JP2001335521A - ビスフェノ−ルａの製造方法 - Google Patents
ビスフェノ−ルａの製造方法Info
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- JP2001335521A JP2001335521A JP2000151365A JP2000151365A JP2001335521A JP 2001335521 A JP2001335521 A JP 2001335521A JP 2000151365 A JP2000151365 A JP 2000151365A JP 2000151365 A JP2000151365 A JP 2000151365A JP 2001335521 A JP2001335521 A JP 2001335521A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビスフェノールＡの製造工程における蒸留装
置の応力腐食割れを防止して、長期間の安定運転を可能
とする。 【解決手段】 アセトンと過剰量のフェノールを、酸性
陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入して反応さ
せてビスフェノールＡを製造する方法において、アセト
ン及び水を主とする低沸点物を分離する工程に使用され
る蒸留塔及びコンデンサー等の附属装置の少なくとも一
部の材質を、クロム含有率１８〜２５％、ニッケル含有
率３０〜６０％、モリブデン含有率５〜２０％、カーボ
ン含有率０．０３％以下のクロム−ニッケル−モリブデ
ン系ステンレス鋼又は高ニッケル合金とする。
置の応力腐食割れを防止して、長期間の安定運転を可能
とする。 【解決手段】 アセトンと過剰量のフェノールを、酸性
陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入して反応さ
せてビスフェノールＡを製造する方法において、アセト
ン及び水を主とする低沸点物を分離する工程に使用され
る蒸留塔及びコンデンサー等の附属装置の少なくとも一
部の材質を、クロム含有率１８〜２５％、ニッケル含有
率３０〜６０％、モリブデン含有率５〜２０％、カーボ
ン含有率０．０３％以下のクロム−ニッケル−モリブデ
ン系ステンレス鋼又は高ニッケル合金とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビスフェノールＡの製
造方法に関する。詳しくは、ビスフェノールＡの製造に
使用される蒸留装置の応力腐食割れを防止して、長期間
安定的にビスフェノールＡを製造する方法に関する。
造方法に関する。詳しくは、ビスフェノールＡの製造に
使用される蒸留装置の応力腐食割れを防止して、長期間
安定的にビスフェノールＡを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビスフェノールＡ、すなわち２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンは、アセトンと
その２倍モル以上過剰量のフェノールを酸性イオン交換
樹脂等の酸性触媒の存在下に反応させることにより得ら
れる。反応混合物は精製工程へ送られ、アセトン、水等
の低沸点物を除去したのち、これを冷却してビスフェノ
ールＡとフェノールとのアダクツの結晶を析出させ、こ
の結晶を母液と分離し、次いで脱フェノール処理して精
製されたビスフェノールＡを回収する方法が一般的であ
る。
ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンは、アセトンと
その２倍モル以上過剰量のフェノールを酸性イオン交換
樹脂等の酸性触媒の存在下に反応させることにより得ら
れる。反応混合物は精製工程へ送られ、アセトン、水等
の低沸点物を除去したのち、これを冷却してビスフェノ
