JP2001518392A - ガス状反応物から液体生成物、場合によりガス状生成物を製造する方法 - Google Patents

ガス状反応物から液体生成物、場合によりガス状生成物を製造する方法

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Abstract

(57)【要約】 本発明の方法は、液体中に懸濁した粒子のスラリー床中へガス状反応物を供給することを含む。ガス状反応物（１３）は、スラリー床（１６）中で反応し、液体生成物、及び場合によりガス状生成物を形成する。液体生成物は、懸濁液体と一緒に、スラリー床（１６）の液体相を形成する。ガス状生成物及び未反応ガス状反応物は、スラリー床から放出され、上昇して、取り込まれた固体粒子及び液体相と共にガス相としてスラリー床（１６）上の頂部空間（１７）中へ入る。ガス相を蒸留にかけ、場合により頂部空間内で洗浄にかけ、取り込まれた固体粒子及び液体相を全てガス相から分離する。分離された取り込み固体粒子、及び場合により液体相は、スラリー床へ戻す。処理されたガス相は頂部空間から取り出す（４４、４６）。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、ガス状反応物から液体生成物、場合によりガス状生成物を製造する
ための方法に関する。本発明は、ガス状反応物から液体生成物、場合によりガス
状生成物を製造するための装置にも関する。
【０００２】 本発明の第一の態様によれば、ガス状反応物から液体生成物、場合によりガス
状生成物を製造する方法において、 懸濁液体中に懸濁した固体粒子のスラリー床中に低いレベルでガス状反応物を
供給し、 前記ガス状反応物が前記スラリー床を通って上昇する間に反応させ、それによ
り液体生成物、場合によりガス状生成物を形成し、然も、前記ガス状反応物とガ
ス状生成物とは前記固体粒子を前記懸濁液体中に懸濁状態に維持するのに役立ち
、前記液体生成物は、前記懸濁液体と一緒になって前記スラリー床の液相を形成
し、 前記スラリー床から液相を取り出して前記スラリー床を希望のレベルに維持し
、 ガス状生成物及び未反応ガス状反応物を、前記スラリー床から離脱させ、取り
込まれた固体粒子及び液相と共に、前記スラリー床の上の頂部空間中へガス相と
して上昇させ、 前記ガス相を蒸留にかけて処理し、場合により前記頂部空間中で洗浄し、それ
により取り込まれた固体粒子及び液相を前記ガス相から分離し、 分離された取り込み固体粒子、場合により液相を前記スラリー床へ戻し、そし
て 前記頂部空間から処理されたガス相を取り出す、 ことからなる製造方法が与えられる。
【０００３】 本方法は、少なくとも原理的には一層広い用途を有すると考えられるが、固体
粒子は通常ガス状反応物を液体生成物、適用可能な場合、ガス状生成物にする反
応に対し触媒作用を及ぼす触媒粒子であり、懸濁液体は、通常液体生成物である
が、必ずしもその必要はなく、スラリー床及び頂部空間が、通常スラリー反応器
又はバブル塔中に与えられていることが考えられる。
【０００４】 スラリー床はスラリー反応器又はバブル塔の反応領域内に入っているか、又は
与えられており、蒸留はフリーボード領域によりスラリー床から隔てられたその
蒸留領域中で行われる。換言すれば、頂部空間は反応領域のすぐ上のフリーボー
ド領域と、そのフリーボード領域の上の蒸留領域とを有する。
【０００５】 従って、スラリー反応器又はバブル塔は、三相系、即ち、固体触媒粒子、液体
生成物、及びガス状反応物、及び場合によりガス状生成物を用いている。
【０００６】 更に、原理的には本方法は一層広い用途を有することができると考えられるが
、本方法は、ガス状反応物がスラリー床中で触媒により反応して液体炭化水素生
成物（一種又は多種）及び、場合によりガス状炭化水素生成物（一種又は多種）
を形成することができる炭化水素合成で特に用途を有するものと考えられる。特
に、炭化水素合成はフィッシャー・トロプシュ合成であり、ガス状反応物は主に
一酸化炭素及び水素を含む合成ガス流の形をしており、液体及びガス状の両方の
炭化水素生成物が生成する。
【０００７】 触媒粒子の触媒は、鉄系触媒、コバルト系触媒、又は他のどのようなフィッシ
ャー・トロプシュ触媒でも、どのような希望のフィッシャー・トロプシュ触媒で
もよい。触媒粒子は希望の粒径、例えば、３００μ以下の粒子で、それら粒子の
５重量％が２２μより小さいものでもよい。
【０００８】 スラリー反応器又はバブル塔は、このようにフィッシャー・トロプシュ合成反
応に伴われる通常上昇させた圧力及び温度条件、例えば、１０〜５０バールの範
囲の予め定められた作動圧力、１６０℃〜２８０℃の範囲が、又は一層低い沸点
の生成物を製造するためには一層高い温度までの範囲の予め定められた温度に維
持される。
【０００９】 スラリー床中の触媒粒子は、合成ガス流及び形成されたガス状炭化水素生成物
により、それらがスラリー床を通過し、即ち、スラリー床を気泡となって通過す
ることにより生じた撹乱により懸濁状態に維持される。場合により、触媒粒子を
懸濁状態に維持するのを助けるため、例えばドラフト管又は流下ダクトのような
混合装置を用いることによりスラリー床を混合してもよい。従って、スラリー床
