JP2001508340A - 空間的に分解された光学的測定 - Google Patents

空間的に分解された光学的測定

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Abstract

(57)【要約】 材料のサンプルの特性を、電磁放射線と前記サンプルとの相互作用により判定する方法及び装置を提供する。前記装置は、電磁放射線光源と、光学アセンブリと、検出器とを含む。光学アセンブリは、第1の光路中の第1の領域から実質的に単調に下降する前記サンプルにおける強度分布を有して、前記サンプルの複数の体積エレメントを順次照射し、かつ前記体積エレメントのそれぞれから発せられた電磁放射線を収集する。前記光学アセンブリは、第2の光路中の第2の領域から実質的に単調に下降する収集分布を有して、前記各体積エレメントから発せられた前記放射線を収集する。前記第1及び第2の領域は前記体積エレメントのそれぞれにおいて少なくとも部分的に重複する。前記検出器は、前記順次照射された体積エレメントのそれぞれから放射され収集された電磁放射線を検出し、前記体積エレメントのそれぞれにおける前記特性を表す応答を生成する。

Description

【発明の詳細な説明】 空間的に分解された光学的測定 発明の属する分野 本発明は、サンプルにおける個々の体積エレメントに対する電磁放射の相互作 用の結果を分析することにより、露出された表面からの空間的に分化された分析 情報を得る装置および方法を提供する。これは、プローブビームを一つの小さな 体積エレメント内に空間的に制限し、受信される応答を同じ体積エレメントから のみ検出されたものに限定し、ビームによって構成される光学アセンブリの軸方 向に沿ってさまざまな深さにおいてサンプルを走査することで異なる深さの体積 エレメントにおける作用を検出し、プローブビームに概ね垂直な面上の複数の地 点からそのようなデータを収集することによって達成される。 発明の背景 たとえば癌または他の疾病に冒された組織などの診断情報を迅速かつ自動的に 供給する機器に対して、重要な必要性が存在する。特に、多数の組織サンプルを 切除して生検を実施することなく癌性組織の範囲および程度を調べることができ る機器が必要とされている。現在の技術では、特定の病変および異常の判定には 、医療業者は一般的に目視分析および生検に頼っている。さまざまな形態の生化 学的撮像も利用されている。また、多様な病変に独自の光学的応答を利用して生 物学的組織の特性判定を試みた業績がある。 しかしながらこれらの従来技術には、同時係属中の出願第08/510,04 1号(1995年8月1日出願)および第08/510,043号(1995年 8月1日出願)に記載されるとおり、重大な欠点が含まれる。これらの出願を本 願に引用し援用する。 たとえば、組織生検を実施して抽出された組織を研究室で分析することは、非 常に時間がかかる。さらに、組織生検は、その組織から採取した代表的サンプル に基づく組織についてのみ特徴付ける。その結果、サンプルを正確に代表し得る 一連の組織を選集するため、多数の切除が慣例的に実施されている。加えて、組 織生検は、サンプリングおよび解釈の過ちを起こしやすい。磁気共鳴による撮像 は、好結果をもたらす手段ではあるが、高額であり、かつ非常に薄い病変や進展 の初期段階における病変の検出に関しては重大な限界がある。 医学界において組織分析に使用される技術の一つに、誘起蛍光(induced fluo rescence)がある。レーザ誘起蛍光は、特定の波長に調整されたレーザを用いて 組織を励起し、組織が一連の第二の波長を蛍光するようにする。この一連の第二 の波長の分析により、組織の特性を推断することができる。蛍光は、組織内に通 常見いだせる分子から起こさせてもよいし、またはマーカー分子として体内へ供 給された分子から起こさせてもよい。 生物学的組織の紫外線励起による蛍光応答に関わるメカニズムは未だ明確にさ れていないが、新生組織(腫瘍)形成の蛍光サイン(fluorescence signature) には、生化学的変化および形態学的変化の両方が反映されているようである。ス ペクトルにおいて観察される変化は多くの癌において類似であり、これから同様 のメカニズムが作用していることがうかがえる。たとえば、有用な自動蛍光スペ クトルマーカーは、ミトコンドリア内の生化学的変化(たとえば、ニコチンアミ ドアデニンジヌクレオチド(NADH)およびフラビンの相対濃度)を反映する こともある。粘膜肥大(mucosal thickening)および毛細管分布量(capillary profusion)変化は、分光記録において典型的な変化をもたらすと解釈されてい る構造的な作用である。 337nm以下の近紫外線による励起を受けて蛍光発光に関与する主な生体組 織内の分子としては、トリプトファン(390nmの発光)、エラスチン内の発 色団(410nm)およびコラーゲン(300nm)、NADH(470nm) 、フラビン(520nm)、並びにメラニン(540nm)が同定されている。 しかしながら、組織内においては純粋な化合物の場合と比較してピーク移動およ び全体的な形状の変化が生じることに留意すべきである。したがって、十分に短 い波長の紫外線ビームをサンプルに照射し、上記に列挙した光波長の応答を記録 することにより、組織タイプに関与する上記の同定された要素の存在を検出する ことができる。 ヘモグロビンの吸収ピークは400から540nmの間であると同時に、オキ シヘモグロビンおよびヘモグロビンの両方ともが600nm以上にて強い光吸収 を示すことが、さらに明らかになっている。観察されるエラスチン、コラーゲン 、NAD、およびNADHの発光スペクトルに対して、血液分布が影響を及ぼす とも考えられる。さらに、組織内に存在し、発光された光を吸収し、発光された スペクトルの形状を変化させる化合物として、ミオグロビン、ポルフィリン、お よびジヌクレオチド補酵素が挙げられる。 新生組織(腫瘍)形成は、代謝経路が主に嫌気性であるために、高いレベルの NADHを有すると一般的に認識されている。細胞がNAD+:NADHの密度 の比率を上昇できないことは、増殖制御欠陥に関連した形質転換細胞の特性であ る。NADH+:NADHの比率は、たとえば糖分解の糖新生に対する容量など の、細胞の代謝能力の指標である。インビトロおよびインビボの両方の組織にお けるNADHの相対レベルの測定に、表面蛍光が用いられている。個別の筋細胞 から得られる発光スペクトルは、おそらくミトコンドリア酸化フラビン蛋白に起 因する緑色残存蛍光を生成し、また、青色蛍光は、ミトコンドリアに由来するN ADHに従うものである。 コラーゲン、NADH、およびフラビンアデニンジヌクレオチドは、結腸組織 内の主要な蛍光物質だと考えられており、上記蛍光スペクトルの分光分解に用い られた。適合(fits)とデータ(data)との間の残差は、オキシヘモグロビンと デオキシヘモグロビンとの混合の吸収スペクトルに類似する。したがって、この 残差は血液の存在に起因すると考えられる。 アルファノ(Alfano)は、米国特許第4,930,516号において、癌性組 織の正常な組織からの区別における発光の利用を教示している。この利用は、正 常な組織および癌性組織からの可視発光スペクトルの形状が実質的に異なる場合 に実施され、特に癌性組織からのスペクトルが青側に変位していて異なる強度ピ ークを示す場合に実施される。たとえばアルファノは、健康な組織と疑わしい組 織との区別は、疑わしい組織と健康な組織とのスペクトルを比較することによっ て可能であると開示している。アルファノによれば、組織のスペクトルは、実質 的に単色の放射を用いて組織を励起させ、少なくとも二つの波長にて誘発された 蛍光を比較することによって生成できる。 アルファノは米国特許第5,042,494号において、正常組織および癌性 組織からの可視発光スペクトルの形状がどのように実質的に異なるかを明確にす ることにより、正常組織から癌を区別する技術を教示している。 さらにアルファノは、米国特許第5,131,398号にて、正常または良性 組織からの癌の区別における発光の利用について教示する。これは、(a)波長 約315nm以下、特に約260から315nmの間、具体的には300nm、 の単色または実質的に単色の励起、そして、(b)約340および440nmの 二つの波長にて得られる発光の比較、を用いている。 しかし、アルファノは、正常、悪性、良性、腫瘍性、異形成、過形成、炎症、 または感染した組識を区別できる方法は教示していない。診断の際にこれらの微 妙な違いを区別できないと、適切な治療法の選択はほぼ不可能である。アルファ ノ並びに他者による単純な比率、差異、および比較分析は、癌の研究において有 用なツールであり組織状態の手がかりとなる指標であることは証明されているが 、現在までに、これらによって、癌診断の臨床適用に対して十分に正確かつ堅固 な方法および手段は提供されていない。 生物学的組織から実際に得られるスペクトルは非常に複雑であり、このため、 標準的なピーク整合プログラム、スペクトル分解(deconvolution)、またはス ペクトル比較分析による解析は困難であることが、上記から明白である。加えて 、スペクトルの変位が、そのようなスペクトル解析の試みをさらに困難にする。 最後に、組織からのレーザ蛍光および他の光学的応答では、通常、深さにおける 分析は実施できない。その理由は、一般的にこれらの技術に使用される光学的ま たは電子的機器は、照射された組織体積全体に渡って励起された組織が発光する シグナルを必然的に統合してしまうからである。 ローゼンタル(Rosenthal)は、米国特許第4,017,192号に、多細胞 群の生物医学的検体において、癌を含む異常を自動的に検出する技術を記載して いる。この技術は、生物学的組織の複雑なスペクトル応答に関連した問題点を克 服するものである。ローゼンタルは、生物学的組織から光学的応答(発光または 反射)のデータを多数の波長に渡り多数のサンプルから検出し、それらの光学的 応答を従来の臨床的結果に相関させ、テスト波長および一連の定数を選択して相 関方程式を形成することを教示している。その相関方程式を、上記選択した波長 において特性不明の組織から得られる光学的応答と関連して使用することにより 、その組織の状態を椎定する。しかし良好かつ堅固な相関を確立するために、ロ ーゼンタルは組織を切除し、実質的に均質なサンプルを採取する。また、そこか ら得られる光学的応答には、組織下部の光学的サイン(optical signature)は 含まれない。したがってローゼンタルの方法は、本発明が構想するようなインビ ボでの利用には使用できない。 ウェルマン光医学研究所(Wellman Laboratories of Photomedicine)にて実 施された研究において、ショマッカー(Schomacker)は、単一ファイバ深度統合 プローブを用いて、インビボのヒト結腸ポリープの自己蛍光サインが、正常、良 性過形成、前癌性、および悪性新形成(腫瘍)の指標となることを例証した。Sc homacker et al.,Lasers Surgery and Medicine,12,63-78(1992)およびGastroen terology 102,1155-1160(1992)を参照のこと。ショマッカーは、さらに、デー タの多変量線形回帰解析(multi-variant linear regression analysis)を用い ることにより、非新形成(非腫瘍)ポリープから新形成(腫瘍)ポリープを区別 することを教示する。しかし、ショマッカーの技術を用いた場合、粘膜異常の観 察は粘膜下組織からのシグナルによって妨げられた。これは、正常な結腸組織に て観察される蛍光の87%が、粘膜下組織のコラーゲンに由来すると考えられる ことによる。 上述によれば、検体の特性、特にインビボの検体の特性を、その検体内に厳格 に規定された体積エレメントからの応答を得ることにより把握する装置であって 、複数のそのような体積エレメントから成る比較的大きな領域からのデータを自 動的に表示するより効果的および正確な装置が必要とされている。さらに、その ようなデータを、上記体積エレメントについての明解な診断情報の形態に自動的 に解釈する方法が必要とされている。 前述の出願第08/510,041号および第08/510,043号におい て、モデル、デバリシェ、およびヘッド(Modell,DeBaryshe and Hed)は、プロ ーブ放射の波長の回折限界より一般的に大きい寸法の空間的フィルタを用いてタ ーゲットサンプル内の体積エレメントから貴重な解析データを得る場合の、一般 的な原理を教示した。そのような空間的フィルタリングは、視野絞りと解析され る体積エレメントによって互いに協働される視野絞りとの両方を含む照射および 検出システムの両方を有する光学デバイスによって実施できる。両システムの視 野絞りは、解析される体積エレメントを介して互いに共役しており、非撮像体積 マイクロプローブ(non imaging volume microprobe)を実質的に提供している 。 前述の出願に記載にされた種類の装置は、ターゲットサンプル内の複数の地点 の解析において非常に有用であるが、そのようなデータを非常に多数の整列され た点について簡単かつ自動的に取得して、これらのデータを、サンプルの広範囲 におよぶ解析結果を表す人工的なイメージに変換できるようにする必要がある。 このことは、生物学的サンプルなどの均質でないサンプルを、非撮像体積マイク ロプローブを用いて検査する場合に、特に重要である。たとえば、腫瘍的病変あ るいは他の病変の存在または不在を検出するために組織を検査する際に、視覚的 手法を実施した後、場合によっては生検用検体を切除することがある。そのよう な手法は、医師の目は潜在的な病変の視覚的外見しか判定できないという点で自 然の限界があり、また実施される生検の数は必然的に限られる。病変組織の外見 からは、病変の深さ方向の情報は得られず、病変の断定的な診断はできない。さ らに、生検は生体外(ex vivo)で実施されるため、検体の採取から結果が得ら れるまでの時間差の発生は避けられない。医師にとっては、そのような診断作業 をインビボで実施できる装置があって、診察時に(健康な組織と病変組織との) 区別診断が得られれば、非常に便利である。このことは、外科的な診査手順を実 施する際に特に重要であるが、よりアクセスしやすい組織の診断時にも非常に有 用である。 従来技術において、照射および検出アレイが設けられる共焦顕微鏡検査法(co nfocal microscopy)に特に関連した装置が数々存在する。たとえば米国特許第 5,065,008号には共焦走査顕微鏡が記載されており、それにおいては、 照射ビームおよび発光(または反射)ビームを機械的に走査することは回避され る。走査光の同期的検出に光シャッターアレイを用いるため、走査ビームを追っ て光検出器を移動させる必要がない。そして、これらの各シャッターは実質的に 、 共焦顕微鏡の視野絞りとして機能している。他の実施形態では、視野絞りのサイ ズ縮小を目的として、二つの重なる液晶アレイが光学シャッターアレイとして利 用される。共焦顕微鏡検査法の技術において周知のとおり、この手法が提供可能 な所望の解像度を得るためには、視野絞りの寸法は、システムで使用する光学ビ ームの回折限界に相対して小さくなければならない。他の実施形態では、サンプ ル内で共役する二式の視野絞りが設けられ、そのうちの一式は照射ビーム用であ り、他方の一式は送出または反射ビーム用である。この特許は照射および応答ビ ームの電子的走査の使用を教示するが、走査共焦顕微鏡のピンホール効果を達成 するために二つの液晶光学シャッターを使用するため、照射輝度および応答シグ ナル強度は非常に制限される。 米国特許第5,028,802号に記載のさらに他の共焦撮像デバイスでは、 マイクロレーザ列によって、空間移動式スポット光源が共焦的構成にて設けられ る。同様に米国特許第5,239,178号では、実質的に同じ目的のために照 射グリッドが設けられる。