JP2001337447A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光層上に保護層を有さず、保存安定性の良
好な感光性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 支持体上に、（Ａ）エチレン性不飽和化
合物、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）高分子結合剤、を
含有する光重合性感光層を有する感光性平版印刷版にお
いて、該感光層が（Ｄ）２５℃におけるｐＫｂが７以下
であるアミンを含有し、且つ、該感光層上に保護層を有
さないことを特徴とする感光性平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性感光性平
版印刷版に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータに入力し編集された
デジタルデータをレーザー走査線により直接感光性平版
印刷版上に出力する製版システム（ＣＴＰ）の実用化が
進み、光重合性組成物からなる感光層を用いた感光性平
版印刷版の成長も著しい。従来の光重合性感光性平版印
刷版は酸素による重合阻害を受けやすいため、充分な感
度を保有させるために、実用上は感光層上に酸素による
重合阻害作用を防止するための酸素遮断層（保護層）が
設けられている。しかしながら、今後のプロッターのレ
ーザー強度の向上等の露光機技術の進歩により、酸素遮
断層としての保護層の必要性は少なくなってくると予想
される。保護層の省略が可能であれば、製造上の手間や
コストの削減、さらには現像処理の簡略化や現像廃液の
クリーン化にも繋がる。

【０００３】一方、従来の光重合性感光性平版印刷版
は、保護層を有さない場合、数日以内にカブリ（暗反応
が進行し、現像による非画像部の除去が出来なくなる現
象）が生じてしまうため、保護層は上記酸素遮断層とし
ての役割だけではなく、保存安定性を維持させる役割も
担っている。従って、この様に露光技術の改良で保護層
が不要となったとしても、保存安定性が確保されない限
り実用上問題となる。一方、光重合性感光性組成物での
重合開始系の組み合わせは種々知られていて、アミンは
古くから重合加速剤としての効果が認められており、例
えば特定のラジカル発生剤と３級アミンとの組み合せが
高感度であることが知られている（特公昭５９−２８３
２６）。但し、この場合も、具体例は保護層を使用して
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、保護
層のない状態でも充分な保存安定性を確保することで、
従来、実用レベルでは必須であった保護層を不要とした
感光性平版印刷版を提供することを目的とするものであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、感光層に特定のアミンを
含有し、かつ、感光層上に保護層を有さない感光性平版
印刷版が、前記目的を達成し得ることを見出し本発明を
完成したものである。即ち、本発明は、支持体上に、
（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤及
び（Ｃ）高分子結合剤、を含有する光重合性感光層を有
する感光性平版印刷版において、該感光層が（Ｄ）２５
℃におけるｐＫｂが７以下であるアミンを含有し、且
つ、該感光層上に保護層を有さないことを特徴とする感
光性平版印刷版に存する。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の感光性平版印刷版は、支
持体上に光重合性組成物からなる感光層が設けられたも
のである。

【０００７】支持体としては、例えば、アルミニウム、
マグネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金
属又はそれらを主成分とした合金の板、それらの金属又
は合金をメッキ又は蒸着した金属板、それらの金属の箔
を貼着した紙、上質紙、アート紙、剥離紙等の紙、ガラ
ス、セラミックス等の無機質板、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリメチルメタクリレート、ポリアミド、ポリ
スチレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、セルロース
トリアセテート、セルロースアセテートブチレート等の
プラスチックシート、それらのプラスチックを塗布した
紙等が挙げられ、中で、アルミニウム板（アルミニウム
合金板も含む）が特に好ましく、その厚さは、通常、
０．０１〜１０ｍｍ程度、好ましくは０．０５〜１ｍｍ
程度である。

【０００８】アルミニウム板支持体としては、その表面
への光重合性組成物からなる感光層の形成に先立ち、通
常、脱脂処理、粗面化処理（砂目立て処理）、デスマッ
ト処理、陽極酸化処理、封孔処理、下引き処理等が施さ
れたものが用いられる。

【０００９】ここで、脱脂処理は、溶剤を用いて拭き取
り、浸漬、又は蒸気洗浄する方法、アルカリ水溶液を用
いて浸漬、又は噴霧した後、酸水溶液で中和する方法、
界面活性剤を用いて浸漬、又は噴霧する方法等の常法に
従ってなされる。

【００１０】又、粗面化処理（砂目立て処理）は、ボー
ル研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング
研磨法、バフ研磨法等の機械的処理方法、或いは、電解
エッチング法、化学エッチング法等の常法により、ＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１に規定される平均粗さＲａが０．１〜
１．５μｍ程度、好ましくは０．２〜１．０μｍ程度と
なるようになされる。

【００１１】又、必要に応じてなされるデスマット処理
は、硫酸、硝酸、塩酸、燐酸、クロム酸等の酸、又は、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、メタ珪酸ナトリウ
ム、燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、燐酸カリウ
ム、アルミン酸ナトリウム等のアルカリの水溶液を用い
て浸漬、又は噴霧する等の常法に従ってなされる。