を通るガス速度は、スラリー床を撹乱又は懸濁状態に維持するのに充分大きいも
のである。ドラフト管又は流下ダクトは、スラリー床全体に一層均一な固体の懸
濁を確実に与えるのに用いることができる。
【００１０】 頂部空間に入るガス相は、通常、非凝縮性未反応ガス状反応物、非凝縮性ガス
状炭化水素留分、取り込まれた固体触媒粒子、取り込まれた液体炭化水素生成物
、気化した液体炭化水素留分、凝縮性ガス状炭化水素留分、及び水蒸気を含むか
、又はそれらからなる。取り込まれた固体触媒粒子は、通常スラリー液滴の形の
取り込まれた液体生成物を伴っている。蒸留領域から取り出される処理済みガス
相は、通常、非凝縮性未反応ガス状反応物、非凝縮性ガス状炭化水素留分、凝縮
性ガス状炭化水素留分、及び水蒸気を含むか、又はそれらからなる。
【００１１】 このように、ガス状炭化水素生成物は、非凝縮性ガス状炭化水素留分、気化し
た液体炭化水素留分、凝縮性ガス状炭化水素留分、及び水蒸気を含む。
【００１２】 次にその方法は、冷却段階で、処理済みガス又は蒸気相を、それが蒸留領域を
出た後に冷却し、それによって凝縮性ガス状炭化水素留分の少なくとも幾らかを
凝縮し、この凝縮した炭化水素生成物の少なくとも幾らかを蒸留のための還流物
として蒸留領域へ戻すことを含んでいる。ここで、処理したガス又は蒸気相は、
典型的には３０℃〜５０℃、典型的には約４０℃に、できるだけ反応器圧力に実
際的に近い圧力で冷却する。
【００１３】 「非凝縮性ガス状炭化水素留分」とは、反応器中に行き亙っている温度及び圧
力条件でガス又は蒸気状態になっていて、冷却段階で行き亙っている温度及び圧
力条件では凝縮しない炭化水素生成物を意味する。一方、「凝縮性ガス状炭化水
素留分」とは、反応器中に行き亙っている温度及び圧力条件でガス状又は蒸気状
態になっていて、冷却段階で行き亙っている温度及び圧力条件で凝縮し、少なく
とも一部分が還流物として蒸留領域へ戻される炭化水素生成物を意味する。「気
化液体炭化水素留分」とは、反応器の反応領域中に行き亙っている温度及び圧力
条件で蒸気状態になっており、蒸留領域からのガス相出口で行き亙っている温度
及び圧力条件で液体状態になっている炭化水素生成物を意味する。従って、気化
液体炭化水素留分は、その分子量に関し、凝縮性ガス状炭化水素留分よりも重い
ものである。気化液体炭化水素留分は、蒸留領域の出口条件で液体か又は凝縮状
態になっているので、それは蒸留領域中の還流物の一部分を構成する。蒸留領域
の底を出る凝縮した気化液体炭化水素留分も、「液体炭化水素留分」として言及
する。
【００１４】 「液体炭化水素生成物」とは、反応器に行き亙っている温度及び圧力条件で液
体状になっており、大気圧及び周囲温度に近い温度で固体又はゲル状になってい
る生成物を意味する。従って、典型的には、液体炭化水素生成物は、２０以上の
炭素原子を有する炭化水素分子からなり、従って、ワックスを含む。
【００１５】 蒸留は、スラリー反応器の蒸留領域の少なくとも一つの蒸留段階を通って、還
流凝縮炭化水素生成物及び液体炭化水素留分に対し向流状にガス相を上昇させる
ことにより行われる。
【００１６】 蒸留段階は、少なくとも原理的には、バルブ蒸留トレイ、篩蒸留トレイ、その
他の別の蒸留トレイ、無作為的に充填された蒸留媒体、構造的に充填された蒸留
媒体等のような蒸留目的で用いられる適当なガス／液体接触手段を具えているが
、固定バルブ蒸留トレイが好ましい。
【００１７】 一つより多くのそのような段階、例えば、少なくとも二つの垂直方向に間隔を
開けた段階を用いるのが好ましい。しかし、蒸留トレイ又は媒体層を夫々有する
３〜５のそのような段階が好ましい。
【００１８】 一番下の蒸留段階の下に収集トレイを配置し、その収集トレイに収集された液
体を、例えば、導管によりスラリー床へ循環させるか、且つ（又は）反応器から
取り出すか、且つ（又は）洗浄段階の洗浄液として用いるために洗浄段階の上へ
循環させてもよい。この液体炭化水素留分は、主に気化液体炭化水素留分の凝縮
により形成された液体からなる。従って、スラリー床へ戻される液体と、フリー
ボード領域でのガス相との接触はなく、即ち、フリーボード領域でガス相からの
含有触媒粒子又はスラリー液滴の洗浄は行われない。取り出される液体は、もし
望むならば、反応器から取り出された他の生成物のいずれと混合してもよい。
【００１９】 固定バルブ蒸留トレイ（単数又は複数）を通る見かけのガス速度は、０．２ｍ
／秒〜２．０ｍ／秒の範囲、好ましくは約１ｍ／秒である。スラリー床を通る見
かけのガス速度は、通常蒸留領域を通る見かけのガス速度よりも小さく、従って
、有効反応器直径、又は断面の大きさは、反応領域よりも蒸留領域の方が小さい
。
【００２０】 この方法にはガス相の洗浄が含まれていてもよい。ガス相の洗浄はフリーボー
ド領域と蒸留領域との間の洗浄領域で洗浄液体により行うことができる。その場
合、頂部空間はフリーボード領域、洗浄領域、及び蒸留領域を有する。そのよう
な洗浄は、取り込まれた触媒粒子をガス相から分離する働きをする。洗浄は、洗
浄領域中の洗浄段階を通って、洗浄液体に対し向流状にガス相を上昇させること
により行うことができる。
【００２１】 洗浄液体は液体炭化水素生成物でもよい。従って、この方法は、スラリー床の
