JP2001319902A

JP2001319902A - ウェーハの研磨装置

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Publication number: JP2001319902A
Application number: JP2000136073A
Authority: JP
Inventors: Susumu Onishi; 大西　　進
Original assignee: Fujikoshi Machinery Corp
Current assignee: Fujikoshi Machinery Corp
Priority date: 2000-05-09
Filing date: 2000-05-09
Publication date: 2001-11-16
Anticipated expiration: 2020-05-09
Also published as: JP4642183B2

Abstract

(57)【要約】【課題】保持ヘッド２０の保持面２２を、その面形状
を損なうことなく、より綿密に洗浄できる共に、洗浄液
の飛散を防止して好適に洗浄できること。【解決手段】保持ヘッド２０と、保持面２２を洗浄す
る洗浄装置３０と、研磨面１６を有する研磨定盤１５と
を備え、ウェーハ１０の被研磨面１１と研磨面１６とを
所定の圧力で接触させると共に相対的に運動させ、被研
磨面１１を研磨するウェーハの研磨装置において、洗浄
装置３０は、洗浄液を高圧で噴射して前記保持面２２を
洗浄する高圧噴射ノズル３２と、高圧噴射ノズル３２が
内部３５ａに配設され、保持ヘッド２０が相対的に移動
されて内部３５ａに進入された際には、高圧噴射ノズル
３２から吐出された洗浄液が飛散しないように、少なく
とも保持ヘッド２０の側方を囲うように設けられた洗浄
液回収槽３５とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハの研磨装
置に関し、さらに詳細にはウェーハを保持する保持ヘッ
ドと、該保持ヘッドのウェーハの保持面を洗浄する洗浄
装置と、ウェーハを研磨する研磨面を有する研磨定盤と
を備え、前記保持ヘッドと前記研磨定盤とを作動させる
ことで、前記ウェーハの被研磨面と前記研磨面とを所定
の圧力で接触させると共に相対的に運動させ、前記被研
磨面を研磨するウェーハの研磨装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】高精度な研磨が求められるウェーハの代
表例に、半導体装置用のシリコンウェーハがある。この
シリコンウェーハの研磨には、シリコンウェーハ自体を
製造するためのものと、そのウェーハ表面にデバイスを
形成する過程での堆積形成された層間絶縁膜や金属配線
等を平坦に研磨するものが含まれる。このシリコンウェ
ーハにかかる研磨の分野では、半導体装置における急速
な高集積化の進展に伴い、研磨精度の要求が益々高くな
ってきている。

【０００３】この半導体装置用のシリコンウェーハ（以
下、単に「ウェーハ」と記す）の研磨は、ウェーハを一
枚ごとに研磨する場合、一般的に、研磨定盤とウェーハ
が保持面に張り付けられた保持ヘッドとを相対的に運動
させ、研磨定盤の研磨面にウェーハの被研磨面を磨り合
わせて行われている。そして、被研磨面を均一に研磨す
るため、具体例としては、一般的に次に説明する方法が
とられている。先ず、研磨定盤と保持ヘッドとの相対的
な運動は、研磨定盤を自転させると共に保持ヘッドを自
転させること、さらには相対的に揺動させることによっ
ている。また、ウェーハの被研磨面を研磨定盤の研磨面
へ均等に押圧するためには、例えば、エアバック方式に
よる加圧方法が採用されている。さらに、ウェーハの直
径に比べて研磨定盤の直径を大きく設定しておき、その
研磨定盤の半径部分にウェーハを位置させて研磨してい
る。また、この研磨工程では研磨剤（研磨加工液）を用
いる。この研磨剤は、微細な砥粒、及びウェーハを適度
に侵蝕し得る薬液を含み、両者の作用によってウェーハ
の被研磨面を高精度に研磨することができる。

【０００４】また、保持ヘッドの保持面にウェーハを張
り付ける方法としては、保持面に複数の微細な通気孔を
設けて保持面とウェーハとの間の空気を吸引する真空吸
着や、水張り等の方法がとられている。そして、水張り
のためには、一般的に、バッキング材が、セラミックス
のような高硬度・高剛性の材質で形成された保持盤に貼
り付けられて保持面を形成するように用いられる。バッ
キング材は、保持面となる表面が、水の表面張力を好適
に利用できる張付け面となるように、湿式発泡ウレタン
等から成り、薄手のシート状に形成されている。また、
このように水の表面張力によりウェーハを保持面に張り
付ける場合は、周囲にガイドリングを配置してウェーハ
のズレを防いでいる。

