JP2001500868A - ｎ―ブチルアルキルエーテルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ｎ−ブチルアルキルエーテルを製造するに当り、ａ）１，３−ブタジエン又はブタジエンを含有する炭化水素混合物を、高められた温度及び高められた圧力でブレーンステズ酸の存在又は燐又は窒素を含む配位子を有する、元素の周期表のＩｂ、ＶＩＩｂ又はＶＩＩＩｂ族からの元素の錯体の存在で、式：ＲＯＨ〔式中Ｒは未置換の又はＣ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ−又はヒドロキシ基１〜２個で置換されたＣ₂〜Ｃ₂₀−アルキル−又はアルケニル−、Ｃ₆〜Ｃ₁₀−アリール−又はＣ₇〜Ｃ₁₁−アラルキル基又はメチル基である〕〕で示されるアルコールと反応させて式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）の付加物の混合物を生成させ；ｂ）これらの異性体を分離し、ｃ）付加物ＩＩＩを異性化して付加物ＩＩを生成させ、かつｄ）付加物ＩＩを、液相中の均質又は不均質遷移金属触媒の存在又は気相中の不均質遷移金属触媒の存在で水素化して式（ＩＶ）のｎ−ブチルアルキルエーテルを生成させることによって、ｎ−ブチルアルキルエーテルを製造する方法。

Description

【発明の詳細な説明】 ｎ−ブチルアルキルエーテルの製造方法 本発明は、ブタジエンをアルコールと反応させて１−及び３−アルコキシブテ ンから成る混合物を生成させ、３−アルコキシブテンを異性化して１−アルコキ シブテンとなしかつ１−アルコキシブテンを水素化することによってｎ−ブチル アルキルエーテルを製造する方法に関する。 ｎ−ブチルアルキルエーテルは、化学工業の生成物であり、多方面で使用され ている。すなわち例えばジ−ｎ−ブチルエーテルは、種々の天然及び合成樹脂、 脂肪、油及びグリニャール反応における溶剤として使用されている。さらにジ− ｎ−−ブチルエーテルはエタノール又はブタノールとの混合物でエチルセルロー スを溶解するために使用されている。 ジ−ｎ−ブチルエーテルは大工業的には実際に種々の方法により専らｎ−ブタ ノールの脱水によって製造されるが、これらの方法では反応は例えば硫酸又は触 媒、例えば塩化鉄、硫酸銅、シリカゲル又は酸化アルミニウムの存在で行う（Ｋ ｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ：Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔ ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，４版、９巻、８６０〜８７６頁，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙ ｏｒｋ １９９２；；Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，５版、Ａ１０巻、２３〜３４頁、 Ｖｅｒｌａｇ Ｃｈｅｍｉｅ Ｗｅｉｎｈｅｉｍ）。これらの方法は、特に不均 質触媒による脱水は副反応を惹起する高い反応温度を必要とする。さらに硫酸又 は金属塩を用いる均質方法の場合には、短い鎖長（Ｃ₁〜Ｃ₃）を有するアルコー ルしか効果的に脱水されえない。 表面塗料工業において溶剤として使用される非対称ｎ−ブチルアルキルエーテ ル、例えば２−（ｎ−ブトキシ）エタノール又は１−（ｎ−ブトキシ）プロパノ ール−２は、通常ｎ−ブタノールとエチレンオキシド又はプロピレンオキシドと の反応によって製造される（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａ ｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ａｎｄ Ｄｅｓｉｎｇ，２０巻，２５８〜２７４頁 ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ ａｎｄ Ｂａｓｅ ｌ １９８４）。米国特許第４８４３１８０号明細書からは例えば、ジエンをヒ ドロキシ化合物と反応させて不飽和ブチルエーテルを生成させ、このものをもう 一つの段階で水素化して線状の飽和エーテルと主として枝分かれの飽和エーテル から成る混合物にすることができることが公知である。 ところで本発明の目的は、容易に入手できるブタジ エンから出発してｎ−ブチルアルキルエーテルを製造する方法を提案することで あった。１，３−ブタジエンは多量に入手できかつ極めて安価な原料であるけれ ども、従来はまだ１，３−ブタジエン又はブタジエンを含有する炭化水素混合物 を基剤とするｎ−ブチルアルキルエーテルを製造する、大工業的に使用できる方 法は知られていなかった。その理由は、二量化−及び重合反応を生じる１，３− ブタジエンの傾向ならびに付加反応の際の１，２−及び１，４−付加物の混合物 の形成にあると見ることができる。この化学的特性の原因は１，３−ブタジエン 分子中の２個の共役二重結合の存在である（Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ：Ｅｎｃｙ ｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，４版，４ 巻，６７６〜６８３頁，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ ｙｏｒ ｋ １９９２）。 かくして多数の文献箇所にはブタジエンとアルコールの反応、またブテニルエ ーテルの水素化も記載されているが、従来は工業的に実施できる方法は見いださ れなかった。 特にＷＯ９５／１９３３４からは、ブタジエンにアルコールを付加してアルキ ルブテニルエーテルを生成しかつ３−アルコキシブテン−（１）−化合物を異性 化することはすでに公知であり、詳細に記載されている。しかしこの場合エノー ルエーテルを生じるもう一 つの異性化も起こる。１−アルコキシブテン−（２）の水素化は考慮されて、記 載されていない。 ｎ−ブチルアルキルエーテルを生成する一般のアリルエーテルの水素化に関し ては僅かな例しか知られていない。米国特許第３７６９３５２号、同第３６７０ ０２９号及び同第４８４３１８０号明細書には、不飽和エーテルが水素化されう るとしか記載されていない。 したがって本発明は、ｎ−ブチルアルキルエーテルを製造するに当り、同生成 物を高い収率及び選択率をもって製造することができる、大工業的に使用可能で 、経済的な方法を見いだすという課題を基礎とした。 前記課題は、 ａ）１，３−ブタジエン又はブタジエンを含有する炭化水素混合物を、高められ た温度及び高められた圧力 の存在又は燐又は窒素を含む配位子を有する、元素の周期表のＩｂ、ＶＩＩｂ又 はＶＩＩＩｂ族からの元素の錯体の存在で、式Ｉ： ＲＯＨ Ｉ 〔式中Ｒは未置換の又はＣ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ−又はヒドロキシ基１〜２個で 置換されたＣ₂〜Ｃ₂₀−アルキル−、アルケニル−、シクロアルキル−又はシク ロアルケニル−、Ｃ₆〜Ｃ₁₀−アリール−又はＣ₇〜Ｃ₁₁−アラルキル基又はメチ ル基である〕 で示されるアルコールと反応させて式ＩＩ： 及び式ＩＩＩ 〔式中Ｒは前記のものを表す〕で示される付加物の混合物を生成させ、 ｂ）式ＩＩ及びＩＩＩの付加物を分離し、 ｃ）付加物ＩＩＩを、（ａ）に関して記載したような触媒の存在で異性化して付 加物ＩＩを生成させ、かつ ｄ）付加物ＩＩを、液相中の均質又は不均質の遷移金属触媒の存在又は気相中の 不均質の遷移金属触媒の存在で水素化して式ＩＶ： で示されるｎ−ブチルアルキルエーテルを生成させることを特徴とする、ｎ−ブ チルアルキルエーテルの製造方法によって解決された。 