましい。しかしながら、混
合物が部分的に溶解することが起これば、本発明の意味するところに含まれる。
さらに、溶媒に全く溶解しない高分子組成物も、本発明に包含される。さらに、
一つ以上の高分子組成物がその溶解度以上に溶解する量を添加させることも、本
発明の混合物の意味するところに包含される。
【００２０】 本願で利用される高分子組成物は、本願に参考文献に引用される発明名称「高
分子組成物、及びその合成並びにその使用」である係属中の米国特許出願（ドケ
ット番号Ｊ‐２４５２）にも説明されている。
分子組成物、及びその合成並びにその使用」である係属中の米国特許出願（ドケ
ット番号Ｊ‐２４５２）にも説明されている。
【００２１】 本発明に利用される高分子組成物のＡ高分子は、高分子当たり３．５個以上の
反応性官能基を有する付加高分子である。機能化された付加高分子の合成は、当
業者には周知である。
反応性官能基を有する付加高分子である。機能化された付加高分子の合成は、当
業者には周知である。
【００２２】 Ａ高分子の反応性官能基は、縮合反応性官能基であることが好ましい。好適な
縮合反応性官能基には、カルボキシル、ヒドロキシル、エポキシ、イソシナナー
ト、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカルボニル又はア
ミノがある。カルボキシル及びヒドロキシル官能基が最も好ましい。カルボキシ
ル酸無水物とは、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる二価の官能基であり
、双方の自由原子価は付加高分子骨格に結合若しくはリンクしている、あるいは
、Ｒ−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる単一原子価の基であり、Ｒは１か
ら３０の炭素原子を有するアルキル基、若しくは６から２０の炭素原子を有する
アリール基、又は７から２０の炭素原子を有するアラルキル基、あるいは７から
２０の炭素原子を有するアルキアリール基である。スルホとは、−ＳＯ２ＯＨで
表わされる基であり、エステル化されたオキシカルボニルとは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
−Ｒで表わされる基であり、ここでＲは前述と同じものを意味しており、例えば
、アルキロキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、アラルキロキシカルボニ
ル又はアルキアリーロキシカルボニルである。
縮合反応性官能基には、カルボキシル、ヒドロキシル、エポキシ、イソシナナー
ト、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカルボニル又はア
ミノがある。カルボキシル及びヒドロキシル官能基が最も好ましい。カルボキシ
ル酸無水物とは、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる二価の官能基であり
、双方の自由原子価は付加高分子骨格に結合若しくはリンクしている、あるいは
、Ｒ−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる単一原子価の基であり、Ｒは１か
ら３０の炭素原子を有するアルキル基、若しくは６から２０の炭素原子を有する
アリール基、又は７から２０の炭素原子を有するアラルキル基、あるいは７から
２０の炭素原子を有するアルキアリール基である。スルホとは、−ＳＯ２ＯＨで
表わされる基であり、エステル化されたオキシカルボニルとは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
−Ｒで表わされる基であり、ここでＲは前述と同じものを意味しており、例えば
、アルキロキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、アラルキロキシカルボニ
ル又はアルキアリーロキシカルボニルである。
【００２３】 連鎖成長重合反応の生成物である付加高分子は、エチレン不飽和単量体から合
成される。上記化合物は周知であり、例えば、Ｃ２からＣ２０アルケン、Ｃ３か
らＣ２０のアルカジエン、Ｃ５からＣ２０のアルカトリエン、Ｃ５からＣ２０の
シクロオレフィン、ビニル置換芳香族化合物、アクリル又はメタクリル酸、アク
リル酸若しくはメタクリル酸のＣ１からＣ２０のアルキルエステル、アクリル酸
若しくはメタクリル酸のＣ６からＣ２０のアリールエステル、アクリル酸若しく
はメタクリル酸のＣ７からＣ２０のアラルキルエステルなどがある。
成される。上記化合物は周知であり、例えば、Ｃ２からＣ２０アルケン、Ｃ３か
らＣ２０のアルカジエン、Ｃ５からＣ２０のアルカトリエン、Ｃ５からＣ２０の
シクロオレフィン、ビニル置換芳香族化合物、アクリル又はメタクリル酸、アク
リル酸若しくはメタクリル酸のＣ１からＣ２０のアルキルエステル、アクリル酸
若しくはメタクリル酸のＣ６からＣ２０のアリールエステル、アクリル酸若しく
はメタクリル酸のＣ７からＣ２０のアラルキルエステルなどがある。
【００２４】 より具体的には、かかるエチレン不飽和単量体には、これらに限定されないが
、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン
、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３、３
−ジメチル−１−ブテン、２、４、４−トリメチル−１−ペンテン、６−エチル
−１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、ア
レン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１、５−ヘキサジエン、１、３
、５−ヘキサトリエン、ジビニルアセチレン、シクロペンタジエン、ジシクロペ
ンタジエン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、メチルノルボルネン、シクロヘ
キセン、スチレン、α−クロロスチレン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン
、フェニルアセチレン、１−フェニル−１、３−ブタジエン、ビニルナフタレン
、４−メチルスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、４−クロロスチレ
ン、３、４−ジメチル−α−メチルスチレン、３−ブロモ−メチル−α−メチル
スチレン、２、５−ジクロロスチレン、４−フルオロスチレン、３−ヨードスチ
レン、４−シアノスチレン、４−ビニル安息香酸、４−アセトキシスチレン、４
−ビニルベンジルアルコール、３−ヒドロキシスチレン、１、４−ジヒドロキシ
スチレン、３−ニトロスチレン、２−アミノスチレン、４−Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノスチレン、４−フェニルスチレン、４−クロロ−１−ビニルナフタレン、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクロレイン、メタクロレイン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、メチルアクリレート
、メチルメタクリレート、ノルボルネニルアクリレート、ノルボルニルジアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、ア２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、アリルアルコール、プロポキシル化アリルアルコール、エトキシ化アリ
ルアルコール、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−フェ
ノキシエチルアクリレート、トリメトキシシリロキシプロピルアクリレート、ジ
シクロペンテニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−トリロキシ
エチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、イソプロピルメタクリ
レート、エチルアクリレート、メチルα−クロロアクリレート、β−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、Ｎ−メチルメタクリルアミド、エチルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート
、シクロヘキシルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロ
ヘキシルメタクリレート、β−ブロモエチルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、ネオペンチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、クロロアクリル酸、メチルクロロアクリルレート、ヘキシルアクリレ
ート、アクリルドデシル、３−メチル−１−ブチルアクリレート、２−エトキシ
エチルアクリレート、フェニルアクリレート、ブトキシエトキシエチルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、メトキシポリ（エチレンオキシ）１２アクリレー
ト、トリデコキシポリ（エチレンオキシ）１２アクリレート、クロロアクリロニ
トリル、ジクロロイソプロピルアクリレート、エタクリロニトリル、Ｎ−フェニ
ルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニリデンシアニド、フッ化ビニル
、フッ化ビニリデン、トリクロロエタン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル、ビニルブチラール、クロロ酢酸ビニル、酢酸
イソプロペニル、ギ酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、カプロン酸ビニル、オレイ
ン酸ビニル、アジピン酸ビニル、メチルビニルケトン、メチルイソプロペニルケ
トン、メチルα−クロロビニルケトン、エチルビニルケトン、ヒドロキシメチル
ビニルケトン、クロロメチルビニルケトン、アリリデン（allylidene）ジアセテ
ート、メチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエー
テル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、２−メトキシエチルビニルエーテル
、２−クロロエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、アミノエチルビニルエーテル、α−メチルビ
ニルメチルエーテル、ジビニルエーテル、エチレングリコール若しくはジエチレ
ングリコール又はトリエタノールアミンシクロヘキシルビニルエーテルのジビニ
ルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェネチルビニルエーテル、クレシルビ
ニルエーテル、ヒドロキシフェニルビニルエーテル、クロロフェニルビニルエー
テル、ナフチルビニルエーテル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マ
レイン酸ジ（２−エチルヘキシル）、マレイン酸無水物、フマル酸ジメチル、フ
マル酸ジプロピル、フマル酸ジアミル、ビニルエーテルスルフィド、ジビニルス
ルフィド、ビニルｐ−トリルスルフィド、ジビニルスルフォン、ビニルエーテル
スルフォン、ビニルエーテルスフフォキシド、ビニルスルホン酸、ビニルスルホ
ン酸ナトリウム、ビニルスルフォンアミド、ビニルベンズアミド、ビニルピリジ
ン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−（ビニルベンジル）
‐ピロリドン、Ｎ−（ビニルベンジル）ピペリジン、１−ビニルピレン、２−イ
ソプロペニルフラン、２−ビニルジベンゾフラン、２−メチル−５−ビニルピリ
ジン、３−イソプロペニルピリジン、２−ビニルピペリジン、２−ビニルキノリ
ン、２−ビニルベンゾオキサゾール、４−メチル−５−ビニルチアゾール、ビニ
ルチオフェン、２−イソプロペニルチオフェン、インデン、クマロン、１−クロ
ロエチルビニルスルフィド、ビニル２−エトキシエチルスルフィド、ビニルフェ
ニルスルフィド、ビニル２−ナフチルスルフィド、アリルメルカプタン、ジビニ
ルスルフォキシド、ビニルフェニルスルフォキシド、ビニルクロロフェニルスル
フォキシド、メチルビニルスルフォネート、ビニルスルフォアニリン、ブロック
化されていない及びブロック化されたアセトアセトキシ官能性単量体（例えば、
アセトアセトキシエチルメタクリレートやアセトアセトキシエチルアクリレート
）、ブロック化されていない及びブロック化されたメタ−テトラメチルイソシア
ネート、ブロック化されていない及びブロック化されたイソシアネートエチルメ
タクリレートなどがある。
、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン
、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３、３
−ジメチル−１−ブテン、２、４、４−トリメチル−１−ペンテン、６−エチル
−１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、ア
レン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１、５−ヘキサジエン、１、３
、５−ヘキサトリエン、ジビニルアセチレン、シクロペンタジエン、ジシクロペ
ンタジエン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、メチルノルボルネン、シクロヘ
キセン、スチレン、α−クロロスチレン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン
、フェニルアセチレン、１−フェニル−１、３−ブタジエン、ビニルナフタレン
、４−メチルスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、４−クロロスチレ
ン、３、４−ジメチル−α−メチルスチレン、３−ブロモ−メチル−α−メチル
スチレン、２、５−ジクロロスチレン、４−フルオロスチレン、３−ヨードスチ
レン、４−シアノスチレン、４−ビニル安息香酸、４−アセトキシスチレン、４
−ビニルベンジルアルコール、３−ヒドロキシスチレン、１、４−ジヒドロキシ
スチレン、３−ニトロスチレン、２−アミノスチレン、４−Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノスチレン、４−フェニルスチレン、４−クロロ−１−ビニルナフタレン、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクロレイン、メタクロレイン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、メチルアクリレート
、メチルメタクリレート、ノルボルネニルアクリレート、ノルボルニルジアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、ア２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、アリルアルコール、プロポキシル化アリルアルコール、エトキシ化アリ
ルアルコール、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−フェ
ノキシエチルアクリレート、トリメトキシシリロキシプロピルアクリレート、ジ
シクロペンテニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−トリロキシ
エチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、イソプロピルメタクリ
レート、エチルアクリレート、メチルα−クロロアクリレート、β−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、Ｎ−メチルメタクリルアミド、エチルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート
、シクロヘキシルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロ
ヘキシルメタクリレート、β−ブロモエチルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、ネオペンチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、クロロアクリル酸、メチルクロロアクリルレート、ヘキシルアクリレ
ート、アクリルドデシル、３−メチル−１−ブチルアクリレート、２−エトキシ
エチルアクリレート、フェニルアクリレート、ブトキシエトキシエチルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、メトキシポリ（エチレンオキシ）１２アクリレー
ト、トリデコキシポリ（エチレンオキシ）１２アクリレート、クロロアクリロニ
トリル、ジクロロイソプロピルアクリレート、エタクリロニトリル、Ｎ−フェニ
ルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニリデンシアニド、フッ化ビニル
、フッ化ビニリデン、トリクロロエタン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル、ビニルブチラール、クロロ酢酸ビニル、酢酸
イソプロペニル、ギ酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、カプロン酸ビニル、オレイ
ン酸ビニル、アジピン酸ビニル、メチルビニルケトン、メチルイソプロペニルケ
トン、メチルα−クロロビニルケトン、エチルビニルケトン、ヒドロキシメチル
ビニルケトン、クロロメチルビニルケトン、アリリデン（allylidene）ジアセテ
ート、メチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエー
テル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、２−メトキシエチルビニルエーテル
、２−クロロエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、アミノエチルビニルエーテル、α−メチルビ
ニルメチルエーテル、ジビニルエーテル、エチレングリコール若しくはジエチレ
ングリコール又はトリエタノールアミンシクロヘキシルビニルエーテルのジビニ
ルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェネチルビニルエーテル、クレシルビ
ニルエーテル、ヒドロキシフェニルビニルエーテル、クロロフェニルビニルエー
テル、ナフチルビニルエーテル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マ
レイン酸ジ（２−エチルヘキシル）、マレイン酸無水物、フマル酸ジメチル、フ
マル酸ジプロピル、フマル酸ジアミル、ビニルエーテルスルフィド、ジビニルス
ルフィド、ビニルｐ−トリルスルフィド、ジビニルスルフォン、ビニルエーテル
スルフォン、ビニルエーテルスフフォキシド、ビニルスルホン酸、ビニルスルホ
ン酸ナトリウム、ビニルスルフォンアミド、ビニルベンズアミド、ビニルピリジ
ン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−（ビニルベンジル）
‐ピロリドン、Ｎ−（ビニルベンジル）ピペリジン、１−ビニルピレン、２−イ
ソプロペニルフラン、２−ビニルジベンゾフラン、２−メチル−５−ビニルピリ
ジン、３−イソプロペニルピリジン、２−ビニルピペリジン、２−ビニルキノリ
ン、２−ビニルベンゾオキサゾール、４−メチル−５−ビニルチアゾール、ビニ
ルチオフェン、２−イソプロペニルチオフェン、インデン、クマロン、１−クロ
ロエチルビニルスルフィド、ビニル２−エトキシエチルスルフィド、ビニルフェ
ニルスルフィド、ビニル２−ナフチルスルフィド、アリルメルカプタン、ジビニ
ルスルフォキシド、ビニルフェニルスルフォキシド、ビニルクロロフェニルスル
フォキシド、メチルビニルスルフォネート、ビニルスルフォアニリン、ブロック
化されていない及びブロック化されたアセトアセトキシ官能性単量体（例えば、
アセトアセトキシエチルメタクリレートやアセトアセトキシエチルアクリレート
）、ブロック化されていない及びブロック化されたメタ−テトラメチルイソシア
ネート、ブロック化されていない及びブロック化されたイソシアネートエチルメ
タクリレートなどがある。
【００２５】 付加高分子のエチレン不飽和単量体ユニットの少なくとも一つは、縮合反応性
官能基のような反応性官能基を有していなければならず、カルボキシル基、ヒド
ロキシル基若しくはエポキシ基が好ましく、最も好ましいのはカルボキシル基及
びヒドロキシル基である。典型的な酸官能性エチレン不飽和単量体には、以下の
ものに限定されないが、アコニット酸、アクリル酸、β−カルボキシメチルアク
リレート、ケイ皮酸、クロトン酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、メタク
リル酸、及び上記の混合物などがある。さらに適するものには、環状酸無水物の
ような、いわゆる「潜在」酸部分を含む特定の単量体がある。したがって、適当
な環状酸無水物には、以下のものに限定されないが、イタコン酸無水物、マレイ
ン酸無水物、及びそれらの混合物がある。アクリル酸若しくはメタクリル酸の単
量体が最も好ましい。縮合反応性官能基は、エチレン不飽和単量体の一部分であ
ることが好ましい。但し、必要ならば、高分子生成後に付加高分子を添加しても
かまわない。
官能基のような反応性官能基を有していなければならず、カルボキシル基、ヒド
ロキシル基若しくはエポキシ基が好ましく、最も好ましいのはカルボキシル基及
びヒドロキシル基である。典型的な酸官能性エチレン不飽和単量体には、以下の
ものに限定されないが、アコニット酸、アクリル酸、β−カルボキシメチルアク
リレート、ケイ皮酸、クロトン酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、メタク
リル酸、及び上記の混合物などがある。さらに適するものには、環状酸無水物の
ような、いわゆる「潜在」酸部分を含む特定の単量体がある。したがって、適当
な環状酸無水物には、以下のものに限定されないが、イタコン酸無水物、マレイ
ン酸無水物、及びそれらの混合物がある。アクリル酸若しくはメタクリル酸の単
量体が最も好ましい。縮合反応性官能基は、エチレン不飽和単量体の一部分であ
ることが好ましい。但し、必要ならば、高分子生成後に付加高分子を添加しても
かまわない。
【００２６】 Ａ高分子として利用される付加高分子は、アクリル共重合体若しくはスチレン
/アクリル酸又はスチレン/（メタ）アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン/ α−メチルスチレン/アクリル酸共重合体がさらに好ましい。一般に、好適なス チレン/アクリル酸付加高分子は、１０から９０重量％のスチレンと、１０から ９０重量％のアクリル酸とからなる。必要ならば、スチレンはα−メチルスチレ
ンと置換若しくは混合させてもかまわない。本願で利用する「重量％」は、特に
断りがない限り、全高分子重量に重量パーセントを表わす。Ａ高分子として利用
できる別の好適な付加高分子は、ヒドロキシアクリレート又はメタクリレート共
重合体、又はスチレン/ヒドロキシアクリレート若しくはスチレン/ヒドロキシメ
タクリレート共重合体であり、スチレン/ヒドロキシアクリレート（若しくはメ タクリレート）/アクリレート（又はメタクリレート）共重合体がさらに好まし い。
/アクリル酸又はスチレン/（メタ）アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン/ α−メチルスチレン/アクリル酸共重合体がさらに好ましい。一般に、好適なス チレン/アクリル酸付加高分子は、１０から９０重量％のスチレンと、１０から ９０重量％のアクリル酸とからなる。必要ならば、スチレンはα−メチルスチレ
ンと置換若しくは混合させてもかまわない。本願で利用する「重量％」は、特に
断りがない限り、全高分子重量に重量パーセントを表わす。Ａ高分子として利用
できる別の好適な付加高分子は、ヒドロキシアクリレート又はメタクリレート共
重合体、又はスチレン/ヒドロキシアクリレート若しくはスチレン/ヒドロキシメ
タクリレート共重合体であり、スチレン/ヒドロキシアクリレート（若しくはメ タクリレート）/アクリレート（又はメタクリレート）共重合体がさらに好まし い。
【００２７】 本発明にて利用される高分子組成物でのＡ高分子として使用されるさらに別の
付加高分子は、本願の参考文献に引用される発明名称「ハイパーブランチ高分子