一部分を固体分離にかけて液体炭化水素生成物から触媒粒子の大部分を除去し、
それによって液体炭化水素生成物を生成させ、それを次に洗浄液体として用いる
ことを含んでいてもよい。
【００２２】 洗浄液体の組成及び温度は、スラリー床懸濁液体のものと同じなので、蒸留領
域からの液体を洗浄領域へ入れない限り、洗浄領域では蒸留又は分流は起きない
。従って、第一の態様として、取り込まれた触媒粒子又はスラリー液滴の洗浄と
蒸留との両方を洗浄領域で行うことができ、その場合蒸留領域からの液体を洗浄
液体の外に洗浄領域へ入れることができる。しかし、第二の好ましい態様として
、蒸留領域からの液体は洗浄領域中へ入れず、触媒粒子又はスラリー液滴の洗浄
液体による洗浄だけが洗浄領域で行われるようにする。この態様では、蒸留領域
からの液体は、前に述べたように、蒸留領域収集トレイに収集し、スラリー床へ
戻すか、且つ（又は）反応器から取り出す。
【００２３】 洗浄段階は少なくとも一つの洗浄トレイ、その洗浄トレイの下の収集トレイを
有し、洗浄液体は洗浄領域中、又は洗浄トレイの上の段階中へ導入し、洗浄液体
及び固体は洗浄段階からスラリー床へ、フリーボード領域でガス相との接触を行
うことなく、例えば、洗浄段階収集トレイからスラリー床へ導く導管により送る
。洗浄段階は一つより多くの、例えば、２又は３の垂直方向に間隔を開けた洗浄
トレイを有するのが好ましい。洗浄トレイは固定バルブトレイでもよい。
【００２４】 第二の態様として、固体触媒粒子と還流液体、即ち還流された凝縮炭化水素生
成物と、液体炭化水素留分との間の接触を回避する。固体触媒粒子と還流液体と
の接触は、或る場合には触媒粒子の破壊及び（又は）触媒活性度の低下をもたら
すことが全く思いがけなく見出された。換言すれば、そのような接触は、或る場
合には触媒粒子の望ましい性質に有害な影響を与える。洗浄段階を使用すること
により、この問題を解消するか、又は少なくとも減少させると共に、蒸留領域の
利点を維持し、その主たる目的はガス相のガス及び蒸気が蒸留領域を出る前に、
ガス相から液体炭化水素生成物及び液体炭化水素留分の殆どを除去することにあ
る。
【００２５】 本発明の第二の態様によれば、ガス状反応物から液体及び、場合によりガス状
生成物を製造するための装置において、 使用中、懸濁液体中に懸濁された固体粒子のスラリー床の入った反応領域及び
前記反応領域の上の蒸留領域を有する反応容器、 前記容器中の前記反応領域内の低いレベルにある、ガス状反応物を前記容器に
導入するためのガス入口、 前記容器の前記蒸留領域中の、未反応ガス状反応物、存在する場合の、前記容
器からの蒸気生成物からなるガス相を取り出すためのガス出口、 前記容器中の前記反応領域内にある、前記容器から液体生成物を取り出すため
の液体出口、 場合により、前記蒸留領域より下に位置する洗浄領域中の洗浄段階、及び 使用中、前記ガス出口を通って前記蒸留領域を出る前にガス相を蒸留にかける
、前記蒸留領域中の蒸留段階、 を具えた製造装置が与えられる。
【００２６】 装置は、作動上第一導管により容器のガス出口に接続された冷却段階、及び前
記冷却段階からの凝縮生成物を還流物として蒸留段階へ戻すための、前記冷却段
階から前記蒸留段階へ戻す第二導管を有する。
【００２７】 蒸留段階は前に述べた通りである。同じく前に述べたように、複数の蒸留段階
が蒸留領域中に与えられており、その領域は、前に述べたように、フリーボード
領域、即ち、蒸留又は洗浄トレイのようなガス／液体接触手段を持たないフリー
ボード領域により反応領域から隔てられている。
【００２８】 装置は、洗浄段階を有し、前記洗浄段階はフリーボード領域と蒸留領域との間
に位置する。洗浄段階は前に述べた通りである。
【００２９】 本発明を、次に例として概略的図面を参照して記述する。
【００３０】 図１に関し、参照番号１０は、本発明の第一の態様による、ガス状反応物から
液体及びガス状又は蒸気生成物を生成させるための装置の一部分を形成する実験
パイロットプラントスラリー反応器を全体的に示している。
【００３１】 反応器１０は、円筒状反応容器１２を有し、それは、その反応領域１４中に液
体炭化水素生成物中に懸濁したフィッシャー・トロプシュ触媒粒子、典型的には
、鉄又はコバルトを主成分とする触媒の入ったスラリー床１６を有する。容器１
２には、低いレベルの所に、即ちスラリー床１６の底の所にガス入口１３及びス
ラリー床１６からスラリーを取り出すためのスラリー出口１５が配備されている
。
【００３２】 容器１２は、全体的に参照番号１８によって示されている蒸留領域を、スラリ
ー床１６の上の容器頂部空間中に有する。反応領域１４又はスラリー床１６と、
蒸留領域１８との間にフリーボード領域１７が与えられている。従って、頂部空
間はフリーボード領域１７及び蒸留領域１８を有する。蒸留領域１８には、五つ
の固定バルブ蒸留トレイ２０、２２、２４、２６及び２８が取付けられており、
トレイ２８が一番上にある。一番下のトレイ２０の下には、煙突状収集トレイ３
０が配置されている。トレイ３０には、溜め又は井戸状穴３２が与えられており
、そこから導管３４が出ている。導管３４は、このように下方へ伸び、その下端
３５はスラリー床１６の液面３６より下に位置し、例えば、通常のスラリー床液
