JP2001324809A - 感光性樹脂組成物、スペーサーおよび液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】フォトリソグラフィーにより液晶表示素子用ス
ペーサーを形成する際の新規な感光性樹脂組成物を提供
する。詳しくは従来特性を兼備し、高感度で、現像残渣
（スカム）のない優れた現像性、耐アルカリ性、耐水性
を備えたスペーサーの形成材料として好適なネガ型の感
光性樹脂組成物を提供し、さらに該樹脂組成物で形成さ
れるスペーサーおよび液晶表示素子を提供する。 【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂［Ａ］、不飽和二重
結合を少なくとも１つ有する化合物［Ｂ］、ベンゾフェ
ノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤［Ｃ］およ
び４,４′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン
構造を有する光増感剤［Ｄ］を含有し、必要によりエポ
キシ基を有するアルカリ不溶性ビニル共重合体［Ａ_IS］
を含有する感光性樹脂組成物、およびこの組成物で形成
されたスペーサー、このスペーサーを具備する液晶表示
素子。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、それを材料とした液晶表示素子スペーサーおよび液
晶表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のギ
ャップを制御する技術としては、二枚の基板の中間にガ
ラスビーズ、プラスチックビーズなどのスペーサー粒子
を散布し、それらの大きさによって液晶層の厚みを制御
する方式が用いられている。しかし、この方式では、つ
ぎのような問題があった。 １）スペーサー粒子が有効画素部内に配置された場合、
スペーサー粒子の存在する面積部分の画素は表示に寄与
しないため、コントラストおよび開口率が低下し、表示
品位が低下する。 ２）スペーサー粒子の移動による配向膜の損傷、スペー
サー粒子の凝集、スペーサー粒子周辺の配向異常により
表示不良を引き起こす。 ３）スペーサー粒子径のバラツキによりギャップムラが
生じやすい。 ４）スペーサー粒子径が小さくなるとパネル強度が低下
する。 さらに、これらの問題は、ＬＣＤが大画面化、高精細化
（狭ギャップ化、高解像度化）するにつれて顕著にな
る。

【０００３】これらの問題を解決するためにスペーサー
をフォトリソグラフィーにより形成する方法が提案され
た。この方法によれば、感光性樹脂を基板に塗布し所定
のマスクを介し紫外線を照射した後、現像してドット状
やストライプ状のスペーサーを形成することができる。
これによると有効画素部以外の場所にスペーサーを形成
することができる。さらにこの方法だと、セルギャップ
を感光性樹脂の塗布膜厚によりコントロールできるため
ギャップ幅の制御が容易で、精度が高くなり上記問題を
解決できる。

【０００４】ＬＣＤを製造する工程において、スペーサ
ーとラビングされた配向膜を備える方法は、以下の３通
りの方法が使用できる。 配向膜を塗布する前にスペーサーを形成し、塗布後
にラビングを行う。 配向膜を塗布した後にスペーサー形成し、ラビング
を行う。 ラビングした配向膜にスペーサーを形成する。

【０００５】感光性樹脂により形成されたスペーサー
を、これら〜のすべての方法で使用可能にするため
には、次のような特性が必要とされる。・スペーサーを
形成するフォトリソグラフィー工程においては、歩留ま
り向上のため、 １）高感度であること。 ２）現像後、現像残渣（スカム）がないこと。 ・形成されたスペーサーには、 １）配向膜を塗布する前の洗浄工程における耐アルカリ
性、耐水性を備えていること。 ２）配向膜に使用されている溶剤への耐溶剤性を備えて
いること。 ３）配向膜の焼成工程で熱変形を起こさない耐熱性を備
えていること。 ４）ラビングにより表示不良が生じないようラビング耐
性が高いこと。 ５）液晶配向不良を生じさせず、電圧保持率、残留直流
電圧（残留ＤＣ）を低下させないこと。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の解決しようと
する課題は、フォトリソグラフィーにより液晶表示素子
用スペーサーを形成する際の新規な感光性樹脂組成物を
提供することであり、さらに詳しくは従来特性を兼備
し、高感度で、現像残渣（スカム）のない優れた現像
性、耐溶剤性を備えたスペーサーの形成材料として好適
なネガ型の感光性樹脂組成物を提供することである。さ
らに該樹脂組成物で形成されるスペーサーおよび液晶表
示素子を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、アルカリ
可溶性樹脂［Ａ］、エチレン性不飽和結合を有する化合
物［Ｂ］、ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光
重合開始剤［Ｃ］および４,４′−ビス（ジアルキルア
ミノ）ベンゾフェノン構造を有する光増感剤［Ｄ］を含
有する感光性樹脂組成物を用いて形成されるスペーサー
は、耐溶剤性、耐熱性、およびラビング耐性に優れ、液
晶配向不良を生じさせず、電圧保持率、残留ＤＣを低下
させないといった特性も兼備していることを見出し、本
発明を達成するに至った。更に、この系にエポキシ基を
有するアルカリ不溶性ビニル重合体［Ａ_IS］を添加して
得られる感光性樹脂組成物は上記組成物と同様な特性を
有すると共に、更に、より一層耐アルカリ性および耐水
性が改善された塗膜を与えることが明らかになった。

【０００８】本発明の感光性樹脂組成物は、つぎの１〜
１２項で示される。 (１) アルカリ可溶性樹脂［Ａ］、エチレン性不飽和結
合を有する化合物［Ｂ］、ベンゾフェノン構造を有する
有機過酸化物光重合開始剤［Ｃ］および４,４′−ビス
（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン構造を有する光増
感剤［Ｄ］を含有することを特徴とする感光性樹脂組成
物。 (２) アルカリ可溶性樹脂［Ａ］が、不飽和カルボン酸
モノマー（ａ−１）とその他のラジカル重合性モノマー
との共重合体である（１）項に記載された感光性樹脂組
成物。 (３) その他のラジカル重合性モノマーが、一般式
（１）

【化３】 （ここで、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を示し；Ｒ₂は
水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を示し；ｎは０〜
５の整数である）で表されるラジカル重合性モノマー
（ａ−２）、または該モノマー（ａ−２）とラジカル重
合性モノマー（ａ−３）［（ａ−１）と（ａ−２）以外
のラジカル重合性モノマー］である（２）項に記載され
た感光性樹脂組成物。 (４) 前記一般式（１）において、ｎが１若しくは２で
ある（３）項に記載された感光性樹脂組成物。 (５) 一般式（１）において、Ｒ₁およびＲ₂が水素原子
である（３）若しくは（４）項に記載された感光性樹脂
組成物。 (６) その他のラジカル重合性モノマーが、前記（ａ−
３）である（２）項に記載された感光性樹脂組成物。 (７) ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合
開始剤[Ｃ]が一般式（２）

【化４】 （Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆はそれぞれ独立に炭素数１〜
１３のアルキル基、Ｘ₁およびＸ₂はそれぞれ独立に−Ｏ
−、−Ｏ−Ｏ−若しくは−ＮＨ−である）で表される化
合物である（１）〜（６）項のいずれか一項に記載され
た感光性樹脂組成物。 (８) 一般式（２）においてＸ₁およびＸ₂が共に−Ｏ−
である（７）項に記載された感光性樹脂組成物。 (９) 前記化合物［Ｂ］がエチレン性不飽和結合を３〜
６個有する化合物である（１）〜（８）項のいずれか一
項に記載された感光性樹脂組成物。 (１０) 前記化合物［Ｂ］のエチレン性不飽和結合がア
クリロイル基若しくはメタクリロイル基である（１）〜
（９）項いずれか一項に記載された感光性樹脂組成物。 (１１) 更に、エポキシ基を有するアルカリ不溶性ビニ
ル重合体［Ａ_IS］が添加された（１）〜（１０）項に記
載された感光性樹脂組成物。 (１２) エポキシ基を有するアルカリ不溶性ビニル重合
体［Ａ_IS］がエポキシ基を有するラジカル重合性モノマ
ー（ａ−４）の重合体若しくは共重合体または前記モノ
マーとその他のラジカル重合性モノマー（ａ−５）との
共重合体である（１１）項に記載された感光性樹脂組成
物。