【０００５】そして、保持ヘッドの保持面に張り付けら
れるウェーハの張付け面、及びバッキング材等の表面で
ある保持面は、ウェーハの張り付け時に粉塵等が付着し
ていないように、綿密に洗浄されることが必要になって
いる。この洗浄が不充分であると、例えば、ウェーハと
保持面との間に砥粒が挟まれた場合、その部分に対応す
るウェーハの被研磨面に、研磨の際により高い押圧力が
作用することになり、他の部分よりも過度に研磨されて
しまう。また、研磨剤の化学成分（薬液）が残留して、
研磨中にウェーハの張付け面を侵蝕すると、その部分に
対応するウェーハの被研磨面が、適正に押圧されず、好
適に研磨できないことがある。

【０００６】これに対して、従来の保持面の洗浄方法
は、通常、洗浄液としての純水を噴出させて保持面に接
触させると共に、ナイロン製のブラシを保持面に押し当
て相対的に回転させて洗浄するというものであった。ま
た、ブラッシングの後、さらに洗い流すため、ブラシに
よる接触をやめて純水によるシャワー洗浄を行うという
方法もとられていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、通常、
ナイロン製のブラシによって洗浄を行う場合、そのブラ
シを保持面に押し当てる強さによって、強いと、その保
持面の磨耗が大きく、保持面（バッキング材）の寿命が
短くなってしまう。反対に、ソフトタッチにすると、磨
耗は小さいが、洗浄効果が低下してしまうという課題が
あった。特に、バッキング材の表面である保持面には、
粉塵が付き易く、また、研磨用の薬液が残留し易く、よ
り綿密な洗浄が要求されている。

【０００８】これに対しては、研磨定盤の研磨面を洗浄
する方法のように、高圧の洗浄液をブラシに囲まれた洗
浄ノズルから噴射して洗い流すことが考えられる。この
場合は、ブラシと保持面とが接触することでブラッシン
グ効果と、洗浄液の飛散防止効果を得ており、そのブラ
シの接触圧は小さくてもよい。このため、保持面が磨耗
するおそれは小さい。しかしながら、ブラシと保持面が
接触するということは、その接触による発塵の問題があ
り、さらなる洗浄効果の向上が困難であるという課題が
あった。

【０００９】そこで、本発明の目的は、保持ヘッドの保
持面を、その面形状を損なうことなく、より綿密に洗浄
できる共に、洗浄液の飛散を防止して好適に洗浄できる
ウェーハの研磨装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、本発明にか
かるウェーハの研磨装置は、ウェーハを保持する保持ヘ
ッドと、該保持ヘッドのウェーハを保持する保持面を洗
浄する洗浄装置と、前記保持ヘッドに保持されたウェー
ハを研磨する研磨面を有する研磨定盤とを備え、前記保
持ヘッドと前記研磨定盤とを作動させることで、前記ウ
ェーハの被研磨面と前記研磨面とを所定の圧力で接触さ
せると共に相対的に運動させ、前記被研磨面を研磨する
ウェーハの研磨装置において、前記洗浄装置は、洗浄液
を高圧で噴射して前記保持面を洗浄する高圧噴射ノズル
と、該高圧噴射ノズルが内部に配設され、前記保持ヘッ
ドが相対的に移動されて前記内部に進入された際には、
前記高圧噴射ノズルから吐出された洗浄液が飛散しない
ように、少なくとも該保持ヘッドの側方を囲うように設
けられた飛散防止用囲い部とを備えることを特徴とす
る。

【００１１】また、前記飛散防止用囲い部は、槽状に形
成され、前記高圧噴射ノズルから吐出された洗浄液を回
収する洗浄液回収槽であることで、使用済みの洗浄液を
好適に処理できる。

【００１２】また、前記飛散防止用囲い部の内周壁に
は、洗浄液が飛散しないように、該飛散防止用囲い部の
内部に進入された前記保持ヘッドの外周側面と前記飛散
防止囲い部の内周壁との間隙を閉塞するブラシが配設さ
れていることで、しぶきを遮断する毛状層として作用し
て高圧噴射ノズルから噴射した洗浄液の飛散を好適に阻
止できる。