ただし、グリッドの光源には発光ダイオードが用いら れる。しかしこれらの方式では、単色照射の使用に限られ、固体レーザダイオー ド(すなわちマイクロレーザ列または発光ダイオード列)によって供給可能な比 較的長い波長のみしか使用できない。 上記装置のいずれにおいても、非撮像体積マイクロプローブ列は備えられない 。したがって、非撮像体積マイクロプローブ列を有し、サンプル内の複数の体積 エレメントを高速で走査することにより、それらのサンプルされた体積エレメン トすべてからのデータを統合することなくサンプルの比較的広い領域における診 断または解析情報を入手できる装置が必要とされている。 発明の概要 本発明では、上記出願によって教示された原理を適用して、複数の非撮像マイ クロプローブから提供されるような体積エレメントの三次元アレイから光学的応 答を自動的に取得する。それは、検体表面に対して概ね平行な面(xy面)およ びxy面に対して概ね垂直なz方向において検出される診断情報を自動的に写像 する複数の非撮像体積マイクロプローブを並列に設けることにより実現される。 体積エレメントのアレイからの光学的応答はさらに解析され、検体の直接診察 では簡単に得られない情報が視覚的に(すなわちモニタ上に)供給される。これ は、実質的に、アレイ内の各個別の体積エレメントからの光学的応答、またはよ り正確には、そのような応答の派生物で構成された人工的な生化学的三次元マッ プを生成し、さらに、これらの生化学的データを観察される病理の性質、範囲、 および深さを粗描する人工的病理イメージに変換することにより達成される。そ れは、特定の病変を認識するよう機器を設定することにより、対象となる各病変 に関して人工的病理スケール(尺度)を作成することによって可能になる。詳細 には、非撮像体積マイクロプローブを用いて光化学的応答を収集した検体の実験 セットに関して、研究室でその各検体の病理学的状態を厳密に判定し、各検体に 人工的病理スケール上の値を指定する。各検体の応答(またはその応答の関数) をその病理学的状態に関連させる一連の一次方程式を構築し、相関係数の最善の 解を求める。続いてこれらの相関係数を用いて、未知の検体から得た応答を変換 し、それらの未知の検体の病理学的状態を把握する。 各々が二つの共役する(または部分的に共役する)光学的アセンブリから成る 複数の光学アセンブリのアレイを設けることにより、本発明の目的は達成される 。このようなアセンブリの各々における第一の光学アセンブリは、光源または他 の放射源からの送出ビームを、サンプル内の複数の選択された体積エレメント内 に、順次選択的に結像させるよう設計されている。第二の光学アセンブリは、上 記体積エレメントから発散された光または放射を同様に順次収集し、収集した光 または放射を、第一の送出ビームの体積エレメントにおける作用に関して分析す るために検出器に送るよう設計されている。第一の光学アセンブリは、選択され た体積エレメントを選択的に照射させる第一の視野絞りを含み、第二の光学アセ ンブリは、収集光学デバイスへの入射する前記発散された放射または光を実質的 に前記選択された体積エレメントからのみに制限する第二の視野絞りを含む。さ らに、選択された体積エレメントの深さをサンプル表面に相対して調節する制御 部が備えられる。その調節は、二つの光学アセンブリの各焦点を共役させ、体積 エレメントを両光学アセンブリの共通の共役点とした状態で、それらの各焦点を 制御することによって実施される。 所定の体積エレメントからのみの応答がその体積エレメントと関連した光学ア センブリによって収集されることを常に確実にするために、アレイ内の異なる体 積エレメントは順次照射されることが望ましい。 複数の体積エレメントの逐次的照射は、さまざまなデバイスを用いて実施でき る。本発明のある実施形態では、光源とサンプルとの間に光学シャッターアレイ が配置され、その各シャッターは、特定の光学アセンブリのための視野絞りまた は開口絞りとして機能する。ある実施形態においては一列の光学シャッターアレ イが設けられ、他の実施形態では二列の光学シャッターが備えられる。本発明の さらに他の実施形態では、マイクロミラーのアレイを用いて、サンプル内のさま ざまな体積エレメントにおける逐次的照射および応答収集を制御する。本発明の また別の実施形態では、整列された光ファイバの束を用いて、サンプル内の体積 エレメントアレイを順次照射し、体積エレメントから応答を順番に収集する。多 様な深さにてプローブするよう、光学デバイスの適切な移動が実施される。 選択された体積エレメントからの光学的応答には、体積エレメントの化学的、 形態学的、および一般的な生理学的特性などの、体積エレメントについての重要 な情報が含まれる。サンプルが単純なスペクトルを有する場合、これらの光学的 応答は、選択された波長におけるピーク整合、スペクトル分解(deconvolution )、または輝度判定を含む典型的なスペクトル技術によって解析される。そのよ うな系システムの一例は、複数の化合物の溶液あるいは混合物の均質度を判定す る場合である。しかし、サンプルが上記のように複雑な生物学的検体である場合 、スペクトルが複雑すぎて意味のある診断が得られない。そのような生物学的検 体の微妙な特性を解析する場合に、離散した体積エレメントのアレイからの空間 的にフィルタされた光学的応答に相関変換を適用するか、あるいはそのような変 換を非撮像顕微鏡検査法を通じて得たデータに関連して用いると、意外にも診断 上意味のある結果が得られることを我々は発見した。 詳細には、最初に、特定のターゲット病変の実験サンプルを選択する。そのよ うなサンプルは、少なくとも10個の検体を含むことが好ましい。まず、検体内 にて厳格に画定された体積エレメントから光学的応答を収集し、記録する。これ らの光学的応答は、前述の同時係属出願に記載されるとおり、アレイ状のマイク ロプローブまたは単一体のマイクロプローブ装置を使用して収集できる。非撮像 体積マイクロプローブを用いてサンプリングしたものと同じ体積エレメントを切 除し、典型的な病理学研究室にて生検(すなわち、切除した体積エレメントの細 胞学的分析)を実施する。特性判定が為される病変C(たとえば特定の癌)の範 囲に関する任意のスケールに基づいて、検体に点数を付与する。これらの点数Cj (Cjは、設定用セット内の検体jに指定された点数値である)は、可能な限り 正確であるべきで、複数の病理学者の(同じ複数の体積エレメント、jに関して 判定した)点数の平均値を使用してもよい。続いて、一連の方程式ΣajcF(Iij )=Cjを作成する。ここで、iは比較的狭いスペクトルウィンドウ(通常5 から50nmまでの間)を表し、したがってF(Iij)は、体積エレメントjの ウィンドウi内におけるスペクトル応答の応答強さまたは他の特性の特定関数で ある。関数Fは場合によっては、そのウィンドウ内の応答強度そのもの、すなわ ちF(Iij)=Iijである。あるいは、F(Iij)=(dIij)/dλ)Iijで ある。ここで、λはウィンドウi内のメジアン波長である。またもしくは、関数 Fは他の関数である場合も考えられる。続いて、作成された上記一連の方程式に よって、多変量線形回帰解析または単変量線形回帰解析などの従来技術で周知の 手段を通じて、病変Cの相関変換の係数である因数ajcが求められる。このよう な解析では、光学的応答と病理学的導出値Cjとの間の正確な相関を検出するの に必要な波長ウィンドウiの数は最低限に押さえられ、その病変Cのための一式 の相関係数ajcが求められる。続いて、実験セット外のサンプルからの応答(Iik )(i個の光学ウィンドウの空間におけるベクタであり、現時点で離散要素の 制限された数に最小化されている)を記録する。そして、変換作用素(ajc)を ベクタF(Iik)に作用させ、すなわち和ΣajcF(Iik)=Ckを得る。それ により、サンプリングした体積エレメントのターゲット病変Cに関する点数が自 動的に得られる。 光学的応答の主成分回帰解析などの、他の統計的手段の使用も可能であると理 解されるべきである。また相関変換において、特定波長における光学的応答の関 数の代わりに、すべてのスペクトル応答のフーリエ変換を用いることを考慮して もよい。さらに、特定の体積エレメントからスペクトル応答を検出する際に、空 間的フーリエ変換生成器(サニャック干渉計など)または時間的フーリエ変換生 成器(マイケルソン干渉計など)を通じて、それらの応答を光学的に処理しても よい。そして、その得られたデータを用いて所望の相関マトリックスを作成し、 それを用いてシステムを、さらなるデータ取得および病変分布についてのイメー ジ生成に備えて設定することができる。 本発明を実施した機器は、生物学的組織、プラスチック、コーティング、およ び化学反応工程などの混濁材料の、いくつかの特性についての人工的イメージを 得る際に有用であり、特に、インビトロおよびインビボの両状態での生物学的組 織の分析に特に有益であると考えられる。本発明は、内部分析を可能にするため に、既存の内視鏡、腹腔鏡、または関節鏡と共に使用できるよう構成されている 。 図面の簡単な説明 図1は、本発明の主要素を示す一般化された略ブロック図である。 図2は、その各光弁が照射ビームおよび検出ビーム用のアドレス可能な視野絞 りとして機能する光弁アレイを含む、本発明の実施形態を示すブロック図である 。 図3は、光弁のアレイと同じ配置周期性(periodicity)を有する小レンズの アレイが、照射および検出ビーム両用の対物部のアレイとして機能する実施形態 を示す。 図4および図4Aは、照射用および検出用の別個の光弁アレイが開口絞りのア レイを形成し、各開口絞りアレイが照射および検出用光学デバイスの対物部とし て機能するレンズアレイに対応する、本発明の実施形態を示す。図4Aでは、検 出レンズアレイは単一レンズによって代替されている。 図5は、平坦な(変形可能)マイクロミラーのアレイが視野絞りとして使用さ れ、マイクロミラーを順次選択することによりサンプル内の体積エレメントを逐 次的に照射する、本発明の実施形態を示す。 図6および6Aは、(変形可能)軸外れ放物形ミラーのアレイを選択対物部と して機能させることで、さまざまな体積エレメントに励起ビームを順次作用させ それらの体積エレメントから応答を収集する、本発明の実施形態を示す。 図7は、光シャッターアレイをファイバ切換デバイスによって代替し、それを 用いてターゲットサンプル内の体積エレメントアレイを順番に照射(し、それら から応答を収集)する、本発明の実施形態を示す。 図8は、二つの光学アセンブリを有し、各アセンブリは各自の(励起および検 出用)ファイバ束に連結され、そのファイバ束内で逐次的照射(および検出)が 実行されることで体積エレメントアレイからデータを得る、本発明の実施形態を 示す。 図9および10は、光シャッターアレイが光ファイバ束に連結される本発明の 実施形態を示す。 図11は、システムの制御およびデータ処理要素を示すブロック図を含む、本 発明の実施形態を表す略図である。 図12は、特に多様な病変の診断において本発明の体積プローブアレイを使用 する方法を示すブロック図である。 図13aおよび13bはそれぞれ、PVDFベースの光学シャッターアレイの 部分的セグメントを示す底面図および平面図である。 図14は、PVDFベースの光学シャッターアレイの他の実施形態を示す。 図15は、ミクロ機械加工された光学シャッターアレイを示す平面図である。 図16は、ミクロ機械加工された光学シャッターアレイの他の実施形態を示す 。 発明の詳細な説明 図1に、一般化された概略的な体積プローブアレイ10を示す。その機能は、 ターゲットサンプル内の複数の地点からデータを収集することである。システム は通常、適切な光源11を含む。光源11の光出力をブロック12において調節 または多重化することにより光源を複数生成し、それを光弁のアレイ13へ中継 してもよい。それらの光弁は、照射視野絞りまたは開口絞りとして機能できる。 所定の時点においては一つの弁のみが開放され、それによりサンプル19内の体 積エレメントが順番に照射される。各光弁から送出される光は、適切な照射用対 物部14によってサンプル19内のターゲット体積エレメントへ方向づけられる 。ある実施形態では単一の対物部が使用され、他の実施形態では、光弁アレイと 同じ配置周期性を有する対物マイクロレンズのアレイが組込まれる。 体積エレメントから発散される光の形態をとる各ターゲット体積エレメントか らの応答は、収集光学対物部15(実施形態によっては、照射対物部およびマイ クロレンズアレイと同じもの)と、光弁のアレイ16(これも、照射に使用する アレイと同じものでもよい)とを通じて収集される。続いてそれらの応答は、一 つ以上の検出器17に送信され、光学的特性およびスペクトル特性が検出される 。 強調すべき点としては、照射用および収集用の両光学デバイスはそれぞれ照射 される放射の波長平均値と相対して比較的大きい寸法の視野絞りを含み、さらに これらの視野絞りが、検査される体積エレメントを通じて互いに共役する点が挙 げられる。その結果、いずれの時点においても厳格に画定された一つの体積エレ メントが照射され、収集光学デバイスの視野絞りを通じて収集される要素からの 光学的応答は、実質的にその体積エレメントから発散された応答に限定される。 制御部18が備えられ、その制御部は、(x,y面、サンプル面において)走 査する体積エレメントの順番を制御し、(z方向において)検査される体積エレ メントの深さを制御する。 図2に、アレイ状体積マイクロプローブシステム20の単純な例を示す。シス テムは光源21を含む。光源からの光はレンズ22によって、ビームスプリッタ 25を通じて光シャッターのアレイ24上へ集光される。本実施形態では、光シ ャッターアレイ内の各要素28は、対物部26を通じてサンプル27上に投影さ せる視野絞りとして機能する。サンプリングされる体積エレメントの形態は、シ ャッターの寸法および形状により、詳しくは同時係属中の出願第08/510, 041号および第08/510,043号にて記載される方法に基づいて決定さ れる。実質的に、各シャッターの平均寸法dには、波長を対物部の開口数NAで 除した値より大きな値が選択される。すなわち、d≫λ/NAである。したがっ て、サンプルの平面上の視野絞りの画像は、回折によって限定されるその波長の 解像度より大きい。その結果、ある視野絞りを横断してサンプル上に結像される 光の大部分は、サンプル上の厳格に画定された体積エレメント内に位置する。同 様に、照射に対する全体的応答は非常に大きな空間的角度(実質的に4πステラ ジアン)にて分布するが、同じ体積エレメント内から発散される応答のみが、そ の視野絞り上に投影され検出器29に到達する。検出器に至るには、まずその応 答は収集レンズ23に向けてビームスプリッタ25にて反射され、収集レンズ2 3により検出器29上に集光される。照射および検出システムのそれぞれの視野 絞りが、ターゲット体積エレメントを経由して互いに共役するという事実によっ て、以上のことが可能である。図2に示す実施形態では、両視野絞りは同じ開口 (光学シャッターまたは光学シャッターアレイ内の光弁28)内に実現されてい る。 ある実施形態では、特に光源が短波長(UV)励起光源であって応答が蛍光応 答である場合には、ビームスプリッタ25は二色性ミラーであってもよい。他の 実施形態では、ビームスプリッタ25は半鍍銀ミラーであってもよい。この半鍍 銀ミラーは、たとえば、励起ビームが広帯域スペクトル光源によって供給され、 応答がサンプルからの後方拡散および反射を含む場合(したがって、ターゲット 体積エレメントにおける励起ビームの吸収の度合いが主に検知される場合)等に 、サンプルからの応答の光路を励起ビームの光路から分離する。 光弁または光学シャッターのアレイは、数々の異なる手法にて実現され得る。 二つの電極アレイ(従来技術に従い、インジウム酸化スズ(ITO)または酸化 スズ(TO)から成る透明電極の形態で透明のガラスまたはプラスチックシート 上に配置されたものであって、通常はフッ素を用いてドープすることで良好な表 面導電性が付与されたもの)に挟まれた液晶を用いてもよい。