本発明方法はしたがって４段階から成り、部分反応（ａ）及び（ｃ）は選択的 に個々にかつ順次に又は並行的に又は一つの方法段階で行う。最後の場合には付 加物ＩＩを生成する部分反応ｃ）による付加物ＩＩＩの異性化は、付加物ＩＩＩ を１，３−ブタジエンへの アルコールＲＯＨの付加の方法段階に復帰させた後、部分反応（ａ）による付加 と同時に進行する。 一般に部分反応（ａ）のための装置ユニットで使用される触媒は、そこで適用 される反応条件下で付加物ＩＩＩから付加物ＩＩへの異性化及び１，３−ブタジ エンへのアルコールＩの付加を触媒することができ、その結果これらの部分反応 の経過の厳しい空間的分離は存在しない。しかしもちろん段階（ａ）のための装 置ユニットは単一の反応器も、連続的に接続された数個の反応器を包含すること ができ、これらの反応器は同一の触媒又は場合により異なる触媒が充填してあり 、同じ操作法で、同一の又は異なる温度−及び圧力条件で操作される。この場合 操作法とは、その都度均質触媒又は不均質触媒を使用する液相での操作又は例外 的には気相での操作を意味する。 次ぎに本発明方法を詳述する： 段階（ａ）では、１，３−ブタジエン又はブタジエンを含有する炭化水素混合 物を触媒の存在でアルコールＲＯＨ Ｉと方程式（Ｉ）：により反応させて、式ＩＩの１，４−付加物及び式ＩＩＩの１，２−付加物を生 成させる。生成された１，４付加物においては二重結合はシス形でもトランス形 でも存在しうる；しかしこれは方法のさらなる進行にとっては重要ではない。こ の場合付加物ＩＩ及びＩＩＩは反応条件及び使用された触媒に応じて一般にモル 比１：１〜１：３で生じる。 反応で使用されるアルコールＲＯＨ Ｉの種類は一般に方法にとって重要では ない。第一アルコールも第二アルコールも使用できるが、好ましくは第一アルコ ールを使用する。脂肪族、脂環式、芳香族ならびに芳香脂肪族アルコールを使用 できるが、好ましくは脂肪族及び芳香脂肪族アルコールを使用する。一般に本発 明方法では、ＲがＣ₁〜Ｃ₂₀−アルキル−、Ｃ₂〜Ｃ₁₀−アルケニル−、特にブテ −２−エニル−、好ましくはＣ₁〜Ｃ₄−アルキル−、例えばｎ−ブチル基、Ｃ₆ 〜Ｃ₁₀−アリール−、好ましくはフェニル基又はＣ₇〜Ｃ₁₁−アラルキル−、好 ましくはベンジル基である、アルコールＲＯＨ Ｉを使用する。Ｒ基は場合によ り、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ−及び／又はヒドロキシル基のような置換基によっ て置換されていてもよい。したがってアルコールＲＯＨ Ｉとしてはまた、ジオ ール、好ましくはエチレングリコール又は１，２−プロパンジオール、又はトリ オール又はアルコキシアルコールも使用することができる。もちろんまた多数の 炭素原子を有するアルコールも使用することができる。このような高級アルコー ルは一般に低級アルコールよりも高価なので、経済的理由から好 ましくは低級アルコールを使用する。前記のアルコールの中からｎ−ブタノール がジ−ｎ−ブチルエーテルの製造のためには好ましい。 段階（ａ）では触媒として多数の触媒、例えばブレーンステズ酸又は元素の周 期表のＩｂ、ＶＩＩ又はＶＩＩＩｂ族からの遷移金属、特にパラジウム及びニッ ケルの錯体を使用することができる。 ブレーンステズ酸としては、例えば慣用の非酸化性ブレーンステズ酸、すなわ ちハロゲン化水素酸、例えば塩酸、硫酸、リン酸、過塩素酸、フッ化水素酸、テ トラフルオロホウ酸、メタンスルホン酸又はトルエンスルホン酸、しかし好まし くは固体のブレーンステズ酸、特に有機又は無機陽イオン交換体が適当である。 元素の周期表のＩｂ、ＶＩＩｂ又はＶＩＩＩｂ族からの元素、例えば銅、ニッ ケル、ロジウム、パラジウム、白金、レニウム又はイリジウム、好ましくはパラ ジウム又はニッケルを含有する遷移金属触媒の錯体、特にホスフィン錯体は、反 応媒体中に均質に溶解されているか又は不均質に存在していてよい。 アルキルブテニルエーテルの製造は、一般に使用される触媒ならびに方法条件 に関してＷＯ９５／１９３３４の記載により行われ、したがってこの文献及びこ こに引用された以前の文献が参照されかつ明確にこの出願明細書に関連している ので、そこに記載されていることは本願に組込まれていると見なすべきである。 アルコール／１，３−ブタジエンのモル比は広い範囲から選択することができ る。一般には０．５：１〜１０：１、好ましくは：１：１〜３．０：１、特に好 ましくは１．５：１〜２．５：１のアルコールＲＯＨ／１，３−ブタジエン・モ ル比を使用する。有利にはアルコールＲＯＨは常に少なくとも１モルの過剰で使 用する、それというのもそれによってより高い収率が得られるからである。アル コールＲＯＨ Ｉと１，３−ブタジエンとの反応は、方法を液相で実施する場合 には、一般に温度２０〜１５０℃、好ましくは５０〜１２０℃、特に６０〜１１ ０℃の温度及び一般に１〜１００バール、好ましくは５〜５バール、特に１０〜 ３０バールの圧力で行う。有利には圧力を、１，３−ブタジエン又はブタジエン を含有する炭化水素混合物が適用された反応温度で液状であるように選択する。 より高い圧力の適用も可能である。適用される反応温度は有利にはその都度使用 される触媒について予備実験で最適化される。 一般にアルコールＲＯＨ／１，３−ブタジエン・混合物は、０．０１〜０．５ ｇ／ｃｍ³ｈ、好ましくは０．０５〜０．４ｇ／ｃｍ³ｈ、特に好ましくは０．１ ０〜０．２５ｇ／ｃｍ³ｈの空間速度で触媒固定床中に通過される。反応混合物 に溶剤を加えることも可能であるが、一般には必要ない、それというのも使用さ れるアルコールは付加物ＩＩ及びＩＩＩと同様に溶 剤としても作用しうるからである。アルコールＲＯＨ／１，３−ブタジエン・混 合物の反応器中での滞留時間は一般には１〜６時間であり、一般には適用される 反応温度に依存している。 アルコールＲＯＨ Ｉを、気相中で１，３−ブタジエン又はブタジエンを含有 する炭化水素混合物に付加する場合には、一般に１２０℃未満の温度及び一般に は２０バール未満の圧力を適用する。所望の場合には反応ガスは反応条件下で不 活性のガス、例えば窒素と混合してもよく、一般には反応ガスは希釈しないで使 用する。 原料として純粋な１，３−ブタジエンの代わりに１，３−ブタジエンを含有す る炭化水素混合物も使用することができる。このような炭化水素混合物は例えば 蒸気分解装置でのいわゆるＣ₄−フラクションとして得られる。有利には該炭化 水素混合物からその使用前に場合によりその中に含有されたアセチレン系又はア レン系炭化水素をそれらの部分的水素化によって除去し（Ｗｅｉｓｓｅｒｍｅｌ ，Ａｒｐｅ：Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｌｌｅ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ Ｃｈｅｍｉｅ ；３版，ＶＣＨ Ｖｅｒｌａｇｓｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ １９８８）、所望の場合にはイソブテンを除去する。次いで１，３−ブタジエ ン含有炭化水素混合物を、純粋な１，３−ブタジエンと同様にして部分反応（ａ ）に導入することができる 。