JP2001522836A - H3レセプターアンタゴニストとしてのフェニル−アルキル−イミダゾール - Google Patents
H3レセプターアンタゴニストとしてのフェニル−アルキル−イミダゾールInfo
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Abstract
(57)【要約】
R1、R7、m、n、p、q、X、Y、Z、R、およびR15が本明細書で定義される式(I)の新規なフェニル−アルキル−イミダゾールが開示される。式(I)の化合物を含む薬学的な組成物がまた開示される。式(I)の化合物を投与することによるアレルギー、炎症、低血圧、緑内障、睡眠障害、胃腸管の過剰運動性および低運動性の状態、中枢神経系の低活性および過剰活性、アルツハイマー病、精神分裂病、肥満症および片頭痛の処置の方法がさらに開示される。ヒスタミンH1レセプターアンタゴニストとの組み合わせまたは混合剤で式(I)の化合物またはその塩または溶媒化合物を投与する工程を含む上気道アレルギー応答の処置のための方法がまた開示される。
Description
【0001】 (発明の分野) 本発明は、価値ある薬学的特性、特にCNS活性および炎症疾患に対する活性
を有する新規のフェニル−アルキル−イミダゾールに関する。本発明の化合物は
、H3レセプターのアンタゴニストである。
を有する新規のフェニル−アルキル−イミダゾールに関する。本発明の化合物は
、H3レセプターのアンタゴニストである。
【0002】 (発明の背景) 欧州特許出願第0 420 396号A2(Smith Kline & F
rench Laboratories Limited)およびHowson
ら、Bioorg.&Med. Chem. Letters, Vol.2
No.1(1992), 77−78頁に、H3アゴニストとしてアミジン基を 有するイミダゾール誘導体が記載されている。Van der Grootら(
Eur. J. Med. Chem. (1992)Vol.27, 511
−517頁)は、ヒスタミンH3レセプターの強力なアゴニストまたはアンタゴ ニストとしてヒスタミンのイソチオ尿素アナログ、ならびに上記で引用した2つ
の文献中のこれらと部分的に重複するヒスタミンのイソチオ尿素アナログを記載
している。Claphamら[J. Psychopharmacolに報告さ
れた「ラットのインビボでの、認識を改善しそしてアセチルコリンの放出を増加
させるヒスタミンH3レセプターアンタゴニストの能力」、British A ssn. for Psychopharmacology、July 25−
28 1993,.(Abstr. Book),A17]は、ラットのインビ
ボでの、認識を改善しそしてアセチルコリンの放出を増加させるヒスタミンH3 レセプターアンタゴニストの能力を記載している。Claphamら[「ラット
における短期記憶および逆転学習を改善する選択的ヒスタミンH3レセプターア ンタゴニストチオパーアミド(Thioperamide)の能力」、Brit
. J. Pharm. Suppl., 1993, 110, Abstr
act 65P]に、チオパーアミド(thioperamide)が、ラット
における短期記憶および逆転学習を改善し得、そして認識機能の調節についてH 3 レセプターの関与と結び付け得ることを示す結果を示している。Yokoya maら[「マウスにおける電気的に誘起された痙攣に対する、チオパーアミド(
ヒスタミンH3レセプターアンタゴニスト)の効果」、Eur. J. Pha rmacol.,vol.234(1993), 129−133頁]は、チオ
パーアミドが、いかにして各痙攣相の持続時間を減少させ、そして電気痙攣閾値
を向上させるかについて報告し、次に、これらの知見および他の知見は、この中
枢ヒスタミン作動系が、発作の阻害に関与するという仮説を支持することを示唆
している。国際特許公開第WO9301812号A1(SmithKline
Beecham PLC)には、S−[3−(4(5)−イミダゾリル)プロピ
ル]イソチオ尿素の、ヒスタミンH3アンタゴニストとしての、特に認識障害( 例えば、アルツハイマー病および加齢性記憶障害)の治療のための使用が記載さ
れている。Schlickerら[「新規ヒスタミンH3レセプターアンタゴニ スト:H3レセプター結合アッセイにおける親和性および2つの機能性H3レセプ
ターモデルにおける効力」]は、多くのイミダゾリルアルキル化合物(ここで、
このイミダゾリルアルキル基は、グアニジン基、エステル基またはアミド基(チ
オアミドおよび尿素を包含する)と結合する)を記載しており、そしてこれらを
チオパーアミドと比較している。Leursら[「ヒスタミン H3レセプター :新規薬物開発のための標的」、Progr. Drug Res.(1992
)vol.39, 127−165頁]およびLippら[「 Pharmac
ochemistry of H3−receptors」、The Hist amine Receptor:SchwartzおよびHaas編、Wile
y−Liss, New York(1992), 57−72頁]は、様々な
合成H3レセプターアンタゴニストを総説しており、そしてLippら(同書) は、H3レセプターアンタゴニストにとって必要な構造要件を規定している。
rench Laboratories Limited)およびHowson
ら、Bioorg.&Med. Chem. Letters, Vol.2
No.1(1992), 77−78頁に、H3アゴニストとしてアミジン基を 有するイミダゾール誘導体が記載されている。Van der Grootら(
Eur. J. Med. Chem. (1992)Vol.27, 511
−517頁)は、ヒスタミンH3レセプターの強力なアゴニストまたはアンタゴ ニストとしてヒスタミンのイソチオ尿素アナログ、ならびに上記で引用した2つ
の文献中のこれらと部分的に重複するヒスタミンのイソチオ尿素アナログを記載
している。Claphamら[J. Psychopharmacolに報告さ
れた「ラットのインビボでの、認識を改善しそしてアセチルコリンの放出を増加
させるヒスタミンH3レセプターアンタゴニストの能力」、British A ssn. for Psychopharmacology、July 25−
28 1993,.(Abstr. Book),A17]は、ラットのインビ
ボでの、認識を改善しそしてアセチルコリンの放出を増加させるヒスタミンH3 レセプターアンタゴニストの能力を記載している。Claphamら[「ラット
における短期記憶および逆転学習を改善する選択的ヒスタミンH3レセプターア ンタゴニストチオパーアミド(Thioperamide)の能力」、Brit
. J. Pharm. Suppl., 1993, 110, Abstr
act 65P]に、チオパーアミド(thioperamide)が、ラット
における短期記憶および逆転学習を改善し得、そして認識機能の調節についてH 3 レセプターの関与と結び付け得ることを示す結果を示している。Yokoya maら[「マウスにおける電気的に誘起された痙攣に対する、チオパーアミド(
ヒスタミンH3レセプターアンタゴニスト)の効果」、Eur. J. Pha rmacol.,vol.234(1993), 129−133頁]は、チオ
パーアミドが、いかにして各痙攣相の持続時間を減少させ、そして電気痙攣閾値
を向上させるかについて報告し、次に、これらの知見および他の知見は、この中
枢ヒスタミン作動系が、発作の阻害に関与するという仮説を支持することを示唆
している。国際特許公開第WO9301812号A1(SmithKline
Beecham PLC)には、S−[3−(4(5)−イミダゾリル)プロピ
ル]イソチオ尿素の、ヒスタミンH3アンタゴニストとしての、特に認識障害( 例えば、アルツハイマー病および加齢性記憶障害)の治療のための使用が記載さ
れている。Schlickerら[「新規ヒスタミンH3レセプターアンタゴニ スト:H3レセプター結合アッセイにおける親和性および2つの機能性H3レセプ
ターモデルにおける効力」]は、多くのイミダゾリルアルキル化合物(ここで、
このイミダゾリルアルキル基は、グアニジン基、エステル基またはアミド基(チ
オアミドおよび尿素を包含する)と結合する)を記載しており、そしてこれらを
チオパーアミドと比較している。Leursら[「ヒスタミン H3レセプター :新規薬物開発のための標的」、Progr. Drug Res.(1992
)vol.39, 127−165頁]およびLippら[「 Pharmac
ochemistry of H3−receptors」、The Hist amine Receptor:SchwartzおよびHaas編、Wile
y−Liss, New York(1992), 57−72頁]は、様々な
合成H3レセプターアンタゴニストを総説しており、そしてLippら(同書) は、H3レセプターアンタゴニストにとって必要な構造要件を規定している。
【0003】 WO 95/14007は、以下の式:
【0004】
【化4】 ここで、 Aは、−O−CO−NR1−、−O−CO−、−NR1−CO−NR1−、−N R1−CO−、−NR1−、−O−、−CO−NR1−、−CO−O−および−C (:NR1)−NR1−から選択され; R1基(式Iの分子において、2つまたは3つのこのようなR1基がある場合に
は、同一であるかまたは異なり得る)は、水素、および低級アルキル、アリール
、シクロアルキル、ヘテロ環ならびにヘテロ環アルキル基、ならびに式−(CH 2 )y−Gの基(ここで、Gは、CO2R3、COR3、CONR3R4、OR3、SR 3 、NR3R4、ヘテロアリールおよびフェニル(このフェニルは、ハロゲン、低 級アルコキシまたはポリハロ低級アルキルにより任意に置換される)から選択さ
れ、そしてyは、1〜3の整数である)から選択され; R2は、水素およびハロゲン原子、ならびにアルキル、アルケニル、アルキニ ルおよびトリフルオロメチル基、ならびに式OR3、SR3およびNR3R4の基か
ら選択され; R3およびR4は、独立して、水素、ならびに低級アルキルおよびシクロアルキ
ル基から選択されるか、あるいはR3およびR4は、介在窒素原子と一緒に、1つ
または2つの低級アルキル基で置換され得る4個〜6個の炭素原子を含む飽和環
を形成し得; 但し、yが1であり、そしてGがOR3、SR3またはNR3R4の場合、R3も R4も水素ではない; −(CH2)n−A−R1基は、3または4位にあり、そしてR2基は任意の位置
にあり; mは、1〜3の整数であり; そしてnは、0または1〜3の整数であり; あるいはこれらの薬学的に受容可能な酸付加塩; あるいはGがCO2Hである場合、塩基を有するこれらの薬学的受容可能な塩 であって、これらの互変異性体を包含する、H3レセプターアンタゴニストを特 許請求する。
は、同一であるかまたは異なり得る)は、水素、および低級アルキル、アリール
、シクロアルキル、ヘテロ環ならびにヘテロ環アルキル基、ならびに式−(CH 2 )y−Gの基(ここで、Gは、CO2R3、COR3、CONR3R4、OR3、SR 3 、NR3R4、ヘテロアリールおよびフェニル(このフェニルは、ハロゲン、低 級アルコキシまたはポリハロ低級アルキルにより任意に置換される)から選択さ
れ、そしてyは、1〜3の整数である)から選択され; R2は、水素およびハロゲン原子、ならびにアルキル、アルケニル、アルキニ ルおよびトリフルオロメチル基、ならびに式OR3、SR3およびNR3R4の基か
ら選択され; R3およびR4は、独立して、水素、ならびに低級アルキルおよびシクロアルキ
ル基から選択されるか、あるいはR3およびR4は、介在窒素原子と一緒に、1つ
または2つの低級アルキル基で置換され得る4個〜6個の炭素原子を含む飽和環
を形成し得; 但し、yが1であり、そしてGがOR3、SR3またはNR3R4の場合、R3も R4も水素ではない; −(CH2)n−A−R1基は、3または4位にあり、そしてR2基は任意の位置
にあり; mは、1〜3の整数であり; そしてnは、0または1〜3の整数であり; あるいはこれらの薬学的に受容可能な酸付加塩; あるいはGがCO2Hである場合、塩基を有するこれらの薬学的受容可能な塩 であって、これらの互変異性体を包含する、H3レセプターアンタゴニストを特 許請求する。
【0005】 1996年8月16日に提出された米国特許出願第08/689951号およ
び1997年8月14日に提出された米国特許出願第08/909319号は、
少なくとも1つのヒスタミンH1レセプターアンタゴニストおよび少なくとも1 つのヒスタミンH3レセプターアンタゴニストの組み合わせを使用したアレルギ ー鼻炎の症状の処置のための組成物を開示する。
び1997年8月14日に提出された米国特許出願第08/909319号は、
少なくとも1つのヒスタミンH1レセプターアンタゴニストおよび少なくとも1 つのヒスタミンH3レセプターアンタゴニストの組み合わせを使用したアレルギ ー鼻炎の症状の処置のための組成物を開示する。
【0006】 H3レセプターに影響する化合物における当該分野の興味を考慮すると、H3レ
セプターに対してアンタゴニスト活性を有する新規化合物は、当該分野に対して
よく貢献するであろう。本発明は、H3アンタゴニスト活性を有する新規化合物
を提供することによって正にこのような貢献を提供する。
セプターに対してアンタゴニスト活性を有する新規化合物は、当該分野に対して
よく貢献するであろう。本発明は、H3アンタゴニスト活性を有する新規化合物
