JP2001316620A - 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 - Google Patents
膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐熱性、電気絶縁性（比誘電率３以下）、ク
ラック耐性、ＣＭＰ耐性に優れた硬化膜が得られ、絶縁
膜形成用材料として有用な膜形成用組成物を得る。 【解決手段】 （Ｉ）（Ａ）加水分解性オルガノシリル
基を有する、ポリアミック酸およびポリイミドもしくは
いずれか一方の存在下で、（Ｂ）シラン化合物を、加水
分解し、縮合して得られる、ポリオルガノシロキサン／
ポリイミドのハイブリッド体と、（II）（Ｂ）上記シラ
ン化合物の、加水分解物および縮合物もしくはいずれか
一方、とを混合してなる膜形成用組成物。
ラック耐性、ＣＭＰ耐性に優れた硬化膜が得られ、絶縁
膜形成用材料として有用な膜形成用組成物を得る。 【解決手段】 （Ｉ）（Ａ）加水分解性オルガノシリル
基を有する、ポリアミック酸およびポリイミドもしくは
いずれか一方の存在下で、（Ｂ）シラン化合物を、加水
分解し、縮合して得られる、ポリオルガノシロキサン／
ポリイミドのハイブリッド体と、（II）（Ｂ）上記シラ
ン化合物の、加水分解物および縮合物もしくはいずれか
一方、とを混合してなる膜形成用組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加水分解性オルガ
ノシリル基を有する、ポリアミック酸およびポリイミド
もしくはいずれか一方の存在下で、加水分解性オルガノ
シラン化合物を加水分解・縮合して得られるポリオルガ
ノシロキサン／ポリイミド系のハイブリッド体（複合
体）と、加水分解性オルガノシラン化合物の加水分解物
および／またはその縮合物とを含有し、耐熱性、電気絶
縁性（比誘電率３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐性に
優れた塗膜が形成可能な膜形成用組成物および絶縁膜形
成用材料に関する。
ノシリル基を有する、ポリアミック酸およびポリイミド
もしくはいずれか一方の存在下で、加水分解性オルガノ
シラン化合物を加水分解・縮合して得られるポリオルガ
ノシロキサン／ポリイミド系のハイブリッド体（複合
体）と、加水分解性オルガノシラン化合物の加水分解物
および／またはその縮合物とを含有し、耐熱性、電気絶
縁性（比誘電率３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐性に
優れた塗膜が形成可能な膜形成用組成物および絶縁膜形
成用材料に関する。
【０００２】加水分解性オルガノシラン化合物であるア
ルコキシシラン化合物は、加水分解およびそれに続く脱
水縮合反応によってポリシロキサン樹脂を形成すること
はよく知られている。このポリシロキサン樹脂は、熱硬
化性を有し、その硬化物が耐熱性、電気絶縁性に優れて
いるものの、アルコキシシラン化合物を出発原料とした
場合、硬化時の体積収縮が大きいため、硬化物にクラッ
クが発生しやすいという問題がある。そこで、アルコキ
シシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮
合物にアクリル樹脂などを配合して、硬化時のクラック
発生を防止しようとする試みが検討されており、例え
ば、オルガノシランの部分縮合物、コロイダルシリカの
分散液およびシリコーン変性アクリル樹脂からなる組成
物（例えば、特開昭６０−１３５４６５号公報参照）、
オルガノシランの縮合物、ジルコニウムアルコキシドの
キレート化合物および加水分解性シリル基含有ビニル系
樹脂からなる組成物（例えば、特開昭６４−１７６９号
公報参照）のほか、オルガノシランの部分縮合物、加水
分解性シリル基含有ビニル系樹脂、金属キレート化合物
ならびにβ−ジケトン類および／またはβ−ケトエステ
ル類からなる組成物（例えば、特開平４−５８８２４公
報参照）などが提案されている。しかしながら、これら
の組成物から得られる硬化物は、いずれもポリシロキサ
ン樹脂本来の耐熱性が損なわれるという欠点がある。
ルコキシシラン化合物は、加水分解およびそれに続く脱
水縮合反応によってポリシロキサン樹脂を形成すること
はよく知られている。このポリシロキサン樹脂は、熱硬
化性を有し、その硬化物が耐熱性、電気絶縁性に優れて
いるものの、アルコキシシラン化合物を出発原料とした
場合、硬化時の体積収縮が大きいため、硬化物にクラッ
クが発生しやすいという問題がある。そこで、アルコキ
シシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮
合物にアクリル樹脂などを配合して、硬化時のクラック
発生を防止しようとする試みが検討されており、例え
ば、オルガノシランの部分縮合物、コロイダルシリカの
分散液およびシリコーン変性アクリル樹脂からなる組成
物（例えば、特開昭６０−１３５４６５号公報参照）、
オルガノシランの縮合物、ジルコニウムアルコキシドの
キレート化合物および加水分解性シリル基含有ビニル系
樹脂からなる組成物（例えば、特開昭６４−１７６９号
公報参照）のほか、オルガノシランの部分縮合物、加水
分解性シリル基含有ビニル系樹脂、金属キレート化合物
ならびにβ−ジケトン類および／またはβ−ケトエステ
ル類からなる組成物（例えば、特開平４−５８８２４公
報参照）などが提案されている。しかしながら、これら
の組成物から得られる硬化物は、いずれもポリシロキサ
ン樹脂本来の耐熱性が損なわれるという欠点がある。
【０００３】一方、一般にテトラカルボン酸二無水物と
ジアミン化合物とからポリアミック酸を経て得られるポ
リイミド樹脂は、液晶用配向膜、半導体用絶縁膜、保護
膜、接着剤などに使用されており、特に芳香族系ポリイ
ミド樹脂は、耐熱性に優れ、高強度であることから、こ
れらの特性が要求される用途に使用されている。しかし
ながら、ポリイミド樹脂は、ポリシロキサン樹脂と比べ
て、一般に電気絶縁性が低く、また耐湿性にも劣るた
め、ポリイミド樹脂をポリシロキサン樹脂で改質するこ
とが提案されている。例えば、特開昭５８−７４３７号
公報、特開昭５８−１３６３１号公報などには、ポリイ
ミド樹脂を構成するジアミン化合物として、 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2)3 −〔Ｓｉ（ＣＨ3)2]m −Ｓｉ（ＣＨ
3)2 −ＮＨ2 （ただし、ｍは１〜１００の整数）で表されるジメチル
シリコーンオリゴマーを用いる方法が提案されている
が、このような組成物は、耐熱性が低下する欠点があ
る。
ジアミン化合物とからポリアミック酸を経て得られるポ
リイミド樹脂は、液晶用配向膜、半導体用絶縁膜、保護
膜、接着剤などに使用されており、特に芳香族系ポリイ
ミド樹脂は、耐熱性に優れ、高強度であることから、こ
れらの特性が要求される用途に使用されている。しかし
ながら、ポリイミド樹脂は、ポリシロキサン樹脂と比べ
て、一般に電気絶縁性が低く、また耐湿性にも劣るた
め、ポリイミド樹脂をポリシロキサン樹脂で改質するこ
とが提案されている。例えば、特開昭５８−７４３７号
公報、特開昭５８−１３６３１号公報などには、ポリイ
ミド樹脂を構成するジアミン化合物として、 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2)3 −〔Ｓｉ（ＣＨ3)2]m −Ｓｉ（ＣＨ
3)2 −ＮＨ2 （ただし、ｍは１〜１００の整数）で表されるジメチル
シリコーンオリゴマーを用いる方法が提案されている
が、このような組成物は、耐熱性が低下する欠点があ
る。
【０００４】また、特開昭６３−９９２３６号公報、特
開昭６３−９９５３６号公報などには、アルコキシシラ
ンの加水分解・縮合物とポリアミド酸（すなわち、ポリ
アミック酸）溶液とを混合する方法が開示されている
が、これらの組成物は、塗膜中におけるポリイミド樹脂
へのポリシロキサン成分の分散性が悪く、塗膜の平滑性
が劣る欠点がある。さらに、特開平６−２０７０２４号
公報には、特定のシリル基を有するポリアミド酸溶液中
で、アルコキシシランを加水分解・縮合させて得られる
溶液が開示されているが、このような組成物は、ポリシ
ロキサン成分の含有量が多くなると、塗膜の耐熱性が低
下し、またポリアミド酸とアルコキシシランの加水分解
・縮合物との混合溶液の保存安定性にも劣るという欠点
がある。
開昭６３−９９５３６号公報などには、アルコキシシラ
ンの加水分解・縮合物とポリアミド酸（すなわち、ポリ
アミック酸）溶液とを混合する方法が開示されている
が、これらの組成物は、塗膜中におけるポリイミド樹脂
へのポリシロキサン成分の分散性が悪く、塗膜の平滑性
が劣る欠点がある。さらに、特開平６−２０７０２４号
公報には、特定のシリル基を有するポリアミド酸溶液中
で、アルコキシシランを加水分解・縮合させて得られる
溶液が開示されているが、このような組成物は、ポリシ
ロキサン成分の含有量が多くなると、塗膜の耐熱性が低
下し、またポリアミド酸とアルコキシシランの加水分解
・縮合物との混合溶液の保存安定性にも劣るという欠点
がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術に
おける上記問題点を背景になされたもので、耐熱性、電
気絶縁性（比誘電率３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐
性に優れた塗膜が形成可能な膜形成用組成物、および絶
縁膜形成材料を提供することにある。
おける上記問題点を背景になされたもので、耐熱性、電
気絶縁性（比誘電率３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐
性に優れた塗膜が形成可能な膜形成用組成物、および絶
縁膜形成材料を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ｉ）（Ａ）
加水分解性オルガノシリル基を有する、ポリアミック酸
およびポリイミドもしくはいずれか一方（以下「（Ａ）
成分」ともいう）の存在下で、（Ｂ）（Ｂ−１）下記一
般式（１）で表される化合物（以下「化合物（Ｂ−
１）」ともいう）、および Ｒ1 a Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-a ・・・・・（１） （Ｒ1 は水素原子、フッ素原子または１価の有機基を示
し、Ｒ2 は１価の有機基を示し、ａは０〜２の整数を表
す。） （Ｂ−２）下記一般式（２) で表される化合物（以下
「化合物（Ｂ−２）」と もいう） Ｒ3 b （Ｒ4 Ｏ）3-b Ｓｉ−（Ｒ7 ）d −Ｓｉ（ＯＲ5 ）3-c Ｒ6 c ・・・・・（２） （Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 は、同一でも異なってい
てもよく、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃ
は、同一でも異なっていてもよく、０〜２の数を示し、
Ｒ7 は酸素原子または−（ＣＨ2 ）n −で表される基を
示し、ｎは１〜６を、ｄは０または１を示す。）の群か
ら選ばれた少なくとも１種のシラン化合物（以下、化合
物（Ｂ−１）と化合物（Ｂ−２）を総称して「シラン化
合物」ともいう）を、加水分解し、縮合して得られる、
ポリオルガノシロキサン／ポリイミドのハイブリッド体
（以下「（Ｉ）成分」あるいは「（Ｉ）ハイブリッド
体」ともいう）と、（II）（Ｂ）上記（Ｂ−１）および
（Ｂ−２）の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化
合物の、加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方
（以下「（II）加水分解縮合物」あるいは「（II）成
分」ともいう）とを混合してなることを特徴とする、膜
形成用組成物に関する。本発明の組成物には、さらに
（Ｃ）ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアンハイドライドおよびポリ（メタ）アクリレ
ートの群から選ばれた少なくとも１種の有機ポリマーを
さらに含有させると、得られる膜はさらに電気絶縁性に
優れ、また低密度となる。また、上記（Ａ）成分は、
（Ａ）成分を構成するモノマー成分中のジアミンの一部
を３官能以上のアミン化合物を用いて分岐状構造を有す
るものを使用すると、塗膜の可撓性が向上し好ましい。
さらに、（Ｉ）成分や（II）成分は、好ましくは、
（Ｂ）成分を（Ｄ）酸触媒、塩基触媒または下記一般式