有利にはこれらの炭化水素混合物中に含有されていて、部分反応（ａ）での反 応時に反応しない飽和又はモノオレンフィン系炭化水素を、例えば気液分離器又 は圧力蒸留によって反応生成物から除去する。部分反応（ａ）におけるこの炭化 水素混合物の反応の際に得られる式ＩＩ及びＩＩＩの付加物は、部分反応（ａ） における純粋な１，３−ブタジエンを用いて得られる付加物ＩＩ及びＩＩＩと同 様にしてさらに加工されてｎ−ブチルアルキルエーテルを生成することができる 。 本発明方法の部分反応（ａ）からの反応生成物は、一般に未反応の１，３−ブ タジエン又はオレフィン系炭化水素の他に式ＩＩ及びＩＩＩの付加物ならびに場 合により、特に触媒としてブレーンステズ酸を使用する場合には、当該アルコキ シオクタジエンの数種の異性体（以下ではそれらを集合的名称でアルコキシオク タジエンと呼ぶ）を含有する。アルコキシオクタジエンはアルコールＲＯＨ Ｉ が１，３−ブタジエンに付加する際に副反応で生成するが、この副反応では先ず １，３−ブタジエンが二量化してオクタトリエンになり、このものに次ぎにアル コールＲＯＨ Ｉが付加してアルコキシオクタジエンを形成する。部分反応（ａ ）からの反応生成物はこれらの成分の他に、なお少量の他の副生成物、例えばオ クタトリエン、ビニルシクロヘキセン、ドデカテトラエンを生成する１，３−ブ タジエンの三量化及び次ぎのアルコールＲＯＨの付加によって生成されたアルコ キシドデカテトラエン、さらにドデカテトラエン及びジアルコキシブタンを含有 しうる。これらの副生成物の生成は、部分反応（ａ）における反応実施の方法、 例えば反応混合物中の１，３−ブタジエン／アルコールＲＯＨの割合、すなわち 過剰のブタノールの選択、反応温度及び圧力の選択によって影響され、所望の場 合には最小化されうる。 ｎ−ブチルアルキルエーテルの製造のために必要な式ＩＩの付加物は、反応生 成物中にほぼ同量で含有された異性体・式ＩＩＩの３−アルコキシブテンから蒸 留段階（ｂ）で分離され、不所望な異性体・３−アルコキシブテン−１ＩＩＩを 所望の１−アルコキシブテン−２ＩＩに転化される。 付加物ＩＩＩの分離は、有利には、部分反応（ａ）からの反応生成物を、未反 応１，３−ブタジエンを予め例えば気液分離器又は圧力蒸留で分離した後、分別 蒸留によって分離するように行うことができる。 分別蒸留の際にはまた、部分反応（ａ）からの反応生成物中に含有された副生 成物、すなわち１，３−ブタジエン−二量体及び−三量体ならびにそれらのアル コールＲＯＨ Ｉ付加物、場合により多重アルコキシル化副生成物及び過剰なア ルコールＲＯＨ Ｉを付加物ＩＩから分離することもできる。これらの副生成物 は方法の継続的進行中で一般には有害作用を呈しない ので、それらの分離は行わなくともよく、回収はアルキルブチルエーテルの蒸留 で初めて行う。またこの蒸留の際には次ぎのように行ってもよい：付加物ＩＩＩ の他は副生成物の一部分、特にオレフィン系１，３−ブタジエン−二量体及び− 三量体ならびに多重アルコキシル化副生成物しか分離せず、これに対して他の副 生成物、特にアルコキシオクタジエン及び所望ならばアルコキシドデカトリエン は付加物ＩＩと一緒に次ぎの部分反応で引続き加工するが、この際部分反応（ａ ）のこれらの副生成物から最終生成物としてオクチル−又はドデシルアルキルエ ーテルが生成する。 本発明方法の好ましい実施態様によれば、所望の付加物から分離された付加物 ＩＩＩは未反応１，３−ブタジエンと同様に部分反応（ａ）の方法段階に復帰さ れる、ここでは付加物ＩＩを生成する付加物ＩＩＩの異性化が付加反応と同時に 起きるか又はこの復帰が不所望の付加物ＩＩＩの新しい生成を抑制し、その結果 この循環操作法を用いる場合には全量的関係においては実際に所望の付加物ＩＩ のみが生成されるが、その不所望の異性体ＩＩＩは形成されない。 付加物ＩＩＩの異性化はこのものを部分反応（ａ）の方法段階に復帰させる代 わりに別個の異性化段階（ｃ）でも次ぎのようにして行うことができる：付加物 ＩＩから分離された付加物ＩＩＩを例えば異性化触媒、すなわち一般には段階（ ａ）で使用されるような触 媒の装入された反応器中を通し、その中で形成された付加物ＩＩＩと付加物ＩＩ との異性化混合物から成る前記反応器の生成物を、例えば蒸留により付加物ＩＩ 及び付加物ＩＩＩに分離し、新しく生成された付加物ＩＩを引続き加工してｎ− ブチルアルキルエーテルとなし、付加物ＩＩＩを再び異性化反応器に復帰させる 。 付加物ＩＩを生成する付加物ＩＩＩの異性化は溶剤の存在又は不在で行うこと ができる；好ましくは溶剤なしに作業する。異性化を溶剤の存在で行う場合には 、一般に高沸点溶剤、すなわちエーテル、例えばジ−又はトリエチレングリコー ルジメチルエーテル、ジ−又はトリエチレングリコールジ−ブチルエーテル、ス ルホキシド、例えばジメチルスルホキシド又はスルホン、例えばスルホラン、高 沸点芳香族又は脂肪族炭化水素又はハロゲン化脂肪族又は芳香族溶剤、例えばジ クロロベンゼンを使用する。低沸点溶剤の使用も同様に可能であるが、一般には 異性化反応器からの生成物を付加物ＩＩ及びＩＩＩに蒸留分離する際に増大され た費用を必要とする。 また１−アルコキシブテ−２−エンを生じる３−アルコキシブテ−１−エンの 異性化も一般にはＷＯ９５／１９３３４の記載により行うので、触媒及び方法実 施に関しては明らかに前記文献に関連しておりかつそこに記載されたことは本願 に組込まれている見なすべ きである。 好ましい実施態様によれば、段階（ａ）の付加及び異性化（ｃ）は、２０重量 ％までの水、例えば０．０００１〜２０重量％、好ましくは０．００１〜１０重 量％、特に０．０１〜５重量％の水の存在で行う。 この手段によって所望のアルキルブテニルエーテルの収率は増大する。 水は、段階（ａ）〜（ｃ）のいずれかで加えるか又はイオン交換体からの水の 除去（他の場合にはこれが普通である）を中断するすることによって導入するこ とができる。蒸留によって異性体ＩＩ及びＩＩＩを分離する際には、一般にはエ ーテル、アルコール及び水から成る共沸混合物が形成されるので、３−アルキル ブテニルエーテルを含有する共沸混合物の復帰の場合には段階１での特定の水分 が保証されている。この水分は一般には十分である。場合により水分はさらに水 を加えることによって増大させることができる。最適な水分は有利には触媒の種 類に応じて予備実験によって確定する。例えばＰＵＲＯＬＩＴＥ（登録商標）Ｃ Ｔ １７５（Ｐｕｒｏｌｉｔｅ社、Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨ Ｒａｔ ｉｎｇｅｎ）を使用する場合には水分は０．５〜２重量％である。 第４段階（ｄ）では、付加物ＩＩが自体公知の触媒の使用下に接触水素化され て式ＩＶのエーテルを生じる。 ｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶを生成する付加物ＩＩの水素化は、好ましく は気相で又は液相でも行うことができる。液相でこの反応段階を実施する場合に は均質ならびに不均質触媒を使用することができる。気相で作業する場合には、 一般に不均質触媒が好ましい。 付加物ＩＩを水素化してｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶを生成するための均 質触媒としては、多数の遷移金属化合物、特に元素の周期表のＶｂ、ＶＩｂ、Ｖ ＩＩｂ及びＶＩＩＩｂ族からの元素、好ましくは鉄、コバルト、ニッケル、ルテ ニウム、ロジウム、パラジウム、白金、オスミウム及び／又はイリジウムを含有 するような化合物を使用することができる。 