を提供することによって正にこのような貢献を提供する。
【0007】 (発明の要旨) 本発明は、式Iの化合物あるいはその薬学的に受容可能な塩または溶媒化合物
を提供し:
を提供し:
【0008】
【化5】 ここで: 二重結合(a)は、EまたはZであり(すなわち、R15置換基を有する炭素原
子に対する二重結合は、EまたはZの立体配置である); 各R1は、水素、低級アルキル、トリハロメチル、フェニルおよびベンジルか らなる群より独立して選択され; 各R7は、水素、低級アルキル、ハロゲン、トリハロメチル、NR10R11また はOR10基からなる群から独立して選択され、それによってR10およびR11は水
素、低級アルキルまたはトリハロメチルから独立して選択され; Xは、−CONR5−;−SO2−、−S−;−CO−;−COO−;−CN(
OR5)NR5−;−C(NR5)NR5−;−SONR5−;−SO2NR5−であ り、ただしpはゼロではなく、Xはまた、−O−;−NR5−;−NR5CONR 5 −;−OCONR5−;−O−CO−または−NR5CO−であり得; Yは、C1〜C3アルキルであり、必要に応じて1つの置換基R5によってこの 基の任意の炭素原子が置換され; Zは、C(R1)2であり;ここで2以下のR1基が水素以外であり; nは、1または2であり; mは、0または1であり; pは、0または1であり; qは、0または1であり; Rは、C3〜C7シクロアルキル、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリール
から選択され、ここで該R基は、必要に応じて、以下に規定されるように1〜3
の置換基で置換され; 各R5は、独立して、水素、低級アルキルまたはポリハロ低級アルキルを表し ;そして R15は、Hまたは低級アルキル(例えば、メチル)を表す。
子に対する二重結合は、EまたはZの立体配置である); 各R1は、水素、低級アルキル、トリハロメチル、フェニルおよびベンジルか らなる群より独立して選択され; 各R7は、水素、低級アルキル、ハロゲン、トリハロメチル、NR10R11また はOR10基からなる群から独立して選択され、それによってR10およびR11は水
素、低級アルキルまたはトリハロメチルから独立して選択され; Xは、−CONR5−;−SO2−、−S−;−CO−;−COO−;−CN(
OR5)NR5−;−C(NR5)NR5−;−SONR5−;−SO2NR5−であ り、ただしpはゼロではなく、Xはまた、−O−;−NR5−;−NR5CONR 5 −;−OCONR5−;−O−CO−または−NR5CO−であり得; Yは、C1〜C3アルキルであり、必要に応じて1つの置換基R5によってこの 基の任意の炭素原子が置換され; Zは、C(R1)2であり;ここで2以下のR1基が水素以外であり; nは、1または2であり; mは、0または1であり; pは、0または1であり; qは、0または1であり; Rは、C3〜C7シクロアルキル、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリール
から選択され、ここで該R基は、必要に応じて、以下に規定されるように1〜3
の置換基で置換され; 各R5は、独立して、水素、低級アルキルまたはポリハロ低級アルキルを表し ;そして R15は、Hまたは低級アルキル(例えば、メチル)を表す。
【0009】 本発明のさらなる特徴は、薬学的なキャリアーまたは賦形剤と共に上記で定義
された式Iの化合物(または塩、あるいは溶媒化合物または互変異性体)を活性
成分として含む薬学的な組成物である。
された式Iの化合物(または塩、あるいは溶媒化合物または互変異性体)を活性
成分として含む薬学的な組成物である。
【0010】 本発明のさらなる特徴は、炎症、アレルギー、胃腸管の疾患、心臓血管疾患ま
たは中枢神経系の障害を処置するための方法であり、これは対応する疾患に罹患
した患者(すなわち、このような処置の必要な患者)に対して上記で定義された
式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もしくは互変異性体)の有効量を投与
する工程を含む。例えば、本発明の特徴は、アレルギー、炎症、低血圧、緑内障
、睡眠障害、胃腸管の過剰運動性および低運動性の状態、中枢神経系の低活性お
よび過剰活性、アルツハイマー病、精神分裂病、肥満症および片頭痛を処置する
方法であり、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もしくは互変異性体)の
有効量をこのような処置が必要な患者に投与する工程を含む。
たは中枢神経系の障害を処置するための方法であり、これは対応する疾患に罹患
した患者(すなわち、このような処置の必要な患者)に対して上記で定義された
式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もしくは互変異性体)の有効量を投与
する工程を含む。例えば、本発明の特徴は、アレルギー、炎症、低血圧、緑内障
、睡眠障害、胃腸管の過剰運動性および低運動性の状態、中枢神経系の低活性お
よび過剰活性、アルツハイマー病、精神分裂病、肥満症および片頭痛を処置する
方法であり、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もしくは互変異性体)の
有効量をこのような処置が必要な患者に投与する工程を含む。
【0011】 本発明の別の特徴は、炎症を処置するための方法であり、これは、炎症に罹患
した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もしくはその互変
異性体)のこのような処置が必要な患者に対する有効量を投与する工程を含む。
した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もしくはその互変
異性体)のこのような処置が必要な患者に対する有効量を投与する工程を含む。
【0012】 本発明の別の特徴は、アレルギーを処置するための方法であり、これは、アレ
ルギーに罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もし
くは互変異性体)のこのような処置が必要な患者に対する有効量を投与する工程
を含む。
ルギーに罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物もし
くは互変異性体)のこのような処置が必要な患者に対する有効量を投与する工程
を含む。
【0013】 本発明の別の特徴は、胃腸管の疾患を処置するための方法であり、これは、胃
腸管の疾患に罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物
もしくは互変異性体)のこのような処置が必要な患者に対する有効量を投与する
工程を含む。
腸管の疾患に罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物
もしくは互変異性体)のこのような処置が必要な患者に対する有効量を投与する
工程を含む。
【0014】 本発明の別の特徴は、心臓血管疾患を処置するための方法であり、これは、心
臓血管疾患に罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物
もしくは互変異性体)のこのような処置の必要な患者に対する有効量を投与する
工程を含む。
臓血管疾患に罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶媒化合物
もしくは互変異性体)のこのような処置の必要な患者に対する有効量を投与する
工程を含む。
【0015】 本発明の別の特徴は、中枢神経系の障害を処置するための方法であり、これは
、中枢神経系の障害に罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶
媒化合物もしくは互変異性体)のこのような処置の必要な患者に対する有効量を
投与する工程を含む。
、中枢神経系の障害に罹患した患者に対して、式Iの化合物(またはその塩、溶
媒化合物もしくは互変異性体)のこのような処置の必要な患者に対する有効量を
投与する工程を含む。
【0016】 本発明はまた、アレルギー誘導気道(例えば、上気道)応答の処置のためのヒ
スタミンH1レセプターアンタゴニストと組み合わせて、式Iの化合物を使用す る局面を含む。
スタミンH1レセプターアンタゴニストと組み合わせて、式Iの化合物を使用す る局面を含む。
【0017】 (発明の詳細な説明) 式Iの化合物は、イミダゾール環のために互変異性形態で存在し得る:N−水
素原子は、その環の1つの窒素原子から他へ互変異性化し得る。qが1およびY
が置換アルキル基である場合、または各(Z)n基の1つのR1置換基がH以外で
ある場合、式Iの化合物は、不斉炭素原子を有し、そしてこのようなキラル中心
に起因する異なる形態で存在する。ジアステレオマーおよびエナンチオマーを含
むこのような異性体のすべてが本発明によりカバーされる。
素原子は、その環の1つの窒素原子から他へ互変異性化し得る。qが1およびY
が置換アルキル基である場合、または各(Z)n基の1つのR1置換基がH以外で
ある場合、式Iの化合物は、不斉炭素原子を有し、そしてこのようなキラル中心
に起因する異なる形態で存在する。ジアステレオマーおよびエナンチオマーを含
むこのような異性体のすべてが本発明によりカバーされる。
【0018】 本発明の化合物は、塩基性であり、そして有機酸および無機酸と薬学的に受容
可能な塩を形成する。このような塩形成に適切な酸の例には、塩酸、硫酸、リン
酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、マロン酸、サリチル酸、リンゴ酸、フマル酸、
コハク酸、アスコルビン酸、マレイン酸、メタンスルホン酸ならびに当業者に周
知な他の鉱酸およびカルボン酸がある。この塩は、遊離塩基形態と従来方法にお
いて塩を生成させるために十分な量の所望の酸とを接触させることにより調製さ
れる。遊離塩基形態は、適切な希薄な塩基水溶液(例えば、水酸化ナトリウム稀
薄水溶液、炭酸カリウム稀薄水溶液、重炭酸アンモニア稀薄水溶液および重炭酸
ナトリウム稀薄水溶液)を用いて塩を処理することにより再生成され得る。遊離
塩基形態は、特定の物理的性質(例えば、極性溶媒における溶解性)において、
これらの対応する塩形態と幾分異なる。しかし、この塩は、その他の点では、本
発明の目的にとっては、これらの対応する遊離塩基形態と等価である。
可能な塩を形成する。このような塩形成に適切な酸の例には、塩酸、硫酸、リン
酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、マロン酸、サリチル酸、リンゴ酸、フマル酸、
コハク酸、アスコルビン酸、マレイン酸、メタンスルホン酸ならびに当業者に周
知な他の鉱酸およびカルボン酸がある。この塩は、遊離塩基形態と従来方法にお
いて塩を生成させるために十分な量の所望の酸とを接触させることにより調製さ
れる。遊離塩基形態は、適切な希薄な塩基水溶液(例えば、水酸化ナトリウム稀
薄水溶液、炭酸カリウム稀薄水溶液、重炭酸アンモニア稀薄水溶液および重炭酸
ナトリウム稀薄水溶液)を用いて塩を処理することにより再生成され得る。遊離
塩基形態は、特定の物理的性質(例えば、極性溶媒における溶解性)において、
これらの対応する塩形態と幾分異なる。しかし、この塩は、その他の点では、本
発明の目的にとっては、これらの対応する遊離塩基形態と等価である。
【0019】 式Iの化合物は、非溶媒和形態、および水和形態(例えば半水和物)を含む溶
媒和形態で存在し得る。一般に、水、エタノールなどのような薬学的に受容可能
な溶媒での溶媒和形態は、本発明の目的のためには非溶媒和形態に等価である。
媒和形態で存在し得る。一般に、水、エタノールなどのような薬学的に受容可能
な溶媒での溶媒和形態は、本発明の目的のためには非溶媒和形態に等価である。
【0020】 多くの化学物質が、ヒスタミンH1レセプターアンタゴニスト活性を有するこ とが知られている。多くの有用化合物が、エタノールアミン、エチレンジアミン
、アルキルアミン、フェノチアジンまたはピペリジンとして分類されている。代
表的なH1レセプターアンタゴニストは、制限されないで以下を含む:アステミ ゾル、アザタジン、アゼラスチン、アクリバスチン、ブロムフェニラミン、セチ
リジン、クロルフェニラミン、クレマスチン、シクリジン、カレバスチン、シプ
ロヘプタジン、カルビノキサミン、デスカルボエトキシルオラタジン(SCH−
34117としてまた知られる)、ジフェンヒドラミン、ドキシルアミン、ジメ
チンデン、エバスチン、エピナスチン、エフレチリジン、フェキソフェナジン、
ヒドロキシジン、ケトチフェン、ロラタジン、レボカバスチン、ミゾラスチン、
メキタジン、ミアンセリン、ノベラスチン、メクリジン、ノラステミゾル、ピク
マスト、ピリラミン、プロメタジン、テルフェナジン、トリペレンアミン、テメ
ラスチン、トリメプラジンおよびトリプロリジン。その他の化合物は、容易に評
価され、単離されたモルモット回腸のヒスタミンに対する収縮性応答の特異的遮
断を含む公知の方法により、H1レセプターにおける活性を決定する。例えば、 1998年2月19日に公開されたWO98/06394を参照のこと。
、アルキルアミン、フェノチアジンまたはピペリジンとして分類されている。代