【０００９】本発明の塗膜、スペーサーおよび液晶表示
素子は次の１３〜１６項に示される。 (１３) （１）〜（１２）項のいずれか一項に記載され
た感光性樹脂組成物を用いて形成された塗膜。 (１４) （１）〜（１２）項のいずれか一項に記載され
た感光性樹脂組成物を用いて形成された液晶表示素子用
スペーサー。 (１５) 感光性樹脂組成物をフォトリソグラフィーによ
ってパターニングした後、熱硬化することにより形成さ
れた（１４）項に記載された液晶表示素子用スペーサ
ー。 (１６) （１４）若しくは（１５）項に記載されたスペ
ーサーを具備する液晶表示素子。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物に用い
られるアルカリ可溶性樹脂[Ａ]は、不飽和カルボン酸モ
ノマーの１種または２種以上とその他のラジカル重合性
化合物とを共重合させて得られる。

【００１１】不飽和カルボン酸モノマー（ａ−１）とし
ては、［以下、（メタ）はメタがある場合とない場合の
両方の化合物を含むことを示す］（メタ）アクリル酸、
クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シト
ラコン酸、メサコン酸などが挙げられる。これらは、単
独または組み合わせて用いられる。

【００１２】その他のラジカル重合性化合物としては、
まず、一般式（１）

【化５】 （ここで、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を示し；Ｒ₂は
水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を示し；ｎは０〜
５の整数である）で表されるラジカル重合性モノマー
（ａ−２）があげられる。

【００１３】つぎに、前記モノマー（ａ−１）と（ａ−
２）以外のラジカル重合性モノマー（ａ−３）として、
スチレン、メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香
族ビニル化合物；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）
アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メ
タ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸アルキルエス
テル；３−シクロヘキセニルメチル（メタ）アクリレー
ト、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシク
ロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリ
シクロ［５・２・１・０^2,6］デカニル（メタ）アクリレー
ト、２,２,６,６−テトラメチルピペリジニル（メタ）
アクリレート、Ｎ−メチルー２,２,６,６−テトラメチ
ルピペリジニル（メタ）アクリレートなどの（メタ）ア
クリル酸エステル；（メタ）アクリルアミド、ジメチル
アミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメ
チル（メタ）アクリルアミドなどの（メタ）アクリルア
ミド類などがあげられる。

【００１４】市販品としては、大阪有機化学（株）製の
“ビスコート＃１９３”、“同＃３２０”、“同＃２３
１１ＨＰ”、“同＃２２０”、“同＃２０００”、“同
＃２１００”、“同＃２１５０”、“同＃２１８０”、
“同３Ｆ”、“同３ＦＭ”、“同４Ｆ”、“同４Ｆ
Ｍ”、“同６ＦＭ”、“同８Ｆ”、“同８ＦＭ”、“同
１７Ｆ”、“同１７ＦＭ”、“同ＭＴＧ”；東亞合成
(株)製の“アロニックスＭ−１０１”、“同Ｍ−１０
２”、“同Ｍ−１１０”、“同Ｍ−１１３”、“同Ｍ−
１１７”、“同Ｍ−１２０”、“同Ｍ−５３００”、
“同Ｍ−５４００”、“同Ｍ−５６００”、“同Ｍ−５
７００”、“同ＴＯ−８５０”、“同ＴＯ−８５１”、
“同ＴＯ−１２４８”、“同ＴＯ−１２４９”、“同Ｔ
Ｏ−１３０１”、“同ＴＯ−１３１５”、“同ＴＯ−１
３１７”、“同ＴＯ−９８１”、“同ＴＯ−１２１
５”、“同ＴＯ−１３１６”、“同ＴＯ−１３２２”、
“同ＴＯ−１３４２”、“同ＴＯ−１３４０”、“同Ｔ
Ｏ−１２２５”；日本化薬(株)製の“ＫＡＹＡＲＡＤ
Ｒ−５６４”、“同Ｒ−１２８Ｈ”；日立化成工業(株)
製の“ＦＡＮＣＲＹＬ ＦＡ−５１１Ａ”、“同ＦＡ−
５１２Ａ”、“同ＦＡ−５１３Ａ”、“同ＦＡ−５１３
Ｍ”、“同ＦＡ−７１１ＭＭ”、“同ＦＡ−７１２Ｈ
Ｍ”などが挙げられる。これらは、単独でまたは組み合
わせて用いられる。

【００１５】その他のラジカル重合性モノマー［（ａ−
１）以外のラジカル重合性モノマー］として二種以上の
モノマーを使用するのが好ましく、式（１）で示される
モノマー（ａ−２）と、（ａ−１）および（ａ−２）以
外のモノマーであるラジカル重合性モノマー（ａ−３）
との組み合わせがより好ましい。

【００１６】エポキシ基を有するアルカリ不溶性ビニル
重合体［Ａ_IS］は、エポキシ基を含有するラジカル重合
性モノマー（ａ−４）の１種の重合体もしくは２種以上
の共重合体、またはエポキシ基を含有するラジカル重合
性モノマー（ａ−４）の１種もしくは２種以上とその他
のラジカル重合性化合物（ａ−５）とを共重合させて得
られる。

【００１７】エポキシ基を有するラジカル重合性モノマ
ー（ａ−４）としては、グリシジル（メタ）アクリレー
ト、３,４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、２
−メチル−３,４−エポキシシクロヘキシル（メタ）ア
クリレートなどが挙げられる。これらは、単独であるい
は組み合わせて用いられる。その他のラジカル重合性化
合物（ａ−５）としては、前述した不飽和カルボン酸モ
ノマー（ａ−１）、一般式（１）で表されるラジカル重
合性モノマー（ａ−２）およびラジカル重合性モノマー
（ａ−３）（ただし（ａ−４）を除く）が挙げられる。
これらは単独であるいは組み合わせて用いられる。その
他のラジカル重合性化合物（ａ−５）としては、モノマ
ー（ａ−３）の項で列挙したモノマーを使用することが
できる。

【００１８】上述のアルカリ可溶性樹脂［Ａ］は上記不
飽和カルボン酸モノマーおよびその他のラジカル重合性
モノマーを共重合体成分とし、その含有量は、得られる
感光性樹脂組成物の特性などに応じて適宜選定できる
が、通常共重合体構成単位を不飽和カルボン酸モノマー
を５〜４０重量％好ましくは１０〜２０重量％、その他
のラジカル重合性モノマーを９５〜６０重量％好ましく
は９０〜８０重量％含有している。

【００１９】不飽和カルボン酸モノマーからの共重合構
成単位が、５重量％未満であるとアルカリ現像液に溶解
しにくくなり、４０重量％を超えるとアルカリ現像液に
対する溶解性が大きくなりすぎ、現像後の皮膜に膜荒れ
が発生しやすくなる傾向にある。

【００２０】その他のラジカル重合性モノマーからの共
重合体構成単位が、６０重量％未満であるとアルカリ現
像液に対する溶解性が大きくなりすぎ、９５重量％を超
えるとアルカリ現像液に溶解しにくくなる。

【００２１】その他のラジカル重合性モノマーのうち式
（１）で示される（ａ−２）で表わされるラジカル重合
性モノマーを共重合体中に導入すると、アルカリ水溶液
に対する溶解性が増し、現像時間が短くなる。モノマー
中の含有量は３０重量％以下であるが、５重量％以下だ
と溶解性増加の効果はわずかであり、３０重量％以上だ
と、溶解性が大きくなりすぎ、現像後の皮膜に膜荒れが
発生しやすくなる。