（３）で表される金属キレート化合物 Ｒ8 e Ｍ（ＯＲ9 ）f-e ・・・・・（３） （Ｒ8 はキレート剤、Ｍは金属原子、Ｒ9 は炭素数２〜
５のアルキル基または炭素数６〜２０のアリール基を示
し、ｆは金属Ｍの原子価、ｅは１〜ｆの整数を表す。）
からなる触媒の存在下に、加水分解および縮合もしくは
いずれか一方を行うことにより得られる。さらに、上記
（Ｉ）〜（II）成分中における、（Ａ）成分に対する
（Ｂ）成分の使用割合は、（Ｂ）成分１００重量部（完
全加水分解縮合物換算）に対し、（Ａ）成分が３〜５０
重量部（完全縮合物換算）である。さらに、（Ｉ）成分
に対する（II）成分の使用割合は、（Ｉ）成分１００重
量部（完全加水分解縮合物換算）に対し、（II）成分が
５〜５００重量部（完全加水分解縮合物換算）である。
さらに、（Ｃ）成分を使用する場合、（Ｉ）〜（II）成
分中の（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量に対する（Ｃ）成
分の使用割合は、（Ａ）成分（完全縮合物換算）と
（Ｂ）成分（完全加水分解縮合物換算）の総量１００重
量部に対し、（Ｃ）成分が５〜１００重量部である。次
に、本発明は、上記膜形成用組成物からなることを特徴
とする絶縁膜形成用材料に関する。
加水分解性オルガノシリル基を有する、ポリアミック酸
およびポリイミドもしくはいずれか一方（以下「（Ａ）
成分」ともいう）の存在下で、（Ｂ）（Ｂ−１）下記一
般式（１）で表される化合物（以下「化合物（Ｂ−
１）」ともいう）、および Ｒ1 a Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-a ・・・・・（１） （Ｒ1 は水素原子、フッ素原子または１価の有機基を示
し、Ｒ2 は１価の有機基を示し、ａは０〜２の整数を表
す。） （Ｂ−２）下記一般式（２) で表される化合物（以下
「化合物（Ｂ−２）」と もいう） Ｒ3 b （Ｒ4 Ｏ）3-b Ｓｉ−（Ｒ7 ）d −Ｓｉ（ＯＲ5 ）3-c Ｒ6 c ・・・・・（２） （Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 は、同一でも異なってい
てもよく、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃ
は、同一でも異なっていてもよく、０〜２の数を示し、
Ｒ7 は酸素原子または−（ＣＨ2 ）n −で表される基を
示し、ｎは１〜６を、ｄは０または１を示す。）の群か
ら選ばれた少なくとも１種のシラン化合物（以下、化合
物（Ｂ−１）と化合物（Ｂ−２）を総称して「シラン化
合物」ともいう）を、加水分解し、縮合して得られる、
ポリオルガノシロキサン／ポリイミドのハイブリッド体
（以下「（Ｉ）成分」あるいは「（Ｉ）ハイブリッド
体」ともいう）と、（II）（Ｂ）上記（Ｂ−１）および
（Ｂ−２）の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化
合物の、加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方
（以下「（II）加水分解縮合物」あるいは「（II）成
分」ともいう）とを混合してなることを特徴とする、膜
形成用組成物に関する。本発明の組成物には、さらに
（Ｃ）ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアンハイドライドおよびポリ（メタ）アクリレ
ートの群から選ばれた少なくとも１種の有機ポリマーを
さらに含有させると、得られる膜はさらに電気絶縁性に
優れ、また低密度となる。また、上記（Ａ）成分は、
（Ａ）成分を構成するモノマー成分中のジアミンの一部
を３官能以上のアミン化合物を用いて分岐状構造を有す
るものを使用すると、塗膜の可撓性が向上し好ましい。
さらに、（Ｉ）成分や（II）成分は、好ましくは、
（Ｂ）成分を（Ｄ）酸触媒、塩基触媒または下記一般式
（３）で表される金属キレート化合物 Ｒ8 e Ｍ（ＯＲ9 ）f-e ・・・・・（３） （Ｒ8 はキレート剤、Ｍは金属原子、Ｒ9 は炭素数２〜
５のアルキル基または炭素数６〜２０のアリール基を示
し、ｆは金属Ｍの原子価、ｅは１〜ｆの整数を表す。）
からなる触媒の存在下に、加水分解および縮合もしくは
いずれか一方を行うことにより得られる。さらに、上記
（Ｉ）〜（II）成分中における、（Ａ）成分に対する
（Ｂ）成分の使用割合は、（Ｂ）成分１００重量部（完
全加水分解縮合物換算）に対し、（Ａ）成分が３〜５０
重量部（完全縮合物換算）である。さらに、（Ｉ）成分
に対する（II）成分の使用割合は、（Ｉ）成分１００重
量部（完全加水分解縮合物換算）に対し、（II）成分が
５〜５００重量部（完全加水分解縮合物換算）である。
さらに、（Ｃ）成分を使用する場合、（Ｉ）〜（II）成
分中の（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量に対する（Ｃ）成
分の使用割合は、（Ａ）成分（完全縮合物換算）と
（Ｂ）成分（完全加水分解縮合物換算）の総量１００重
量部に対し、（Ｃ）成分が５〜１００重量部である。次
に、本発明は、上記膜形成用組成物からなることを特徴
とする絶縁膜形成用材料に関する。
【０００７】
【発明の実施の形態】膜形成用組成物 （Ｉ）成分；本発明の（Ｉ）成分は、（Ａ）加水分解性
オルガノシリル基を有する、ポリアミドおよびポリイミ
ドもしくはいずれか一方の存在下で、加水分解性のオル
ガノシラン化合物である（Ｂ）成分〔化合物（Ｂ−１）
および（Ｂ−２）もしくはいずれか一方〕を、加水分解
・縮合することによって得られ、（Ａ）成分と（Ｂ）シ
ラン化合物の加水分解縮合物とが共縮合した、ポリオル
ガノシロキサン／ポリイミドのハイブリッド体（複合
体）である。本発明では、この（Ｉ）ハイブリッド体を
用いることにより、（Ｉ）成分中の加水分解性オルガノ
シリル基が（II）加水分解縮合物と共縮合して、（Ｉ）
〜（II）成分が相溶化した、高度の複合体（ハイブリッ
ド体）が得られ、塗膜の可撓性に優れるという効果を奏
する。
オルガノシリル基を有する、ポリアミドおよびポリイミ
ドもしくはいずれか一方の存在下で、加水分解性のオル
ガノシラン化合物である（Ｂ）成分〔化合物（Ｂ−１）
および（Ｂ−２）もしくはいずれか一方〕を、加水分解
・縮合することによって得られ、（Ａ）成分と（Ｂ）シ
ラン化合物の加水分解縮合物とが共縮合した、ポリオル
ガノシロキサン／ポリイミドのハイブリッド体（複合
体）である。本発明では、この（Ｉ）ハイブリッド体を
用いることにより、（Ｉ）成分中の加水分解性オルガノ
シリル基が（II）加水分解縮合物と共縮合して、（Ｉ）
〜（II）成分が相溶化した、高度の複合体（ハイブリッ
ド体）が得られ、塗膜の可撓性に優れるという効果を奏
する。
【０００８】（Ａ）成分； （Ｉ）ハイブリッド体を構成する（Ａ）成分としては、
例えば、下記一般式（４）で表される化合物および２，
２′，３，３′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
もしくはいずれ一方を含むジアミンとの反応生成物であ
って、かつ加水分解性オルガノシリル基を有するものが
好ましい。
例えば、下記一般式（４）で表される化合物および２，
２′，３，３′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
もしくはいずれ一方を含むジアミンとの反応生成物であ
って、かつ加水分解性オルガノシリル基を有するものが
好ましい。
【０００９】
【化１】
【００１０】〔一般式（４）において、Ｒは同一または
異なり炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数６〜１
４の単環式もしくは縮合多環式芳香族基を、Ｒ′は水素
原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４の単
環式もしくは縮合多環式芳香族基をそれぞれ示す。〕
異なり炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数６〜１
４の単環式もしくは縮合多環式芳香族基を、Ｒ′は水素
原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４の単
環式もしくは縮合多環式芳香族基をそれぞれ示す。〕
【００１１】本発明における（Ａ）成分の合成法として
は、種々の方法を採用することができ、特に限定されな
いが、例えば、（イ）テトラカルボン酸二無水物物とジ
アミンとを、過剰量のテトラカルボン酸二無水物が存在
する条件下、有機溶媒中で重縮合させ、ポリアミック酸
を得る方法、（ロ）上記（イ）の方法より得られたポリ
アミック酸を、有機溶媒中で熱的方法あるいは化学的方
法により脱水閉環反応させて、ポリイミドの溶液を得る
方法、などを挙げることができる。
は、種々の方法を採用することができ、特に限定されな
いが、例えば、（イ）テトラカルボン酸二無水物物とジ
アミンとを、過剰量のテトラカルボン酸二無水物が存在
する条件下、有機溶媒中で重縮合させ、ポリアミック酸
を得る方法、（ロ）上記（イ）の方法より得られたポリ
アミック酸を、有機溶媒中で熱的方法あるいは化学的方
法により脱水閉環反応させて、ポリイミドの溶液を得る
方法、などを挙げることができる。
【００１２】本発明で用いられる上記一般式（４）で表
されるテトラカルボン酸二無水物、すなわち芳香族ビス
（エーテル酸無水物）のＲの炭素数１〜６のアルキル基
としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数６
〜１４の単環式または縮合多環式芳香族基としては、例
えば、フェニル基、ｏ−トルイル基、ｍ−トルイル基、
ｐ−トルイル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１
−アントラニル基、２−アントラニル基、９−アントラ
ニル基などを挙げることができる。そして、これらの基
のうち、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブ
チル基、フェニル基が好ましい。また、この一般式
（４）において、Ｒ′は、水素原子でもあり得るほか
は、Ｒと同じである。そして、Ｒ′の好ましい基として
は、水素原子、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、
ｔ−ブチル基、フェニル基が挙げられるが、特に水素原
子が好ましい。
されるテトラカルボン酸二無水物、すなわち芳香族ビス
（エーテル酸無水物）のＲの炭素数１〜６のアルキル基
としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数６
〜１４の単環式または縮合多環式芳香族基としては、例
えば、フェニル基、ｏ−トルイル基、ｍ−トルイル基、
ｐ−トルイル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１
−アントラニル基、２−アントラニル基、９−アントラ
ニル基などを挙げることができる。そして、これらの基
のうち、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブ
チル基、フェニル基が好ましい。また、この一般式
（４）において、Ｒ′は、水素原子でもあり得るほか
は、Ｒと同じである。そして、Ｒ′の好ましい基として
は、水素原子、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、
ｔ−ブチル基、フェニル基が挙げられるが、特に水素原
子が好ましい。
【００１３】一般式（４）で表される芳香族ビス（エー
テル酸無水物）の好ましい具体例としては、９，９−ビ
ス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−フ
ェニルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス
〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−３−フェ
ニルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４
−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−２−フェニル
フェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−２−フェニルフ
ェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−メチルフェ
ニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，
３−ジカルボキシフェノキシ）−３−メチルフェニル〕
フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジ
カルボキシフェノキシ）−２−メチルフェニル〕フルオ
レン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボ
キシフェノキシ）−２−メチルフェニル〕フルオレン二
無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフ
ェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン二無水
物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノ
キシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、
９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）−２−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、９，
９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−
２−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビ
ス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−プ
ロピルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス
〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−３−プロ
ピルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４
−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−２−プロピル
フェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−２−プロピルフ
ェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−ブチルフェ
ニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，
３−ジカルボキシフェノキシ）−３−ブチルフェニル〕
フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジ
カルボキシフェノキシ）−２−ブチルフェニル〕フルオ
レン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボ
キシフェノキシ）−２−ブチルフェニル〕フルオレン二
無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフ
ェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無
水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェ
ノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無水
物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノ
キシ）−２−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無水
物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノ
キシ）−２−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無水
物、などを挙げることができる。
テル酸無水物）の好ましい具体例としては、９，９−ビ
ス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−フ
ェニルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス
〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−３−フェ
ニルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４
−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−２−フェニル
フェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−２−フェニルフ
ェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−メチルフェ
ニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，
３−ジカルボキシフェノキシ）−３−メチルフェニル〕
フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジ
カルボキシフェノキシ）−２−メチルフェニル〕フルオ
レン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボ
キシフェノキシ）−２−メチルフェニル〕フルオレン二
無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフ
ェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン二無水
物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノ
キシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、
９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）−２−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、９，
９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−
２−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビ
ス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−プ
ロピルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス
〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−３−プロ
ピルフェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４
−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−２−プロピル
フェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−２−プロピルフ
ェニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−ブチルフェ
ニル〕フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，
３−ジカルボキシフェノキシ）−３−ブチルフェニル〕
フルオレン二無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジ
カルボキシフェノキシ）−２−ブチルフェニル〕フルオ
レン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボ
キシフェノキシ）−２−ブチルフェニル〕フルオレン二
無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフ
ェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無
水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェ
ノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無水
物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノ
キシ）−２−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無水
物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノ
キシ）−２−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン二無水
物、などを挙げることができる。
【００１４】これらの芳香族ビス（エーテル酸無水物）
化合物のうち、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボ
キシフェノキシ）−３−フェニルフェニル〕フルオレン
二無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシ
フェノキシ）−２−フェニルフェニル〕フルオレン二無
水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン二無水物、
９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）−２−メチルフェニル〕フルオレン二無水物が、よ
り高耐熱性と低誘電性を有している点で好ましい。本発
明においては、上記一般式（４）で表される化合物また
は２，２′，３，３′−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物のいずれか一方または両方をテトラカルボン酸二
無水物として使用する。
化合物のうち、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボ
キシフェノキシ）−３−フェニルフェニル〕フルオレン
二無水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシ
フェノキシ）−２−フェニルフェニル〕フルオレン二無
水物、９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン二無水物、
９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）−２−メチルフェニル〕フルオレン二無水物が、よ
り高耐熱性と低誘電性を有している点で好ましい。本発
明においては、上記一般式（４）で表される化合物また
は２，２′，３，３′−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物のいずれか一方または両方をテトラカルボン酸二
無水物として使用する。
【００１５】本発明においてはテトラカルボン酸二無水
物として、上記以外の化合物、例えば３，３′，４，
４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，
３′，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
９，９−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）フルオ
レン二無水物、９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフ
ェニル）フルオレン二無水物、９, ９−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕フルオ
レン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボ
キシフェノキシ）フェニル〕フルオレン二無水物、３，