【００１３】また、前記高圧噴射ノズルが、洗浄液に高
周波振動を与える高周波ノズルであることで、より洗浄
効率を向上させることができる。

【００１４】また、前記保持面が、前記ウェーハを水の
表面張力によって張り付けるため、前記保持ヘッドに貼
り付けられた薄手のバッキング材によって形成されてい
る場合にも、好適に適用することができる。

【００１５】また、前記高圧噴射ノズルから噴射する洗
浄液の圧力が、０．２から１Ｍｐａの範囲であること
で、バッキング材の保持面を損なうことなく、その保持
面を効果的に洗浄することができる。

【００１６】また、前記保持ヘッドと前記飛散防止用囲
い部とを相対的に移動させる手段が、ウェーハの被研磨
面と研磨定盤の研磨面とを接離動させるように前記保持
ヘッドを前記研磨定盤に対して接離動させる接離動機構
と、前記保持ヘッドを前記研磨定盤の上と該研磨定盤の
外の間で往復動させる往復動機構とから成ることで、研
磨工程にかかる駆動機構を利用することができ、装置が
複雑化することを防止できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るウェーハの研
磨装置の好適な実施の形態について、添付図面に基づい
て詳細に説明する。図１は、本発明に係るウェーハの研
磨装置を説明する正面説明図である。また、図２は、図
１の実施例の保持面を洗浄する洗浄装置を説明する断面
図である。このウェーハの研磨装置は、シリコンウェー
ハ（以下、「ウェーハ」という）を研磨する装置の一実
施例であり、ウェーハ１０を保持する保持ヘッド２０
と、保持ヘッド２０のウェーハ１０を保持する保持面２
２を洗浄する洗浄装置３０と、保持ヘッド２０に保持さ
れたウェーハ１０を研磨する研磨面１６を有する研磨定
盤１５とを備え、ウェーハ１０の被研磨面１１と研磨面
１６とを、所定の圧力で接触させると共に相対的に運動
させることで、被研磨面１１を研磨するものである。

【００１８】洗浄装置３０は、高圧噴射ノズル３２と、
飛散防止用囲い部である洗浄液回収槽３５とを備える。
高圧噴射ノズル３２は、洗浄液を高圧で噴射して保持面
２２を洗浄する。半導体装置用のウェーハ１０の洗浄液
としては、高い清浄度が要求されるため、通常、純水が
用いられる。なお、洗浄液としては、洗浄力を向上させ
る所定の成分を有するものを用いることも可能である
し、より高精度を要求されない分野では、通常の水を用
いることも可能である。また、この高圧噴射ノズル３２
としては、高圧な流体の流れを発生させるノズルであれ
ばよく、従来の噴出水の吐出圧よりもやや高圧の０．２
Ｍｐａ、又はそれ以上の圧力によれば、好適な洗浄効果
を得ることができる。

【００１９】本実施例の洗浄液回収槽３５は、高圧噴射
ノズル３２が内部に配設された槽状に設けられている。
この槽状の形態は、保持ヘッド２０が相対的に移動され
て内部に進入された際には、高圧噴射ノズル３２から吐
出された洗浄液が飛散しないように、少なくとも保持ヘ
ッド２０の側方を囲うように設けられた飛散防止用囲い
部となるように形成されている。別言すれば、保持ヘッ
ド２０が相対的に移動されて槽内３５ａに進入された際
には、保持ヘッド２０を構成する保持盤２１自体と共に
保持面２２を内包して囲うように、筒状の側壁（内周壁
３８）が設けられている。なお、保持盤２１は、例えば
図３に示すように、ゴム板から成る弾性部材２１ａによ
って吊持された状態で、保持ヘッド２０のヘッド部材２
１ｂに保持されている。そして、保持盤２１、板状の弾
性部材２１ａ及びヘッド部材２１ｂによって画された空
間が、保持盤２１に保持されたウェーハ１０を、研磨面
１６へ押圧するエアバック機能を生じさせるための圧力
室２１ｃになっている。