触媒としては、例えばこれらの遷移金属の塩、特に反応媒体中で溶解するこれ らの遷移金属のハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、カルボン酸塩、例え ばＣ₁〜Ｃ₂₀−カルボン酸塩、例えばギ酸塩、酢酸塩、トリクロロ酢酸塩、プロ ピオン酸塩、２−エチルヘキサン酸塩、デカン酸塩、さらにクエン酸塩、酒石酸 塩、リンゴ酸塩、マロン酸塩、マレイン酸塩又はフマル酸塩、スルホン酸塩、例 えばメタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタリンスルホン酸塩、 トルエンスルホン酸塩又はトリフルオロメタンスルホン酸塩、シアン化物、テト ラフルオロホウサン酸塩、過塩素酸塩又はヘキサフルオロリン酸塩、さらにこれ らの金属のオキソ酸の可溶性塩、特にアルカリ金属−、アルカリ土類金属−又は オニウム塩、例えばアンモニウム−、ホスホニウム−、アルソニウム−又はスチ ボニウム塩、これらの金属の可溶性無機錯体、特にアクア（Ａｑｕｏ）−、ハロ ゲン−、ホスフィン−、ホスファイト−、シアノ−又はアミノ−錯体ならびにこ れらの遷移金属とキレート化剤、すなわちアセチルアセトン、ジオキシム、例え ばジアセチルジオキシム、フリルジオキシム又はベンジルジオキシム、エチレン ジアミンテトラ酢酸、ニトリロトリ酢酸、ニトリロトリエタノール、尿素又はチ オ尿素、ビスホスフィン、ビスホスフィット、ビピリジン、テルピリジン、フェ ナントロリン、８−ヒドロキシキノリン、クラウンエーテル又はポリアルキレン グリコールとの錯体、ならびにこれらの遷移金属の有機金属化合物、例えばカル ボニル錯体、すなわちＨＲｕＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ₃）₃，ＨＲｕＣｌ（ＣＯ）（ ヘキシルジフェニルホスフィン）₃，ＲｕＨ₂（ＣＯ）（ＰＰｈ₃）₃，ＲｕＨ（Ｃ Ｏ）（ＣＨ₃ＣＯ₂）（ＰＰｈ₃）₂，ＲｕＨ₂（ＰＰｈ₃）₃，ＨＲｈ（ＣＯ）（Ｐ Ｐｈ₃）₃又はＩｒＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ₃＝トリフェニルホスフィン）が適当で ある。。 好ましい塩様均質触媒は、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、白金及びイリ ジウムのハロゲン化物、特に塩化物、硝酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、カルボン 酸塩及びシアン化物である。 水素化（ｄ）を行うための好ましい均質触媒は、前記の遷移金属、特にコバル ト、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、白金及びイリジウムと、単 座又は多座の、特に二座のホスフィン−又はホスフィット配位子及び／又はその 錯生成剤としての特性が（−Ｎ＝Ｃ−Ｃ＝Ｎ−）の構造単位から誘導される窒素 含有配位子、例えば２，２−ビピリジン又は１，１０−フェナントロピン、なら びにこれらの基本構造から置換又は融合によって誘導される配位子とから成る錯 体である。 部分反応（ｄ）を実施するための均質触媒として特に好ましく使用される有機 金属遷移金属化合物は、例えばカルボニル錯体、すなわちＨＲｈ（ＰＰｈ₃）₃（ ＣＯ），ＨＲｕＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ₃）₃，ＲｕＨ（ＣＯ）（ＣＨ₃ＣＯ₂）（Ｐ Ｐｈ₃）₂，ＲｕＨ（ＣＯ）（Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯ₂）（ＰＰｈ₃）₂又はＲｕＣｌ₂（ＣＯ ）₂（ＰＰｈ₃）₃である。 適当なホスフィン配位子は、例えば部分反応（ａ）を実施するために挙げたホ スフィン配位子と同じものであり、これはすでに言及している。適当な２，２− ビピリジン−又は１，１０−フェナントロリン−配 位子は、例えば部分反応（ａ）を実施するために挙げた配位子ならびにそこに挙 げた前記配位子の誘導体及び構造類似物であり、これはすでに言及している。 適当なホスフィット配位子は例えばトリアルキルホスフィット、アルキルジア リールホスフィット、トリアリールホスフィット、アルキル−ビスホスフィット 、アリール−ビスホスフィット、アルキルアリール−ビスホスフィットである。 アルキル基を有するホスフィット配位子は同じか又は異なるＣ₁〜Ｃ₁₀−、好ま しくはＣ₁〜Ｃ₆−アルキル−又はシクロアルキル基を有することができる。アリ ール基を有するホスフィット配位子は同じか又は異なるＣ₆〜Ｃ₁₂−アリール基 、特にフェニル−又はナフチル基、しかしまたジフェニル基を有することができ る。また遷移金属を錯化するためには、ヘテロ脂環式基、すなわちピロリジン− 、イミダゾリジン−、ピペリジン−、モルホリン−、オキサゾリジン−、ピペラ ジン−又はトリアゾリジン基又はヘテロ芳香族基、すなわちピロル−、イミダゾ ール−、オキサゾール−、インドール−、ピリジン−、キノリン−、ピリミジン −、ピラゾール−、ピラジン−、ピリダジン−又はキノクサゾリン基を他のアル キル−又はアリール基と一緒に有するホスフィット配位子を使用することもでき る。ホスフィット配位子のアルキル−又はアリール基は置換されていてもよいか 又は反応条件下で不活性の置換分、例えばＣ₁ 〜Ｃ₄−アルコキシ−、ジ−Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキルアミノ−、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキル −又はヒドロキシ−、ニトロ−、シアノ−又はスルホネート−基を有していても よい。スルホネート置換ホスフィット配位子及びそれらの錯体は一般に水溶性で ある。適当なホスフィット配位子は、例えばトリメチルホスフィット、トリエチ ルホスフィット、トリプロピルホスフィット、トリイソプロピルホスフィット、 トリブチルホスフィト、トリシクロペンチルホスフィット、トリシクロヘキシル ホスフィット、トリフェニルホスフィットならびにヨーロッパ特許出願公開第４ ７２０７１号、同第２１３６３９号、同第２１４６２２号明細書、ドイツ国特許 出願公開第２７３３７９６号明細書、ヨーロッパ特許出願公開第２２６１号、同 第２８２１号、同第９１１５号、同第１５５５０８号及び同第３５３７７０号明 細書、米国特許第４３１８８４５号、同第４２０４９９７号及び同第４３６２８ ３０号明細書に記載されたモノ−及びビスホスフィット配位子である。 触媒として反応媒体中に均質に溶解するホスフィン−又はホスフイット錯体を 用いる水素化（ｄ）の場合には、反応混合物にさらにホスフィン又はホスフィッ ト、好ましくは使用された均質触媒中で配位子として使用されるホスフィン又は ホスフィット、及び／又はアルカン酸のような酸、例えば酢酸、エチルヘキサン 酸又はデカン酸又はトルエンスルホン酸又はフェノー ルを加えることが有利であると証明しうる。このような添加は均質触媒の使用期 間の延長をもたらし、さらにｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶを生成する付加物 ＩＩの反応の選択性、ひいては全方法の選択性を改良することができる。反応混 合物に一酸化炭素を加えるのも、特にカルボニル基を含む遷移金属錯体を均質触 媒として使用する場合には、同様な有利な効果を発揮することができる。 