の製造方法」である係属中米国特許出願（ドケット番号Ｊ−２５８３）に開示さ
れているようなハイパーブランチ高分子がある。末端にエチレン不飽和を有する
かかるハイパーブランチ高分子は、ハイパーブランチ高分子当たり３．５個以上
の縮合反応性官能基を有することが好ましい。
付加高分子は、本願の参考文献に引用される発明名称「ハイパーブランチ高分子
の製造方法」である係属中米国特許出願（ドケット番号Ｊ−２５８３）に開示さ
れているようなハイパーブランチ高分子がある。末端にエチレン不飽和を有する
かかるハイパーブランチ高分子は、ハイパーブランチ高分子当たり３．５個以上
の縮合反応性官能基を有することが好ましい。
【００２８】 通常、付加高分子は約５００から約５０,０００のＭｎの低分子量高分子であ り、約９００から約３,０００のＭｎの分子量が好ましい。前述したように、付 加高分子の縮合反応性官能基は少なくとも３．５個若しくはそれ以上でなければ
ならず、約３．５個から約２０個であることが好ましく、約３．５個から約１０
個であることがさらに好ましい。
ならず、約３．５個から約２０個であることが好ましく、約３．５個から約１０
個であることがさらに好ましい。
【００２９】 付加高分子の合成は当業者には周知であり、気相重合、溶液重合、バッチ重合
、連続反応器若しくは管重合、サスペンション重合及びエマルジョン重合がある
。かかる付加高分子の合成方法は、本願の参考文献に引用される米国特許第４, ４１３,３７０号、米国特許第４,５２９,７８７号、米国特許第４,５４６,１６ ０号に説明されている。
、連続反応器若しくは管重合、サスペンション重合及びエマルジョン重合がある
。かかる付加高分子の合成方法は、本願の参考文献に引用される米国特許第４, ４１３,３７０号、米国特許第４,５２９,７８７号、米国特許第４,５４６,１６ ０号に説明されている。
【００３０】 本発明に利用される高分子組成物のＢ高分子は、Ａ高分子の反応性官能基と共
反応性を示す約２個から約３個の官能基を有する。Ｂ高分子の好適な官能基には
、ヒドロキシル、カルボキシル、エポキシ、オキサゾリニル及びアミノ基がある
。但し、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を示す何れの基も、本発明の範囲内
にあると考えられる。Ｂ高分子は付加高分子若しくは縮合高分子であり、縮合高
分子が好ましい。縮合高分子には、ポリアミド、ポリエステル、ポリ（エーテル
）、ポリウレタンなどがある。縮合高分子の合成は、付加高分子の合成と同じよ
うに、当業者には周知である。例えば、ポリエステルはスズ触媒とともに、過剰
のグリコールと溶融方法（fusion process）の通常の技法を利用して合成される
。ポリアミドは、触媒なしで、溶融方法を利用して容易に合成することができる
。
反応性を示す約２個から約３個の官能基を有する。Ｂ高分子の好適な官能基には
、ヒドロキシル、カルボキシル、エポキシ、オキサゾリニル及びアミノ基がある
。但し、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を示す何れの基も、本発明の範囲内
にあると考えられる。Ｂ高分子は付加高分子若しくは縮合高分子であり、縮合高
分子が好ましい。縮合高分子には、ポリアミド、ポリエステル、ポリ（エーテル
）、ポリウレタンなどがある。縮合高分子の合成は、付加高分子の合成と同じよ
うに、当業者には周知である。例えば、ポリエステルはスズ触媒とともに、過剰
のグリコールと溶融方法（fusion process）の通常の技法を利用して合成される
。ポリアミドは、触媒なしで、溶融方法を利用して容易に合成することができる
。
【００３１】 通常、ポリエステル又はポリアミドの合成は、ポリカルボン酸の使用を必要す
る。典型的なポリカルボン酸には、以下のものに限定されないが、アジピン酸、
アゼライン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、１、４−シクロヘキ
サンジカルボキシレート、クロレンド酸無水物、ダイマーアシッド、フマル酸、
グルタル酸、ヘキサヒドロフタル酸無水物、イタコン酸、イソフタル酸、マレイ
ン酸又はその酸無水物、フタル酸無水物、セバシン酸、スベリン酸、テレフタル
酸、テトラヒドロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、アルカニルコハク酸
無水物、５−ソディオスルフォイソフタル酸又は５−リチオスルフォイソフタル
酸がある。一般には、ポリエステルグリコールの合成は１、３−ブタンジオール
、１、４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、２、２−ジメチル−１、３−ペンタンジオール、
２−ブチル−２−エチル−１、３−プロパンジオール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１、６−ヘキ
サンジオール、１、５−ペンタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、水素化ビスフェノールＡ、グリセリン、２−メチル−１、３
−プロパンジオールなどの成分を利用する。
る。典型的なポリカルボン酸には、以下のものに限定されないが、アジピン酸、
アゼライン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、１、４−シクロヘキ
サンジカルボキシレート、クロレンド酸無水物、ダイマーアシッド、フマル酸、
グルタル酸、ヘキサヒドロフタル酸無水物、イタコン酸、イソフタル酸、マレイ
ン酸又はその酸無水物、フタル酸無水物、セバシン酸、スベリン酸、テレフタル
酸、テトラヒドロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、アルカニルコハク酸
無水物、５−ソディオスルフォイソフタル酸又は５−リチオスルフォイソフタル
酸がある。一般には、ポリエステルグリコールの合成は１、３−ブタンジオール
、１、４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、２、２−ジメチル−１、３−ペンタンジオール、
２−ブチル−２−エチル−１、３−プロパンジオール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１、６−ヘキ
サンジオール、１、５−ペンタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、水素化ビスフェノールＡ、グリセリン、２−メチル−１、３
−プロパンジオールなどの成分を利用する。
【００３２】 ポリアミドの合成では、通常、ポリアミド官能成分は、エチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、イソホロンジ
アミン、メチレンジシクロヘキシルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン
などから選択される。
キサメチレンジアミン、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、イソホロンジ
アミン、メチレンジシクロヘキシルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン
などから選択される。
【００３３】 出発物質である酸は、重合脂肪酸であり、一塩基酸（Ｃ１８）、二塩基脂肪酸
（Ｃ３６）と、トリマー又は多塩基脂肪酸（Ｃ５４以上）、シュウ酸、グルタル
酸、マロン酸、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、アゼライン酸、スベリン酸
、ピメリン酸、テトラフタル酸、１、４若しくは１、３−シクロヘキサン、ナフ
タレン、フタル酸、イソフタル酸、ドデカンジオイックジジカルボン酸のような
脂肪族、環状脂肪族及び芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸の混合物である
。好適なジカルボン酸は、少なくとも６つの炭素原子を有する、好ましくは６か
ら約２２の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアシッドであり、例えば、セバシン酸
、ドデカンジオイックアシッド、アゼラインジカルボン酸である。モノカルボン
酸は分子量を制御するために添加される。好適なモノカルボン酸は直鎖であり、
２から２２の炭素原子を有する。最も好適なものは、ステアリン酸及びオレイン
酸である。
（Ｃ３６）と、トリマー又は多塩基脂肪酸（Ｃ５４以上）、シュウ酸、グルタル
酸、マロン酸、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、アゼライン酸、スベリン酸
、ピメリン酸、テトラフタル酸、１、４若しくは１、３−シクロヘキサン、ナフ
タレン、フタル酸、イソフタル酸、ドデカンジオイックジジカルボン酸のような
脂肪族、環状脂肪族及び芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸の混合物である
。好適なジカルボン酸は、少なくとも６つの炭素原子を有する、好ましくは６か
ら約２２の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアシッドであり、例えば、セバシン酸
、ドデカンジオイックアシッド、アゼラインジカルボン酸である。モノカルボン
酸は分子量を制御するために添加される。好適なモノカルボン酸は直鎖であり、
２から２２の炭素原子を有する。最も好適なものは、ステアリン酸及びオレイン
酸である。
【００３４】 ポリアミドの合成に使用されるジアミンは、約２から約２０の炭素原子を有す
る一つ以上の公知の脂肪族、環状脂肪族若しくは芳香族ジアミンである。好適な
ものには、エチレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、１、４−ジアミノブ
タン、ｐ−キシレンジアミン、１、６−ヘキサメチレンジアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ビス（４−シクロヘキシルアミン）メタン、２、２’−ビス（４−シ
クロヘキシルアミン）プロパン、ポリグリコールジアミン、イソホロンジアミン
、ｍ−キシレンジアミン、シクロヘキシルビス（メチルアミン）、ポリオキシア
ルキレンジアミン（登録商標ジェファミン(Jeffamine)にてハンツマン(Huntsman
)から市販されている）、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、１、４−ビ ス−（２−アミノエチル）ベンゼン、ダイマージアミン、ポリエーテルジアミン
、メチルペンタメチレンジアミン及びピペリジンのようなアルキレンジアミンが
ある。好適なジアミンは、２から約２０の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアミン
であり、特にエチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミンであり、並びに環状
脂肪族ジアミンでは、特に４、４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）及
びピペリジンである。モノアミンが分子量を制御するために添加される。好適な
モノアミンは直鎖であり、２から２２の炭素原子を有する。最も好ましいアミン
はステアリルアミン及びオレイルアミンである。
る一つ以上の公知の脂肪族、環状脂肪族若しくは芳香族ジアミンである。好適な
ものには、エチレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、１、４−ジアミノブ
タン、ｐ−キシレンジアミン、１、６−ヘキサメチレンジアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ビス（４−シクロヘキシルアミン）メタン、２、２’−ビス（４−シ
クロヘキシルアミン）プロパン、ポリグリコールジアミン、イソホロンジアミン
、ｍ−キシレンジアミン、シクロヘキシルビス（メチルアミン）、ポリオキシア
ルキレンジアミン（登録商標ジェファミン(Jeffamine)にてハンツマン(Huntsman
)から市販されている）、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、１、４−ビ ス−（２−アミノエチル）ベンゼン、ダイマージアミン、ポリエーテルジアミン
、メチルペンタメチレンジアミン及びピペリジンのようなアルキレンジアミンが
ある。好適なジアミンは、２から約２０の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアミン
であり、特にエチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミンであり、並びに環状
脂肪族ジアミンでは、特に４、４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）及
びピペリジンである。モノアミンが分子量を制御するために添加される。好適な
モノアミンは直鎖であり、２から２２の炭素原子を有する。最も好ましいアミン
はステアリルアミン及びオレイルアミンである。
【００３５】 縮合高分子には、機能性を制御するために、一つの機能性化合物をも包含する
。例えば、安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ベラティックアシッド（verati
c acid）、ロジン、ラウリン酸、醤油、アマニ、トール(tall)及び脱水ひまし油
から作られたもののようなモノアシッドは、ポリエステルの合成に利用されるが
、ステアリルアミン、タローアミン及びシクロヘキシルアミンはポリアミドの合
成に利用される。
。例えば、安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ベラティックアシッド（verati
c acid）、ロジン、ラウリン酸、醤油、アマニ、トール(tall)及び脱水ひまし油
から作られたもののようなモノアシッドは、ポリエステルの合成に利用されるが
、ステアリルアミン、タローアミン及びシクロヘキシルアミンはポリアミドの合
成に利用される。
【００３６】 好適なポリアミド組成物は、アジピン酸及び２−メチル−１、５−ペンタンジ
アミン若しくはダイマーアシッドとイソホロンジアミンを利用した単量体を基礎
とするダイマーアミンのようなナイロンタイプの単量体を利用する。好適なポリ
エステル単量体には、イソフタル酸、及び３−メチル−１、３−プロパンジオー
ル、２、２−ジメチル−１、３−プロパンジオール及びシクロヘキシルジメチロ
ールのような普通のジオールとともに、シクロヘキシルジカルボキシレートとが
ある。
アミン若しくはダイマーアシッドとイソホロンジアミンを利用した単量体を基礎
とするダイマーアミンのようなナイロンタイプの単量体を利用する。好適なポリ
エステル単量体には、イソフタル酸、及び３−メチル−１、３−プロパンジオー
ル、２、２−ジメチル−１、３−プロパンジオール及びシクロヘキシルジメチロ
ールのような普通のジオールとともに、シクロヘキシルジカルボキシレートとが
ある。
【００３７】 本発明に利用される高分子組成物は、ある反応温度で、高分子組成物を生じる
のに十分な時間、前述したＡ及びＢ高分子の重合により合成される。この反応は
工程成長重合反応（step growth polymerization reaction）、つまり、縮重合 反応であることが好ましい。本発明のさらに別の実施例は、高分子鎖当たり３．
５個以上の反応性官能基（好ましくは縮合反応性官能基）を有する付加高分子で
あるＡ高分子と、そのＡ高分子の反応性官能基と共反応性である、高分子鎖当た
り約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子とを反応させて、高分子組成物を
合成する方法に関する。その反応はある温度で、Ｂ高分子の官能基を実質的に全
て共反応させることにより高分子組成物を生じさせるのに十分な時間実行される
ことが好ましい。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高
分子のモル比は約２：１から約２：１．７であることが好ましい。Ｂ高分子が三
官能である際には、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高分子のモル比は約３：１であ
ることが好ましい。二官能と三官能のＢ高分子の混合物が利用される際の好適な
ブレンド比は、当業者には容易に確かめることができる。 反応の温度及び時間はＡ及びＢ高分子により左右される。例えば、Ａ及びＢの
縮合がエステル化によるならば、その反応温度は２４０℃以上に達するであろう
が、縮合がウレタン結合の生成を介して行われるなら、必要とする反応温度は室
温で十分である。高分子組成物の合成方法の反応温度は、通常、約−５０℃から
約３００℃であり、好ましくは約１５０℃から約２４０℃である。反応温度はＡ
高分子若しくはＢ高分子の何れかの分解温度を超えるべきではない。通常、反応
温度は０．５から６時間維持される。
のに十分な時間、前述したＡ及びＢ高分子の重合により合成される。この反応は
工程成長重合反応（step growth polymerization reaction）、つまり、縮重合 反応であることが好ましい。本発明のさらに別の実施例は、高分子鎖当たり３．
５個以上の反応性官能基（好ましくは縮合反応性官能基）を有する付加高分子で
あるＡ高分子と、そのＡ高分子の反応性官能基と共反応性である、高分子鎖当た
り約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子とを反応させて、高分子組成物を
合成する方法に関する。その反応はある温度で、Ｂ高分子の官能基を実質的に全
て共反応させることにより高分子組成物を生じさせるのに十分な時間実行される
ことが好ましい。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高
分子のモル比は約２：１から約２：１．７であることが好ましい。Ｂ高分子が三
官能である際には、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高分子のモル比は約３：１であ
ることが好ましい。二官能と三官能のＢ高分子の混合物が利用される際の好適な
ブレンド比は、当業者には容易に確かめることができる。 反応の温度及び時間はＡ及びＢ高分子により左右される。例えば、Ａ及びＢの
縮合がエステル化によるならば、その反応温度は２４０℃以上に達するであろう
が、縮合がウレタン結合の生成を介して行われるなら、必要とする反応温度は室
温で十分である。高分子組成物の合成方法の反応温度は、通常、約−５０℃から
約３００℃であり、好ましくは約１５０℃から約２４０℃である。反応温度はＡ
高分子若しくはＢ高分子の何れかの分解温度を超えるべきではない。通常、反応
温度は０．５から６時間維持される。
【００３８】 必要ならば、本発明の高分子組成物の合成には、溶媒及び触媒が利用される。
かかる溶媒及び触媒の使用は、当業者には周知である。Ａ及びＢ高分子が互いに
相溶性であり、十分な混合が得られることが重要である。仮に、高分子同士が相
溶性がないならば、溶媒若しくは高分子を段階的に添加する方法を採用し、上記
問題を克服させることができる。当業者には周知である溶媒は、粘度を制御する
こと、並びに高温度で反応させないときに適当な混合を可能にする際に役に立つ
。加えて、キシレンのような反応生成物に少量の溶媒が利用され、共沸させて水
を除去させることもできる。
かかる溶媒及び触媒の使用は、当業者には周知である。Ａ及びＢ高分子が互いに
相溶性であり、十分な混合が得られることが重要である。仮に、高分子同士が相
溶性がないならば、溶媒若しくは高分子を段階的に添加する方法を採用し、上記
問題を克服させることができる。当業者には周知である溶媒は、粘度を制御する
こと、並びに高温度で反応させないときに適当な混合を可能にする際に役に立つ
。加えて、キシレンのような反応生成物に少量の溶媒が利用され、共沸させて水
を除去させることもできる。
【００３９】 通常、本発明で利用する高分子組成物の分子量は、その幅が広い。重量平均分
子量（Ｍｗ）とｚ平均分子量（Ｍｚ）の双方を高くすることが可能であるが、数
平均分子量（Ｍｎ）は、通常、それほど高くない。本発明で利用する高分子組成
物は、実質的にゲルの存在しない低分子量高分子から合成される高い分子量の高
分子組成物であることが好ましい。理論に拘束されることなく、反応性高分子の
機能性はゲル不存在の原因であると考えられる。
子量（Ｍｗ）とｚ平均分子量（Ｍｚ）の双方を高くすることが可能であるが、数
平均分子量（Ｍｎ）は、通常、それほど高くない。本発明で利用する高分子組成
物は、実質的にゲルの存在しない低分子量高分子から合成される高い分子量の高
分子組成物であることが好ましい。理論に拘束されることなく、反応性高分子の
機能性はゲル不存在の原因であると考えられる。
【００４０】 本発明で利用する生成した高分子組成物は、ブロック共重合体の形態をとり、
例えば、ＡＢＡブロック共重合体の形態である。しかしながら、本発明の高分子
組成物はブロック共重合体に制限されることはなく、例えば、結果として、ブロ
ック共重合体とはみなされないすこぶる枝分かれした若しくは複雑な高分子であ
ることもある。
例えば、ＡＢＡブロック共重合体の形態である。しかしながら、本発明の高分子
組成物はブロック共重合体に制限されることはなく、例えば、結果として、ブロ
ック共重合体とはみなされないすこぶる枝分かれした若しくは複雑な高分子であ
ることもある。
【００４１】 一般に、本発明に利用される高分子組成物の重量平均分子量は、標準ポリスチ
レンを利用したゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定され、約４
,０００から約２５０,０００の範囲であり、好ましくは約５,０００から約５０,
０００である。加えて、酸機能性を有する好適な高分子組成物は、通常、約４０
から約２００の酸価を有する。当業者には明らかなように、高分子組成物のガラ
ス転移温度（Ｔｇ）は、Ａ及びＢ高分子からなる単量体を変化させることにより
、容易に変化させることが可能である。典型的には、平均Ｔｇは−５０℃から１
２０℃である。但し、一般には、最終の使用目的が求めるＴｇのタイプを左右す
る。
レンを利用したゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定され、約４
,０００から約２５０,０００の範囲であり、好ましくは約５,０００から約５０,
０００である。加えて、酸機能性を有する好適な高分子組成物は、通常、約４０
から約２００の酸価を有する。当業者には明らかなように、高分子組成物のガラ
ス転移温度（Ｔｇ）は、Ａ及びＢ高分子からなる単量体を変化させることにより
、容易に変化させることが可能である。典型的には、平均Ｔｇは−５０℃から１
２０℃である。但し、一般には、最終の使用目的が求めるＴｇのタイプを左右す
る。
【００４２】 産業上の利用可能性 本発明は、本願で説明するように、実質的にゲル化していない高分子組成物を
含有する溶媒を基礎とする産業上有用な組成物の合成に関する。本発明で利用す
る高分子組成物は、溶媒若しくは溶媒システムで混合される。さらに、高分子組
成物は、混和する、又は混和しない他の成分とともに利用される。本発明の溶媒
カット組成物はコーティング液、オーバープリントワニス、床の表面仕上げ、接
着剤、紙インク、プライマー、フィルム印刷インク及びフィルムプライマーとし
て特に有用である。
含有する溶媒を基礎とする産業上有用な組成物の合成に関する。本発明で利用す
る高分子組成物は、溶媒若しくは溶媒システムで混合される。さらに、高分子組
成物は、混和する、又は混和しない他の成分とともに利用される。本発明の溶媒
カット組成物はコーティング液、オーバープリントワニス、床の表面仕上げ、接
着剤、紙インク、プライマー、フィルム印刷インク及びフィルムプライマーとし
て特に有用である。
【００４３】 本発明の溶媒を基礎とする組成物は、前述した実質的にゲル化していない高分
子組成物と所望の溶媒若しくは溶媒システムとを混合させて調製される。所望の
溶媒若しくは溶媒システムで実質的にゲル化していない高分子組成物のin situ 合成により、溶媒を基礎とする組成物を合成することも可能である。特定の負荷
は利用される高分子組成物及び溶媒又は溶媒システムに依存する。一般に、溶媒
を基礎とする組成物での溶媒量は、通常、組成物の重量の約５から約９５％の範
囲にあり、好ましくは組成物の重量の約５から約６０％である。
子組成物と所望の溶媒若しくは溶媒システムとを混合させて調製される。所望の
溶媒若しくは溶媒システムで実質的にゲル化していない高分子組成物のin situ 合成により、溶媒を基礎とする組成物を合成することも可能である。特定の負荷
は利用される高分子組成物及び溶媒又は溶媒システムに依存する。一般に、溶媒
を基礎とする組成物での溶媒量は、通常、組成物の重量の約５から約９５％の範
囲にあり、好ましくは組成物の重量の約５から約６０％である。
