【発明の詳細な説明】
研磨洗浄組成物 技術分野
本発明は、硬質表面の洗浄に適した、粒子研磨剤を含む流動性、均質、研磨性
、水性液体洗浄剤組成物に関する。発明の背景
研磨粒子を含む硬質表面洗浄剤は広く知られている。典型的な組成物は、溶液
中の１またはそれ以上の界面活性剤とその中に分散した多数の研磨粒子を含む。
典型的な研磨物質は、方解石あるいはドロマイト（白雲石）ならびに比較的高密
度の他の物質のような鉱物を含む。当該技術においては、使用前に組成物を強く
振とうする必要がないように、また沈降あるいはさらに沈殿した粒子の凝結を防
ぐために、研磨粒子が確実に組成物中に懸濁したままであることが必要であると
、一般に考えられている。
ひとつのサブクラスの組成物では、１またそれ以上の界面活性剤成分が、通常
は溶解電解質と組合わせて、懸濁剤として働く。電解質の存在により、層状相の
形成により界面活性剤成分
が濃厚化する。これらの組成物は、特に方解石を研磨剤として使用する場合には
、一般に９．０以上のｐＨで配合される。
液体研磨洗浄剤における懸濁剤として用いる界面活性剤には、スルホン酸アル
キルベンゼン、硫酸アルコール、アルコールエトキシレート、アルキルアミドエ
トキシレート、脂肪酸石けんおよび第二級スルホン酸アルキルが含まれてきた。
当該技術において周知のように、これらの界面活性剤の組合せが電解質と共に懸
濁系を形成するために使用される。
これらの懸濁系の微細構造は、一般に直径０．０５から約１０ミクロンの範囲
の球状構造から成る。これらの構造は、薄い水の層によって分けられた界面活性
剤分子の交互二重層の同心殻を含むと考えられる。懸濁系は、界面活性剤が水の
存在下で形成することができる唯一の構造ではない。上述した界面活性剤はまた
、粘性であるが粒子を懸濁することができるミセル構造を形成することもできる
。さらに、界面活性剤と水の組成物は、異なる物理特性を持つ２またはそれ以上
の混合相に分けることもできる。厳密には、特定の界面活性剤混合によってどち
らの構造が採用されるかは組成物中の電解質のイオン強度に強く影響され、一部
の界面活性剤系は電解質のイオン強度の変化
に対して例外的に感受性が高いことがある。
また、ポリマーが存在する混合懸濁系を使用することも知られている。そのよ
うな組成物においては、生成物の懸濁活性の一部はポリマーの存在から生じると
考えられる。
界面活性剤を懸濁系として用いる市販の実用液体研磨洗浄剤では、懸濁系が、
使用の際に遭遇するあらゆる温度範囲にわたって安定であり、製品の貯蔵寿命の
間研磨粒子を懸濁した状態に維持するのに十分な程度に懸濁していることが重要
である。組成物のイオン強度が温度と共に変化する場合には、特定の添加剤が、
製品がさらされる温度範囲の一部で粒子の懸濁を停止させるような方法で懸濁系
を撹乱するかどうかを予測することは困難である。
液体研磨洗浄剤に関してのさらなる問題は、洗い流すことが難しい残留物を残
す傾向があることである。これは不溶性研磨剤を含む組成物に関して顕著な問題
である。それ故、洗浄効果を改善し、研磨剤による表面損傷の可能性を低減する
ように、研磨剤の全体的レベルを低下させるような方法で研磨剤組成物の性能を
改善する必要がある。
溶媒は非研磨洗浄組成物の周知の成分である。洗浄組成物に
おいて使用される典型的な溶媒は、アルコール（エタノールなど）、エーテル（
Ｂｕｔｙｌ Ｃｅｌｌｏｓｏｌｖｅ［商標］など）、パラフィン（Ｉｓｏｐａｒ
Ｌ［商標］など）、エステルおよびテルペン（ｄ−リモネンなど）を含む。も
うひとつの既知の分類の溶媒はアルカノールアミンである。ＥＰ５０３２１９Ａ
（Ｐ＆Ｇ）は０．１〜１０％のアルカノールアミンを含む洗浄組成物に関するも
のである。
本発明者らは、液体研磨洗浄剤中にアルカノールアミン溶媒を有意なレベルで
包含することは難しいと判断した。アルカノールアミンは電解質と溶媒の両方の