【００２２】エポキシ基を有するアルカリ不溶性ビニル
重合体［Ａ_IS］は、上記エポキシ基を含有するラジカル
重合性モノマー（ａ−４）の１種の重合もしくは２種以
上の共重合、またはエポキシ基を含有するラジカル重合
性モノマー（ａ−４）の１種もしくは２種以上とその他
のラジカル重合性化合物（ａ−５）の共重合で得られ
る。それらの含有量は、得られる感光性樹脂組成物の特
性などに応じて適宜選定できるが、エポキシ基を含有す
るラジカル重合性モノマー（ａ−４）に基づく構成単位
が、通常２０〜１００重量％好ましくは５０〜１００重
量％、その他のラジカル重合性化合物（ａ−５）に基づ
く構成単位が、通常０〜８０重量％好ましくは０〜５０
重量％である。

【００２３】エポキシ基を含有するラジカル重合性モノ
マー（ａ−４）に基づく構成単位が２０重量％未満、ま
たは、その他のラジカル重合性化合物（ａ−５）に基づ
く構成単位が８０重量％を超えると、パターニング後、
熱硬化して得られた皮膜の耐アルカリ性が低下する場合
がある。

【００２４】アルカリ可溶性樹脂［Ａ］およびエポキシ
基を有するアルカリ不溶性ビニル重合体［Ａ_IS］は、従
来の公知の重合方法によって得られる。重合溶媒は、メ
タノール、エタノール、２−プロパノール、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノイソプロピル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エ
チルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、トルエン、キシレン、γーブチロ
ラクトン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒド
ロフランなどが好ましい。特にメタノール、酢酸エチ
ル、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルが好ましい。もちろん
２種以上の混合溶媒でもよい。

【００２５】重合は通常モノマー濃度５〜５０重量％、
重合開始剤０.０１〜５重量％、反応温度５０〜１６０
℃、反応時間３〜１２時間で行う。分子量を調節するた
めにチオグリコール酸などの連鎖移動剤を加えてもよ
い。反応終了後、重合液をそのまま、または反応液を大
量の非溶媒中に投入してオリゴマーや未反応モノマーを
除去して生成した沈殿を乾燥したものを、感光性樹脂組
成物用樹脂組成物として使用する。重合液を大量の非溶
媒中に投入して精製する場合は、メタノールと酢酸エチ
ルの混合液を重合溶媒とし、シクロヘキサンもしくは酢
酸エチル／シクロヘキサン混液を非溶媒として使用する
と乾燥性が良好で好ましい。

【００２６】このようにして得られたアルカリ可溶性樹
脂［Ａ］およびエポキシ基を有するアルカリ不溶性ビニ
ル重合体［Ａ_IS］の分子量は特に限定されないが、Ｎ,
Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶媒としたＧＰＣによる分
析で、ポリエチレンオキシド換算重量平均分子量（Ｍ
ｗ）が、通常１,０００〜１００,０００好ましくは２,
０００〜３０,０００のものを用いるのが望ましい。

【００２７】アルカリ可溶性樹脂［Ａ］およびエポキシ
基を有するアルカリ不溶性ビニル重合体［Ａ_IS］のポリ
エチレンオキシド換算重量平均分子量（Ｍｗ）が１,０
００未満では膜の強度が弱く、現像時の膜荒れ、パター
ンの剥離が起きやすい。一方、２００,０００を超える
と、現像性や感度が低下したり、現像後に残査が残るこ
とがある。

【００２８】エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有
する化合物［Ｂ］としては、メチル（メタ）アクリレー
ト、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アク
リレートなどの（メタ）アクリル酸誘導体；２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレートなどのヒドロキシアルキルエステル類；ω−
カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレー
ト、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）
アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレー
ト、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレ
ート、トリシクロ［５・２・１・０^2,6］デカニル（メタ）
アクリレート、２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチル−２,２,６,６−
テトラメチルピペリジニル（メタ）アクリレートなどの
単官能（メタ）アクリレート化合物；１,４−ブタンジ
オールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロ
パンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）
アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メ
タ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メ
タ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メ
タ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＳジ（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシプロピルジ（メタ）アク
リレート、ジエチレングリコールビスヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、モノヒドロキシペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレートなどの多官能（メ
タ）アクリレート化合物などが挙げられる。

【００２９】また、これら化合物として、市販品の単官
能または多官能（メタ）アクリレート化合物をそのまま
用いることができる。具体的には、東亜合成化学工業
(株)製の“アロニックスＭ−５４００”、“同Ｍ−５７
００”、“同Ｍ−２１５”、“同Ｍ−２２０”、“同Ｍ
−２４５”、“同Ｍ−３０５”、“同Ｍ−３０９”、
“同Ｍ−３１５”、“同Ｍ−４００”、“同Ｍ−４５
０”、“同Ｍ−８０６０”、“同Ｍ−８５６０”；大阪
有機化学工業(株)製の“ビスコート＃２９５”、“同＃
３００”、“同＃３６０”、“同＃４００”；日本化薬
(株)製の“ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ”、“同ＰＥＴ
−３０”、“同ＤＰＨＡ”、“同Ｄ−３１０”、“同Ｄ
ＰＣＡ−６０”；日立化成工業(株)製の“ＦＡＮＣＲＹ
Ｌ ＦＡ−５１１Ａ”、“同ＦＡ−５１２Ａ”、“同Ｆ
Ａ−５１３Ａ”、“同ＦＡ−５１３Ｍ”、“同ＦＡ−７
１１ＭＭ”、“同ＦＡ−７１２ＨＭ”などを挙げること
ができる。

【００３０】上述のうち好ましい化合物としては、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、“アロニック
スＭ−３０５”、“同Ｍ−３０９”、“同Ｍ−４０
０”、“同Ｍ−４５０”、“ビスコート＃３００”、
“同＃４００”、“ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ”、
“同ＤＰＨＡ”、“同Ｄ−３１０”、“同ＰＥＴ−３
０”などの二重結合を３個以上有する多官能（メタ）ア
クリレートなどがあげられる。これらは、単独でまたは
組み合わせて用いられる。

【００３１】ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物
光重合開始剤［Ｃ］としては、４,４′−ジ（ｔ−ブチ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,３′−
ジ（メトキシカルボニル）−４,４′−ジ（ｔ−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４,４′−ジ
（メトキシカルボニル）−３,３′−ジ（ｔ−ブチルペ
ルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,４′−ジ
（メトキシカルボニル）−４,３′−ジ（ｔ−ブチルペ
ルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,４,４′−ト
リ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３,５,４′−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニ
ル）ベンゾフェノン、３,４,５−トリ（ｔ−ブチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,４,４′−トリ
（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
２,３,４−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベ
ンゾフェノン、３,４,４′−トリ（ｔ−ブチルペルオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３,４,４′−トリ（ｔ
−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,
４,４′−トリ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３,４,４′−トリ（ｔ−オクチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,３,４′−トリ
（ｔ−クミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
４−メトキシ−２′,４′−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ
カルボニル）ベンゾフェノン、４−メトキシ−２′,
４′−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、３−メトキシ−２′,４′−ジ（ｔ−ブチルペ
ルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−メトキシ−
２′,４′−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベ
ンゾフェノン、４−エトキシ−２′,４′−ジ（ｔ−ブ
チルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,３′,
４,４′−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３,３′,４,４′−テトラ（ｔ−ヘキ
シルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、市販品の
“ＢＴＴＢ５０”、“同２５”（日本油脂(株)製）など
が挙げられる。これらは、単独でまたは組み合わせて用
いられる。

【００３２】また、上記光重合開始剤［Ｃ］と他の光重
合開始剤とを組み合わせて用いることもできる。他の光
重合開始剤としては、２,２−ジメトキシ−１,２−ジフ
ェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、２−メチル−１［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２,４,６−トリ
メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、
ビス（２,４,６ートリメチルベンゾイル）−フェニルフ
ォスフィンオキサイド、２−（４−メトキシ−１−ナフ
チル）−４,６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジンがあげられる。市販品としてはチバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ(株)製）の“Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５
１”、“同１８４”、“同５００”、“同３６９”、
“同９０７”、“同８１９”；ＢＡＳＦジャパン(株)製
の“ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ”；みどり化学(株)製の“Ｔ
ＡＺ−１０４”、“同１０６”、“同１１０”、“同１
１８”などが挙げられる。