【００４４】 本発明では有用である非水系溶媒はその範囲が広い。典型的には、溶媒には、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン及びジイソ
ブチルケトンのようなケトン類や、酢酸ブチルや酢酸アミルのようなエステル類
、トルエン、キシレン、さらに高沸点の芳香族化合物の混合液のような芳香族化
合物、ミネラルスピリット、臭気のないミネラルスピリットやＶＭＰナフサのよ
うな脂肪族化合物、エチレングリコールのブチルエステル及びジエチレングリコ
ールのブチルエステルのようなグリコールエステル類がある。溶媒の選択は最終
の使用目的に関係し、その選択は当業者には周知である。重要なことは、本発明
の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、単一のＡ若しくはＢ高
分子タイプよりも幅広い溶解性を有する傾向にあることである。
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン及びジイソ
ブチルケトンのようなケトン類や、酢酸ブチルや酢酸アミルのようなエステル類
、トルエン、キシレン、さらに高沸点の芳香族化合物の混合液のような芳香族化
合物、ミネラルスピリット、臭気のないミネラルスピリットやＶＭＰナフサのよ
うな脂肪族化合物、エチレングリコールのブチルエステル及びジエチレングリコ
ールのブチルエステルのようなグリコールエステル類がある。溶媒の選択は最終
の使用目的に関係し、その選択は当業者には周知である。重要なことは、本発明
の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、単一のＡ若しくはＢ高
分子タイプよりも幅広い溶解性を有する傾向にあることである。
【００４５】 本発明の溶媒を基礎とする組成物はさらなる添加成分を含有し、その性質はそ
の組成物の特定の応用に左右される。例えば、本発明の組成物には、架橋剤、消
泡剤、滑剤、着色剤、加湿剤、顔料若しくは色素、ワックスなどが含まれる。当
業者には、かかる添加成分が、応用に応じて、例えば、コーティング液、接着剤
、インク、プライマーなどに応じて、本発明の溶媒を基礎とする組成物の用途を
容易に確認することができるであろう。
の組成物の特定の応用に左右される。例えば、本発明の組成物には、架橋剤、消
泡剤、滑剤、着色剤、加湿剤、顔料若しくは色素、ワックスなどが含まれる。当
業者には、かかる添加成分が、応用に応じて、例えば、コーティング液、接着剤
、インク、プライマーなどに応じて、本発明の溶媒を基礎とする組成物の用途を
容易に確認することができるであろう。
【００４６】 本発明は、次の詳細な実験からより理解されるであろう。しかしながら、当業
者は、本願で説明する特定の方法及び結果は本発明を単に説明するものであり、
本発明に制限を加えることを意味していないことは、容易に理解されるであろう
。
者は、本願で説明する特定の方法及び結果は本発明を単に説明するものであり、
本発明に制限を加えることを意味していないことは、容易に理解されるであろう
。
【００４７】 詳細な実験 「Ａ」高分子 カルボン酸官能基を有するスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂の合
成 「Ａ」高分子（１） 低分子量のスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、連続攪拌タンク
反応器（continuous stirred tank reactor、 CSTR）中４９０°Ｆ（２５４°）
で、２２％のスチレン、４５％の/α‐メチルスチレン及び３３％のアクリル酸 を２０％のキシレン中で、３モル％の開始剤を用いて、１２分間の滞留時間で重
合させることにより合成し、続いて、溶媒及び未反応単量体を除去した。
成 「Ａ」高分子（１） 低分子量のスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、連続攪拌タンク
反応器（continuous stirred tank reactor、 CSTR）中４９０°Ｆ（２５４°）
で、２２％のスチレン、４５％の/α‐メチルスチレン及び３３％のアクリル酸 を２０％のキシレン中で、３モル％の開始剤を用いて、１２分間の滞留時間で重
合させることにより合成し、続いて、溶媒及び未反応単量体を除去した。
【００４８】 生じたスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、それぞれ１１７０の
数平均分子量（Ｍｎ）、１７７０の重量平均分子量（Ｍｗ）、２５９０のｚ平均
分子量（Ｍｚ）を有していた。得られた高分子の数平均カルボン酸官能基（Ｆｎ
）、重量平均カルボン酸官能基（Ｆｗ）、酸価（固体）、ガラス転移温度（Ｔｇ
）（開始点及び中間点）を表１に掲載する。
数平均分子量（Ｍｎ）、１７７０の重量平均分子量（Ｍｗ）、２５９０のｚ平均
分子量（Ｍｚ）を有していた。得られた高分子の数平均カルボン酸官能基（Ｆｎ
）、重量平均カルボン酸官能基（Ｆｗ）、酸価（固体）、ガラス転移温度（Ｔｇ
）（開始点及び中間点）を表１に掲載する。
【００４９】 「Ａ」高分子（２‐４） スチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、Ａ高分子１と同じ方法で合
成した。それらの高分子の成分及び特性を、Ａ高分子１のそれらとともに、表１
に掲載する。
成した。それらの高分子の成分及び特性を、Ａ高分子１のそれらとともに、表１
に掲載する。
【００５０】 ヒドロキシ官能基を有するアクリル樹脂の合成 「Ａ」高分子（５） メチルメタクリレート（２７％）、ブチルアクリレート（１５％）及び２‐ヒ
ドロキシエチルアクリレート（５８％）を２０％の酢酸ブチルに溶解させ、米国
特許第４,５４６,１６０号記載のものと実質的に同じ方法で、４５０°Ｆで、１
５分間重合させた。その後、反応生成物はエチルジグライム中で５１％の固体に
した。生じたヒドロキシ官能基含有アクリル樹脂は１１８０の数平均分子量と５
．２８の高分子鎖当たりのヒドロキシ官能基を有していた。
ドロキシエチルアクリレート（５８％）を２０％の酢酸ブチルに溶解させ、米国
特許第４,５４６,１６０号記載のものと実質的に同じ方法で、４５０°Ｆで、１
５分間重合させた。その後、反応生成物はエチルジグライム中で５１％の固体に
した。生じたヒドロキシ官能基含有アクリル樹脂は１１８０の数平均分子量と５
．２８の高分子鎖当たりのヒドロキシ官能基を有していた。
【００５１】
【表１】 「Ｂ」高分子 ポリエステル高分子の合成 「Ｂ」高分子（１） ポリエステルは、窒素雰囲気下で２−メチル−１、３−プロパンジオール（４
３．０６重量部；２１．５３ｌｂｓ；９．７７ｋｇｓ）、イソフタル酸（４７．
６５重量部；２３．８３ｌｂｓ；１０．８１ｋｇｓ）とファスキャット４１００
（Fascat、エルフアトケム化学から市販されているスズ触媒）（０．０８重量部
；０．０４ｌｂｓ；０．２０ｋｇｓ）を仕込んで合成した。カラムの頂部を１０
０℃以下に維持させながら、その仕込み物を２１０℃へ加熱させた。酸価が５以
下になるまで反応を継続させ、その後、１５０℃へ冷却し、一晩放置させた。次
の日、反応内容物をさらに１５０℃まで再加熱し、続いて１、４−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート（２４．６９重量部；１２．３５ｌｂｓ；５．６０ｋｇｓ
）とファスキャット４１００（０．０２重量部；０．０１ｌｂｓ；０．００５ｋ
ｇｓ）を反応内容物に添加した。次に、窒素雰囲気を維持させながら、反応器の
内容物を２２０℃まで加熱した。カラムの頂部を１００℃以下に保ち、反応物の
酸価は５以下に維持され、その値に達した。その結果生成したポリエステル樹脂
は３０２３の数平均分子量（Ｍｎ）、６４８６の重量平均分子量（Ｍｗ）と１０
,７２０のｚ平均分子量（Ｍｚ）を有していた。Ｔｇは、その開始が８℃であり 、その中間点が１４℃であると測定された。
３．０６重量部；２１．５３ｌｂｓ；９．７７ｋｇｓ）、イソフタル酸（４７．
６５重量部；２３．８３ｌｂｓ；１０．８１ｋｇｓ）とファスキャット４１００
（Fascat、エルフアトケム化学から市販されているスズ触媒）（０．０８重量部
；０．０４ｌｂｓ；０．２０ｋｇｓ）を仕込んで合成した。カラムの頂部を１０
０℃以下に維持させながら、その仕込み物を２１０℃へ加熱させた。酸価が５以
下になるまで反応を継続させ、その後、１５０℃へ冷却し、一晩放置させた。次
の日、反応内容物をさらに１５０℃まで再加熱し、続いて１、４−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート（２４．６９重量部；１２．３５ｌｂｓ；５．６０ｋｇｓ
）とファスキャット４１００（０．０２重量部；０．０１ｌｂｓ；０．００５ｋ
ｇｓ）を反応内容物に添加した。次に、窒素雰囲気を維持させながら、反応器の
内容物を２２０℃まで加熱した。カラムの頂部を１００℃以下に保ち、反応物の
酸価は５以下に維持され、その値に達した。その結果生成したポリエステル樹脂
は３０２３の数平均分子量（Ｍｎ）、６４８６の重量平均分子量（Ｍｗ）と１０
,７２０のｚ平均分子量（Ｍｚ）を有していた。Ｔｇは、その開始が８℃であり 、その中間点が１４℃であると測定された。
【００５２】 「Ｂ」高分子（２−６） ポリエステル樹脂は、ポリエステルの成分及び/又はその成分のモル比が異な る以外は、Ｂ高分子１と同じ方法で合成した。Ｂポリエステル（１−６）の成分
、モル比、Ｍｎ、Ｍｗ、Ｍｚ及びＴｇ（開始点/中間点）を、以下の表２に掲載 する。
、モル比、Ｍｎ、Ｍｗ、Ｍｚ及びＴｇ（開始点/中間点）を、以下の表２に掲載 する。
【００５３】
【表２】 ポリアミド樹脂の合成 「Ｂ」高分子（７） シルボジムＴ−１８（Sylvodym、登録商標）ダイマーアシッド（アリゾナケミ
カルから市販されているＣ３６ダイマーアシッド）（７７．１９８重量部）、ケ
ムアミンＰ−９９０Ｄ（Kemamine,登録商標）（ウィットコケミカルから市販さ れているアテアリルアミン）（４．１５０重量部）及びダウコーニング２００（
シリコーン消泡剤）（０．００２重量部）を反応器に仕込み、窒素雰囲気下で１
３０℃へ加熱した。次に、１３０乃至１３５℃の温度を維持させながら、イソホ
ロンジアミン（１６．１４０重量部）とディテックＡ（Dytek、登録商標）（Ｅ ．Ｉ．デュポン デ ニムールスから市販）（２−メチル‐１、５−ペンタンジ
アミン）（７．３４０重量部）を反応混合液に添加した。窒素を導入させながら
、反応混合物をゆっくりと約２２０℃へ加熱し、全ての理論値の水が実質的に除
去されるまで、その温度を維持した。アミン官能基を有するポリアミド樹脂が得
られた。Ｍｎ＝３１６０（理論値）；塩基値（Base value）＝３１；Ｔｇ＝６/ １２℃であった。
カルから市販されているＣ３６ダイマーアシッド）（７７．１９８重量部）、ケ
ムアミンＰ−９９０Ｄ（Kemamine,登録商標）（ウィットコケミカルから市販さ れているアテアリルアミン）（４．１５０重量部）及びダウコーニング２００（
シリコーン消泡剤）（０．００２重量部）を反応器に仕込み、窒素雰囲気下で１
３０℃へ加熱した。次に、１３０乃至１３５℃の温度を維持させながら、イソホ
ロンジアミン（１６．１４０重量部）とディテックＡ（Dytek、登録商標）（Ｅ ．Ｉ．デュポン デ ニムールスから市販）（２−メチル‐１、５−ペンタンジ
アミン）（７．３４０重量部）を反応混合液に添加した。窒素を導入させながら
、反応混合物をゆっくりと約２２０℃へ加熱し、全ての理論値の水が実質的に除
去されるまで、その温度を維持した。アミン官能基を有するポリアミド樹脂が得
られた。Ｍｎ＝３１６０（理論値）；塩基値（Base value）＝３１；Ｔｇ＝６/ １２℃であった。
【００５４】 「Ｂ」高分子（８） シルボジムＴ−１８（Sylvodym、登録商標）ダイマーアシッド（７６．５９８
重量部）、シクロヘキシルアミン（１．５００重量部）及びダウコーニング２０
０（０．００２重量部）を反応器に仕込み、１３０℃に加熱した。次に、１３０
乃至１３５℃の温度に維持させながら、イソホロンジアミン（２６．７００重量
部）を反応器に添加した。反応混合物をその後ゆっくりと２２０℃へ加熱してい
き、窒素導入させながら、水を除去させた。反応温度は、全ての水が実質的に除
去されるまで維持され、ポリアミドを回収した。Ｍｎ＝３１８４（理論値）；塩
基値＝２９；Ｔｇ＝２９/３８℃であった。
重量部）、シクロヘキシルアミン（１．５００重量部）及びダウコーニング２０
０（０．００２重量部）を反応器に仕込み、１３０℃に加熱した。次に、１３０
乃至１３５℃の温度に維持させながら、イソホロンジアミン（２６．７００重量
部）を反応器に添加した。反応混合物をその後ゆっくりと２２０℃へ加熱してい
き、窒素導入させながら、水を除去させた。反応温度は、全ての水が実質的に除
去されるまで維持され、ポリアミドを回収した。Ｍｎ＝３１８４（理論値）；塩
基値＝２９；Ｔｇ＝２９/３８℃であった。
【００５５】 ポリウレタンＢ高分子の合成 「Ｂ」高分子（９） エチルジグライム（ＥＤＧ）（６００．３ｇ）と２−メチル‐１、３−プロパ
ンジオール（ＭＰＤ）（１４６．４ｇ）を２リットルの４つ口反応フラスコに添
加した。そのフラスコには、攪拌器と、Ｎ２ガス入口と、熱電対と水を集めるた
めのトラップの付いたコンデンサーとを備えている。上記混合物は窒素雰囲気下
で１５０℃に加熱し、過剰の水及び溶媒、不純物を除去した。約１時間後、反応
液を３０℃に冷却し、窒素導入を停止した。次に、テトラメチルキシレンジイソ
シアネート（ＴＭＸＤＩ）（４５４．２ｇ）を滴下ロートを介して、秒速約一滴
の速度で、３時間かけて反応混合液に添加した。その間反応温度は８０°に維持
させた。ポリウレタンオリゴマーが回収された。Ｍｎ＝２５８２（理論値）であ
った。
ンジオール（ＭＰＤ）（１４６．４ｇ）を２リットルの４つ口反応フラスコに添
加した。そのフラスコには、攪拌器と、Ｎ２ガス入口と、熱電対と水を集めるた
めのトラップの付いたコンデンサーとを備えている。上記混合物は窒素雰囲気下
で１５０℃に加熱し、過剰の水及び溶媒、不純物を除去した。約１時間後、反応
液を３０℃に冷却し、窒素導入を停止した。次に、テトラメチルキシレンジイソ
シアネート（ＴＭＸＤＩ）（４５４．２ｇ）を滴下ロートを介して、秒速約一滴
の速度で、３時間かけて反応混合液に添加した。その間反応温度は８０°に維持
させた。ポリウレタンオリゴマーが回収された。Ｍｎ＝２５８２（理論値）であ
った。
【００５６】 高分子組成物の合成 例１ ポリエステル樹脂、Ｂ高分子（１）（９６３．０ｇ）を反応フラスコに添加し
、１５０℃へ加熱した。１５分以上かけてＡ高分子（１）であるスチレン/α‐ メチルスチレン/アクリル酸樹脂（５４１．７ｇ）を徐々に添加し、その後、キ シレン（４５ｇ）を添加した。トラップはキシレンで満たされ、水を除去させる
ために反応混合物を２３０℃に加熱させながら、反応フラスコ中のキシレンを３
％に維持させた。上記反応を６．５時間継続させた。結果生じた高分子組成物は
２６,１８０のＭｗ、３,４４４のＭｎ、１０９,７００のＭｚと、２５/３６℃（
開始点/中間点）のＴｇを有していた。
、１５０℃へ加熱した。１５分以上かけてＡ高分子（１）であるスチレン/α‐ メチルスチレン/アクリル酸樹脂（５４１．７ｇ）を徐々に添加し、その後、キ シレン（４５ｇ）を添加した。トラップはキシレンで満たされ、水を除去させる
ために反応混合物を２３０℃に加熱させながら、反応フラスコ中のキシレンを３
％に維持させた。上記反応を６．５時間継続させた。結果生じた高分子組成物は
２６,１８０のＭｗ、３,４４４のＭｎ、１０９,７００のＭｚと、２５/３６℃（
開始点/中間点）のＴｇを有していた。
【００５７】 例２−１１ さまざまな高分子組成物を、スチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂の
Ａ高分子とポリエステル樹脂のＢ高分子から、例１と同じ方法で合成した。それ
らの高分子組成物の成分及びさまざまな特性を、以下の表３に掲載する。
Ａ高分子とポリエステル樹脂のＢ高分子から、例１と同じ方法で合成した。それ
らの高分子組成物の成分及びさまざまな特性を、以下の表３に掲載する。
【００５８】
【表３】 例１３ 高分子組成物は、Ａ高分子（５）、ヒドロキシ官能基のあるアクリル、Ｂ高分
子（９）、ポリウレタンオリゴマーから合成された。窒素導入管、コンデンサー
、攪拌器及び熱電対を備えた１リットルの４つ口フラスコに、２６３．７ｇのＢ
高分子（９）を添加した。その後、６滴のジラウリン酸ジブチルスズ（ＤＢＴＤ
Ｌ）をそのフラスコに添加した。溶液を７０℃へ予め加熱し、その後、Ａ高分子
（５）をゆっくりと一滴ずつ反応液に添加した。全てのＡ高分子を添加させた後
、反応温度を８５℃まで昇温し、約４．５時間その温度で反応させた。結果生じ
た溶液は深黄色であった。Ｍｎ＝２６４６；Ｍｗ＝６４１１；Ｍｚ＝１７２９０
であり、ＯＨ値は５８であった。
子（９）、ポリウレタンオリゴマーから合成された。窒素導入管、コンデンサー
、攪拌器及び熱電対を備えた１リットルの４つ口フラスコに、２６３．７ｇのＢ
高分子（９）を添加した。その後、６滴のジラウリン酸ジブチルスズ（ＤＢＴＤ
Ｌ）をそのフラスコに添加した。溶液を７０℃へ予め加熱し、その後、Ａ高分子
（５）をゆっくりと一滴ずつ反応液に添加した。全てのＡ高分子を添加させた後
、反応温度を８５℃まで昇温し、約４．５時間その温度で反応させた。結果生じ
た溶液は深黄色であった。Ｍｎ＝２６４６；Ｍｗ＝６４１１；Ｍｚ＝１７２９０
であり、ＯＨ値は５８であった。
【００５９】 例１４ 高分子組成物はＡ高分子（４）、つまり、スチレン/アクリル樹脂とＢ高分子 （８）、ポリアミド樹脂から合成した。Ａ高分子樹脂（３８．８５重量部）を反
応器へ仕込み、次に、窒素雰囲気下で攪拌させながら１８０℃へ加熱させた。続
いて、Ｂ高分子（８）（６１．８５重量部）を１８０℃で添加させた。その混合
物をさらに２２０℃へ加熱し、水が除去されるまでその温度を維持させた。その
後、反応温度を２３０℃まで上昇させ、高分子組成物を集めた。Ｍｎ＝２７９９
、Ｍｗ＝２６９９０；Ｍｚ＝９３６６０；Ｔｇ＝４２/６２℃；Ａｖ＝８０であ った。 例１５ 高分子組成物は、スチレン/アクリル樹脂、つまり、Ａ高分子が３９．０３重 量部であり、Ｂ高分子がＢ高分子（７）である以外は、例１４と同じ方法で合成
した。Ｍｎ＝２９３９；Ｍｗ＝２４,３００；Ｍｚ＝８７,９２０；Ｔｇ＝３０/ ４６℃；Ａｖ＝３８であった。
応器へ仕込み、次に、窒素雰囲気下で攪拌させながら１８０℃へ加熱させた。続
いて、Ｂ高分子（８）（６１．８５重量部）を１８０℃で添加させた。その混合
物をさらに２２０℃へ加熱し、水が除去されるまでその温度を維持させた。その
後、反応温度を２３０℃まで上昇させ、高分子組成物を集めた。Ｍｎ＝２７９９
、Ｍｗ＝２６９９０；Ｍｚ＝９３６６０；Ｔｇ＝４２/６２℃；Ａｖ＝８０であ った。 例１５ 高分子組成物は、スチレン/アクリル樹脂、つまり、Ａ高分子が３９．０３重 量部であり、Ｂ高分子がＢ高分子（７）である以外は、例１４と同じ方法で合成
した。Ｍｎ＝２９３９；Ｍｗ＝２４,３００；Ｍｚ＝８７,９２０；Ｔｇ＝３０/ ４６℃；Ａｖ＝３８であった。
【００６０】 例１６ 高分子組成物はＡ高分子（４）と、ミシガン州ミッドランドにあるダウケミカ
ルから市販されている、６３９の数平均分子量（Ｍｎ）とモル当たり２つのヒド
ロキシ基の官能基を有するポリプロピレンオキシド（ＰＰＯ）４２５のＢ高分子
とから合成した。Ａ高分子及びＢ高分子は、溶媒及び触媒不存在下で１に対する
２のあるモル比で反応させ、所望の高分子組成物を生じさせるように、約２１０
乃至２３８℃の温度で反応させた。生じた高分子組成物は１６８８のＭｎ、５９
４５のＭｗ、１７,１２０のＭｚと、１６４の酸価（固体）、４５/５５℃（開始
点/中間点）のＴｇを有していた。
ルから市販されている、６３９の数平均分子量（Ｍｎ）とモル当たり２つのヒド
ロキシ基の官能基を有するポリプロピレンオキシド（ＰＰＯ）４２５のＢ高分子
とから合成した。Ａ高分子及びＢ高分子は、溶媒及び触媒不存在下で１に対する
２のあるモル比で反応させ、所望の高分子組成物を生じさせるように、約２１０
乃至２３８℃の温度で反応させた。生じた高分子組成物は１６８８のＭｎ、５９
４５のＭｗ、１７,１２０のＭｚと、１６４の酸価（固体）、４５/５５℃（開始
点/中間点）のＴｇを有していた。
【００６１】 例１７ 高分子組成物は、Ｂ高分子が１２５６の数平均分子量（Ｍｎ）を有するポリプ
ロピレンオキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ１０００）である以
外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基はモル当たり２つのヒド
ロキシ基であり、ブロック共重合体合成温度は約２１５乃至２３４℃の範囲であ
った。結果生じた高分子組成物は１８６１のＭｎ、８２５１のＭｗ、２４５１０
のＭｚ、１３１の酸価（固体）、−２/１０℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
ロピレンオキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ１０００）である以
外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基はモル当たり２つのヒド
ロキシ基であり、ブロック共重合体合成温度は約２１５乃至２３４℃の範囲であ
った。結果生じた高分子組成物は１８６１のＭｎ、８２５１のＭｗ、２４５１０
のＭｚ、１３１の酸価（固体）、−２/１０℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
【００６２】 例１８ 高分子組成物は、Ｂ高分子が３４７９の数平均分子量を有するポリプロピレン
オキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ４０００）である以外は、例
１６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基の数は、モル当たり２つのヒド
ロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は２２０乃至２４０℃の範囲であり
、トルエンを溶媒として利用した。結果生成した高分子組成物は、２５２０のＭ
ｎ、１７,３４０のＭｗ、４５,１９０のＭｚ、６２．８９の酸価（固体）と−５
４/−４６℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
オキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ４０００）である以外は、例
１６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基の数は、モル当たり２つのヒド
ロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は２２０乃至２４０℃の範囲であり
、トルエンを溶媒として利用した。結果生成した高分子組成物は、２５２０のＭ
ｎ、１７,３４０のＭｗ、４５,１９０のＭｚ、６２．８９の酸価（固体）と−５
４/−４６℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
【００６３】 例１９ 高分子組成物は、Ｂ高分子が３７７の数平均分子量を有するポリ（エチレンオ
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ２００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物の合成温度は２００乃至２２０℃の範囲であった。
生成した高分子組成物は、１６０１のＭｎ、５２１９のＭｗ、１５３５０のＭｚ
、１８０．８の酸価（固体）と、５９/６７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ２００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物の合成温度は２００乃至２２０℃の範囲であった。
生成した高分子組成物は、１６０１のＭｎ、５２１９のＭｗ、１５３５０のＭｚ
、１８０．８の酸価（固体）と、５９/６７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
【００６４】 例２０ 高分子組成物は、Ｂ高分子が８８２の数平均分子量を有するポリ（エチレンオ
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ６００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物は、約２００乃至２２０℃の合成温度で合成した。
生成した高分子組成物は、１８１９のＭｎ、６７８４のＭｗ、１７,７３０のＭ ｚ、１５６．７の酸価（固体）と１８/２７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ６００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物は、約２００乃至２２０℃の合成温度で合成した。