また、扱いをより 簡単にし製造コストをより低くできる可能性のあるPDLC(高分子分散液晶) を用いてもよい。特に高速での走査が必要とされる場合に考えられる他の実施形 態は、強誘電体素子のアレイであり、各強誘電体素子が光弁として機能する。さ らに他の光弁の実施形態には、PVDF(ポリビニルジフルオライド:Polyviny l-difluoride)バイモルフ素子(圧電素子)のアレイを含んでも良い。各バイモ ルフは、光源に面した面が反射するように(または両面が不透明になるように) コーティングされ、光路から曲出することにより光弁を形成するよう設計されて いる。光弁の典型的な寸法は、小さい方で約20ミクロンから、1000ミクロ ンほどの大きさまでの範囲におよぶ。サイズは、主に、適用状況、解析されるサ ンプルの性質、および使用するアレイ状体積マイクロプローブの詳細設計仕様に より決定される。単一の大きな対物レンズをアレイ内のすべての視野絞り用の共 通対物部として使用する図2に示す一般的な設計を用いる場合、隣接する光弁の 間隔は、通常、可能な限り小さくされる。これにより、走査される体積エレメン トをできるだけ間隔を詰めて配置する。しかし、実施形態によっては、病変画像 が広い間隔に分散される点から構成することがより適切な場合は、間隔は(視野 絞り自体と同じ大きさほどに)比較的大きくされると理解されるべきである。 動作時において制御部18は、一つの光弁を開放状態に維持し、視野絞りがサ ンプル27内の所望の体積エレメントに投影されるようデバイスの位置を調節す る。サンプルに対するデバイスの全体的位置が最適化されると、制御部は、順番 に開放光弁を閉鎖し隣りの光弁を開放することにより、検体の表面のxy方向( 検体の面方向)の走査を実施させる。各光弁の開放状態の時間間隔は、光源の輝 度および各体積エレメントからの応答収集効率に強く左右される関数である。あ る実施形態ではこの時間は1ミリ秒未満であり、他の実施形態では数十から数百 ミリ秒を要する。 制御部18はまた、z方向(一般的に、サンプルの面に対して垂直な軸)にお けるサンプル内での体積エレメントの位置を制御する。これは数々の手法によっ て達成され得る。たとえば、光学アセンブリ全体をz方向にて前後に移動させて もよい。ある実施形態では、サンプル内での視野絞りの結像面のこの移動は、対 物部のみ、または光弁アレイ、あるいはそれらの両要素を同時に移動させること により実施される。設計詳細はデバイスの特定の実施形態による。 励起ビームによってプローブされる体積エレメント内において(体積エレメン トの周辺領域に相対して)照射輝度は最も強く、並びに、センサ29によって検 出される応答は主にその同じ体積エレメントからである(と共に、体積エレメン トの周辺領域から発散される照射は非常に少量しか含まれない)ため、z方向に おけるサンプル内での体積エレメントの位置を変更すれば、サンプルの多様な深 さからの応答が得られることが明白である。このことが、組織による照射ビーム の全吸収およびビームに対する応答が過剰にならない範囲において、多様な深さ におけるインビボの組織の分析が実質的に可能としている。 図3に、本発明のアレイ状体積マイクロプローブ30についての多少異なる実 施形態を示す。このシステムは、適切な光学デバイス(図示せず)を含む光源3 1を有する。光源は、集光レンズ32を通じて共通の視野絞り41を、アドレス 可能なシャッターアレイ34上に投影する。アドレス可能なシャッターアレイ内 の各要素は、サンプル37上に当たる光の空間的分布をさらに限定するよう機能 する開口絞りであると考えられる。サンプル37内の各体積エレメント上に視野 絞りを結像する際に(図2にて説明した実施形態において用いた)単一の大きな 対物部を使用する代わりに、レンズアレイ36がシャッターアレイとサンプルと の間に設置される。レンズアレイ36は、複数のマイクロレンズ42から成る。 レンズアレイの配置周期は、シャッターアレイのそれとまったく同じであり、レ ンズアレイ36内の各レンズ42は、光シャッターアレイ34内の一つの光弁3 8に対応する。多くの実施形態では、シャッターアレイに当たる光はコリメート (平行化)され、シャッターアレイはレンズアレイに対して位置を固定されてい る。プローブされる体積エレメントは、マイクロレンズアレイ内の対物部の焦点 に位置する。シャッターおよびレンズの両アレイの組み合わせをz方向に移動さ せることにより、図2のアレイ状体積マイクロプローブを描写した際に説明した ように、サンプル内の異なる層をプローブすることが可能である。しかしながら 、レンズアレイおよびシャッターアレイを別個に移動可能とし、レンズアレイの みをz方向にて移動させることによりサンプルのz方向におけるプロービングを 実施するような他の構成も構想できる。 光源31からの励起放射に対するサンプリングされた各体積エレメントからの 光応答は、照射を実施した対物要素と同じ要素を通じて収集される。光応答は、 ビームスプリッタ35によって照射ビームから分離される。次いで、これらの応 答は、収集レンズ33を経由して収集視野絞り43上に投影される。この収集視 野絞り43は、センサ39によって受信される応答をプローブされた体積エレメ ントからのみに実質的に限定する。動作時に制御部18は、所定のシャッターを 開放し、単一の体積エレメントを照射させる。さらに、同じ光シャッターは同時 に、その励起に対する応答が検出器39によって記録されることを可能にする。 次いで、その光弁は閉鎖され、他の光弁が開放される。それにより、サンプル内 の別個の体積エレメントが順に走査され、それらの光学的応答が得られる。所定 のx,y面内のアレイ内の所望の体積エレメントの全てを走査した後に、(z軸 上の)異なる深さにおけるアレイを再走査することもでき、それによりターゲッ トサンプルについての三次元情報を得ることができる。また、各ピクセルにおい て、制御部がシャッターアレイをレンズアレイと共にz方向に移動させるあいだ 対応する光弁38を開放し続けるよう、アレイ状体積マイクロプローブを操作す ることを選択してもよい。それにより、同じx,y位置の複数の体積エレメント が、検体の多様な深さにてプローブされる。 アレイ状体積マイクロプローブのさらに他の実施形態では、照射および検出用 光学デバイスにはそれぞれ、別個の光学シャッターのアレイが備えられる。図4 に、そのような実施形態の概要を示す。詳細には、アレイ状体積マイクロプロー ブ50は、光源51と、第一の視野絞り52と、コリメーティングレンズ53と 、第一のシャッターアレイ54と、第一の対物部アレイ55と、ビーム分割手段 56と、第二の対物部アレイ58と、第二のシャッターアレイ59と、第二のコ リメーティングレンズ60と、第二の視野絞り61と、検出器62とを含む。図 4に図示していない要素は、光源51および検出器62をそれらの各々の視野絞 り52および61に投影させる適切な手段である。動作時に光源51は、励起放 射の回折解像力限界より大きい寸法を有する視野絞り52上に投影される。視野 絞り52から発散される光は、実質的に平行なビームにコリメートされ、そのビ ームはシャッターアレイ54の後側に当たる。所定のどの時点においても、光シ ャッターアレイ内の光弁の一つのみが開放され、それに対応する検出用シャッタ ーアレイ内の光弁が開放されている。上述と同様、サンプル内の体積エレメント アレイの逐次的照射と検出用アレイ内の適切な光弁の同期開放との組み合わせに よって、所定のどの時点においても、プローブされる体積エレメントからのみの 応答が検出されることが確実になる。同じく、x,y方向における走査は、制御 部18が両シャッターアレイ内の光弁の開放および閉鎖を同期させて制御するこ とにより可能となる。本実施形態において、両視野絞り52および61は、サン プル57内の各体積エレメント63を経由して互いに共役していると理解される べきである。 図4Aに、図4に示すものと実質的に同等の構成を示すが、これらはマイクロ レンズ58のアレイが単一の大きなレンズ58'によって代替されている点が異 なる。図4および4Aにおいて、同様の要素には同じ符号が付されている。 図5に、本発明のさらに他の実施形態であるアレイ状体積マイクロプローブ7 0を示す。このシステムは光源71と検出器72とを含む。それらの光学的軸は 互いに直交し、第一のビームスプリッタ73によって分離されている。光源から 発散される光は、集光レンズ75および第二のビームスプリッタ76によって視 野絞りのアレイ74上に集光される。視野絞りアレイ74は、マイクロミラー7 7のアレイから成る。このマイクロミラー77は、アレイの面に概ね平行な面か ら傾斜させたり、その面に戻したりすることができる。これらのミラーのいずれ かの一つが非傾斜位置にて反射した光は、第二のビームスプリッタ76を通過し 、対物部77によってサンプル79上に投影される。図5に示すように、所望の どの時点においても一のマイクロミラー78のみがサンプル上に光を反射するよ う方向づけられる。アレイ内の他のすべてのマイクロミラーは傾斜され、それら に当たる光はサンプルから離れた方向へ反射される。図5において、光線1およ び4はフィールド全体に対する限界光線であり、光線2および3は単一のマイク ロミラーの限界光線である。動作時に、マイクロミラー77は、制御部18によ って順次非傾斜位置にされる。マイクロミラーをそのように順に非傾斜にするこ とにより、サンプル79内の体積エレメントからの一連の応答が検出器72に記 録される。次いで、それらの応答から人工的イメージを記録し表示することがで きる。前述の実施形態と同じく、体積マイクロプローブによるz方向(深さ)に おいてのサンプルのプロービングは、対物部77またはアレイ74をz方向にて 移動させることにより達成される。 ミラーの傾斜制御は制御部18によって実施される。傾斜機構は、従来技術に て周知の数々の手法によって実現され得る。たとえば、ミラーはシリコンをマイ クロ加工して形成でき、ミラーの裏の真中に片持部を残すことができる。二つの 対向電極を用いてそれらの一方または他方にミラー自身の電荷と反対の電荷を印 加することにより、片持部を軸にしてミラーを傾斜させる。ミラーの傾斜を実施 する他の方法が、変形自在な(deformable)ミラーの技術において周知である。 その方法では、各マイクロミラーは二極性圧電素子上に搭載される。 図5に示す実施形態の変形である本発明のさらに他の実施形態を図6に示す。 アレイ状体積マイクロプローブ80は、光源81を含む。光源81からの光は、 第一の視野絞り(図示せず)を通過し、さらにレンズ82を通過するよう調節さ れている。その光は、マイクロミラー83のアレイ上へコリメートされる。マイ クロミラーは上述のとおり傾斜可能である。しかし、ここで各マイクロミラーは 、回転放物面体の軸外れ切片(an off-axis segment of a paraboloid of revol ut ion)の形状であり、それは、アレイからサンプルまでの距離よりやや大きい 半径を有する弧を掃引する焦点を有する。ミラーが非傾斜位置(アレイ面に平行 )の時、(特定のミラーはその回転放物面体の軸外れ切片である)回転放物面体 の軸はアレイ面に対して垂直であるという幾何学的構成になっている。したがっ て、(その回転放物面体の)焦点とそのマイクロミラーとを結ぶ線は、アレイに 対する法線に対して所定の角度に位置する。マイクロミラーをその角度に渡って 傾斜でき、それにより放物面の焦点をサンプル上に配置する。 本発明の一つの実施形態によれば、放物面の軸外れ切片の右の行89と左の行 88とに交互にマイクロミラーが配置される。右の鏡は励起鏡、左の鏡は検出鏡 と呼ぶことができる。上述の角度で傾かせた時に、右の行89の各切片の焦点は サンプル内の体積エレメント85にあり、それぞれの回転の放物軸(paraboloid axis of revolution)は励起ビームの光学軸と平行であり、一方、隣の左の行 の各マイクロミラーの反対側への(同じ角度での)傾きは各マイクロミラーの焦 点をサンプル84内の同じ体積エレメント(85)へと動かし、そのそれぞれの 放物面の回転軸は検出器の光学軸と平行である。 従って、右の行89の全ての鏡はサンプル84の体積エレメント85を励起す るために用いられ、全ての左の行88は体積エレメント85からの応答を集める ために用いられる。動作中は、その与えられたどの時間においても、鏡の一組の みが傾けられ、その他の全ての鏡の軸はサンプルに向かって下を向く。その結果 、光源81からの励起ビームは体積エレメント85に結像され、より正確には第 一の視野絞りがそのように結像され、同時に他の全ての鏡に衝突した光はサンプ ルから全ての方向に拡散される。同様に、体積エレメント85から放射された応 答のみが、検出器の前の第二の視野絞りに結像される。この結果、体積エレメン ト85の外側では励起ビームの強度がすみやかに減少し、体積エレメント85の 外 側からの応答が検出器87の前の第二の視野絞りによって実質上遮断されるため 、非常に高い程度の識別が得られる。制御部18は、サンプル内の違う体積エレ メントからの応答のアレイを取得するための鏡の各組の傾きのシーケンスを制御 する。体積エレメントのサンプル内での深さもまた、制御部18によりz軸に沿 って総合アレイ83をサンプルに近づけ又は遠ざけるように動かすことによって 制御される。 図6に示す体積プローブアレイに少し変更を加えた実施形態を、図6Aに示す 。この実施形態は、各軸外れ放物面マイクロミラーを、励起及び検出鏡の両方と して使うことを可能にする。このシステムは図6に示し上で述べたものと同等で あり、体積プローブアレイ80'のアレイ83'のマイクロミラーが右又は左に9 0°回転されている点が異なる。従って、未回転の位置では、各鏡の回転軸(及 び従って光学軸)は、励起及び検出光学系から90°の角度である。しかしなが ら、鏡89'が右に90°回転させられた時、その回転軸は励起軸と平行となり 、軸外れ放物面マイクロミラーの焦点は、体積エレメント85'にある。もし、 隣の鏡88'が同時に左に90°回転させられれば、その回転軸は検出光学系と 平行になり、その焦点は体積エレメント85'にある。体積エレメント85'は、 この出願と共に係属中の米国特許出願第08/510,041号及び米国特許出 願第08/510,043号に詳細に記載されるように、二つの視野絞りの像の 重複部分によって決定される。図6に示す実施形態と同様この実施形態において も、励起及び検出光学系の視野絞りは共有共役され、目標体積エレメントへの励 起ビームの空間識別、及び、実質上、各体積エレメントからの検出された応答の 空間識別を提供する。動作中は、制御部18は、二つの隣り合ったマイクロミラ ー(89'及び88')を上述のように同時に回転させ、従って、実質上所望の体 積エレメント85'のみを励起し、体積エレメント85'からの実質的な放射に応 答する。 図6Aに示す実施形態の利点は、各ミラーを体積エレメントの励起又は隣の体 積エレメントからの応答の収集のどちらにも使えるため、同じマイクロミラー密 度で、体積エレメントのより高い解像度を可能にする点である。これは、全ての 左の鏡は応答の収集のみに使うことができ、全ての右の鏡は体積エレメントの励 起のみに使うことができる図6に示す実施形態とは異なる。図6に示す実施形態 において、各軸外れ放物面の切片は、アレイの平面に対して垂直な平面で傾けら れるが、図6Aに示す実施形態では、回転面はアレイの平面と平行である。 図7において本発明の更にもう一つの実施形態を示す。アレイ状マイクロプロ ーブ90は、光源91及び第一コリメートレンズ92を備える照射光学アセンブ リと、検出器93及び第二視コリメートレンズ94を備える応答収集光学アセン ブリとを有する。光源アセンブリ及び検出器アセンブリのそれぞれの光学軸は、 お互いに対して90°の角度である。