上記の効果を得るためには、一般にホスフィン又はホスフィットを遷移金属の ホスフィン−又はホスフィット錯体に関して１〜１００モル量、好ましくは１〜 ２０モル量、特に好ましくは１〜５モル量で加える。均質触媒として役立つ遷移 金属錯体が現場の反応混合物中で製造される場合には、有利には当該遷移金属に 関して適当に高い過剰のホスフィン−又はホスフィット配位子を使用する。 反応媒体中で均質に溶解する遷移金属触媒は、一般に反応器に供給した付加物 ＩＩに対して好ましくは０．０２〜０．２モル％の量で使用する。その都度使用 される均質触媒に対する最適量は有利には予備実験で求める。 前記の均質触媒を用いる水素化（ｄ）は、不連続的には例えば撹拌反応器で、 又は連続的には例えばループ反応器、気泡塔又は撹拌反応器のカスケードで、一 般には６０℃を超える温度及び一般には５〜１００バ ール、好ましくは１０〜６０バールの圧力で行うことができる。ｎ−ブチルアル キルエーテルＩＶを生成する付加物ＩＩの反応は、添加された溶剤、すなわち脂 肪族又は芳香族炭化水素、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン又はシクロヘキ サン、アルコール、例えばブタノール、高級脂肪アルコール又はグリコール、エ ーテル、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン又は低分子ポリアルキレングリ コール、ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えばクロロホルム、ジクロロ メタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、スルホキシド又はスルホン、例え ばジメチルスルホキシド又はスルホンの存在又は不在で行うことができる。 水素化の際に他の溶剤を加えない場合には、反応体自体、つまり付加物ＩＩ及 びｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶも均質触媒の溶解を行う。 付加物ＩＩの水素化のためには、水素を、反応器に供給した付加物ＩＩを基準 にして一般には１：１〜１００：１、好ましくは１：１〜５０：１、特に好まし くは１：１〜１０：：１のモル比で混入する。この混入は方法の不連続的操作法 の場合には、必要な水素量を反応器に圧入するか又は例えば気泡塔又は水素を分 散するためのジェットノズルを備えたループ反応器によって水素を反応媒体中で 分散することによって行う。水素の混入は一般に付加物ＩＩ及び均質触媒を反応 器に装入する際に行うが、しかしまた有利には水素を 後で反応器中に給入してもよい。これらの手順のどれを選択するかは、使用され る触媒及びその都度適用される圧力−及び温度条件ならびに反応器の構造に依存 している。最適な手順は有利には予備実験で決める。同様にして水素化の連続的 実施形式の場合には、例えば管反応器、気泡塔反応器又は充填塔で水素を他の反 応体と一緒に又は別個に連続的に導入することができる。 反応終了後には反応生成物を一般に蒸留により後処理するが、使用された均質 触媒は蒸留の塔底部から回収され、所望の場合には再使用することができる。本 発明方法で触媒の復帰が望ましい場合には、有利には反応混合物に溶剤、好まし くはｎ−ブチルアルキルエーテルよりも高い温度で沸騰する溶剤を加えることが できる。使用された均質触媒が蒸留の条件下で化学的及び熱的に安定である場合 には、高沸点溶剤の添加を省略して、均質触媒を固体で反応に再び復帰させるこ とができる。 本発明方法の他の好ましい実施態様においては、ｎ−ブチルアルキルエーテル ＩＶを生成する付加物ＩＩの水素化は不均質触媒の使用下で行い、該方法を選択 的に液相で又は好ましくは気相で行う。 これらの水素化触媒のうち、元素の周期表のＩｂ、ＶＩｂ、ＶＩＩｂ及びＶＩ ＩＩｂ族の１種以上の元素を、場合によりＶｂ族の１種以上の元素と組合わせて 含有し、特に銅、亜鉛、クロム、モリブデン、タングステン、レニウム、ルテニ ウム、コバルト、ニッケル、ロジウム、イリジウム、パラジウム及び／又は白金 を場合により鉄と組合わせて含有する触媒が好ましい。 特に活性の水素化触媒、ニッケル、コバルト又は白金金属は、触媒毒として働 く主族元素が添加され、このようにして部分的に被毒する。この手段によってｎ −ブチルアルキルエーテルを生成する水素化の際のより高い選択性を達成するこ とができる。適当な主族元素は例えばカルコゲン、すなわち硫黄、セレン及びテ ルル、ならびに燐、ヒ素、アンチモン、ビスマス、錫、鉛及びタリウム元素であ る。 不均質触媒としては例えばいわゆる沈殿触媒を使用することができる。このよ うな触媒は次ぎのようにして製造する：その触媒活性成分をそれらの塩溶液、特 にそれらの硝酸塩及び／又は酢酸塩の溶液から、例えばアルカリ金属−及び／又 はアルカリ土類金属水酸化物及び／又は炭酸塩溶液を加えることによって、例え ば難溶の水酸化物、水和酸化物、塩基性塩又は炭酸塩として沈殿させ、得られた 沈殿物を次ぎに乾燥し、次いでこれらを一般には３００〜７００℃、特に４００ 〜６００℃で燒成することによって当該酸化物、混合酸化物及び／又は混合原子 価酸化物に変え、このものを一般には５０〜７００℃、特に１００〜４００℃で 還元剤、つまり水素又は水素含有ガスで処理することによって還元して低い酸化 段階の当該金属及び／又は酸化性化合物となしかつ実際の触媒的に活性の形に変 える。この場合一般には、水がもはや形成されなくなるまで還元を行う。担体物 質を含有する沈殿触媒の製造の場合には、当該担体物質の存在で触媒活性成分の 沈殿を行う。しかしまた触媒活性成分は有利には担体物質と一緒に同時に当該塩 溶液から沈殿させてもよい。 好ましくは、担体物質上に析出された水素化を触媒する金属又は金属化合物を 含有する水素化触媒を使用する。水素化（ｄ）のためには、触媒活性成分の他に なお付加的に担体物質も含有する前記の沈殿触媒の他に、一般に触媒活性成分が 例えば含浸によって担体物質上に施されているような担体触媒が適当である。 触媒活性金属を担体上に施す方法は一般に重要ではなく、種々の仕方で成就す ることができる。触媒活性金属は、例えば当該元素の塩又は酸化物の溶液又は懸 濁液を担体物質上に含浸させ、乾燥し、次いで金属化合物を還元剤によって、好 ましくは水素、水素含有ガス又はヒドラジンによって還元してより低い酸化段階 の当該金属又は化合物にして担体上に施す。触媒活性金属を該担体上に施すため の他の手段は、担体に触媒活性金属の熱的に容易に分解可能の塩、例えば硝酸塩 又は熱的に容易に分解可能の錯体化合物、例えばカル ボニル−又はヒドリド錯体を含浸させ、このように含浸された担体を吸着された 金属化合物の熱分解のために３００〜６００℃の温度に加熱することである。こ の熱分解は好ましくは保護ガス雰囲気下で行う。適当な保護ガスは例えば窒素、 二酸化炭素、水素又は希ガスである。さらに触媒活性金属は触媒担体上に蒸着又 は溶射によって付着させることもできる。 担体触媒における触媒活性金属の含量は本発明方法の成就にとっては原則とし て重要ではなく、担体触媒における触媒活性金属のより高い含量は、当然一般に はより低い含量よりも高い空時変換率をもたらす。しかし一般には全触媒に対し て０．１〜８０重量％、好ましくは０．５〜５０重量％である触媒活性金属の含 量を有する担体触媒を使用する。もちろんまたより多量の触媒活性金属がその都 度の担体物質上に施されていてもよい。さらに触媒活性金属は、例えばドイツ国 特許出願公開第２５１９８１７号、ヨーロッパ特許出願公開第１４７２１９号及 び同第２８５４２０号明細書の方法により担体上に施すこともできる。