【００３３】好ましい光重合開始剤［Ｃ］としては、
３,３′−ジ（メトキシカルボニル）−４,４′−ジ（ｔ
−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４,
４′−ジ（メトキシカルボニル）−３,３′−ジ（ｔ−
ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,
４′−ジ（メトキシカルボニル）−４,３′−ジ（ｔ−
ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンがあげら
れる。

【００３４】また、［Ｃ］と他の光重合開始剤との好ま
しい組み合わせとしては、３,３′−ジ（メトキシカル
ボニル）−４,４′−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノンと“Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７”と
の併用、４,４′−ジ（メトキシカルボニル）−３,３′
−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ンと“Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７”との併用、３,４′−
ジ（メトキシカルボニル）−４,３′−ジ（ｔ−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンと“Ｉｒｇａｃ
ｕｒｅ９０７”との併用、３,３′−ジ（メトキシカル
ボニル）−４,４′−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノンと“Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９”と
の併用、４,４′−ジ（メトキシカルボニル）−３,３′
−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ンと“Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９”との併用、３,４′−
ジ（メトキシカルボニル）−４,３′−ジ（ｔ−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンと“Ｉｒｇａｃ
ｕｒｅ３６９”との併用、３,４,４′−トリ（ｔ−ブチ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,３′,
４,４′−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３,４,４′−トリ（ｔ−ブチルペルオ
キシカルボニル）ベンゾフェノンと“Ｉｒｇａｃｕｒｅ
９０７”との併用、３,４,４′−トリ（ｔ−ブチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノンと“Ｉｒｇａｃｕｒ
ｅ３６９”との併用、３,３′,４,４′−テトラ（ｔ−
ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンと“Ｉｒ
ｇａｃｕｒｅ９０７”との併用、３,３′,４,４′−テ
トラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ンと“Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９”との併用があげられ
る。

【００３５】光増感剤［Ｄ］としては、４,４′−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４′−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４′−ビス
（ジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４,４′
−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノンな
どがあげられる。また、市販品としては保土ヶ谷化学工
業(株)製の“ＥＡＢ”、“ＥＡＢ−Ｆ”などが挙げられ
る。これらは、単独でまたは組み合わせて用いられる。

【００３６】本発明感光性樹脂組成物の成分含有比率
は、アルカリ可溶性樹脂［Ａ］１００重量部に対し、エ
ポキシ基を有するアルカリ不溶性ビニル重合体［Ａ_IS］
を０〜５０重量部、耐アルカリ性等の効果を顕著に発現
させるためには５〜５０重量部、好ましくは１０〜３０
重量部、エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する
化合物［Ｂ］を１０〜２００重量部好ましくは３０〜１
５０重量部、ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物
光重合開始剤［Ｃ］を０.１〜５０重量部好ましくは１
〜３０重量部、および４,４′−ビス（ジアルキルアミ
ノ）ベンゾフェノン構造を有する光増感剤［Ｄ］を０.
１〜３０重量部好ましくは０.５〜２０重量部である。
ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
［Ｃ］と他の光重合開始剤を併用する場合は、光重合開
始剤［Ｃ］１００重量部に対し、他の光重合開始剤１０
〜１００重量部を用いることが好ましい。

【００３７】アルカリ可溶性樹脂［Ａ］１００重量部に
対してエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化
合物［Ｂ］が１０重量部未満であると、感光性樹脂の光
による硬化が不十分となり、現像液への溶解性が増加し
て現像後の塗膜表面に膜荒れが生じることがある。一
方、化合物［Ｂ］が２００重量部を超えた場合にも、塗
膜表面のタック（tack）が大きくなりすぎ、硬化後に得
られる被膜に膜荒れが生じたり、現像後に残査が残った
りすることがある。

【００３８】アルカリ可溶性樹脂［Ａ］１００重量部に
対してベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合
開始剤［Ｃ］が０.１重量部未満であると、エチレン性
不飽和結合を少なくとも１つ以上有する化合物［Ｂ］の
架橋（硬化）反応が十分に進行しないことがあり、一
方、５０重量部を超えると、現像性が低下することがあ
る。

【００３９】アルカリ可溶性樹脂［Ａ］１００重量部に
対して、４,４′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフ
ェノン構造を有する光増感剤［Ｄ］が、０.１重量部未
満であると、ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物
光重合開始剤［Ｃ］への増感作用が不十分となり、感度
が低下し、現像後膜荒れが生じることがあり、一方、３
０重量部を超えると、得られる被膜の残膜率が低下する
ことがある。

【００４０】本発明の感光性樹脂組成物は、本発明の目
的を損なわない範囲で、必要に応じて上記成分以外の他
の成分を含有してもよい。このような他の成分として
は、カップリング剤、界面活性剤などが挙げられる。カ
ップリング剤は、基板との密着性を向上させるために使
用するものであり、上記感光性樹脂組成物から溶媒を除
いた残りの成分（以下「固形分」と略記する）１００重
量部に対し１０重量部以下添加して用いられる。

【００４１】カップリング剤としては、シラン系、アル
ミニウム系およびチタネート系の化合物が用いられる。
具体的には、３−グリシドキシプロピルジメチルエトキ
シシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、３−アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラ
ン、３−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３
−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、３
−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３
−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのシラン
系、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート
などのアルミニウム系、テトライソプロピルビス（ジオ
クチルホスファイト）チタネートなどのチタネート系化
合物を挙げることができる。

【００４２】界面活性剤は、下地基板への濡れ性、レベ
リング性、塗布性を向上させるために使用するものであ
り、上記感光性樹脂組成物１００重量部に対し０.０１
〜１重量部添加して用いられる。

【００４３】界面活性剤としては、シリコン系界面活性
剤、アクリル系界面活性剤、フッソ系界面活性剤などが
用いられる。具体的には、ビック・ケミー(株)製の“Ｂ
ｙｋ−３００”、“同３０６”、“同３３５”、“同３
１０”、“同３４１”、“同３４４”、“同３７０”な
どのシリコン系、“同３５４”、“同３５８”、“同３
６１”などのアクリル系；旭硝子(株)製の“ＳＣ−１０
１”、(株)トーケムプロダクツ製の“ＥＦ−３５１”、
“同３５２”などのフッソ系を挙げることができる。

【００４４】本発明の感光性樹脂組成物は、通常、適当
な溶媒に溶解させて溶液状態で用いられる。この溶液
は、溶媒中にアルカリ可溶性樹脂［Ａ］およびエポキシ
基を有するアルカリ不溶性ビニル重合体［Ａ_IS］を投入
して完全に溶解させた後、その溶液中にエチレン性不飽
和結合を少なくとも１つ以上有する化合物［Ｂ］、ベン
ゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
［Ｃ］、４,４′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフ
ェノン構造を有する光増感剤［Ｄ］、および必要に応じ
てカップリング剤、界面活性剤などを所定の割合で混合
し、固形分濃度が１０〜５０重量％となるように調製
し、その後、撹拌して完全に溶解させることによって得
られる。

【００４５】この際に使用される溶媒としては、メトキ
シジエタノール、エトキシエタノール、１−メトキシー
２−プロパノール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳
酸エチル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメ
チルアセトアミドなどを挙げることができ、これらの溶
媒は単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。

【００４６】上述のようにして調製された感光性樹脂組
成物溶液を、基板表面に塗布し、加熱により溶媒を除去
すると、塗膜を形成することができる。基板表面への感
光性樹脂組成物溶液の塗布は、スピンコート法、ロール
コート法、ディッピング法など従来からの公知の方法に
より行うことができる。

【００４７】次いで、この塗膜はホットプレート、オー
ブンなどで加熱（以下「プリベーク」と略記する）され
る。プリベーク条件は各成分の種類、配合割合によって
異なるが、通常７０〜１１０℃で、ホットプレートなら
１〜５分間、オーブンなら５〜１５分間である。