特性を持ち、懸濁相の構造に影響を及ぼしうると考えられる。その結果として、
貯蔵中あるいは輸送中に組成物の温度が変化すると、組成物中の有効電解質のレ
ベルも変化し、これは懸濁相の分解と研磨粒子の沈殿、あるいはさらに組成物の
相分離をもたらしうる。発明の要旨
本発明者らは、炭化水素共溶媒が存在することを条件として、有意なレベルの
Ｃ2−Ｃ6アルカノールアミンを含む、ｐＨ７〜１３の改善された液体研磨洗浄剤
が製剤できると判断した。アルカノールアミンは困難な汚れの除去を助けるため
の溶媒およ
び基剤の両方として働くことができるので、アルカノールアミンの存在は望まし
い。
従って、本発明は次のものを含むｐＨ７〜１３の液体研磨洗浄組成物を提供す
る：
ａ）０．１〜２０重量％の、懸濁系を形成する１またはそれ以上の界面活性剤、
ｂ）２〜８０重量％の１またはそれ以上の懸濁研磨剤、
ｃ）０．５〜１０重量％のＣ2−Ｃ6アルカノールアミン、および
ｄ）０．２５〜１０重量％の炭化水素共溶媒。
アルカノールアミンは、洗浄を改善し、それによって懸濁研磨剤のレベルを低
下させることができる、基剤および溶媒の両方として働くと考えられる。そして
順次、表面に対する研磨損傷の可能性を軽減して、洗浄性能を高めると考えられ
る。炭化水素共溶媒の存在は、アルカノールアミンベースの組成物が温度の周期
的変化を受けたりあるいは極端な温度で貯蔵された時に、当該組成物の安定性を
維持するために必要であると考えられる。発明の詳細な説明
本発明がよりよく理解できるように、本発明の実施形態の様々な好ましいおよ
び／あるいは選択的特徴を以下に述べる。
アルカノールアミン：
本発明の組成物において使用するためのアルカノールアミンは、アミンおよび
ヒドロキシ部分に関しては単官能性あるいは多官能性でありうる。好ましいアル
カノールアミンは一般に、Ｒ1が２〜６個の炭素を有する線状あるいは分枝アル
キル鎖である、Ｈ2Ｎ−Ｒ1−ＯＨの式を持つものである。適当なアルカノールア
ミンは次のものを含む：
２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、
モノ−、ジ−およびトリ−エタノールアミン、
モノ−、ジ−およびトリ−イソプロパノールアミン、ならびに
ジメチル−、ジエチル−あるいはジブチルエタノールアミン。
モルホリンのような環状アルカノールアミンも使用できると考えられる。
特に適切なアルカノールアミンは次のものを含む：２−アミノ−２−メチル−
１−プロパノール、モノ−エタノールアミン
およびジーエタノールアミン。これらの物質は、頑固なあるいは時間が経過した
汚れに対して改善された洗浄をもたらすと考えられる。これらの物質のうちで、
２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール（ＡＭＰ）が特に好ましい。
本発明の組成物中のアルカノールアミンの典型的なレベルは１〜５重量％の範
囲である。より高いレベルの溶媒は、一部のプラスチック物質を攻撃することが
あるのであまり望ましくない。２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールを１
〜３重量％のレベルで使用することが特に好ましい。
共溶媒：
適当な共溶媒は、飽和および不飽和の線状あるいは分枝炭化水素を含む。好ま
しい物質は次のものを含む：
Ｃ10Ｈ16テルペン、および
Ｃ10−Ｃ16直鎖パラフィン
特に好ましいテルペンはｄ−リモネンを含む。
特に好ましいパラフィンは「Ｓｈｅｌ１ｓｏｌ−Ｔ［商標］」として市販され
ている物質を含む。
共溶媒の典型的なレベルは０．５〜５重量％の範囲である。１〜３重量％のレ
ベルでテルペンを使用することが特に好まし
い。リモネンのようなこれらのテルペン物質の一部はさらに、それらあるいはそ
れらの中に存在する不純物が昆虫忌避性を示すという利点を持つ。本発明者らは