前記刊行 物による触媒の場合には触媒活性金属は合金として存在しており、この合金は例 えば含浸によって担体上に付着された前記金属の塩又は錯体の熱処理及び／又は 還元によって製造される。 沈殿触媒及び担体触媒の活性化はまた現場の反応混合物中でそこの存在する水 素によっても行うことがで きが、好ましくはこれらの触媒はその使用前に活性化される。 担体物質としては一般に、アルミニウム及びチタンの酸化物、二酸化ジルコニ ウム、二酸化ケイ素、多孔質珪藻土、シリカゲル、クレー、例えばモンモリロナ イト、ケイ酸塩、例えばケイ酸マグネシウム又はアルミニウム、ゼオライト、例 えばＺＳＭ−５又はＺＳＭ−１０ゼオライトならびに活性炭素を使用することが できる。好ましい担体物質は酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニ ウム及び活性炭である。 適当な不均質触媒としては、例えば次ぎの触媒を挙げることができる：二酸化 白金、酸化アルミニウム上のパラジウム、二酸化ケイ素上のパラジウム、硫酸バ リウム上のパラジウム、活性炭上のロジウム、酸化アルミニウム上のロジウム、 二酸化ケイ素又は活性炭上のルテニウム、二酸化ケイ素上のニッケル、酸化アル ミニウム上のニッケル、二酸化ジルコニウム上のニッケル、二酸化ケイ素上のコ バルト、酸化アルミニウム上のコバルト、酸化アルミニウム上のコバルト／モリ ブデン、カルボニル鉄粉、レニウムブラック（Ｒｈｅｎｉｕｍ−ｓｃｈｗａｒｚ ）、ラネーレニウム、活性炭上のレニウム、活性炭上のレニウム−パラジウム、 活性炭上のレニウム−白金、二酸化ケイ素上の銅、酸化アルミニウム上の銅、活 性炭上の銅、多孔質珪藻土上の銅、シリカゲル上の銅、二酸化チタン上の銅、二 酸化ジルコニウム上の銅、ケイ酸マグネシウム上の銅、ケイ酸アルミニウム上の 銅、モンモリロナイト上の銅、ゼオライト上の銅、酸化アルミニウム上の銅／亜 鉛、ラネ−銅、酸化白金−酸化ロジウム−混合物、活性炭素上の白金−パラジウ ム、亜クロム酸銅、亜クロム酸バリウム、酸化アルミニウム上のニッケル−酸化 クロム、ラネーニッケル、硫化コバルト、硫化ニッケル、硫化モリブデン（ＶＩ ）、銅−酸化モリブデン（ＶＩ）−二酸化ケイ素−酸化アルミニウム−触媒、セ レン又は鉛で部分的に失効された（ｖｅｒｇｉｆｔｅｔ）、活性炭上のパラジウ ム触媒ならびにドイツ国特許出願公開第３９３２３３２号、米国特許第３４４９ ４４５号、ヨーロッパ特許出願公開第４４４４４号及び同第１４７２１９号、ド イツ国特許出願公開第３９０４０８３号及び同第２３２１１０１号、ヨーロッパ 特許出願公開第４１５２０２号、ドイツ国特許出願公開第２３６６２６４号及び ヨーロッパ特許出願公開第１００４０６号明細書に記載の触媒。 本発明方法ではまた、ブレーンステズ酸−及び／又はリュイス酸中心又は塩基 中心を有する水素化触媒も使用することができる。このような触媒を使用する場 合には、一般にブレーンステズ酸又はリュイス酸又は塩基を反応混合物にさらに 加える必要はない。 例えば触媒活性金属が触媒を水素又は水素含有ガスで活性化する場合に完全に は当該金属に還元されない 場合には、同金属自体がブレーンステズ酸−又はリュイス酸中心として作用する 。これは例えばレニウム−及び亜クロム酸塩含有触媒、すなわちレニウム担体触 媒及び亜クロム酸銅の場合に該当する。レニウム担体触媒においてはレニウムは レニウム金属とレニウム化合物の混合物として高い酸化段階で存在しており、後 者はリュイス酸又はブレーンステズ酸のように作用することができる。さらにこ のようなリュイス酸、ブレーンステズ酸又は塩基中心は使用された担体物質を介 して触媒中に導入されうる。リュイス酸−又はブレーンステズ酸中心を含有する 担体物質としては、例えば酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニウ ム、二酸化ケイ素、ケイ酸塩、クレー、ゼオライト及び活性炭を挙げることがで きる。 したがって本発明方法では水素化触媒として、好ましくは元素の周期表のＩ、 ＶＩ、ＶＩＩ及び／又はＶＩＩＩの副族の元素、特に元素の周期表のＩ、ＶＩＩ 及びＶＩＩＩの副族の元素を、ブレーンステズ酸又はリュイス酸のように作用す る担体物質上に付着された状態で含有する担体触媒を使用する。特に有利な触媒 は、例えば活性炭上の銅、二酸化ケイ素上の銅、多孔質珪藻土上の銅、シリカゲ ル上の銅、二酸化チタン上の銅、二酸化ジルコニウム上の銅、ケイ酸マグネシウ ム上の銅、ケイ酸アルミニウム上の銅、酸性白土（Ｂｌｅｉｃｈｅｒｄｅ）上の 銅、ゼオライト上の銅、活 性炭上のルテニウム、酸化アルミニウム上のルテニウム、二酸化ケイ素上のルテ ニウム、酸化マグネシウム上のルテニウム、二酸化ジルコニウム上のルテニウム 、二酸化チタン上のルテニウム、酸化アルミニウム上のパラジウム、二酸化ケイ 素上のパラジウム、硫酸バリウム上のパラジウム及びセレン又は鉛で一部分失活 された（ｖｅｒｇｉｆｔｅｔ）、活性炭上のパラジウム触媒、酸化アルミニウム 上の白金、二酸化ケイ素上の白金、二酸化ジルコニウム上のニッケル、二酸化ケ イ素上のニッケル、酸化アルミニウム上のニッケル、酸化アルミニウム上のニッ ケル−銅、二酸化ケイ素上のコバルト、酸化アルミニウム上のコバルト、酸化ア ルミニウム上のコバルト−モリブデンである。 このようなブレーンステズ酸又はリュイス酸中心自体を有しない水素化触媒に は、リュイス酸又はブレーンステズ酸成分、例えばゼオライト、酸化アルミニウ ム又は−ケイ素、リン酸又は硫酸を添加することができる。これらの成分は一般 に使用された触媒の重量を基準にして０．０１〜５重量％、好ましくは０．０５ 〜０．５重量％、特に好ましくは０．１〜０．４重量％の量で添加する。 さらにｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶを生成する付加物ＩＩの水素化のため には、この方法段階の均質触媒のために使用できる、元素の周期表のＶＩｂ、Ｖ ＩＩｂ及びＶＩＩＩｂ族からの遷移金属の錯体化合物 を不均質化された形で含有する不均質触媒、例えば当該遷移金属がポリマーマト リックスに固定されているようなものも適当である。 このようなポリマーマトリックスは、スチレン−ジビニルベンゼン樹脂又はフ ェノール−ホルムアルデヒド樹脂のような樹脂であってよく、これらの樹脂に遷 移金属の錯生成のために役立つ当該配位子が好ましくは共有結合されていて、同 配位子が今度は当該遷移金属と共に錯体を形成し、同金属をこのようにしていわ ば不動化する。 ｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶを生成する付加物ＩＩの水素化は前記の不均 質触媒を用いて連続的にも不連続的にも行うことができる。 前記反応を液相で行なう場合には、不均質触媒は液体反応媒体中に懸濁されて 又は好ましくは１個の固定床又は数個の固定床に配置されて使用されうる。該方 法は液体反応媒体中に懸濁された不均質触媒を使用する場合には、例えば撹拌反 応器又はループ反応器で行なうことができる。１個の固定床に配置された不均質 触媒を使用する場合には、反応混合物は一般に逆流法（Ｓｕｍｐｆｆａｈｒｗｅ ｉｓｅ）又は順流法（Ｒｉｅｓｅｌｆａｈｒｗｅｉｓｅ）で触媒固定床上を導く 。 水素化は断熱的又は等温的に操作される反応器で行なうことができる。一般に 触媒には、空間速度０．０ １〜１０ｋｇ反応混合物／ｌ触媒・ｈ、好ましくは０．０５〜６、特に好ましく は０．０８〜３ｋｇ／ｌ・ｈを有する液体反応混合物を負荷させる。不均質触媒 を使用する場合には反応は溶剤の存在又は不在で行なうことができる。