ールＡとフェノールとのアダクツの結晶を析出させ、こ
の結晶を母液と分離し、次いで脱フェノール処理して精
製されたビスフェノールＡを回収する方法が一般的であ
る。
【０００３】酸性イオン交換樹脂を用いる反応において
は、塩酸等の強酸が反応混合物中に含まれることはない
ので、触媒回収の心配や装置の腐食の心配がないという
利点がある。酸性イオン交換樹脂を用いるビスフェノー
ルＡの製造方法においては、特公昭６２−５４７７９号
公報に示されるように、未反応アセトン、水及び一部の
フェノールを含む低沸点物とビスフェノールＡやフェノ
ールを含む高沸点物とに分離し、この高沸点物からビス
フェノールＡが回収されている。そして、酸性イオン交
換樹脂はスルホン酸基を含んでおり、しかもメルカプタ
ン基を含むようなイオウ化合物で改良（変性）された
り、アルキルメルカプタンのようなイオウ化合物が共存
されたりした状態で使用される。
は、塩酸等の強酸が反応混合物中に含まれることはない
ので、触媒回収の心配や装置の腐食の心配がないという
利点がある。酸性イオン交換樹脂を用いるビスフェノー
ルＡの製造方法においては、特公昭６２−５４７７９号
公報に示されるように、未反応アセトン、水及び一部の
フェノールを含む低沸点物とビスフェノールＡやフェノ
ールを含む高沸点物とに分離し、この高沸点物からビス
フェノールＡが回収されている。そして、酸性イオン交
換樹脂はスルホン酸基を含んでおり、しかもメルカプタ
ン基を含むようなイオウ化合物で改良（変性）された
り、アルキルメルカプタンのようなイオウ化合物が共存
されたりした状態で使用される。
【０００４】そして、低沸点物の分離は蒸留で行うが、
主としてアセトンを分離するアセトン塔と水を分離する
水分離塔に分けて行うこともあるし、１塔で行うことも
ある。このような蒸留塔は反応混合物中に強酸が含まれ
ていないとはいえ、やや酸性であるので、耐酸性の材料
で作られている。しかしながら、特開平７−６１９４７
号公報に示されるように、このような装置において応力
腐食割れが生ずることが報告されている。そして、これ
を防止する材料としてＮＡＳ２５４Ｎが優れていること
が報告されているが、ＮＡＳ２５４Ｎをもってしても鋭
敏化処理を施したものでは、ＳＣＣ割れ破面率が完全に
ゼロには至っていない。
主としてアセトンを分離するアセトン塔と水を分離する
水分離塔に分けて行うこともあるし、１塔で行うことも
ある。このような蒸留塔は反応混合物中に強酸が含まれ
ていないとはいえ、やや酸性であるので、耐酸性の材料
で作られている。しかしながら、特開平７−６１９４７
号公報に示されるように、このような装置において応力
腐食割れが生ずることが報告されている。そして、これ
を防止する材料としてＮＡＳ２５４Ｎが優れていること
が報告されているが、ＮＡＳ２５４Ｎをもってしても鋭
敏化処理を施したものでは、ＳＣＣ割れ破面率が完全に
ゼロには至っていない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ビスフェノ
ールＡを含む反応混合物から、低沸点物を分離する工程
の蒸留装置の腐食を防止することを目的とする。
ールＡを含む反応混合物から、低沸点物を分離する工程
の蒸留装置の腐食を防止することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、腐食状況を調べたところ、溶接部付近
に集中して粒界型応力腐食割れや粒内型応力腐食割れが
あることを見出した。そして、この原因を究明すると共
に、この環境において最も適した材料を見出し、本発明
を完成した。
を解決するため、腐食状況を調べたところ、溶接部付近
に集中して粒界型応力腐食割れや粒内型応力腐食割れが
あることを見出した。そして、この原因を究明すると共
に、この環境において最も適した材料を見出し、本発明
を完成した。