、テルペン物質が１１より低いｐＨでより良好な成績をもたらすと判断した。直
鎖パラフィンは、プラスチックに対してそれほど攻撃性ではないため、テルペン
よりも高いレベルで使用することができる。パラフィンは１１より高いｐＨでよ
りよい効果をもたらすと考えられる。
アルカノールアミン対炭化水素共溶媒の比率は３：１〜１：３の範囲内である
ことが好ましく、３：１〜１：１の比率が特に好ましい。
必要とされる共溶媒のレベルは一般に、通常洗浄組成物中に香料成分として存
在するよりも高いレベルのこの成分の添加を必要とするが、好都合にも、共溶媒
の一部を香料成分として導入することができる。パラフィンは一般に無臭である
が、好ましくはリモネンのような選択されたテルペンが快い柑橘類の匂いを持つ
ようにテルペンを使用する。
研磨剤：
分散し、懸濁している粒子相は本発明に従った組成物の必須成分である。
好ましくは分散懸濁粒子相は、水相に不溶性である粒子研磨剤を含む。その代
わりに、研磨剤が可溶性であり、且つ、水相中での研磨剤の溶解度を越えていて
、その結果固体の研磨剤が組成物中に存在するように過剰に存在してもよい。
専門的な適用のためにはより高い硬度の研磨剤が使用されることもあるが、一
般的な目的の組成物中で使用するための好ましい研磨剤は６未満のモース硬度を
持つ。より低い硬度の物質は一般に与える表面損傷がより少ない。
適当な研磨剤は、粒子ゼオライト、方解石、シリカ、ケイ酸塩、炭酸塩、アル
ミナ、重炭酸塩、ホウ酸塩、硫酸塩、およびポリエチレンのようなポリマー物質
から選択されうる。
研磨剤のための好ましい平均（重量平均）粒子サイズは０．５〜２００ミクロ
ンの範囲内であり、約１０〜１００ミクロンの数値が好ましい。この範囲内で、
良好な洗浄作用と低い基質損傷との間の許容される折り合いが達成される。
研磨剤の好ましいレベルは製品に対して５〜７０重量％の範囲であり、好まし
くは２０〜４０重量％の範囲、最も好ましくは＞３０重量％である。研磨剤のそ
のようなレベルは有効な洗浄と良好なリンス効果をもたらす。
最も好ましい研磨剤は炭酸カルシウム（方解石として）、炭酸カルシウムと炭
酸マグネシウムの混合物（ドロマイトとして）、炭酸水素ナトリウム、硫酸カリ
ウム、ゼオライト、アルミナ、アルミナ水和物、長石、滑石およびシリカである
。
方解石およびドロマイトはその低いコスト、適当な硬度および色のゆえに特に
好ましい。
界面活性剤：
本発明による組成物は、陰イオンおよび非イオン洗浄活性剤の両方から通常選
択される洗浄活性剤を含む。
好適な陰イオン洗浄活性化合物は、分子構造に８〜２２個の炭素原子のアルキ
ル基、およびスルホン酸または硫黄酸エステル基およびそれらの混合物より選択
される基を含む有機硫黄反応生成物の水溶性塩である。
好適な陰イオン洗浄剤の例は、硫酸化アルコールのナトリウムおよびカリウム
塩、特に獣脂またはやし油のグリセリドの還元によって生成する高級アルコール
類の硫酸化によって得られるもの；アルキル基が９〜１５個の炭素原子を含むも
のなどであるアルキルベンゼンスルホン酸のナトリウムおよびカリウム塩；二級
アルカンスルホン酸のナトリウムおよびカリウム塩；
アルキルグリセリルエーテル硫酸エステルのナトリウム塩、特に獣脂およびやし
油由来の高級アルコールのエーテルによるもの；やし油脂肪酸モノグリセリド硫
酸エステルのナトリウム塩；１モルの高級脂肪族アルコールと１〜６モルのエチ
レンオキシドの反応生成物の硫酸エステルのナトリウムおよびカリウム塩；１〜
８単位のエチレンオキシド分子を含みアルキル基が４〜１４個の炭素原子を含む
アルキルフェノールエチレンオキシドエーテル硫酸エステルのナトリウムおよび
カリウム塩；脂肪酸が例えばヤシ油から誘導されるものである脂肪酸をイセチオ
ン酸でエステル化し水酸化ナトリウムで中和した反応生成物、およびそれらの混
合物、である。
好適な水溶性合成陰イオン洗剤活性化合物は、高級アルキルベンゼンスルホン