【００２０】また、高圧噴射ノズル３２から吐出されて
保持面２２の洗浄を終えた洗浄液を回収できるように、
底部３６を備える。また、複数の高圧噴射ノズル３２
が、洗浄液回収槽３５の底面３６ａ上に上方を向いて固
定されている。別言すれば、保持面２２が進入してくる
方向へ対向させてノズルが向けられている。この洗浄液
回収槽３５によれば、高圧噴射ノズル３２から吐出され
た洗浄液を飛散しないように回収することができる。ま
た、保持面２２が、槽内３５ａに位置することで、その
保持面２２が乾燥することを防止できる。

【００２１】なお、３７は排出口であり、保持面２２を
洗浄した後の洗浄液を排出する管路３７ａの入口になっ
ている。また、本実施例の高圧噴射ノズル３２は、圧力
流体（圧力水）を広角に噴射するものであるため、複数
で保持面２２の少なくとも半径以上の範囲をカバーでき
るように固定されている。このように所定の範囲に圧力
水を噴射すると共に、保持面２２を後述する保持ヘッド
２０の回転機構２８で回転させることで、その保持面２
２の全面を洗浄できるようになっている。なお、本願発
明はこれに限定されるものではなく、高圧噴射ノズル３
２を可動式にして、保持面２２の全面について洗浄する
ようにしてもよい。

【００２２】また、洗浄液回収槽３５の内周壁３８に
は、洗浄液が飛散しないように、洗浄液回収槽３５の槽
内に進入された保持ヘッド２０の外周側面２３と洗浄液
回収槽３５の内周壁３８との間隙を閉塞するブラシ３９
が配設されている。本実施例のブラシ３９は、図２に示
すように、毛の先端を洗浄液回収槽３５の中心方向へ向
け、内周壁３８の上部の内周面に植毛されて設けられて
いる。このブラシ３９を平面的に見れば、保持ヘッド２
０の全周を囲うリング状になっている。また、このブラ
シ３９の毛の長さは、外周側面２３に適度に接触する程
度に設けられており、間隙を好適に閉塞できる。このブ
ラシ３９によれば、しぶきを遮断する毛状層として作用
して高圧噴射ノズル３２から高圧噴射した洗浄液の飛散
を好適に阻止できる。

【００２３】また、本実施例の洗浄液回収槽３５は、円
盤状のウェーハ１０（保持ヘッド２０）の形状に合わせ
て、円筒状の内周壁３８を有して上面が開放した容器状
に形成されている。そこで、洗浄液の飛散を防止するに
は、ブラシ３９を用いず、保持ヘッド２０の外径に対し
て、洗浄液回収槽３５の内径を極力小さく設定し、両者
の隙間を小さくしてもよい。なお、この場合は、洗浄液
回収槽３５内へ、保持ヘッド２０が干渉しないで進入す
るよう、より高い運動精度が要求されることになる。

【００２４】また、高圧噴射ノズル３２が、洗浄液に高
周波振動を与えることのできる高周波ノズル３３（図３
参照）であることで、より洗浄効果を向上させることが
できる。また、高周波のうち、特に周波数の高い超音波
振動を与えることのできる超音波ノズルであることで、
より好適な洗浄が可能になる。この超音波ノズル等の高
周波ノズル３３の場合は、図３に示すように、高圧液体
を供給する高圧流体発生装置４０に接続されていること
に加えて、高周波の振動を供給する高周波発生装置３４
にも接続されている。つまり、本実施例の高周波発生装
置３４では、図４に示すように、高周波ノズル３３のケ
ース３３ａ内に設けられた振動子ホーン３３ｂに接続さ
れている。これにより、高周波発生装置３４によって発
生した振動が振動子ホーン３３ｂに伝達され、噴射され
る洗浄液に、高周波が照射されて高周波振動が与えられ
る。

【００２５】また、本実施例の保持面２２は、ウェーハ
１０を水の表面張力によって張り付けるため、保持ヘッ
ド２０を構成する保持盤２１に貼り付けられた薄手のバ
ッキング材２４によって形成されている。すなわち、バ
ッキング材２４は、一方の面で、保持盤２１の平坦な表
面（本実施例では下面）に、接着剤によって接着されて
いる。そして、他方の面である保持面２２で、水の表面
張力によってウェーハ１０を保持する。このバッキング
材２４は、湿式発泡ウレタン等から成る。なお、２５は
ウェーハ１０のズレを防止するガイドリングである。