【００１２】又、陽極酸化処理は、通常、硫酸単独、又
は硫酸を主体とし、修酸、燐酸、クロム酸、マロン酸等
を含む水溶液を電解液とし、アルミニウム板を陽極とし
て電解を行うことによりなされ、これにより形成される
酸化皮膜量は、１〜１００ｍｇ／ｄｍ² 、特には１０〜
５０ｍｇ／ｄｍ² であるのが好ましい。

【００１３】又、必要に応じてなされる封孔処理は、沸
騰水、水蒸気、珪酸ナトリウム水溶液、重クロム酸塩水
溶液等を用いて浸漬、又は噴霧する等の常法に従ってな
される。

【００１４】又、必要に応じてなされる下引き処理は、
カチオン性４級アンモニウム塩基を有する樹脂、ポリビ
ニルホスホン酸、澱粉、セルロース等の水溶性高分子、
フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液等を用いて浸漬、
又は噴霧する等の常法に従ってなされる。

【００１５】前記支持体上に形成される感光層を構成す
る光重合性組成物としては、（Ａ）エチレン性不飽和化
合物、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）高分子結合剤、
（Ｄ）２５℃におけるｐＫｂが７以下であるアミン、を
必須成分として含有するものである。

【００１６】成分（Ａ）としてのエチレン性不飽和化合
物とは、光重合性組成物が活性光線の照射を受けたとき
に、光重合開始剤系の作用により付加重合し、場合によ
り架橋、硬化するようなエチレン性不飽和結合を有する
単量体を言う。尚、ここで言う単量体の意味するところ
は、いわゆる重合体に相対する概念であって、狭義の単
量体以外にも、二量体、三量体、その他オリゴマーをも
包含するものとする。

【００１７】本発明において、エチレン性不飽和化合物
としては、エチレン性不飽和結合を１分子中に１個有す
る化合物、具体的には、例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸（尚、以降、「アクリル」及び「メタクリル」を纏
めて「（メタ）アクリル」と言う場合がある。）、クロ
トン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シ
トラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエ
ステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル
アミド、スチレン等、であってもよいが、エチレン性不
飽和結合を１分子中に２個以上有する化合物が好まし
い。

【００１８】エチレン性不飽和化合物としては、（ａ）
不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエ
ステル類、（ｂ）アクリロイルオキシ基又はメタクリロ
イルオキシ基含有ホスフェート類、（ｃ）ウレタン（メ
タ）アクリレート類、（ｄ）エポキシ（メタ）アクリレ
ート類等が挙げられる。不飽和カルボン酸と脂肪族ポリ
ヒドロキシ化合物とのエステル類としては前記の如き不
飽和カルボン酸と、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコ
ール、１，３−ブタンジオール、テトラメチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコ
ール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパ
ン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトール、ソルビトール等の脂肪族ポリヒドロキシ
化合物とのエステル類があり、具体的には、例えば、エ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、ヘキサメチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリ
レート、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロー
ルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキ
サ（メタ）アクリレート、及び同様のクロトネート、イ
ソクロトネート、マレエート、イタコネート、シトラコ
ネート等が挙げられる。アクリロイルオキシ基又はメタ
クリロイルオキシ基含有ホスフェート類としては、特
に、下記一般式(Ia)又は(Ib)で表されるものが好まし
い。

【００１９】

【化１】

【００２０】〔式(Ia)及び(Ib)中、Ｒ¹ は水素原子又は
メチル基を示し、ｎは１〜２５の整数、ｍは１、２、又
は３である。〕

【００２１】ここで、ｎは１〜１０、特に１〜４である
のが好ましく、これらの具体例としては、例えば、メタ
クリロイルオキシエチルホスフェート、ビス（メタクリ
ロイルオキシエチル）ホスフェート、メタクリロイルオ
キシエチレングリコールホスフェート等が挙げられ、こ
れらはそれぞれ単独で用いても混合物として用いてもよ
い。

【００２２】ウレタン（メタ）アクリレート類として
は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイ
ソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネー
ト、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族
ポリイソシアネート等のポリイソシアネート化合物と、
ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリレ
ート等の不飽和ヒドロキシ化合物とのウレタン（メタ）
アクリレート類があり、具体的には、例えば、ヘキサメ
チレンビス〔（メタ）アクリロイルオキシメチルウレタ
ン〕、ヘキサメチレンビス〔（メタ）アクリロイルオキ
シエチルウレタン〕、ヘキサメチレンビス｛トリス
〔（メタ）アクリロイルオキシメチル〕メチルウレタ
ン｝、ヘキサメチレンビス｛トリス〔（メタ）アクリロ
イルオキシメチル〕エチルウレタン｝等が挙げられる。

【００２３】エポキシ（メタ）アクリレート類として
は、例えば、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジ
ルエーテル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシ
ジルエーテル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリ
グリシジルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコー
ルポリグリシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリ
コールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレ
ングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメ
チロールプロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グ
リセロールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビト
ールポリグリシジルエーテル等のポリエポキシ化合物
と、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ（メタ）
アクリレート化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート
類が挙げられる。