３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、２，２′，３，３′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物、２−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−
ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（２，
３−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物などを用
いることができる。これらのテトラカルボン酸二無水物
のうち、特に、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、２，２′，３，３′−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、２，３，３′，４′−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、９，９−ビス（２，
３−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、９，
９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン
二無水物、２，９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボ
キシフェノキシ）フェニル〕フルオレン二無水物、９，
９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フ
ェニル〕フルオレン二無水物、ピロメリット酸二無水
物、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸二無水
物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二
無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）スルホ
ン二無水物、３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボ
ン酸二無水物などを使用することもできる。
物として、上記以外の化合物、例えば３，３′，４，
４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，
３′，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
９，９−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）フルオ
レン二無水物、９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフ
ェニル）フルオレン二無水物、９, ９−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕フルオ
レン二無水物、９，９−ビス〔４−（２，３−ジカルボ
キシフェノキシ）フェニル〕フルオレン二無水物、３，
３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、２，２′，３，３′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物、２−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−
ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（２，
３−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物などを用
いることができる。これらのテトラカルボン酸二無水物
のうち、特に、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、２，２′，３，３′−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、２，３，３′，４′−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、９，９−ビス（２，
３−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、９，
９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン
二無水物、２，９，９−ビス〔４−（３，４−ジカルボ
キシフェノキシ）フェニル〕フルオレン二無水物、９，
９−ビス〔４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フ
ェニル〕フルオレン二無水物、ピロメリット酸二無水
物、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸二無水
物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二
無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）スルホ
ン二無水物、３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボ
ン酸二無水物などを使用することもできる。
【００１６】また、（Ａ）成分を構成するジアミンとし
ては、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（アミノフェ
ノキシ）３−フェニルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）フェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−エチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブ
チルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−３−メチルフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−３−エチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−３−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−３
−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノ−３−ｔ−ブチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）フ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ
−３−メチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（２−アミノ−４−メチルフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミ
ノ−５−メチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６−メチルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−
アミノ−３−エチルフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４−エチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−５−エチルフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６−エチル
フェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（２−アミノ−３−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４
−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５−ｎ−プロピルフ
ェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−６−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−３
−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４−ｉ−プロピルフ
ェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−５−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６
−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−３−ｔ−ブチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−４−ｔ−ブチルフェノキシ）フェニル〕
フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５−ｔ
−ブチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−６−ｔ−ブチルフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミ
ノ−３−トリフロオロメチルフェノキシ）フェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４−トリ
フロオロメチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５−トリフロオロメ
チルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（２−アミノ−６−トリフロオロメチルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−エチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｎ−プロピ
ルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフ
ェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−エ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−エチルフェノキシ）−３−エチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−エチルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｉ−
プロピルフェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチル
フェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）
−３−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビ
ス〔４−（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−ｎ
−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−
３−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−ｉ
−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−ｉ−プロピ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−３−ｉ−
プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−エチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニル〕
フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ト
リフルオロメチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−メチルフェノキシ）−３−トリフルオロメチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−エチルフェノキシ）−３−トリフルオロメチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−トリフルオロメチル
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミ
ノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−トリフルオロ
メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４
−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−トリフル
オロメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−
３−トリフルオロメチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−
３，５−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５
−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５
−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３，５
−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３，５−
ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−
３，５−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３，５
−ジエチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５−ジエ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジエ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジエ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３，５−ジエチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−３，５−
ジエチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３，５−ジ−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５−ジ
−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−
３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノ
キシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−トリ
フルオロメチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−メチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｉ−プ
ロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４
−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ
−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−
３，５−ジ−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキ
シ）−３，５−ジ−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−トリフルオ
ロメチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｉ−プロピルフェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−メチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−エチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ
−ブチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３，５−
ジ−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキ
シ）−３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−エチ
ルフェノキシ）−３，５−ジ（トリフルオロメチル）フ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ
−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ（トリフ
ルオロメチル）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−
３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−トリフルオロメチルフェノキシ）−３，５−ジ（ト
リフルオロメチル）フェニル〕フルオレン、９，９−ビ
ス〔４−（２−アミノ−３−メチルフェノキシ）−３−
メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２
−アミノ−４−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５
−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６−メチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−３−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−４−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−５−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−６−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（３−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３
−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（３−アミノ−４−メチルフェノキシ）−３−メチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ
−５−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−６−メチル
フェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（３−アミノ−２−エチルフェノキシ）
−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（３−アミノ−４−エチルフェノキシ）−３−メチル
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミ
ノ−５−エチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−６−エチ
ルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（３−アミノ−２−ｎ−プロピルフ
ェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（３−アミノ−４−ｎ−プロピルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（３−アミノ−５−ｎ−プロピルフェノキシ）−
３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（３−アミノ−６−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−メ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−メチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ
−４−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−メチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−５
−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−６−ｉ−
プロピルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（３−アミノ−４−ｔ−ブチルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（３−アミノ−５−ｔ−ブチルフェノキシ）−３
−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（３−アミノ−６−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−２−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−４−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−５−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−６−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−３−エ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノフェノキシ）−３−ｎ−プロピルフェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）
−３−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビ
ス〔４−（４−アミノフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ
フェノキシ）−３−トリフルオロメチルフェニル〕フル
オレン、９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−
３，５−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）−３，５−ジエチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ
フェノキシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキ
シ）−３，５−ジ−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−
３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−３，５−ジ
（トリフルオロメチル）フェニル〕フルオレン、ｍ−フ
ェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミノン、２，
２′−ジアミノビフェニル、２，３′−ジアミノビフェ
ニル、２，４′−ジアミノビフェニル、３，３′−ジア
ミノビフェニル、３，４′−ジアミノビフェニル、４，
４′−ジアミノビフェニル、２−（３−アミノフェニ
ル）−３′−アミノビフェニル、２，２′−ビス（３−