面より約２００ｍｍ下に位置する。スラリー床液面の最高レベルは、溜め３２の
下端の下約１ｍの所に制御されている。トレイ２０〜３０は、容器１２の内側に
取付けられたブランケット４０に固定された支持足３８によって支えられている
。
【００３３】 容器１２の直径は、その蒸留領域１８中では約８７０ｍｍであるが、蒸留領域
１８の長さは約８．４ｍであり、隣合ったトレイの間の間隔は約４６０ｍｍであ
る。
【００３４】 容器１２の上端は、ガス出口開口４４、４６を有するドーム型蓋４２で閉ざさ
れている。ガス出口開口４４を通って還流導管４８が突き抜けており、還流導管
４８は一番上のトレイ２８の上で終わっている。導管４８の放出端部には、垂直
分配パイプ（図示されていない）が配備されており、それは約４５０ｍｍの長さ
をもち、その長手方向に沿って複数の垂直に間隔を開けた出口開口が開けられて
おり、夫々約８ｍｍの直径を有する。好ましくは１０のそのような開口、一層好
ましくは１５の開口が与えられている。
【００３５】 ガス出口４６を通ってポンプ経由導管５０が突き抜けており、トレイ２４の上
で終わっている。導管５０の放出端部には、同様に、直立分配パイプが与えられ
ており、その長手方向に沿って垂直方向に等間隔の複数の８ｍｍ直径の穴が開け
られている。好ましくは１０のそのような穴、一層好ましくは１５の穴が開けら
れている。
【００３６】 下に記載する試験操作中、反応器１０は、ガス入口１３を通って反応器の底へ
供給された合成ガスからガス状及び液体炭化水素生成物を生ずるように操作され
、合成ガスは一酸化炭素及び水素を含んでいた。このようにして合成ガスを連続
的にスラリー床１６の底に供給すると共に、反応器を一定の触媒スラリー床液面
を維持するように操作した。反応領域１４中の条件は表１に与えてある通りであ
り、典型的には、温度はスラリー床の中又はその周りに配置された冷却用コイル
によって調節した。
【００３７】 非凝縮性未反応ガス状反応物、水蒸気、非凝縮性ガス状炭化水素留分、凝縮性
ガス状炭化水素留分、気化した液体炭化水素留分、ガス状又は蒸気成分及び固体
触媒粒子を取り込み、ガス状又は蒸気成分も取り込んだ炭化水素生成物からなる
ガス相が、スラリー床からフリーボード領域１７を通り、蒸留領域１８へ送られ
た。フリーボード領域１７では、ガス相と液体との接触は起きず、従って、フリ
ーボード領域１７での触媒粒子及び取り込まれた液体のガス相からの洗浄は行わ
れない。蒸留領域１８では、表１に特定化したような条件で、導管４８、５０に
夫々沿って入る還流及び（又は）ポンプ経由流によってガス相を蒸留にかける。
この蒸留は、取り込まれた触媒粒子及び取り込まれた液体炭化水素生成物の実質
的に全てをガス相から除去する働きをし、ガス相から液体炭化水素留分を蒸留す
る働きもし、その留分はガス出口４４、４６の所で行き亙っている温度及び圧力
条件で液体状になっている。
【００３８】 ガス出口４４、４６を通って出る処理済みガス相を、単一段階の冷却／凝縮に
かけ、それにより凝縮性炭化水素留分が凝縮し、この凝縮物を還流物として導管
４８に沿って、且つ（又は）還流物として導管５０に沿って反応器へ戻した。取
り込まれた固体を洗浄により除去する効果性を示すための別の試験では、洗浄用
液体として液体炭化水素生成物を導管５０に沿って導入した。
【００３９】 蒸留領域１８中の容器１２の直径は、蒸留領域１８を通る見かけのガス速度が
通常０．２ｍ／秒より大きくなるような直径である。煙突状収集トレイ３０は、
汚物処理用（dirty service）のための標準設計のものであり、トレイ２０から ２８へ下方へ流れる液体生成物を蓄積する働きをする。
【００４０】 要約すると、パイロットプラント反応器１０は、それで行なった試験操作中、
次のパラメーターを持っていた。
【００４１】
【表１】
【００４２】 パイロットプラント試験操作中、炭化水素生成物凝縮物を一番上のトレイ２８
又はトレイ２４へ供給した。トレイ２４へ送った場合、これはトレイ２８へ送っ
た場合と同様に効果的であった。下に記載する例１及び２では、炭化水素生成物
凝縮物は一番上のトレイ２８にだけ供給した。トレイ２０〜２８は、還流炭化水
素凝縮物から液体炭化水素生成物及び凝縮ガス状炭化水素生成物、即ち、液体炭
化水素留分をストリップする働きをし、その結果反応器の頂部から取り出された
処理済みガス相又は留分は一層軽いものであり、反応器１０の頂部から、ガス相
と共に触媒、取り込まれた液体炭化水素生成物、及び軽い液体炭化水素生成物が
持ち込まれるのを防ぐ働きもする。炭化水素凝縮物は一定して反応器の頂部で種
々の速度でポンプによりトレイ２０〜２８を洗浄するように送られた。トレイ２
８の温度は約１８０℃の温度に制御され、夫々下の方向へ連続するトレイは増大
した平行温度及び組成を持っていた。
【００４３】 次の実施例は、反応器１０を用いた試験操作で行われたものであり、本発明を
限定するものではない。
【００４４】 例１ 合成ガスを三相スラリー床反応器１０に６０００ｍ3ｎ／時の流量で供給した 。３５質量（mass）％の濃度で、スラリー化剤として溶融ワックス中にスラリー
として懸濁した鉄を主成分とする触媒を用いた。ガスを反応器に通し、反応器液
体又はスラリー化剤中に溶解し、触媒表面に到達させ、そこでフィッシャー・ト