表的なH1レセプターアンタゴニストは、制限されないで以下を含む:アステミ ゾル、アザタジン、アゼラスチン、アクリバスチン、ブロムフェニラミン、セチ
リジン、クロルフェニラミン、クレマスチン、シクリジン、カレバスチン、シプ
ロヘプタジン、カルビノキサミン、デスカルボエトキシルオラタジン(SCH−
34117としてまた知られる)、ジフェンヒドラミン、ドキシルアミン、ジメ
チンデン、エバスチン、エピナスチン、エフレチリジン、フェキソフェナジン、
ヒドロキシジン、ケトチフェン、ロラタジン、レボカバスチン、ミゾラスチン、
メキタジン、ミアンセリン、ノベラスチン、メクリジン、ノラステミゾル、ピク
マスト、ピリラミン、プロメタジン、テルフェナジン、トリペレンアミン、テメ
ラスチン、トリメプラジンおよびトリプロリジン。その他の化合物は、容易に評
価され、単離されたモルモット回腸のヒスタミンに対する収縮性応答の特異的遮
断を含む公知の方法により、H1レセプターにおける活性を決定する。例えば、 1998年2月19日に公開されたWO98/06394を参照のこと。
【0021】 例えば、本発明のH3アンタゴニストは、アステミゾル、アザタジン、アゼラ スチン、ブロムフェニラミン、セチリジン、クロルフェニラミン、クレマスチン
、カレバスチン、デスカルボエトキシルオラタジン(SCH−34117として
また知られる)、ジフェンヒドラミン、ドキシルアミン、エバスチン、フェキソ
フェナジン、ロラタジン、レボカバスチン、ミゾラスチン、ノラステミゾル、ま
たはテルフェナジンから選択される、H1アンタゴニストと組み合わせられ得る 。
、カレバスチン、デスカルボエトキシルオラタジン(SCH−34117として
また知られる)、ジフェンヒドラミン、ドキシルアミン、エバスチン、フェキソ
フェナジン、ロラタジン、レボカバスチン、ミゾラスチン、ノラステミゾル、ま
たはテルフェナジンから選択される、H1アンタゴニストと組み合わせられ得る 。
【0022】 例えば、また、本発明のH3アンタゴニストは、アザタジン、ブロムフェニラ ミン、セチリジン、クロルフェニラミン、カレバスチン、デスカルボエトキシル
オラタジン(SCH−34117としてまた知られる)、ジフェンヒドラミン、
エバスチン、フェキソフェナジン、ロラタジン、またはノラステミゾルから選択
される、H1アンタゴニストと組み合わせられ得る。
オラタジン(SCH−34117としてまた知られる)、ジフェンヒドラミン、
エバスチン、フェキソフェナジン、ロラタジン、またはノラステミゾルから選択
される、H1アンタゴニストと組み合わせられ得る。
【0023】 代表的な組み合わせは:ロラタジンとの本発明のH3アンタゴニスト、デスカ ルボエトキシルオラタジンとの本発明のH3アンタゴニスト、フェキソフェナジ ンとの本発明のH3アンタゴニスト、およびセチリジンとの本発明のH3アンタゴ
ニストを含む。
ニストを含む。
【0024】 当業者は、用語「上気道」が、上部呼吸系、すなわち、鼻、喉、および関連す
る構造を意味することを知っている。
る構造を意味することを知っている。
【0025】 本明細書で用いられる場合、他であることが示されなければ、以下の用語は、
与えられた意味を有する: 低級アルキル(低級アルコキシのアルキル部分を包含する)は、1個〜6個(
好ましくは、1個〜4個)の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の、飽和炭化水
素鎖を表す。
与えられた意味を有する: 低級アルキル(低級アルコキシのアルキル部分を包含する)は、1個〜6個(
好ましくは、1個〜4個)の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の、飽和炭化水
素鎖を表す。
【0026】 アリールは、6個〜14個の炭素原子を有し、そして少なくとも1つのベンゼ
ノイド環を有する、炭素環式基を表す。このベンゼノイド環は付加の可能なポイ
ントとして意図される炭素環式基に全ての利用できる置換可能な芳香族炭素原子
を有している。この炭素環式基は、随意に1個〜3個の基で置換され、各随意の
置換基は、低級アルキル、ハロゲン、トリハロメチル、CN、NO2、OR10ま たはNR10R11からなる群から独立に選択され、ここで、R10およびR11は、ハ
ロゲン、低級アルキルまたはトリハロメチルから独立に選択され;好適なアリー
ル基は、1−ナフチル、2−ナフチルおよびインダニルを、そして特にフェニル
および置換フェニルを含む。
ノイド環を有する、炭素環式基を表す。このベンゼノイド環は付加の可能なポイ
ントとして意図される炭素環式基に全ての利用できる置換可能な芳香族炭素原子
を有している。この炭素環式基は、随意に1個〜3個の基で置換され、各随意の
置換基は、低級アルキル、ハロゲン、トリハロメチル、CN、NO2、OR10ま たはNR10R11からなる群から独立に選択され、ここで、R10およびR11は、ハ
ロゲン、低級アルキルまたはトリハロメチルから独立に選択され;好適なアリー
ル基は、1−ナフチル、2−ナフチルおよびインダニルを、そして特にフェニル
および置換フェニルを含む。
【0027】 シクロアルキルは、3個〜8個(好ましくは5個または6個)の炭素原子を有
し、低級アルキル、トリハロメチルおよびNR10R11(ここでR10およびR11は
、ハロゲン、低級アルキルまたはトリハロメチルから独立に選択される)からな
る群から独立に選択される1個〜3個の基により随意に置換される、飽和炭素環
式環を表し;このシクロアルキル基は、アリール環(例えばフェニル)に随意に
縮合され、例えば、シクロヘキシルはフェニルに縮合される。
し、低級アルキル、トリハロメチルおよびNR10R11(ここでR10およびR11は
、ハロゲン、低級アルキルまたはトリハロメチルから独立に選択される)からな
る群から独立に選択される1個〜3個の基により随意に置換される、飽和炭素環
式環を表し;このシクロアルキル基は、アリール環(例えばフェニル)に随意に
縮合され、例えば、シクロヘキシルはフェニルに縮合される。
【0028】 ヘテロ環は、1つの環または2つの縮合環からなる炭素環式環構造を隔てる、
少なくとも1つのO、Sおよび/またはN原子を有する、飽和および不飽和非芳
香族環状有機基を表し、ここで、各々の環は、5員、6員、または7員であり、
この環構造は、2個〜8個、好ましくは、3個〜6個の炭素原子を有し;例えば
、2−または3−ピロリジニル、2−、3−または4−ピペリジニル、2−また
は3−ピペラジニル、2−または3−モルホリニル、または2−または3−チオ
モルホリニルであり;このヘテロ環基は、低級アルキル、トリハロメチルおよび
NR10R11(ここでR10およびR11は、ハロゲン、低級アルキルまたはトリハロ
メチルから独立に選択される)からなる群から独立に選択される1個〜3個の基
により随意に置換され、この置換基は、環中の炭素原子(置換可能な炭素原子)
に、環中の置換基の総数が、1個〜3個であるように結合し;そしてここでこの
ヘテロ環は、窒素原子を含み、この窒素原子(すなわち、置換可能な窒素原子)
は、低級アルキル(例えばアルキル)、例えば1−N−メチルピロリジニルで随
意に置換される。
少なくとも1つのO、Sおよび/またはN原子を有する、飽和および不飽和非芳
香族環状有機基を表し、ここで、各々の環は、5員、6員、または7員であり、
この環構造は、2個〜8個、好ましくは、3個〜6個の炭素原子を有し;例えば
、2−または3−ピロリジニル、2−、3−または4−ピペリジニル、2−また
は3−ピペラジニル、2−または3−モルホリニル、または2−または3−チオ
モルホリニルであり;このヘテロ環基は、低級アルキル、トリハロメチルおよび
NR10R11(ここでR10およびR11は、ハロゲン、低級アルキルまたはトリハロ
メチルから独立に選択される)からなる群から独立に選択される1個〜3個の基
により随意に置換され、この置換基は、環中の炭素原子(置換可能な炭素原子)
に、環中の置換基の総数が、1個〜3個であるように結合し;そしてここでこの
ヘテロ環は、窒素原子を含み、この窒素原子(すなわち、置換可能な窒素原子)
は、低級アルキル(例えばアルキル)、例えば1−N−メチルピロリジニルで随
意に置換される。
【0029】 ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を表し;そして ヘテロアリールは、炭素環式環構造を隔てる少なくとも1つのO、Sおよび/
またはN原子を有し、そして芳香性を提供するに十分な数の非局在化π電子を有
する環式有機基であって、2個〜14個、好ましくは4個または5個の炭素原子
を有する芳香性ヘテロ環基を有する環式有機基であり(例えば、インドリル、2
−、3−または4−ピリジル、2−または3−フリル、2−または3−チエニル
、2−、4−または5−チアゾリル、2−または4−イミダゾリル、2−、4−
または5−ピリミジニル、2−ピラジニル、あるいは3−または4−ピリダジニ
ルなど) 。好適なヘテロアリール基は、2−、3−および4−ピリジルであり;
このヘテロアリール基は、1個〜3個の基により随意に置換され、随意の各置換
基は、低級アルキル、ハロゲン、トリハロメチル、CN、NO2、OR10および NR10R11(ここでR10およびR11は、ハロゲン、低級アルキルまたはトリハロ
メチルから独立に選択される)からなる群から独立に選択され、この置換は、環
中の炭素原子(置換可能な炭素原子)に、環中の置換基の総数が、1個〜3個で
あるように結合する。
またはN原子を有し、そして芳香性を提供するに十分な数の非局在化π電子を有
する環式有機基であって、2個〜14個、好ましくは4個または5個の炭素原子
を有する芳香性ヘテロ環基を有する環式有機基であり(例えば、インドリル、2
−、3−または4−ピリジル、2−または3−フリル、2−または3−チエニル
、2−、4−または5−チアゾリル、2−または4−イミダゾリル、2−、4−
または5−ピリミジニル、2−ピラジニル、あるいは3−または4−ピリダジニ
ルなど) 。好適なヘテロアリール基は、2−、3−および4−ピリジルであり;
このヘテロアリール基は、1個〜3個の基により随意に置換され、随意の各置換
基は、低級アルキル、ハロゲン、トリハロメチル、CN、NO2、OR10および NR10R11(ここでR10およびR11は、ハロゲン、低級アルキルまたはトリハロ
メチルから独立に選択される)からなる群から独立に選択され、この置換は、環
中の炭素原子(置換可能な炭素原子)に、環中の置換基の総数が、1個〜3個で
あるように結合する。
【0030】 本発明の化合物は、H3レセプターのアンタゴニストである。従って、それら は、種々のアレルギー疾患、炎症疾患、GI管疾患、または心臓血管疾患の処置
に有用であり得る。さらに、それらは、CNS活性を所有し;それらは睡眠調節
剤、抗鎮痙薬、認識増強剤、抗うつ薬、視床下部−下垂体分泌物調節剤などとし
て有用であり得る。
に有用であり得る。さらに、それらは、CNS活性を所有し;それらは睡眠調節
剤、抗鎮痙薬、認識増強剤、抗うつ薬、視床下部−下垂体分泌物調節剤などとし
て有用であり得る。
【0031】 式Iの化合物は、R1がHであるような化合物を含む。
【0032】 式Iの化合物はまた、nが1であるような化合物を含む。
【0033】 式Iの化合物は、R1がHおよびnが1である化合物をさらに含む。
【0034】 式Iの化合物は、R1がH、R7がH、およびnが1である化合物をさらに含む
。
。
【0035】 さらに、式Iの化合物は、R15が水素である化合物を含む。
【0036】 式Iの好適な化合物は、以下に記載の式II、III、IV、V、VI、およ
びVIIの化合物である。
びVIIの化合物である。
【0037】
【化6】 ここで、R1、R7、R、Y、Z、(a)、m、n、pおよびqは式Iについて
定義されたのと同じである。
定義されたのと同じである。
【0038】 R1、R7およびR15は水素である。より好ましくは、nが1であり、そしてR 1 、R7およびR15が水素である。特に好ましいのは、nが1、そしてR1、R7お
よびR15が水素であり、そしてRはフェニル、ピリジル、置換フェニルまたは置
換ピリジルである化合物である。上記のフェニル基またはピリジル基中の好適な
置換基は、ハロゲン(好ましくは塩素またはフッ素)、メトキシ、トリフルオロ
メチル、CNまたはトリフルオロメトキシである。好ましくは、1個または2個
の上記置換基があり、そして各置換基は独立に選択される。
よびR15が水素であり、そしてRはフェニル、ピリジル、置換フェニルまたは置
換ピリジルである化合物である。上記のフェニル基またはピリジル基中の好適な
置換基は、ハロゲン(好ましくは塩素またはフッ素)、メトキシ、トリフルオロ
メチル、CNまたはトリフルオロメトキシである。好ましくは、1個または2個
の上記置換基があり、そして各置換基は独立に選択される。
【0039】 式IIの化合物については、好ましくはmは0である。最も好ましいのは、m
およびpの両方が0であり;qは0または1であり、そしてq=1である場合、
Yは−CHR5CHR5−(1つのR5が水素であり、そして他方が上記でR5につ
いて定義されたのと同じ)である式IIの化合物である。式IIIおよびIVに
ついては、mは好ましくは0または1、pは1または2およびqは0である。上
記の化合物の基のすべてについて、Rの好適な意味は、フェニルまたは上記でア
リールの定義中に記載した1個または2個の置換基により置換されたフェニルで
ある。最も好適な置換基は、CN、塩素およびフッ素であり、塩素およびフッ素