酸、およびオレフィンスルホン酸および高級アルキルスルホン酸との混合物、お
よび高級脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル、のアルカリ金属（ナトリウムやカ
リウムなど）およびアルカリ土類金属（カルシウムやマグネシウムなど）塩であ
る。最も好ましい陰イオン洗剤活性化合物は、直鎖または分岐鎖のアルキル基に
６〜２０個の炭素原子を含む高級アルキルベンゼンスルホン酸塩などの高級アル
キル芳香族スルホン
酸塩であり、特に例を挙げると、高級アルキルベンゼンスルホン酸、または高級
アルキルトルエン、キシレンまたはフェノールスルホン酸、アルキルナフタレン
スルホン酸、のナトリウム塩、ジアミルナフタレンスルホン酸アンモニウム、お
よびジノニルナフタレンスルホン酸ナトリウムである。
本発明の洗浄剤組成物に使用される合成陰イオン洗剤活性剤の量は、通常は１
〜２５重量％、好ましくは２〜２０重量％、最も好ましくは２〜１５重量％であ
る。
好適な非イオン洗浄活性化合物は、親水性の性質を有するアルキレンオキシド
基と、脂肪族またはアルキル芳香族の性質を有することができる疎水性有機化合
物との縮合によって生成する化合物として広く説明することができる。任意の特
定の疎水性基と縮合する親水性またはポリオキシアルキレン基の長さは容易に調
節可能であり、所望の度合の親水性と疎水性の両因子のバランスを有する水溶性
化合物が得ることができる。
特に例を挙げると、直鎖または分岐鎖のいずれかの構造内に８〜２２個の炭素
原子を有する脂肪族アルコール類とエチレンオキシドとの縮合生成物で、１モル
のやしアルコール当り２〜１５モルのエチレンオキシドを有するやし油エチレン
オキシド
縮合物など；アルキル基が６〜１２個の炭素原子を含み１モルのアルキルフェノ
ール当り５〜２５モルのエチレンオキシドを有するアルキルフェノール類の縮合
物；エチレンジアミンおよびプロピレンオキシドの反応生成物とエチレンオキシ
ドとの縮合物であり、その縮合物が４０〜８０重量％のポリオキシエチレン基を
含み５，０００〜１１，０００の分子量をもつもの；Ｒ3ＮＯの構造の三級アミ
ンオキシド（式中、Ｒ基の１つは、８〜１８個の炭素原子を有するアルキル基で
あり、その他はそれぞれ、メチル、エチル、またはヒドロキシエチル基である）
、例えばジメチルドデシルアミンオキシド；Ｒ3ＰＯの構造の三級ホスフィンオ
キシド類（式中、Ｒ基の１つは１０〜１８個の炭素原子を有するアルキル基であ
り、その他はそれぞれ、１〜３個の炭素原子を有するアルキルまたはヒドロキシ
アルキル基である）、例えばジメチルドデシルホスフィンオキシド；およびＲ2
ＳＯの構造のジアルキルスルホキシド類（式中、一方のＲ基は１０〜１８個の炭
素原子を有するアルキル基であり、他方はメチルまたはエチルである）、例えば
メチルテトラデシルスルホキシド；脂肪酸アルキロールアミド類；脂肪酸アルキ
ロールアミド類およびアルキルメルカプタン類のアルキレンオキシド
縮合物、などが挙げられる。
本発明の洗浄剤組成物に使用される非イオン洗浄活性剤量は、通常は０．５〜
１５重量％、好ましくは１〜１０重量％、最も好ましくは１〜８重量％である。
好ましくは、組成物が含む陰イオンおよび非イオン界面活性剤の両方の量は、
構造化液体洗浄剤組成物を得られるだけの電解質量、すなわち別の増粘剤を必要
としないでそれ自身で濃厚になる電解質量を意図して選択する。
陰イオン界面活性剤と非イオン界面活性剤の重量比は変動させることができ、
それらの性質に依存するが、好ましくは１：９から９：１の範囲、理想的には１
：４から４：１の範囲である。
本発明のこの態様を説明する好ましい実施形態によると、本発明の洗浄剤組成
物は、８〜２２個の炭素原子を有するアルキル基を分子中に含む水溶性の合成陰
イオン硫酸化またはスルホン化洗浄剤塩２〜１０重量％と、分子中に８〜２２個