【０００７】本発明は、アセトンと過剰量のフェノール
を、酸性陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入し
て反応させてビスフェノールＡを含む反応混合物を得る
反応工程、これからアセトン及び水を主とする低沸点物
を分離する工程、フェノールとビスフェノールＡを主と
する流れからビスフェノールＡを回収する工程とを含む
ビスフェノールＡの製造方法において、アセトン及び水
を主とする低沸点物を分離する工程に使用される蒸留塔
又はその附属装置の少なくとも一部の材質を、（A)クロ
ム含有率１８〜２８重量％、ニッケル含有率３０〜４０
重量％、モリブデン含有率３〜１０重量％、カーボン含
有率０．０３重量％以下及び鉄含有率２８〜３８重量％
のクロム−ニッケル−モリブデン系ステンレス鋼又は
（B)クロム含有率１６〜２６重量％、ニッケル含有率５
３〜６３重量％、モリブデン含有率９〜１７重量％、タ
ングステン含有率１〜５重量％、カーボン含有率０．０
３重量％以下及び鉄含有率２〜５重量％の高ニッケル合
金から選択される合金とすることを特徴とするビスフェ
ノールＡの製造方法である。
を、酸性陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入し
て反応させてビスフェノールＡを含む反応混合物を得る
反応工程、これからアセトン及び水を主とする低沸点物
を分離する工程、フェノールとビスフェノールＡを主と
する流れからビスフェノールＡを回収する工程とを含む
ビスフェノールＡの製造方法において、アセトン及び水
を主とする低沸点物を分離する工程に使用される蒸留塔
又はその附属装置の少なくとも一部の材質を、（A)クロ
ム含有率１８〜２８重量％、ニッケル含有率３０〜４０
重量％、モリブデン含有率３〜１０重量％、カーボン含
有率０．０３重量％以下及び鉄含有率２８〜３８重量％
のクロム−ニッケル−モリブデン系ステンレス鋼又は
（B)クロム含有率１６〜２６重量％、ニッケル含有率５
３〜６３重量％、モリブデン含有率９〜１７重量％、タ
ングステン含有率１〜５重量％、カーボン含有率０．０
３重量％以下及び鉄含有率２〜５重量％の高ニッケル合
金から選択される合金とすることを特徴とするビスフェ
ノールＡの製造方法である。
【０００８】反応工程は、アセトンと過剰量のフェノー
ルを、酸性陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入
して反応させる工程である。この原料の一部は、後続す
る分離、回収工程で分離又は回収されるものである。本
発明では、触媒として酸性陽イオン交換樹脂を使用す
る。酸性陽イオン交換樹脂は、スルホン酸系、硝酸系、
カルボン酸系等各種のものが使用できるが、好ましくは
スルホン酸系である。また、酸性陽イオン交換樹脂母体
となる樹脂としては、スチレン−ジビニルベンゼン共重
合体系、パーフルオロエチレン重合体系、フェノール−
ホルムアルデヒド重合体系と各種のものを使用できる
が、スチレン−ジビニルベンゼン共重合系が好ましい。
ルを、酸性陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入
して反応させる工程である。この原料の一部は、後続す
る分離、回収工程で分離又は回収されるものである。本
発明では、触媒として酸性陽イオン交換樹脂を使用す
る。酸性陽イオン交換樹脂は、スルホン酸系、硝酸系、
カルボン酸系等各種のものが使用できるが、好ましくは
スルホン酸系である。また、酸性陽イオン交換樹脂母体
となる樹脂としては、スチレン−ジビニルベンゼン共重
合体系、パーフルオロエチレン重合体系、フェノール−
ホルムアルデヒド重合体系と各種のものを使用できる
が、スチレン−ジビニルベンゼン共重合系が好ましい。
【０００９】触媒は反応器に固定床として充填してもよ
いし、けんだく床として充填してもよい。このイオン交