ロプシュ反応を行わせた。ガス含有スラリーの床は、反応器１２の底から１７．
４ｍのレベルの所に制御し、その底からスラリーの液滴はそのレベルより上へ運
ばれてスラリー床の上の頂部空間のフリーボード領域、即ち、領域１７の中に入
り、そこから蒸留領域１８中へ入る。この液滴が運ばれる過程を「取り込み」と
呼ぶ。蒸留領域１８中では、ガス相からそれら液滴を分離し、反応器の頂部を通
って失われる触媒の損失を最小にするため五つのトレイが用いられた。この特別
な例について、反応器を出るテイル（tail）ガス中に取り込まれた触媒は、固体
２．１５ｍｇ／ｍ3ｎ／時であることが測定されたのに対し、反応器１０で取り 込み物分離を行わなかった場合、それは通常約１０．４ｍｇ／ｍ3ｎ／時であっ た。
【００４５】 例２ 合成ガスを三相スラリー床反応器１０に８８００ｍ3ｎ／時の流量で供給した 。３０質量％の濃度で、スラリー化剤として溶融ワックス中にスラリーとして懸
濁したコバルトを主成分とする触媒を用いた。処理反応条件は、例１に記載した
ものと同じであった。この特別な例について、テイルガス中に取り込まれた触媒
は、０．０１５ｍｇ／ｍ3ｎ／時であることが測定されたのに対し、反応器１０ で取り込み物分離を行わなかった場合、それは通常約０．０７４ｍｇ／ｍ3ｎ／ 時であった。
【００４６】 図２及び３に関し、参照番号１００は、ガス状反応物から液体及びガス状生成
物を製造するための、本発明の別の態様による装置を全体的に示している。
【００４７】 装置１００は、前に図１に関して述べた反応器１０と同様な反応器１０２を有
する。反応器１０の部分と同じか同様な反応器１０２の部分は、同じ参照番号で
示されている。
【００４８】 しかし、反応器１０２は、その蒸留領域１６中に、三つの固定されたバルブ蒸
留トレイ１０４、１０６、１０８だけを有し、トレイ１０８が一番上で、還流導
管４８はプレート１０８の上で終わっている。反応器１０２は、一番下の蒸留ト
レイ１０４の下に煙突状収集トレイ３０も有し、導管３４が収集トレイ３０から
直接出ている。
【００４９】 装置１００は、ガス出口４４から単一段階冷却及び凝縮段階１１２へ通ずるガ
ス取り出し導管１１０を有する。凝縮炭化水素留分又は生成物取り出し導管１１
４が、段階１１２からポンプ１１６へ通じている。還流導管４８はポンプ１１６
から出ているが、凝縮炭化水素留分又は生成物取り出し導管１１８も、希望に応
じて凝縮生成物を取り出すために還流導管４８から出ている。段階１１２からは
水取り出し導管１２０も出ている。同様に、未反応合成ガスの外、非凝縮性炭化
水素留分又は生成物ガスを取り出すために、テイルガス導管１２２が段階１１２
から出ている。再循環ガス導管１２４は、導管１２２からコンプレッサー１２６
へ通じ、再循環導管１２８がコンプレッサー１２６から、反応器１０２の底にあ
るガス入口１３へ通じている。導管１２８は、新しい合成ガス供給導管１３０と
接合している。
【００５０】 スラリー取り出し導管１３２が、反応器のスラリー出口１５から出ている。
【００５１】 反応器１０２は反応器１０と実質的に同じやり方でその機能を果たし、凝縮炭
化水素留分が、導管１１４、４８に沿ってトレイ１０８の上へ還流される。テイ
ルガスは導管１２２に沿って装置から取り出されるか、又は導管１２４、１２８
、１３０に沿って反応器へ再循環される。
【００５２】 スラリー床の最高液面は、容器１２の曲げられた、即ち、外側へ広がった部分
へその円筒状側壁部分に接合されているレベルより１ｍ〜２ｍ下の間に制御され
るのが典型的である。
【００５３】 図４に関し、参照番号２００は、本発明の第三の態様による、ガス状反応物か
ら液体及びガス状又は蒸気生成物を製造するための装置のスラリー反応器形成部
分を全体的に示している。
【００５４】 反応器１０の部分と同じか又は同様な反応器２００の部分は、同じ参照番号で
示されている。
【００５５】 反応器２００の頂部空間は、フリーボード領域１７及び蒸留領域１８の外に、
洗浄領域２０２を有する。洗浄領域２０２は、フリーボード領域１７と蒸留領域
１８との間に位置する。
【００５６】 反応器２００の蒸留領域１８は、三つの固定されたバルブ蒸留トレイ２０、２
２及び２４だけを有し、還流導管４８が、凝縮炭化水素生成物還流物を一番上の
トレイ２４の上に排出する。更に、収集トレイ溜め３０から出ている導管３４が
、反応器から液体炭化水素留分を、それをスラリー床１６へ戻すのではなく、取
り出すために配置されている。
【００５７】 洗浄領域２０２は、三つの垂直に互い違いに固定されたバルブ洗浄トレイ２０
４、２０６及び２０８を有する洗浄段階を有し、トレイ２０８が一番上になって
いる。洗浄液体導管２１０が、液体炭化水素生成物を洗浄液体として一番上の洗
浄トレイ２０８の上に排出するために配置されている。洗浄液体として用いられ
る液体炭化水素生成物は、スラリー床の一部分を固体分離にかけてそこから触媒
粒子の大部分を除去することにより得られる。収集トレイ２１２が、一番下の洗
浄トレイ２０４の下に配置されており、溜め、即ち井戸状穴２１４が与えられて
いる。洗浄領域２０２中でガス相から洗浄された触媒粒子を含む使用済み洗浄液
体をスラリー床１６へ戻すために、洗浄液体再循環導管２１６が溜め２１４から