の炭素原子を有する脂肪族アルコールとエチレンオキシドとの縮合物で脂肪族ア
ルコール１モル当り２〜１５モルのエチレンオキシドを有する縮合物から誘導さ
れるアルキレンオキシ化非イオン洗
浄剤０．５〜８重量％とを含む。
また本発明による組成物中には、任意に、両性、陽イオン、双性イオン洗浄活
性剤を含むことができる。
任意に使用することができる好適な両性洗浄活性化合物としては、８〜１８個
の炭素原子を有するアルキル基と陰イオン水溶性基で置換した脂肪族基を含む脂
肪族二級および三級アミン類の誘導体、例えば３−ドデシルアミノプロピオン酸
ナトリウム、３−ドデシルアミノプロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−２−ヒド
ロキシドデシル−Ｎ−メチルタウリンナトリウムが挙げられる。
好適な陽イオン洗浄活性化合物は、８〜１８個の炭素原子の脂肪族基を有する
四級アンモニウム塩、例えば臭化セチルトリメチルアンモニウムが挙げられる。
任意に使用することができる好適な双性イオン洗浄活性化合物は、８〜１８個
の炭素原子を有する脂肪族基と陰イオン水溶性基で置換された脂肪族基を有する
脂肪族四級アンモニウム、スルホニウム、およびホスホニウム化合物の誘導体で
あり、例えば３−（Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ヘキサデシルアンモニウム）プロパ
ン−１−スルホン酸ベタイン、３−（ドデシルメチルス
ルホニウム）プロパン−１−スルホン酸ベタイン、３−（セチルメチルホスホニ
ウム）エタンスルホン酸ベタインが挙げられる。
好適な洗浄活性化合物のさらなる例としては、著名な教科書であるシュワルツ
、ペリー著『界面活性剤』第１巻（”Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｔｉｖｅ Ａｇｅｎ
ｔｓ”，Ｖｏｌｕｍｅ Ｉｂｙ Ｓｃｈｗａｒｔｚ ａｎｄ Ｐｅｒｒｙ）やシ
ュワルツ、ペリー、バーチ著『界面活性剤と洗浄剤』第２巻（”Ｓｕｒｆａｃｅ
Ａｃｔｉｖｅ Ａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ”，Ｖｏｌｕｍ
ｅ ＩＩ ｂｙ Ｓｃｈｗａｒｔｚ，Ｐｅｒｒｙ ａｎｄ Ｂｅｒｃｈ）に記載
される界面活性剤として使用される一般的な化合物が挙げられる。
本発明の洗浄剤組成物に使用される全洗浄活性化合物量は、通常は１．５〜３
０重量％、好ましくは２〜１５重量％である。
本発明の組成物は研磨剤粒子を安定に懸濁させることができるので、使用前に
沈降した粒子を再懸濁および再分散させるために、消費者が例えば振り混ぜるな
どして組成物を撹拌する必要がない、ということが本発明の重要な特徴である。
この目的のために、組成物は、２００Ｃにおける粘度が剪断速度
３×１０-5／秒で５０００Ｐａｓとなるべきである（ストークスの法則より決定
）。この粘度は、２００Ｃで静置した場合に１ヶ月で１ｃｍを超える粒子の沈降
が起こらないようにするためには一般に十分である。
本発明による組成物は、使用時に必要であればビンまたは他の容器から容易に
注ぐことができるように、流動性も十分保持するべきである。このために、好ま
しくは組成物は、回転粘度計を使用して測定する２００Ｃにおける粘度が、剪断
速度２１／秒で１０Ｐａｓを超えないものであるべきである。好ましくは、２０
０Ｃにおける粘度が剪断速度２１／秒で５Ｐａｓ以下である。
これらの基準に合った好適なレオロジー的条件は、陰イオンおよび非イオン洗
浄剤を適切に選択して必要な懸濁性質を有する構造化液体を得る、および／また
は当技術分野において公知の適量の別の構造化剤を使用する、ことによって得ら
れる。
ポリマー類：
本発明による組成物は、不溶性塩の組成物中での均一分散を維持するための適
切なレオロジー的性質を得たり、塩の分散と組成物の洗浄する硬質の表面への組