アミノフェニル）ビフェニル、２，２′−ジアミノジフ
ェニルエーテル、２，３′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、２，４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，３′
−ジアミノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミノジ
フェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフェニルエー
テル、２，２−ビス（２−アミノフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス
〔３−（２−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔３−（３−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕プロパン、２，２−ビス〔３−（４−アミノフェノ
キシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（２−
アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス
〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕プロパン、などが挙げられる。これらのジアミンの
うち、特に、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フル
オレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）
フェニル〕フルオレンなどが好ましい。
ては、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（アミノフェ
ノキシ）３−フェニルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）フェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−エチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブ
チルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−３−メチルフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−３−エチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−３−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−３
−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノ−３−ｔ−ブチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）フ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ
−３−メチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（２−アミノ−４−メチルフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミ
ノ−５−メチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６−メチルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−
アミノ−３−エチルフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４−エチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−５−エチルフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６−エチル
フェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（２−アミノ−３−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４
−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５−ｎ−プロピルフ
ェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−６−ｎ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−３
−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４−ｉ−プロピルフ
ェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−５−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６
−ｉ−プロピルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−３−ｔ−ブチルフェ
ノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（２−アミノ−４−ｔ−ブチルフェノキシ）フェニル〕
フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５−ｔ
−ブチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−６−ｔ−ブチルフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミ
ノ−３−トリフロオロメチルフェノキシ）フェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−４−トリ
フロオロメチルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５−トリフロオロメ
チルフェノキシ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（２−アミノ−６−トリフロオロメチルフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−エチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｎ−プロピ
ルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフ
ェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−エ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−エチルフェノキシ）−３−エチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−エチルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｉ−
プロピルフェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチル
フェノキシ）−３−エチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）
−３−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビ
ス〔４−（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−ｎ
−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−
３−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−ｉ
−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−ｉ−プロピ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−３−ｉ−
プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−エチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニル〕
フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ト
リフルオロメチルフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−メチルフェノキシ）−３−トリフルオロメチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−エチルフェノキシ）−３−トリフルオロメチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２
−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−トリフルオロメチル
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミ
ノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−トリフルオロ
メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４
−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−トリフル
オロメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−
３−トリフルオロメチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−
３，５−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５
−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５
−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３，５
−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３，５−
ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−
３，５−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３，５
−ジエチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５−ジエ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジエ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジエ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３，５−ジエチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）−３，５−
ジエチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３，５−ジ−
ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（４−アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５−ジ
−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−
３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノ
キシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−トリ
フルオロメチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−メチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｉ−プロ
ピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノ−２−エチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｉ−プ
ロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４
−アミノ−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ
−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−
３，５−ジ−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキ
シ）−３，５−ジ−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−トリフルオ
ロメチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｉ−プロピルフェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−メチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−エチルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ−ｔ
−ブチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（４−アミノ−２−ｔ−ブチルフェノキシ）−３，５−
ジ−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−メチルフェノキ
シ）−３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−エチ
ルフェノキシ）−３，５−ジ（トリフルオロメチル）フ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ
−２−ｎ−プロピルフェノキシ）−３，５−ジ（トリフ
ルオロメチル）フェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−
３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェ
ニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ−
２−トリフルオロメチルフェノキシ）−３，５−ジ（ト
リフルオロメチル）フェニル〕フルオレン、９，９−ビ
ス〔４−（２−アミノ−３−メチルフェノキシ）−３−
メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２
−アミノ−４−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−５
−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（２−アミノ−６−メチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−３−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−４−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−５−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（２−アミノ−６−トリフロオロメチルフェ
ノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−
ビス〔４−（３−アミノ−２−メチルフェノキシ）−３
−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（３−アミノ−４−メチルフェノキシ）−３−メチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ
−５−メチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−６−メチル
フェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（３−アミノ−２−エチルフェノキシ）
−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４
−（３−アミノ−４−エチルフェノキシ）−３−メチル
フェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミ
ノ−５−エチルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−６−エチ
ルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（３−アミノ−２−ｎ−プロピルフ
ェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（３−アミノ−４−ｎ−プロピルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（３−アミノ−５−ｎ−プロピルフェノキシ）−
３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（３−アミノ−６−ｎ−プロピルフェノキシ）−３−メ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−
アミノ−２−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−メチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ
−４−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−メチルフェニ
ル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−５
−ｉ−プロピルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−６−ｉ−
プロピルフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（３−アミノ−２−ｔ−ブチル
フェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，
９−ビス〔４−（３−アミノ−４−ｔ−ブチルフェノキ
シ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（３−アミノ−５−ｔ−ブチルフェノキシ）−３
−メチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−
（３−アミノ−６−ｔ−ブチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−２−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−４−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−５−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（３−ア
ミノ−６−トリフロオロメチルフェノキシ）−３−メチ
ルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）−３−メチルフェニル〕フルオレン、
９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−３−エ
チルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−
アミノフェノキシ）−３−ｎ−プロピルフェニル〕フル
オレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）
−３−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレン、９，９−ビ
ス〔４−（４−アミノフェノキシ）−３−ｔ−ブチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ
フェノキシ）−３−トリフルオロメチルフェニル〕フル
オレン、９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−
３，５−ジメチルフェニル〕フルオレン、９，９−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）−３，５−ジエチルフ
ェニル〕フルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノ
フェノキシ）−３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル〕フ
ルオレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキ
シ）−３，５−ジ−ｉ−プロピルフェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−
３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル〕フルオレン、９，９
−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）−３，５−ジ
（トリフルオロメチル）フェニル〕フルオレン、ｍ−フ
ェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミノン、２，
２′−ジアミノビフェニル、２，３′−ジアミノビフェ
ニル、２，４′−ジアミノビフェニル、３，３′−ジア
ミノビフェニル、３，４′−ジアミノビフェニル、４，
４′−ジアミノビフェニル、２−（３−アミノフェニ
ル）−３′−アミノビフェニル、２，２′−ビス（３−
アミノフェニル）ビフェニル、２，２′−ジアミノジフ
ェニルエーテル、２，３′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、２，４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，３′
−ジアミノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミノジ
フェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフェニルエー
テル、２，２−ビス（２−アミノフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス
〔３−（２−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔３−（３−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕プロパン、２，２−ビス〔３−（４−アミノフェノ
キシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（２−
アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス
〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕プロパン、などが挙げられる。これらのジアミンの
うち、特に、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フル
オレン、９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）
フェニル〕フルオレンなどが好ましい。
【００１７】さらに、必要に応じ、基板との密着性を改
善するために、いわゆるジアミノシロキサンをジアミン
成分の一部に使用しても良い。ジアミノシロキサンとし