スラリー床へ通じている。
【００５８】 反応器１０、１０２のようなスラリー反応器は、液相を有するよく知られた三
相反応器であり、その液相中に固体触媒粒子が、液相の中を気泡として通るガス
相により分散又は懸濁物状態に維持されている。液体及び懸濁固体相がスラリー
を構成する。触媒の分散も、液相の上昇速度を生じさせることにより促進するこ
とができる。
【００５９】 ガス気泡がスラリー床の液面に到達すると、それらはスラリーの幾らかを取り
込むのに充分なエネルギーを持って液面を通って破裂する。上へ流れるガスの引
きずる力と、重力の下方へ引く力とにより大きな液滴はスラリー床の頂部へ戻さ
れるが、軽い液滴は上へ運ばれる。ガスの速度及びガスの粘度が増大するにつれ
て、スラリー取り込み物の流れは増大する。取り込まれたスラリーの固体含有量
は、スラリー本体の固体濃度が増大するにつれて増大し、特に１０μ未満の粒径
を有する固体の濃度が増大するにつれて増大する。
【００６０】 反応器からのスラリー損失は、スラリーの取り込み速度が増大するにつれて増
大し、従って、蒸留領域１６を持たない既知の反応器の反応器直径は、その領域
内の速度が大きくならないようにスラリー表面より上のフリーボード領域では大
きくなっている。
【００６１】 そのような既知の反応器では触媒損失を少なくするため、取り込み物分離は、
通常内部分離器により達成されている。ガス又は蒸気が高速で移動しながら、ガ
ス状蒸気の流れの方向を変化させることに基づく既知の分離器設計が数多く存在
している。これらの設計は、取り込まれたスラリー液滴が凝集してスラリー床へ
落下して戻るようにした取り込み物分離方法を利用している。そのような装置も
触媒粒子の蓄積及び起きることがある閉塞を防ぐために自由流下を可能にしてい
る。そのような装置の典型的な例は、羽根型取り込み物分離器である。これらの
分離器はガス流の方向を急速に変えることにより、スラリー液滴を金属表面に衝
突させている。しかし、既知の取り込み物分離装置は、取り込まれたスラリーを
除去するのに１００％の効果は持たない。更に、フィッシャー・トロプシュ法の
ために用いられているスラリー反応器の操作条件では、反応器液体成分のあるも
のは、上で述べたように、蒸気相の中にあり、これらの既知の装置では分離する
ことができない。
【００６２】 基本的フィッシャー・トロプシュ反応は： ｎＣＯ＋２ｎＨ2→（--ＣＨ2--）ｎ＋ｎＨ2Ｏ＋１６０ｋＪ／ｇ／１モルＣＯ である。
【００６３】 この発熱反応では反応熱はスラリー床中に沈めたコイルを通ってボイラー供給
水をポンプで送ることにより除去されるのが典型的である。フィッシャー・トロ
プシュ合成法のための通常のスラリー床反応器操作では、合成された炭化水素の
約５０重量％が重過ぎて未反応ガスと共に反応器を出ることができず、反応器液
体相の殆どを占めていることが見出されている。多段階凝集により未反応ガスか
ら残りの生成物の殆どを分離して、幾らかの反応器液体成分、軽質炭化水素生成
物及び反応水を形成することができる。
【００６４】 本出願人は、驚いたことに液体分離のための蒸留塔設計で一般に用いられてい
る固定バルブ蒸留トレイを用いて、反応器液体及び触媒の両方をガス相から実質
的に一層効果的に分離することができることを見出した。
【００６５】 特に、本出願人は、本発明に従って蒸留トレイを適用することにより、僅か三
つの固定バルブ蒸留トレイを用いて効果的な分離を達成できることを全く思いが
けなく発見した。本発明は、更に、取り込まれた反応器液体及び触媒をガス相か
ら完全に除去し、蒸気相中に存在する反応器液体留分の全てをフィッシャー・ト
ロプシュ反応器中で凝縮し、維持し、然も、分離効率がスラリー取り込み速度に
よって決定されるのではないため、フィッシャー・トロプシュ反応器のスラリー
液面の上のフリーボード領域の反応器直径を小さくすることができると言う驚く
べき利点を有する。
【００６６】 フィッシャー・トロプシュ反応器中に全ての反応器液体を保持することにより
、従来法で必要であった最低二つの凝縮工程ではなく、唯一つの凝縮工程で反応
器生成物ガス及び蒸気から軽い炭化水素生成物を分離することを可能にしている
。既知の反応器では、希望の液体生成物を全て凝縮するのに必要な温度で、熱交
換表面が固体ワックスにより閉塞されるのを避けるため二つの工程を必要として
いた。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第一の態様による、ガス状反応物から液体及びガス状生成物を製造す
るための実験パイロットプラント装置の一部分を形成するスラリー反応器の一部
分の長手方向に沿った概略的断面図である。
【図２】 本発明の第二態様による、ガス状反応物から液体及びガス状又は蒸気生成物を
製造するための装置の工程図である。
【図３】 図２に示したスラリー反応器の一部分の長手方向に沿った概略的断面図である
。
【図４】 本発明の第三の態様による装置の一部分を形成するスラリー反応器の一部分の