がより好適である。好適なR基は、3−または4−位に1個の置換基があるよう
な化合物、例えば、4−Cl−フェニルまたは3−F−フェニルである。2個の
置換基がある場合、3,5−置換化合物が好適である。R5の好適な意味は水素 である。最も好適なのは式IIの化合物である。
およびpの両方が0であり;qは0または1であり、そしてq=1である場合、
Yは−CHR5CHR5−(1つのR5が水素であり、そして他方が上記でR5につ
いて定義されたのと同じ)である式IIの化合物である。式IIIおよびIVに
ついては、mは好ましくは0または1、pは1または2およびqは0である。上
記の化合物の基のすべてについて、Rの好適な意味は、フェニルまたは上記でア
リールの定義中に記載した1個または2個の置換基により置換されたフェニルで
ある。最も好適な置換基は、CN、塩素およびフッ素であり、塩素およびフッ素
がより好適である。好適なR基は、3−または4−位に1個の置換基があるよう
な化合物、例えば、4−Cl−フェニルまたは3−F−フェニルである。2個の
置換基がある場合、3,5−置換化合物が好適である。R5の好適な意味は水素 である。最も好適なのは式IIの化合物である。
【0040】 (最終産物の調製) 式Iの化合物は当該分野で公知の標準的な方法により調製され得る。式Iの化
合物の調製のために適切な代表的な方法を以下に例示する。以下の反応スキーム
では、1個のR1または1個のR7基のみが示される;しかし、別の2個の基(す
なわち、別のR1およびR7)を有する化合物もまた、以下に記載の反応により作
成され得る。選択される詳細なプロセスは、分子中のいずれにおいても顕著な分
解を引き起こすべきではない;例えば、水素添加分解による保護基の除去は、必
須のフェニルメチル基の損失を引き起こすべきではない。
合物の調製のために適切な代表的な方法を以下に例示する。以下の反応スキーム
では、1個のR1または1個のR7基のみが示される;しかし、別の2個の基(す
なわち、別のR1およびR7)を有する化合物もまた、以下に記載の反応により作
成され得る。選択される詳細なプロセスは、分子中のいずれにおいても顕著な分
解を引き起こすべきではない;例えば、水素添加分解による保護基の除去は、必
須のフェニルメチル基の損失を引き起こすべきではない。
【0041】 上記で言及されたWO95/14007に記載のような基本的に周知であるプ
ロセスは、基Xの性質に依存して、いくつかの改変を伴って用いられ得る。最終
化合物を作成するためのプロセスの一般的局面は、以下の反応スキームにより例
示され得る:
ロセスは、基Xの性質に依存して、いくつかの改変を伴って用いられ得る。最終
化合物を作成するためのプロセスの一般的局面は、以下の反応スキームにより例
示され得る:
【0042】
【化7】 R1、R7、R15、R、Y、Z、(a)、n、m、pおよびqは、式Iについ定
義されたのと同じであり、そしてZ1およびZ2は、それらが、最終化合物におい
て基Xを提供するような様式で選択される反応基である。反応の間に特定の基が
保護されなければならないのは明らかである。これは、特に、イミダゾール環中
のNH-基に適用される。保護および脱保護のために標準的な手順が用いられ得 る。
義されたのと同じであり、そしてZ1およびZ2は、それらが、最終化合物におい
て基Xを提供するような様式で選択される反応基である。反応の間に特定の基が
保護されなければならないのは明らかである。これは、特に、イミダゾール環中
のNH-基に適用される。保護および脱保護のために標準的な手順が用いられ得 る。
【0043】 式AおよびBの出発化合物は、公知であるか、または周知の手順に従って調製
され得る。以下の反応1、2および3は、このような化合物の調製を例示する。
され得る。以下の反応1、2および3は、このような化合物の調製を例示する。
【0044】 (反応1(n=1)) n=1について、N−保護イミダゾールの金属誘導体(ここで、Mは、例えば MgBrまたはMgIであり、そしてPgは、トリフェニルメチルのような適切
な保護基を表す)は、式IXのZ3-置換ベンズアルデヒドと反応し得、そして得 られる置換ベンジルアルコールは、例えば以下のスキームに示されるように還元
され得る:
な保護基を表す)は、式IXのZ3-置換ベンズアルデヒドと反応し得、そして得 られる置換ベンジルアルコールは、例えば以下のスキームに示されるように還元
され得る:
【0045】
【化8】 (反応2(n=1)) さらなる方法を以下の反応スキーム中に例示する。0#Cまで冷却したTHF 中のビス(トリメチルシリル)アミドナトリウムの溶液を、トリエチルホスホノ
アセテートで処理する。THF中に溶解したテレフタルアルデヒドモノ−(ジエ
チルアセタール)を加える。この反応混合物を、30〜40#Cで3〜4時間攪 拌し、そして濃縮する。残渣をH2Oおよび塩水で洗浄し、乾燥し、そして濃縮 して粗製の所望の化合物を得る。次いでこれは精製される。Trはトリチルを表
す。
アセテートで処理する。THF中に溶解したテレフタルアルデヒドモノ−(ジエ
チルアセタール)を加える。この反応混合物を、30〜40#Cで3〜4時間攪 拌し、そして濃縮する。残渣をH2Oおよび塩水で洗浄し、乾燥し、そして濃縮 して粗製の所望の化合物を得る。次いでこれは精製される。Trはトリチルを表
す。
【0046】
【化9】 (反応3(n=2)) n=2については以下のスキームが用いられ得る:
【0047】
【化10】 上記の反応スキームにおいて、ここで置換基R1およびR7が式には含まれてい
ないが、このような置換基が存在する出発化合物もまた記載された反応に用いら
れ得ることが当業者に明らかである。
ないが、このような置換基が存在する出発化合物もまた記載された反応に用いら
れ得ることが当業者に明らかである。
【0048】 Z3は、基−(CH2)m−CR15=CH−(CH2)p−Z1またはこのような基
に変換され得る基を表す。Phはフェニル基を表す。式Aの化合物を製造するた
めのその他の手順は、WO95/14007中に見出し得る。以下の反応スキー
ムでは、適当なZ3基を調製するためのいくつかの手順が示される。さらなる例 はWO95/14007に見出される。
に変換され得る基を表す。Phはフェニル基を表す。式Aの化合物を製造するた
めのその他の手順は、WO95/14007中に見出し得る。以下の反応スキー
ムでは、適当なZ3基を調製するためのいくつかの手順が示される。さらなる例 はWO95/14007に見出される。
【0049】 次いで、本発明の最終化合物は、化合物Aを化合物Bと反応させた後、任意の
保護基を除去することにより調製される。このような反応を、以下の反応スキー
ム中に例示する。(R6は基−(Y)q−Rを表す)。
保護基を除去することにより調製される。このような反応を、以下の反応スキー
ム中に例示する。(R6は基−(Y)q−Rを表す)。
【0050】 以下の反応スキームでは、Jは(Z)nを表す。
【0051】 (反応4−カルバメート) (工程1)
【0052】
【化11】 工程1では、エステル1を、THF、エーテル、ジオキサン、トルエンまたは
塩化メチレン、好ましくはTHFのような適切な溶媒に溶解し、そして水素化ア
ルミニウムリチウムまたは水素化ジイソブチルアルミニウム、好ましくは水素化
ジイソブチルアルミニウムのような還元剤で、−20#Cから約50#Cまでの温
度、好ましくは0#Cで処理し、アルコール2を得る。R9は低級アルキルである
。
塩化メチレン、好ましくはTHFのような適切な溶媒に溶解し、そして水素化ア
ルミニウムリチウムまたは水素化ジイソブチルアルミニウム、好ましくは水素化
ジイソブチルアルミニウムのような還元剤で、−20#Cから約50#Cまでの温
度、好ましくは0#Cで処理し、アルコール2を得る。R9は低級アルキルである
。
【0053】 (工程2)
【0054】
【化12】 工程2では、アルコール2を、THF、エーテル、ジオキサン、トルエンまた
は塩化メチレン、好ましくはTHFのような適切な溶媒に溶解し、そしてトリエ
チルアミンなどのような塩基の存在下、−20#Cから約50#Cまでの温度でイ
ソシアネートR6NCOで処理し、カルバメート4を得る。
は塩化メチレン、好ましくはTHFのような適切な溶媒に溶解し、そしてトリエ
チルアミンなどのような塩基の存在下、−20#Cから約50#Cまでの温度でイ
ソシアネートR6NCOで処理し、カルバメート4を得る。
【0055】 (工程3)
【0056】
【化13】 工程3では、メタノールまたはエタノール、好ましくはメタノールのような適
切なアルコール溶媒中のカルバメート5の溶液を、メタノール中のHClのよう
な鉱酸の希薄溶液を用い、20#Cから100#Cの温度、好ましくは60#Cで 処理し、産物6を得る。
切なアルコール溶媒中のカルバメート5の溶液を、メタノール中のHClのよう
な鉱酸の希薄溶液を用い、20#Cから100#Cの温度、好ましくは60#Cで 処理し、産物6を得る。
【0057】 (反応5−エステル) (工程1)
【0058】
【化14】 工程1で、アルコール3を、トリエチルアミンのような第三級アミン塩基の存
在下、0#Cから50#Cの温度、好ましくは0#Cで、不活性溶媒(例えば、エ ーテル、THF、ジオキサン、または塩化メチレン、好ましくは塩化メチレン)
中の酸塩化物R6C(O)Clを用いて処理し、産物7を得る。
在下、0#Cから50#Cの温度、好ましくは0#Cで、不活性溶媒(例えば、エ ーテル、THF、ジオキサン、または塩化メチレン、好ましくは塩化メチレン)
中の酸塩化物R6C(O)Clを用いて処理し、産物7を得る。
【0059】 (工程2)
【0060】
【化15】 上記の方法と類似の様式で、化合物7を化合物8に変換する。
【0061】 (反応6−エーテル)
【0062】
【化16】 THFまたはジオキサン、好ましくはTHFのような適切な溶媒中のアルコー
ル3の溶液に、THF中の、NaHまたはKH、好ましくはNaHのような水素
化塩基の懸濁物を、0#Cから50#Cの温度、好ましくは0#Cで添加する。反 応を、適切な時間で室温まで加温し、アルコキシド形成を完成する。適切なアル
キル化剤R6Lを添加し、そして反応を適切な時間の間攪拌し、反応を完成する 。適切な脱離基Lは、Cl、Br、IおよびOSO2CF3のようなOHの活性化
形態を含む。その他の強塩基は、リチウムジイソプロピルアミド、およびリチウ
ムまたはナトリウムビストリメチルシリルアミドを包含し得る。上記の脱保護が
所望の化合物を提供する。
ル3の溶液に、THF中の、NaHまたはKH、好ましくはNaHのような水素
化塩基の懸濁物を、0#Cから50#Cの温度、好ましくは0#Cで添加する。反 応を、適切な時間で室温まで加温し、アルコキシド形成を完成する。適切なアル
キル化剤R6Lを添加し、そして反応を適切な時間の間攪拌し、反応を完成する 。適切な脱離基Lは、Cl、Br、IおよびOSO2CF3のようなOHの活性化
形態を含む。その他の強塩基は、リチウムジイソプロピルアミド、およびリチウ
ムまたはナトリウムビストリメチルシリルアミドを包含し得る。上記の脱保護が
所望の化合物を提供する。
【0063】 (反応7−アミン)
【0064】
【化17】 THF、ジオキサン、トルエン、DMFなど、好ましくはTHFのような適切
な溶媒中のアセテート11およびアミンR5R6NHの溶液を、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)−パラジウムのような適切なパラジウム触媒を用い、0# Cから約100#Cまでの温度、好ましくは65#Cで処理し、アミン12を与え
る。上記のような脱保護がアミンを与える。
な溶媒中のアセテート11およびアミンR5R6NHの溶液を、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)−パラジウムのような適切なパラジウム触媒を用い、0# Cから約100#Cまでの温度、好ましくは65#Cで処理し、アミン12を与え
る。上記のような脱保護がアミンを与える。
【0065】 (反応8−アミン) (工程1)
【0066】
【化18】 アセテート11を、上記の反応のアミンR5R6NHにトリメチルシリルアジド
を置き換えて類似の様式で処理し、アリルアジドを得る。あるいは、トリメチル
シリルアジドの代わりに、11を、パラジウム触媒の存在下、THF/水混合物
中のNaN3で処理してアジドを生じ得る。第二部では、アジドを、メタノール またはエタノールのような適切な有機溶媒中の溶解によりアミン14に還元し、
Pd/C、PtO2、またはラネーNi、好ましくはPd/Cのような水素化触 媒を添加し、そして水素雰囲気下(16−60psi、好ましくは60psi)
で水素化し14を得る。同様に良好に供し得るその他の還元方法は、NaBH4 、LiBH4、LiAlH4などを用いるか、または水/THF混合溶媒系中の第
三級ホスフィンを用いたアジドの処理を含む。 (工程2)
を置き換えて類似の様式で処理し、アリルアジドを得る。あるいは、トリメチル
シリルアジドの代わりに、11を、パラジウム触媒の存在下、THF/水混合物
中のNaN3で処理してアジドを生じ得る。第二部では、アジドを、メタノール またはエタノールのような適切な有機溶媒中の溶解によりアミン14に還元し、
Pd/C、PtO2、またはラネーNi、好ましくはPd/Cのような水素化触 媒を添加し、そして水素雰囲気下(16−60psi、好ましくは60psi)
で水素化し14を得る。同様に良好に供し得るその他の還元方法は、NaBH4 、LiBH4、LiAlH4などを用いるか、または水/THF混合溶媒系中の第