換樹脂は前記のようにイオウ化合物で変性されている
か、イオウ化合物の存在下で使用される。反応温度は、
６０〜１３０℃であり、滞留時間は０．１〜３時間であ
る。反応工程で生成する反応混合物は、未反応アセト
ン、水等の低沸点物とフェノールとビスフェノールＡを
主とする高沸点物を含んでいる。そこで、次に分離、回
収工程に送られる。
いし、けんだく床として充填してもよい。このイオン交
換樹脂は前記のようにイオウ化合物で変性されている
か、イオウ化合物の存在下で使用される。反応温度は、
６０〜１３０℃であり、滞留時間は０．１〜３時間であ
る。反応工程で生成する反応混合物は、未反応アセト
ン、水等の低沸点物とフェノールとビスフェノールＡを
主とする高沸点物を含んでいる。そこで、次に分離、回
収工程に送られる。
【００１０】分離、回収工程は、大きく分けると低沸点
物を分離する工程と低沸点物が分離されたフェノールと
ビスフェノールＡを主とする流れからフェノールを分離
し、ビスフェノールＡを回収する工程からなる。そし
て、低沸点物を分離する工程以降は公知の方法で行うこ
とができる。
物を分離する工程と低沸点物が分離されたフェノールと
ビスフェノールＡを主とする流れからフェノールを分離
し、ビスフェノールＡを回収する工程からなる。そし
て、低沸点物を分離する工程以降は公知の方法で行うこ
とができる。
【００１１】低沸点物を分離する蒸留装置は１又は２以
上の蒸留塔又はストリッピング塔並びにコンデンサー、
タンク及び配管等の附属装置からなっている。アセト
ン、水等の低沸点物の他に、フェノールも共沸して留出
する。ここで蒸留される低沸点物には強酸は含まれてい
ないとはいえ、酸性陽イオン交換樹脂に起因する酸が微
量流出する等してやや酸性であるので、この蒸留装置は
多少耐酸性のある材料で作られている。しかしながら、
このような蒸留系の場合、通常使用されるＳＵＳ３０４
等の材料では蒸留装置に腐食が生ずることが報告されて
いる。また、現時点では最良の材料と思われる特公平７
−６１９４７号公報 に示されるような材料であって
も、これを完全に防止することは困難であることが見出
された。
上の蒸留塔又はストリッピング塔並びにコンデンサー、
タンク及び配管等の附属装置からなっている。アセト
ン、水等の低沸点物の他に、フェノールも共沸して留出
する。ここで蒸留される低沸点物には強酸は含まれてい
ないとはいえ、酸性陽イオン交換樹脂に起因する酸が微
量流出する等してやや酸性であるので、この蒸留装置は
多少耐酸性のある材料で作られている。しかしながら、
このような蒸留系の場合、通常使用されるＳＵＳ３０４
等の材料では蒸留装置に腐食が生ずることが報告されて
いる。また、現時点では最良の材料と思われる特公平７
−６１９４７号公報 に示されるような材料であって
も、これを完全に防止することは困難であることが見出
された。
【００１２】この腐食の状況を調べると応力腐食割れで
あって、部位によっては異なるが粒界型のものと粒内型
のものがあると認められた。しかも、この腐食部位の多
くは溶接部又はその熱影響部に集中していることが認め
られた。そして、この部位の環境を調べると水が存在
し、微量の硫黄イオン、亜硫酸イオン等の硫黄酸化物イ
オン、酢酸イオン等が存在する所であることが認められ
た。したがって、塔頂付近又はコンデンサー付近で水が
比較的高濃度で凝縮する蒸留塔では、その凝縮液の酸性
度及び温度とも高いので、蒸留塔又はコンデンサー等の
附属装置でその凝縮液に接触する部分の材質をクロム−
ニッケル−モリブデン系ステンレス鋼又は高ニッケル合
金とすることがよいといえる。また、溶接部又はその熱
影響部は、多少温度や酸性度が低くても腐蝕が生じやす
いので、上記のような部分の他にその周辺部や水相と接
する部分の材質も前記合金とすることが好ましいといえ
る。特に、本発明の材質とすることが望ましい部分は、