ビームスプリッタ95が励起及び検出ビー ムの交点に配置され、検出信号を励起信号から分離する。ファイバ切換要素97 とインターフェースで連結された光ファイバ102に励起ビームの焦点をあわせ るため、レンズ96が使われる。ファイバ切換要素97は、対向する側で複数の ファイバ98によって終結され、切換要素は、光学的に又逐次的に(制御部18 の制御下において)近くのファイバ102を遠くの束のファイバ98のいずれに も接続することができる。束の中の個々のファイバの端は、次にアレイ99(こ のアレイは線形のアレイであっても二次元のアレイであってもよい)に配置され る。次に、対物部100が、ファイバの束のファイバのそれぞれの端を検体上に 結像する。個々のファイバ端の各々は、(ファイバケースの中で、)サンプルに 結像される視野絞りを定義する。この視野絞りは、励起ビーム及びサンプルから の検出された応答の両方の視野絞りとして働く。この出願と共に係属中の米国特 許出願第08/510,041号及び米国特許出願第08/510,043号に より詳細に記載されるように、このような配置は、視野絞りが結像された体積エ レメントを介して、励起及び検出された光学系の両方の共役を伴い、従って、励 起ビームと、実質上アレイの各ファイバに関連した各体積エレメントからの応答 との両方の空間的な識別を提供する。 動作中は、ファイバ切換要素97が励起ビームを順次束98のファイバの全て を通すように方向を定める。その結果、サンプル101の複数の体積エレメント (束98のファイバのアレイに対応した分布を持つ)が、順次励起される。応答 は同じ視野絞り(各ファイバの端の自然な開口)を通じて収集され、ビームスプ リッタ95によって検出器93で検出されるように励起ビームから分離される。 この方法により、次にサンプルの人工的な画像として表示することのできる体積 エレメントのアレイから応答を取得する。この実施形態は、光源が束の異なるフ ァイバに順次使われるため、励起のより高い強度が可能であるという利点を持つ 。 図8に体積マイクロプローブアレイ110のその他の実施形態を示す。この装 置は、励起又は光源アセンブリ111、及び検出器アセンブリ112の二つの光 学アセンブリを有する。各アセンブリは、それぞれ、それぞれの個々のファイバ の束113及び114に連結する。一つの実施形態では、ファイバケース115 内で個々のファイバが二つの行116及び117にそれぞれ組織化される。線形 のアレイが望まれる時は、ファイバは二つの対向する行として組織化され、一つ の行は束113内の励起ファイバを含み、他方の行は束114内の検出器ファイ バを含む。二次元アレイが望まれる時は、ファイバは励起ファイバと検出ファイ バとが交互の行に組織化され、このような行はお互いに対して小さな傾きを持つ 。励起光学系111は、光源118及び光源からの出力を束113の各ファイバ に順次焦点を合わせることができる焦点合わせ光学系119を含む。回転するミ ラー120が光源を束113のファイバの開いた開口に指し示すために使われる 。励起ファイバの入力開口は、回転するミラーからの光の収集を向上させるため に適切な方法で終結することができることを理解すべきである。このような末端 は、これに制限されないが、ファイバの入力端の外に向かった開き(flaring) 、又は従来技術で広く知られる小さな合成放物面集中装置による各ファイバの末 端、を含む。 動作中は、制御部18がミラー120に増分回転をさせ、励起ビームを順次束 113のファイバに向ける。この光は、次に、各ファイバの遠端において、実質 上各ファイバの開口である励起視野絞りを通って放射される。これらの視野絞り は、各ファイバの端の対物マイクロレンズと共にサンプル124に結像される。 励起及び検出ファイバ両方の遠端は対物部として働くマイクロレンズへ終結され る。励起及び検出ファイバは、お互いに対して少しの角度があっても良く、それ ぞれの視野絞り(ファイバの開口)の共有された共役(shred conjugation)が プローブによってプローブされる体積エレメントを定義する。サンプル内の体積 エレメントは、ファイバケース115の中のファイバの組織に依存してファイバ の構成の鏡像、すなわち点のロー(行)又はアレイとなる。体積エレメント間の 距離は、ファイバケース内のファイバ間の距離と同一であってもファイバケース 内のファイバの間隔と異なっていてもよく、これは中継レンズ125の倍率に依 存する。いくつかの実施形態では、中継レンズのファイバケースに対する相対的 な動きを許可することもでき、これによって倍率(又は縮小率)を提供すること ができる。しかしながら、各体積エレメントの大きさもまた、多少変更される。 この構成により、サンプル124内の体積エレメントのアレイに対しての逐次 的な照射が可能になる。励起された体積エレメントは、励起ビームに対する応答 を放射する。実質上、所望の体積エレメントから放射される応答のみが検出され ることを確実にするために、応答は束114からの専用ファイバによって収集さ れる。応答ファイバのそれぞれの視野絞り(自然な開口)が、対応する励起ファ イバのそれぞれの視野絞りと各々共役されるように光学系が構成される。この共 役(又は、励起及び検出の視野絞りの間には少しの距離があるので、より正確に は共有された共役)の結果、励起ビームの最大強度は、サンプル内で共有された 共役の区域内(プローブによって調べられる体積エレメント)にあり、この強度 は、体積エレメントの外では非常に急激に衰える。更に、各検出ファイバにおい て収集された応答は、実質上体積エレメントからのみ放射され、隣の組織から収 集された応答は、励起及び検出視野絞りの共有された共役の区域から取得された 応答に比べて非常に小さい。 体積エレメントのアレイの励起は順次行われるため、応答は、ファイバの束1 14を通じて順次検出光学系112に伝達される。本発明の好適な実施形態では 、応答光学系は、応答を収集レンズ122を通じて検出器121へ向ける(順次 そして励起鏡120と同期して)受信回転鏡123を含む。これにより、隣のフ ァイバによって収集される漂遊応答(すなわち共有された共役の区域の外、従っ て目標の体積エレメントの外から放射される応答)が検出器に届かないことを確 実にする。この方法によって、前と同様に、空間的な識別を取得し、特定の体積 エレメントからの応答の逐次的な検出が達成される。 この実施形態では、ビームスプリッタの使用が避けられ、非常に単純な光学系 のみが装置の遠端で使われる。このような装置は、腹腔鏡や内視鏡的な装置等の サンプルと光学系との間(光源と検出器)に距離が必要とされる場合に特に適切 である。この実施形態は、上述のいくつかの実施形態と違いアレイ全体に同時に 光源資源が分布されないため、より高い励起エネルギが可能であるという追加の 利点を持ち、この点では、図7に示されかつ上述された実施形態に類似している 。 図9及び図10において、本発明の二つの追加の実施形態を示し、この二つは 、図に示すように指定可能な光シャッタのシステムの位置のみが異なる。図9に おいて、光源131、検出器132、光ファイバの束133を備える体積マイク ロプローブアレイ130を示す。光ファイバの束の近端は、指定可能な光シャッ タアレイ134にインターフェースを通じて連結する。光シャッタは、制御部1 8の制御下にある。束133内の各ファイバは、アレイ配置に配置され、この配 置は指定可能な光シャッタアレイに対応する。光源131は、集光レンズ135 及びシャッタアレイ結合レンズ136を介して光シャッタアレイに結合する。こ の結果、光源からの光は、光シャッタアレイに分布され、シャッタの一つが開い た位置になった時、光はその特定のシャッタと結合した特定のファイバに伝達さ れる。ファイバの束の遠端では、装置は対物光学系137を備え、この対物光学 系は実質上サンプル139上にファイバの各開口138を結像する。ファイバの 遠くの開口は実質的に、この実施形態の体積マイクロプローブアレイ130の各 体積マイクロプローブのための励起及び検出視野絞りとして働く。サンプル内の 体積エレメントから放射された励起信号への応答は、励起が行われたものと同じ 対物光学系137及び同じファイバを通じファイバによって収集される。 励起及び検出光学系の両方の視野絞りは、プローブによって調べられる体積エ レメント内で共役されるため、励起及び応答は、各ファイバによってプローブで 調べられる個々の体積エレメントに制限される。動作中は、光シャッタアレイは 制御部18によって制御され、与えられた時間において一つのファイバのみが動 力を供給されるように順次ファイバの束の前の光シャッタを開ける。従って、開 いているシャッタに結合したファイバからの応答を同時に検出することによって 、目標のサンプル内の病変の完全な人工像を構築できる。上述のいくつかの実施 形態のように、応答は、励起からビームスプリッタ140によって分離され、こ のビームスプリッタ140は、励起光学系及び検出光学系の光学軸から45°に 位 置する。 図10において、同様の体積マイクロプローブアレイ150を示す。本質的な 違いは、シャッタアレイ154がファイバの束の遠端に配置されることである。 これによって、光ファイバの個々の開口ではなく、シャッタアレイ内の各開口に よって決定された視野絞りのアレイを選択することができる。 上述の体積マイクロプローブアレイのいくつかの実施形態では、シャッタアレ イの隣の完全な領域に対応する複数の検出器が用いられる。各検出器は、光シャ ッタアレイの副アレイから、従ってサンプルからの応答を受け入れる。これらの 実施形態では、光シャッタアレイの各副アレイの光弁を同時に開きそれぞれの検 出器で応答を検出することによりデータ収集が加速される。この方法を使う時に は、各特定の領域の外の応答からの干渉(又は雑音)が、予め設定された各領域 のサンプルからの予想される応答の値よりも小さくなることを確実にするために 注意が向けられる。 上述の数個の実施形態では、サンプル内の体積エレメントアレイの逐次的な励 起及び体積エレメントからの応答の収集のために光シャッタアレイが用いられて いる。いくつかの実施形態では、各シャッタが励起及び検出視野絞りとして働き 、その他の実施形態では、システム内の他の光学要素が視野絞りの機能を実行す る。このような光シャッタは、従来技術において広く知られており、多数の表示 装置に使われてきた。このような装置では、反射が返ってくる光シャッタの開け 及び閉めの集合の順序が、固定又は時間によって変化する画像を提供する。 このような従来技術のシャッタの実際の実施形態は、多数の形態を取ることが できる。最も広く使われている光シャッタアレイは、二つの偏光子のシートをア レイの前と後ろに一つづつ持つ液晶素子のアレイである。アレイの要素の各々に 、電圧を加えることができる。電圧が十分に高い時、液晶が、それを通る光の偏 光の平面を回転させる。二つの偏光子は、電圧が加えられていない時には、どの ような光も通さないように方向付けられる。従って、偏光子は、交差偏光される (相対的な方向が90°であり、従って、第一の偏光子が一つの方向に偏光され た光を全て除去し、第二の偏光子が活動してない液晶素子を通る光を遮断する。 )。十分に高い電圧が加えられた時には、液晶セルを通過する光の偏光平面が回 転さ れ、第二の偏光子が活動的な液晶セルを通る光に対して実質上透明になる。指定 は従来技術と同様に行と列のどちらかで行うことができ、行と列の両方に加えら れた電圧の和のみが偏光した光の望まれる回転のために十分である。現行の液晶 表示装置に比べて、我々の光シャッタの寸法は比較的大きく、シャッタの数が少 ないため、このような指定でほぼ十分であり、励起及び検出視野絞りの共役によ る強力な空間的識別を考慮して、クロストーク(cross talk)は最低限であり重 要ではない。 非常に大きなアレイが望まれる時は、アクティブマトリックス液晶表示装置( すなわち画素の活性化が各画素の個々のトランジスタの直接的な切換による)に 使われるような方法を実施することもできる。 また更なるもう一つの実施形態では、シャッタアレイが、液晶光シャッタアレ イと類似した方法で活性化される強誘電性素子を含む。これらのシャッタアレイ は、切換速度が必要とされる時、すなわちアレイ内の与えられた光シャッタの開 け閉めの速度が速い時、に有効である。 更なるもう一つの実施形態では、光切換媒体が高分子分散液晶(PDLC)で ある。このような膜では、液晶の小滴の分散が、屈折率が液晶の分散の場に方向 づけられた屈折率と同じ高分子に埋め込まれる。電界が加えられていない時は、 小滴はランダムな方向を向き、光は、全ての方向に拡散される。従って、シャッ タは、閉じた状態と考慮できる。十分に大きな電界がPDLC素子に加えられた 時、液晶の小滴は電界に方向付けられ、従って電界の向きにおいては、屈折率は 実質上定数となり、光は妨害されることなく通過する。従って、シャッタは開い ている。 さらにもう一つの実施形態では、実質上、電気機械のシャッタが使用される。 このような装置は、圧電性バイモルフによって簡単に実行することができ、この ような圧電性バイモルフは、始動させられた時に光の経路の外に曲げられ、活動 的でない時は直線の形をとり、与えられたシャッタを通じての光の伝達を遮断す る。 図13aに光シャッタアレイ310の平面図を示す。このシャッタアレイは、 二つの主要構成部分を備え、目打ち(perforation)311のアレイ及び活動フ ラグ321のアレイ320が提供される受動ベース要素を備える。受動ベースは 、適切なプラスチック、金属、又はシリコンから形成されてよい。本実施形態で は、目打ち311は約0.1ミリメートルの直径を持ち、格子状に目打ち間の距 離が約1.0ミリメートルになるように間隔を空けられる。本発明の教示から外 れること無く、他の寸法を選択することもできると理解されるべきである、目打 ちは、好適には多少の円錐形で、その底面を近端に、切り取られた頂点を遠端に 持ち、各々が0.1ミリメートルの外側の直径を持つ光ファイバの置場として働 く。製造過程では、このようなファイバはまず挿入されてその場に固められ、そ の後、ファイバをその場所に含む受動ベースの表面は光学的に磨かれ、ファイバ がベースの遠くの表面と同一平面にあり許容できる光学仕上げを持つことを確実 にする。表面は、次に、抗反射被覆によって処理され、ファイバの遠端からの光 学反射を最低限にし照射及び信号収集効率の両方を向上させることもできる。 可動フラグ321のアレイ320は、ポリビニルジフルオライド(polyvinyl difluoride;PVDF)等の圧電性物質の二つのシートを金属被覆と共に両側に 含む。二つのシートは最初に共に固められる(例えばアクリロニトリル化合物に よって)。次に金属被覆がエッチングされ、図13aに示すようにPVDFシー トの組の上側に電極323の行のパターンが共通リード322によって相互接続 され(行に)残される。電極323は、フラグ321と同じ形を持つ場合もあり 、又はフラグよりも少しだけ小さい場合もある。図13bに、アクティブフラグ 321のアレイ320の下側を示す。下側の金属被覆はエッチングされて、各フ ラグのための第二電極324を提供し、この第二電極はリード325によって列 に相互接続される。一つの側に電極の行を他方に電極の列を残すように組になっ たPVDFシートの両側が処理された後、フラグが形成され、電極は両側で一致 する(重なる、しかし二つのPVDFシートによって間隔をあけられる)。フラ グ321のアレイは、アレイの対向する金属被覆された電極の組の各々の周りに 蹄鉄に似た目打ち326を打印又はエッチングして形成する。当業者には、フラ グを最初に形成し電極の行及び列の間の余分な金属被覆をエッチングする方法を 選択することもできると理解できるであろう。 動作中は、上部電極323の行に共通リード322を通じて電圧を加えること により、その行のフラグ321の上半分(上部PVDFシートによって形成され た)をそれぞれの動力の無い状態よりも短くし、同様の電圧(ただし逆の極性) を下部電極324の列に共通リード325を介して加えることにより、その列の フラグ321の下半分(下部PVDFシートによって形成された)をそれぞれの 動力の無い状態よりも長くする。