【００２４】更に、上記以外のエチレン性不飽和化合物
としては、例えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、メ
チレンジアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ポリアミン化
合物とのアミド類があり、具体的には、例えば、メチレ
ンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メタ）
アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）
アクリルアミド、ヘキサメチレンビス（メタ）アクリル
アミド等が挙げられる。

【００２５】更に、例えば、ヒドロキノンジ（メタ）ア
クリレート、レゾルシンジ（メタ）アクリレート、ピロ
ガロールトリ（メタ）アクリレート等の芳香族ポリヒド
ロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル類、エチ
レングリコールの（メタ）アクリロイルエチレンオキシ
ド付加物、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンの（メタ）アクリロイルジエチレンオキシド付加
物等の（メタ）アクリルヒドロキシ化合物類、及び、エ
チレングリコールと（メタ）アクリル酸とフタル酸との
縮合物、ジエチレングリコールと（メタ）アクリル酸と
マレイン酸との縮合物、ペンタエリスリトールと（メ
タ）アクリル酸とテレフタル酸との縮合物、ブタンジオ
ールとグリセリンと（メタ）アクリル酸とアジピン酸と
の縮合物等のポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸
と多価カルボン酸との縮合物類等が挙げられる。

【００２６】上記の中で（メタ）アクリロイルオキシ基
含有ホスフェート類を含有するのが好ましく、光重合性
組成物の一成分としての前記エチレン性不飽和化合物全
体に占めるその含有量は、１〜６０重量％、特には２〜
４０重量％であるのが好ましい。この範囲においては、
感光層としての露光感度、耐刷性が向上すると共に、現
像性（非画線部の汚れ）が改善される。

【００２７】又、本発明において、光重合性組成物の成
分（Ｂ）としての光重合開始剤は、通常、ラジカル発生
剤と増感剤、場合により、更に重合加速剤を含む。ラジ
カル発生剤は、光重合性組成物が活性光線の照射を受け
たときに、活性ラジカルを発生し、前記エチレン性不飽
和化合物を重合に到らしめる化合物であって、例えば、
特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９
７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９
号、特開平２−４７０５号、特開平５−８３５８８号各
公報等に記載されるチタノセン化合物、特公平６−２９
２８５号公報等に記載されるヘキサアリールビイミダゾ
ール化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報、特開平
４−３１８６３号公報、特開平６−４３６３３号公報、
英国特許１３８８４９２号明細書、若林等;Bull.Chem.S
oc.Japan;42,2924(1969)、F.C.Schaefer等;J.Org.Che
m.;29,1527(1964)等に記載されるｓ−トリアジン化合
物、特開昭６２−１４３０４４号公報、特開昭６２−１
５０２４２号公報、特開平５−５９８８号公報、特開平
５−１９７０６９号公報等に記載される有機ホウ素化合
物、ジアリールヨードニウム塩、カルボニル化合物、及
び有機過酸化物等が挙げられる。中で、光重合性組成物
としての感度、プロッターへの適応波長、支持体に対す
る密着性、及び、保存安定性等の面から、チタノセン化
合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ｓ−トリ
アジン化合物、及び有機ホウ素化合物が好ましく、チタ
ノセン化合物及びｓ−トリアジン化合物が特に好まし
い。

【００２８】ここで、チタノセン化合物としては、具体
的には、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ
クロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフ
ェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，
４−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチ
タニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ジシク
ロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，６−トリフ
ルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウム
ビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ジ
シクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロ
ペンタジエニル）チタニウムビス（２，６−ジフルオロ
フェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニ
ウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ
ル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔２，６
−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル〕等のジ
シクロペンタジエニル構造、或いはジシクロペンタジエ
ニル構造とビフェニル構造を有するチタン系化合物が挙
げられ、ビフェニル構造がハロゲン原子で置換されてい
るのが好ましい。

【００２９】又、ヘキサアリールビイミダゾール化合物
としては、具体的には、例えば、２，２’−ビス（ｏ−
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−
クロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモ
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロ
モフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−
ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
（ｐ−ヨードフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラ（ｏ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）ビイミ
ダゾール等のハロゲン置換芳香族環を有するヘキサアリ
ールビイミダゾール化合物が挙げられる。

【００３０】又、ｓ−トリアジン化合物としては、例え
ば、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキ
シナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（４−エトキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル
化ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。本発明において
ラジカル発生剤として用いられる有機ホウ素化合物は下
記式(II)で表される基本構造を有する化合物である。

【００３１】

【化２】

【００３２】〔式(II)中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、及びＲ⁵
は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有
していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよ
いアルカリール基、置換基を有していてもよいアルケニ
ル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基
を有していてもよい脂環式基、又は置換基を有していて
もよい複素環基を示し、これらは互いに連結して環状構
造を形成していてもよく、Ｘ⁺ は対カチオンを示す。〕 ここで、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、及びＲ⁵ のアルキル基、及
び脂環式基としては、炭素数が１〜１０のものが、アル
ケニル基、及びアルキニル基としては、炭素数が１〜１
５のものが、又、アリール基、アラルキル基、及びアル
カリール基としては、炭素数が６〜２０のものが、それ
ぞれ好ましく、アリール基としてはフェニル基が特に好
ましい。又、それらの置換基としてはアルキル基、アル
コキシ基、カルボキシ基、アシルオキシ基、アルコキシ
カルボニル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基、ハロゲン化アルキル基、又はハロゲン原子等が挙
げられ、ハロゲン原子が特に好ましい。安定性並びに高
重合活性の観点からＲ² 〜Ｒ⁵ の内３個が置換基を有し
てもよいアリール基、１個が置換基を有していてもよい
アルキル基であるトリアリールアルキルホウ素化合物が
好ましい。