溶剤とし ては、均質触媒下で該方法を実施する場合にも使用できる同じ溶剤を使用するこ とができる。 水素は、不均質触媒の場合には、反応器に供給された付加物ＩＩに対して一般 には１〜１００、好ましくは１．５〜８０、特に２〜４０のモル比で加える。不 均質触媒により液相でｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶを生成する付加物ＩＩの 水素化は、一般には２０〜４００℃、好ましくは３０〜３５０℃、特に好ましく は８０〜２５０℃の温度及び一般には１〜３００バール、好ましくは５〜２５０ バール、特に２０〜２００バールの圧力で行う。 段階（ｄ）からの液体反応生成物は、一般には均質触媒に関してすでに記載し たように蒸留により後処理する。 水素化はまた気相でも行うことができる。このためには気相反応のためのそれ 自体慣用の反応器、例えば触媒が固定床又は流動床に配置されているようなもの を使用することができる。反応器は断熱的又は等温的に操作することができる。 触媒の固定床配置を使用する場合には、触媒は１個の固定床又は有利には反応熱 の排出を改善するために数個、例えば２〜１０個、好ましくは２〜５個の固定床 に配置されていてもよい。数個の触媒固定床又は反応器の断熱的操作法の場合に は、反応ガスの中間床冷却及び／又は付加的量の冷却反応体、つまり水素又は付 加物ＩＩの個々の固定床の間への圧入によって、反応ガスの温度を先行固定床を 出た後及び次ぎの固定床に入る前に下げて、反応の選択性を高めるのが有利であ る場合もある。数個の固定床を使用する場合には、反応は、有利には最終固定床 前の個々の固定床では部分変換率まで、例えば５０〜９８％の変換率までしか行 われない。反応ガスは所望の場合には反応条件下で不活性のガス、例えば窒素、 飽和炭化水素又はアルゴンで希釈することができる。 気相での水素化の場合には、水素は反応器に供給された付加物ＩＩに対して一 般には１〜２００、好ましくは１．５〜８０、特に好ましくは２〜４０のモル比 で加える。水素は付加物ＩＩと一緒に及び／又は数個の部分流に分けて、反応器 の種々の部分から反応器に供給することができる。一般に触媒には、大体におい て付加物ＩＩ、水素及び所望の場合には不活性ガスを含有する反応ガスを、空間 速度０．０１〜１０、好ましくは０．０５〜５、特に０．０７〜３ｋｇ反応ガス ／ｌ触媒・ｈをもって負荷させる。反応は一般に２０〜４００℃、好ましくは１ ００〜３５０℃、特に好ましくは１５０〜２５０℃の温度及び一般に０．５〜１ ００バール、好ましくは０．９〜５０バール、特に１〜２０バールの圧力で行う 。 ガス状反応生成物の後処理のためには、同生成物を場合により大気圧に減圧し た後蒸留器に直接導入し、そこで蒸留によりその成分に分離することができる。 ガス相での水素化のためには、原則として液相での反応の際にも使用する同じ 不均質触媒を使用することができる。ガス相法では好ましくは純粋に無機の鉱物 触媒を使用する。好ましい触媒は、例えば元素の周期表のＩ、ＶＩ、ＶＩＩ及び ／又はＶＩＩＩの副族の元素を、場合によりＶの副族の１種以上の元素と組合わ せて含有し、特にブレーンステズ酸、リュイス酸又は塩基作用をする担体物質上 に付着された元素の周期表のＩ、ＶＩＩ及びＶＩＩＩの副族の元素を含有する担 体触媒である。有利な触媒は、例えば活性炭上の銅、二酸化ケイ素上の銅、多孔 質珪藻土上の銅、シリカゲル上の銅、二酸化チタン上の銅、二酸化ジルコニウム 上の銅、ケイ酸マグネシウム上の銅、ケイ酸アルミニウム上の銅、酸性白土上の 銅、ゼオライト上の銅、活性炭上のルテニウム、酸化アルミニウム上のルテニウ ム、二酸化ケイ素上のルテニウム、酸化マグネシウム上のルテニウム、二酸化ジ ルコニウム上のルテニウム、二酸化チタン上のルテニウム、酸化アルミニウム上 のパラジウム、二酸化ケイ素上のパラジウム、硫酸バリウム上のパラジウム及び セレン又は鉛で部分的に失 活された活性炭上のパラジウム触媒、酸化アルミニウム上の白金、二酸化ケイ素 上の白金、二酸化ジルコニウム上のニッケル、二酸化ケイ素上のニッケル、酸化 アルミニウム上のニッケル、酸化アルミニウム上のニッケル−銅、二酸化ケイ素 上のコバルト、酸化アルミニウム上のコバルト、酸化アルミニウム上のコバルト −モリブデンである。 本発明方法を、有利な実施態様を図示する添付図面のフローチャートにより詳 述する。 供給管１を介して１，３−ブタジエン又はブタジエン含有炭化水素混合物（３ ）及びアルコールＲＯＨ Ｉ（４）、好ましくはｎ−ブタノールから成る混合物 を反応器２に導入する。反応器２でアルコールＲＯＨ Ｉが触媒により１，３− ブタジエンに付加され、この際付加物ＩＩ及びＩＩＩの混合物が形成される。大 体において付加物ＩＩ及びＩＩＩ、高沸点のブタジエン誘導体及び未反応の１， ３−ブタジエン及びアルコールＲＯＨ Ｉから成る反応器２からの反応流出物は 、導管５を介して気液分離器６に供給され、そこでガス状１，３−ブタジエンが 反応流出物の液体成分から分離され、導管７、８を介して反応器２に再び復帰さ れるか又は導管９を介してトーチに運ばれる（ａｂｇｅｆａｃｋｅｌｔ）。分離 器６で生じる液体混合物は導管１０を介して蒸留塔１１に導入され、ここで易揮 発性の付加物ＩＩＩが、難揮発性の付加物ＩＩならび にまだ場合により存在しているアルコールＲＯＨ Ｉ及び高沸点ブタジエン誘導 体から蒸留により分離される。付加物ＩＩＩ、未反応アルコールＲＯＨ Ｉなら びに場合によってまだ存在する未反応１，３−ブタジエンは次ぎに導管１２を介 して反応器２に戻され、ここで付加物ＩＩＩは供給されたばかりの１，３−ブタ ジエン及びアルコールＲＯＨ Ｉの存在で異性化されて付加物ＩＩを生じる。選 択的には、また未反応アルコールも場合により付加物ＩＩと一緒に導管１３を介 して反応器１４に供給されうる。反応器２からの流出物と一緒に塔１１に供給さ れた低沸点生成物、例えばビニルシクロヘキサンは、所望の場合には塔１１で分 離された残余ブタジエンと一緒に出口２６を介してトーチ（Ｆａｃｋｅｌ）に運 ばれる。単一の蒸留塔１１の代わりに数個の蒸留塔が連続的に接続されていても よい。これによって反応器２の流出物中に含有された高沸点反応生成物、例えば アルコキシオクタジエン又はアルコキシドデカトリエンが付加物ＩＩから分離さ れて、方法から除去される。これらの化合物は水素化（ｄ）の際に有害作用を呈 しないので、分離を行わないでもよくかつアルコキシオクタジエン又はアルコキ シドデカトリエンンは付加物ＩＩと一緒に導管１３を介して水素化反応器１４に 供給されうる。 易揮発性付加物ＩＩＩ及び低沸点副生成物、場合により高沸点副生成物を除去 した、塔１１からの液体流 出物は、場合により未反応アルコールＲＯＨ Ｉと一緒に導管１３を介して水素 化反応器１４に供給され、ここで付加物ＩＩは均質又は不均質遷移金属触媒の存 在で水素化されてｎ−ブチルアルキルエーテルＩＶを生成する。導管１５又は１ ６を介して必要な水素が供給される。 反応器１４からの反応流出物は大体おいてｎ−ブチルアルキルエーテル、高沸 点ブタジエン誘導体、例えばオクチルアルキルエーテル又はドデシルアルキルエ ーテル及び、反応器１４で均質触媒が使用された場合には触媒溶液を含有してお り、この反応生成物は導管１７を介して蒸留塔１８に供給される。未反応水素は 大部分導管１９を介して取出されかつ導管１５又は１６を介して反応に復帰され るか又はトーチに運ばれる。所望の場合には水素はまた反応器１４と蒸留塔１８ との間に取付けられた気液分離器により分離され、前述のように引続き使用され うる。 