【００４８】本発明の液晶表示素子用スペーサーは、上
述のプリベークされた塗膜を液晶表示素子用の電極基板
上に形成して後、所定パターンのフォトマスクを介して
紫外線などを照射した後、現像液により現像し、不要な
部分を除去することにより得られる。尚、スペーサーの
形成方法について、本発明の液晶表示素子の説明の項で
さらに詳しく後述する。

【００４９】現像液としては、炭酸ナトリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機アルカリ類；テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルア
ンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ類などの水
溶液を挙げることができる。また、上記アルカリ水溶液
にメタノール、エタノール、界面活性剤などを適当量添
加して用いることもできる。

【００５０】現像方法は、ディッピング法、シャワー
法、スプレー法など何れを用いてもよく、現像時間は通
常３０〜２４０秒であり、現像後、流水でリンスし、乾
燥させることによりパターンを形成することができる。
その後、このパターンをホットプレート、オーブンなど
で加熱（以下「ポストベーク」と略記する）することに
よって、エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ以上有
する化合物［Ｂ］の未反応分の架橋をさらに進めると同
時に溶媒を完全に除去し、所定の塗膜パターンを得るこ
とができる。

【００５１】ポストベーク条件は各成分の種類、配合割
合によって異なるが、通常１８０〜２５０℃で、ホット
プレートなら５〜３０分間、オーブンなら３０〜９０分
間である。

【００５２】本発明の液晶表示素子は、前述の本発明の
感光性樹脂組成物により形成されるスペーサーを具備す
ることが特徴である。その液晶表示素子の作製方法につ
いて説明する。

【００５３】上、下の基板の内側に、透明導電性電極
｛例えばインジウムースズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ
（ＳｎＯｘ）｝と配向処理面または配向膜（以下配向膜
という）順次積層されている。さらに、これらの上、下
の一方または両方の積層基板上の配向膜の表面または配
向膜と電極基板の間に本発明の感光性樹脂組成物の塗膜
を目的とする厚さになるように形成して後、たとえば５
μｍ×５μｍ〜１５μｍ×１５μｍの格子状の透光部分
があるパターンが画かれたフォトマスクを通して放射線
を照射し、その後、現像により放射線非照射部分の塗膜
を除き、焼成を行うことで、液晶パネルの開口部以外の
部分（例えば、画素間）に柱状の（感光性樹脂組成物の
柱状の硬化膜により格子状模様となったスペーサーを形
成する。

【００５４】該スペーサの形状は、特に制限はないが、
真上から見た場合、正方形、長方形、円形、楕円形であ
ることが好ましく、長方形、楕円形の場合、長軸方向
が、ラビング方向と水平若しくは直交しているのが好ま
しい。また、真横から見た場合、正方形、長方形、台形
であり、特に台形が好ましい。さらに、台形の上部の角
が丸まっていても良く、台形の下部が裾を引いても良
い。台形の形状はスペーサ上に配向膜を塗布、ラビング
処理する際、均一に配向膜を塗布するまたは均一なラビ
ング処理をする際に特に有効である

【００５５】基板としては、たとえば、白板ガラス、青
板ガラス、シリカコート青板ガラスなどの透明ガラス基
板、ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂、
塩化ビニール樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミド
イミド、ポリイミドなどの合成樹脂製シート、フィルム
または基板、アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステ
ンレス板などの金属基板、その他セラミック板、光電変
換素子を有する半導体基板などが挙げることができる。
これらの基板には所望により、シランカップリング剤な
どの薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、
スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などの前処理を
行うことができる。

【００５６】感光性樹脂組成物を基板に塗布する際、ス
ピンコート法、ロールコート法、ディッピング法など従
来からの公知の方法により行うことができる。

【００５７】塗布後塗膜の乾燥は、塗膜に対して過熱さ
れた空気を吹き付けるか、または基板を過熱されたホッ
トプレート上に載置することにより行うことができる。
乾燥風またはホットプレートの加熱温度は通常３０〜３
００℃、特に好ましくは５０〜２００℃である。加熱時
間は１〜３０分が好適であり、加熱温度は一定に保って
も良いが、段階的に上昇させても良い。乾燥後の膜厚と
して、通常０.１〜１０μｍ好ましくは１〜７μmであ
る。

【００５８】スペーサーを形成する際に使用される放射
線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ
線などを使用することができる。特に好ましくは、波長
が１９０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の放射線である。放射
線の照射エネルギーは、好ましくは１〜１０００ｍＪ／
ｃｍ²である。

【００５９】現像液としては、炭酸ナトリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機アルカリ類、お
よびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエ
チルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ類な
どの水溶液を挙げることができる。また、上記アルカリ
水溶液にメタノール、エタノール、界面活性剤などを適
当量添加して用いることもできる。

【００６０】現像方法は、ディッピング法、シャワー
法、スプレー法など何れを用いてもよく、現像時間は通
常３０〜２４０秒であり、現像後、流水でリンスし、乾
燥させることによりパターンを形成することができる。

【００６１】このようにして形成されるスペーサーはス
ポット（spot）状でも線状でも良い。さらに、該樹脂塗
膜中に従来から用いられてきたビーズを分散させ、固定
させて使用することもできる。また、感光性樹脂組成物
をガラス基板上に塗布し、同様にパターニングを行い基
板の周辺部のみ該組成物を残し、その上に別の基板を対
向するように液晶セルを組み立て、圧着し、焼成するこ
とにより該組成物をシール材として液晶素子に組み込む
ことができる。さらに、該樹脂塗膜上に配向処理を行う
膜を形成させてもよい。

【００６２】液晶表示素子は、上記のようにして形成さ
れた上下の素子基板の位置を合わせて圧着後、熱処理し
て組み合わせて後、液晶を注入し、注入口を封止するこ
とによって製作される。また、液晶素子基板上に液晶を
散布した後、基板を重ね合わせ、液晶が漏れないように
密封して液晶表示素子を製作してもよい。このようにし
て、本発明の感光性樹脂組成物で形成された優れた耐液
晶性を有するスペーサーを液晶表示素子中に存在させる
ことができる。

【００６３】本発明の液晶表示素子に用いられる液晶、
すなわち液晶化合物および液晶組成物としては、特に限
定するものではなく、いずれの液晶化合物および液晶組
成物を使用することができる。

【００６４】本発明の液晶表示素子に用いられる配向処
理された面および配向膜としては、液晶分子の配向を規
制するものであれば、特に限定されるものでなく、無機
物若しくは有機物どちらでもよい。一般的にはポリイミ
ド系、ポリアミド系の樹脂が多く用いられている。配向
膜としてより具体的には、次の一般式〔１２〕、〔１
３〕で表される構造単位を有する配向膜が好ましい。

【化６】 （式中、Ｇは２価の芳香族基または脂肪族基であり；Ｙ
は４価の芳香族基、脂肪族基、または４、５または６員
環構造を有する脂肪族基などの有機基を示す。）

【００６５】２価の有機基Ｇの具体例としては、つぎの
式（Ｇ１）〜（Ｇ１０）で示される基を挙げることがで
きる。

【化７】 （式中、Ｒ₈はＨまたは炭素数１〜１０のアルキル基を
示し；Ｒ₉は炭素数１〜１０のアルキレン基を示し；ｎ
は１〜３の整数を示し；ｍは１または２を示す。）

【００６６】４価の有機基Ｙの具体例としては式（Ｙ
１）〜（Ｙ１３）で示される基を挙げることができる。

【化８】 （式中、Ｒ₈はＨまたは炭素数１〜１０のアルキル基を
示し、ｎは０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示
す。）