生成した高分子組成物は、１８１９のＭｎ、６７８４のＭｗ、１７,７３０のＭ ｚ、１５６．７の酸価（固体）と１８/２７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
【００６５】 例２１ 高分子組成物は、Ｂ高分子が４３３３の数平均分子量を有するポリ（ポリプロ
ピレン‐β‐エチレンオキシド）（ＢＡＳＦから市販されているプルロニック１
２３）である以外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基数は、モ
ル当たり約２のヒドロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は、約２００乃
至約２３０℃の範囲であった。生成した高分子組成物は、３０７４のＭｎ、２３
,７１０のＭｗ、４６,９７０のＭｚ、５０．２の酸価（固体）と−６１/−５３ ℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
ピレン‐β‐エチレンオキシド）（ＢＡＳＦから市販されているプルロニック１
２３）である以外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基数は、モ
ル当たり約２のヒドロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は、約２００乃
至約２３０℃の範囲であった。生成した高分子組成物は、３０７４のＭｎ、２３
,７１０のＭｗ、４６,９７０のＭｚ、５０．２の酸価（固体）と−６１/−５３ ℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
【００６６】 多くのさらなる高分子組成物は、以下の表Ａに記載するＡ高分子と表Ｂに記載
するＢ高分子を利用して合成された。
するＢ高分子を利用して合成された。
【００６７】
【表４】
【００６８】
【表５】 例Ｉ バルクサーマル方法（Bulk thermal process）による高分子組成物の合成 攪拌器、窒素導入管、コンデンサーの付いたディーンスタークトラップを備え
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有する４６８ｇのス
チレンアクリル高分子（Ａ高分子Ｉ）を仕込んだ。これを１５０乃至１８０℃の
温度へ加熱した。次に、一級（１°）ヒドロキシを有する１４０．４ｇ の分岐
ポリエステル高分子（Ｂ高分子ＩＩ）を添加し、３Ａ：１Ｂのあるモル比にした
。それから温度を２２０℃まで昇温させ、８．４ｇの水が除去されるまで維持し
た。生成物を皿に注ぎ、冷却させた。最終生成物を表Ｃに記載する。
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有する４６８ｇのス
チレンアクリル高分子（Ａ高分子Ｉ）を仕込んだ。これを１５０乃至１８０℃の
温度へ加熱した。次に、一級（１°）ヒドロキシを有する１４０．４ｇ の分岐
ポリエステル高分子（Ｂ高分子ＩＩ）を添加し、３Ａ：１Ｂのあるモル比にした
。それから温度を２２０℃まで昇温させ、８．４ｇの水が除去されるまで維持し
た。生成物を皿に注ぎ、冷却させた。最終生成物を表Ｃに記載する。
【００６９】 例ＩＩ−ＶＩ 多くの高分子組成物は、２２０乃至２４０℃の反応温度で、以下の表Ｃに示す
Ａ及びＢ高分子を利用して、実質的に例Ｉと同じ方法で合成した。
Ａ及びＢ高分子を利用して、実質的に例Ｉと同じ方法で合成した。
【００７０】 例ＶＩＩ 溶媒還流方法による高分子組成物の合成 攪拌器、窒素導入管、コンデンサーの付いたディーンスタークトラップを備え
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有するメチルメタク
リレート高分子（Ａ高分子Ｖ）の５１８．３ｇを仕込んだ。これを１５０乃至１
８０℃へ加熱して融解させ、攪拌を開始した。次に、９６．９ｇの二級（２°）
ヒドロキシ官能基を有する直鎖ポリプロピレンオキシド（Ｂ高分子ＶＩＩＩ）と
１３．６ｇのメチルｎ−アミルケトン（ＭＡＫ）を添加した。その後、反応器を
１８０℃で１時間加熱し、２００℃で１時間加熱し、最後に２２０℃で１時間加
熱した。生成物をトレイに注ぎ、冷却させた。水‐ＭＡＫ還流を利用して、１０
．６ｇの水を除去した。
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有するメチルメタク
リレート高分子（Ａ高分子Ｖ）の５１８．３ｇを仕込んだ。これを１５０乃至１
８０℃へ加熱して融解させ、攪拌を開始した。次に、９６．９ｇの二級（２°）
ヒドロキシ官能基を有する直鎖ポリプロピレンオキシド（Ｂ高分子ＶＩＩＩ）と
１３．６ｇのメチルｎ−アミルケトン（ＭＡＫ）を添加した。その後、反応器を
１８０℃で１時間加熱し、２００℃で１時間加熱し、最後に２２０℃で１時間加
熱した。生成物をトレイに注ぎ、冷却させた。水‐ＭＡＫ還流を利用して、１０
．６ｇの水を除去した。
【００７１】 例ＶＩＩＩ及び例ＩＸ 二つの高分子組成物を、ＭＡＫをキシレンと交換し、表Ｃに示すＡ及びＢ高分
子を利用した以外、例ＶＩＩと実質的に同じ方法で合成した。
子を利用した以外、例ＶＩＩと実質的に同じ方法で合成した。
【００７２】 例Ｘ 溶媒方法による高分子組成物の合成 攪拌器、窒素導入管、及びコンデンサーを備えた１０００ｍｌの４つ口フラス
コに、カルボキシル官能基を有するスチレン/アクリル酸高分子（Ａ高分子ＩＩ Ｉ）の５０％溶液の２２２．２ｇと５０％のジエチレングリコールジエチルエー
テルを仕込んだ。攪拌開始後、イソシアナート（isocyanato）官能基を有する直
鎖ポリウレタン高分子（Ｂ高分子ＩＶ）の５０％溶液の２７７．８ｇと、５０％
のジエチレングリコールジエチルエーテルを添加した。５分間混合後、エアープ
ロダクトカタリストから市販されている０．２５ｇのメタキュアＴ１２を添加し
、温度を６５℃へ昇温させ、４時間その温度を維持させた。生成物をクオートジ
ャー（quart jar）に注ぎ、冷却した。
コに、カルボキシル官能基を有するスチレン/アクリル酸高分子（Ａ高分子ＩＩ Ｉ）の５０％溶液の２２２．２ｇと５０％のジエチレングリコールジエチルエー
テルを仕込んだ。攪拌開始後、イソシアナート（isocyanato）官能基を有する直
鎖ポリウレタン高分子（Ｂ高分子ＩＶ）の５０％溶液の２７７．８ｇと、５０％
のジエチレングリコールジエチルエーテルを添加した。５分間混合後、エアープ
ロダクトカタリストから市販されている０．２５ｇのメタキュアＴ１２を添加し
、温度を６５℃へ昇温させ、４時間その温度を維持させた。生成物をクオートジ
ャー（quart jar）に注ぎ、冷却した。
【００７３】 例ＸＩ−ＸＩＶ 数多の高分子組成物を、１２５乃至１９０℃の反応温度で、以下の表Ｃに示す
Ａ及びＢ高分子を利用して、例Ｘと実質的に同じ方法で合成した。
Ａ及びＢ高分子を利用して、例Ｘと実質的に同じ方法で合成した。
【００７４】 Ａ高分子及びＢ高分子構成要素と、例Ｉ−ＸＩＶにて生成した高分子組成物の
性質を、以下の表Ｃに掲載する。
性質を、以下の表Ｃに掲載する。
【００７５】
【表６】 コーティング 例ＳＣ−１及び例ＳＣ−２、並びに比較例ＳＣ−ＣＭ−１ 及び比較例ＳＣ−ＣＭ−２ 例ＳＣ−１及び例ＳＣ−２は、表Ｃ、例Ｖに記載する高Ｍｗの高分子組成物を
含有する溶媒を基礎とする樹脂組成物である。比較例ＳＣ−ＣＭ−１及びＳＣ−
ＣＭ−２はＪ−５６９、ウイスコンシン州スターテバントにあるＳ．Ｃ．ジョン
ソンポリマーから市販されているヒドロキシ官能基を有するアクリレート樹脂で
作られた組成物である。表Ｂに記載された直鎖ポリエステルＩＩＩを含有するＳ
Ｃ−ＣＭ−２と同様な比較例が調製された。しかしながら、この比較例だけでな
く、ポリエステルのみでの比較例、つまりヒドロキシ官能基を含有しないアクリ
レートは、ポリエステルの結晶性に起因して、コーティングに適さなかった。各
組成物は高分子成分とメラミン架橋剤（ニュージャージー州ウエストパターソン
にあるサイテックインダストリから市販されているサイメル３０３）、メチルア
ミルケトン、パラ‐トルエンスルホン酸（全樹脂固形分に対して０．５重量％）
、メタノール（全樹脂固形分に対して１０重量％）、ＤＣ５７（ミシガン州ミッ
ドランドにあるダウコーニングから市販されているシリコーン滑剤；全樹脂固形
分に対して０．１重量％）を混合させて調製し、約５５％重量の固形分を有する
組成物が得られた。架橋剤は、１２％の架橋剤に対して８８％の高分子組成物の
割合で存在していた。ＳＣ−ＣＭ１、ＳＣ−１、ＳＣ−ＣＭ２及びＳＣ−２の構
成要素を表Ｄに掲載する。
含有する溶媒を基礎とする樹脂組成物である。比較例ＳＣ−ＣＭ−１及びＳＣ−
ＣＭ−２はＪ−５６９、ウイスコンシン州スターテバントにあるＳ．Ｃ．ジョン
ソンポリマーから市販されているヒドロキシ官能基を有するアクリレート樹脂で
作られた組成物である。表Ｂに記載された直鎖ポリエステルＩＩＩを含有するＳ
Ｃ−ＣＭ−２と同様な比較例が調製された。しかしながら、この比較例だけでな
く、ポリエステルのみでの比較例、つまりヒドロキシ官能基を含有しないアクリ
レートは、ポリエステルの結晶性に起因して、コーティングに適さなかった。各
組成物は高分子成分とメラミン架橋剤（ニュージャージー州ウエストパターソン
にあるサイテックインダストリから市販されているサイメル３０３）、メチルア
ミルケトン、パラ‐トルエンスルホン酸（全樹脂固形分に対して０．５重量％）
、メタノール（全樹脂固形分に対して１０重量％）、ＤＣ５７（ミシガン州ミッ
ドランドにあるダウコーニングから市販されているシリコーン滑剤；全樹脂固形
分に対して０．１重量％）を混合させて調製し、約５５％重量の固形分を有する
組成物が得られた。架橋剤は、１２％の架橋剤に対して８８％の高分子組成物の
割合で存在していた。ＳＣ−ＣＭ１、ＳＣ−１、ＳＣ−ＣＭ２及びＳＣ−２の構
成要素を表Ｄに掲載する。
【００７６】
【表７】 上記配合をボンドライト（Bondrite）１０００（リン酸鉄処理したスチール）
パネルに塗布し、３０分間１５０℃でベークして、１．５±０．０１ミルの厚さ
の乾燥フィルムを得た。コーティング液は、リバースインパクト装置を利用して
リバースインパクトテストにて試験され、その装置にはパネルの裏面に１０イン
チｌｂｓから１６０インチｌｂｓの範囲で、１０ずつの段階で力を加える５/８ ”ボールがある。各インパクトテストの結果を、ハロゲンランプ照明で約２倍の
倍率のルーペを利用して調べた。各インパクトテストでは、０の不良から最良の
１０の評価を割り当て、ここで、１０は全くクラックが発生しなかった状態を表
わす。コーティング被膜は、共通して、パスする、つまり、クラックが発生しな
い最も重いインチポンドにより評価される。調製したコーティング被膜のテスト
結果を、表ＳＣ−Ａに掲載する。
パネルに塗布し、３０分間１５０℃でベークして、１．５±０．０１ミルの厚さ
の乾燥フィルムを得た。コーティング液は、リバースインパクト装置を利用して
リバースインパクトテストにて試験され、その装置にはパネルの裏面に１０イン
チｌｂｓから１６０インチｌｂｓの範囲で、１０ずつの段階で力を加える５/８ ”ボールがある。各インパクトテストの結果を、ハロゲンランプ照明で約２倍の
倍率のルーペを利用して調べた。各インパクトテストでは、０の不良から最良の
１０の評価を割り当て、ここで、１０は全くクラックが発生しなかった状態を表
わす。コーティング被膜は、共通して、パスする、つまり、クラックが発生しな
い最も重いインチポンドにより評価される。調製したコーティング被膜のテスト
結果を、表ＳＣ−Ａに掲載する。
【００７７】
【表８】 更に物理的テストを行い、その結果を表ＳＣ−Ｂに示す。
【００７８】 各３回コーニッヒ(Konig)硬度テストを行った。一度に一つのパネルで３回測 定するのとは異なり、全てのパネルは１回測定され、その後繰り返えされた。３
回測定の平均を表に示すだけでなく、標準偏差をも示す。鉛筆グージ（gouge） 硬度テストにより、基板からコーティング被膜を剥がさない最も硬い鉛筆を表に
示す。乾燥フィルムの厚さは、２．１７ミル補正フォイルでエルコメータ(Elcom
eter)２５６ＦＮ（ｔ２）を利用して測定した。相対湿度は、コールパルマー（C
ole Palmer）湿度計３３０９−５０で測定され、約５４％であった。
回測定の平均を表に示すだけでなく、標準偏差をも示す。鉛筆グージ（gouge） 硬度テストにより、基板からコーティング被膜を剥がさない最も硬い鉛筆を表に
示す。乾燥フィルムの厚さは、２．１７ミル補正フォイルでエルコメータ(Elcom
eter)２５６ＦＮ（ｔ２）を利用して測定した。相対湿度は、コールパルマー（C
ole Palmer）湿度計３３０９−５０で測定され、約５４％であった。
【００７９】 テストデータを表ＳＣ−Ｂにまとめる。加えて、マンドレルベンドテスト結果
、コーティング液の粘度、メチルエチルケトンに対する耐薬品性テスト結果を表
に載せる。
、コーティング液の粘度、メチルエチルケトンに対する耐薬品性テスト結果を表
に載せる。
【００８０】
【表９】 結果から、本発明の溶媒を基礎とする組成物は優れたコーティング液を提供す
ることが分かる。特に、上記結果から、本発明の溶媒を基礎とする組成物で調製
されたコーティング被膜は、ヒドロキシ官能基を有するアクリレートを用いて調
整されたコーティング被膜よりも優れた可撓性が実現されることが判明した。加
えて、直鎖ポリエステルとヒドロキシ官能基を有するアクリレートのブレンドの
溶解性は、同じ組成からなる高分子組成物とは異なっていた。したがって、本発
明の溶媒を基礎とする組成物は、所望のフィルム又はコーティング特性を達成さ
せながら、ポリマーブレンドに関連する溶解性の問題を克服するために利用され
る。
ることが分かる。特に、上記結果から、本発明の溶媒を基礎とする組成物で調製
されたコーティング被膜は、ヒドロキシ官能基を有するアクリレートを用いて調
整されたコーティング被膜よりも優れた可撓性が実現されることが判明した。加
えて、直鎖ポリエステルとヒドロキシ官能基を有するアクリレートのブレンドの
溶解性は、同じ組成からなる高分子組成物とは異なっていた。したがって、本発
明の溶媒を基礎とする組成物は、所望のフィルム又はコーティング特性を達成さ
せながら、ポリマーブレンドに関連する溶解性の問題を克服するために利用され
る。
【００８１】 本発明の他の変更態様等は、当業者には明白であろう。本発明は特許請求の範
囲に記載された以外を制限するものではない。
囲に記載された以外を制限するものではない。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１１年１１月１７日（１９９９．１１．１７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【０００１】 本 発明は、実質的にゲルを含有せず、比較的高分子量である高度な機能性高分
子である高分子組成物を含む溶媒を基礎とする組成物に関する。本発明の溶媒を
基礎とする組成物は、コーティング液、接着剤、インク、プライマー及びオーバ
ープリントワニスにて、又は上記用途として特に有用である。
子である高分子組成物を含む溶媒を基礎とする組成物に関する。本発明の溶媒を
基礎とする組成物は、コーティング液、接着剤、インク、プライマー及びオーバ
ープリントワニスにて、又は上記用途として特に有用である。
【０００２】 技術分野 さまざまな高分子材料を含有する溶媒を基礎とする組成物は周知である。かか
る組成物はコーティング組成物、接着剤、プライマー、オーバープリントワニス
などとして、しばしば利用される。しかしながら、かかる応用にて達成される特
性及び性質は、高分子材料にすこぶる左右される。ブロック共重合体はそのよう
な高分子材料の一つである。
る組成物はコーティング組成物、接着剤、プライマー、オーバープリントワニス
などとして、しばしば利用される。しかしながら、かかる応用にて達成される特
性及び性質は、高分子材料にすこぶる左右される。ブロック共重合体はそのよう
な高分子材料の一つである。
【０００３】 Ａ（ＢＡ）ｎ構造を有するブロック共重合体は周知である。例えば、米国特許
第５,３６２,８１９号には、Ａブロックが不飽和ポリエステルであり、好ましく
は一つ若しくはあまり好ましくはないが二つのヒドロキシル、カルボン酸又はア
ミノ末端基を有し、Ｂブロックが０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する可
撓性高分子である、ＡＢＡの硬化可能ブロック共重合体が開示されている。その
可撓性高分子は共役ジエン単量体からだけでなく、ポリエーテル又は飽和ポリエ
ステルから合成されたものを含み、エステル、アミドウレア又はウレタン基によ
りＡブロックと結合している。
第５,３６２,８１９号には、Ａブロックが不飽和ポリエステルであり、好ましく
は一つ若しくはあまり好ましくはないが二つのヒドロキシル、カルボン酸又はア
ミノ末端基を有し、Ｂブロックが０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する可
撓性高分子である、ＡＢＡの硬化可能ブロック共重合体が開示されている。その
可撓性高分子は共役ジエン単量体からだけでなく、ポリエーテル又は飽和ポリエ
ステルから合成されたものを含み、エステル、アミドウレア又はウレタン基によ
りＡブロックと結合している。
【０００４】 米 国特許第４,３４７,３３９号には、大部分が四級アミノ基であるアミノ官能
基を有する第一の高分子ブロックと、アミノ官能基を有する第二の高分子ブロッ
クとを有する水溶性カチオンブロック共重合体が開示されている。その高分子ブ
ロックは他の高分子のブリッジで結合されているが、第二の高分子ブロックにア
ミノ官能基と反応する第一の高分子ブロック中のクロリド若しくはエポキシドの
ような官能基を含ませることにより結合させることが好ましい。
基を有する第一の高分子ブロックと、アミノ官能基を有する第二の高分子ブロッ
クとを有する水溶性カチオンブロック共重合体が開示されている。その高分子ブ
ロックは他の高分子のブリッジで結合されているが、第二の高分子ブロックにア
ミノ官能基と反応する第一の高分子ブロック中のクロリド若しくはエポキシドの
ような官能基を含ませることにより結合させることが好ましい。
【０００５】 米 国特許第４,８５１,４７４号には、少なくとも一つのポリエステルブロック
と、一つ以上の共役ジエン高分子のようなエラストマー高分子ブロックとからな
るブロック共重合体が開示されている。そのエラストマーブロックは、末端の官
能基、つまり、高分子ブロックにつきたった２個の官能基を導入させて機能化さ
せている。
と、一つ以上の共役ジエン高分子のようなエラストマー高分子ブロックとからな
るブロック共重合体が開示されている。そのエラストマーブロックは、末端の官
能基、つまり、高分子ブロックにつきたった２個の官能基を導入させて機能化さ
せている。
【０００６】 米 国特許第５,００８,３３４号には、ジオールと一つ以上のジエポキシドの反
応生成物であるＡブロックと、エポキシ基を保護させ、カルボキシル末端ポリブ
タジエン又はポリブタジエン/アクリロニトリル/共重合体のＢブロックとを有す
るＡＢＡブロック共重合体を含有する樹脂が開示されている。アミン樹脂は、（
ｉ）ジオールと少なくとも一つのジエポキシドの反応生成物と、（ｉｉ）電着塗
装配合に利用されるＡＢＡブロック共重合体との混合物である樹脂から合成され
る。
応生成物であるＡブロックと、エポキシ基を保護させ、カルボキシル末端ポリブ
タジエン又はポリブタジエン/アクリロニトリル/共重合体のＢブロックとを有す
るＡＢＡブロック共重合体を含有する樹脂が開示されている。アミン樹脂は、（
ｉ）ジオールと少なくとも一つのジエポキシドの反応生成物と、（ｉｉ）電着塗
装配合に利用されるＡＢＡブロック共重合体との混合物である樹脂から合成され
る。
【０００７】 米 国特許第５,３１４,９５４号には、例えば、ヒドロキシ、アミノ又はカルボ
キシル基のような末端官能基を有するスチレン高分子と過剰の芳香族ジカルボン
酸ジハライドと重縮合させ、その後、生じた縮合物を芳香族ジヒドロキシ化合物
と界面重合させることにより生成させた芳香族ポリエステルーポリスチレンブロ
ック共重合体が開示されている。上記芳香族ポリエステルーポリスチレンブロッ
ク共重合体は、最小の非共重合スチレンを有し、光学装置の調製に有用であると
いわれている。
キシル基のような末端官能基を有するスチレン高分子と過剰の芳香族ジカルボン
酸ジハライドと重縮合させ、その後、生じた縮合物を芳香族ジヒドロキシ化合物
と界面重合させることにより生成させた芳香族ポリエステルーポリスチレンブロ
ック共重合体が開示されている。上記芳香族ポリエステルーポリスチレンブロッ
ク共重合体は、最小の非共重合スチレンを有し、光学装置の調製に有用であると
いわれている。
【０００８】 高弾性回復と高耐熱性とを有する弾性ヤーンを実現させるポリエステルブロッ
ク共重合体が、米国特許第５,３８４,１８４号に開示されている。そのポリエス
テルブロック共重合体は、（Ａ）主な酸成分としてのベンゼンジカルボン酸と、
主なグリコール成分としてのヒドロキシル基間に５から１２の炭素原子を有する
ジオールとからなる３０から９０重量％のポリエステルセグメントと、（Ｂ）主
な酸成分としての芳香族ジカルボン酸と、主なグリコール成分としてのエチレン
グリコール又は１、４−シクロヘキサンジメタノールとからなる７０から１０重
量％のポリエステルセグメントとからなる。
ク共重合体が、米国特許第５,３８４,１８４号に開示されている。そのポリエス
テルブロック共重合体は、（Ａ）主な酸成分としてのベンゼンジカルボン酸と、
主なグリコール成分としてのヒドロキシル基間に５から１２の炭素原子を有する
ジオールとからなる３０から９０重量％のポリエステルセグメントと、（Ｂ）主
な酸成分としての芳香族ジカルボン酸と、主なグリコール成分としてのエチレン
グリコール又は１、４−シクロヘキサンジメタノールとからなる７０から１０重
量％のポリエステルセグメントとからなる。
【０００９】 米 国特許第５,４９６,８７６号には、反応性末端基を有するポリアミド高分子
と反応性末端基を有するポリエーテル配列との共重縮合により構成されたポリエ
ーテルアミドブロック共重合体が開示されている。上記ポリエーテルアミドブロ
ック共重合体は、スチレン/ジエン共重合体とブレンドされ、熱可塑性高分子組 成物を構成する。
と反応性末端基を有するポリエーテル配列との共重縮合により構成されたポリエ
ーテルアミドブロック共重合体が開示されている。上記ポリエーテルアミドブロ
ック共重合体は、スチレン/ジエン共重合体とブレンドされ、熱可塑性高分子組 成物を構成する。
【００１０】 米 国特許第４,１８０,５２８号には、付加高分子であるＡブロックと直鎖状飽
和ポリエステルであるＢブロックとを有するＡＢＡ型のブロック共重合体が開示
されている。ＡブロックとＢブロックは付加重合により結合されている。
和ポリエステルであるＢブロックとを有するＡＢＡ型のブロック共重合体が開示
されている。ＡブロックとＢブロックは付加重合により結合されている。
【００１１】 欧 州特許出願第０６８７６９０/Ａ号には、高温重合方法が開示されており、 それにより比較的低分子量を有する末端不飽和オリゴマーが生成できる。更に、
上記文献には、カルボン酸基を有する末端不飽和オリゴマーが二つ以上のアルコ
ール性官能基を有する多官能性アルコールと反応してポリエステルが生じること
をも開示している。しかしながら、相対的に高い官能性を有する末端不飽和オリ
ゴマーは開示されていない。
上記文献には、カルボン酸基を有する末端不飽和オリゴマーが二つ以上のアルコ
ール性官能基を有する多官能性アルコールと反応してポリエステルが生じること
をも開示している。しかしながら、相対的に高い官能性を有する末端不飽和オリ
ゴマーは開示されていない。
【００１２】 高官能性であり、好ましくは高い酸官能性だけでなく、高分子量であることが
好ましいが、容易にゲルにはならない少なくとも一つの高分子組成物を含有する
溶媒を基礎とする組成物が、非常に望まれている。
好ましいが、容易にゲルにはならない少なくとも一つの高分子組成物を含有する
溶媒を基礎とする組成物が、非常に望まれている。
【００１３】 発明の要約開示 本発明は、（ｉ）非水系溶媒と、（ｉｉ）高分子鎖当たり３．５個以上の反応
性官能基を有する付加高分子であるＡ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反
応性である、高分子鎖当たり約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子との反
応生成物を含む高分子組成物とからなる溶媒を基礎とする組成物に関する。Ｂ高
分子の共反応性官能基の全ては、実質的に共反応していることが好ましい。Ａ高
分子の反応性官能基は縮合反応性官能基であることが、さらに好ましい。
性官能基を有する付加高分子であるＡ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反
応性である、高分子鎖当たり約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子との反
応生成物を含む高分子組成物とからなる溶媒を基礎とする組成物に関する。Ｂ高
分子の共反応性官能基の全ては、実質的に共反応していることが好ましい。Ａ高