【００３３】また、ホウ素と結合したアリール基同士が
下記式(IIIa)、(IIIb)のように化学結合を有したものも
好ましい。なお、ここで、Ｒはアルキル基である。

【００３４】

【化３】

【００３５】これらの有機ホウ素化合物における好まし
いアニオンの具体例としては、例えば、ｎ−ブチル−ト
リフェニルホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−
メチルフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス
（２，４，６−トリメチルフェニル）ホウ素アニオン、
ｎ−ブチル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）ホウ素ア
ニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）ホ
ウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェ
ニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−フル
オロフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス
（２，６−ジフルオロフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−
ブチル−トリス（２，４，６−トリフルオロフェニル）
ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロフェニル）ホウ素アニオン、ｎ
−ブチル−トリス（ｍ−トリフルオロメチルフェニル）
ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（３，５−ジ−ト
リフルオロメチルフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチ
ル−トリス（２，６−ジフルオロ−３−ピロリルフェニ
ル）ホウ素アニオン、ｎ−ヘキシル−トリス（ｍ−フル
オロフェニル）ホウ素アニオン等が挙げられる。対カチ
オンとしては特開昭６２−１４３０４４号公報、特開昭
６２−１５０２４２号公報に記載のカチオン染料のよう
な可視光領域に吸収のあるものは安定性の点で劣るた
め、できるだけ可視光領域に吸収の無いものが好まし
い。例えば、アンモニウム、ホスホニウム、アルソニウ
ム、スチボニウム、オキソニウム、スルホニウム、セレ
ノニウム、スタンノニウム、ヨードニウム等のオニウム
カチオン基、遷移金属配位カチオン錯体等を挙げること
ができる。中でも、アンモニウムカチオンが好ましく、
テトラアルキル（炭素数１〜１０）アンモニウムカチオ
ンが特に好ましい。上記条件を満たす有機ホウ素化合物
としては、例えば、特開平９−１８８６８６号公報、特
開平９−１８８６８５号公報、特開平９−１８８７１０
号公報、特開平９−１０６２４２号公報、特開平８−２
１７８１３号公報に記載の有機ホウ素アンモニウム錯
体、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５
５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の
有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソ
スルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特
開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨード
ニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有
機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号
公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４
０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開
平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位
錯体等を具体例として挙げることができる。このような
化合物の具体例としては、例えば以下の化合物を挙げる
ことができる。なお、以下の例示において、Ｍｅはメチ
ル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｂｕはブチル基をそれぞれ
示す。

【００３６】

【化４】

【００３７】

【化５】

【００３８】

【化６】

【００３９】又、活性光線の照射時に前記ラジカル発生
剤を活性化して効果的に活性ラジカルを発生させるため
の増感剤としては、照射する活性光線の波長に応じて適
宜選択されるが、例えば、米国特許第３４７９１８５号
明細書に開示されるロイコクリスタルバイオレットやロ
イコマラカイトグリーン等のトリフェニルメタン系ロイ
コ色素、エリスロシンやエオシンＹ等の光還元性染料、
米国特許第３５４９３６７号、同第３６５２２７５号各
明細書に開示されるミヒラーズケトンやアミノスチリル
ケトン等のアミノフェニルケトン類、米国特許第３８４
４７９０号明細書に開示されるβ−ジケトン類、米国特
許第４１６２１６２号明細書に開示されるインダノン
類、特開昭５２−１１２６８１号公報に開示されるケト
クマリン類、特開昭５９−５６４０３号公報に開示され
るアミノスチレン誘導体やアミノフェニルブタジエン誘
導体、米国特許第４５９４３１０号明細書に開示される
アミノフェニル複素環類、米国特許第４９６６８３０号
明細書に開示されるジュロリジン複素環類、特開平５−
２４１３３８号公報に開示されるピロメテン系色素、及
び、フタロシアニン系色素、シアニン系色素、アントラ
キノン系色素、アミニウム系色素、イミニウム系色素、
ジインモニウム系色素、チオールニッケル系色素、ナフ
トキノン系色素、フルギド系色素等の化合物が挙げられ
る。

【００４０】又、光重合開始能力を高めるための重合加
速剤として、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−
トリアゾール等のメルカプト基含有化合物類、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ安息香酸エステル（尚、このエステル
としては、メチル、エチル、プロピル、ベンジル等、置
換基を有していてもよいアルキル基のエステルが好まし
い。）、Ｎ−フェニルグリシン、又はそのアンモニウム
やナトリウム塩等の塩、同上のエステル等の誘導体、ア
ニリノプロピオン酸、又はそのアンモニウムやナトリウ
ム塩等の塩、同上のエステル等の誘導体等の芳香族核を
有するアミノ酸又はその誘導体類等の水素供与性化合物
であって、好ましくは分子量が２０００以下、特に好ま
しくは１０００以下の化合物が挙げられる。