適切な電圧が特定の行のみに導電体328を通 じて加えられ、特定の列のみに導電体327を通じて加えられたと仮定する。そ の時点で上部及び下部の両方の電極が電圧を加えられている唯一のフラグ、フラ グ329は、その上部に上半分が短くなる電圧を加えられ、その下部に下半分が 長くなる電圧を加えられる。その結果、フラグ329は、上に向かって曲げられ 、その下にある目打ちを露出し、照射がサンプルに届くようにし、サンプルから の応答が光ファイバの開口に届くように、即ちセンサに伝達されるようにする。 行導電体328によって電圧を加えられた行の他のフラグ全ては、それぞれの下 部電極においての電圧が全く無く、同様に列導電体327によって電圧を加えら れた列の他のフラグ全ては、それぞれの上部電極においての電圧が全く無い。従 って、行導電体328と列導電体327によって同時に電圧を加えられたフラグ 329のみが、上に向かって曲げられる。これによって、与えられた列に適切な 電圧パルスを印可しかつ順次行に電圧のパルスを与えることによりPVDF光学 シャッタアレイのフラグ321を動作させ、又は適切な電圧をフラグの座標の行 及び列に加えることによりフラグをランダムに活性化させることができる。 図14に、PVDFを基礎にした光学シャッタアレイの変形物330を示す。 PVDFフラグ332は、図13a及び図13Bに示した上述のシステムと同様 の様式で構成されている。詳しくは、二つのPVDFシートが、背中合わせに固 められ、フラグ332は、両側の電極から形成され、上側ではリード333によ って列に接続され、下側では、リード334によって行に接続される。この構成 が、目打ちのアレイ331を含む板の上にかぶせられる。フラグは主格子(Ma in Lattice)に対して45°の角度で方向付けられ、フラグのより大 きな運動を許す。これは、ファイバが非常に多数の開口を持ちファイバから放射 されるビームが大きな角度で広がり、サンプルからの応答の収集角度が同様に大 きい時に重要である。このアレイの動作は、上述の原理に従う。より詳しくは、 与えられた列及び与えられた行に駆動電圧を加えることにより、その行と列のフ ラグを動作させる。 これらは、光シャッタの始動が圧電性バイモルフが引起こす動きに基づく光シ ャッタアレイの実施形態の二つの例にすぎない。もう一つの構成では、バイモル フはアレイのベース表面に垂直な行に配置され、各バイモルフがフラグ(アレイ の平面に平行に、従ってバイモルフに垂直に)を有しアレイのそれぞれの目打ち を覆う。各バイモルフの始動により、アレイ表面の上でなくアレイ表面に平行な 動きをさせる。この実施形態は、多少実行が難しいが、特にアレイに使われる光 ファイバが多数の開口を有する時にバイモルフの曲がりが小さくて済むという利 点を持つ。 図15に、光シャッタのアレイの更にもう一つの実施形態を示す。この実施形 態では、アレイ340は、シリコンウェーハからミクロ機械加工(micromachini ng)の技法によって形成されるのが最も良い。アレイの様々な構成部分の説明を 特定の順番で下に示すが、この順番は、ミクロ機械加工処理で使われる順番であ る必要はない。光ファイバをこれを通じて挿入する目打ち341が、アレイに提 供される。この実施形態では、これらの目打ちは、約0.1ミリメートルの直径 を持ち、1.0ミリメートル間隔の格子に間隔をあけられる。各目打ちは、それ ぞれのシャッタ342に関連付けられる。シャッタ342は軸345を介して薄 い柔軟なアーム343をベース板344の一つの側に固定されて備える。アーム の対向する側では、フラグ346が提供される。このフラグは、シャッタが閉じ た位置ではそれぞれの目打ち341を覆うのに十分な大きさである。二つの連続 した杭347及び348がアーム343の対向する側に配置され、適切な電気リ ード(図示せず)に接続される。同様に、シャッタ要素は、それぞれの電気リー ド(図示せず)に接続される。 この実施形態には多数の可能な変形があり、これらの種類のいくつかをここで 説明する。一つの実施形態では、光シャッタの全体アレイがモノリシックに単一 のウェーハから製造される。この場合、アーム及びフラグは「開き」位置349 に機械加工される。さもなければ、目打ちをエッチングすることが実行できなく なる。他の実施形態ではアレイは、二つの断片を共に固めて生成される。一つの 断片はアームのアレイを含み、他方の断片は目打ちのアレイを含むことができる 。すると、アームの静止位置を閉じた位置にすることが好適である。杭の集合3 47及び348は二つのウェーハのどちらの上に存在しても良いが、実用的な理 由からアームのアレイに生成することが好適である。また、単一のうまく配置さ れた杭を杭の集合347に提供し、単一のうまく配置された杭を杭の集合348 に提供することも可能である。特定の設計の選択は、アレイの光シャッタから必 要とされる動的な応答に依存する。 光シャッタとしてのアームの動作は、このアセンブリの様々な部材での荷電及 び放電によって発生する静電的引力及び反発に基づく。動作中は、アームは例え ば負の電荷に荷電され、遠くの杭347は正の電荷に荷電され、この杭の集合に アームがひきつけられるようにする。この動作を加速させるために、近くの杭3 48を負の電荷に荷電し同時にアームへ反発させることも可能である。動いてい るアームと杭の集合347又は348との実際の接触のどちらも必要でないこと を理解すべきである。実際にはこのような接触を避けることが好適であり、この 目的を達成するためにアセンブリ全体が処理されてシリコン酸化物の薄い層を絶 縁体として持ち、それによりこのような接触を避けることもできる。 シャッタアレイの駆動を容易にするため、行と列に活性化電圧を加えることが 好適であり、与えられた列と与えられた行の同時の始動のみが選択された行と列 の交差点でのシャッタを開けさせる。これは、いくつかの方法で達成することが できる。装置が二つの独立したウェーハから形成されている場合を考慮すると、 アームの静止位置は閉じた状態にあることができる。従って、電荷がアームに存 在しない時は、光シャッタは閉じられている。図15において、第一の行のアー ムの全てを負の電荷に荷電するパルスを加え、第一の列のリードの組を通じて杭 347に正の電荷を、杭348に負の電荷を加える。第一の行、第一の列のアー ムは負の電荷に荷電され、負の電荷に荷電された杭348から反発され、正の電 荷に荷電された杭347に引きつけられ、従って、フラグ346によって覆われ ていた光シャッタを開く。第一の行の他のアームは、それぞれの杭347及び3 48が荷電されていないため、影響を受けない。同様に、第一の列のアームの全 ては荷電されておらず、従って、杭347及び348が荷電されているにも関わ らず、アームは動かず、よって光シャッタを閉まった状態に残す。アレイ全体を 走査する時は、与えられた行の全てのアーム343で荷電状態を継続し、隣の列 の杭を順次荷電していくこともできる。 閉じた位置へのアームの復帰は、アーム内のばねの力又は杭347及び348 の電荷を反対にして活動的にすること、のどちらかの方法で達成することができ る。閉じた状態への受動的な復帰又は活動的な復帰の選択は、走査処理の動作に 依存する。非常に迅速な走査が望まれる時は、杭の電荷を反対にする方法が好適 であるが、動的な応答がより遅くても良い場合は、静止位置への機械的な緩衝を 実施してもよい。 図16にミクロ機械加工によって形成された光シャッタアレイのもう一つの実 施形態を示す。ここでは、図15と同様、このアレイはモノリシックに製造され ても良いし、二つの副構成から組み立てられても良い。ベース板では、直径が約 0.1ミリメートルで1.0ミリメートルの間隔の点を持つ格子に間隔をあけら れた目打ちアレイ361が提供される。活性要素は、アームがその周りを回転で きるひねり可能な杭と共にベース板に取付けられた平らなアーム362を含む。 アームの遠端は、目打ちを覆うために十分広く従って目打ち内に取付けられたフ ァイバへの光の経路を遮断する。図16には目打ち361を覆うように徐々に幅 が広がるアームが示されるが、遠端が目打ちを覆うために十分に広いフラグによ って終わらされている狭いアーム362を提供することもできることを理解すべ きである。 アームの近端は、通常アームの軸に垂直な構成364によってさえぎられる。 二つの杭365がベース板から突き出し、構成364から多少離れて配置される 。例えば、アームが負の電荷に荷電され杭365が正の電荷に荷電された時、静 電的引力がアームを回転させ、目打ちを露出させ、従って位置366に示される ように光学シャッタを開く。上と同様、ここでは、アレイは、与えられた行を負 の電荷に保持(その行のアーム362を荷電)し、杭365の全ての組を正の電 荷に荷電し列を走査することによって、光学シャッタアレイの逐次的な開き及び 閉じを取得するように動作することができる。上と同様、アームを静止位置に復 帰させるためにシリコンの弾力性のある性質に頼ること(ねじれベース363の ば ね動作を通じて)もでき、又は次の列に切替える前に杭の組の電荷を反対にする こともできる。 多様な光源が本発明のアレイ体積マイクロプローブに関連して使うことができ る。例えば、望まれる応答が蛍光であった時は、337ナノメートル等のスペク トルの紫外線部分の波長を持つ窒素レーザ等のレーザ源がしばしば使われる。後 方散乱及びスペクトルの広域部分での吸収が望まれる応答の時は、光源は、これ らに制限されず、キセノン放電ランプ、ハロゲン白熱灯、又はその他の適切な広 域スペクトル光源等の広域スペクトル源である。更に、このような光源は、適切 なフィルタによって光スペクトル分布の均質化又はさもなければ変更する状態に できる。与えられたシステム内で単一よりも多くの光源を使うことも企図されて いる。従って、体積マイクロプローブアレイは蛍光測定を行うためにUVレーザ 源を含み、そして同じように散乱及び吸収測定を行うために広周波帯光源を含む ことができる。特に赤外線の近くに富んだ第三の光源を含むこともできる。動作 中は、これらの光源を励起光学アセンブリに所定の順序で向けることができる。 例えば、典型的なUVレーザ源は、比較的短い持続時間(例えば、マイクロ秒以 下)のパルス及び遅い繰返し速度を持つパルスモードで動作される。従って、1 ミリ秒又はその数分の一の励起間の経過時間(光源の過熱を回避するためにしば しば行われる)が、蛍光応答の測定の間において利用可能である。この経過時間 の間、広帯域光源が励起光学系に向けられることが可能であり、その第二光源に 対する目標サンプルの応答の測定を検出することができる。 さらに、追加の診断及び分析情報をプローブで調べられた体積エレメントから 取得するために、プローブで調べられた物質の分子構造情報を提供するラマン散 乱データ(Raman scattering data)を取得することができる。光源又は励起ビ ームは、この場合、スペクトルの可視範囲内のレーザであってもよい。強いビー ムによってスペクトルの可視範囲で発生させられた蛍光信号(非常に弱いラマン 散乱応答を隠してしまう)の低減が望まれる時は、スペクトルの遠赤又は赤外線 に近い部分のレーザを使うことができる。このような光源は、633ナノメート ルのHeNeレーザ、783ナノメートルのGaAlAsダイオード又はレーザ 、又は1064ナノメートルのNd:YAGレーザであってもよく、又はその他 の 近赤外線ダイオード又はレーザダイオードであってもよい。本発明のいくつかの 実施形態では、多数の光源が使われた時、多数の検出器を使うこともできる。各 々は予想されるスペクトル応答又は応答強度に対して最適になるように設計され る。このような場合、複数の光源からの励起及びそれぞれに関連した検出器から の応答のタイミングは、制御部18によって制御される。 図11において、典型的な体積マイクロプローブアレイ170とそれに関連し た電子モジュール及び計算モジュールを示す。光学システムは図9及び図10に 示し上で説明されたものと同様であり、ただしビームスプリッタが光学ファイバ アセンブリの遠端に配置され、光シャッタアレイを励起及び検出光学系の両方と して用いる代わりに、光シャッタアレイではなく検出器のアレイを応答の空間的 な分散に用いる。詳しくは、体積マイクロプローブ170は、データ処理及びシ ステム制御装置171及び光学システム172を有する。光学システムは、少な くとも一つの光源173を備える。レンズ174及び175が、光源と光シャッ タアレイ176の間に挿入され、光源をアレイに結像する。レンズ174とレン ズ175の間には、装置176が挿入され、光源のスペクトル分布を調整するこ ともできる。このような装置は、他よりも高い強度のスペクトルの一部を含むこ とのある光源の通常のスペクトル分布を変更するように設計されたフィルタであ ってもよく、従って、励起ビームのスペクトル分布を正規化する。要素176は 、回転するフィルタの輪に取付けられた複数のフィルタであってもよく、違う種 類のフィルタ(又はフィルタ無し)を励起ビームの経路に挿入することができる 。 二つのレンズ174と175の間に、励起ビームを時間及び強度で変調するた めに第二の装置177を含むこともできる。このような構成は、エレクトロニク スシステム171の一部である適切な位相ロック増幅器(図示せず)を通じて、 変調及び検出を同期化させ(制御矢印191及び193によって示す)、検出シ ステムの信号対雑音比を改善するために使うことができる。同様に、複数の光源 の順番、あるいはUVレーザ源のパルス速度とパルスの幅とを含む光源173の タイミングもまた制御部201の制御下にあり、制御矢印192で示す。光シャ ッタアレイ176は、光ファイバの束178に、束内の各ファイバがアレイ内の 与えられた光シャッタに結合されるような方法で結合される。束178内のファ イバの遠端は、同一のアレイの形を保持するために近端と同じアレイ構成に配置 される。個々の光ファイバの開口が、この実施形態の励起光学系の視野絞りを決 定する。アレイ176の光シャッタは制御ライン200を介して制御部201の 制御下にあり、動作中は制御部が順次光シャッタを開き、アレイの全てのファイ バに順次励起ビームを提供する。 束のファイバの遠端から放射される光は、対物光学系179を伴うサンプル1 85に結像される。図11に示す実施形態では、ビーム駆動鏡184が提供され 、その機能は、サンプル内で体積エレメントのアレイが分析されることが望まれ る領域を選択することである。検出鏡184の傾きは、手動で動作できるジョイ スティック187又は制御ライン196を介して制御装置201によって制御さ れる。 サンプル185内の体積エレメントの目標アレイからの応答は、方向づけ鏡1 84によって対物光学系179に向け直され、ビームスプリッタ180が用いら れ励起ビームを応答から分離する。目標アレイでの体積エレメントの照射は逐次 的なので、どの時点でも与えられた体積エレメントからの応答のみが検出アセン ブリで受け取られる。検出アセンブリは検出器のアレイ183を備え、アレイ内 の各検出器構成部分のそれぞれの開口もまた、検出光学系の視野絞りとして働く 。励起光学系と検出光学系の視野絞りとの両方がサンプルの目標体積エレメント 内で共役されるため、実質上、各体積エレメントからのみ放射される応答の検出 が、サンプルの各体積エレメントのために記録されることを確実にする。 検出器アセンブリはまた、スペクトルフィルタ181等の追加された伝統的な 光学要素を含み、その光学要素の機能は応答からスペクトルの望まれない部分を 除去することである。例えば、励起ビームが窒素レーザで、望まれる応答が蛍光 放射である時は、フィルタは励起ビームの反射を遮断しそれらが応答として登録 されることを防ぐ。スペクトル分析器182もまた含まれ、応答のスペクトル分 布を決定する。