上記のような部分で、溶接部又はその熱影響部である部
位である。
あって、部位によっては異なるが粒界型のものと粒内型
のものがあると認められた。しかも、この腐食部位の多
くは溶接部又はその熱影響部に集中していることが認め
られた。そして、この部位の環境を調べると水が存在
し、微量の硫黄イオン、亜硫酸イオン等の硫黄酸化物イ
オン、酢酸イオン等が存在する所であることが認められ
た。したがって、塔頂付近又はコンデンサー付近で水が
比較的高濃度で凝縮する蒸留塔では、その凝縮液の酸性
度及び温度とも高いので、蒸留塔又はコンデンサー等の
附属装置でその凝縮液に接触する部分の材質をクロム−
ニッケル−モリブデン系ステンレス鋼又は高ニッケル合
金とすることがよいといえる。また、溶接部又はその熱
影響部は、多少温度や酸性度が低くても腐蝕が生じやす
いので、上記のような部分の他にその周辺部や水相と接
する部分の材質も前記合金とすることが好ましいといえ
る。特に、本発明の材質とすることが望ましい部分は、
上記のような部分で、溶接部又はその熱影響部である部
位である。
【００１３】オーステナイト系ステンレス鋼は、ＪＩＳ
Ｇ４３０４に規定されてあるが、本発明で使用するも
のは、前記のクロム−ニッケル−モリブデン系ステンレ
ス鋼又は高ニッケル合金である。このクロム−ニッケル
−モリブデン系ステンレス鋼中のクロム、ニッケル、モ
リブデン及び鉄の合計の含有率は９５重量％以上、好ま
しくは９８重量％以上であることがよい。残余の成分と
しては、炭素、ケイ素、マンガン、窒素等があるが、合
計で５重量％以下で、それぞれが１重量％以下であるこ
とが望ましく、また、カーボン含有率が高いと溶接部又
はその近辺の耐食性が低下する。クロム含有率２０〜２
５重量％、ニッケル含有率３３〜３８重量％、モリブデ
ン含有率６〜１０重量％、カーボン含有率０．００３〜
０．０２重量％、ケイ素含有率０．０５〜０．３重量％
及び鉄３０〜３５重量％のクロム−ニッケル−モリブデ
ン系ステンレス鋼がより好ましいものとして挙げられ、
具体的には、ＮＡＳ３５４Ｎが挙げられる。また、前記
高ニッケル合金中のクロム、ニッケル、モリブデン、タ
ングステン及び鉄の合計の含有率は９５重量％以上、好
ましくは９８重量％以上であることがよい。残余の成分
としては、炭素、ケイ素、マンガン、コバルト、バナジ
ウム、リン、硫黄等があるが、合計で５重量％以下で、
それぞれが１重量％以下であることが望ましく、また、
カーボン含有率が高いと溶接部又はその近辺の耐食性が
低下する。クロム含有率１８〜２３重量％、ニッケル含
有率５５〜６０重量％、モリブデン含有率１０〜１５重
量％、タングステン含有率１．８〜５重量％、カーボン
含有率０．００３〜０．０１重量％、ケイ素含有率０．
００５〜０．１重量％及び鉄３〜５重量％の高ニッケル
合金がより好ましいものとして挙げられ、具体的には、
ハステロイＣ−２２が挙げられる。
Ｇ４３０４に規定されてあるが、本発明で使用するも
のは、前記のクロム−ニッケル−モリブデン系ステンレ
ス鋼又は高ニッケル合金である。このクロム−ニッケル
−モリブデン系ステンレス鋼中のクロム、ニッケル、モ
リブデン及び鉄の合計の含有率は９５重量％以上、好ま
しくは９８重量％以上であることがよい。残余の成分と
しては、炭素、ケイ素、マンガン、窒素等があるが、合
計で５重量％以下で、それぞれが１重量％以下であるこ
とが望ましく、また、カーボン含有率が高いと溶接部又
はその近辺の耐食性が低下する。クロム含有率２０〜２
５重量％、ニッケル含有率３３〜３８重量％、モリブデ
ン含有率６〜１０重量％、カーボン含有率０．００３〜
０．０２重量％、ケイ素含有率０．０５〜０．３重量％
及び鉄３０〜３５重量％のクロム−ニッケル−モリブデ
ン系ステンレス鋼がより好ましいものとして挙げられ、
具体的には、ＮＡＳ３５４Ｎが挙げられる。また、前記
高ニッケル合金中のクロム、ニッケル、モリブデン、タ