成物の付着を促進したりす
るために、高分子量構造化剤を任意に含むことができる。
好ましい構造化剤としては、カルボキシメチルセルロースや他の化学修飾した
セルロース材料、キサンタンガムなどの多糖類や、米国特許第４，３２９，４４
８号において言及されるＢｉｏｐｏｌｙｍｅｒ ＰＳ８７などの他の非凝集性構
造化剤が挙げられる。多官能性物質で架橋させたアクリル酸ポリマーなどのある
種のポリマー、例えばＣＡＲＢＯＰＯＬ(登録商標)、も構造化剤として使用する
ことができる。本発明による組成物に使用する場合のこのような構造化剤の量は
、組成物のわずか０．００１重量％でもよく、好ましくは組成物の少なくとも０
．０１重量％である。
一般に、本発明の組成物は、０．１〜１％のポリマーを任意に含むことができ
る。
任意の成分：
本発明による組成物は、洗浄性能を補助する他の成分を含むことができる。例
えば、組成物は、本明細書で前述した特有の水溶性塩以外に洗浄剤用ビルダーを
含むことができ、例えばニトリロ三酢酸塩、ポリカルボン酸塩、クエン酸塩、ジ
カルボン酸塩、水溶性リン酸塩、特にポリリン酸塩、オルトリン酸塩およびポリ
リン酸塩の混合物、ゼオライト、およびそれらの混合
物などのビルダーを含むことができる。これらのビルダーは、水に溶解する量を
超えて存在する場合には研磨剤としても機能することができる。一般に、特有の
水溶性塩以外に使用するビルダーは、組成物の０．１〜２５重量％となることが
好ましい。
エチレンジアミン四酢酸塩、アミノ−ポリホスホン酸塩（ＤＥＱＵＥＳＴ（登
録商標））、リン酸塩などの金属イオン封鎖剤、および他の多様な多官能性有機
酸および塩を、研磨材料と相容性であれば、任意に使用することができる。
本発明による組成物の他の任意成分としては、起泡抑制物質があり、使用時に
過剰の泡が発生する傾向にある本発明による組成物に使用することができる。起
泡抑制物質の一例はセッケンである。セッケンは脂肪酸の塩であり、約８〜約２
４個の炭素原子、好ましくは約１０〜約２０個の炭素原子を含む高級脂肪酸のナ
トリウム塩、カリウム塩、およびアンモニウム塩などのアルカリ金属セッケンが
含まれる。やし油および落花生油から誘導される脂肪酸混合物のナトリウム塩、
カリウム塩、およびモノ−、ジ−、およびトリエタノールアミン塩が特に有用で
ある。使用する際は、セッケン量は組成物の少なくとも０．００５重量％、好ま
しくは０．５重量％〜２重量％とすることができる。Ｐｒｉｆａｃ ７９０１（
商標）などの脂肪酸セッケンは、
この目的に適していることが分かっている。
起泡抑制物質の別の例は、シリカまたはシリコーン油である。本発明による炭
化水素類が十分に多量に存在する場合、これらの炭化水素類自身によって必要と
なる消泡活性の一部または全部が得られることもある。
本発明による組成物は、既に述べた成分以外に、着色料、漂白剤、蛍光増白剤
、汚れの懸濁剤、洗浄剤用酵素、相溶性漂白剤（特に次亜ハロゲン酸塩）、ゲル
調節剤、さらに凍解安定剤、殺菌剤、防腐剤（例えば、１，２−ベンズイソチア
ゾリン−３−オン）、ヒドロトロープ、などの他の多様な任意成分を含むことも
できる。
ｐＨ：
本発明による組成物は、アルカリ性ｐＨ範囲に配合され、研磨剤として方解石
を使用する場合には、一般に９.５〜１２.５、好ましくは約１０〜１２のｐＨ値
を有する。他の研磨剤を使用する場合は、より低いｐＨにすることができるが、
一般にｐＨは（アルカノールアミンのｐＫa）−１の値よりも大きくなるべきで
あり、アルカノールアミンのＰＫaより大きいことが好ましい。
水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウムなどのアルカリ化剤や、
塩酸などの酸を、所望のｐＨに調整あるいは緩衝するために使用することができ
る。
好ましい組成物：
本発明による好ましい組成物は、
ａ）１〜５重量％のアルカリ金属炭酸塩および／または炭酸水素塩、