検出器アレイは、制御ライン194を介して制御部201の制御 下にあり、目標サンプルの各体積エレメントからの励起及び応答の検出の同期化 を確実にする。 検出器アレイ、又はいくつかの実施形態では対物部等のアセンブリの特定の構 成部分、は制御部201の制御下で(制御ライン197を介して)駆動機構18 6によってアセンブリの光学軸と平行な方向に動かされることができ、上述と同 様の方法で、アレイ状マイクロプローブシステムによって調べられる体積エレメ ントのz位置又は深さを調整することができる。 光学的応答を表す検出器からの信号は、信号処理装置202に向けられ、信号 処理装置202は、データ準備モジュール204においての更なるデータ調節の ためにこのデータをアナログ−デジタル変換器203に送る。応答を表す(そし てプロセッサが様々な体積エレメントからのデータであることを認識することを 確実にするために、制御部201から制御ライン199によって達した標識をつ けられた)データは次に、較正器/尺度器205によって処理され、データを正 規化する。これは、光源の出力を監視しライン220を介して光源の出力の変分 のためにデータを再較正することによって達成される。 制御及びデータ処理装置171は、記憶部210を含み、較正及び尺度定数2 08が下に更に説明される相関変換マトリクス209と同様に保存される。シス テムからのデータは、コンピュータ211によって診断情報に変換され、診断値 、又は人工の地図として表示部212に表示される。コンピュータは記憶部(常 駐又は削除自在)を有し、オフラインでの将来での分析のためのデータの保存及 び引出しが可能である。 通常、本発明は、本発明が収集した応答を記録しまた通常は編集及び分析する ために動作されることを、少なくとも一部は、意図する。本発明のいくつかの低 コストの実施形態では、病変の診断予測のみが提供される。この場合、システム は、特定の診断のための相関変換ベクトル又はマトリクスのライブラリを備え、 システムは、下に更に説明するように信号Iij(特定の波長i、特定の体積エレ メントjでの応答強度)のみを登録し、体積エレメントアレイjのための診断得 点Cjを提供するために必要な関数F(Iij)を計算する。 検出器183からの出力は、信号プロセッサ202、アナログ−デジタル変換 器203、データ準備モジュール204での予備処理の後、データプロセッサ2 06に送られる。データプロセッサ206は、検出器183からの出力を処理す ることもでき、又は後に処理するためにデータを記憶部210に保存することも できる。コンピュータ211はまた、検出器183から取得された第一のデータ の集合を記憶部210から取得された第二のデータの集合と比較する能力、又は 与えられたどの時間においても計測された体積エレメントアレイ内の様々な体積 エレメントの比較研究を実行する能力を提供することもでき、従って与えられた サンプル内の体積エレメントの空間的相関を提供する。例えば、データプロセッ サ206はプローブによって調べられた物質を表わす第一のデータ集合と記憶部 210内の第二のデータ集合との相関を計算することができる。本発明のこの態 様の好適な実施形態によれば、第二のデータ集合は光学的応答データのライブラ リ又はそのようなライブラリから取出された数学的モデルであってもよく、下に 「方法及び動作」と題した部分に説明する。 記憶部210は特定の物質のデータの大きな集まりを保存するために使うこと ができる。例えば、記憶部210は、生物学的組織の特定の種類と相互作用した 光の特徴に関するデータを保存することもでき、又は記憶部210は光の波長の 集合の各々からの励起に応答して生物学的組織の特定の種類から放射された光、 特に蛍光、の特徴に関するデータを保存することもでき、又はそのようなスペク トルを組織の深さによって索引して保存することもでき、又は先の観察の集合か ら導かれた他の複雑な多次元スペクトルを保存することもできる。 記憶部210は更に、生物学的組織のサンプルから取得された光の特定の特徴 を特定の診断に関連させた情報を保存することもできる。例えば、一つの波長で 反射された光と第二の参照波長において反射された光との比は、特定の既知の観 察のように癌組織の成長に関連づけることができ、または組織の一つの層の肥大 化、癌発生前の代謝の変化、悪性腫瘍等の臨床上の関連した状態に関連づけるこ とができ、これは、スペクトルライブラリ及び先の臨床的な特徴との相関に基づ く。従って、注釈された又は保存されたデジタル化したスペクトルとの相関は、 従来の診断に必要とされたピークや吸収等の特定の個々のスペクトルの特徴を識 別すること無く、診断判断を提供することができる。 ここに示す、例えば図11に示す実施形態では、検出器183は検体からの応 答をスペクトル分析器182を通じて処理された後で受け取るように示されてい るが、このスペクトル分析器を時間的な干渉計(マイケルソン干渉計;Michelso n interferometer等)又は空間的な干渉計(サニャック干渉計;Sagnac interfe rometer等)で置き換え可能であることは明らかである。結果の干渉写真は、次 に、この出願の他の場所で説明されるような後のデータ分析のために調べられた 各体積エレメントから取得された光学応答のフーリエ変換を提供することができ る。 同様に、ラマン分光(Raman spectroscopy)を行う時に、特にラマン散乱(Ra man scattering)の強度が大きく低減された赤外線に近い光源の励起ビームを選 択した時に、干渉計の代わりにマルチスリットアレイを含むアダマール符号マス ク(Hadamard encodement mask)を、データのアダマール変換を介してプローブ で調べられた体積エレメントのラマンスペクトル応答(Raman spectral respons e)を取得するために応答経路に挿入することができる。 体積マイクロプローブアレイの方法及び動作 従来技術では、複雑で異成分から成るマトリクスの空間的及び化学的分析を正 確な位置測定と共に行うことは、高い程度の同質性を持った領域からのそのよう なマトリクスから取得された応答を限定することができなかったため、妨げられ ていた。従って、マイクロプローブの大きな集合がこの問題を取り扱うために開 発され、実際に、電子顕微鏡やイオンマイクロプローブ、及び、検体の点から点 又は一部を通じて(イオンマイクロプローブ等の場合)形態学的そしてある程度 化学的(大半は元素の)な分析情報の両方を提供できるその他の様々な装置が存 在する。残念ながら、これらの方法は全て、サンプルを真空中に置き、最終的な 検体の破壊を必要とし、更にこれらの方法は有機物質の分析には貢献しない。イ ンビボでのマイクロプローブによる生物学的組織の分析は、古典的なマイクロプ ローブでの分析とは違う必要条件を有する。特に、区別された組織の典型的な寸 法よりも大きな解像度を持つことは望ましくないが、医者、プロセス制御者やそ の他の専門家などの分析技術の特別な訓練を受けていない者によっても動作でき る分析ツールを持つことが必要とされる。本発明を使うことにより、サンプル及 び生体組織をインビボでマイクロプローブによって調べることができ、そのよう な検体の構成的、形態学的および病変の特徴に対する空間的な描写を可能にする 。 このようなアレイ状体積マイクロプローブからのデータが使われることのできる 多数の方法が存在し、本発明の範囲を制限することなく、ここにこれらの方法の いくつかを記載する。 本発明の一つの実施形態では、各体積エレメントの物質と励起放射との相互作 用を表わす又は少なくともそのような相互作用の特定の痕跡を含む体積エレメン トアレイからの応答は、様々な波長の受け取られた光の強度又はこの技術分野に 知られるように応答スペクトルとして表わされる。特定の分析技術で訓練を受け た研究者は、次に、これらのスペクトルを使いアレイの各体積エレメントの重要 な情報を、励起放射及び放射の目的物質との相互作用の様式の知識から導き出す ことができる。スペクトルピークのあてはめ又は空間デコンヴォルーション(de convolution)を指揮するように設計されたソフトウェアプログラム等の様々な 分析ツールが使われ、研究者のこのような相互作用に関する基本的な知識を更に 増加させ、アレイの目標体積エレメントの化学的、形態学的、そして生理学的な 性質の情報を研究者に提供することができる。これは、応答が、各々プローブで 調べられたアレイの特定の体積エレメントに対応しているからである。これは、 この技術分野では既知の基本的な原理に従っているが、ただし、研究者に提供さ れたデータは明確な体積エレメントから引き出され、従って、目標体積エレメン トの外で生じる寄生的な応答及び干渉に起因する干渉及び応答の弱体化は、大半 が異成分から成るサンプル内での特定の特徴を識別する研究者の能力を妨げない 。従って、本発明のアレイ体積マイクロプローブは古典的な分光器による分析、 蛍光分析、ラマン散乱、及びどの与えられた時間おいても実質上アレイの各体積 エレメントのみから観察された応答に限定して集中した放射に対するアレイの各 体積エレメントからの応答の計測を伴う他のパラメータによる又は特性を表わす 分析を行うために使うこともできる。 本発明のもう一つの実施形態は、未処理の観察された応答から意味のある結論 を導く技術的な技能を備えないユーザに向けられ、この実施形態では、システム がユーザの特定の必要に専用の相関変換のライブラリを備え、このためシステム は実質上特定の分析課題のために予め較正されている。ここにアレイ体積マイク ロブローブの較正方法を更に詳しく示す。 後続の説明を簡略化するために、この方法の目的は、特定の癌によって影響さ れ光学的視覚化装置により近接可能な組織の有無の診断のためのアレイ状体積マ イクロプローブの較正と仮定する。この組織は、外部皮膚又は頚部、または内視 鏡又は腹腔鏡を介して接近できる他の腔にあり、例えば胃腸内の管の様々な切片 (口にはじまり食道、胃を通って直腸の検査によって結腸)又は診査の腹腔鏡を 介して接近できる腹膜腔内の様々な臓器等がある。これらの状況の多数の場合で は、分光学の専門家ではない医者が、疑わしい組織を見て、変色や他の形態学上 の異常が存在した時は、可能性のある癌の有無及び段階を決定するための組織の 顕微鏡での検査のために、そのような領域からのサンプルを摘出し、病理学実験 室に送る。もし、この視覚検査の際に、疑わしい目標組織の疑わしい病変の性質 を決定するための診断得点が入手可能で、もし必要とあれば即座の処置をし、生 検のための不必要な組織の摘出を避けることができれば、非常に有効である。下 に記すように較正された時、本発明のアレイ状体積マイクロプローブは、このよ うに医者に見られた組織の自動的な診断を可能にし、他の専門の病理医による顕 微鏡でのこのような組織の検査を必要とせずに、病変の人工的な画像及びその病 状を提供することができる。 図12は、体積マイクロプローブアレイの較正及びその使用において行われる 種々のステップを示す図300である。特定病変に対して体積マイクロプローブ アレイを較正するために、その特定病変の検体の実験セット(training set)3 02をまず選択する。ここで、実験セットとは、次のような組織検体のグループ 、即ち各検体の状態についてきわめて精密な細胞学的及び病理学的判定をステッ プ303によって病理学ラバトリーで行った組織検体のグループを意味する。さ らに、かかる生検のための摘出に先だって、本発明のマイクロプローブアレイ3 01を用いた精密な研究を実験セットの各検体に対してインビボ(生体内)で行 った。これを説明するために、実験セットの対象体積エレメント(すなわち、後 にその病変状態に関して実験室における病理学的判定を行う組織)を、レーザU V光源と広帯域白色光源との両方で励起すると仮定する。摘出された組織と検査 された体積エレメントとの間に良好な空間的相関関係を確保するために、較正の 間、1つのシャッタだけを開いた状態でアレイを使用するか、あるいは特殊単一 チャ ネル非撮像体積マイクロプローブを使用することができる。さらに、検体j内の 対象体積エレメントの紫外線及び白色光による励起に対する応答の強度を、それ ぞれJuj,Iijとし、u及びiを、紫外線励起及び白色光励起のそれぞれに対す るスペクトル応答のスペクトル帯域における中心波長とする。これらのデータを メモリ(例えば図11の記憶部210)に記憶し、後のステップ304における 主較正の分析及び判定に備える。非撮像体積マイクロプローブにより獲得された 応答を記録した後、実験セットの体積エレメントを摘出し、各検体の状態につい ての病変判定をスコアCjとして記録する。ここで、jは検体のアイデンティテ ィであり、Cjは例えば0から10などの単調スコアリングスケールに基づく、 検体の状態によって選択される数(ここで0は正常な組織を表し、10は完全に 侵害され、極度に癌感染した組織を表す)である。この実験セットは、かかる病 変の有無について将来的に決定するために非撮像体積マイクロプローブを較正す るので、この実験セットの病理学状態の他覚的(objective)判定に至るには十 分な注意を払うことが重要である。このような場合、多数の独立した病理学者に よるブラインド実験での顕微鏡検査で同一のサンプルを検査し、種々の病理学的 結果において最小限の一致が見られる検体のみをこの実験セットに含める。 実験セット中の検体のスコアCjを慎重に決定し、実験セットのサンプル(体 積エレメント)に関連する患者の医学的記録がなされると(ここで、一人の患者 につき一つ以上の体積エレメントを実験セットに含むことができるが、所与の病 変について複数の患者を実験セットに含むことが最適である。)、すでに記憶部 210に記憶されたIij及びJujの値を用いて、n個の相関等式の組が設定され る(ここで、nは実験セット中の体積エレメントの数)。 [数1] ΣaiF(Iij)+ΣbuF(Juj)+ΣcsG(Msj)=Cj (1) 白色光及び紫外線に対する応答の波長i及びu周辺の帯域幅は、それぞれ、シス テムの検出モノクロメータ(monochromator)またはスペクトログラフ(spectro graph;図11の要素182)において達成可能なまたは望ましいスペクトル分 解 能に応じて、一般的に5nmから50nmの間である。 関数Fの選択は、ある程度まで、受け取られた応答の本質に依存する。ほとん ど特性のないスペクトル応答(すなわち、相対的に滑らかで波長に伴う変化が遅 いスペクトル応答)が受光された場合には、その応答の強度、または正規化され た強度、すなわちF(Iij)=Iij、F(Iij)=Iij/K(Kは受光されたス ペクトルにおける最大応答または所定波長における応答のいずれか)のそれぞれ が選択される場合が多い(生物学的組織においては、水またはヘモグロビンの存 在に関する応答である場合が多い)。予想されたスペクトルが、多数のよりシャ ープな特性を含む場合、しばしばF(Iij)=(dij/dλ)Iij(λは波長) を用いることができる。もちろん、紫外線励起Jujと白色光励起Iijのいずれに も同一の関数Fを用いることが最適である。 患者の特異的な「医療履歴」の観察応答に対する影響(impact)を考慮して関 数G(Msj)が含まれ、これには通常、性別、年齢、人種及び、高血圧や糖尿病 といった全身性(systemic)病変の有無などのパラメータが含まれる。多くの状 況では、係数csの一部又は全部は無であり、これらの因数は較正に全く影響し ないが、特殊の場合において意味を持つため、完全性を求めてここではこれらの 因数を含んでいる。 さて、ステップ304において、コンピュータは退行分析を行い、波長の数i 及びu(さらに、医療履歴を表す「人工波長」s)の数を最小化する。波長は、 有効相関を獲得し、相関定数ai,bu(及びcs)を求める最小化等式(1)の 組を解くために用いられる。この退行分析は、本質的に相関定数を未知数として 用いた最適な相関を有する解が求められる実験的に獲得されたn個の等式を用い て行われる。最小化が実行され、応答Iij及びJujをスコアCjに相関させる独 立した関連情報を応答が含む波長が抽出される。