三級ホスフィンを用いたアジドの処理を含む。 (工程2)
【0067】
【化19】 工程2において、アミン14は、メタノール、エタノール、またはトリフルオ
ロエタノールのような極性溶媒に溶解し、そして0〜80℃の温度で、好ましく
は22℃で、イミン形成を保証するために十分な時間、粉末化されたモレキュラ
ーシーブの存在下で、アルデヒドR5CHOまたはケトン(R5)2COを用いて 処理される。NaBH3CNまたはNa(AcO)3BHのような還元剤、好まし
くはNa(AcO)3BHが添加され、そして反応が完了するまで攪拌した。ア ミン15の脱保護は、生成物16を生じる。
ロエタノールのような極性溶媒に溶解し、そして0〜80℃の温度で、好ましく
は22℃で、イミン形成を保証するために十分な時間、粉末化されたモレキュラ
ーシーブの存在下で、アルデヒドR5CHOまたはケトン(R5)2COを用いて 処理される。NaBH3CNまたはNa(AcO)3BHのような還元剤、好まし
くはNa(AcO)3BHが添加され、そして反応が完了するまで攪拌した。ア ミン15の脱保護は、生成物16を生じる。
【0068】 (反応9−アミド)
【0069】
【化20】 上記のエステルを調製するために記述される様式に類似の様式において、反応
が実行されて生成物19を生じ得る。あるいは、0〜80℃の温度で、好ましく
は22℃で、EDCl、HOBT、NMM、および酸と、塩化メチレンのような
不活性溶媒中で、17の溶液を処理することにより、アミン17はカルボン酸R 6 CO2Hと結合され得る。
が実行されて生成物19を生じ得る。あるいは、0〜80℃の温度で、好ましく
は22℃で、EDCl、HOBT、NMM、および酸と、塩化メチレンのような
不活性溶媒中で、17の溶液を処理することにより、アミン17はカルボン酸R 6 CO2Hと結合され得る。
【0070】 (反応10−尿素)
【0071】
【化21】 これらの反応は、上記カルバメートを調製するための工程2および3の反応と
類似の様式で、行なわれる。
類似の様式で、行なわれる。
【0072】 (反応11−硫化物)
【0073】
【化22】 アセテートからのアミンの合成について、上記に記載される様式と類似の様式
で、アセテート22は、チオールR6SHと反応し、硫化物23が生成され、こ れは脱保護されて生成物24を生じる。
で、アセテート22は、チオールR6SHと反応し、硫化物23が生成され、こ れは脱保護されて生成物24を生じる。
【0074】 (反応12−スルホン)
【0075】
【化23】 0〜80℃の温度で、好ましくは22℃で、適切な有機溶媒中で、m−CPB
Aまたはオキソン(oxone)のような適切な酸化剤、好ましくはオキソンと
、硫化物23は反応し、スルホン25を生じる。化合物25は、脱保護されて生
成物を生じる。
Aまたはオキソン(oxone)のような適切な酸化剤、好ましくはオキソンと
、硫化物23は反応し、スルホン25を生じる。化合物25は、脱保護されて生
成物を生じる。
【0076】 (反応13−−S(O)NR5−)
【0077】
【化24】 Gazz.Chim.Ital.1991,121,471に記述された工程
と類似の様式で、アルデヒド27は処理され、ビニルスルフェンアミド28を生
じる。次いで、化合物28は脱保護されて、目的物29を生じる。
と類似の様式で、アルデヒド27は処理され、ビニルスルフェンアミド28を生
じる。次いで、化合物28は脱保護されて、目的物29を生じる。
【0078】 (反応14−−SO2−)
【0079】
【化25】 Ind.J.Chem.SecB、1982、21B、208に記述された工程
と類似の様式で、アルデヒド27は処理され、ビニルスルホン30を生じる。次
いで、化合物30は脱保護されて、目的物31を生じる。
と類似の様式で、アルデヒド27は処理され、ビニルスルホン30を生じる。次
いで、化合物30は脱保護されて、目的物31を生じる。
【0080】 (反応15−−SO2NR5−)
【0081】
【化26】 Synthesis 1975,321に記述された工程と類似の様式で、ア
ルデヒド27は処理されて、ビニルスルホンアミド32を生じる。次いで、化合
物32は脱保護されて、目的物33を生じる。
ルデヒド27は処理されて、ビニルスルホンアミド32を生じる。次いで、化合
物32は脱保護されて、目的物33を生じる。
【0082】 (反応16−−C(NH)NR5−)
【0083】
【化27】 THF、エーテル、またはジオキサンのような適切な有機溶媒、好ましくはT
HF中のジエチルシアノメチルホスホネートまたはジメチルシアノメチルホスホ
ネートの溶液は、−25℃〜約50℃の温度で、好ましくは0℃で、リチウムジ
イソプロピルアミド、あるいは、アミドリチウム、ナトリウムまたはカリウムビ
ス(トリメチルシリル)のような強塩基で処理される。1時間後、同じ溶媒中で
アルデヒド27の溶液を用いて、ホスホネートのカルボアニオンは処理される。
反応系はこの反応を完了するのに適切な温度で攪拌され34を生じる。
HF中のジエチルシアノメチルホスホネートまたはジメチルシアノメチルホスホ
ネートの溶液は、−25℃〜約50℃の温度で、好ましくは0℃で、リチウムジ
イソプロピルアミド、あるいは、アミドリチウム、ナトリウムまたはカリウムビ
ス(トリメチルシリル)のような強塩基で処理される。1時間後、同じ溶媒中で
アルデヒド27の溶液を用いて、ホスホネートのカルボアニオンは処理される。
反応系はこの反応を完了するのに適切な温度で攪拌され34を生じる。
【0084】 次いで、化合物34は、20℃〜130℃の温度で、好ましくは90℃で、ト
ルエンまたはキシレンのような不活性な有機溶媒、好ましくはトルエン中で、等
量のトリメチルアルミニウムおよび適切なアミンR5R6NHを組み合わせること
により形成された試薬と反応し、化合物35を生じる。
ルエンまたはキシレンのような不活性な有機溶媒、好ましくはトルエン中で、等
量のトリメチルアルミニウムおよび適切なアミンR5R6NHを組み合わせること
により形成された試薬と反応し、化合物35を生じる。
【0085】 化合物35の脱保護は、生成物36を生じる。
【0086】 (反応17−−CONR5−) この反応において、スキームKは、(Z)n-1を示す。
【0087】
【化28】 ここで、R18は、低級アルキルであり、そしてR17は低級アルキルであるかある
いは2つのR17は、それらが結合されている酸素原子と共に5または6員環を形
成する。
いは2つのR17は、それらが結合されている酸素原子と共に5または6員環を形
成する。
【0088】 トリエチルホスホノアセテートは、−20℃〜50℃の温度で、好ましくは0
℃で、THF、エーテル、またはジオキサン、好ましくはTHFのようなエーテ
ル性溶媒中で、LDAあるいはリチウム、ナトリウム、またはカリウムビス(ト
リメチルシリル)アミドのような強塩基を用いて処理される。次いで、ホスホネ
ート安定化カルボアニオンは、カルボニル化合物37を用いて処理され、そして
混合物は反応が完了するまで室温で攪拌される。他の適切な塩基としては、DM
SOまたはDMFのような極性非プロトン性溶媒中のNaHまたはKHが挙げら
れる。次いで、生成物38は、上記記載のように脱保護されて、アルデヒド39
を生じる。
℃で、THF、エーテル、またはジオキサン、好ましくはTHFのようなエーテ
ル性溶媒中で、LDAあるいはリチウム、ナトリウム、またはカリウムビス(ト
リメチルシリル)アミドのような強塩基を用いて処理される。次いで、ホスホネ
ート安定化カルボアニオンは、カルボニル化合物37を用いて処理され、そして
混合物は反応が完了するまで室温で攪拌される。他の適切な塩基としては、DM
SOまたはDMFのような極性非プロトン性溶媒中のNaHまたはKHが挙げら
れる。次いで、生成物38は、上記記載のように脱保護されて、アルデヒド39
を生じる。
【0089】 次いで、以下の反応により得られたイミダゾール化合物は
【0090】
【化29】 アルデヒド39と反応して、40を生じ、化合物41に還元される。脱保護は、
化合物42を提供し、これは、アミンNHR5R6と次いで反応し、最終化合物4
3を生じる。
化合物42を提供し、これは、アミンNHR5R6と次いで反応し、最終化合物4
3を生じる。
【0091】 本発明において有用である化合物は、以下の実施例によって例示され、これは
本明細書の範囲を限定すると解釈されるべきでない。
本明細書の範囲を限定すると解釈されるべきでない。
【0092】 (実施例1)
【0093】
【化30】 (工程1) 0℃に冷却したTHF(110ml、110mmol)中の1Mナトリウムビ
ス(トリメチルシリル)アミドの溶液を、トリエチルホスホノアセテート(23
.5ml、118mmol)で処理した。20分後、反応混合物を室温まで温め
、そしてTHF(250ml)中に溶解したテレフタルアルデヒドモノ−(ジエ
チルアセタール)(19.3ml、97.0mmol)を25分にわたり添加し
た。この反応混合物を、3.5時間35℃で攪拌し、そして濃縮した。残渣をE
tOAc(250ml)に懸濁し、H2O(100ml)およびブライン(10 0ml)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、そして濃縮して27gの粗中間体を得 た。
ス(トリメチルシリル)アミドの溶液を、トリエチルホスホノアセテート(23
.5ml、118mmol)で処理した。20分後、反応混合物を室温まで温め
、そしてTHF(250ml)中に溶解したテレフタルアルデヒドモノ−(ジエ
チルアセタール)(19.3ml、97.0mmol)を25分にわたり添加し
た。この反応混合物を、3.5時間35℃で攪拌し、そして濃縮した。残渣をE
tOAc(250ml)に懸濁し、H2O(100ml)およびブライン(10 0ml)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、そして濃縮して27gの粗中間体を得 た。
【0094】 粗中間体(27g)を、アセトン(350ml)およびH2O(4.5ml) に溶解し、2.5時間Amberlyst−15樹脂(3.1g)で処理し、濾
過し、そして濃縮してアルデヒド中間体を得た。
過し、そして濃縮してアルデヒド中間体を得た。
【0095】 CH2Cl2(500ml)中の4−ヨード−1−トリチルイミダゾール(41
.3g、96.9mmol)の冷却溶液(0℃)に、15分間にわたり3M E
tMgBr(35ml、105mmol)を添加した。0℃で30分後、この反
応混合物を室温まで温め、そしてCH2Cl2(50ml)中のアルデヒド中間体
の溶液を添加した。2時間後、この反応混合液を、1LのNH4Clの半飽和水 溶液に添加した。有機層を区分し、そして水層をCH2Cl2(3×200ml)
で抽出した。合わせた有機層を、ブライン(250ml)で洗浄し、MgSO4 で乾燥し、そして濃縮した。生成物を1:1CH2Cl2−EtOAcで溶出する
シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、30.2gの生成物(59mmo
l、61%全体の収量)を得た:1H−NMR(CDCl3)δ1.34(t、J
=7.1Hz、3H)、4.26(q、J=7.1Hz、2H)、5.79(s
、1H)、6.40(d、J=16.0Hz、1H)、6.59(s、1H)、
7.1−7.5(m、20H)、7.65(d、J=16.0Hz、1H)。
.3g、96.9mmol)の冷却溶液(0℃)に、15分間にわたり3M E
tMgBr(35ml、105mmol)を添加した。0℃で30分後、この反
応混合物を室温まで温め、そしてCH2Cl2(50ml)中のアルデヒド中間体
の溶液を添加した。2時間後、この反応混合液を、1LのNH4Clの半飽和水 溶液に添加した。有機層を区分し、そして水層をCH2Cl2(3×200ml)
で抽出した。合わせた有機層を、ブライン(250ml)で洗浄し、MgSO4 で乾燥し、そして濃縮した。生成物を1:1CH2Cl2−EtOAcで溶出する
シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、30.2gの生成物(59mmo
l、61%全体の収量)を得た:1H−NMR(CDCl3)δ1.34(t、J
=7.1Hz、3H)、4.26(q、J=7.1Hz、2H)、5.79(s
、1H)、6.40(d、J=16.0Hz、1H)、6.59(s、1H)、
7.1−7.5(m、20H)、7.65(d、J=16.0Hz、1H)。
【0096】 (工程2) 工程1の生成物(10.2g、19.9mmol)、CH2Cl2(115ml
)、アセトン(115ml)およびNaI(11.9g、79.3mmol)の
溶液に、ジクロロジメチルシラン(19.4ml、159mmol)を添加した
。15分後、この反応混合物をCH2Cl2(600ml)に添加し、そして10
%チオ硫酸ナトリウム(5×400ml)、H2O(2×400ml)およびブ ライン(400ml)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、そして濃縮した。生成物 を2:1に続いて1:1CH2Cl2−EtOAcで溶出するシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製し、7.2gの生成物(14mmol、72%収率)を得
た。1H−NMR(CDCl3)δ1.33(t、J=7.0Hz、3H)、3.