ｂ）１〜５重量％のアルキルベンゼンスルホン酸塩、
ｃ）０〜１重量％の脂肪酸、
ｄ）１〜３重量％のエトキシ化アルコール非イオン界面活性剤，
ｅ）０．５〜２．０重量％の、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、モ
ノ−、ジ−、およびトリ−エタノールアミン、モノ−、ジ−、およびトリ−イソ
プロパノールアミン、ジメチル−、ジエチル−またはジブチル−エタノールアミ
ン、およびそれらの混合物を含む群より選択されるアルカノールアミン類、
ｆ）０．５〜２．０重量％の、Ｃ10Ｈ16テルペン類、Ｃ10〜Ｃ16直鎖パラフィン
類およびそれらの混合物を含む群より選択される共溶媒、
ｇ）２０〜４０％の、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ゼオライト、アルミ
ナ、アルミナ水和物、長石、タルク、シリカ、およびそれらの混合物を含む群よ
り選択される研磨剤、
ｈ）０．１〜２重量％のテルペン以外の芳香成分、および微量成分および水を含
む残りの成分を含む。
本発明をさらに理解できるようにするため、以下の非限定的な実施例と関連さ
せて本発明を説明する。実施例
以下のベース組成物（表１に示す）を使用し、表２に示すように溶媒の量を変
化させて、実施例を行った。組成物は、表１に示すようにｐＨ１０およびｐＨ１
２として調製した。 表１の組成物を使用し、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）２％、またはア
ミノメチルプロパノール１％＋共溶媒、のいずれかである全量２％の溶剤を加え
て以下の表２の実施例を作製した。組成物の安定性を、周囲条件および種々の温
度変化条件で５週間貯蔵することで調べた。
温度変化条件は、
ａ）−１５℃未満で１６時間と２５℃で８時間の凍解サイクルを１０サイクル、
ｂ）４℃で５週間貯蔵、
ｃ）３７℃で５週間貯蔵、とした。
表２の「ｔｅｍｐ」の項目の欄の不合格と記載されたものは、少なくとも１つ
の温度変化条件で貯蔵した場合に、試料が２つ以上相分離したことを示す。表２
の「ａｍｂｉ」の項目の欄の不合格と記載されたものは、周囲条件で貯蔵した場
合に、試料が２つ以上相分離したことを示す。Ｓｈｅｌｌｓｏｌ Ｔとリモネン
を使用した例は本発明の実施形態であり、ベンジルアルコール、Ｂｕｔｙｌ Ｄ
ｉｇｏｌ（商標）（ジエチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル）およびＤｏ
ｗａｎｏｌ ＰｎＢ（商標）（プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル）
を
使用した例は本発明の実施においてすべての溶剤が適しているわけではないこと
を示す比較例である。
上記の結果から、ｐＨ１０で安定な組成物を、パラフィン（Ｓｈｅｌｌｓｏｌ
Ｔ）を共溶媒として使用すると作製できることが分かる。これより高いｐＨで
は、リモネンが共溶媒として
効果的であった。ＳｈｅｌｌＳｏＬ−Ｔとリモネンを使用した組成物は両者とも
、頑固な汚れに対して許容できる洗浄性能を示した。Ｄｏｗａｎｏｌ ＰｎＢ、
ベンジルアルコール、Ｂｕｔｙｌ Ｄｉｇｏｌを使用して調製した組成物は、す
べて周囲温度以外の１つ以上の貯蔵条件で不安定となった。
【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項
【提出日】平成１１年４月２１日（１９９９．４．２１）
【補正内容】
界面活性剤を懸濁系として用いる市販の実用液体研磨洗浄剤では、懸濁系が、
使用の際に遭遇するあらゆる温度範囲にわたって安定であり、製品の貯蔵寿命の
間研磨粒子を懸濁した状態に維持するのに十分な程度に懸濁していることが重要
である。
組成物のイオン強度が温度と共に変化する場合には、特定の添加剤が、製品が接