蒸留塔１８では、反応器１４からの水素化流出物は蒸留によりその成分に分け られる。低沸点副生成物は塔頂より導管２０を介して取出され、さらなる精製の ために追加的蒸留段階（ここには図示してない）で後処理される。ｎ−ブチルア ルキルエーテルは導管２１を介して塔から排出され、高沸点生成物、例えばオク チルアルキルエーテル及びドデシルアルキルエーテルは数個の出口（２２）を介 して塔１８の下部で取出さ れる。反応器１４で均質触媒を使用した場合には、触媒溶液は塔１８の塔底から 導管２３を介して取出され、場合により既使用触媒の部分流を導管２４を介して 除去しかつ導管２５を介して新しい触媒を補充した後、再び反応器１４に復帰さ れる。 米国特許第２９２２８２２号明細書（例１）及びＷＯ９５／１９３３４からは なるほど、ブタジエンに対するアルコールの付加物の分離及び復帰によって異性 化を行い、二つの異性体の一方のみを製造することはすでに公知である。しかし 両刊行物には、付加反応、分離、異性化及び水素化の結合によって新規でかつ技 術的に極めて有利な方法でアルキルブチルエーテルを製造することが成功するこ とは、記載されていないし、またそれらから予想され得ない。 実施例 例１（ブタジエンに対するアルコールの付加及び異性化） （部分反応ａ） ブチルブテニルエーテル混合物（３−ブトキシブテ−１−エン及び１−ブトキ シブテ−２−エン）の製造を、ＷＯ９５／１９３３４の例１〜４ならびに８〜１ １に記載されているように行った。 別個の異性化段階で行うか又は式ＩＩＩの付加物を段階（ａ）に復帰させるこ とによって行う、付加物ＩＩを生成する付加物ＩＩＩの異性化は、ＷＯ９５／１ ９３３４の例５で記載されているように行った。 例２（均質触媒による付加物ＩＩの水素化） ａ）オートクレーブに触媒ＨＲｕＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ₃）₃０．２５ｇ及び１− ブトキシブテ−２−エン２６．９５ｇ（２１０ｍモル）を装入し、１８バールの 水素雰囲気下で１５０℃で６時間撹拌した。次ぎに反応混合物を較正したガスク ロマトグラフィーによって分析した。９２％の変換率の場合には、ジ−ｎ−ブチ ルエーテルは選択率９０％で得られ、１−ブトキシブテ−１−エンは選択率３％ で、１，１−ジブトキシブタンは選択率４％で得られた。 ｂ）オートクレーブに触媒ＨＲｈ（ＣＯ）（ＰＰｈ₃）₃０．２４ｇ及び１−ブト キシブテ−２−エン２６．９５ｇ（２１０ｍモル）を装入し、１８バールの水素 雰囲気下で１５０℃で６時間撹拌した。次ぎに反応混合物を較正したガスクロマ トグラフィーによって分析した。８２％の変換率の場合、ジ−ｎ−ブチルエーテ ルは選択率７６％で得られ、１−ブトキシブテ−１−エンは選択率１３％で、１ ，１−ジブトキシブタンは選択率８％で得られた。 例３（液相での不均質触媒による付加物ＩＩの水素化） ガラスオートクレーブに活性炭上のパラジウム触媒（１０％）０．１ｇ及び１ −ブトキブテ−２−エン７．０ｇ（５４ｍモル）を装入した。１００℃で１２バ ールの水素圧下での３時間の反応後に反応混合物を較正したガスクロマトグラフ ィーによって分析した。９９％の変換率で、ジ−ｎ−ブチルエーテルは選択率８ ２％で得られた。 例４（気相での不均質触媒による付加物ＩＩの水素化） 反応器中にニッケル／銅−酸化アルミニウム−触媒（ＮｉＯとして計算して５ ０重量％のニッケル含量及びＣｕＯとして計算して１７重量％の銅含量を有する ）１００ｍｌを装入した。触媒床の温度を形成ガス（水素２％）の存在で大気圧 で２時間のうちに２００℃の温度に高めた。次ぎに水素分を２時間毎に２５％、 ５０％及び１００％に高めた。次ぎに反応器を１７０℃に冷却し、１−ブトキシ −２−エン２４ｇ／ｈを大気圧で反応器中を導通させた。同時に反応器に９．５ ｌ／ｈの水素流を供給した。冷却後に単一相の液体の反応器流出物を較正したガ スクロマトグラフィーによって分析した。９９％の変換率で、ジ−ｎ−ブチルエ ーテルが選択率９９％で得られた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ， ＪＰ，ＫＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，Ｒ Ｏ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＵＡ，ＵＳ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. ｎ−ブチルアルキルエーテルを製造するに当り、 ａ）１，３−ブタジエン又はブタジエンを含有する炭化水素混合物を、高められ た温度及び高められた圧力でブレーンステズ酸の存在又は燐又は窒素を含む配位 子を有する、元素の周期表のＩｂ、ＶＩＩｂ又はＶＩＩＩｂ族からの元素の錯体 の存在で、式Ｉ： ＲＯＨ Ｉ 〔式中Ｒは未置換の又はＣ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ−又はヒドロキシ基１〜２個で 置換されたＣ₂〜Ｃ₂₀−アルキル−、アルケニル−、シクロアルキル−又はシク ロアルケニル−、Ｃ₆〜Ｃ₁₀−アリール−又はＣ₇〜Ｃ₁₁−アラルキル基又はメチ ル基である〕 で示されるアルコールと反応させて式ＩＩ： 及び式ＩＩＩ 〔式中Ｒは前記のものを表す〕で示される付加物の混合物を生成させ、 ｂ）式ＩＩ及びＩＩＩの付加物を分離し、 ｃ）付加物ＩＩＩを、（ａ）に関して記載したような触媒の存在で異性化して付 加物ＩＩを生成させ、かつ ｄ）付加物ＩＩを、液相中の均質又は不均質の遷移金属元素触媒の存在又は気相 中の不均質の遷移金属元素含有触媒の存在で水素化して式ＩＶ： で示されるｎ−ブチルアルキルエーテルを生成させることを特徴とする、ｎ−ブ チルアルキルエーテルの製造方法。 2. １，３−ブタジエン又はブタジエン含有炭化水素混合物とアルコールＲＯ Ｈ Ｉとの反応を酸性イオン交換体の存在で行う、請求項１記載の方法。 3. １，３−ブタジエン又はブタジエン含有炭化水素混合物とアルコールＲＯ Ｈ Ｉとの反応を、元素の周期表のＶＩＩｂ又はＶＩＩＩｂ族からの遷移金属の アルキル−、アリール−又はアリールアルキル−ホスフィン錯体からの触媒の存 在で行う、請求項１記載の方法。 4. １，３−ブタジエン又はブタジエン含有炭化水素混合物とアルコールＲＯ Ｈ Ｉとの反応を、パラジウムのアルキル−、アリール−又はアリールアルキル −ホスフィン錯体からの触媒の存在で行う、請求項１記載の方法。 5. 付加物ＩＩを生成する付加物ＩＩＩの異性化を 、部分反応（ａ）によるアルコールＲＯＨ Ｉの付加の触媒作用のために使用さ れるような触媒の存在で行うか、又は付加物ＩＩＩを直接部分反応（ａ）に戻し 、そこで異性化して付加物ＩＩを生成させる、請求項１記載の方法。 6. 水素化（ｄ）を液相又は気相で不均質水素化触媒により行う、請求項１記 載の方法。 7. 水素化（ｄ）を気相中で、元素の周期表のＩｂ、ＶＩｂ、ＶＩＩｂ及び／ 又はＶＩＩＩｂ族からの１種以上の元素を含有する、少なくとも１種の不均質触 媒の存在で行う、請求項１記載の方法。 8. 水素化（ｄ）を、担体物質上のパラジウム、ニッケル又は銅又はこれらの 元素の混合物を含有する、少なくとも１種の不均質触媒の存在で行う、請求項１ 記載の方法。 9. アルコールＲＯＨ Ｉとしてｎ−ブタノールを使用しかつこのものを段階 （ａ）で少なくとも１モル過剰で使用する、請求項１記載の方法。 10．反応を少なくとも段階（ａ）〜（ｃ）では反応混合物に対して２０重量％ までの水の存在で行う、請求項１記載の方法。