長手方向に沿った概略的断面図である。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年４月６日（２０００．４．６）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ， ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，Ｌ Ｕ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ， ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，Ｕ Ｇ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 シルバーマン、ロイ、ダブリュ アメリカ合衆国 マサチューセッツ、ウィ ンチェスター、 サレム ストリート 12 Ｆターム(参考） 4D076 AA22 BB05 CA15 CB02 CC02 EA03Z EA12Z EA16Z FA02 FA12 JA03 4G070 AA01 AB06 BB32 CA01 CA12 CA13 CB01 CB17 CC01 CC06 DA11 4H006 AA02 AA04 AC29 AD11 BA19 BA20 BA85 BC10 BC11 BD81 BD82 4H029 CA00 DA00

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ガス状反応物から液体生成物、場合によりガス状生成物を製
    造する方法において、 懸濁液体中に懸濁した固体粒子のスラリー床中に低いレベルでガス状反応物を
    供給し、 前記ガス状反応物を前記スラリー床を通って上昇する間に反応させ、それによ
    り液体生成物、場合によりガス状生成物を形成し、然も、前記ガス状反応物とガ
    ス状生成物とは前記固体粒子を前記懸濁液体中に懸濁するのに役立ち、前記液体
    生成物は、前記懸濁液体と一緒になって前記スラリー床の液相を形成し、 前記スラリー床から液相を取り出して前記スラリー床を希望のレベルに維持し
    、 ガス状生成物及び未反応ガス状反応物を、前記スラリー床から離脱させ、取り
    込まれた固体粒子及び液相と共に、前記スラリー床の上の頂部空間へガス相とし
    て上昇させ、 前記ガス相を蒸留にかけて処理し、場合により前記頂部空間中で洗浄し、それ
    により取り込まれていた固体粒子及び液相をガス相から分離し、 分離された取り込み固体粒子、場合により液相を前記スラリー床へ戻し、そし
    て 前記頂部空間から処理されたガス相を取り出す、 ことからなる製造方法。
  2. 【請求項２】 固体粒子が、ガス状反応物を液体生成物、場合によりガス状
    生成物にする反応に対し触媒作用を及ぼす触媒粒子であり、懸濁液体が液体生成
    物であり、スラリー床及び頂部空間がスラリー反応器中に与えられており、前記
    スラリー床がスラリー反応器の反応領域中に含まれているか又は与えられており
    、蒸留を前記スラリー床からフリーボード領域だけ隔たった蒸留領域中で行い、
    前記頂部空間が反応領域の直ぐ上のフリーボード領域及び前記フリーボード領域
    より上の蒸留領域を有する、請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 ガス状反応物がスラリー床中で触媒により反応して液体炭化
    水素生成物（一種又は多種）、場合によりガス状炭化水素生成物（一種又は多種
    ）を形成することができる、請求項２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 ガス状反応物が、フィッシャー・トロプシュ合成により反応
    して液体及びガス状の両方の炭化水素生成物を生成する主に一酸化炭素及び水素
    を含む合成ガス流の形になっており、触媒粒子の触媒がフィッシャー・トロプシ
    ュ触媒である、請求項３に記載の方法。
  5. 【請求項５】 頂部空間内に入るガス相が、非凝縮性未反応ガス状反応物、
    非凝縮性ガス状炭化水素留分、取り込まれた固体触媒粒子、取り込まれた液体炭
    化水素生成物、気化した液体炭化水素留分、凝縮性ガス状炭化水素留分、及び水
    蒸気を含むか、又はそれらからなり、蒸留領域から取り出される処理済みガス相
    が、非凝縮性未反応ガス状反応物、非凝縮性ガス状炭化水素留分、凝縮性ガス状
    炭化水素留分、及び水蒸気を含むか、又はそれらからなり、ガス状炭化水素生成
    物が、非凝縮性ガス状炭化水素留分、気化した液体炭化水素留分、凝縮性ガス状
    炭化水素留分、及び水蒸気を含む、請求項４に記載の方法。
  6. 【請求項６】 冷却段階で、処理したガス又は蒸気相を、それが蒸留領域を
    出た後に冷却し、それにより凝縮性ガス状炭化水素留分の少なくとも幾らかを凝
    縮し、この凝縮した炭化水素生成物の少なくとも幾らかを蒸留のための還流物と
    して蒸留領域へ戻すことを含む、請求項５に記載の方法。
  7. 【請求項７】 処理したガス又は蒸気相を３０℃〜５０℃に冷却する、請求
    項６に記載の方法。
  8. 【請求項８】 スラリー反応器の蒸留領域中の少なくとも一つの蒸留段階を
    通って還流凝縮炭化水素生成物及び液体炭化水素留分に対し向流状にガス相を上