【００４１】光重合性組成物の成分（Ｃ）としての高分
子結合剤として、例えば、（メタ）アクリル酸、（メ
タ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリロニトリル、
（メタ）アクリルアミド、マレイン酸、スチレン、酢酸
ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独又は共重
合体、並びに、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテ
ル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ポリビニル
ピロリドン、ポリエチレンオキシド、アセチルセルロー
ス等が挙げられるが、中で、アルカリ現像性の面から、
カルボキシル基含有重合体が好適であり、具体的には、
（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸エステルを共
重合成分として含有する共重合体が好ましく、このカル
ボキシル基含有重合体の酸価は１０〜２５０が好まし
い。又、特開平１０−３１２０５５号公報に記載される
カルボキシル基及び不飽和結合を有するものも好まし
い。

【００４２】更に、本発明においては、高分子結合剤と
して、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが感
度、画像強度の点で好適であり、そのエチレン性不飽和
結合として、特に、下記一般式(IVa) 、(IVb) 、又は(I
Vc) で表されるものが好ましい。

【００４３】

【化７】

【００４４】〔式(IVa) 、(IVb) 、及び(IVc) 中、Ｒ⁶
は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ⁷、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ
¹⁰、及びＲ¹¹は各々独立して、水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ
基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよ
いアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアルキ
ルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換
基を有していてもよいアリールアミノ基、又は、置換基
を有していてもよいアリールスルホニル基を示し、Ｚは
酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又は、アルキルイミノ
基を示す。〕

【００４５】ここで、Ｒ⁷ 〜Ｒ¹¹におけるアルキル基、
アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルスルホニル
基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアミノ
基、アリールスルホニル基の置換基としては、例えば、
アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ
基、ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、フェニ
ル基、及び、ハロゲン原子等が挙げられる。

【００４６】前記式(IVa) で表されるエチレン性不飽和
結合を側鎖に有する高分子結合剤は、カルボキシル基含
有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル
（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）
アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイ
ソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタ
コン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマール
酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モ
ノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ
基含有不飽和化合物、又は、３，４−エポキシシクロヘ
キシルメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ
基含有不飽和化合物等を、８０〜１２０℃程度の温度、
１〜５０時間程度の時間で、カルボキシル基含有重合体
の有するカルボキシル基の５〜９０モル％、好ましくは
３０〜７０モル％程度を反応させることにより得られ
る。

【００４７】又、前記式(IVb) で表されるエチレン性不
飽和結合を側鎖に有する高分子結合剤は、アリル（メ
タ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メタ）ア
クリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、メタリ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）ア
クリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化合物
と、又、前記式(IVc) で表されるエチレン性不飽和結合
を側鎖に有する高分子結合剤は、ビニル（メタ）アクリ
レート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、２−
フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−プロペニル
（メタ）アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル
（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有す
る化合物と、それぞれ、（メタ）アクリル酸等の不飽和
カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを、
前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を１
０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％程度とな
るように共重合させることにより得られる。尚、本発明
の高分子結合剤の重量平均分子量としては、通常０．５
万〜２００万であり、好ましくは３．５万〜１５０万で
ある。

【００４８】本発明の光重合性感光層は、成分（Ｄ）と
して２５℃におけるｐＫｂ（解離定数）が７以下である
アミンを含有することが特徴である。該アミンとして
は、ｐＫｂが７以下であれば脂肪族、脂環式、又は芳香
族アミンのいずれでもよく、該アミン中の炭化水素基は
置換基を有していてもよい。又、モノアミンに限定され
ず、ジアミン、トリアミン等のポリアミンであってもよ
く、又、第１アミン、第２アミン、第３アミンのいずれ
であってもよい。但し、ｐＫｂの点から実質的には、置
換基を有していてもよい炭化水素基を有する脂肪族アミ
ンから選択される。

【００４９】具体的にはブチルアミン、ジブチルアミ
ン、トリブチルアミン、アミルアミン、ジアミルアミ
ン、トリアミルアミン、ヘキシルアミン、ジヘキシルア
ミン、トリヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジベンジ
ルアミン、トリベンジルアミン、トリエタノールアミ
ン、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン
等の、水酸基又はフェニル基で置換されていてもよい脂
肪族アミンが挙げられる。ｐＫｂは、好ましくは５以下
である。アミンのｐＫｂの下限は好ましくは３以上であ
る。アミンのｐＫｂが本発明の範囲より大きい場合に
は、感光性平版印刷版の保存性に劣り実用上問題とな
る。一方本発明のアミンとしては、実用上感光層を塗布
・乾燥した際、感光層に残る必要があること、又臭気等
の取り扱い性上問題が無い必要があることから、常圧下
での沸点は８０℃以上のものが好ましく、沸点が１５０
℃以上で且つ常温（２５℃）で固体であれば特に好まし
い。その点を踏まえ、入手し易さなども考慮すれば、例
えばトリベンジルアミンが好ましい例として挙げられ
る。