【００２６】また、高圧噴射ノズル３２から噴射する洗
浄液の圧力が、０．２から１Ｍｐａの範囲であること
で、バッキング材２４の保持面２２を損なうことなく、
その保持面２２を効果的に洗浄することができる。つま
り、保持面２２に、従来の噴出水よりもやや高圧の０．
２〜１Ｍｐａの純水を噴霧状にし、吹き付けることによ
り、その保持面２２に付着した粉塵及び、残留薬液を好
適に洗い落とすことができる。そして、前述したよう
に、超音波等の高周波ノズル３３による超音波等の高周
波振動水によれば、その洗浄効果を好適に高めることが
できる。

【００２７】以上の洗浄方法によれば、従来のナイロン
性等のブラシ洗浄に比べ、バッキング材の寿命が平均２
倍以上となることが確認されている。また、洗浄水が高
圧噴霧によって保持面２２へ噴射され、その洗浄水が洗
い流されるため、粉塵の再付着がない。このため、高い
洗浄効果が得られる。

【００２８】次に、保持ヘッド２０の移動機構等、各駆
動機構と、その各駆動装置と洗浄装置３０との関係につ
いて説明する。２６は接離動機構であり、保持ヘッド２
０を研磨定盤１５に対して接離させる。本実施例では上
下動させる。駆動装置としては、シリンダ装置や電動モ
ータを適宜用いればよい。この接離動機構２６によれ
ば、通常、定盤に研磨クロスが貼付されて設けられた研
磨定盤１５の研磨面１６に、ウェーハ１０の被研磨面１
１を好適に接触或いは近接させることができる。このよ
うに研磨面１６に対して被研磨面１１を位置させた後、
図示しない例えば高圧空気によるエアバック式の加圧手
段によって、研磨面１６に被研磨面１１を所定の圧力で
押圧する。

【００２９】２８は保持ヘッド２０の回転機構であり、
電動モータ等構成され、保持ヘッド２０を、研磨面１６
及び被研磨面１１に直交する方向（本実施例では上下方
向）に延びる軸心を中心に自転させる。この回転機構２
８は、ウェーハ１０の研磨工程で作動すると共に、保持
面２２の洗浄工程でも作動する。また、１８は研磨定盤
１５の回転機構であり、電動モータ等を駆動源として構
成され、研磨定盤１５を、研磨面１６及び被研磨面１１
に直交する方向（本実施例では上下方向）に延びる軸心
を中心に自転させる。

【００３０】２９は保持ヘッド２０の往復動機構であ
り、保持ヘッド２０を、研磨定盤１５の上の研磨位置
と、研磨定盤１５の外の洗浄位置との間で移動させる。
本実施例では水平動させる。この往復動機構２９として
は、回動軸を中心にする回動運動を行うものでもよい
し、直線運動を行うものでもよい。また、本実施例の往
復動機構２９は、ウェーハ１０の供給と排出のためにも
用いられるもので、その機能と洗浄装置３０にウェーハ
１０を供給する機能とを兼用するものである。つまり、
往復動機構２９は、通常、図示しないウェーハ供給ステ
ーション、及びウェーハ排出ステーション等の所定の位
置にも、保持ヘッド２０を移動できるように設けられ
る。

【００３１】以上のように接離動機構２６、回転機構２
８、及び往復動機構２９は、ウェーハ１０の研磨工程、
及び搬送工程に利用されるものであるが、それらの機構
を保持面２２の洗浄工程に好適に利用することができ
る。従って、保持面２２を、洗浄液回収槽３５の槽内３
５ａに進退動させる機構を特別に設ける必要がなく、各
駆動機構を共用でき、装置が複雑化することを防止でき
る。

【００３２】なお、以上の接離動機構２６及び往復動機
構２９においては、保持ヘッド２０を移動させるもので
あるが、これに限定されるものではない。すなわち、保
持ヘッド２０と洗浄装置３０とを相対的に移動させるこ
とで、保持面２２を洗浄液回収槽３５の槽内３５ａに位
置させるようにすればよい。従って、場合によっては、
洗浄液回収槽３５を移動させる駆動機構を設けることも
可能である。