ングステン及び鉄の合計の含有率は９５重量％以上、好
ましくは９８重量％以上であることがよい。残余の成分
としては、炭素、ケイ素、マンガン、コバルト、バナジ
ウム、リン、硫黄等があるが、合計で５重量％以下で、
それぞれが１重量％以下であることが望ましく、また、
カーボン含有率が高いと溶接部又はその近辺の耐食性が
低下する。クロム含有率１８〜２３重量％、ニッケル含
有率５５〜６０重量％、モリブデン含有率１０〜１５重
量％、タングステン含有率１．８〜５重量％、カーボン
含有率０．００３〜０．０１重量％、ケイ素含有率０．
００５〜０．１重量％及び鉄３〜５重量％の高ニッケル
合金がより好ましいものとして挙げられ、具体的には、
ハステロイＣ−２２が挙げられる。
【００１４】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明する。なお、％は重量％である。 実施例１ アセトンと過剰のフェノールをスルホン酸型イオン交換
樹脂触媒の存在下に反応させて得られた反応混合物から
低沸点成分を蒸留するための蒸留装置であって、塔頂部
ないし塔上部からアセトンと水を抜き出し、塔底部から
フェノールを抜き出す蒸留塔の塔上部から水相を取り出
した。この水相の分析値は硫黄イオン１〜１００ｍｇ／
ｌ，亜硫酸イオン１０〜６００ｍｇ／ｌ，硫酸イオン１
〜１０ｍｇ／ｌ，チオ硫酸イオン３ｍｇ／ｌ以下，チオ
シアンイオン２〜１５ｍｇ／ｌ，塩素イオン２ｍｇ／ｌ
以下，ぎ酸１ｍｇ／ｌ以下，酢酸５〜３５０ｍｇ／ｌで
あり、その他フェノ−ル、アセトンを含み、水分９８．
６％のものであった。また、油相はエチルベンゼンを主
とし、メルカプタン類１〜２重量％含有するものであっ
た。
明する。なお、％は重量％である。 実施例１ アセトンと過剰のフェノールをスルホン酸型イオン交換
樹脂触媒の存在下に反応させて得られた反応混合物から
低沸点成分を蒸留するための蒸留装置であって、塔頂部
ないし塔上部からアセトンと水を抜き出し、塔底部から
フェノールを抜き出す蒸留塔の塔上部から水相を取り出
した。この水相の分析値は硫黄イオン１〜１００ｍｇ／
ｌ，亜硫酸イオン１０〜６００ｍｇ／ｌ，硫酸イオン１
〜１０ｍｇ／ｌ，チオ硫酸イオン３ｍｇ／ｌ以下，チオ
シアンイオン２〜１５ｍｇ／ｌ，塩素イオン２ｍｇ／ｌ
以下，ぎ酸１ｍｇ／ｌ以下，酢酸５〜３５０ｍｇ／ｌで
あり、その他フェノ−ル、アセトンを含み、水分９８．
６％のものであった。また、油相はエチルベンゼンを主
とし、メルカプタン類１〜２重量％含有するものであっ
た。
【００１５】この平均的な水相（ｐＨ３．０）と油相の
１：２混合物に、各種材質のテストピ−スを浸漬してＳ
ＳＲＴ（Slow Strain Rate Technique）試験を行った。
また、比較のためにブランクとして、シリコンオイルに
浸漬して、同様な試験を行った。引張り速度は０．００
１mm/min（歪み速度０．８×１０-6/sec）、試験温度は
２００℃、テストピ−ス材質は、ＮＡＳ２５４Ｎ（ＳＵ
Ｓ３１７Ｊ４Ｌ）、ＮＡＳ３５４Ｎ及びハステロイＣ−
２２の３種類とした。以下、ＮＡＳ２５４Ｎ、ＮＡＳ３
５４Ｎ及びハステロイＣ−２２を、それぞれ254N、354N
及びC‐22と略称する。また、溶接の影響を調べるた
め、これらについて６５０℃×２hr熱処理して鋭敏化処
理したテストピースについても試験を行った。試験時間
は、254Nでは２０６．０hr、２３０．４hr（鋭敏化処
理）、354Nでは２６４．２hr、２６６．５hr（鋭敏化処
理）、C‐22では２６０．４hrであった。なお、254N、3
54N及びC‐22の組成は、次のとおりである。単位は重量
％。 254N：C; 0.01, Si; 0.46, Cr; 22.98, Ni; 24.94, Mo;
5.74, N; 0.183 354N：C; 0.01, Si; 0.1, Cr; 23.3, Ni; 35.5, Mo; 7.