分子の反応性官能基は縮合反応性官能基であることが、さらに好ましい。
【００１４】 一般には、Ａ高分子のＢ高分子に対するモル比は、約３：１から約２：１．７
である。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ａ高分子のＢ高分子に対するモル比は、
二つの高分子の数平均分子量（Ｍｎ）に基づいて、約２：１から約２：１．７で
あることが好ましい。Ｂ高分子は三官能である際には、Ａ高分子のＢ高分子に対
するモル比は約３：１であることが好ましい。
である。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ａ高分子のＢ高分子に対するモル比は、
二つの高分子の数平均分子量（Ｍｎ）に基づいて、約２：１から約２：１．７で
あることが好ましい。Ｂ高分子は三官能である際には、Ａ高分子のＢ高分子に対
するモル比は約３：１であることが好ましい。
【００１５】 縮合反応性官能基は、カルボキシル、ヒドロキシル、エポキシ、イソシアナー
ト（isocyanato）、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカ
ルボニル又はアミノからなる群から選択されたものであることが好ましい。好適
実施例では、Ａ高分子は、高分子鎖当たり３．５個以上のカルボン酸官能基を有
する。さらに、このＡ高分子は低分子量スチレン/アクリル酸/α‐メチルスチレ
ン高分子であることが好ましい。
ト（isocyanato）、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカ
ルボニル又はアミノからなる群から選択されたものであることが好ましい。好適
実施例では、Ａ高分子は、高分子鎖当たり３．５個以上のカルボン酸官能基を有
する。さらに、このＡ高分子は低分子量スチレン/アクリル酸/α‐メチルスチレ
ン高分子であることが好ましい。
【００１６】 別の好適実施例では、Ａ高分子は、高分子鎖当たり３．５個以上のヒドロキシ
ル官能基を有する。この場合には、そのＡ高分子は低分子量スチレン/２−エチ ルヘキシルアクリレート/２−ヒドロキシエチルメタクリレート高分子であるこ とが、さらに好ましい。
ル官能基を有する。この場合には、そのＡ高分子は低分子量スチレン/２−エチ ルヘキシルアクリレート/２−ヒドロキシエチルメタクリレート高分子であるこ とが、さらに好ましい。
【００１７】 Ｂ高分子は、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタン、ポリオル
ガノシロキサン及びポリ（エーテル）からなる群から選択された縮合高分子であ
ることが好ましい。そのＢ高分子の共反応性官能基は、ヒドロキシル、エポキシ
、オキサゾリニル、又はアミノ基であることが、さらに好ましい。 本発明の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、ゲル化する若
しくはゲル粒子を予期せずに全く含まない比較的高分子量である高官能性高分子
である。かかる高分子組成物は、その有用性及び性能特性を向上させる幅広い分
子量分布を有する。本発明の溶媒を基礎とする組成物は、コーティング液、接着
剤、インク、プライマー、オーバープリントワニスなどとして利用される。
ガノシロキサン及びポリ（エーテル）からなる群から選択された縮合高分子であ
ることが好ましい。そのＢ高分子の共反応性官能基は、ヒドロキシル、エポキシ
、オキサゾリニル、又はアミノ基であることが、さらに好ましい。 本発明の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、ゲル化する若
しくはゲル粒子を予期せずに全く含まない比較的高分子量である高官能性高分子
である。かかる高分子組成物は、その有用性及び性能特性を向上させる幅広い分
子量分布を有する。本発明の溶媒を基礎とする組成物は、コーティング液、接着
剤、インク、プライマー、オーバープリントワニスなどとして利用される。
【００１８】 本発明の実施のベストモード 本発明の溶媒を基礎とする組成物は、（ｉ）少なくとも一つの非水系溶媒と、
（ｉｉ）高分子鎖当たり３．５個以上の反応性官能基を有する付加高分子である
Ａ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を有し、高分子鎖当たり約２個
から約３個の官能基を有するＢ高分子との反応生成物からなる少なくとも一つの
高分子組成物とを含む少なくとも一つの成分の混合物である。
（ｉｉ）高分子鎖当たり３．５個以上の反応性官能基を有する付加高分子である
Ａ高分子と、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を有し、高分子鎖当たり約２個
から約３個の官能基を有するＢ高分子との反応生成物からなる少なくとも一つの
高分子組成物とを含む少なくとも一つの成分の混合物である。
【００１９】 用語「溶媒を基礎とする」とは、少なくとも非水系溶媒として本願で開示され
、少なくとも一つの非ゲル化高分子組成物を実質的に混合させること意味する。
高分子組成物は、その溶媒に溶解可能であることが好ましい。しかしながら、混
合物が部分的に溶解することが起これば、本発明の意味するところに含まれる。
さらに、溶媒に全く溶解しない高分子組成物も、本発明に包含される。さらに、
一つ以上の高分子組成物がその溶解度以上に溶解する量を添加させることも、本
発明の混合物の意味するところに包含される。
、少なくとも一つの非ゲル化高分子組成物を実質的に混合させること意味する。
高分子組成物は、その溶媒に溶解可能であることが好ましい。しかしながら、混
合物が部分的に溶解することが起これば、本発明の意味するところに含まれる。
さらに、溶媒に全く溶解しない高分子組成物も、本発明に包含される。さらに、
一つ以上の高分子組成物がその溶解度以上に溶解する量を添加させることも、本
発明の混合物の意味するところに包含される。
【００２０】 本願で利用される高分子組成物は、発明名称「高分子組成物、及びその合成並
びにその使用」である係属中の米国特許出願（ドケット番号Ｊ‐２４５２）にも
説明されている。
びにその使用」である係属中の米国特許出願（ドケット番号Ｊ‐２４５２）にも
説明されている。
【００２１】 本発明に利用される高分子組成物のＡ高分子は、高分子当たり３．５個以上の
反応性官能基を有する付加高分子である。機能化された付加高分子の合成は、当
業者には周知である。
反応性官能基を有する付加高分子である。機能化された付加高分子の合成は、当
業者には周知である。
【００２２】 Ａ高分子の反応性官能基は、縮合反応性官能基であることが好ましい。好適な
縮合反応性官能基には、カルボキシル、ヒドロキシル、エポキシ、イソシナナー
ト、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカルボニル又はア
ミノがある。カルボキシル及びヒドロキシル官能基が最も好ましい。カルボキシ
ル酸無水物とは、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる二価の官能基であり
、双方の自由原子価は付加高分子骨格に結合若しくはリンクしている、あるいは
、Ｒ−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる単一原子価の基であり、Ｒは１か
ら３０の炭素原子を有するアルキル基、若しくは６から２０の炭素原子を有する
アリール基、又は７から２０の炭素原子を有するアラルキル基、あるいは７から
２０の炭素原子を有するアルキアリール基である。スルホとは、−ＳＯ２ＯＨで
表わされる基であり、エステル化されたオキシカルボニルとは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
−Ｒで表わされる基であり、ここでＲは前述と同じものを意味しており、例えば
、アルキロキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、アラルキロキシカルボニ
ル又はアルキアリーロキシカルボニルである。
縮合反応性官能基には、カルボキシル、ヒドロキシル、エポキシ、イソシナナー
ト、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化されたオキシカルボニル又はア
ミノがある。カルボキシル及びヒドロキシル官能基が最も好ましい。カルボキシ
ル酸無水物とは、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる二価の官能基であり
、双方の自由原子価は付加高分子骨格に結合若しくはリンクしている、あるいは
、Ｒ−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）−で表わされる単一原子価の基であり、Ｒは１か
ら３０の炭素原子を有するアルキル基、若しくは６から２０の炭素原子を有する
アリール基、又は７から２０の炭素原子を有するアラルキル基、あるいは７から
２０の炭素原子を有するアルキアリール基である。スルホとは、−ＳＯ２ＯＨで
表わされる基であり、エステル化されたオキシカルボニルとは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
−Ｒで表わされる基であり、ここでＲは前述と同じものを意味しており、例えば
、アルキロキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、アラルキロキシカルボニ
ル又はアルキアリーロキシカルボニルである。
【００２３】 連鎖成長重合反応の生成物である付加高分子は、エチレン不飽和単量体から合
成される。上記化合物は周知であり、例えば、Ｃ２からＣ２０アルケン、Ｃ３か
らＣ２０のアルカジエン、Ｃ５からＣ２０のアルカトリエン、Ｃ５からＣ２０の
シクロオレフィン、ビニル置換芳香族化合物、アクリル又はメタクリル酸、アク
リル酸若しくはメタクリル酸のＣ１からＣ２０のアルキルエステル、アクリル酸
若しくはメタクリル酸のＣ６からＣ２０のアリールエステル、アクリル酸若しく
はメタクリル酸のＣ７からＣ２０のアラルキルエステルがある。
成される。上記化合物は周知であり、例えば、Ｃ２からＣ２０アルケン、Ｃ３か
らＣ２０のアルカジエン、Ｃ５からＣ２０のアルカトリエン、Ｃ５からＣ２０の
シクロオレフィン、ビニル置換芳香族化合物、アクリル又はメタクリル酸、アク
リル酸若しくはメタクリル酸のＣ１からＣ２０のアルキルエステル、アクリル酸
若しくはメタクリル酸のＣ６からＣ２０のアリールエステル、アクリル酸若しく
はメタクリル酸のＣ７からＣ２０のアラルキルエステルがある。
【００２４】 より具体的には、かかるエチレン不飽和単量体には、これらに限定されないが
、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン
、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３、３
−ジメチル−１−ブテン、２、４、４−トリメチル−１−ペンテン、６−エチル
−１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、ア
レン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１、５−ヘキサジエン、１、３
、５−ヘキサトリエン、ジビニルアセチレン、シクロペンタジエン、ジシクロペ
ンタジエン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、メチルノルボルネン、シクロヘ
キセン、スチレン、α−クロロスチレン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン
、フェニルアセチレン、１−フェニル−１、３−ブタジエン、ビニルナフタレン
、４−メチルスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、４−クロロスチレ
ン、３、４−ジメチル−α−メチルスチレン、３−ブロモ−メチル−α−メチル
スチレン、２、５−ジクロロスチレン、４−フルオロスチレン、３−ヨードスチ
レン、４−シアノスチレン、４−ビニル安息香酸、４−アセトキシスチレン、１ 、４−ジヒドロキシスチレン、３−ニトロスチレン、２−アミノスチレン、４−
Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノスチレン、４−フェニルスチレン、４−クロロ−１−ビ
ニルナフタレン、アクリル酸、メタクリル酸、アクロレイン、メタクロレイン、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、
メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ノルボルネニルアクリレート、ノ
ルボルニルジアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、ア２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、アリルアルコール、プロポキシル化アリルアルコー
ル、エトキシ化アリルアルコール、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、２−フェノキシエチルアクリレート、トリメトキシシリロキシプロピ
ルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、２−トリロキシエチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、イ
ソプロピルメタクリレート、エチルアクリレート、メチルα−クロロアクリレー
ト、β−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ−メチルメタクリルアミド、
エチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート
、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、β−ブロモエチルメタクリレート
、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ネオペンチルメタクリレ
ート、ブチルメタクリレート、クロロアクリル酸、メチルクロロアクリルレート
、ヘキシルアクリレート、アクリルドデシル、３−メチル−１−ブチルアクリレ
ート、２−エトキシエチルアクリレート、フェニルアクリレート、ブトキシエト
キシエチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、イソデシルアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、メトキシポリ（エチレンオキ
シ）１２アクリレート、トリデコキシポリ（エチレンオキシ）１２アクリレート
、クロロアクリロニトリル、ジクロロイソプロピルアクリレート、エタクリロニ
トリル、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−
シクロヘキシルアクリルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニリデンシア
ニド、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリクロロエタン、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、ビニルブチレート、安息香酸ビニル、ビニルブチラール、クロ
ロ酢酸ビニル、酢酸イソプロペニル、ギ酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、カプロ
ン酸ビニル、オレイン酸ビニル、アジピン酸ビニル、メチルビニルケトン、メチ
ルイソプロペニルケトン、メチルα−クロロビニルケトン、エチルビニルケトン
、ヒドロキシメチルビニルケトン、クロロメチルビニルケトン、アリリデン（al
lylidene）ジアセテート、メチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル
、ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、２−メトキシエ
チルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチ
ルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、アミノエチルビニルエー
テル、α−メチルビニルメチルエーテル、ジビニルエーテル、エチレングリコー
ル若しくはジエチレングリコール又はトリエタノールアミンシクロヘキシルビニ
ルエーテルのジビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェネチルビニルエ
ーテル、クレシルビニルエーテル、ヒドロキシフェニルビニルエーテル、マレイ
ン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ（２−エチルヘキシル）、マ
レイン酸無水物、フマル酸ジメチル、フマル酸ジプロピル、フマル酸ジアミル、
ビニルエーテルスルフィド、ジビニルスルフィド、ビニルｐ−トリルスルフィド
、ジビニルスルフォン、ビニルエーテルスルフォン、ビニルエーテルスフフォキ
シド、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、ビニルスルフォンアミ
ド、ビニルベンズアミド、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カルバゾール、Ｎ−（ビニルベンジル）‐ピロリドン、Ｎ−（ビニルベンジル）
ピペリジン、１−ビニルピレン、２−イソプロペニルフラン、２−ビニルジベン
ゾフラン、２−メチル−５−ビニルピリジン、３−イソプロペニルピリジン、２
−ビニルピペリジン、２−ビニルキノリン、２−ビニルベンゾオキサゾール、４
−メチル−５−ビニルチアゾール、ビニルチオフェン、２−イソプロペニルチオ
フェン、インデン、クマロン、１−クロロエチルビニルスルフィド、ビニル２−
エトキシエチルスルフィド、ビニルフェニルスルフィド、ビニル２−ナフチルス
ルフィド、アリルメルカプタン、ジビニルスルフォキシド、ビニルフェニルスル
フォキシド、ビニルクロロフェニルスルフォキシド、メチルビニルスルフォネー
ト、ビニルスルフォアニリン、ブロック化されていない及びブロック化されたア
セトアセトキシ官能性単量体（例えば、アセトアセトキシエチルメタクリレート
やアセトアセトキシエチルアクリレート）、ブロック化されていない及びブロッ
ク化されたメタ−テトラメチルイソシアネート、ブロック化されていない及びブ
ロック化されたイソシアネートエチルメタクリレートがある。
、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン
、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３、３
−ジメチル−１−ブテン、２、４、４−トリメチル−１−ペンテン、６−エチル
−１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、ア
レン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１、５−ヘキサジエン、１、３
、５−ヘキサトリエン、ジビニルアセチレン、シクロペンタジエン、ジシクロペ
ンタジエン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、メチルノルボルネン、シクロヘ
キセン、スチレン、α−クロロスチレン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン
、フェニルアセチレン、１−フェニル−１、３−ブタジエン、ビニルナフタレン
、４−メチルスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、４−クロロスチレ
ン、３、４−ジメチル−α−メチルスチレン、３−ブロモ−メチル−α−メチル
スチレン、２、５−ジクロロスチレン、４−フルオロスチレン、３−ヨードスチ
レン、４−シアノスチレン、４−ビニル安息香酸、４−アセトキシスチレン、１ 、４−ジヒドロキシスチレン、３−ニトロスチレン、２−アミノスチレン、４−
Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノスチレン、４−フェニルスチレン、４−クロロ−１−ビ
ニルナフタレン、アクリル酸、メタクリル酸、アクロレイン、メタクロレイン、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、
メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ノルボルネニルアクリレート、ノ
ルボルニルジアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、ア２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、アリルアルコール、プロポキシル化アリルアルコー
ル、エトキシ化アリルアルコール、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、２−フェノキシエチルアクリレート、トリメトキシシリロキシプロピ
ルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、２−トリロキシエチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、イ
ソプロピルメタクリレート、エチルアクリレート、メチルα−クロロアクリレー
ト、β−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ−メチルメタクリルアミド、
エチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート
、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、β−ブロモエチルメタクリレート
、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ネオペンチルメタクリレ
ート、ブチルメタクリレート、クロロアクリル酸、メチルクロロアクリルレート
、ヘキシルアクリレート、アクリルドデシル、３−メチル−１−ブチルアクリレ
ート、２−エトキシエチルアクリレート、フェニルアクリレート、ブトキシエト
キシエチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、イソデシルアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、メトキシポリ（エチレンオキ
シ）１２アクリレート、トリデコキシポリ（エチレンオキシ）１２アクリレート
、クロロアクリロニトリル、ジクロロイソプロピルアクリレート、エタクリロニ
トリル、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−
シクロヘキシルアクリルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニリデンシア
ニド、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリクロロエタン、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、ビニルブチレート、安息香酸ビニル、ビニルブチラール、クロ
ロ酢酸ビニル、酢酸イソプロペニル、ギ酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、カプロ
ン酸ビニル、オレイン酸ビニル、アジピン酸ビニル、メチルビニルケトン、メチ
ルイソプロペニルケトン、メチルα−クロロビニルケトン、エチルビニルケトン
、ヒドロキシメチルビニルケトン、クロロメチルビニルケトン、アリリデン（al
lylidene）ジアセテート、メチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル
、ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、２−メトキシエ
チルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチ
ルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、アミノエチルビニルエー
テル、α−メチルビニルメチルエーテル、ジビニルエーテル、エチレングリコー
ル若しくはジエチレングリコール又はトリエタノールアミンシクロヘキシルビニ
ルエーテルのジビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェネチルビニルエ
ーテル、クレシルビニルエーテル、ヒドロキシフェニルビニルエーテル、マレイ
ン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ（２−エチルヘキシル）、マ
レイン酸無水物、フマル酸ジメチル、フマル酸ジプロピル、フマル酸ジアミル、
ビニルエーテルスルフィド、ジビニルスルフィド、ビニルｐ−トリルスルフィド
、ジビニルスルフォン、ビニルエーテルスルフォン、ビニルエーテルスフフォキ
シド、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、ビニルスルフォンアミ
ド、ビニルベンズアミド、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カルバゾール、Ｎ−（ビニルベンジル）‐ピロリドン、Ｎ−（ビニルベンジル）
ピペリジン、１−ビニルピレン、２−イソプロペニルフラン、２−ビニルジベン
ゾフラン、２−メチル−５−ビニルピリジン、３−イソプロペニルピリジン、２
−ビニルピペリジン、２−ビニルキノリン、２−ビニルベンゾオキサゾール、４
−メチル−５−ビニルチアゾール、ビニルチオフェン、２−イソプロペニルチオ
フェン、インデン、クマロン、１−クロロエチルビニルスルフィド、ビニル２−
エトキシエチルスルフィド、ビニルフェニルスルフィド、ビニル２−ナフチルス
ルフィド、アリルメルカプタン、ジビニルスルフォキシド、ビニルフェニルスル
フォキシド、ビニルクロロフェニルスルフォキシド、メチルビニルスルフォネー
ト、ビニルスルフォアニリン、ブロック化されていない及びブロック化されたア
セトアセトキシ官能性単量体（例えば、アセトアセトキシエチルメタクリレート
やアセトアセトキシエチルアクリレート）、ブロック化されていない及びブロッ
ク化されたメタ−テトラメチルイソシアネート、ブロック化されていない及びブ
ロック化されたイソシアネートエチルメタクリレートがある。
【００２５】 付加高分子のエチレン不飽和単量体ユニットの少なくとも一つは、縮合反応性
官能基のような反応性官能基を有していなければならず、カルボキシル基、ヒド
ロキシル基若しくはエポキシ基が好ましく、最も好ましいのはカルボキシル基及
びヒドロキシル基である。典型的な酸官能性エチレン不飽和単量体には、以下の
ものに限定されないが、アコニット酸、アクリル酸、β−カルボキシメチルアク
リレート、ケイ皮酸、クロトン酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、メタク
リル酸、及び上記の混合物などがある。さらに適するものには、環状酸無水物の
ような、いわゆる「潜在」酸部分を含む特定の単量体がある。したがって、適当
な環状酸無水物には、以下のものに限定されないが、イタコン酸無水物、マレイ
ン酸無水物、及びそれらの混合物がある。アクリル酸若しくはメタクリル酸の単
量体が最も好ましい。縮合反応性官能基は、エチレン不飽和単量体の一部分であ
ることが好ましい。但し、必要ならば、高分子生成後に付加高分子を添加しても
かまわない。
官能基のような反応性官能基を有していなければならず、カルボキシル基、ヒド
ロキシル基若しくはエポキシ基が好ましく、最も好ましいのはカルボキシル基及
びヒドロキシル基である。典型的な酸官能性エチレン不飽和単量体には、以下の
ものに限定されないが、アコニット酸、アクリル酸、β−カルボキシメチルアク
リレート、ケイ皮酸、クロトン酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、メタク
リル酸、及び上記の混合物などがある。さらに適するものには、環状酸無水物の
ような、いわゆる「潜在」酸部分を含む特定の単量体がある。したがって、適当
な環状酸無水物には、以下のものに限定されないが、イタコン酸無水物、マレイ
ン酸無水物、及びそれらの混合物がある。アクリル酸若しくはメタクリル酸の単
量体が最も好ましい。縮合反応性官能基は、エチレン不飽和単量体の一部分であ
ることが好ましい。但し、必要ならば、高分子生成後に付加高分子を添加しても
かまわない。
【００２６】 Ａ高分子として利用される付加高分子は、アクリル共重合体若しくはスチレン
/アクリル酸又はスチレン/（メタ）アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン/ α−メチルスチレン/アクリル酸共重合体がさらに好ましい。一般に、好適なス チレン/アクリル酸付加高分子は、１０から９０重量％のスチレンと、１０から ９０重量％のアクリル酸とからなる。必要ならば、スチレンはα−メチルスチレ
ンと置換若しくは混合させてもかまわない。本願で利用する「重量％」は、特に
断りがない限り、全高分子重量に重量パーセントを表わす。Ａ高分子として利用
できる別の好適な付加高分子は、ヒドロキシアクリレート又はメタクリレート共
重合体、又はスチレン/ヒドロキシアクリレート若しくはスチレン/ヒドロキシメ
タクリレート共重合体であり、スチレン/ヒドロキシアクリレート（若しくはメ タクリレート）/アクリレート（又はメタクリレート）共重合体がさらに好まし い。
/アクリル酸又はスチレン/（メタ）アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン/ α−メチルスチレン/アクリル酸共重合体がさらに好ましい。一般に、好適なス チレン/アクリル酸付加高分子は、１０から９０重量％のスチレンと、１０から ９０重量％のアクリル酸とからなる。必要ならば、スチレンはα−メチルスチレ
ンと置換若しくは混合させてもかまわない。本願で利用する「重量％」は、特に
断りがない限り、全高分子重量に重量パーセントを表わす。Ａ高分子として利用
できる別の好適な付加高分子は、ヒドロキシアクリレート又はメタクリレート共
重合体、又はスチレン/ヒドロキシアクリレート若しくはスチレン/ヒドロキシメ
タクリレート共重合体であり、スチレン/ヒドロキシアクリレート（若しくはメ タクリレート）/アクリレート（又はメタクリレート）共重合体がさらに好まし い。
【００２７】 本発明にて利用される高分子組成物でのＡ高分子として使用されるさらに別の
付加高分子は、本願の参考文献に引用される発明名称「ハイパーブランチ高分子
の製造方法」である係属中米国特許出願（ドケット番号Ｊ−２５８３）に開示さ
れているようなハイパーブランチ高分子がある。末端にエチレン不飽和を有する
かかるハイパーブランチ高分子は、ハイパーブランチ高分子当たり３．５個以上
の縮合反応性官能基を有することが好ましい。
付加高分子は、本願の参考文献に引用される発明名称「ハイパーブランチ高分子
の製造方法」である係属中米国特許出願（ドケット番号Ｊ−２５８３）に開示さ
れているようなハイパーブランチ高分子がある。末端にエチレン不飽和を有する
かかるハイパーブランチ高分子は、ハイパーブランチ高分子当たり３．５個以上
の縮合反応性官能基を有することが好ましい。
【００２８】 通常、付加高分子は約５００から約５０,０００のＭｎの低分子量高分子であ り、約９００から約３,０００のＭｎの分子量が好ましい。前述したように、付 加高分子の縮合反応性官能基は少なくとも３．５個若しくはそれ以上でなければ
ならず、約３．５個から約２０個であることが好ましく、約３．５個から約１０
個であることがさらに好ましい。
ならず、約３．５個から約２０個であることが好ましく、約３．５個から約１０
個であることがさらに好ましい。
【００２９】 付加高分子の合成は当業者には周知であり、気相重合、溶液重合、バッチ重合
、連続反応器若しくは管重合、サスペンション重合及びエマルジョン重合がある
。かかる付加高分子の合成方法は、米国特許第４,４１３,３７０号、米国特許第
４,５２９,７８７号、米国特許第４,５４６,１６０号に説明されている。
、連続反応器若しくは管重合、サスペンション重合及びエマルジョン重合がある
。かかる付加高分子の合成方法は、米国特許第４,４１３,３７０号、米国特許第
４,５２９,７８７号、米国特許第４,５４６,１６０号に説明されている。
【００３０】 本発明に利用される高分子組成物のＢ高分子は、Ａ高分子の反応性官能基と共
反応性を示す約２個から約３個の官能基を有する。Ｂ高分子の好適な官能基には
、ヒドロキシル、カルボキシル、エポキシ、オキサゾリニル及びアミノ基がある
。但し、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を示す何れの基も、本発明の範囲内
にあると考えられる。Ｂ高分子は付加高分子若しくは縮合高分子であり、縮合高
分子が好ましい。縮合高分子には、ポリアミド、ポリエステル、ポリ（エーテル
）、ポリウレタンがある。縮合高分子の合成は、付加高分子の合成と同じように
、当業者には周知である。例えば、ポリエステルはスズ触媒とともに、過剰のグ
リコールと溶融方法（fusion process）の通常の技法を利用して合成される。ポ
リアミドは、触媒なしで、溶融方法を利用して容易に合成することができる。
反応性を示す約２個から約３個の官能基を有する。Ｂ高分子の好適な官能基には
、ヒドロキシル、カルボキシル、エポキシ、オキサゾリニル及びアミノ基がある
。但し、Ａ高分子の反応性官能基と共反応性を示す何れの基も、本発明の範囲内
にあると考えられる。Ｂ高分子は付加高分子若しくは縮合高分子であり、縮合高
分子が好ましい。縮合高分子には、ポリアミド、ポリエステル、ポリ（エーテル
）、ポリウレタンがある。縮合高分子の合成は、付加高分子の合成と同じように
、当業者には周知である。例えば、ポリエステルはスズ触媒とともに、過剰のグ
リコールと溶融方法（fusion process）の通常の技法を利用して合成される。ポ
リアミドは、触媒なしで、溶融方法を利用して容易に合成することができる。
【００３１】 通常、ポリエステル又はポリアミドの合成は、ポリカルボン酸の使用を必要す
る。典型的なポリカルボン酸には、以下のものに限定されないが、アジピン酸、
アゼライン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、１、４−シクロヘキ
サンジカルボキシレート、クロレンド酸無水物、ダイマーアシッド、フマル酸、
グルタル酸、ヘキサヒドロフタル酸無水物、イタコン酸、イソフタル酸、マレイ
ン酸又はその酸無水物、フタル酸無水物、セバシン酸、スベリン酸、テレフタル
酸、テトラヒドロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、アルカニルコハク酸
無水物、５−ソディオスルフォイソフタル酸又は５−リチオスルフォイソフタル
酸がある。一般には、ポリエステルグリコールの合成は１、３−ブタンジオール
、１、４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、２、２−ジメチル−１、３−ペンタンジオール、
２−ブチル−２−エチル−１、３−プロパンジオール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１、６−ヘキ
サンジオール、１、５−ペンタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、水素化ビスフェノールＡ、グリセリン、２−メチル−１、３
−プロパンジオールの成分を利用する。
る。典型的なポリカルボン酸には、以下のものに限定されないが、アジピン酸、
アゼライン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、１、４−シクロヘキ
サンジカルボキシレート、クロレンド酸無水物、ダイマーアシッド、フマル酸、
グルタル酸、ヘキサヒドロフタル酸無水物、イタコン酸、イソフタル酸、マレイ
ン酸又はその酸無水物、フタル酸無水物、セバシン酸、スベリン酸、テレフタル
酸、テトラヒドロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、アルカニルコハク酸
無水物、５−ソディオスルフォイソフタル酸又は５−リチオスルフォイソフタル
酸がある。一般には、ポリエステルグリコールの合成は１、３−ブタンジオール
、１、４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、２、２−ジメチル−１、３−ペンタンジオール、
２−ブチル−２−エチル−１、３−プロパンジオール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１、６−ヘキ
サンジオール、１、５−ペンタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、水素化ビスフェノールＡ、グリセリン、２−メチル−１、３
−プロパンジオールの成分を利用する。
【００３２】 ポリアミドの合成では、通常、ポリアミド官能成分は、エチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、イソホロンジ
アミン、メチレンジシクロヘキシルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン か ら選択される。
キサメチレンジアミン、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、イソホロンジ
アミン、メチレンジシクロヘキシルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン か ら選択される。
【００３３】 出発物質である酸は、重合脂肪酸であり、一塩基酸（Ｃ１８）、二塩基脂肪酸
（Ｃ３６）と、トリマー又は多塩基脂肪酸（Ｃ５４以上）、シュウ酸、グルタル
酸、マロン酸、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、アゼライン酸、スベリン酸
、ピメリン酸、テトラフタル酸、１、４若しくは１、３−シクロヘキサン、ナフ
タレン、フタル酸、イソフタル酸、ドデカンジオイックジジカルボン酸のような
脂肪族、環状脂肪族及び芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸の混合物である
。好適なジカルボン酸は、少なくとも６つの炭素原子を有する、好ましくは６か
ら約２２の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアシッドであり、例えば、セバシン酸
、ドデカンジオイックアシッド、アゼラインジカルボン酸である。モノカルボン
酸は分子量を制御するために添加される。好適なモノカルボン酸は直鎖であり、
２から２２の炭素原子を有する。最も好適なものは、ステアリン酸及びオレイン
酸である。
（Ｃ３６）と、トリマー又は多塩基脂肪酸（Ｃ５４以上）、シュウ酸、グルタル
酸、マロン酸、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、アゼライン酸、スベリン酸
、ピメリン酸、テトラフタル酸、１、４若しくは１、３−シクロヘキサン、ナフ
タレン、フタル酸、イソフタル酸、ドデカンジオイックジジカルボン酸のような
脂肪族、環状脂肪族及び芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸の混合物である
。好適なジカルボン酸は、少なくとも６つの炭素原子を有する、好ましくは６か
ら約２２の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアシッドであり、例えば、セバシン酸
、ドデカンジオイックアシッド、アゼラインジカルボン酸である。モノカルボン
酸は分子量を制御するために添加される。好適なモノカルボン酸は直鎖であり、
２から２２の炭素原子を有する。最も好適なものは、ステアリン酸及びオレイン
酸である。
【００３４】 ポリアミドの合成に使用されるジアミンは、約２から約２０の炭素原子を有す
る一つ以上の公知の脂肪族、環状脂肪族若しくは芳香族ジアミンである。好適な
ものには、エチレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、１、４−ジアミノブ
タン、ｐ−キシレンジアミン、１、６−ヘキサメチレンジアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ビス（４−シクロヘキシルアミン）メタン、２、２’−ビス（４−シ
クロヘキシルアミン）プロパン、ポリグリコールジアミン、イソホロンジアミン
、ｍ−キシレンジアミン、シクロヘキシルビス（メチルアミン）、ポリオキシア
ルキレンジアミン（登録商標ジェファミン(Jeffamine)にてハンツマン(Huntsman
)から市販されている）、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、１、４−ビ ス−（２−アミノエチル）ベンゼン、ダイマージアミン、ポリエーテルジアミン
、メチルペンタメチレンジアミン及びピペリジンのようなアルキレンジアミンが
ある。好適なジアミンは、２から約２０の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアミン
であり、特にエチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミンであり、並びに環状
脂肪族ジアミンでは、特に４、４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）及
びピペリジンである。モノアミンが分子量を制御するために添加される。好適な
モノアミンは直鎖であり、２から２２の炭素原子を有する。最も好ましいアミン
はステアリルアミン及びオレイルアミンである。
る一つ以上の公知の脂肪族、環状脂肪族若しくは芳香族ジアミンである。好適な
ものには、エチレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、１、４−ジアミノブ
タン、ｐ−キシレンジアミン、１、６−ヘキサメチレンジアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ビス（４−シクロヘキシルアミン）メタン、２、２’−ビス（４−シ
クロヘキシルアミン）プロパン、ポリグリコールジアミン、イソホロンジアミン
、ｍ−キシレンジアミン、シクロヘキシルビス（メチルアミン）、ポリオキシア
ルキレンジアミン（登録商標ジェファミン(Jeffamine)にてハンツマン(Huntsman
)から市販されている）、２−メチル−１、５−ペンタンジアミン、１、４−ビ ス−（２−アミノエチル）ベンゼン、ダイマージアミン、ポリエーテルジアミン
、メチルペンタメチレンジアミン及びピペリジンのようなアルキレンジアミンが
ある。好適なジアミンは、２から約２０の炭素原子を有する直鎖脂肪族ジアミン
であり、特にエチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミンであり、並びに環状
脂肪族ジアミンでは、特に４、４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）及
びピペリジンである。モノアミンが分子量を制御するために添加される。好適な
モノアミンは直鎖であり、２から２２の炭素原子を有する。最も好ましいアミン
はステアリルアミン及びオレイルアミンである。
【００３５】 縮合高分子には、機能性を制御するために、一つの機能性化合物をも包含する
。例えば、安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ベラティックアシッド（verati
c acid）、ロジン、ラウリン酸、醤油、アマニ、トール(tall)及び脱水ひまし油
から作られたもののようなモノアシッドは、ポリエステルの合成に利用されるが
、ステアリルアミン、タローアミン及びシクロヘキシルアミンはポリアミドの合
成に利用される。
。例えば、安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ベラティックアシッド（verati
c acid）、ロジン、ラウリン酸、醤油、アマニ、トール(tall)及び脱水ひまし油
から作られたもののようなモノアシッドは、ポリエステルの合成に利用されるが
、ステアリルアミン、タローアミン及びシクロヘキシルアミンはポリアミドの合
成に利用される。
【００３６】 好適なポリアミド組成物は、アジピン酸及び２−メチル−１、５−ペンタンジ
アミン若しくはダイマーアシッドとイソホロンジアミンを利用した単量体を基礎
とするダイマーアミンのようなナイロンタイプの単量体を利用する。好適なポリ
エステル単量体には、イソフタル酸、及び３−メチル−１、３−プロパンジオー
ル、２、２−ジメチル−１、３−プロパンジオール及びシクロヘキシルジメチロ
ールのような普通のジオールとともに、シクロヘキシルジカルボキシレートとが
ある。
アミン若しくはダイマーアシッドとイソホロンジアミンを利用した単量体を基礎
とするダイマーアミンのようなナイロンタイプの単量体を利用する。好適なポリ
エステル単量体には、イソフタル酸、及び３−メチル−１、３−プロパンジオー
ル、２、２−ジメチル−１、３−プロパンジオール及びシクロヘキシルジメチロ
ールのような普通のジオールとともに、シクロヘキシルジカルボキシレートとが
ある。
【００３７】 本発明に利用される高分子組成物は、ある反応温度で、高分子組成物を生じる
のに十分な時間、前述したＡ及びＢ高分子の重合により合成される。この反応は
工程成長重合反応（step growth polymerization reaction）、つまり、縮重合 反応であることが好ましい。本発明のさらに別の実施例は、高分子鎖当たり３．
５個以上の反応性官能基（好ましくは縮合反応性官能基）を有する付加高分子で
あるＡ高分子と、そのＡ高分子の反応性官能基と共反応性である、高分子鎖当た
り約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子とを反応させて、高分子組成物を
合成する方法に関する。その反応はある温度で、Ｂ高分子の官能基を実質的に全
て共反応させることにより高分子組成物を生じさせるのに十分な時間実行される
ことが好ましい。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高
分子のモル比は約２：１から約２：１．７であることが好ましい。Ｂ高分子が三
官能である際には、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高分子のモル比は約３：１であ
ることが好ましい。二官能と三官能のＢ高分子の混合物が利用される際の好適な
ブレンド比は、当業者には容易に確かめることができる。 反応の温度及び時間はＡ及びＢ高分子により左右される。例えば、Ａ及びＢの
縮合がエステル化によるならば、その反応温度は２４０℃以上に達するであろう
が、縮合がウレタン結合の生成を介して行われるなら、必要とする反応温度は室
温で十分である。高分子組成物の合成方法の反応温度は、通常、約−５０℃から
約３００℃であり、好ましくは約１５０℃から約２４０℃である。反応温度はＡ
高分子若しくはＢ高分子の何れかの分解温度を超えるべきではない。通常、反応
温度は０．５から６時間維持される。
のに十分な時間、前述したＡ及びＢ高分子の重合により合成される。この反応は
工程成長重合反応（step growth polymerization reaction）、つまり、縮重合 反応であることが好ましい。本発明のさらに別の実施例は、高分子鎖当たり３．
５個以上の反応性官能基（好ましくは縮合反応性官能基）を有する付加高分子で
あるＡ高分子と、そのＡ高分子の反応性官能基と共反応性である、高分子鎖当た
り約２個から約３個の官能基を有するＢ高分子とを反応させて、高分子組成物を
合成する方法に関する。その反応はある温度で、Ｂ高分子の官能基を実質的に全
て共反応させることにより高分子組成物を生じさせるのに十分な時間実行される
ことが好ましい。Ｂ高分子が二官能であるとき、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高
分子のモル比は約２：１から約２：１．７であることが好ましい。Ｂ高分子が三
官能である際には、Ｂ高分子とブレンドされるＡ高分子のモル比は約３：１であ
ることが好ましい。二官能と三官能のＢ高分子の混合物が利用される際の好適な
ブレンド比は、当業者には容易に確かめることができる。 反応の温度及び時間はＡ及びＢ高分子により左右される。例えば、Ａ及びＢの
縮合がエステル化によるならば、その反応温度は２４０℃以上に達するであろう
が、縮合がウレタン結合の生成を介して行われるなら、必要とする反応温度は室
温で十分である。高分子組成物の合成方法の反応温度は、通常、約−５０℃から
約３００℃であり、好ましくは約１５０℃から約２４０℃である。反応温度はＡ
高分子若しくはＢ高分子の何れかの分解温度を超えるべきではない。通常、反応
温度は０．５から６時間維持される。
【００３８】 必要ならば、本発明の高分子組成物の合成には、溶媒及び触媒が利用される。
かかる溶媒及び触媒の使用は、当業者には周知である。Ａ及びＢ高分子が互いに
相溶性であり、十分な混合が得られることが重要である。仮に、高分子同士が相
溶性がないならば、溶媒若しくは高分子を段階的に添加する方法を採用し、上記
問題を克服させることができる。当業者には周知である溶媒は、粘度を制御する
こと、並びに高温度で反応させないときに適当な混合を可能にする際に役に立つ