【００６７】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。

【００６８】（アルカリ可溶性樹脂［Ａ］の調製）実施
例、比較例で用いるアルカリ可溶性樹脂［Ａ−１］〜
［Ａ−８］をつぎのように調製した。 アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）：撹拌機、冷却管、窒素
導入管および温度計を装着したセパラブルフラスコに、
不飽和カルボン酸モノマー（ａ−１）としてメタクリル
酸２０ｇ、その他のラジカル重合性化合物（ａ−３）と
してベンジルメタクリレート１３０ｇおよび２−ヒドロ
キシエチルアクリレート２０ｇ、式（１）のラジカル重
合性化合物（ａ−２）として５−テトラヒドロフルフリ
ルオキシカルボニルペンチルアクリレート｛日本化薬
(株)製“ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ”｝の３０ｇ、
重合開始剤として２,２′−アゾビスイソブチロニトリ
ルの１ｇ、連鎖移動剤としてチオグリコール酸３ｇ、溶
媒としてメタノール１６７ｇおよび酢酸エチル３３３ｇ
を仕込んだ。その後３０分間窒素でフラスコ内の空気を
除去し、フラスコを油浴で内温を６５℃に保って６時間
重合反応を行った。その後、重合液にシクロヘキサン
３,０００ｇを加え、ポリマーを析出させ、上澄みをデ
カンテーションで除いた後、４０℃で２０時間真空乾燥
してアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）１８０ｇを得た。得
られたれたアルカリ可溶性樹脂のポリエチレンオキシド
換算重量平均分子量は７,０００であった (表１参
照）。

【００６９】

【表１】

【００７０】アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）〜（Ａ−
８）：表１に示すようにモノマ−成分の割合を変えて
（Ａ−１）と同様にしてアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）
〜（Ａ−８）を得た。収量、得られた樹脂の分子量を表
１に示す。

【００７１】（アルカリ不溶性重合体［Ａ_IS］の調製）
実施例、比較例で用いるアルカリ不溶性重合体［Ａ_IS−
１］〜［Ａ_IS−４］をつぎのように調製した。 アルカリ不溶性重合体［Ａ_IS−１］ 撹拌機、冷却管、窒素導入管および温度計を装着したセ
パラブルフラスコに、エポキシ基を有するラジカル重合
性モノマーとしてグリシジルメタクリレート１６０ｇ、
その他のラジカル重合性化合物（ａ−５）としてメチル
メタクリレート４０ｇ、重合開始剤として２,２′−ア
ゾビスイソブチロニトリルの８ｇ、溶媒としてメチルエ
チルケトン８００ｇを仕込んだ。その後３０分間窒素で
フラスコ内の空気を除去し、フラスコを油浴で内温を８
０℃に保って６時間重合反応を行った。その後、重合液
にシクロヘキサン３,０００ｇを加え、ポリマーを析出
させ、上澄みをデカンテーションで除いた後、４０℃で
２０時間真空乾燥してアルカリ不溶性重合体（Ａ_IS−
１）を得た。得られたれたアルカリ可溶性樹脂のポリエ
チレンオキシド換算重量平均分子量は６,１００であっ
た (表２参照）。

【００７２】

【表２】

【００７３】アルカリ不溶性重合体［Ａ_IS−２］〜［Ａ
_IS−４］ 表２に示すようにモノマ−成分の割合を変えて（Ａ_IS−
１）と同様にしてアルカリ不溶性重合体を得た。得られ
た樹脂の分子量を表２に示す。

【００７４】以下に感光性樹脂組成物の調製、その性能
評価、それを用いたスペーサーと液晶表示素子の作製、
およびそれらの評価を行った結果を以下の実施例にて説
明する。

【００７５】（感応性樹脂組成物の調製） （実施例１）アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）１００重量
部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト２００重量部に混合し溶解させた後、得られた溶液に
さらに化合物［Ｂ］としてジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタア
クリレートの混合物｛東亞合成化学工業(株)製“アロニ
ックスＭ４００”｝１００重量部、光重合開始剤［Ｃ］
として３,３′,４,４′−テトラ（ｔ−ブチルペルオキ
シカルボニル）ベンゾフェノンの２５重量％トルエン溶
液｛日本油脂(株)製“ＢＴＴＢ２５”｝（固形分）１０
重量部、光増感剤［Ｄ］として４,４′−ビス（ジエチ
ルアミノ）ベンゾフェノン｛保土ヶ谷化学工業(株)製
“ＥＡＢ−Ｆ”｝の１重量部、およびその他の成分とし
てシリコン系界面活性剤｛ビックケミー・ジャパン(株)
製“Ｂｙｋ−３４４”｝０.３重量部を混合し、この混
合溶液の固形分濃度が３９重量％になるようにプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えた。
その後、均一な溶液が得られるまで攪拌し、孔径０.２
２μｍのメンブランフィルターで濾過して感光製樹脂組
成物の溶液を得た。

【００７６】（実施例２〜４６）表３〜５に記載された
各成分を所定量加える以外は、実施例１と同様に行い、
感光性樹脂組成物を得た。

【００７７】（比較例１）光重合開始剤［Ｃ］を２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）−ブタノン−１｛チバ・スペシャルティ・ケ
ミカルズ(株)製“Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９”｝３０重量
部とし、光増感剤［Ｄ］を用いない以外は実施例１と同
様にして溶液を調製した。

【００７８】（比較例２）重合開始剤［Ｃ］を２,４,６
−トリメチレルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキ
サイド｛ＢＡＳＦジャパン(株)製“Ｌｕｃｉｒｉｎ Ｔ
ＰＯ”｝３０重量部とし、光増感剤［Ｄ］を用いない以
外は実施例１と同様にして感光性樹脂組成物溶液を調製
した。

【００７９】（実施例４７）アルカリ可溶性樹脂（Ａ−
１）１００重量部と、アルカリ不溶性重合体（Ａ_IS−
１）１５重量部とプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート２５０重量部を混合し溶解させた後、化
合物［Ｂ］としてジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレー
トの混合物（東亞合成化学工業(株)製“アロニックスＭ
４００”）６０重量部と、光重合開始剤［Ｃ］としての
３,３′,４,４′−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカル
ボニル）ベンゾフェノンの２５重量％トルエン溶液（日
本油脂(株) 製“ＢＴＴＢ２５”）（固形分）６重量部
と、光増感剤［Ｄ］としての４,４′−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン（保土ヶ谷化学工業(株) 製
“ＥＡＢ−Ｆ”）３重量部と、その他の成分としてのシ
リコン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン(株)製
“Ｂｙｋ−３４４”）０.３重量部とを混合し、固形分
濃度が３９重量％になるようにプロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテートを加えた。その後、均一な
溶液が得られるまで攪拌し、孔径０.２２μｍのメンブ
ランフィルターで濾過して感光製樹脂組成物の溶液を得
た。

【００８０】（実施例４７〜８０）表６〜７に記載の各
成分を所定量加える以外は、実施例４７と同様に行い、
感光性樹脂組成物を得た。

【００８１】表３〜７における略称について以下に説明
する。 化合物［Ｂ］： Ｂ−１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートお
よびジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合
物（東亞合成化学工業(株)製“アロニックスＭ−４０
０”） Ｂ−２：トリメチロールプロパントリアクリレート（東
亞合成化学工業(株)製“アロニックスＭ−３０９”） Ｂ−３：ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亞
合成化学工業(株)製“アロニックスＭ−３０５”） Ｂ−４：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（東
亞合成化学工業(株)製“アロニックスＭ−４５０”） 光重合開始剤［Ｃ］： Ｃ−１：３,３′,４,４′−テトラ（ｔ−ブチルペルオ
キシカルボニル）ベンゾフェノンの２５重量％トルエン
溶液（日本油脂(株)製“ＢＴＴＢ２５”） Ｃ−２：３,４,４′−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカル
ボニル）ベンゾフェノンの２５重量％トルエン溶液 Ｃ−３：３,３′−ジ（メトキシカルボニル）−４,４′
−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ンの２０重量％トルエン溶液 Ｃ−４：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４
−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ(株)製“Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６
９”） Ｃ−５：２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルフ
ォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン(株)製“Ｌｕ
ｃｉｒｉｎ ＴＰＯ”） 光増感剤［Ｄ］： Ｄ−１：４,４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン（保土ヶ谷化学工業(株)製“ＥＡＢ−Ｆ”） Ｄ−２：４,４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノン その他の成分界面活性剤： Ｅ−１：シリコン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパ
ン(株)製“Ｂｙｋ−３４４”） その他の成分カップリング剤： Ｆ−１：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン（チッソ(株)製“サイラエースＳ７１０”）