較正のプロセスにおいては、絶 対的に必要量以上のデータが収集され、これらのデータの多くは相互に関係して いる。十分に良好な相関を得るためには、互いに独立した応答だけが必要である ため、等式(1)におけるスペクトル応答の最小化プロセスが行われる。また、 非撮像体積マイクロプローブの実際の診断的使用においては、この最小化により 、応答の最小セットの獲得が可能であり、手順を早めることができる。 波長の最小組及び関連する相関係数ai及びbuを求める方法は先行技術におい て良く知られており、これには多変量線形回帰解析(multivariant linear regr ession analysis)及び単変量線形回帰解析(univariant linear regression an alysis)が含まれる。ニューラルネットワーク解析などの他の統計ツールも利用 でき、上記目的で使用可能である。 一般的に、Iij及びJujをそれぞれ白色光及び紫外線励起に対する体積エレメ ントの応答と呼ぶことができる。すでに説明したように、別の応答を用いてサン プル中の体積エレメントを特徴づけることもできる。したがって、ここでは、特 定の病変に相関する体積エレメントからの応答であるすべての応答を、応答Rij と呼ぶ。上述のように、非撮像体積マイクロプローブによっては判定されなかっ たが観察された応答と診断された病変との間の相関の改良に貢献する体積エレメ ント(又はその体積エレメントのホスト)についての他の情報を、応答Rijの一 部として含むことが時に効果的であることがわかった。かかる情報には、性別、 年齢、人種、他の全身性病変及び体重など、体積エレメントが属する患者(subj ect)の一般的分類などを含んでもよい。このような情報を回帰解析に含むこと により、回帰の信頼度を向上する場合、これらの情報を付加的な人工応答Rijと して(関数G(Msj)の代わりに)含むことができる。したがって、指数iは、 それが非撮像マイクロプローブで獲得された場合であっても(応答が登録された スペクトル帯域同様1つ以上の応答タイプ)、別の手段による場合であっても、 獲得された応答のタイプを表す。 したがって、相関係数を導き出す等式の組(1)は、次のように簡略化できる 。 [数2] ΣaiF(Rij)=Cj (2) ここで、簡略化のために、値aiを病変Cの相関ベクトル(a)と呼び、応答Ri j を実験セット中の体積エレメントの応答ベクトル(Rj)と呼ぶことができる。 同様に、関数(functional)応答ベクトル(F(Rj))を、応答ベクトル(Rj )における応答の要素の関数として定義できる。同様に、スコアCjは、実験セ ッ トの病変スコアベクトル(C)と呼ぶことができる。したがって、所与の病変C に対してマイクロプローブアレイを較正する方法は、全応答ベクトル(Rj)及 び対応する病変スコアベクトル(C)を求めるステップと、これらのデータから 、関数応答ベクトル(F(Rj))を生成した後に、非撮像体積マイクロプロー ブの較正ベクトルである最小相関ベクトル(a)を求めるステップとからなる。 この較正は、同時係属米国出願08/510,041及び08/510,043 に開示される非撮像体積マイクロプローブ用に設計された較正と同一である。複 数の異なる病変に対する較正を、未知の検体に対して将来的に用いるために、較 正ライブラリ305に記憶することができる。各マイクロプローブアレイは相関 エンジン307を含み、この相関エンジン307は、較正ライブラリ305から の較正ベクトルとマイクロプローブアレイ及び医療記録(medical records)3 08などの他の供給源からの応答ベクトルとを求め、その応答ベクトルに対して 観察された病変の値Cを再構成することができる。本発明の種々の実施形態にお いて、所与の体積エレメントからの励起及び応答を表す異なる光学チャネルは同 等であるので、(所与の病変に対して)単一の較正だけで十分である。 実験セット外、すなわち未知の検体306である対象サンプルにおける病変の 本質及び分布を判定したい場合について、簡略化のために、そのアレイにおける かかる体積エレメントのそれぞれを、k(x,y,z)と呼び、そのx、yおよ びz座標を表すことにする。応答ベクトル(Rk(x,y,z))を体積エレメ ントk(x,y,z)に関してインストルメントにより登録し、応答Rikの一部 が人工的応答(上述のような性別や人種など)である程度まで、これらをマイク ロプローブアレイの相関エンジン部分に入力し、体積エレメントk(x,y,z )に対する病変のスコア、すなわちCk(x,y,z)を、すでに求めれられた 相関ベクトル(a)と関数応答ベクトルとの積(F(Rk(x,y,z)))を 求めることにより予想する。すなわち、Ck(x,y,z)=ΣaiF(Rik(X ,y,z)。このように、その病理学的状態Ck(x,y,z)が知られていな い体積エレメントk(x,y,z)のアレイに関して較正されたマイクロプロー ブを用いることにより、体積エレメントk(x,y,z)における病変を即座に 自動的に診断することが可能になる。この処理をアレイ中のすべての体積エレメ ン トに対して繰り返す。そして、アレイ中の全体積エレメントに対する値Ck(x ,y,z)の組を、数値または検査されたアレイの人工的イメージとしてディス プレイ309に表示することができる。このように、3次元画像処理又は操作の 通常に方法により、医師は、疑わしい病変の本質、程度、重症さ及び浸透程度に ついての洞察が可能になる。この結果、要求される不必要な生検の数を減らすこ とができるとともに、検査中の行為に必要な情報を医者に即座に提供できる。 なお、関数F(Rik(x,y,z)は、マイケルソン干渉計などの時間的干渉 計またはサニャック干渉計などの空間的干渉計のいずれかを用いて、応答から獲 得されたフーリエ変換から求めることができる。さらに、インターフェログラム そのものを、それにより生成されるフーリエ変換の代わりに用いることも可能で ある。同様に、プローブされたエレメントに関する分子構造情報をプローブする 場合には、関数F(Rik(x,y,z))に対し、ラマンスペクトル応答のアダ マール変換から求めた種々の波長の値が用いられる。 さらに、出願人による同時係属出願と同様に、本発明のマイクロプローブアレ イを較正し、複数の病変Pm(mは特定の病変を表す)を診断できることが当業 者には理解される。このように使用する場合には、この複数の病変に対してイン ストルメント較正する作業には、前述の場合と同様に、実験セットjに対し、応 答Rijと病変スコアPmjとを求めるステップが含まれる。ここで、iは応答又は 人工的応答のタイプの帯域幅であり、jは実験セット中の体積エレメント又は検 体であり、Pmjは病変mに対する検体jのスコアである。較正のプロセスにおい て、それぞれが特定の病変mに対する複数の相関ベクトル(am)を求める。較 正された非撮像体積マイクロプローブの作動時には、上述の相関ベクトル(a) をその要素がaimである相関行列{a}に置き換え、特徴づけられていない検体 kに対する関数応答ベクトル(F(Rk))をその要素がF(Rimk)である行列 {F(Rk)}に置き換え、相関行列{a}と関数応答行列{F(Rk)}との積 を求めることにより、診断結果を要素がPmkであるベクトル(P)kとして求め る。 また、この解析方法の実際的な実施形態においては、生成された相関は、(す べてでないとしても少なくともいくつかは)異なる病変に対して同一の応答を用 いる。したがって、診断的スコアPmkを求めるために、体積エレメントkからの 最小応答セットを含む応答ベクトル(Rk)(要素Rikを有する)のみが要求さ れる。行列{a}は、測定可能な(または観察可能な)値の1組を、望ましい病 変スコアである別の数又は値の組に変換するので、これを相関変換行列と呼ぶこ ともできる。これは、相関変換行列{a}に関数応答ベクトルであるベクトル( F(Rk))を積算し、応答ベクトル(Rk)の診断スコアベクトル(P)kへの 変換を求めることによって達成される。 ここで用いられた相関変換、すなわち、実験セットの光学的応答をその実験セ ットに関する診断又は分析データの独立した判定に相関することにより未知の検 体についての診断または分析情報を予測する相関変換は、SN比の大きい一組の 応答を供給できるほどに大きな人工的に均質化されたサンプルに関して十分に効 果があることがローゼンタールにより示されている。驚くことに、本発明の拡張 方法は、インビボで非常に小さな体積エレメントに良好な相関をもたらす。古典 的分光学においては、例えばアルファノにより実施されるように、発病組織のス ペクトルまたは光学的応答を健康な組織の同様のスペクトルまたは応答と比較し 、対象組織についての診断的読み取りを試みる。この方法では、対象の間に存在 する大きなばらつき(variation)及び検査される組織の本質のために、効果が 得られない。本発明の相関変換アプローチを用いる場合、対象組織のスペクトル 応答と存在する任意の組織(健康または病変のある組織)の応答との比較を意図 的に回避した。これは、どの一特定組織によっても対象間のばらつきを全て表す ことはできないためである。このような対象間のばらつきは、スペクトル歪曲の 原因となり、これにより病変についての確実な診断的判定を求める従来技術の能 力は不変的に低下する。さらに、光学的応答とともに非光学的応答をも相関変換 アルゴリズムの一部に含んだ本発明は、病変に関する(実験セットに基づく)完 全に人工的なモデルを本質的に構築する。このモデルは、いかなる対象または組 織においてもそれ自体では決して再生されることはない。さらに、本発明による 新しいアプローチは、小さい体積エレメントへの光学的応答の空間的フィルタリ ングとの組み合わせにより、異種組織の応答統合(response integration)を回 避するため、従来では不可能であった価値ある病変の人工的画像の獲得を可能 にした。 以上、特定の好適な実施形態に関連して本発明を示し説明したが、本発明の範 囲を逸することなく、詳細な形での変更が可能であることが当業者には理解され る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 材料のサンプルの特性を電磁放射線と前記サンプルとの相互作用により判 定する装置であって、 電磁波放射源と、 第1の光路中の第1の領域から実質的に単調に下降する前記サンプル中の強度 分布を有して前記サンプルの複数の体積エレメントを順次照射する照射光学系と 、 前記体積エレメントのそれぞれから放射された電磁放射線を収集させる収集光 学系であって、この収集光学系は、第2の光路中の第2の領域から実質的に単調 に下降する収集分布を有して前記各体積エレメントから発せられた前記放射線を 収集し、前記第1及び第2の領域は、前記体積エレメントのそれぞれにおいて少 なくとも部分的に重複し、前記照射及び収集光学系はそれぞれ視野絞りを有し、 この視野絞りの大きさは、前記電磁放射線の波長をそれぞれの視野絞りから測定 される前記照射及び収集光学系の各作業開口数で除した数に比べて大きい、収集 光学系と、 前記順次照射された体積エレメントのそれぞれから放射された収集電磁放射線 を検出し、前記体積エレメントのそれぞれにおける前記特性を表す応答を生成す る検出器と、 を含む装置。 2. 請求の範囲1に記載の装置において、前記体積エレメントは3次元アレイ を含むことを特徴とする装置。 3. 請求の範囲1に記載の装置において、前記照射光学系の視野絞りは、前記 体積エレメントを順次照射する個々に制御可能な照射光学シャッタのアレイを含 むことを特徴とする装置。 4. 請求の範囲3に記載の装置において、前記収集光学系の視野絞りは、前記 体積エレメントのそれぞれから放射された電磁放射線を順次収集する個々に制御 可能な収集光学シャッタのアレイを含むことを特徴とする装置。 5. 請求の範囲1に記載の装置において、前記照射光学系は前記体積エレメン トを順次照射する個々に制御可能な照射要素のアレイを含み、前記収集光学系は 前記体積エレメントのそれぞれから放射された電磁放射線を順次収集する個々に 制御可能な収集要素のアレイを含むことを特徴とする装置。 6. 材料のサンプルの特性を電磁放射線と前記サンプルとの相互作用により判 定する装置であって、 電磁波放射源と、 第1の光路中の第1の領域から実質的に単調に下降する前記サンプルにおける 強度分布をもって前記サンプルの複数の体積エレメントを順次照射し、前記体積 エレメントのそれぞれから放射された電磁放射線を収集する光学アセンブリであ って、この光学アセンブリは、第2の光路中の第2の領域から実質的に単調に下 降する収集分布をもって前記各体積エレメントから発せられた前記放射線を収集 し、前記第1及び第2の領域は前記体積エレメントのそれぞれにおいて少なくと も部分的に重複し、前記光学アセンブリは少なくとも一つの視野絞りのアレイを 有し、この視野絞りの大きさは、前記電磁放射線の波長を前記視野絞りから測定 される前記光学アセンブリの作業開口数で除した数に比べて大きい、光学アセン ブリと、 前記順次照射された体積エレメントのそれぞれから放射されて収集された電磁 放射線を検出し、前記体積エレメントのそれぞれにおける前記特性を表す応答を 生成する検出器と、 を含む装置。 7. 請求の範囲6に記載の装置において、前記視野絞りのアレイは、前記体積 エレメントを順次照射して前記体積エレメントのそれぞれから放射された電磁放 射線を順次収集する個々に制御可能な光学シャッタの単一アレイを含み、前記第 1及び第2の光路は同一であることを特徴とする装置。 8. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、個 々に制御可能な液晶シャッタ素子のアレイを含むことを特徴とする装置。 9. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、個 々に制御可能な高分子分散液晶シャッタ素子のアレイを含むことを特徴とする装 置。 10. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、個 々に制御可能な強誘電体シャッタ素子のアレイを含むことを特徴とする装置。 11. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、個 々に制御可能な圧電性バイモルフシャッタ素子のアレイを含むことを特徴とする 装置。 12. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、個 々に制御可能な静電的に移動自在のシャッタ要素のアレイを含むことを特徴とす る装置。 13. 請求の範囲6に記載の装置であって、前記光学アセンブリの少なくとも 一部を前記サンプルに対して移動し、サンプル内の前記体積エレメントの位置を 前記第1及び第2の光路の光学軸に沿って変化させる手段をさらに含むことを特 徴とする装置。 14. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学アセンブリは、前記光学 シャッタのアレイと前記サンプルとの間に光学的対物部をさらに含むことを特徴 とする装置。 15. 請求の範囲14に記載の装置において、前記光学的対物部は、前記光学 シャッタのアレイに位置合わせされた単一対物レンズを含むことを特徴とする装 置。 16. 請求の範囲14に記載の装置において、前記光学的対物部は、それぞれ が前記光学シャッタと位置合わせされたマイクロレンズ要素のアレイを含むこと を特徴とする装置。 17. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、非 干渉領域のアレイに再分割され、電磁放射線はこの非干渉領域のアレイから同時 に収集されることを特徴とする装置。 18. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、シ ャッタ要素の複数の行及び列を含むことを特徴とする装置。 19. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、半 径方向に分配されたシャッタ要素のアレイを含むことを特徴とする装置。 20. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、シ ャッタ要素の線形アレイを含むことを特徴とする装置。 21. 請求の範囲7に記載の装置において、前記光学シャッタのアレイは、シ ャッタ要素の円周アレイを含むことを特徴とする装置。 22. 請求の範囲6に記載の装置において、前記視野絞りのアレイは個々に可 動マイクロミラーのアレイを含み、前記各マイクロミラーは、前記光源からの照 射を前記サンプルに向け前記サンプルからの収集された電磁放射線を前記検出器 に向ける活性位置と、不活性位置との間を移動可能であることを特徴とする装置 。 23. 請求の範囲6に記載の装置において、前記視野絞りのアレイは個々に可 動マイクロミラーのアレイを含み、前記マイクロミラーはそれぞれ回転放物面体 の軸外れ切片を含み、前記マイクロミラーは活性位置と不活性位置との間を対で 移動可能であって、活性対の一方のマイクロミラーは前記は光源からの照射を前 記サンプルに向け、活性対の他方のマイクロミラーは前記サンプルから放射され た電磁放射線を前記検出器に向けることを特徴とする装置。 24. 請求の範囲23に記載の装置において、前記マイクロミラーの第1のグ ループに属するマイクロミラーは、前記光源からの照射を順次前記サンプルに向 け、前記マイクロミラーの第2のグループに属するマイクロミラーは、収集され た電磁放射線を前記サンプルから前記検出器に順次向けることを特徴とする装置 。 25. 請求の範囲23に記載の装置において、前記マイクロミラーはそれぞれ 、前記光源から前記サンプルへ照射を向ける照射位置と、収集された電磁放射線 を前記サンプルから前記検出器に向ける収集位置との間を移動可能であり、前記 マイクロミラーのそれぞれは、異なる時間における照射及び収集に用いられるこ とを特徴とする装置。 26. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光学アセンブリは、一群の光 ファイバと、前記光ファイバのそれぞれを順次活性化させ、照射を前記光源から 前記サンプルに向けかつ収集された電磁放射線を前記サンプルから前記検出器に 向ける光ファイバ切替装置と、を含むことを特徴とする装置。 27. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光学アセンブリは、光ファイ バの束と、前記光ファイバの束の一端に配置され前記光学シャッタが前記光ファ イバにそれぞれ位置合わせされている光学シャッタアレイと、を含み、前記光学 シャッタアレイは、前記体積エレメントを順次照射し、かつ前記各体積エレメン トから放射された電磁放射線を順次収集することを特徴とする装置。 28. 請求の範囲6に記載の装置において、前記検出器は単一の光検出器を含 み、前記体積エレメントのそれぞれからの収集された電磁放射線を検出すること を特徴とする装置。 29. 請求の範囲7に記載の装置において、前記検出器は、前記光学シャッタ または前記光学シャッタの群に対応する複数の検出要素を含むことを特徴とする 装置。 30. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光源はレーザ光源を含むこと を特徴とする装置。 31. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光源は窒素レーザを含むこと を特徴とする装置。 32. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光源は広帯域スペクトル光源 を含むことを特徴とする装置。 33. 請求の範囲32に記載の装置において、前記光源はキセノン放電ランプ を含むことを特徴とする装置。 34. 請求の範囲32に記載の装置において、前記光源はハロゲン白熱電球を 含むことを特徴とする装置。 35. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光源は紫外線波長源を含むこ とを特徴とする装置。 36. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光学アセンブリは、照射のス ペクトルを調整する光学フィルタを含むことを特徴とする装置。 37. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光源は複数の光源と、前記光 源を異なる時間に作動させる手段を含むことを特徴とする装置。 38. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光学アセンブリは前記サンプ ルの照射を変調する手段をさらに含むことを特徴とする装置。 39. 請求の範囲6に記載の装置において、前記応答は、狭い波長を励起した 後に得られる組織の自然蛍光を含むことを特徴とする装置。 40. 請求の範囲6に記載の装置において、前記応答は、病変組織内の選択的 に吸収された色素によって生成されることを特徴とする装置。 41. 請求の範囲6に記載の装置において、前記応答はラマン散乱を含むこと を特徴とする装置。 42. 請求の範囲6に記載の装置において、前記応答は前記体積エレメントか らの後方散乱と反射との組み合わせであることを特徴とする装置。 43. 請求の範囲6に記載の装置において、前記少なくとも一つの視野絞りの アレイは、前記体積エレメントを順次照射する個々に制御可能な照射光学シャッ タのアレイと、前記体積エレメントのそれぞれから放射された電磁放射線を順次 収集する個々に制御可能な収集光学シャッタのアレイとを含み、前記光学アセン ブリは、照射を前記光源から前記照射光学シャッタのアレイに向ける照射光調節 光学系と、前記体積エレメントに照射の焦点合わせをする照射対物部と、前記収 集光学シャッタを前記体積エレメントに焦点合わせをする収集対物部と、前記収 集された電磁放射線を前記収集光学シャッタのアレイから前記検出器に向ける収 集光調節光学系とをさらに含むことを特徴とする装置。 44. 請求の範囲6に記載の装置において、前記少なくとも一つの視野絞りの アレイは、前記複数の体積エレメントを順次照射する個々に制御可能な照射光学 シャッタのアレイと、前記体積エレメントのそれぞれから放射された電磁放射線 を順次収集する個々に制御可能な収集光学シャッタのアレイとを含むことを特徴 とする装置。 45. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、個々に制御可能な液晶シャッタ素 子のアレイを含むことを特徴とする装置。 46. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、個々に制御可能な高分子分散液晶 シャッタ素子のアレイを含むことを特徴とする装置。 47. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、個々に制御可能な強誘電体シャッ タ素子のアレイを含むことを特徴とする装置。 48. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、個々に制御可能な圧電性バイモル フシャッタ素子のアレイを含むことを特徴とする装置。 49. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、個々に制御可能な静電的に移動可 能なシャッタ要素のミクロ機械加工アレイを含むことを特徴とする装置。 50. 請求の範囲44に記載の装置において、前記光学アセンブリは、前記照 射光学シャッタのアレイとサンプルとの間に単一の照射対物レンズを、サンプル と前記収集光学シャッタのアレイとの間に単一の収集対物レンズをさらに含むこ とを特徴とする装置。 51. 請求の範囲44に記載の装置において、前記光学アセンブリは、前記照 射光学シャッタのアレイの光学シャッタにそれぞれが位置合わせされ前記照射光 学シャッタのアレイとサンプルとの間に配置された照射対物マイクロレンズ要素 のアレイと、前記収集光学シャッタのアレイの光学シャッタにそれぞれが位置合 わせされ前記サンプルと前記収集光学シャッタのアレイとの間に配置された収集 対物マイクロレンズ要素のアレイと、をさらに含むことを特徴とする装置。 52. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び前記収集光学シャッタのアレイは、非干渉領域のアレイに再分割され、電磁 放射線は、前記非干渉領域のアレイから同時に収集されることを特徴とする装置 。 53. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び前記収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、シャッタ要素の複数の行及び 列を含むことを特徴とする装置。 54. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、半径方向に分配されたシャッタ要 素のアレイを含むことを特徴とする装置。 55. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、シャッタ要素の線形アレイを含む ことを特徴とする装置。 56. 請求の範囲44に記載の装置において、前記照射光学シャッタのアレイ 及び収集光学シャッタのアレイは、それぞれ、シャッタ要素の円周状アレイを含 むことを特徴とする装置。 57. 請求の範囲6に記載の装置において、前記光学アセンブリは、前記複数 の体積エレメントを順次照射する照射光学系と、前記体積エレメントのそれぞれ から放射された電磁放射線を収集する収集光学系とを含み、前記照射光学系は、 照射光ファイバ束と、この光ファイバのそれぞれを順次活性化して照射を前記光 源から前記サンプルに向ける照射制御手段とを含み、前記収集光学系は、収集光 ファイバ束と、前記収集束内の光ファイバのそれぞれを順次活性化して収集され た電磁放射線を前記サンプルから前記検出器に向ける収集制御手段とを含むこと を特徴とする装置。 58. 請求の範囲57に記載の装置において、前記照射制御手段は、前記照射 束の光ファイバに順次照射を向ける第1の回転ミラーを含み、前記収集制御手段 は、収集された電磁放射線を前記収集束の光ファイバから前記検出器に順次向け る第2の回転ミラーを含むことを特徴とする装置。 59. 請求の範囲57に記載の装置において、前記照射制御手段は、前記照射 束の光ファイバにそれぞれが位置合わせされた個々に制御可能な照射光学シャッ タのアレイを含み、前記収集制御手段は、前記収集束の光ファイバにそれぞれが 位置合わせされた個々に制御可能な収集光学シャッタのアレイを含むことを特徴 とする装置。 60. 請求の範囲6に記載の装置であって、前記光学アセンブリと前記検出器 の間にスペクトル分析器をさらに含むことを特徴とする装置。 61. 請求の範囲6に記載の装置であって、前記光学アセンブリと前記検出器 との間に時間的干渉計をさらに含むことを特徴とする装置。 62. 請求の範囲6に記載の装置であって、前記光学アセンブリと前記検出器 との間に空間的干渉計をさらに含むことを特徴とする装置。 63. 請求の範囲6に記載の装置であって、前記光学アセンブリと前記検出器 との間にアダマールエンコードメントマスクをさらに含むことを特徴とする装置 。 64. 材料のサンプルの特性を電磁放射線とサンプルとの相互作用によって判 定する方法であって、 光学アセンブリを用いて、第1の光路における第1の領域から実質的に単調に 下降する強度分布をサンプル内に有してサンプルへ電磁放射線を向けることによ りサンプル内の複数の体積エレメントを順次照射するステップと、 前記光学アセンブリを用いて、第2の光路における第2の領域から実質的に単 調に下降する収集分布を有して前記照射された体積エレメントのそれぞれから発 せられた電磁放射線を順次収集するステップであって、前記第1及び第2の領域 は前記体積エレメントのそれぞれにおいて少なくとも部分的に重複し、前記光学 アセンブリは少なくとも一つの視野絞りのアレイを含み、この視野絞りの大きさ は、前記電磁放射線の波長を前記視野絞りから測定された前記光学アセンブリの 作業開口数で割った比に比べて大きい、収集ステップと、 前記順次照射された各体積エレメントから放射され収集された電磁放射線を検 出して前記体積エレメントのそれぞれにおける前記特性を表す応答を生成するス テップと、 を含む方法。 65. 請求の範囲64に記載の方法において、前記少なくとも一つの視野絞り のアレイは、個々に制御可能な光学シャッタの単一アレイを含むことを特徴とす る方法。 66. 請求の範囲64に記載の方法において、前記方法は、前記光学アセンブ リの少なくとも一部を前記サンプルに関して移動させ、サンプル内の前記体積エ レメントの位置を、前記第1及び第2の光路の光学軸に沿って変化させるステッ プをさらに含むことを特徴とする方法。 67. 請求の範囲64に記載の方法において、複数の体積エレメントを照射す るステップは、2つ以上の非干渉体積エレメントを同時に照射することを含み、 電磁放射線を収集するステップは、前記非干渉体積エレメントから放射された電 磁放射線を同時に収集することを含む方法。 68. 請求の範囲64に記載の方法において、前記視野絞りのアレイは個々に 移動自在のマイクロミラーのアレイを含み、前記方法は、前記アレイのマイクロ ミラーを、照射をサンプルに向けサンプルから収集された電磁放射線を検出器に 向ける活性位置と、不活性位置との間において順次移動させるステップをさらに 含むことを特徴とする方法。 69. 請求の範囲64に記載の方法において、前記視野絞りのアレイは個々に 移動自在のマイクロミラーのアレイを含み、この各マイクロミラーは回転方物面 体の軸外れ切片を含み、前記方法は、前記マイクロミラーの対を活性位置と不活 性位置との間で移動させるステップをさらに含み、活性位置にある対の一方のマ イクロミラーは照射をサンプルに向け、活性位置にある対の他方のマイクロミラ ーは前記サンプルから発せられた電磁放射線を検出器に向けることを特徴とする 方法。 70. 請求の範囲64に記載の方法において、複数の体積エレメントを照射す るステップは、照射光ファイバ束を通じて照射を方向づけることを含むことを特 徴とする方法。 71. 請求の範囲64に記載の方法において、電磁放射線を収集するステップ は、収集光ファイバ束を通じて収集された電磁放射線を方向づけることを含むこ とを特徴とする方法 72. 請求の範囲64に記載の方法において、複数の体積エレメントを照射す るステップは、サンプルの照射を変調することを含むことを特徴とする方法。 73. 請求の範囲64に記載の方法において、前記視野絞りの少なくとも一つ のアレイは、個々に制御可能な照射光学シャッタのアレイと、個々に制御可能な 収集光学シャッタのアレイとを含むことを特徴とする方法。 74. 請求の範囲64に記載の方法において、前記視野絞りの少なくとも一つ のアレイは、個々に制御可能な照射要素のアレイと、個々に制御可能な収集要素 のアレイとを含むことを特徴とする方法。 75. 請求の範囲64に記載の方法において、前記複数の体積エレメントを照 射するステップは、異なるスペクトルを有する光源によって異なる時間において 前記体積エレメントを照射するステップを含むことを特徴とする方法。 76. 請求の範囲64に記載の方法において、前記収集された電磁放射線を検 出するステップは、検出要素のアレイによって行われることを特徴とする方法。
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