。加えて、キシレンのような反応生成物に少量の溶媒が利用され、共沸させて水
を除去させることもできる。
かかる溶媒及び触媒の使用は、当業者には周知である。Ａ及びＢ高分子が互いに
相溶性であり、十分な混合が得られることが重要である。仮に、高分子同士が相
溶性がないならば、溶媒若しくは高分子を段階的に添加する方法を採用し、上記
問題を克服させることができる。当業者には周知である溶媒は、粘度を制御する
こと、並びに高温度で反応させないときに適当な混合を可能にする際に役に立つ
。加えて、キシレンのような反応生成物に少量の溶媒が利用され、共沸させて水
を除去させることもできる。
【００３９】 通常、本発明で利用する高分子組成物の分子量は、その幅が広い。重量平均分
子量（Ｍｗ）とｚ平均分子量（Ｍｚ）の双方を高くすることが可能であるが、数
平均分子量（Ｍｎ）は、通常、それほど高くない。本発明で利用する高分子組成
物は、実質的にゲルの存在しない低分子量高分子から合成される高い分子量の高
分子組成物であることが好ましい。理論に拘束されることなく、反応性高分子の
機能性はゲル不存在の原因であると考えられる。
子量（Ｍｗ）とｚ平均分子量（Ｍｚ）の双方を高くすることが可能であるが、数
平均分子量（Ｍｎ）は、通常、それほど高くない。本発明で利用する高分子組成
物は、実質的にゲルの存在しない低分子量高分子から合成される高い分子量の高
分子組成物であることが好ましい。理論に拘束されることなく、反応性高分子の
機能性はゲル不存在の原因であると考えられる。
【００４０】 本発明で利用する生成した高分子組成物は、ブロック共重合体の形態をとり、
例えば、ＡＢＡブロック共重合体の形態である。しかしながら、本発明の高分子
組成物はブロック共重合体に制限されることはなく、例えば、結果として、ブロ
ック共重合体とはみなされないすこぶる枝分かれした若しくは複雑な高分子であ
ることもある。
例えば、ＡＢＡブロック共重合体の形態である。しかしながら、本発明の高分子
組成物はブロック共重合体に制限されることはなく、例えば、結果として、ブロ
ック共重合体とはみなされないすこぶる枝分かれした若しくは複雑な高分子であ
ることもある。
【００４１】 一般に、本発明に利用される高分子組成物の重量平均分子量は、標準ポリスチ
レンを利用したゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定され、約４
,０００から約２５０,０００の範囲であり、好ましくは約５,０００から約５０,
０００である。加えて、酸機能性を有する好適な高分子組成物は、通常、約４０
から約２００の酸価を有する。当業者には明らかなように、高分子組成物のガラ
ス転移温度（Ｔｇ）は、Ａ及びＢ高分子からなる単量体を変化させることにより
、容易に変化させることが可能である。典型的には、平均Ｔｇは−５０℃から１
２０℃である。但し、一般には、最終の使用目的が求めるＴｇのタイプを左右す
る。
レンを利用したゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定され、約４
,０００から約２５０,０００の範囲であり、好ましくは約５,０００から約５０,
０００である。加えて、酸機能性を有する好適な高分子組成物は、通常、約４０
から約２００の酸価を有する。当業者には明らかなように、高分子組成物のガラ
ス転移温度（Ｔｇ）は、Ａ及びＢ高分子からなる単量体を変化させることにより
、容易に変化させることが可能である。典型的には、平均Ｔｇは−５０℃から１
２０℃である。但し、一般には、最終の使用目的が求めるＴｇのタイプを左右す
る。
【００４２】 産業上の利用可能性 本発明は、本願で説明するように、実質的にゲル化していない高分子組成物を
含有する溶媒を基礎とする産業上有用な組成物の合成に関する。本発明で利用す
る高分子組成物は、溶媒若しくは溶媒システムで混合される。さらに、高分子組
成物は、混和する、又は混和しない他の成分とともに利用される。本発明の溶媒
カット組成物はコーティング液、オーバープリントワニス、床の表面仕上げ、接
着剤、紙インク、プライマー、フィルム印刷インク及びフィルムプライマーとし
て特に有用である。
含有する溶媒を基礎とする産業上有用な組成物の合成に関する。本発明で利用す
る高分子組成物は、溶媒若しくは溶媒システムで混合される。さらに、高分子組
成物は、混和する、又は混和しない他の成分とともに利用される。本発明の溶媒
カット組成物はコーティング液、オーバープリントワニス、床の表面仕上げ、接
着剤、紙インク、プライマー、フィルム印刷インク及びフィルムプライマーとし
て特に有用である。
【００４３】 本発明の溶媒を基礎とする組成物は、前述した実質的にゲル化していない高分
子組成物と所望の溶媒若しくは溶媒システムとを混合させて調製される。所望の
溶媒若しくは溶媒システムで実質的にゲル化していない高分子組成物のin situ 合成により、溶媒を基礎とする組成物を合成することも可能である。特定の負荷
は利用される高分子組成物及び溶媒又は溶媒システムに依存する。一般に、溶媒
を基礎とする組成物での溶媒量は、通常、組成物の重量の約５から約９５％の範
囲にあり、好ましくは組成物の重量の約５から約６０％である。
子組成物と所望の溶媒若しくは溶媒システムとを混合させて調製される。所望の
溶媒若しくは溶媒システムで実質的にゲル化していない高分子組成物のin situ 合成により、溶媒を基礎とする組成物を合成することも可能である。特定の負荷
は利用される高分子組成物及び溶媒又は溶媒システムに依存する。一般に、溶媒
を基礎とする組成物での溶媒量は、通常、組成物の重量の約５から約９５％の範
囲にあり、好ましくは組成物の重量の約５から約６０％である。
【００４４】 本発明では有用である非水系溶媒はその範囲が広い。典型的には、溶媒には、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン及びジイソ
ブチルケトンのようなケトン類や、酢酸ブチルや酢酸アミルのようなエステル類
、トルエン、キシレン、さらに高沸点の芳香族化合物の混合液のような芳香族化
合物、ミネラルスピリット、臭気のないミネラルスピリットやＶＭＰナフサのよ
うな脂肪族化合物、エチレングリコールのブチルエステル及びジエチレングリコ
ールのブチルエステルのようなグリコールエステル類がある。溶媒の選択は最終
の使用目的に関係し、その選択は当業者には周知である。重要なことは、本発明
の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、単一のＡ若しくはＢ高
分子タイプよりも幅広い溶解性を有する傾向にあることである。
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン及びジイソ
ブチルケトンのようなケトン類や、酢酸ブチルや酢酸アミルのようなエステル類
、トルエン、キシレン、さらに高沸点の芳香族化合物の混合液のような芳香族化
合物、ミネラルスピリット、臭気のないミネラルスピリットやＶＭＰナフサのよ
うな脂肪族化合物、エチレングリコールのブチルエステル及びジエチレングリコ
ールのブチルエステルのようなグリコールエステル類がある。溶媒の選択は最終
の使用目的に関係し、その選択は当業者には周知である。重要なことは、本発明
の溶媒を基礎とする組成物に利用される高分子組成物は、単一のＡ若しくはＢ高
分子タイプよりも幅広い溶解性を有する傾向にあることである。
【００４５】 本発明の溶媒を基礎とする組成物はさらなる添加成分を含有し、その性質はそ
の組成物の特定の応用に左右される。例えば、本発明の組成物には、架橋剤、消
泡剤、滑剤、着色剤、加湿剤、顔料若しくは色素、ワックスが含まれる。当業者
には、かかる添加成分が、応用に応じて、例えば、コーティング液、接着剤、イ
ンク、プライマーなどに応じて、本発明の溶媒を基礎とする組成物の用途を容易
に確認することができるであろう。
の組成物の特定の応用に左右される。例えば、本発明の組成物には、架橋剤、消
泡剤、滑剤、着色剤、加湿剤、顔料若しくは色素、ワックスが含まれる。当業者
には、かかる添加成分が、応用に応じて、例えば、コーティング液、接着剤、イ
ンク、プライマーなどに応じて、本発明の溶媒を基礎とする組成物の用途を容易
に確認することができるであろう。
【００４６】 本発明は、次の詳細な実験からより理解されるであろう。しかしながら、当業
者は、本願で説明する特定の方法及び結果は本発明を単に説明するものであり、
本発明に制限を加えることを意味していないことは、容易に理解されるであろう
。
者は、本願で説明する特定の方法及び結果は本発明を単に説明するものであり、
本発明に制限を加えることを意味していないことは、容易に理解されるであろう
。
【００４７】 詳細な実験 「Ａ」高分子 カルボン酸官能基を有するスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂の合
成 「Ａ」高分子（１） 低分子量のスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、連続攪拌タンク
反応器（continuous stirred tank reactor、 CSTR）中４９０°Ｆ（２５４°）
で、２２％のスチレン、４５％の/α‐メチルスチレン及び３３％のアクリル酸 を２０％のキシレン中で、３モル％の開始剤を用いて、１２分間の滞留時間で重
合させることにより合成し、続いて、溶媒及び未反応単量体を除去した。
成 「Ａ」高分子（１） 低分子量のスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、連続攪拌タンク
反応器（continuous stirred tank reactor、 CSTR）中４９０°Ｆ（２５４°）
で、２２％のスチレン、４５％の/α‐メチルスチレン及び３３％のアクリル酸 を２０％のキシレン中で、３モル％の開始剤を用いて、１２分間の滞留時間で重
合させることにより合成し、続いて、溶媒及び未反応単量体を除去した。
【００４８】 生じたスチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、それぞれ１１７０の
数平均分子量（Ｍｎ）、１７７０の重量平均分子量（Ｍｗ）、２５９０のｚ平均
分子量（Ｍｚ）を有していた。得られた高分子の数平均カルボン酸官能基（Ｆｎ
）、重量平均カルボン酸官能基（Ｆｗ）、酸価（固体）、ガラス転移温度（Ｔｇ
）（開始点及び中間点）を表１に掲載する。
数平均分子量（Ｍｎ）、１７７０の重量平均分子量（Ｍｗ）、２５９０のｚ平均
分子量（Ｍｚ）を有していた。得られた高分子の数平均カルボン酸官能基（Ｆｎ
）、重量平均カルボン酸官能基（Ｆｗ）、酸価（固体）、ガラス転移温度（Ｔｇ
）（開始点及び中間点）を表１に掲載する。
【００４９】 「Ａ」高分子（２‐４） スチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂は、Ａ高分子１と同じ方法で合
成した。それらの高分子の成分及び特性を、Ａ高分子１のそれらとともに、表１
に掲載する。
成した。それらの高分子の成分及び特性を、Ａ高分子１のそれらとともに、表１
に掲載する。
【００５０】 ヒドロキシ官能基を有するアクリル樹脂の合成 「Ａ」高分子（５） メチルメタクリレート（２７％）、ブチルアクリレート（１５％）及び２‐ヒ
ドロキシエチルアクリレート（５８％）を２０％の酢酸ブチルに溶解させ、米国
特許第４,５４６,１６０号記載のものと実質的に同じ方法で、４５０°Ｆで、１
５分間重合させた。その後、反応生成物はエチルジグライム中で５１％の固体に
した。生じたヒドロキシ官能基含有アクリル樹脂は１１８０の数平均分子量と５
．２８の高分子鎖当たりのヒドロキシ官能基を有していた。
ドロキシエチルアクリレート（５８％）を２０％の酢酸ブチルに溶解させ、米国
特許第４,５４６,１６０号記載のものと実質的に同じ方法で、４５０°Ｆで、１
５分間重合させた。その後、反応生成物はエチルジグライム中で５１％の固体に
した。生じたヒドロキシ官能基含有アクリル樹脂は１１８０の数平均分子量と５
．２８の高分子鎖当たりのヒドロキシ官能基を有していた。
【００５１】
【表１】 「Ｂ」高分子 ポリエステル高分子の合成 「Ｂ」高分子（１） ポリエステルは、窒素雰囲気下で２−メチル−１、３−プロパンジオール（４
３．０６重量部；２１．５３ｌｂｓ；９．７７ｋｇｓ）、イソフタル酸（４７．
６５重量部；２３．８３ｌｂｓ；１０．８１ｋｇｓ）とファスキャット４１００
（Fascat、エルフアトケム化学から市販されているスズ触媒）（０．０８重量部
；０．０４ｌｂｓ；０．２０ｋｇｓ）を仕込んで合成した。カラムの頂部を１０
０℃以下に維持させながら、その仕込み物を２１０℃へ加熱させた。酸価が５以
下になるまで反応を継続させ、その後、１５０℃へ冷却し、一晩放置させた。次
の日、反応内容物をさらに１５０℃まで再加熱し、続いて１、４−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート（２４．６９重量部；１２．３５ｌｂｓ；５．６０ｋｇｓ
）とファスキャット４１００（０．０２重量部；０．０１ｌｂｓ；０．００５ｋ
ｇｓ）を反応内容物に添加した。次に、窒素雰囲気を維持させながら、反応器の
内容物を２２０℃まで加熱した。カラムの頂部を１００℃以下に保ち、反応物の
酸価は５以下に維持され、その値に達した。その結果生成したポリエステル樹脂
は３０２３の数平均分子量（Ｍｎ）、６４８６の重量平均分子量（Ｍｗ）と１０
,７２０のｚ平均分子量（Ｍｚ）を有していた。Ｔｇは、その開始が８℃であり 、その中間点が１４℃であると測定された。
３．０６重量部；２１．５３ｌｂｓ；９．７７ｋｇｓ）、イソフタル酸（４７．
６５重量部；２３．８３ｌｂｓ；１０．８１ｋｇｓ）とファスキャット４１００
（Fascat、エルフアトケム化学から市販されているスズ触媒）（０．０８重量部
；０．０４ｌｂｓ；０．２０ｋｇｓ）を仕込んで合成した。カラムの頂部を１０
０℃以下に維持させながら、その仕込み物を２１０℃へ加熱させた。酸価が５以
下になるまで反応を継続させ、その後、１５０℃へ冷却し、一晩放置させた。次
の日、反応内容物をさらに１５０℃まで再加熱し、続いて１、４−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート（２４．６９重量部；１２．３５ｌｂｓ；５．６０ｋｇｓ
）とファスキャット４１００（０．０２重量部；０．０１ｌｂｓ；０．００５ｋ
ｇｓ）を反応内容物に添加した。次に、窒素雰囲気を維持させながら、反応器の
内容物を２２０℃まで加熱した。カラムの頂部を１００℃以下に保ち、反応物の
酸価は５以下に維持され、その値に達した。その結果生成したポリエステル樹脂
は３０２３の数平均分子量（Ｍｎ）、６４８６の重量平均分子量（Ｍｗ）と１０
,７２０のｚ平均分子量（Ｍｚ）を有していた。Ｔｇは、その開始が８℃であり 、その中間点が１４℃であると測定された。
【００５２】 「Ｂ」高分子（２−６） ポリエステル樹脂は、ポリエステルの成分及び/又はその成分のモル比が異な る以外は、Ｂ高分子１と同じ方法で合成した。Ｂポリエステル（１−６）の成分
、モル比、Ｍｎ、Ｍｗ、Ｍｚ及びＴｇ（開始点/中間点）を、以下の表２に掲載 する。
、モル比、Ｍｎ、Ｍｗ、Ｍｚ及びＴｇ（開始点/中間点）を、以下の表２に掲載 する。
【００５３】
【表２】 ポリアミド樹脂の合成 「Ｂ」高分子（７） シルボジムＴ−１８（Sylvodym、登録商標）ダイマーアシッド（アリゾナケミ
カルから市販されているＣ３６ダイマーアシッド）（７７．１９８重量部）、ケ
ムアミンＰ−９９０Ｄ（Kemamine,登録商標）（ウィットコケミカルから市販さ れているアテアリルアミン）（４．１５０重量部）及びダウコーニング２００（
シリコーン消泡剤）（０．００２重量部）を反応器に仕込み、窒素雰囲気下で１
３０℃へ加熱した。次に、１３０乃至１３５℃の温度を維持させながら、イソホ
ロンジアミン（１６．１４０重量部）とディテックＡ（Dytek、登録商標）（Ｅ ．Ｉ．デュポン デ ニムールスから市販）（２−メチル‐１、５−ペンタンジ
アミン）（７．３４０重量部）を反応混合液に添加した。窒素を導入させながら
、反応混合物をゆっくりと約２２０℃へ加熱し、全ての理論値の水が実質的に除
去されるまで、その温度を維持した。アミン官能基を有するポリアミド樹脂が得
られた。Ｍｎ＝３１６０（理論値）；塩基値（Base value）＝３１；Ｔｇ＝６/ １２℃であった。
カルから市販されているＣ３６ダイマーアシッド）（７７．１９８重量部）、ケ
ムアミンＰ−９９０Ｄ（Kemamine,登録商標）（ウィットコケミカルから市販さ れているアテアリルアミン）（４．１５０重量部）及びダウコーニング２００（
シリコーン消泡剤）（０．００２重量部）を反応器に仕込み、窒素雰囲気下で１
３０℃へ加熱した。次に、１３０乃至１３５℃の温度を維持させながら、イソホ
ロンジアミン（１６．１４０重量部）とディテックＡ（Dytek、登録商標）（Ｅ ．Ｉ．デュポン デ ニムールスから市販）（２−メチル‐１、５−ペンタンジ
アミン）（７．３４０重量部）を反応混合液に添加した。窒素を導入させながら
、反応混合物をゆっくりと約２２０℃へ加熱し、全ての理論値の水が実質的に除
去されるまで、その温度を維持した。アミン官能基を有するポリアミド樹脂が得
られた。Ｍｎ＝３１６０（理論値）；塩基値（Base value）＝３１；Ｔｇ＝６/ １２℃であった。
【００５４】 「Ｂ」高分子（８） シルボジムＴ−１８（Sylvodym、登録商標）ダイマーアシッド（７６．５９８
重量部）、シクロヘキシルアミン（１．５００重量部）及びダウコーニング２０
０（０．００２重量部）を反応器に仕込み、１３０℃に加熱した。次に、１３０
乃至１３５℃の温度に維持させながら、イソホロンジアミン（２６．７００重量
部）を反応器に添加した。反応混合物をその後ゆっくりと２２０℃へ加熱してい
き、窒素導入させながら、水を除去させた。反応温度は、全ての水が実質的に除
去されるまで維持され、ポリアミドを回収した。Ｍｎ＝３１８４（理論値）；塩
基値＝２９；Ｔｇ＝２９/３８℃であった。
重量部）、シクロヘキシルアミン（１．５００重量部）及びダウコーニング２０
０（０．００２重量部）を反応器に仕込み、１３０℃に加熱した。次に、１３０
乃至１３５℃の温度に維持させながら、イソホロンジアミン（２６．７００重量
部）を反応器に添加した。反応混合物をその後ゆっくりと２２０℃へ加熱してい
き、窒素導入させながら、水を除去させた。反応温度は、全ての水が実質的に除
去されるまで維持され、ポリアミドを回収した。Ｍｎ＝３１８４（理論値）；塩
基値＝２９；Ｔｇ＝２９/３８℃であった。
【００５５】 ポリウレタンＢ高分子の合成 「Ｂ」高分子（９） エチルジグライム（ＥＤＧ）（６００．３ｇ）と２−メチル‐１、３−プロパ
ンジオール（ＭＰＤ）（１４６．４ｇ）を２リットルの４つ口反応フラスコに添
加した。そのフラスコには、攪拌器と、Ｎ２ガス入口と、熱電対と水を集めるた
めのトラップの付いたコンデンサーとを備えている。上記混合物は窒素雰囲気下
で１５０℃に加熱し、過剰の水及び溶媒、不純物を除去した。約１時間後、反応
液を３０℃に冷却し、窒素導入を停止した。次に、テトラメチルキシレンジイソ
シアネート（ＴＭＸＤＩ）（４５４．２ｇ）を滴下ロートを介して、秒速約一滴
の速度で、３時間かけて反応混合液に添加した。その間反応温度は８０°に維持
させた。ポリウレタンオリゴマーが回収された。Ｍｎ＝２５８２（理論値）であ
った。
ンジオール（ＭＰＤ）（１４６．４ｇ）を２リットルの４つ口反応フラスコに添
加した。そのフラスコには、攪拌器と、Ｎ２ガス入口と、熱電対と水を集めるた
めのトラップの付いたコンデンサーとを備えている。上記混合物は窒素雰囲気下
で１５０℃に加熱し、過剰の水及び溶媒、不純物を除去した。約１時間後、反応
液を３０℃に冷却し、窒素導入を停止した。次に、テトラメチルキシレンジイソ
シアネート（ＴＭＸＤＩ）（４５４．２ｇ）を滴下ロートを介して、秒速約一滴
の速度で、３時間かけて反応混合液に添加した。その間反応温度は８０°に維持
させた。ポリウレタンオリゴマーが回収された。Ｍｎ＝２５８２（理論値）であ
った。
【００５６】 高分子組成物の合成 例１ ポリエステル樹脂、Ｂ高分子（１）（９６３．０ｇ）を反応フラスコに添加し
、１５０℃へ加熱した。１５分以上かけてＡ高分子（１）であるスチレン/α‐ メチルスチレン/アクリル酸樹脂（５４１．７ｇ）を徐々に添加し、その後、キ シレン（４５ｇ）を添加した。トラップはキシレンで満たされ、水を除去させる
ために反応混合物を２３０℃に加熱させながら、反応フラスコ中のキシレンを３
％に維持させた。上記反応を６．５時間継続させた。結果生じた高分子組成物は
２６,１８０のＭｗ、３,４４４のＭｎ、１０９,７００のＭｚと、２５/３６℃（
開始点/中間点）のＴｇを有していた。
、１５０℃へ加熱した。１５分以上かけてＡ高分子（１）であるスチレン/α‐ メチルスチレン/アクリル酸樹脂（５４１．７ｇ）を徐々に添加し、その後、キ シレン（４５ｇ）を添加した。トラップはキシレンで満たされ、水を除去させる
ために反応混合物を２３０℃に加熱させながら、反応フラスコ中のキシレンを３
％に維持させた。上記反応を６．５時間継続させた。結果生じた高分子組成物は
２６,１８０のＭｗ、３,４４４のＭｎ、１０９,７００のＭｚと、２５/３６℃（
開始点/中間点）のＴｇを有していた。
【００５７】 例２−１１ さまざまな高分子組成物を、スチレン/α‐メチルスチレン/アクリル酸樹脂の
Ａ高分子とポリエステル樹脂のＢ高分子から、例１と同じ方法で合成した。それ
らの高分子組成物の成分及びさまざまな特性を、以下の表３に掲載する。
Ａ高分子とポリエステル樹脂のＢ高分子から、例１と同じ方法で合成した。それ
らの高分子組成物の成分及びさまざまな特性を、以下の表３に掲載する。
【００５８】
【表３】 例１３ 高分子組成物は、Ａ高分子（５）、ヒドロキシ官能基のあるアクリル、Ｂ高分
子（９）、ポリウレタンオリゴマーから合成された。窒素導入管、コンデンサー
、攪拌器及び熱電対を備えた１リットルの４つ口フラスコに、２６３．７ｇのＢ
高分子（９）を添加した。その後、６滴のジラウリン酸ジブチルスズ（ＤＢＴＤ
Ｌ）をそのフラスコに添加した。溶液を７０℃へ予め加熱し、その後、Ａ高分子
（５）をゆっくりと一滴ずつ反応液に添加した。全てのＡ高分子を添加させた後
、反応温度を８５℃まで昇温し、約４．５時間その温度で反応させた。結果生じ
た溶液は深黄色であった。Ｍｎ＝２６４６；Ｍｗ＝６４１１；Ｍｚ＝１７２９０
であり、ＯＨ値は５８であった。
子（９）、ポリウレタンオリゴマーから合成された。窒素導入管、コンデンサー
、攪拌器及び熱電対を備えた１リットルの４つ口フラスコに、２６３．７ｇのＢ
高分子（９）を添加した。その後、６滴のジラウリン酸ジブチルスズ（ＤＢＴＤ
Ｌ）をそのフラスコに添加した。溶液を７０℃へ予め加熱し、その後、Ａ高分子
（５）をゆっくりと一滴ずつ反応液に添加した。全てのＡ高分子を添加させた後
、反応温度を８５℃まで昇温し、約４．５時間その温度で反応させた。結果生じ
た溶液は深黄色であった。Ｍｎ＝２６４６；Ｍｗ＝６４１１；Ｍｚ＝１７２９０
であり、ＯＨ値は５８であった。
【００５９】 例１４ 高分子組成物はＡ高分子（４）、つまり、スチレン/アクリル樹脂とＢ高分子 （８）、ポリアミド樹脂から合成した。Ａ高分子樹脂（３８．８５重量部）を反
応器へ仕込み、次に、窒素雰囲気下で攪拌させながら１８０℃へ加熱させた。続
いて、Ｂ高分子（８）（６１．８５重量部）を１８０℃で添加させた。その混合
物をさらに２２０℃へ加熱し、水が除去されるまでその温度を維持させた。その
後、反応温度を２３０℃まで上昇させ、高分子組成物を集めた。Ｍｎ＝２７９９
、Ｍｗ＝２６９９０；Ｍｚ＝９３６６０；Ｔｇ＝４２/６２℃；Ａｖ＝８０であ った。 例１５ 高分子組成物は、スチレン/アクリル樹脂、つまり、Ａ高分子が３９．０３重 量部であり、Ｂ高分子がＢ高分子（７）である以外は、例１４と同じ方法で合成
した。Ｍｎ＝２９３９；Ｍｗ＝２４,３００；Ｍｚ＝８７,９２０；Ｔｇ＝３０/ ４６℃；Ａｖ＝３８であった。
応器へ仕込み、次に、窒素雰囲気下で攪拌させながら１８０℃へ加熱させた。続
いて、Ｂ高分子（８）（６１．８５重量部）を１８０℃で添加させた。その混合
物をさらに２２０℃へ加熱し、水が除去されるまでその温度を維持させた。その
後、反応温度を２３０℃まで上昇させ、高分子組成物を集めた。Ｍｎ＝２７９９
、Ｍｗ＝２６９９０；Ｍｚ＝９３６６０；Ｔｇ＝４２/６２℃；Ａｖ＝８０であ った。 例１５ 高分子組成物は、スチレン/アクリル樹脂、つまり、Ａ高分子が３９．０３重 量部であり、Ｂ高分子がＢ高分子（７）である以外は、例１４と同じ方法で合成
した。Ｍｎ＝２９３９；Ｍｗ＝２４,３００；Ｍｚ＝８７,９２０；Ｔｇ＝３０/ ４６℃；Ａｖ＝３８であった。
【００６０】 例１６ 高分子組成物はＡ高分子（４）と、ミシガン州ミッドランドにあるダウケミカ
ルから市販されている、６３９の数平均分子量（Ｍｎ）とモル当たり２つのヒド
ロキシ基の官能基を有するポリプロピレンオキシド（ＰＰＯ）４２５のＢ高分子
とから合成した。Ａ高分子及びＢ高分子は、溶媒及び触媒不存在下で１に対する
２のあるモル比で反応させ、所望の高分子組成物を生じさせるように、約２１０
乃至２３８℃の温度で反応させた。生じた高分子組成物は１６８８のＭｎ、５９
４５のＭｗ、１７,１２０のＭｚと、１６４の酸価（固体）、４５/５５℃（開始