【００８２】

【表３】

【００８３】

【表４】

【００８４】

【表５】

【００８５】

【表６】

【００８６】

【表７】

【００８７】上記、実施例で得られた感光性樹脂組成物
を用いて、塗膜、スペーサーを形成してその性能を評価
した。その方法と結果を以下にのべる。

【００８８】感光性樹脂組成物評価（スペーサーの形
成）： スペーサーの形成法（ａ） 実施例、比較例で得られた感光性樹脂組成物溶液を、ガ
ラス基板／またはＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス
基板上に所定量ディスペンスし（dispense）、９００ｒ
ｐｍで１５秒間スピンコートした後、ホットプレートで
９０℃、３分間プリベークして塗膜を形成させた。その
後、得られた塗膜を、ＰＬＡ−５０１Ｆマスクアライナ
ー｛キャノン(株)製｝を用い、１０μｍ×１０μｍの透
光部分により格子状パターン模様を形成するフォトマス
クを介して露光した。なお、露光は、空気雰囲気中、全
線（フィルターなし）で行い、露光量１００ｍＪ／ｃｍ
²の紫外線を照射した。露光量の測定には積算光量計Ｕ
ＩＴ−１０２（ウシオ(株)製）を用い、受光器は、ＵＶ
Ｄ−３６５ＰＤ（ウシオ(株)製）を用いた。次いで、
０.０５重量％水酸化カリウム水溶液を用いて、２３℃
で所定時間（３０sec〜１２０sec）現像（シャワー現
像、シャワー圧０.０４ＭＰａ）を行った後、純水で１
５秒間シャワーリンスし、乾燥した。更に、オーブンで
２００℃、３０分間加熱焼成することにより、基板上に
１０μｍ×１０μｍ柱状の感光性樹脂組成物の硬化膜に
より格子状パターン模様にパターンニングされた厚さ５
μｍのスペーサーを形成した。 スペーサーの形成法（ｂ） １０００ｒｐｍの回転速度でスピンコートとし、塗膜厚
みを４.８μｍに代える以外は形成法（ａ）と同様に行
った。 スペーサーの形成法（ｃ） 露光量を２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線照射に代える以外
は形成法（ａ）と同様に行った。

【００８９】上記のようにして得られたスペーサー（塗
膜）についてつぎのような物性を測定した。 ・感度：上記のようにして得られたスペーサーにおい
て、４０sec現像後の残膜率（(現像後の膜厚／プリベー
ク後の膜厚)×100）および得られた塗膜の残膜率を測定
し、つぎの基準で判定した。 ○ … 残膜率が９０％以上。 × … 残膜率が９０％未満 ・現像性：上記のようにしてスペーサーを形成した場合
（走査型電子顕微鏡を用い 10000倍で観察した）、現像
後の未露光部に膜がなくなる時間すなわち現像時間を次
の基準で評価した。 ◎ … 現像時間 ＜４０sec ○ … 現像時間 ４０〜６０sec × … 現像時間 ＞６０sec

【００９０】・耐アルカリ性：上記のようにして得られ
た４cm×４cmのバルクパターン付きガラス基板を、５重
量％水酸化ナトリウム水溶液に６０℃で１０分間浸漬処
理をした後、碁盤目テープ法（JIS K5400、8.5.2項、ク
ロスカットガイド（cross cut guide)１mm square×100
個を使用）による密着性試験を施し、さらに、浸漬処理
前後の膜厚の変化率、および４００倍の光学顕微鏡で塗
膜表面の変化を観察し、つぎの基準で判定した。 ○ … 碁盤目テープ法で剥離がなく、膜厚の変化率が５
％未満、かつ処理前後で塗膜表面に変化がない × … 上記以外の場合 ・耐水性：上記のようにして得られた４cm×４cmのバル
クパターン付きガラス基板に、超純水に８０℃で１時間
浸漬処理、および、超純水に６０℃で１時間超音波洗浄
を併用した浸漬処理、を別々に施した後、碁盤目テープ
法（JIS K5400、8.5.2項、クロスカットガイド１mm squ
are×100個を使用）による密着性テストを施し、さら
に、処理前後の膜厚の変化率、および４００倍の光学顕
微鏡で塗膜表面の変化を観察し、つぎの基準で判定し
た。 ○ … いずれの処理においても、碁盤目テープ法で剥離
がなく、膜厚の変化率が５％未満、かつ処理前後で塗膜
表面に変化がない × … それ以外の場合

【００９１】・耐熱性：基板に形成されたスペーサーを
２４０℃で１時間再加熱した後、再加熱後の残膜率
（（再加熱後の膜厚／ポストベーク後の膜厚）×１０
０）を測定し、次の基準で判定した。 ○ … 再加熱後の残膜率が９５％以上 × … 再加熱後の残膜率が９５％未満 ・耐溶剤性：基板に形成されたスペーサーを、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドンに２５℃で１時間浸漬処理を施した
後、処理前後の膜厚の変化率、および４００倍の光学顕
微鏡で塗膜表面の変化を観察し、次の基準で判定した。 ○ … 膜厚の変化率が５％未満、かつ処理前後で塗膜表
面に変化がない × … 膜厚の変化率が５％以上 結果を表８〜表１４に示す。

【００９２】

【表８】

【００９３】

【表９】

【００９４】

【表１０】

【００９５】

【表１１】

【００９６】

【表１２】

【００９７】

【表１３】

【００９８】

【表１４】

【００９９】つぎに、本発明の感光性樹脂組成物を用い
て液晶素子用スペーサーを作製し、さらに該スペーサー
を具備する本発明の液晶表示素子を作製した。その実施
例について以下に述べる。

【０１００】液晶表示素子の形成 （実施例２０１）ＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス
基板上に、前述のスペーサー形成法（ａ）、すなわち、
スピンコート、プリベーク、露光、現像、ポストベーク
工程、を経て、１０μｍ×１０μｍであるスペーサーパ
ターンを格子状に縦１００μｍ間隔、横５０μｍ間隔で
スペーサー付基板を形成した。つぎに、液晶配向剤（チ
ッソ(株)製“ＬＩＸＯＮアライナーＰＩＡ−５００
４”）を、上記スペーサー形成基板に塗布した後、７０
℃、１０分間ホットプレート上で乾燥、さらにオーブン
中２００℃で６０分間加熱処理を行い、膜厚０.０６μ
ｍの配向膜をスペーサ付基板上に形成した。この配向膜
を、ナイロン製の布を巻き付けたロールを有するラビン
グ装置により、ロールの回転数１０００ｒｐｍ、ステー
ジの送り速度５９ｍｍ／秒でラビング処理を行った。

【０１０１】さらに、上記の配向処理された配向膜面を
もつスペーサー付き基板の外縁に、ガラスファイバース
ペーサーを２％混合したエポキシ系シール剤を塗布した
後、一対の基板を液晶配向膜面が相対するように、しか
もラビング方向が直交するように重ね合わせて圧着し、
熱により硬化させた。ついでこの一対の基板間に液晶注
入口よりＴＦＴ用液晶（チッソ(株)製“ＦＢ０１”）を
封入した後、光硬化性樹脂で注入口を封止した。その
後、１１０℃で３０分間アイソトロピック処理を行い、
室温まで徐冷して液晶表示素子を得た。