90(s、2H)、4.26(q、J=7.0、2H)、6.39(d、J=1
6.0Hz、1H)、6.58(s、1H)、7.1−7.5(m、20H)、
7.65(d、J=16.0Hz、1H)。
)、アセトン(115ml)およびNaI(11.9g、79.3mmol)の
溶液に、ジクロロジメチルシラン(19.4ml、159mmol)を添加した
。15分後、この反応混合物をCH2Cl2(600ml)に添加し、そして10
%チオ硫酸ナトリウム(5×400ml)、H2O(2×400ml)およびブ ライン(400ml)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、そして濃縮した。生成物 を2:1に続いて1:1CH2Cl2−EtOAcで溶出するシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製し、7.2gの生成物(14mmol、72%収率)を得
た。1H−NMR(CDCl3)δ1.33(t、J=7.0Hz、3H)、3.
90(s、2H)、4.26(q、J=7.0、2H)、6.39(d、J=1
6.0Hz、1H)、6.58(s、1H)、7.1−7.5(m、20H)、
7.65(d、J=16.0Hz、1H)。
【0097】 (工程3) トルエン(2.0ml)中の4−クロロベンジルアミン(61ml、0.50
mmol)の冷却溶液(0℃)に、トルエン(10ml)中のトルエン(1.0
ml、2.0mmol)中の2Mトリメチルアルミニウムを添加し、そして45
分間室温で攪拌した。この反応混合液にトルエン(5.0ml)中の工程2の生
成物(0.25g、0.50mmol)の溶液を添加した。3.5時間の65℃
での加熱後、この反応混合物を飽和Na2SO4(水溶液)で注意深く急冷するこ
とで冷却し、濃縮し、そしてCH2Cl2中の5%NH3飽和メタノールで溶出す るシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、0.14gのアミド中間体(0
.23mmol、46%収量)を得た。
mmol)の冷却溶液(0℃)に、トルエン(10ml)中のトルエン(1.0
ml、2.0mmol)中の2Mトリメチルアルミニウムを添加し、そして45
分間室温で攪拌した。この反応混合液にトルエン(5.0ml)中の工程2の生
成物(0.25g、0.50mmol)の溶液を添加した。3.5時間の65℃
での加熱後、この反応混合物を飽和Na2SO4(水溶液)で注意深く急冷するこ
とで冷却し、濃縮し、そしてCH2Cl2中の5%NH3飽和メタノールで溶出す るシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、0.14gのアミド中間体(0
.23mmol、46%収量)を得た。
【0098】 EtOH(5.0ml)中のアミド中間体(0.14g、0.23mmol)
の溶液を、3時間65℃で、3M HCl(5.0ml)を用いて処理し、そし
て濃縮した。CH2Cl2中での5%NH3飽和MeOHで溶出するシリカゲルク ロマトグラフィーによる精製、続いて3M HClでの酸性化および濃縮は、4
2mgの表題の生成物(0.11mmol、48%収率)を生じた。HRMS(
M+H+):m/e計算値[C20H19N3OCl]+:352.1217、測定値 352.1218。
の溶液を、3時間65℃で、3M HCl(5.0ml)を用いて処理し、そし
て濃縮した。CH2Cl2中での5%NH3飽和MeOHで溶出するシリカゲルク ロマトグラフィーによる精製、続いて3M HClでの酸性化および濃縮は、4
2mgの表題の生成物(0.11mmol、48%収率)を生じた。HRMS(
M+H+):m/e計算値[C20H19N3OCl]+:352.1217、測定値 352.1218。
【0099】 (実施例2) (工程1)
【0100】
【化31】 酸をSOCl2(20ml)中に懸濁し、室温で20時間攪拌した。過剰量の SOCl2を、減圧下で除去し、そして残渣をトルエンの共沸除去により乾燥し た。得られる黄色固体を、精製しないで次の工程に直接使用した。
【0101】 (工程2)
【0102】
【化32】 4−クロロベンジルアルコール(0.71g、5mmol)およびトリエチル
アミン(1.01g、10mmol)を、0℃で無水塩化メチレン(15ml)
中で、工程1の酸塩化物の懸濁液に添加した。この反応混合物を室温にまで温め
、24時間攪拌した。さらなる塩化メチレン(50ml)を添加し、そして有機
層を飽和水性NaHCO3で洗浄した。有機層を分離し、そして乾燥した(Mg So4)。濃縮は、フラッシュカラム(97:3 CH2Cl2:MeOH/NH3 )で精製した琥珀油を与えた。白色の固体を得た(0.36g、ニトリル4から
46%)。この物質を、塩化メチレン(10ml)中に溶解し、そしてエーテル
(5ml)中の1N HClを添加した。溶媒を乾燥アルゴンの流動下でエバポ
レートし、白色固体として化合物を得た。
アミン(1.01g、10mmol)を、0℃で無水塩化メチレン(15ml)
中で、工程1の酸塩化物の懸濁液に添加した。この反応混合物を室温にまで温め
、24時間攪拌した。さらなる塩化メチレン(50ml)を添加し、そして有機
層を飽和水性NaHCO3で洗浄した。有機層を分離し、そして乾燥した(Mg So4)。濃縮は、フラッシュカラム(97:3 CH2Cl2:MeOH/NH3 )で精製した琥珀油を与えた。白色の固体を得た(0.36g、ニトリル4から
46%)。この物質を、塩化メチレン(10ml)中に溶解し、そしてエーテル
(5ml)中の1N HClを添加した。溶媒を乾燥アルゴンの流動下でエバポ
レートし、白色固体として化合物を得た。
【0103】 (実施例3) (工程1)
【0104】
【化33】 1の溶液(4.84gr.、10mmol)を0℃で無水THF(50ml)
中で、およびTHF中のLAH溶液(12.5mlの1M溶液、12.5mmo
l)を用いて、窒素気体下で処理した。TLCが反応が終了することを示すまで
反応物を攪拌した。エーテル(50ml)で反応物を希釈し、そして飽和水溶液
Na2SO4の添加により急冷した。固体Na2SO4での乾燥後、混合物を濾過し
得、濃縮し得、そしてフラッシュカラムクロマトグラフィーによって精製し得、
生成物2を得た。
中で、およびTHF中のLAH溶液(12.5mlの1M溶液、12.5mmo
l)を用いて、窒素気体下で処理した。TLCが反応が終了することを示すまで
反応物を攪拌した。エーテル(50ml)で反応物を希釈し、そして飽和水溶液
Na2SO4の添加により急冷した。固体Na2SO4での乾燥後、混合物を濾過し
得、濃縮し得、そしてフラッシュカラムクロマトグラフィーによって精製し得、
生成物2を得た。
【0105】 (工程2)
【0106】
【化34】 TLCが反応が完了することを示すまで、窒素気体下で無水THF(25ml
)中で、アルコール2(2.28gm.5mmol)およびイソシアネート(0
.92gm.、6mmol)の溶液を攪拌した。減圧下でTHFを除去し、そし
てフラッシュカラムクロマトグラフィーによって残渣を精製し、生成物3を得た
。
)中で、アルコール2(2.28gm.5mmol)およびイソシアネート(0
.92gm.、6mmol)の溶液を攪拌した。減圧下でTHFを除去し、そし
てフラッシュカラムクロマトグラフィーによって残渣を精製し、生成物3を得た
。
【0107】 (工程3)
【0108】
【化35】 実施例1に記載の工程と類似の様式において、化合物3(1gm.、1.6m
mol)を、生成物4に変換し得る。
mol)を、生成物4に変換し得る。
【0109】 (実施例4) (工程1)
【0110】
【化36】 アルコール4(2.28g、5mmol)およびDMAP(61mg、0.5
mmol)の溶液を、無水塩化メチレン(20ml)中で、0℃で窒素雰囲気下
、無水酢酸(0.61g、6mmol)を用いて処理する。この反応物を、反応
が完了したことをTLCが示すまで攪拌する。この反応物を、さらなる塩化メチ
レン(50ml)を用いて希釈し、そして飽和した水性NaHCO3、ブライン および乾燥MgSO4で洗浄する。減圧下での濾過および濃縮によって、フラッ シュカラムクロマトグラフィーを介して精製され得る残留物が与えられて、この
生成物を得る。
mmol)の溶液を、無水塩化メチレン(20ml)中で、0℃で窒素雰囲気下
、無水酢酸(0.61g、6mmol)を用いて処理する。この反応物を、反応
が完了したことをTLCが示すまで攪拌する。この反応物を、さらなる塩化メチ
レン(50ml)を用いて希釈し、そして飽和した水性NaHCO3、ブライン および乾燥MgSO4で洗浄する。減圧下での濾過および濃縮によって、フラッ シュカラムクロマトグラフィーを介して精製され得る残留物が与えられて、この
生成物を得る。
【0111】 (工程2)
【0112】
【化37】 ジパラジウムトリス(ジベンジリデンアセトン)(92mg、0.1mmol
)、トリフェニルホスフィン(210mg、0.8mmol)、アジ化トリメチ
ルシリル(690mg、6mmol)および化合物5(1.92g、4mmol
)を無水THF(20ml)中で窒素下で、反応が完了したことをTLCが示す
まで50℃で攪拌する。減圧下での濃縮によって、フラッシュカラムクロマトグ
ラフィーを介して精製され得る残留物が与えられて、生成物6を得る。
)、トリフェニルホスフィン(210mg、0.8mmol)、アジ化トリメチ
ルシリル(690mg、6mmol)および化合物5(1.92g、4mmol
)を無水THF(20ml)中で窒素下で、反応が完了したことをTLCが示す
まで50℃で攪拌する。減圧下での濃縮によって、フラッシュカラムクロマトグ
ラフィーを介して精製され得る残留物が与えられて、生成物6を得る。
【0113】 (工程3)
【0114】
【化38】 THF(10ml)中のアジド6(1.44g、3mmol)の溶液を、トリ
フェニルホスフィン(0.77g、3mmol)および水(81mg、4.5m
mol)で処理し、そしてその反応が完了することをTLCが示すまで攪拌する
。この溶媒を、減圧下で除去し得、そしてその残留物をフラッシュクロマトグラ
フィーを介して精製して、生成物7を獲得し得る。
フェニルホスフィン(0.77g、3mmol)および水(81mg、4.5m
mol)で処理し、そしてその反応が完了することをTLCが示すまで攪拌する
。この溶媒を、減圧下で除去し得、そしてその残留物をフラッシュクロマトグラ
フィーを介して精製して、生成物7を獲得し得る。
【0115】 (工程4および5)
【0116】
【化39】 実施例2の工程2および3において記載されるのと同じ様式で、化合物7(0
.46g、1mmol)を生成物8へと変換し得る。
.46g、1mmol)を生成物8へと変換し得る。
【0117】 (実施例5) (工程1)
【0118】
【化40】 化合物9(2.14mg、5mmol)、酢酸アンモニウム(100mg)、
およびスルホニル酢酸試薬(Synthesis、1975、321に記載され
る手順に従って合成した:1.05g、4.2mmol)を、その反応が完了し
たことをTLCが示すまで還流加熱する。塩化メチレン(100ml)で希釈し
、そして希HCl、水性NaHCO3、水、ブラインで洗浄し、そして乾燥した (MgSO4)。濾過および減圧下での濃縮後、残留物を、フラッシュカラムク ロマトグラフィーを介して精製して、生成物10を獲得し得る。
およびスルホニル酢酸試薬(Synthesis、1975、321に記載され
る手順に従って合成した:1.05g、4.2mmol)を、その反応が完了し
たことをTLCが示すまで還流加熱する。塩化メチレン(100ml)で希釈し
、そして希HCl、水性NaHCO3、水、ブラインで洗浄し、そして乾燥した (MgSO4)。濾過および減圧下での濃縮後、残留物を、フラッシュカラムク ロマトグラフィーを介して精製して、生成物10を獲得し得る。
【0119】 (工程2)
【0120】
【化41】 実施例2工程3に記載されるのと類似の様式で、化合物10(0.62mg、
1mmol)を生成物11に変換し得る。
1mmol)を生成物11に変換し得る。
【0121】 上記に概説した手順に従って、式IAの化合物(「Com」):
【0122】
【化42】 を、調製し得、ここで、その置換基は、以下の表に定義される。表中、R1は、 イミダゾール環における置換基を示す。(Z)n基についてのR1は、Hである。
【0123】
【表1】 また、上記の手順に従って、化合物63:
【0124】
【化43】 を調製した。
【0125】 (実施例6)
【0126】
【化44】 THF(100ml)中のテレフタルアルデヒドモノ−(ジエチルアセタール
)(5.0ml、25mmol)の溶液を、1.4M MeMgBr(21.5
ml、30mmol)で処理した。30分後、この反応混合物を水(200ml
)に加え、そしてEtOAc(200ml)で抽出した。この有機層をブライン
(100ml)で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、そして濃縮して、粗アルコール
中間体を無色の油状物として得た。
)(5.0ml、25mmol)の溶液を、1.4M MeMgBr(21.5