触する温度範囲の一部で粒子の懸濁を停止させるような方法で懸濁系を撹乱する
かどうかを予測することが困難である。ＷＯ９４／０５７５７（Ｕｎｉｌｖｅｒ
）は、硫酸第一級アルコールとアルコキシル化非イオン性界面活性剤の混合物を
特定の比率範囲で含む安定な液体研磨洗浄剤に関するものであり、かかる組成物
もやはり１〜２０％の溶解電解質を含む。
液体研磨洗浄剤に関してのさらなる問題は、洗い流すことが難しい残留物を残
す傾向があることである。これは不溶性研磨剤を含む組成物に関して顕著な問題
である。それ故、洗浄効果を改善し、研磨剤による表面損傷の可能性を低減する
ように、研磨剤の全体的レベルを低下させるような方法で研磨剤組成物の性能を
改善する必要がある。
溶媒は非研磨洗浄組成物の周知の成分である。洗浄組成物に
おいて使用される典型的な溶媒は、アルコール（エタノールなど）、エーテル（
Ｂｕｔｙｌ Ｃｅｌｌｏｓｏｌｖｅ［商標］など）、パラフィン（Ｉｓｏｐａｒ
Ｌ［商標］など）、エステルおよびテルペン（ｄ−リモネンなど）を含む。も
うひとつの既知の分類の溶媒はアルカノールアミンである。ＥＰ５０３２１９Ａ
（Ｐ＆Ｇ）は０．１〜１０％のアルカノールアミンを含む洗浄組成物に関するも
のである。
ＥＰ−Ａ−０２６９１７８（Ｐ＆Ｇ）から、液体研磨洗浄剤において炭化水素
溶媒を使用することは既知である。これらの溶媒を任意に、水溶性の低いアルコ
ールおよびジオールのような極性溶媒、ならびに高度に水溶性であるジエチレン
グリコールエーテル型溶媒と組合わせる。
本発明者らは、液体研磨洗浄剤中にアルカノールアミン溶媒を有意なレベルで
包含することは難しいと判断した。アルカノールアミンは電解質と溶媒の両方の
特性を持ち、懸濁相の構造に影響を及ぼしうると考えられる。その結果として、
貯蔵中あるいは輸送中に組成物の温度が変化すると、組成物中の有効電解質のレ
ベルも変化し、これは懸濁相の分解と研磨粒子の沈殿、あるいはさらに組成物の
相分離をもたらしうる。
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(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ
，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，
ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，Ｌ
Ｓ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ
，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ
，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，
ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，Ｅ
Ｅ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ
，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，
ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，Ｍ
Ｄ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ
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ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，Ｕ
Ｚ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