【０１０２】このようにして得られた液晶表示素子につ
いて、耐ラビング性、液晶配向性、電圧保持率、および
残留ＤＣについて下記の方法で評価した。 ・耐ラビング性：ＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス
基板上に、上記のようにして１０μｍ×１０μｍのスペ
ーサーパターンを格子状に縦１００μｍ間隔、横５０μ
ｍ間隔で形成した。つぎに、液晶配向剤（チッソ(株)製
“ＬＩＸＯＮアライナーＰＩＡ−５００４”）を、上記
スペーサー形成基板に塗布した後、７０℃、１０分間ホ
ットプレート上で乾燥、さらにオーブン中２００℃で６
０分間加熱処理を行い、膜厚０.０６μｍの配向膜をス
ペーサ上に形成した基板を得た。この配向膜面に、ナイ
ロン製の布を巻き付けたロールを有するラビング装置に
より、ロールの回転数１０００ｒｐｍ、ステージの移動
速度５９mm／秒でラビング処理を行った時の状態をつぎ
の基準で判定した。 ○ … スペーサーに削れや、剥がれがなかった × … それ以外の場合

【０１０３】・液晶配向性：配向性の確認は偏光板を用
いて行い、次の基準で判定した。 ○ … 良好な配向性を有する × … 配向不良である ・電圧保持率：測定は、ゲートパルス幅６９μｓ、周波
数６０Ｈｚ、波高±４.５Ｖの矩形波をソースに印加す
ることにより変化するドレインをオシロスコープより読
み取ることにより行った。これを４回行い、平均値を用
い、全く電圧が減少しなかった場合を１００％として相
対値を電圧保持率とした。なお、測定は６０℃で行っ
た。 ・残留ＤＣ：測定は、Ｃ−Ｖカーブ法を用いて行った。
Ｃ−Ｖカーブ法は液晶素子に２５ｍＶ、１ＫＨｚの交流
を印加し、さらに周波数０.００３６Ｈｚの直流の三角
波を重たんさせ、電圧を−１０〜１０Ｖの範囲で掃引す
ることにより変化する容量Ｃを記録する方法である。な
お、測定は６０℃で行った。各特性の測定および判定結
果を表１５に示す。

【０１０４】（実施例２０２〜２３６）および（実施例
３０１〜３３４） つぎに示す表１５〜表１７に示したように、実施例２〜
３６で得られた感光性樹脂組成物または実施例４７〜８
０で得られた感光性樹脂組成物と液晶組成物との組み合
わせにより、実施例２０１と同様にして液晶表示素子を
作製し、得られた結果を表１５〜表１７に示す。

【０１０５】

【表１５】

【０１０６】

【表１６】

【０１０７】

【表１７】

【０１０８】上記実施例の液晶表示素子に用いた液晶組
成物の組成をつぎに示す。また、それらの物性値を表１
８に示す。

【０１０９】組成物（ＬＡ）

【化９】

【０１１０】液晶組成物（ＬＢ）

【化１０】

【０１１１】液晶組成物（ＬＣ）

【化１１】

【０１１２】液晶組成物（ＬＤ）

【化１２】

【０１１３】液晶組成物（ＬＥ）

【化１３】

【０１１４】液晶組成物（ＦＢ０１）

【化１４】

【０１１５】

【表１８】

【０１１６】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は、耐溶剤
性、耐熱性およびラビング耐性に優れ、液晶配向不良を
生じさせず、電圧保持率、残留ＤＣを低下させないとい
った特性を兼備しているだけでなく、高感度で、現像残
渣（スカム）がなく現像性に優れ、かつ溶剤性を備えた
液晶表示用スペーサーを形成する。また、本発明の感光
性樹脂組成物を材料として形成されるスペーサーを具備
する本発明の液晶表示素子は、ラビング耐性に優れ、液
晶の残像現象、電圧保持率などの電気特性に影響を与え
ず、さらに開口率、コントラストに優れ、機械的強度が
高く液晶層の層厚が均一である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ 7/031 7/031 7/038 ５０３ 7/038 ５０３ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AA04 AA08 AB17 AC01 AD01 BC14 BC32 BC42 BD23 CA03 CA27 CB13 CB14 CB43 CB52 FA03 FA17 FA29 4J011 PA69 PA70 PB40 PC02 QA03 QA12 QA17 RA03 RA04 RA15 SA21 SA25 SA26 SA28 SA29 UA01 VA01 VA02 WA01 4J026 AA43 AA45 AA53 AC18 BA28 BB01 BB03 BB04 DB05 DB06 DB13 DB36 FA02 FA05 GA06 GA07

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルカリ可溶性樹脂［Ａ］、エチレン性
   不飽和結合を有する化合物［Ｂ］、ベンゾフェノン構造
   を有する有機過酸化物光重合開始剤［Ｃ］および４,
   ４′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン構造を
   有する光増感剤［Ｄ］を含有することを特徴とする感光
   性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 アルカリ可溶性樹脂［Ａ］が、不飽和カ
   ルボン酸モノマー（ａ−１）とその他のラジカル重合性
   モノマーとの共重合体である請求項１に記載された感光
   性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 その他のラジカル重合性モノマーが、一
   般式（１） 【化１】 （ここで、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を示し；Ｒ₂は
   水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を示し；ｎは０〜
   ５の整数である）で表されるラジカル重合性モノマー
   （ａ−２）、または該モノマー（ａ−２）とラジカル重
   合性モノマー（ａ−３）［（ａ−１）と（ａ−２）以外
   のラジカル重合性モノマー］である請求項２に記載され
   た感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 一般式（１）において、ｎが１若しくは
   ２である請求項３に記載された感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 一般式（１）において、Ｒ₁およびＲ₂が
   水素原子である請求項３若しくは４に記載された感光性
   樹脂組成物。
6. 【請求項６】 その他のラジカル重合性モノマーが、前
   記（ａ−３）である請求項２に記載された感光性樹脂組
   成物。
7. 【請求項７】 ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化
   物光重合開始剤[Ｃ]が一般式（２） 【化２】 （Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆はそれぞれ独立に炭素数１〜
   １３のアルキル基、Ｘ₁およびＸ₂はそれぞれ独立に−Ｏ
   −、−Ｏ−Ｏ−若しくは−ＮＨ−である）で表される化
   合物である請求項１〜６のいずれか一項に記載された感
   光性樹脂組成物。
8. 【請求項８】 一般式（２）においてＸ₁およびＸ₂が共
   に−Ｏ−である請求項７に記載された感光性樹脂組成
   物。
9. 【請求項９】 前記化合物[Ｂ]がエチレン性不飽和結合
   を３〜６個有する化合物である請求項１〜８のいずれか
   一項に記載された感光性樹脂組成物。
10. 【請求項１０】 前記化合物［Ｂ］のエチレン性不飽和
    結合がアクリロイル基若しくはメタクリロイル基である
    請求項１〜９いずれか一項に記載された感光性樹脂組成
    物。
11. 【請求項１１】 更に、エポキシ基を有するアルカリ不
    溶性ビニル重合体［Ａ_IS］が添加された請求項１〜１０
    に記載された感光性樹脂組成物。
12. 【請求項１２】 エポキシ基を有するアルカリ不溶性ビ
    ニル重合体［Ａ_IS］がエポキシ基を有するラジカル重合
    性モノマー（ａ−４）の重合体若しくは共重合体または
    前記モノマーとその他のラジカル重合性モノマー（ａ−
    ５）との共重合体である請求項１１に記載された感光性
    樹脂組成物。
13. 【請求項１３】 請求項１〜１２のいずれか一項に記載
    された感光性樹脂組成物を用いて形成された塗膜。
14. 【請求項１４】 請求項１〜１２のいずれか一項に記載
    された感光性樹脂組成物を用いて形成された液晶表示素
    子用スペーサー。
15. 【請求項１５】 感光性樹脂組成物をフォトリソグラフ
    ィーによってパターニングした後、熱硬化することによ
    り形成された請求項１４に記載された液晶表示素子用ス
    ペーサー。
16. 【請求項１６】 請求項１４若しくは１５に記載された
    スペーサーを具備する液晶表示素子。