ml、30mmol)で処理した。30分後、この反応混合物を水(200ml
)に加え、そしてEtOAc(200ml)で抽出した。この有機層をブライン
(100ml)で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、そして濃縮して、粗アルコール
中間体を無色の油状物として得た。
【0127】 EtOAc(150ml)に溶解した粗アルコール中間体の0℃の溶液に、飽
和NaHCO3水溶液(150ml)中のNaBr(2.60g、25.3mm ol)の溶液、およびTEMPO(39mg、0.25mmol)を加えた。こ
の反応混合物を迅速に攪拌しながら、0.7MNaOCl水溶液(36ml、2
5mmol)に20分にわたって添加し、次いで、飽和Na2S2O3(50ml )を添加した。室温にまで暖めた後、この反応混合物を、分画し、そして水層を
EtOAc(3×50ml)で抽出した。合わせた有機層を、ブライン(100
ml)で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、そして濃縮して、4.86gのケトン生
成物(21.9mmol、2工程について87%収量)を黄色の油状物として得
た。
和NaHCO3水溶液(150ml)中のNaBr(2.60g、25.3mm ol)の溶液、およびTEMPO(39mg、0.25mmol)を加えた。こ
の反応混合物を迅速に攪拌しながら、0.7MNaOCl水溶液(36ml、2
5mmol)に20分にわたって添加し、次いで、飽和Na2S2O3(50ml )を添加した。室温にまで暖めた後、この反応混合物を、分画し、そして水層を
EtOAc(3×50ml)で抽出した。合わせた有機層を、ブライン(100
ml)で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、そして濃縮して、4.86gのケトン生
成物(21.9mmol、2工程について87%収量)を黄色の油状物として得
た。
【0128】 実施例1に記載のものに類似の手順に従って、このケトンを最終生成物へと変
換した。(E)異性体:
換した。(E)異性体:
【0129】
【化45】 および(Z)異性体:
【0130】
【化46】 の最終生成物を得た。
【0131】 これらの2つの異性体についてのデータは、以下のとおりである: (E)−N−(4−クロロフェニル)−3−[4−[(1H−イミダゾール−
4−イル)メチル]−フェニル]−3−メチル−2−プロペンアミド:
4−イル)メチル]−フェニル]−3−メチル−2−プロペンアミド:
【0132】
【数1】 (Z)−N−(4−クロロフェニル)−3−[4−[(1H−イミダゾール−
4−イル)メチル]−フェニル]−3−メチル−2−プロペンアミド:
4−イル)メチル]−フェニル]−3−メチル−2−プロペンアミド:
【0133】
【数2】 (化合物の質量スペクトルデータ)
【0134】
【表2】 さらなる質量スペクトルデータは、(1)化合物番号61−CI 352(M
+1);および(2)化合物番号62−FAB 337(M+1)である。
+1);および(2)化合物番号62−FAB 337(M+1)である。
【0135】 (H3レセプター結合アッセイ) 本実験のH3レセプター源は、モルモットの脳であった。このモルモットの体 重は400〜600gであった。脳組織を、50mM Tris、pH7.5溶
液中のポリトロン(Polytron)を用いてホモジナイズした。ホモジナイ
ゼーション緩衝液中の組織の最終濃度は、10% w/vであった。ホモジネー
トを、塊状の組織および砕片を除去するために、10分間、1,000×gで遠
心分離した。次いで、得られた上清を、膜を沈降させるために、20分間、50
,000×gで遠心分離し、次にホモジナイゼーション緩衝液で3回洗浄(各々
、50,000×gで20分間)した。この膜を凍結し、そして必要になるまで
−70℃で貯蔵した。
液中のポリトロン(Polytron)を用いてホモジナイズした。ホモジナイ
ゼーション緩衝液中の組織の最終濃度は、10% w/vであった。ホモジネー
トを、塊状の組織および砕片を除去するために、10分間、1,000×gで遠
心分離した。次いで、得られた上清を、膜を沈降させるために、20分間、50
,000×gで遠心分離し、次にホモジナイゼーション緩衝液で3回洗浄(各々
、50,000×gで20分間)した。この膜を凍結し、そして必要になるまで
−70℃で貯蔵した。
【0136】 試験するべき全ての化合物をDMSOに溶解し、次いで、最終濃度が0.1%
DMSOで2μg/mLとなるように、結合緩衝液(50mM Tris、p
H7.5)中に希釈した。次いで、膜を反応チューブに添加した(400μgの
タンパク質)。3nM[3H]R−α−メチルヒスタミン(8.8Ci/mmo l)または3nM[3H]Nα−メチルヒスタミン(80Ci/mmol)の添 加により、反応を開始し、そして30℃で30分間インキュベートした状態で続
けた。結合したリガンドを、濾過により非結合リガンドから分離し、そしてこの
膜に結合した放射性リガンドの量を液体シンチレーション分光測定法により定量
した。全てのインキュベーションを、2連で行い、そしてこの標準誤差は、通常
10%未満であった。放射性リガンドのレセプターとの70%より多い特異的な
結合を阻害する化合物を、段階的に希釈し、Ki(nM)を決定した。
DMSOで2μg/mLとなるように、結合緩衝液(50mM Tris、p
H7.5)中に希釈した。次いで、膜を反応チューブに添加した(400μgの
タンパク質)。3nM[3H]R−α−メチルヒスタミン(8.8Ci/mmo l)または3nM[3H]Nα−メチルヒスタミン(80Ci/mmol)の添 加により、反応を開始し、そして30℃で30分間インキュベートした状態で続
けた。結合したリガンドを、濾過により非結合リガンドから分離し、そしてこの
膜に結合した放射性リガンドの量を液体シンチレーション分光測定法により定量
した。全てのインキュベーションを、2連で行い、そしてこの標準誤差は、通常
10%未満であった。放射性リガンドのレセプターとの70%より多い特異的な
結合を阻害する化合物を、段階的に希釈し、Ki(nM)を決定した。
【0137】 化合物1〜13、および15〜38は、1〜1000nMの範囲のKiを有し
た。化合物1,3,6、8〜11、15、16、18、19、22および29〜
38は、1〜19nMの範囲のKiを有した。
た。化合物1,3,6、8〜11、15、16、18、19、22および29〜
38は、1〜19nMの範囲のKiを有した。
【0138】 これらの試験結果および「発明の背景」の節の文献に記載された化合物につい
ての背景知識から、本発明の化合物が、炎症、アレルギー、GI路の疾患、心血
管疾患、または中枢神経系の障害を治療するのに有用であることが予想される。
ての背景知識から、本発明の化合物が、炎症、アレルギー、GI路の疾患、心血
管疾患、または中枢神経系の障害を治療するのに有用であることが予想される。
【0139】 式Iの化合物およびこれらの塩から薬学的組成物を調製するために用いる薬学
的に受容可能な不活性キャリアは、固体または液体のどちらかであり得る。固形
調製物は、粉末、錠剤、分散性顆粒、カプセル、カシェ剤、および坐薬を包含す
る。粉末および錠剤は、約5〜約70パーセントの活性成分を含み得る。適切な
固体キャリアは、当該分野で公知である(例えば、炭酸マグネシウム、ステアリ
ン酸マグネシウム、タルク、糖、ラクトース)。錠剤、粉末、カシェ剤およびカ
プセルは、経口投与に適した固体用量形態として用いられ得る。
的に受容可能な不活性キャリアは、固体または液体のどちらかであり得る。固形
調製物は、粉末、錠剤、分散性顆粒、カプセル、カシェ剤、および坐薬を包含す
る。粉末および錠剤は、約5〜約70パーセントの活性成分を含み得る。適切な
固体キャリアは、当該分野で公知である(例えば、炭酸マグネシウム、ステアリ
ン酸マグネシウム、タルク、糖、ラクトース)。錠剤、粉末、カシェ剤およびカ
プセルは、経口投与に適した固体用量形態として用いられ得る。
【0140】 液体形態の調製物は、溶液、懸濁液、および乳剤(例えば、非経口注射のため
の水または水−プロピレングリコール溶液)を包含する。液体形態の調製物はま
た、鼻腔内投与のための溶液を含み得る。
の水または水−プロピレングリコール溶液)を包含する。液体形態の調製物はま
た、鼻腔内投与のための溶液を含み得る。
【0141】 使用直前に、経口または非経口投与のいずれかのための液体形態の調製物に変
換することが意図される固形調製物も含まれる。このような液体形態は、溶液、
懸濁液および乳剤を含む。
換することが意図される固形調製物も含まれる。このような液体形態は、溶液、
懸濁液および乳剤を含む。
【0142】 吸入に適したエーロゾル調製物は、溶液および粉末形態の固体を含み得、そし
てこれは、不活性圧縮ガスのような薬学的に受容可能なキャリアと併用し得る。
てこれは、不活性圧縮ガスのような薬学的に受容可能なキャリアと併用し得る。
【0143】 坐薬の調製では、脂肪酸グリセリドまたはココアバターの混合物のような低溶
融性ワックスを最初に溶融し、そして活性成分をこの中に撹拌しながら均一に分
散させる。次いで、溶融した均質な混合物を適切なサイズの型に流し込み、そし
て冷却させ、そしてこれにより固化させる。
融性ワックスを最初に溶融し、そして活性成分をこの中に撹拌しながら均一に分
散させる。次いで、溶融した均質な混合物を適切なサイズの型に流し込み、そし
て冷却させ、そしてこれにより固化させる。
【0144】 好ましくは、化合物は、経口投与される。
【0145】 好ましくは、薬学的調製物は、単位投薬量形態である。このような形態におい
て、この調製物は、適切な量(例えば、所望の目的を達成するための有効量)の
活性成分を含有する単位用量中に細分化される。単位用量の調製物の活性化合物
の量は、約0.1mg〜1000mg、より好ましくは約1mg〜500mg、
特定の適用に従って変化し得、または調節され得る。
て、この調製物は、適切な量(例えば、所望の目的を達成するための有効量)の
活性成分を含有する単位用量中に細分化される。単位用量の調製物の活性化合物
の量は、約0.1mg〜1000mg、より好ましくは約1mg〜500mg、
特定の適用に従って変化し得、または調節され得る。
【0146】 用いる実際の投薬量は、患者の必要性および治療される症状の重篤度に依存し
て変化し得る。特定の症状に対する適切な投薬量の決定は、当該分野の技術範囲
である。一般的に、治療は、最適な用量の化合物より少ない投薬量で開始される
。その後、投薬量をこの条件下における最適な効果に到達するまで少量ずつ増加
する。便宜上、一日の全投薬量を、所望の場合、一日の間に分けて投与し得る。
て変化し得る。特定の症状に対する適切な投薬量の決定は、当該分野の技術範囲
である。一般的に、治療は、最適な用量の化合物より少ない投薬量で開始される
。その後、投薬量をこの条件下における最適な効果に到達するまで少量ずつ増加
する。便宜上、一日の全投薬量を、所望の場合、一日の間に分けて投与し得る。
【0147】 本発明の化合物およびその薬学的に受容可能な塩の投与量および投与頻度は、
例えば、年齢、状態、および患者の体格ならびに治療される症状の重篤度のよう
な因子を考慮する担当医の判断に従って調節される。典型的な推奨投薬量レジメ
は、症状の緩和を達成するため1回〜4回に分割した用量中において、1mg〜
2000mg/日、好ましくは10〜1000mg/日の経口投与である。この
化合物は、治療用量で投与される場合、非毒性である。
例えば、年齢、状態、および患者の体格ならびに治療される症状の重篤度のよう
な因子を考慮する担当医の判断に従って調節される。典型的な推奨投薬量レジメ
は、症状の緩和を達成するため1回〜4回に分割した用量中において、1mg〜
2000mg/日、好ましくは10〜1000mg/日の経口投与である。この
化合物は、治療用量で投与される場合、非毒性である。
【0148】 以下は、本発明の化合物を含む薬学的投薬形態の例である。本明細書中で使用
される用語「活性化合物」は、式Iまたはこれらの塩の化合物の1つ、特に本明
細書中の化合物6および29(遊離塩基として)、すなわち、N−[(4−クロ
ロフェニル)メチル]−4−[(1H−イミダゾール−4−イル)メチル]ベン
ゼンメタンイミドアミドおよびN−[(4−クロロフェニル)メチル]−4−[
(1H−イミダゾール−4−イル)メチル]ベンゼンエタンイミドアミド、また
はこれらの二塩酸塩を示すのに使用されるが、任意の式Iの他の化合物またはこ
れらの塩も、このために代わりに使用され得る。
される用語「活性化合物」は、式Iまたはこれらの塩の化合物の1つ、特に本明
細書中の化合物6および29(遊離塩基として)、すなわち、N−[(4−クロ
ロフェニル)メチル]−4−[(1H−イミダゾール−4−イル)メチル]ベン
ゼンメタンイミドアミドおよびN−[(4−クロロフェニル)メチル]−4−[
(1H−イミダゾール−4−イル)メチル]ベンゼンエタンイミドアミド、また
はこれらの二塩酸塩を示すのに使用されるが、任意の式Iの他の化合物またはこ
れらの塩も、このために代わりに使用され得る。
【0149】
【表3】 (製造方法) 項目番号1および2を適切なミキサーで10〜15分間混合する。項目番号3