5, N; 0.22, Mn, 0.1, Fe; 33.3 C-22：C; 0.005, Cr; 21.1, Ni; 58.4, Mo; 13.3, W;
2.8, Fe; 3.7, Co; 0.4,Mn, 0.14, V; 0.04, (Si、P及
びSは、0.01未満）
１：２混合物に、各種材質のテストピ−スを浸漬してＳ
ＳＲＴ（Slow Strain Rate Technique）試験を行った。
また、比較のためにブランクとして、シリコンオイルに
浸漬して、同様な試験を行った。引張り速度は０．００
１mm/min（歪み速度０．８×１０-6/sec）、試験温度は
２００℃、テストピ−ス材質は、ＮＡＳ２５４Ｎ（ＳＵ
Ｓ３１７Ｊ４Ｌ）、ＮＡＳ３５４Ｎ及びハステロイＣ−
２２の３種類とした。以下、ＮＡＳ２５４Ｎ、ＮＡＳ３
５４Ｎ及びハステロイＣ−２２を、それぞれ254N、354N
及びC‐22と略称する。また、溶接の影響を調べるた
め、これらについて６５０℃×２hr熱処理して鋭敏化処
理したテストピースについても試験を行った。試験時間
は、254Nでは２０６．０hr、２３０．４hr（鋭敏化処
理）、354Nでは２６４．２hr、２６６．５hr（鋭敏化処
理）、C‐22では２６０．４hrであった。なお、254N、3
54N及びC‐22の組成は、次のとおりである。単位は重量
％。 254N：C; 0.01, Si; 0.46, Cr; 22.98, Ni; 24.94, Mo;
5.74, N; 0.183 354N：C; 0.01, Si; 0.1, Cr; 23.3, Ni; 35.5, Mo; 7.
5, N; 0.22, Mn, 0.1, Fe; 33.3 C-22：C; 0.005, Cr; 21.1, Ni; 58.4, Mo; 13.3, W;
2.8, Fe; 3.7, Co; 0.4,Mn, 0.14, V; 0.04, (Si、P及
びSは、0.01未満）
【００１６】結果を表１に示す。表１中の語句の説明は
次のとおりである。 Ｂ１〜Ｂ３：ブランク試験 ＊印：鋭敏化処理材 断面収縮率(%)＝[(最初の断面積−腐食環境での断面積)
／(最初の断面積)]×100割れ感受性指数＝(応力腐食割
れ破面)／(機械的延性破面−応力腐食割れ破面)SCC破面
率(%)＝[(応力腐食割れ破面の面積)／(全破面の面積) ]
×100
次のとおりである。 Ｂ１〜Ｂ３：ブランク試験 ＊印：鋭敏化処理材 断面収縮率(%)＝[(最初の断面積−腐食環境での断面積)
／(最初の断面積)]×100割れ感受性指数＝(応力腐食割
れ破面)／(機械的延性破面−応力腐食割れ破面)SCC破面
率(%)＝[(応力腐食割れ破面の面積)／(全破面の面積) ]
×100
【００１７】
【表１】
【００１８】表１において、実験番号２、３、５、６が
本発明の実施例に該当し、この材料の場合、鋭敏化処理
をしない場合はもちろん、処理した場合であっても応力
腐食割れが実質的に生じないことが表１から明らかであ
る。したがって、特異な腐蝕が生じやすいビスフェノー
ルＡの製造における低沸点物の蒸留工程、例えば酸性の
水溶液が凝縮する塔頂部あるいはコンデンサー、タン
ク、配管等の部位に、本発明の材質を使用した蒸留装置
とすれば、長期間安定した操業ができる。
本発明の実施例に該当し、この材料の場合、鋭敏化処理
をしない場合はもちろん、処理した場合であっても応力
腐食割れが実質的に生じないことが表１から明らかであ
る。したがって、特異な腐蝕が生じやすいビスフェノー
ルＡの製造における低沸点物の蒸留工程、例えば酸性の
水溶液が凝縮する塔頂部あるいはコンデンサー、タン
ク、配管等の部位に、本発明の材質を使用した蒸留装置
とすれば、長期間安定した操業ができる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、蒸留装置の
応力腐食割れが防止できるので、長期間安定して運転す
ることができる。
応力腐食割れが防止できるので、長期間安定して運転す
ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片山 英孝 福岡県北九州市戸畑区大字中原先の浜46番 地の80 新日鐵化学株式会社総合研究所内 (72)発明者 和田 裕人 福岡県北九州市戸畑区大字中原先の浜46番 地の80 新日鐵化学株式会社九州製造所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC25 AD11 BA72 BD83 DA62 FC52 FE13 4H039 CA19 CA41 CD10 CD40
Claims (1)
- 【請求項１】 アセトンと過剰量のフェノールを、酸性
陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入して反応さ
せてビスフェノールＡを含む反応混合物を得る反応工