点/中間点）のＴｇを有していた。
ルから市販されている、６３９の数平均分子量（Ｍｎ）とモル当たり２つのヒド
ロキシ基の官能基を有するポリプロピレンオキシド（ＰＰＯ）４２５のＢ高分子
とから合成した。Ａ高分子及びＢ高分子は、溶媒及び触媒不存在下で１に対する
２のあるモル比で反応させ、所望の高分子組成物を生じさせるように、約２１０
乃至２３８℃の温度で反応させた。生じた高分子組成物は１６８８のＭｎ、５９
４５のＭｗ、１７,１２０のＭｚと、１６４の酸価（固体）、４５/５５℃（開始
点/中間点）のＴｇを有していた。
【００６１】 例１７ 高分子組成物は、Ｂ高分子が１２５６の数平均分子量（Ｍｎ）を有するポリプ
ロピレンオキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ１０００）である以
外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基はモル当たり２つのヒド
ロキシ基であり、ブロック共重合体合成温度は約２１５乃至２３４℃の範囲であ
った。結果生じた高分子組成物は１８６１のＭｎ、８２５１のＭｗ、２４５１０
のＭｚ、１３１の酸価（固体）、−２/１０℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
ロピレンオキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ１０００）である以
外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基はモル当たり２つのヒド
ロキシ基であり、ブロック共重合体合成温度は約２１５乃至２３４℃の範囲であ
った。結果生じた高分子組成物は１８６１のＭｎ、８２５１のＭｗ、２４５１０
のＭｚ、１３１の酸価（固体）、−２/１０℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
【００６２】 例１８ 高分子組成物は、Ｂ高分子が３４７９の数平均分子量を有するポリプロピレン
オキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ４０００）である以外は、例
１６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基の数は、モル当たり２つのヒド
ロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は２２０乃至２４０℃の範囲であり
、トルエンを溶媒として利用した。結果生成した高分子組成物は、２５２０のＭ
ｎ、１７,３４０のＭｗ、４５,１９０のＭｚ、６２．８９の酸価（固体）と−５
４/−４６℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
オキシド（ダウケミカルから市販されているＰＰＯ４０００）である以外は、例
１６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基の数は、モル当たり２つのヒド
ロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は２２０乃至２４０℃の範囲であり
、トルエンを溶媒として利用した。結果生成した高分子組成物は、２５２０のＭ
ｎ、１７,３４０のＭｗ、４５,１９０のＭｚ、６２．８９の酸価（固体）と−５
４/−４６℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
【００６３】 例１９ 高分子組成物は、Ｂ高分子が３７７の数平均分子量を有するポリ（エチレンオ
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ２００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物の合成温度は２００乃至２２０℃の範囲であった。
生成した高分子組成物は、１６０１のＭｎ、５２１９のＭｗ、１５３５０のＭｚ
、１８０．８の酸価（固体）と、５９/６７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ２００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物の合成温度は２００乃至２２０℃の範囲であった。
生成した高分子組成物は、１６０１のＭｎ、５２１９のＭｗ、１５３５０のＭｚ
、１８０．８の酸価（固体）と、５９/６７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
【００６４】 例２０ 高分子組成物は、Ｂ高分子が８８２の数平均分子量を有するポリ（エチレンオ
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ６００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物は、約２００乃至２２０℃の合成温度で合成した。
生成した高分子組成物は、１８１９のＭｎ、６７８４のＭｗ、１７,７３０のＭ ｚ、１５６．７の酸価（固体）と１８/２７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
キシド）（ダウケミカルから市販されているＰＥＯ６００）である以外は、例１
６と同じ方法で合成された。Ｂ高分子の官能基数は、モル当たり２つのヒドロキ
シ基であった。高分子組成物は、約２００乃至２２０℃の合成温度で合成した。
生成した高分子組成物は、１８１９のＭｎ、６７８４のＭｗ、１７,７３０のＭ ｚ、１５６．７の酸価（固体）と１８/２７℃（開始点/中間点）のＴｇを有して
いた。
【００６５】 例２１ 高分子組成物は、Ｂ高分子が４３３３の数平均分子量を有するポリ（ポリプロ
ピレン‐β‐エチレンオキシド）（ＢＡＳＦから市販されているプルロニック１
２３）である以外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基数は、モ
ル当たり約２のヒドロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は、約２００乃
至約２３０℃の範囲であった。生成した高分子組成物は、３０７４のＭｎ、２３
,７１０のＭｗ、４６,９７０のＭｚ、５０．２の酸価（固体）と−６１/−５３ ℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
ピレン‐β‐エチレンオキシド）（ＢＡＳＦから市販されているプルロニック１
２３）である以外は、例１６と同じ方法で合成した。Ｂ高分子の官能基数は、モ
ル当たり約２のヒドロキシ基であった。高分子組成物の合成温度は、約２００乃
至約２３０℃の範囲であった。生成した高分子組成物は、３０７４のＭｎ、２３
,７１０のＭｗ、４６,９７０のＭｚ、５０．２の酸価（固体）と−６１/−５３ ℃（開始点/中間点）のＴｇを有していた。
【００６６】 多くのさらなる高分子組成物は、以下の表Ａに記載するＡ高分子と表Ｂに記載
するＢ高分子を利用して合成された。
するＢ高分子を利用して合成された。
【００６７】
【表４】
【００６８】
【表５】 例Ｉ バルクサーマル方法（Bulk thermal process）による高分子組成物の合成 攪拌器、窒素導入管、コンデンサーの付いたディーンスタークトラップを備え
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有する４６８ｇのス
チレンアクリル高分子（Ａ高分子Ｉ）を仕込んだ。これを１５０乃至１８０℃の
温度へ加熱した。次に、一級（１°）ヒドロキシを有する１４０．４ｇ の分岐
ポリエステル高分子（Ｂ高分子ＩＩ）を添加し、３Ａ：１Ｂのあるモル比にした
。それから温度を２２０℃まで昇温させ、８．４ｇの水が除去されるまで維持し
た。生成物を皿に注ぎ、冷却させた。最終生成物を表Ｃに記載する。
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有する４６８ｇのス
チレンアクリル高分子（Ａ高分子Ｉ）を仕込んだ。これを１５０乃至１８０℃の
温度へ加熱した。次に、一級（１°）ヒドロキシを有する１４０．４ｇ の分岐
ポリエステル高分子（Ｂ高分子ＩＩ）を添加し、３Ａ：１Ｂのあるモル比にした
。それから温度を２２０℃まで昇温させ、８．４ｇの水が除去されるまで維持し
た。生成物を皿に注ぎ、冷却させた。最終生成物を表Ｃに記載する。
【００６９】 例ＩＩ−ＶＩ 多くの高分子組成物は、２２０乃至２４０℃の反応温度で、以下の表Ｃに示す
Ａ及びＢ高分子を利用して、実質的に例Ｉと同じ方法で合成した。
Ａ及びＢ高分子を利用して、実質的に例Ｉと同じ方法で合成した。
【００７０】 例ＶＩＩ 溶媒還流方法による高分子組成物の合成 攪拌器、窒素導入管、コンデンサーの付いたディーンスタークトラップを備え
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有するメチルメタク
リレート高分子（Ａ高分子Ｖ）の５１８．３ｇを仕込んだ。これを１５０乃至１
８０℃へ加熱して融解させ、攪拌を開始した。次に、９６．９ｇの二級（２°）
ヒドロキシ官能基を有する直鎖ポリプロピレンオキシド（Ｂ高分子ＶＩＩＩ）と
１３．６ｇのメチルｎ−アミルケトン（ＭＡＫ）を添加した。その後、反応器を
１８０℃で１時間加熱し、２００℃で１時間加熱し、最後に２２０℃で１時間加
熱した。生成物をトレイに注ぎ、冷却させた。水‐ＭＡＫ還流を利用して、１０
．６ｇの水を除去した。
た１０００ｍｌの４つ口フラスコに、カルボキシル官能基を有するメチルメタク
リレート高分子（Ａ高分子Ｖ）の５１８．３ｇを仕込んだ。これを１５０乃至１
８０℃へ加熱して融解させ、攪拌を開始した。次に、９６．９ｇの二級（２°）
ヒドロキシ官能基を有する直鎖ポリプロピレンオキシド（Ｂ高分子ＶＩＩＩ）と
１３．６ｇのメチルｎ−アミルケトン（ＭＡＫ）を添加した。その後、反応器を
１８０℃で１時間加熱し、２００℃で１時間加熱し、最後に２２０℃で１時間加
熱した。生成物をトレイに注ぎ、冷却させた。水‐ＭＡＫ還流を利用して、１０
．６ｇの水を除去した。
【００７１】 例ＶＩＩＩ及び例ＩＸ 二つの高分子組成物を、ＭＡＫをキシレンと交換し、表Ｃに示すＡ及びＢ高分
子を利用した以外、例ＶＩＩと実質的に同じ方法で合成した。
子を利用した以外、例ＶＩＩと実質的に同じ方法で合成した。
【００７２】 例Ｘ 溶媒方法による高分子組成物の合成 攪拌器、窒素導入管、及びコンデンサーを備えた１０００ｍｌの４つ口フラス
コに、カルボキシル官能基を有するスチレン/アクリル酸高分子（Ａ高分子ＩＩ Ｉ）の５０％溶液の２２２．２ｇと５０％のジエチレングリコールジエチルエー
テルを仕込んだ。攪拌開始後、イソシアナート（isocyanato）官能基を有する直
鎖ポリウレタン高分子（Ｂ高分子ＩＶ）の５０％溶液の２７７．８ｇと、５０％
のジエチレングリコールジエチルエーテルを添加した。５分間混合後、エアープ
ロダクトカタリストから市販されている０．２５ｇのメタキュアＴ１２を添加し
、温度を６５℃へ昇温させ、４時間その温度を維持させた。生成物をクオートジ
ャー（quart jar）に注ぎ、冷却した。
コに、カルボキシル官能基を有するスチレン/アクリル酸高分子（Ａ高分子ＩＩ Ｉ）の５０％溶液の２２２．２ｇと５０％のジエチレングリコールジエチルエー
テルを仕込んだ。攪拌開始後、イソシアナート（isocyanato）官能基を有する直
鎖ポリウレタン高分子（Ｂ高分子ＩＶ）の５０％溶液の２７７．８ｇと、５０％
のジエチレングリコールジエチルエーテルを添加した。５分間混合後、エアープ
ロダクトカタリストから市販されている０．２５ｇのメタキュアＴ１２を添加し
、温度を６５℃へ昇温させ、４時間その温度を維持させた。生成物をクオートジ
ャー（quart jar）に注ぎ、冷却した。
【００７３】 例ＸＩ−ＸＩＶ 数多の高分子組成物を、１２５乃至１９０℃の反応温度で、以下の表Ｃに示す
Ａ及びＢ高分子を利用して、例Ｘと実質的に同じ方法で合成した。
Ａ及びＢ高分子を利用して、例Ｘと実質的に同じ方法で合成した。
【００７４】 Ａ高分子及びＢ高分子構成要素と、例Ｉ−ＸＩＶにて生成した高分子組成物の
性質を、以下の表Ｃに掲載する。
性質を、以下の表Ｃに掲載する。
【００７５】
【表６】 コーティング 例ＳＣ−１及び例ＳＣ−２、並びに比較例ＳＣ−ＣＭ−１ 及び比較例ＳＣ−ＣＭ−２ 例ＳＣ−１及び例ＳＣ−２は、表Ｃ、例Ｖに記載する高Ｍｗの高分子組成物を
含有する溶媒を基礎とする樹脂組成物である。比較例ＳＣ−ＣＭ−１及びＳＣ−
ＣＭ−２はＪ−５６９、ウイスコンシン州スターテバントにあるＳ．Ｃ．ジョン
ソンポリマーから市販されているヒドロキシ官能基を有するアクリレート樹脂で
作られた組成物である。表Ｂに記載された直鎖ポリエステルＩＩＩを含有するＳ
Ｃ−ＣＭ−２と同様な比較例が調製された。しかしながら、この比較例だけでな
く、ポリエステルのみでの比較例、つまりヒドロキシ官能基を含有しないアクリ
レートは、ポリエステルの結晶性に起因して、コーティングに適さなかった。各
組成物は高分子成分とメラミン架橋剤（ニュージャージー州ウエストパターソン
にあるサイテックインダストリから市販されているサイメル３０３）、メチルア
ミルケトン、パラ‐トルエンスルホン酸（全樹脂固形分に対して０．５重量％）
、メタノール（全樹脂固形分に対して１０重量％）、ＤＣ５７（ミシガン州ミッ
ドランドにあるダウコーニングから市販されているシリコーン滑剤；全樹脂固形
分に対して０．１重量％）を混合させて調製し、約５５％重量の固形分を有する
組成物が得られた。架橋剤は、１２％の架橋剤に対して８８％の高分子組成物の
割合で存在していた。ＳＣ−ＣＭ１、ＳＣ−１、ＳＣ−ＣＭ２及びＳＣ−２の構
成要素を表Ｄに掲載する。
含有する溶媒を基礎とする樹脂組成物である。比較例ＳＣ−ＣＭ−１及びＳＣ−
ＣＭ−２はＪ−５６９、ウイスコンシン州スターテバントにあるＳ．Ｃ．ジョン
ソンポリマーから市販されているヒドロキシ官能基を有するアクリレート樹脂で
作られた組成物である。表Ｂに記載された直鎖ポリエステルＩＩＩを含有するＳ
Ｃ−ＣＭ−２と同様な比較例が調製された。しかしながら、この比較例だけでな
く、ポリエステルのみでの比較例、つまりヒドロキシ官能基を含有しないアクリ
レートは、ポリエステルの結晶性に起因して、コーティングに適さなかった。各
組成物は高分子成分とメラミン架橋剤（ニュージャージー州ウエストパターソン
にあるサイテックインダストリから市販されているサイメル３０３）、メチルア
ミルケトン、パラ‐トルエンスルホン酸（全樹脂固形分に対して０．５重量％）
、メタノール（全樹脂固形分に対して１０重量％）、ＤＣ５７（ミシガン州ミッ
ドランドにあるダウコーニングから市販されているシリコーン滑剤；全樹脂固形
分に対して０．１重量％）を混合させて調製し、約５５％重量の固形分を有する
組成物が得られた。架橋剤は、１２％の架橋剤に対して８８％の高分子組成物の
割合で存在していた。ＳＣ−ＣＭ１、ＳＣ−１、ＳＣ−ＣＭ２及びＳＣ−２の構
成要素を表Ｄに掲載する。
【００７６】
【表７】 上記配合をボンドライト（Bondrite）１０００（リン酸鉄処理したスチール）
パネルに塗布し、３０分間１５０℃でベークして、１．５±０．０１ミルの厚さ
の乾燥フィルムを得た。コーティング液は、リバースインパクト装置を利用して
リバースインパクトテストにて試験され、その装置にはパネルの裏面に１N−ｍ （１０インチｌｂｓ） から１８N−ｍ（１６０インチｌｂｓ）の範囲で、１０ず つの段階で力を加える１６ｍｍ（５/８”）ボールがある。各インパクトテスト の結果を、ハロゲンランプ照明で約２倍の倍率のルーペを利用して調べた。各イ
ンパクトテストでは、０の不良から最良の１０の評価を割り当て、ここで、１０
は全くクラックが発生しなかった状態を表わす。コーティング被膜は、共通して
、パスする、つまり、クラックが発生しない最も重いインチポンドにより評価さ
れる。調製したコーティング被膜のテスト結果を、表ＳＣ−Ａに掲載する。
パネルに塗布し、３０分間１５０℃でベークして、１．５±０．０１ミルの厚さ
の乾燥フィルムを得た。コーティング液は、リバースインパクト装置を利用して
リバースインパクトテストにて試験され、その装置にはパネルの裏面に１N−ｍ （１０インチｌｂｓ） から１８N−ｍ（１６０インチｌｂｓ）の範囲で、１０ず つの段階で力を加える１６ｍｍ（５/８”）ボールがある。各インパクトテスト の結果を、ハロゲンランプ照明で約２倍の倍率のルーペを利用して調べた。各イ
ンパクトテストでは、０の不良から最良の１０の評価を割り当て、ここで、１０
は全くクラックが発生しなかった状態を表わす。コーティング被膜は、共通して
、パスする、つまり、クラックが発生しない最も重いインチポンドにより評価さ
れる。調製したコーティング被膜のテスト結果を、表ＳＣ−Ａに掲載する。
【００７７】
【表８】 更に物理的テストを行い、その結果を表ＳＣ−Ｂに示す。
【００７８】 各３回コーニッヒ(Konig)硬度テストを行った。一度に一つのパネルで３回測 定するのとは異なり、全てのパネルは１回測定され、その後繰り返えされた。３
回測定の平均を表に示すだけでなく、標準偏差をも示す。鉛筆グージ（gouge） 硬度テストにより、基板からコーティング被膜を剥がさない最も硬い鉛筆を表に
示す。乾燥フィルムの厚さは、２．１７ミル補正フォイルでエルコメータ(Elcom
eter)２５６ＦＮ（ｔ２）を利用して測定した。相対湿度は、コールパルマー（C
ole Palmer）湿度計３３０９−５０で測定され、約５４％であった。
回測定の平均を表に示すだけでなく、標準偏差をも示す。鉛筆グージ（gouge） 硬度テストにより、基板からコーティング被膜を剥がさない最も硬い鉛筆を表に
示す。乾燥フィルムの厚さは、２．１７ミル補正フォイルでエルコメータ(Elcom
eter)２５６ＦＮ（ｔ２）を利用して測定した。相対湿度は、コールパルマー（C
ole Palmer）湿度計３３０９−５０で測定され、約５４％であった。
【００７９】 テストデータを表ＳＣ−Ｂにまとめる。加えて、マンドレルベンドテスト結果
、コーティング液の粘度、メチルエチルケトンに対する耐薬品性テスト結果を表
に載せる。
、コーティング液の粘度、メチルエチルケトンに対する耐薬品性テスト結果を表
に載せる。
【００８０】
【表９】 結果から、本発明の溶媒を基礎とする組成物は優れたコーティング液を提供す
ることが分かる。特に、上記結果から、本発明の溶媒を基礎とする組成物で調製
されたコーティング被膜は、ヒドロキシ官能基を有するアクリレートを用いて調
整されたコーティング被膜よりも優れた可撓性が実現されることが判明した。加
えて、直鎖ポリエステルとヒドロキシ官能基を有するアクリレートのブレンドの
溶解性は、同じ組成からなる高分子組成物とは異なっていた。したがって、本発
明の溶媒を基礎とする組成物は、所望のフィルム又はコーティング特性を達成さ
せながら、ポリマーブレンドに関連する溶解性の問題を克服するために利用され
る。
ることが分かる。特に、上記結果から、本発明の溶媒を基礎とする組成物で調製
されたコーティング被膜は、ヒドロキシ官能基を有するアクリレートを用いて調
整されたコーティング被膜よりも優れた可撓性が実現されることが判明した。加
えて、直鎖ポリエステルとヒドロキシ官能基を有するアクリレートのブレンドの
溶解性は、同じ組成からなる高分子組成物とは異なっていた。したがって、本発
明の溶媒を基礎とする組成物は、所望のフィルム又はコーティング特性を達成さ
せながら、ポリマーブレンドに関連する溶解性の問題を克服するために利用され
る。
【００８１】 本発明の他の変更態様等は、当業者には明白であろう。本発明は特許請求の範
囲に記載された以外を制限するものではない。
囲に記載された以外を制限するものではない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 8310 16ｔｈ Ｓｔｒｅｅｔ，Ｓｔｕｒｔ ｅｖａｎｔ，Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎ 53177 −0902，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏ ｆ Ａｍｅｒｉｃａ (72)発明者 トーカス，エドワード アメリカ合衆国 ウイスコンシン州 53401 レイシン ミシガン・ブールヴァ ード 2946番 Ｆターム(参考） 4F070 AA18 AA29 AA46 AA47 AA52 AA53 AA54 AA60 AA74 AA75 AA77 AB22 AC32 AC38 AC39 AC43 AC94 AE04 AE08 AE14 AE28 CA12 CA13 CA14 CB11 4J002 AA03W AA03X AA06W AA06X AE053 BC04W BG01W BG07W BH02W CF00X CH00X CK02X CL00X EA056 EE036 EH036 EH046 FD098 FD147 FD179 FD203 FD206 FD209 GH00 GJ00 4J031 AA13 AA19 AA20 AA47 AA49 AA53 AA55 AA56 AA59 AB01 AC03 AC04 AC07 AC08 AD01 AF12 AF13
Claims (16)
- 【請求項１】 （ｉ）非水系溶媒と、（ｉｉ）高分子鎖当たり３．５個以上
の反応性官能基を有する付加高分子であるＡ高分子と、前記Ａ高分子の前記反応
性官能基と共反応性である、高分子鎖当たり約２個から約３個の官能基を有する
Ｂ高分子との反応性生物を含む実質的にゲル化していない高分子組成物とからな
る溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項２】 前記Ｂ高分子の共反応性の実質的に全ての官能基が共反応し
た請求項１記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項３】 Ｂ高分子に対するＡ高分子のモル比は約３：１から約２：１
．７である請求項１記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項４】 前記Ｂ高分子は高分子鎖あたり約２個の官能基を有し、Ｂ高
分子に対するＡ高分子のモル比は約２：１から約２：１．７である請求項３記載
の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項５】 前記Ｂ高分子は高分子鎖当たり約３個の官能基を有し、Ｂ高
分子に対するＡ高分子のモル比は約３：１である請求項３記載の溶媒を基礎とす
る組成物。 - 【請求項６】 前記Ａ高分子の前記反応性官能基はカルボキシル、ヒドロキ
シル、エポキシ、イソシアナート、カルボキシル酸無水物、スルホ、エステル化
されたオキシカルボニル、アミノ又はそれらの混合物からなる群から選択された
縮合‐反応性官能基である請求項４又は５記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項７】 前記Ｂ高分子はポリアミド、ポリエステル、エポキシ、ポリ
ウレタン、ポリオルガノシロキサン及びポリ（エーテル）からなる群から選択さ
れた縮合高分子である請求項４又は５記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項８】 前記Ｂ高分子の前記共反応性官能基はヒドロキシル、カルボ
キシル、エポキシ、オキサゾリニル、エステル、アミノ、イソシアナート又はそ
れらの混合物である請求項７記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項９】 前記Ａ高分子は高分子鎖当たり３．５個以上のカルボキシル
官能基を有する請求項８記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項１０】 前記Ａ高分子は約５００乃至約５０，０００の範囲のＭｎ
を有するスチレン/アクリル酸/α‐メチルスチレン高分子である請求項９記載の
溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項１１】 前記Ａ高分子は高分子鎖当たり３．５個以上のヒドロキシ
ル官能基を有する請求項８記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項１２】 前記Ａ高分子は約５００乃至約５０，０００の範囲のＭｎ
を有するスチレン/２−エチルヘキシルアクリレート/２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート高分子である請求項１１記載の溶媒を基礎とする組成物。 - 【請求項１３】 前記非水系溶媒はケトン類、エステル類、芳香族系溶媒、
脂肪族系溶媒及びグリコールエーテル類から選択される請求項１記載の溶媒を基
礎とする組成物。 - 【請求項１４】 架橋剤をさらに含む請求項１記載の溶媒を基礎とする組成
物。 - 【請求項１５】 顔料又は着色剤をさらに含む請求項１記載の溶媒を基礎と
する組成物。 - 【請求項１６】 架橋剤、消泡剤、滑剤、着色剤、加湿剤、ワックス及びそ
れの混合物からなる群から選択された少なくとも一つの追加成分をさらに含む請
求項１記載の溶媒を基礎とする組成物。
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