とこの混合物を粒状化する。必要があれば、粗いふるい(例えば、1/4インチ
、0.63cm)を通して、湿った顆粒をすりつぶす。湿った顆粒を乾燥させる
。必要があれば乾燥した顆粒をふるいにかけ、そして項目番号4と混合し、そし
て10〜15分間混合する。項目番号5を添加し、そして1〜3分間混合する。
混合物を適切な大きさに圧縮し、適切な錠剤機械で測量する。
とこの混合物を粒状化する。必要があれば、粗いふるい(例えば、1/4インチ
、0.63cm)を通して、湿った顆粒をすりつぶす。湿った顆粒を乾燥させる
。必要があれば乾燥した顆粒をふるいにかけ、そして項目番号4と混合し、そし
て10〜15分間混合する。項目番号5を添加し、そして1〜3分間混合する。
混合物を適切な大きさに圧縮し、適切な錠剤機械で測量する。
【0150】
【表4】 (製造方法) 適切なブレンダーにおいて、項目番号1、2および3を10〜15分間混合す
る。項目番号4を添加し、そして1〜3分間混合する。この混合物を適切なカプ
セル化機械で適切な2つの硬ゼラチンカプセル中に満たす。
る。項目番号4を添加し、そして1〜3分間混合する。この混合物を適切なカプ
セル化機械で適切な2つの硬ゼラチンカプセル中に満たす。
【0151】 本発明の多くの実施様態が、本明細書中に記載されるが、この実施態様が、本
発明の組成物およびプロセスを利用する他の実施態様を提供するために変化し得
ることは明かである。従って、本発明の範囲は、上述の明細書において、および
その明細書に添付された請求の範囲により規定される、別の実施態様および改変
を含み;そして本発明は、例示の目的で本明細書中に示された特定の実施態様に
限定されない。
発明の組成物およびプロセスを利用する他の実施態様を提供するために変化し得
ることは明かである。従って、本発明の範囲は、上述の明細書において、および
その明細書に添付された請求の範囲により規定される、別の実施態様および改変
を含み;そして本発明は、例示の目的で本明細書中に示された特定の実施態様に
限定されない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61P 1/04 A61P 1/04 3/04 3/04 9/00 9/00 9/02 9/02 25/00 25/00 25/06 25/06 25/18 25/18 25/20 25/20 25/28 25/28 27/06 27/06 29/00 29/00 37/08 37/08 43/00 111 43/00 111 C07D 401/12 C07D 401/12 403/12 403/12 405/12 405/12 409/12 409/12 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CN,CZ,EE,GD,GE,HR,H U,ID,IL,IS,JP,KG,KR,KZ,LC ,LK,LR,LT,LV,MD,MG,MK,MN, MX,NO,NZ,PL,RO,RU,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,US,UZ ,VN,YU (71)出願人 2000 Galloping Hill R oad, Kenilworth, Ne w Jersey 07033−0530, U. S.A (72)発明者 マッコーミック, ケビン ディー. アメリカ合衆国 ニュージャージー 08820, エジソン, ペース ドライブ 5 (72)発明者 ピウィンスキ, ジョン ジェイ. アメリカ合衆国 ニュージャージー 08833, レバノン, サドル リッジ ドライブ 6 Fターム(参考) 4C063 AA01 BB09 CC25 CC75 CC92 DD03 DD06 DD12 DD25 EE01 4C086 AA01 AA02 AA03 BC21 BC27 BC38 BC50 GA02 GA04 GA07 GA08 MA01 MA02 MA04 NA14 ZA02 ZA08 ZA16 ZA18 ZA33 ZA36 ZA43 ZA66 ZA70 ZB11 ZB13 ZC45
Claims (26)
- 【請求項1】 以下の式の化合物: 【化1】 またはその薬学的に受容可能な塩あるいは溶媒化合物であって、ここで以下: 二重結合(a)がEまたはZであり; 各R1が、水素、低級アルキル、トリハロメチル、フェニルおよびベンジルか らなる群より独立して選択され; 各R7が、水素、低級アルキル、ハロゲン、トリハロメチル、NR10R11、ま たはOR10基からなる群より独立して選択され、それによってR10およびR11が
水素、低級アルキル、またはトリハロメチルから独立して選択され; Xは、−CONR5−;−SO2−、−S−;−CO−;−COO−;−CN(
OR5)NR5−;−C(NR5)NR5−;−SONR5−;−SO2NR5−であ り、ただし、pは、ゼロでなく、Xはまた−O−;−NR5;−NR5CONR5 −;−OCONR5−;−O−CO−または−NR5CO−であり得; Yは、C1〜C3アルキルであり、必要に応じて1つの置換基R5によって基の 任意の炭素原子が置換され; Zは、C(R1)2であり;ここで2つ以下のR1基が水素以外であり; nは、1または2であり; mは、0または1であり; pは、0または1であり; qは、0または1であり; Rは、以下: (1)C3〜C7シクロアルキル、 (2)ヘテロ環基、 (3)アリール、 (4)へテロアリール、 (5)R10およびR11が水素、低級アルキルまたはトリハロメチルから独立し
て選択される、低級アルキルトリハロメチルおよびNR10R11からなる群より独
立して選択される1〜3の置換基を有する置換されたC3〜C7シクロアルキル、 (6)低級アルキルトリハロメタンおよび上記に定義されるR10およびR11の
NR10R11からなる群より独立して選択される1〜3の置換基を有する置換され
たヘテロ環であって、該環における総置換基数が1〜3であるように、該置換基
が該環における炭素原子に結合し、そして該へテロ環が置換可能な窒素原子を含
み、該窒素原子が必要に応じて低級アルキルと置換されるヘテロ環、 (7)上記、定義のようなR10およびR11である、低級アルキル、ハロゲン、
トリハロメチル、CN、NO2、OR10またはNR10R11からなる群より独立し て選択される1〜3つの置換基を有する置換されたアリール、 (8)上記、定義のようなR10およびR11である、低級アルキル、ハロゲン、
トリハロメチル、CN、NO2、OR10またはNR10R11からなる群より独立し て選択される1〜3つの置換基を有する置換されたヘテロアリール;から選択さ
れ、そして、 各R5が独立して水素、低級アルキルまたはポリ−ハロ−低級アルキルを表す 、化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは溶媒化合物。 - 【請求項2】 両方のR7が水素である、請求項1に記載の化合物。
- 【請求項3】 nが1である、請求項2に記載の化合物。
- 【請求項4】 請求項3に記載の化合物であって、ここでR1が水素であり 、そしてRが以下: (1)上記定義のようなR10およびR11である、低級アルキル、ハロゲン、トリ
ハロメチル、CN、NO2、OR10またはNR10R11から選択される1または2 の置換基によって置換された、フェニル、または (2)上記定義のようなR10およびR11である低級アルキル、ハロゲン、トリハ
ロメチル、CN、NO2、OR10またはNR10R11から選択される1または2の 置換基によって置換される、ピリジル、 から選択される、化合物。 - 【請求項5】 Rがハロゲン、メトキシ、CF3、CNまたはOCF3から選
択される1または2の置換基によって置換されるフェニルまたは置換されるピリ
ジルを表す、請求項4に記載の化合物。 - 【請求項6】 請求項5に記載の化合物であって、ここでRが(1)該置換
基が3または4位に存在する一置換型フェニル、または(2)該2つの置換基が
同一位および該3、5位に存在する二置換型フェニルである、化合物。 - 【請求項7】 Xが−CONR5、−NH−、−SO2−、−O−または−S
O2NH−から選択される、請求項6に記載の化合物。 - 【請求項8】 Xが−CONR5であり、そしてmが0である、請求項7に 記載の化合物。
- 【請求項9】 請求項8に記載の化合物であって、ここで(1)pが0であ
り、そして(2)qが0または1であり、ここでqが1の場合、Yが、1つのR 5 が水素である−CHR5CHR5−を表す、化合物。 - 【請求項10】 該置換基が塩素またはフッ素である、請求項5、7、また
は9に記載の化合物。 - 【請求項11】 請求項1に記載の化合物であって、以下: 【化2】 から選択される、化合物。
- 【請求項12】 請求項11に記載の化合物であって、ここでRが、(1)
置換基が3または4位に存在するモノ置換されたフェニルであるか、または(2
)2つの置換基が同一位および3、5位に存在する二置換型フェニルである、化
合物。 - 【請求項13】 請求項7に記載の化合物であって、以下: 【化3】 から選択され、ここで、mは0または1、そしてRは(1)フェニル、(2)4
−Cl−フェニル、(3)3、5−ジメチルフェニル、(4)3−F−フェニル
、(5)4−F−フェニル、(6)3−メトキシフェニルまたは(7)3−CN
−フェニルから選択される、化合物。 - 【請求項14】 請求項7に記載の化合物であって、ここでXは、−NH−
、−SO2−、−O−または−SO2NH−であり、そしてRは、(1)フェニル
、(2)前記3または4位においてCl、F、CNまたはOCH3によって置換 されたフェニル、あるいは(3)前記3および5位においてCl、F、CF3、 CH3、OCH3またはOCF3によって置換されたフェニルである、化合物。 - 【請求項15】 請求項14に記載の化合物であって、ここで(1)mは、
0または1であり、(2)pは、1であり、そして(3)qは、0または1であ
り、ここでqが1である場合、Yが−CH2CH2−を表す、化合物。 - 【請求項16】 薬学的に受容可能なキャリアまたは賦形剤と組み合わせた
、請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に受容可能な塩もしくはその溶媒
化合物を含む、薬学的組成物。 - 【請求項17】 請求項1に記載の有効量の化合物またはその塩もしくは溶
媒化合物、あるいはその薬学的に受容可能な酸付加塩または溶媒化合物を、この
ような処置が必要な患者に投与する工程を包含する、アレルギー、炎症、心臓血
管疾患、低血圧症、緑内障、睡眠障害、胃腸管の疾患、胃腸管の過剰運動性およ
び低運動性の状態、または中枢神経系の障害、中枢神経系の低活性および過剰活
性、アルツハイマー病、精神分裂病、肥満症および片頭痛を処置する、方法。 - 【請求項18】 ヒスタミンH1レセプターアンタゴニストとの組み合わせ または混合剤で、請求項1に記載の化合物、またはその塩もしくは溶媒化合物を
、このような処置を必要とする患者に投与する工程を包含する、上気道アレルギ
ー応答の処置方法。 - 【請求項19】 前記H1アンタゴニストがロラタジン、デスカルボエトキ シロラタジン、フェクソフェナジン(fexofenadine)、セチリジン
から選択される、請求項18に記載の方法。 - 【請求項20】 前記H1アンタゴニストがロラタジンまたはデスカルボエ トキシロラタジンから選択される、請求項19に記載の方法。
- 【請求項21】 アレルギー、炎症、心臓血管疾患、低血圧症、緑内障、睡
眠障害、胃腸管の疾患、胃腸管の過剰運動性および低運動性の状態、中枢神経系
の障害、中枢神経系の低活性および過剰活性、アルツハイマー病、精神分裂病、
肥満症および片頭痛の処置における使用のための医薬の製造のための、請求項1
に記載の化合物、またはその塩もしくは溶媒化合物の使用。 - 【請求項22】 ヒスタミンH1レセプターアンタゴニストとしての使用の ために製造される医薬との組み合わせにおける使用のためのの医薬の製造のため
の、請求項1に記載の化合物あるいはその塩またはその溶媒化合物の使用であっ
て、該組み合わせが上気道アレルギー応答の処置における使用のためである、使
用。 - 【請求項23】 前記H1アンタゴニストが、ロラタジン、デスカルボエト キシロラタジン、フェクソフェナジン(fexofenadine)、セチリジ
ンから選択される、請求項22に記載の使用。 - 【請求項24】 前記H1アンタゴニストが、ロラタジンまたはデスカルボ エトキシロラタジンから選択される、請求項22に記載の使用。
- 【請求項25】 アレルギー、炎症、心臓血管疾患、低血圧症、緑内障、睡
眠障害、胃腸管の疾患、胃腸管の過剰運動性および低運動性の状態、中枢神経系
の障害、中枢神経系の低活性および過剰活性、アルツハイマー病、精神分裂病、
肥満症および片頭痛を処置する、請求項1に記載の化合物あるいはその塩または
その溶媒化合物の使用。 - 【請求項26】 上気道アレルギー応答の処置のためにヒスタミンH1レセ プターアンタゴニストを組み合わせた、請求項1に記載の化合物あるいはその塩
またはその溶媒化合物の使用。
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