程、これからアセトン及び水を主とする低沸点物を分離
する工程、フェノールとビスフェノールＡを主とする流
れからビスフェノールＡを回収する工程とを含むビスフ
ェノールＡの製造方法において、アセトン及び水を主と
する低沸点物を分離する工程に使用される蒸留塔又はそ
の附属装置の少なくとも一部の材質を、（A)クロム含有
率１８〜２８重量％、ニッケル含有率３０〜４０重量
％、モリブデン含有率３〜１０重量％、カーボン含有率
０．０３重量％以下及び鉄含有率２８〜３８重量％のク
ロム−ニッケル−モリブデン系ステンレス鋼又は（B)ク
ロム含有率１６〜２６重量％、ニッケル含有率５３〜６
３重量％、モリブデン含有率９〜１７重量％、タングス
テン含有率１〜５重量％、カーボン含有率０．０３重量
％以下及び鉄含有率２〜５重量％の高ニッケル合金から
選択される合金とすることを特徴とするビスフェノール
Ａの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000151365A JP2001335521A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | ビスフェノ−ルａの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000151365A JP2001335521A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | ビスフェノ−ルａの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001335521A true JP2001335521A (ja) | 2001-12-04 |
Family
ID=18656933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000151365A Pending JP2001335521A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | ビスフェノ−ルａの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001335521A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005220094A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Mitsubishi Chemicals Corp | ビスフェノールａの製造方法 |
| WO2007046434A1 (ja) * | 2005-10-21 | 2007-04-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 色相の良好なビスフェノールａの製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5777637A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-15 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Handling method of bisphenol a |
| JPS6112640A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-21 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | ビスフエノ−ル類の製法 |
| JPH05163003A (ja) * | 1991-12-18 | 1993-06-29 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩化水素の製造方法 |
| JPH0761947A (ja) * | 1993-08-25 | 1995-03-07 | Nippon Steel Chem Co Ltd | ビスフェノールａの製造方法 |
| JPH11228491A (ja) * | 1998-02-20 | 1999-08-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | ２−フルオロシクロプロパンカルボン酸のシス／トランス異性体混合物の分離方法 |
-
2000
- 2000-05-23 JP JP2000151365A patent/JP2001335521A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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