【００３３】以上に説明した洗浄装置３０によれば、保
持面２２の洗浄を行うことを主に説明したが、同一の装
置によって、ウェーハ１０の被研磨面１１を好適に洗浄
することも可能である。また、以上に説明したウェーハ
の研磨装置によれば、シリコンウェーハの他にウェーハ
状のワーク（例えばガラス薄板材、水晶等の硬脆性薄板
材の表面）を研磨する装置としても好適に利用できるの
は勿論である。以上、本発明の好適な実施例について種
々述べてきたが、本発明はこの実施例に限定されるもの
ではなく、発明の精神を逸脱しない範囲内でさらに多く
の改変を施し得るのは勿論のことである。

【００３４】

【発明の効果】本発明にかかるウェーハの研磨装置によ
れば、洗浄液を高圧で噴射して保持ヘッドの保持面を洗
浄する高圧噴射ノズルと、その高圧噴射ノズルから吐出
された洗浄液が飛散しないように設けられた飛散防止用
囲い部とを備える。このため、保持ヘッドの保持面を、
その面形状を損なうことなく、より綿密に洗浄できると
共に、洗浄液の飛散を防止して好適に洗浄できるという
著効を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るウェーハの研磨装置の一実施例を
説明する正面図である。

【図２】図１の実施例の洗浄装置を説明する断面図であ
る。

【図３】洗浄装置の他の実施例を説明する説明図であ
る。

【図４】高周波ノズルを説明する断面図である。

【符号の説明】

１０ウェーハ１１被研磨面１５研磨定盤１６研磨面２０保持ヘッド２１保持盤２２保持面２４バッキング材２６接離動機構２９往復動機構３０洗浄装置３２高圧噴射ノズル３３高周波ノズル３５洗浄液回収槽３５ａ槽内３９ブラシ

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ２４Ｂ 37/00 Ｂ２４Ｂ 37/00 Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウェーハを保持する保持ヘッドと、該保
持ヘッドのウェーハを保持する保持面を洗浄する洗浄装
置と、前記保持ヘッドに保持されたウェーハを研磨する
研磨面を有する研磨定盤とを備え、前記保持ヘッドと前
記研磨定盤とを作動させることで、前記ウェーハの被研
磨面と前記研磨面とを所定の圧力で接触させると共に相
対的に運動させ、前記被研磨面を研磨するウェーハの研
磨装置において、前記洗浄装置は、洗浄液を高圧で噴射して前記保持面を洗浄する高圧噴射
ノズルと、該高圧噴射ノズルが内部に配設され、前記保持ヘッドが
相対的に移動されて前記内部に進入された際には、前記
高圧噴射ノズルから吐出された洗浄液が飛散しないよう
に、少なくとも該保持ヘッドの側方を囲うように設けら
れた飛散防止用囲い部とを備えることを特徴とするウェ
ーハの研磨装置。
【請求項２】前記飛散防止用囲い部は、槽状に形成さ
れ、前記高圧噴射ノズルから吐出された洗浄液を回収す
る洗浄液回収槽であることを特徴とする請求項１記載ウ
ェーハの研磨装置。
【請求項３】前記飛散防止用囲い部の内周壁には、洗
浄液が飛散しないように、該飛散防止用囲い部の内部に
進入された前記保持ヘッドの外周側面と前記飛散防止囲
い部の内周壁との間隙を閉塞するブラシが配設されてい
ることを特徴とする請求項１又は２記載のウェーハの研
磨装置。
【請求項４】前記高圧噴射ノズルが、洗浄液に高周波
振動を与える高周波ノズルであることを特徴とする請求
項１、２又は３記載のウェーハの研磨装置。
【請求項５】前記保持面が、前記ウェーハを水の表面
張力によって張り付けるため、前記保持ヘッドに貼り付
けられた薄手のバッキング材によって形成されているこ
とを特徴とする請求項１、２、３又は４記載のウェーハ
の研磨装置。
【請求項６】前記高圧噴射ノズルから噴射する洗浄液
の圧力が、０．２から１Ｍｐａの範囲であることを特徴
とする請求項５記載のウェーハの研磨装置。
【請求項７】前記保持ヘッドと前記飛散防止用囲い部
とを相対的に移動させる手段が、ウェーハの被研磨面と
研磨定盤の研磨面とを接離動させるように前記保持ヘッ
ドを前記研磨定盤に対して接離動させる接離動機構と、
前記保持ヘッドを前記研磨定盤の上と該研磨定盤の外の
間で往復動させる往復動機構とから成ることを特徴とす
る請求項１、２、３、４、５又は６記載のウェーハの研
磨装置。