【００５０】本発明において、光重合性感光層を構成す
る光重合性組成物としての前記エチレン性不飽和化合
物、前記光重合開始剤、前記高分子結合剤、及び前記２
５℃におけるｐＫｂが７以下であるアミンの重量比は、
光重合性組成物全体を１００重量％とした場合、エチレ
ン性不飽和化合物については、好ましくは１０〜５０重
量％、特に好ましくは１５〜４０重量％である。光重合
開始剤として、ラジカル発生剤については、好ましくは
０．１〜３０重量％、特に好ましくは０．５〜２０重量
％、増感剤については、好ましくは０．０１〜２０重量
％、特に好ましくは０．０５〜１０重量％、重合加速剤
については、好ましくは０．０１〜３０重量％、特に好
ましくは０．０５〜２０重量％である。

【００５１】又、高分子結合剤については、好ましくは
３０〜９０重量％、更に好ましくは５０〜８０重量％で
ある。さらに、２５℃におけるｐＫｂが７以下であるア
ミンについては、好ましくは０．０５〜２０重量％、特
に好ましくは０．０７〜１０重量％である。

【００５２】更に、本発明における光重合性組成物とし
ては、各種添加剤、例えば、ヒドロキノン、ｐ−メトキ
シフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル等の熱重合防止剤を成分（Ａ）〜（Ｄ）の混合物１０
０重量部に対して５重量部以下、有機又は無機の染顔料
からなる着色剤を同じく２０重量部以下、ジオクチルフ
タレート、ジドデシルフタレート、トリクレジルホスフ
ェート等の可塑剤を同じく１０重量部以下、三級アミン
やチオール等の感度特性改善剤、フッ素系等の界面活性
剤等の塗布性改良剤や現像促進剤を同じく１０重量部以
下、色素前駆体を同じく２０重量部以下等の割合で、含
有していてもよい。尚、感光性ジアゾ化合物の架橋反応
を利用したネガ型感光層に光重合系を併用した系も一般
的に知られているが、本発明はこれらと一線を画するも
のであり、本発明の光重合性感光層に感光性ジアゾ化合
物を含まない場合に特に有利である。

【００５３】本発明の光重合性感光層は上記成分により
構成されるが、全構成成分の重量平均分子量が３．５万
以上であると感光層の物理的強度が強く感光層にキズが
つきにくく、又、感光性平版印刷版とした場合に合紙が
貼りつきにしい点で好ましい。又、上限は特に限定され
ないが、現像性の点で１５０万以下が好ましい。又、光
重合性感光層中の、分子量が５０００以下の成分が５０
重量％以下であると、上記と同様の目的で好ましい。上
記重量平均分子量及び分子量は、光重合性感光層を形成
する光重合性組成物の構成成分及び配合比を調整するこ
とで得ることができ、又、光重合性組成物をゲルパーミ
エーションクロマトグラフィーによりポリスチレン換算
重量平均分子量分布を測定することにより求められる。

【００５４】本発明の感光性平版印刷版において、前記
光重合性感光層は、通常、前記各成分を適当な溶媒に溶
解した溶液として前記支持体表面に塗布された後、加
熱、乾燥されることにより、支持体上に該光重合性組成
物からなる感光層が形成される。

【００５５】ここで、その溶媒としては、使用成分に対
して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるもので
あれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル等のプロピレングリコール系溶媒、酢酸ブチル、酢酸
アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレー
ト、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレ
ート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶
媒、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコー
ル、フルフリルアルコール等のアルコール系溶媒、シク
ロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶媒、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン等の高極性溶媒、或いはこれらの混合溶
媒、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が
挙げられる。溶媒の使用割合は、光重合性組成物の総量
に対して、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲であ
る。

【００５６】又、その塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及
びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は用途
により異なるが、乾燥膜厚として、０．１〜２０ｇ／ｍ
² の範囲とするのが好ましく、０．５〜５ｇ／ｍ² の範
囲とするのが更に好ましい。尚、その際の乾燥温度とし
ては、例えば、３０〜１５０℃程度、好ましくは４０〜
１１０℃程度、乾燥時間としては、例えば、５秒〜１０
分間程度、好ましくは１０秒〜５分間程度が採られる。

【００５７】従来実用的に用いられている感光性平版印
刷版は、ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマー等か
らなる保護層を有するが、本発明の感光性平版印刷版
は、感光層上に他の層を有さず、感光層が最表面に存す
る状態にある。かかる本発明の感光性平版印刷版は、前
記光重合性組成物からなる感光層を画像露光した後、現
像処理することにより、支持体表面に画像が形成され、
平版印刷版とされる。

【００５８】その際の露光光源としては、例えば、カー
ボンアーク、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハラ
イドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲ
ンランプ、ヘリウムカドミウムレーザー、アルゴンイオ
ンレーザー、ＹＡＧレーザー、ヘリウムネオンレーザ
ー、半導体レーザー等の従来公知の活性光源が用いら
れ、露光方法としては、密着露光、投影露光法、レーザ
ー直接露光法等従来公知の各露光方法が可能であるが、
特に投影露光法や紫外から赤外でのレーザー直接露光法
が本発明を有効活用する上で好ましい。