    昇させることにより蒸留を行う、請求項６又は７に記載の方法。
  9. 【請求項９】 複数の垂直方向に間隔を開けた蒸留段階を用い、各段階が固
    定されたバルブ蒸留トレイを有する、請求項８に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 収集トレイが最下端の蒸留段階の下に配置され、前記収集
    トレイ上に収集される液体を導管によりスラリー床へ戻すか、且つ（又は）反応
    器から取り出し、前記スラリー床へ戻される液体と、フリーボード領域中でガス
    相との接触が起きないようにしてある、請求項９に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 固定バルブ蒸留トレイを通る見かけのガス速度が、０．２
    ｍ／秒〜２．０ｍ／秒の範囲にあり、前記スラリー床を通る見かけのガス速度が
    、通常蒸留領域を通る見かけのガス速度よりも小さく、有効反応器直径、即ち、
    断面の大きさが、反応領域よりも蒸留領域の方が小さい、請求項９又は１０に記
    載の方法。
  12. 【請求項１２】 フリーボード領域と蒸留領域との間の洗浄領域で、洗浄液
    体により行われるガス相の洗浄を含み、然も、その洗浄が取り込まれた触媒粒子
    を前記ガス相から分離するのに役立つ、請求項６〜１１のいずれか１項に記載の
    方法。
  13. 【請求項１３】 洗浄領域中で、洗浄液体に対し向流状にガス相を洗浄段階
    を通って上昇させることにより洗浄を行い、前記洗浄液体が液体炭化水素生成物
    である、請求項１２に記載の方法。
  14. 【請求項１４】 スラリー床の一部分を固体分離にかけて触媒粒子の大部分
    を液体炭化水素生成物から除去し、それにより液体炭化水素生成物を生成させ、
    次にそれを洗浄液体として用いることを含む、請求項１３に記載の方法。
  15. 【請求項１５】 取り込まれた触媒粒子又はスラリー液滴の洗浄と蒸留との
    両方を洗浄領域で行い、蒸留領域からの液体を、洗浄液体の外に、前記洗浄領域
    へ導入する、請求項１４に記載の方法。
  16. 【請求項１６】 蒸留領域からの液体を洗浄領域中へは入れず、その結果触
    媒粒子又はスラリー液体の洗浄液体による洗浄だけが前記洗浄領域内で行われる
    、請求項１４に記載の方法。
  17. 【請求項１７】 洗浄段階が、少なくとも一つの洗浄トレイ及びその洗浄ト
    レイの下の収集トレイを有し、洗浄液体が前記洗浄トレイの上の洗浄領域又は段
    階へ導入され、洗浄液体及び固体が、前記洗浄段階収集トレイからスラリー床へ
    通ずる導管により、フリーボード領域中のガス相と接触することなく前記洗浄段
    階から前記スラリー床へ送られる、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の方
    法。
  18. 【請求項１８】 洗浄段階が、垂直に間隔を開けた複数の洗浄トレイを有し
    、前記洗浄トレイが固定されたバルブトレイである、請求項１７に記載の方法。
  19. 【請求項１９】 ガス状反応物から液体、場合によりガス状生成物を製造す
    るための装置において、 使用中、懸濁液体中に懸濁された固体粒子のスラリー床の入った反応領域及び
    前記反応領域の上の蒸留領域を有する反応容器、 前記容器中の前記反応領域内の低いレベルにある、ガス状反応物を前記容器に
    導入するためのガス入口、 前記容器の前記蒸留領域中の、未反応ガス状反応物、及び存在する場合の、前
    記容器からの蒸気生成物からなるガス相を取り出すためのガス出口、 前記容器中の前記反応領域内にある、前記容器から液体生成物を取り出すため
    の液体出口、 場合により、前記蒸留領域より下に位置する洗浄領域中の洗浄段階、及び 使用中、前記ガス出口を通って前記蒸留領域を出る前にガス相を蒸留にかける
    、前記蒸留領域中の蒸留段階、 を具えた製造装置。
  20. 【請求項２０】 作動上第一導管により容器のガス出口に接続された冷却段
    階、及び前記冷却段階からの凝縮生成物を還流物として蒸留段階へ戻すための、
    前記冷却段階から前記蒸留段階へ戻す第二導管を具えた、請求項１９に記載の装
    置。
  21. 【請求項２１】 複数の蒸留段階が蒸留領域中に与えられており、その領域
    が、ガス／液体接触手段を持たないフリーボード領域により反応領域から隔てら
    れている、請求項１６又は２０に記載の装置。
  22. 【請求項２２】 洗浄領域中の洗浄段階を有し、前記洗浄領域がフリーボー
    ド領域と蒸留領域との間に位置する、請求項２１に記載の装置。
  23. 【請求項２３】 本文中に記載し、例示したのと実質的に同じ、ガス状反応
    物から液体生成物及び、場合によりガス状生成物を製造するための新規な方法。
  24. 【請求項２４】 実質的に本文中に記載し、例示したのと同じ、ガス状反応
    物から液体生成物及び、場合によりガス状生成物を製造するための新規な装置。
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