【００５９】又、その際の現像液としては、例えば、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アン
モニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭
酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第二
燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸アンモ
ニウム、第三燐酸アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸
カリウム、硼酸アンモニウム等の無機アルカリ塩、又
は、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、モノブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン等の有機アミ
ン化合物等の０．１〜１０重量％程度の水溶液からなる
アルカリ現像液が用いられる。

【００６０】又、前記現像液には、画質向上、現像時間
の短縮等を目的として、必要に応じて、例えば、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノ
グリセリドアルキルエステル類等のノニオン系、アルキ
ルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホ
ン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩
類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン系、アル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両性の界面活性剤、イ
ソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プ
ロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の水溶性
有機溶剤、水酸基又はカルボキシル基を有する低分子化
合物、消泡剤、ＥＤＴＡ等の硬水軟化剤等を添加するこ
とができる。現像液のｐＨは、８〜１４とするのが好ま
しい。

【００６１】尚、現像は、浸漬現像、スプレー現像、ブ
ラシ現像、超音波現像等の公知の現像法により、通常、
好ましくは１０〜６０℃程度、更に好ましくは１５〜４
５℃程度の温度でなされる。尚、現像の前後に加熱処理
したり、現像後に全面露光したりすることも可能であ
る。

【００６２】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例１〜４、比較例１〜３ （１）支持体の製造 アルミニウム板（厚さ０．２４ｍｍ）を３重量％水酸化
ナトリウム水溶液で脱脂した後、１８．０ｇ／リットル
硝酸浴中で、２５℃、８０Ａ／ｄｍ² の電流密度で１５
秒間、電解エッチングした。次いで５０℃の１重量％水
酸化ナトリウム水溶液で５秒間デスマット処理した後、
２５℃の１０重量％硝酸水溶液で５秒間中和し、水洗
後、３０重量％硫酸浴中で、３０℃、１０Ａ／ｄｍ² の
電流密度で１６秒間、陽極酸化処理し、水洗、乾燥して
支持体を得た。

【００６３】（２）感光性平版印刷版１〜７の製造 上記支持体の表面に、表−１記載の成分及び配合比で調
製した感光液を、バーコーターを用いて乾燥膜厚が２ｇ
／ｍ² となるように塗布し、７０℃で３分間乾燥させて
感光性平版印刷版１〜７を作製した。尚、表−１に記載
の各成分は下記の通りである。実施例１〜４及び比較例
１〜３のいずれの感光層も、全構成成分の重量平均分子
量は、３．５万以上である。 （Ａ）エチレン性不飽和化合物 Ａ−１；メタクリロイルオキシエチルホスフェートとビ
ス（メタクリロイルオキシエチル）ホスフェートとの
１：１の混合物 Ａ−２；テトラメチロールメタンテトラアクリレート
（新中村化学工業（株）製「ＮＫエステル」） Ａ−３；トリメチロールプロパントリアクリレート

【００６４】（Ｂ）光重合開始剤 Ｂ−１（ラジカル発生剤）；ジシクロペンタジエニルチ
タニウムビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリ
ル）フェニル〕 Ｂ−２（ラジカル発生剤）；２−（４−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン Ｂ−３（増感剤）；４，４’−ビス（ジエチルアミノ）
ベンゾフェノン Ｂ−４（増感剤）；下記のシアニン系色素

【００６５】

【化８】

【００６６】（Ｃ）高分子結合剤 Ｃ−１；２−ヒドロキシ−３−アリルオキシプロピルメ
タクリレート（４０モル％）／ビニルメタクリレート
（３０モル％）／アクリロニトリル（１５モル％）／メ
タクリル酸（１５モル％）共重合体（重量平均分子量７
０万） （Ｄ）アミン Ｄ−１；トリベンジルアミン (pＫb ＝約4.6 ／b.p.＝
230℃(13mmHg)) Ｄ−２；ジアミルアミン (pＫb ＝約3.5 ／b.p.＝ 200
〜210 ℃) Ｄ−３；トリフェニルアミン (pＫb ＝約9.5 ／b.p.＝
365℃) 青インク（現像可視画剤） 顔料（Ｐ．Ｂ．１５：６）と分散剤（ビックケミー社製
「Disperbyk １６１」）とを、重量比２：１にてプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテートに分散し
たもの（固形分３０％） 溶剤 Ｓ−１；シクロヘキサノン Ｓ−２；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート Ｓ−３；プロピレングリコールモノメチルエーテル

【００６７】（３）評価 得られた各感光性平版印刷版について、以下に示す方法
で、保存安定性を評価し、結果を表−１に示した。 （３−１）保存時感度安定性の評価１（実施例１〜３、
比較例１〜２） 各感光性平版印刷版を、２５℃、４０％の湿度下、感光
層表面に天然パルプ製の合い紙を挟み、重ね合わせた状
態で、表−１に示した日数保存した。得られた感光性平
版印刷版を回折分光照射装置（ナルミ社製「ＲＭ−２
３」）を用いて露光後、三菱化学（株）製の現像液「Ｄ
Ｒ−５１」を所定の条件にて希釈したものを用い、現像
液温度は３０℃、浸漬時間は２０秒でバットを揺すって
バット中で現像を行った。現像後、水洗して得られた画
像の高さより、波長４００ｎｍの光による光硬化に要す
るエネルギー量を求めた。 （３−１’）保存時感度安定性の評価２（実施例４、比
較例３） 各感光性平版印刷版を、２５℃、４０％の湿度下、感光
層表面に天然パルプ製の合い紙を挟み、重ね合わせた状
態で、表−１に示した日数保存した。得られた感光性平
版印刷版を、直径７ｃｍのアルミニウム製回転ドラムに
光重合性感光層が外側になるように固定した後、８３０
ｎｍ、３０ｍＷの半導体レーザー（アプライトテクノ社
製）のビームを２０μｍに集光したビームスポットを用
いて、５０〜８００ｒｐｍの各種回転数にて走査露光
し、次いで、三菱化学（株）製の現像液「ＤＲ−５１」
を所定の条件にて希釈したものを用い、現像液温度は３
０℃、浸漬時間は２０秒でバットを揺すってバット中で
現像を行い、水洗することにより走査線画像を形成させ
た。線画像が形成される露光ドラムの最高回転数が高い
ほど、高感度であることとなる。

【００６８】（３−２）保存時現像安定性の評価 各感光性平版印刷版を、２５℃、４０％の湿度下、感光
層表面に天然パルプ製の合い紙を挟み、重ね合わせた状
態で、表−１に示した日数保存した。その後、それぞれ
の条件で保存した感光性平版印刷版を現像処理した後、
メチルセロソルブを１滴落として乾燥させ、引き続いて
現像インク（富士写真フィルム社製「ＰＩ−２」）でイ
ンク盛りをした。尚、現像処理は三菱化学（株）製現像
液「ＤＲ−５１」を所定の条件にて希釈したものを用
い、三菱化学（株）製の自動現像機「ＨＬ−８６０Ｘ」
にて、液温３０℃、搬送速度６０ｃｍ／分の条件で現像
処理を行った。評価基準は下記の通り。 ○；インクが全く付着しないレベル。 △；メチルセロソルブ滴下跡にインクが付着するレベル
（非画線部に感光層が少し残存していることを示す）。 ×；目視で感光層が支持体表面に残っているレベル。

【００６９】尚、上記評価は、印刷時の汚れ発生の間接
指標であり、○は印刷物の非画線部に汚れが生じること
なく２万枚以上の良好な印刷が可能であることを、△は
印刷初期から印刷物の非画線部に汚れが発生すること
を、×は印刷初期から印刷物の非画線物に著しく汚れが
発生することを示す。

【００７０】

【表１】

【００７１】

【発明の効果】本発明によれば、感光層上に保護層を設
けなくても、カブリを生じない保存安定性に優れた、光
重合性感光性平版印刷版を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/027 ５０２ 7/027 ５０２ 7/029 7/029 7/031 7/031 7/32 7/32 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB03 AC01 AD01 BC31 BC51 BC84 CA28 CA39 CB04 CB10 CB13 CB14 CB16 CB43 CC01 FA03 FA17 2H096 AA00 AA07 AA08 BA05 BA20 EA02 GA08 LA16 4J011 PA53 PA65 PA66 PA69 PA70 PA74 PA88 PA95 PA96 PB40 PC02 QA42 SA85 SA86 UA01 WA01 4J026 AA02 AA17 AA24 AA38 AA45 AA49 AA50 AB02 AB07 AB19 AB20 AB26 AB28 AB37 BA41 BB06 DB06 DB36 GA07 GA08 4J100 AL08P BA07P BA63P CA01 CA03 FA17 JA37 JA38

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、（Ａ）エチレン性不飽和化
   合物、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）高分子結合剤、を
   含有する光重合性感光層を有する感光性平版印刷版にお
   いて、該感光層が（Ｄ）２５℃におけるｐＫｂが７以下
   であるアミンを含有し、且つ、該感光層上に保護層を有
   さないことを特徴とする感光性平版印刷版。
2. 【請求項２】 該アミンの常圧下での沸点が８０℃以上
   であることを特徴とする請求項１記載の感光性平版印刷
   版。
3. 【請求項３】 光重合性感光層の全構成成分の重量平均
   分子量が３．５万以上であることを特徴とする請求項１
   又は２記載の感光性平版印刷版。
4. 【請求項４】 光重合性感光層中における、分子量５０
   ００以下の成分が５０重量％以下であることを特徴とす
   る請求項１〜３のいずれかに記載の感光性平版印刷版。
5. 【請求項５】 エチレン性不飽和化合物が、アクリロイ
   ルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基含有ホスフェー
   ト類を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれ
   かに記載の感光性平版印刷版。
6. 【請求項６】 光重合開始剤がチタノセン化合物又はｓ
   −トリアジン化合物を含有することを特徴とする請求項
   １〜５のいずれかに記載の感光性平版印刷版。