ては、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチ
ルシロキサン、１，３−ビス（３−アミノフェニル）テ
トラメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−アミノプロ
ピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−ア
ミノプロピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス
（３−アミノフェニル）ポリジメチルシロキサン、α，
ω−ビス（３−アミノフェニル）ポリジメチルシロキサ
ンなどを挙げることができる。また、これらのジアミノ
シロキサンは、単独使用することもできるし、あるいは
２種以上を混合して使用することもできる。
善するために、いわゆるジアミノシロキサンをジアミン
成分の一部に使用しても良い。ジアミノシロキサンとし
ては、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチ
ルシロキサン、１，３−ビス（３−アミノフェニル）テ
トラメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−アミノプロ
ピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−ア
ミノプロピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス
（３−アミノフェニル）ポリジメチルシロキサン、α，
ω−ビス（３−アミノフェニル）ポリジメチルシロキサ
ンなどを挙げることができる。また、これらのジアミノ
シロキサンは、単独使用することもできるし、あるいは
２種以上を混合して使用することもできる。
【００１８】本発明のポリアミック酸は、上記テトカル
ボン酸二無水物とジアミンとを有機溶媒中で反応させる
ことにより製造する。この有機溶媒は、使用されるテト
ラカルボン酸二無水物およびジアミンに対して不活性で
あり、かつこれらの成分を溶解するものであれば、特に
制限はなく、具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル
アセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチ
ルカプロラクタム、１，２−ジメトキシエタン、ビス
（２−メトキシエチル）エーテル、１，２−ビス（２−
メトキシエトキシ）エタン、γ−ブチロラクトン、乳酸
エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキ
サノン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、
１，４−ジオキサン、ピリジン、ピコリン、ジチルスル
ホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチル尿素、ｏ−
クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−ク
ロロフェノール、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフ
ェノールなどを挙げることができる。なお、これらの有
機溶媒は、単独使用することもできるし、または２種以
上を混合して使用することもできる。
ボン酸二無水物とジアミンとを有機溶媒中で反応させる
ことにより製造する。この有機溶媒は、使用されるテト
ラカルボン酸二無水物およびジアミンに対して不活性で
あり、かつこれらの成分を溶解するものであれば、特に
制限はなく、具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル
アセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチ
ルカプロラクタム、１，２−ジメトキシエタン、ビス
（２−メトキシエチル）エーテル、１，２−ビス（２−
メトキシエトキシ）エタン、γ−ブチロラクトン、乳酸
エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキ
サノン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、
１，４−ジオキサン、ピリジン、ピコリン、ジチルスル
ホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチル尿素、ｏ−
クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−ク
ロロフェノール、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフ
ェノールなどを挙げることができる。なお、これらの有
機溶媒は、単独使用することもできるし、または２種以
上を混合して使用することもできる。
【００１９】上記テトラカルボン酸二無水物と上記ジア
ミンとの使用割合は、ジアミン１モルに対してテトラカ
ルボン酸二無水物が、通常、１．１〜２モル、好ましく
は１．２〜１．８モルである。
ミンとの使用割合は、ジアミン１モルに対してテトラカ
ルボン酸二無水物が、通常、１．１〜２モル、好ましく
は１．２〜１．８モルである。
【００２０】有機溶媒中のジアミンとテトカルボン酸二
無水物の合計量の濃度は特に限定されるものではない
が、最終的に得られるポリイミドの特性を考慮して、通
常、２〜５０重量％の範囲内の値とすることが好まし
く、５〜３０重量％の範囲内の値とすることがより好ま
しい。また、ジアミンとテトカルボン酸二無水物とを反
応させる際の反応温度は、通常、６０℃以下の値とする
ことが好ましく、常温（２０℃）〜５０℃の範囲内の値
とすることがより好ましく、通常、常圧で実施すること
が好ましく、反応時間は、通常、０．５〜２４時間の範
囲内の値とすることが好ましい。
無水物の合計量の濃度は特に限定されるものではない
が、最終的に得られるポリイミドの特性を考慮して、通
常、２〜５０重量％の範囲内の値とすることが好まし
く、５〜３０重量％の範囲内の値とすることがより好ま
しい。また、ジアミンとテトカルボン酸二無水物とを反
応させる際の反応温度は、通常、６０℃以下の値とする
ことが好ましく、常温（２０℃）〜５０℃の範囲内の値
とすることがより好ましく、通常、常圧で実施すること
が好ましく、反応時間は、通常、０．５〜２４時間の範
囲内の値とすることが好ましい。
【００２１】また、本発明における（Ａ）成分は、加水
分解性オルガノシリル基をさらに有し、これにより、
（Ａ）成分と（Ｂ）シラン化合物とが共縮合し、（Ｉ）
ハイブリッド体が得られる。上記加水分解性オルガノシ
リル基を有する（Ａ）成分の合成法としては、例えば、
（ハ）テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの重縮合
に際して、カルボン酸無水物基と加水分解性基とを有す
るシラン化合物および／またはカルボキシル基と反応し
うる官能基と加水分解性基とを有するシラン化合物（以
下、これらのシラン化合物をまとめて「官能性シラン化
合物」という）を添加する方法、（ニ）テトラカルボン
酸二無水物とアミン化合物との重縮合に続いて、官能性
シラン化合物を添加し、該官能性シラン化合物とポリア
ミック酸とを反応させる方法、（ホ）上記（ハ）または
（ニ）の方法により得られた加水分解性オルガノシリル
基を有するポリアミック酸を、有機溶媒中で熱的方法あ
るいは化学的方法により脱水閉環反応させる方法、
（へ）テトラカルボン酸二無水物とアミン化合物との重
縮合により得られるポリアミック酸を脱水閉環反応させ
てポリイミド得たのち、官能性シラン化合物を添加し、
該官能性シラン化合物とポリイミドとを反応させる方
法、（ト）テトラカルボン酸二無水物とアミン化合物と
の重縮合の際に、アミン化合物の一部として、２個のア
ミノ基と加水分解性基とを有するシラン化合物、例え
ば、下記一般式
分解性オルガノシリル基をさらに有し、これにより、
（Ａ）成分と（Ｂ）シラン化合物とが共縮合し、（Ｉ）
ハイブリッド体が得られる。上記加水分解性オルガノシ
リル基を有する（Ａ）成分の合成法としては、例えば、
（ハ）テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの重縮合
に際して、カルボン酸無水物基と加水分解性基とを有す
るシラン化合物および／またはカルボキシル基と反応し
うる官能基と加水分解性基とを有するシラン化合物（以
下、これらのシラン化合物をまとめて「官能性シラン化
合物」という）を添加する方法、（ニ）テトラカルボン
酸二無水物とアミン化合物との重縮合に続いて、官能性
シラン化合物を添加し、該官能性シラン化合物とポリア
ミック酸とを反応させる方法、（ホ）上記（ハ）または
（ニ）の方法により得られた加水分解性オルガノシリル
基を有するポリアミック酸を、有機溶媒中で熱的方法あ
るいは化学的方法により脱水閉環反応させる方法、
（へ）テトラカルボン酸二無水物とアミン化合物との重
縮合により得られるポリアミック酸を脱水閉環反応させ
てポリイミド得たのち、官能性シラン化合物を添加し、
該官能性シラン化合物とポリイミドとを反応させる方
法、（ト）テトラカルボン酸二無水物とアミン化合物と
の重縮合の際に、アミン化合物の一部として、２個のア
ミノ基と加水分解性基とを有するシラン化合物、例え
ば、下記一般式
【００２２】
【化２】
【００２３】〔ただし、Ｒ10は炭素数１〜８の有機基、
Ｒ11は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４の
アシル基を示し、Ｘは２価の有機基（好ましくはフェニ
レン基または炭素数１〜１０のアルキレン基）を示し、
ｐは０〜２の整数である〕で表される化合物を使用する
方法、（チ）上記（ト）の方法により得られた加水分解
性シリル基を有するポリアミック酸を、有機溶媒中で熱
的方法あるいは化学的方法により脱水閉環反応させる方
法などを挙げることができる。上記（ト）の方法におけ
る２個のアミノ基と加水分解性基とを有するシラン化合
物の使用割合は、全アミン化合物（全ジアミン）に対し
て、通常、５０モル％以下、好ましくは３０モル％以下
である。上記（ハ）〜（チ）の方法のうち、（ニ），
（へ）あるいは（ト）の方法が好ましく、特に（ニ）あ
るいは（へ）の方法が好ましい。
Ｒ11は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４の
アシル基を示し、Ｘは２価の有機基（好ましくはフェニ
レン基または炭素数１〜１０のアルキレン基）を示し、
ｐは０〜２の整数である〕で表される化合物を使用する
方法、（チ）上記（ト）の方法により得られた加水分解
性シリル基を有するポリアミック酸を、有機溶媒中で熱
的方法あるいは化学的方法により脱水閉環反応させる方
法などを挙げることができる。上記（ト）の方法におけ
る２個のアミノ基と加水分解性基とを有するシラン化合
物の使用割合は、全アミン化合物（全ジアミン）に対し
て、通常、５０モル％以下、好ましくは３０モル％以下
である。上記（ハ）〜（チ）の方法のうち、（ニ），
（へ）あるいは（ト）の方法が好ましく、特に（ニ）あ
るいは（へ）の方法が好ましい。
【００２４】上記（ハ），（ニ）あるいは（へ）の方法
に使用される官能性シラン化合物としては、例えば、
３，４−ジカルボキシフェニルトリメトキシシランの酸
無水物、３，４−ジカルボキシベンジルトリメトキシシ
ランの酸無水物などのカルボン酸無水物基含有シラン
類；メルカプトメチルトリメトキシシラン、２−メルカ
プトエチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルジメト
キシメチルシランなどのメルカプトシラン類；３−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルト
リエトキシシラン、３−アミノプロピルジメトキシメチ
ルシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラ
ン、３−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−
アミノプロピルジメチルエトキシシラン、（２−アミノ
エチルアミノ）メチルトリメトキシシラン、３−（２−
アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３
−（２−アミノエチルアミノ）プロピルジメトキシメチ
ルシラン、３−〔２−（２−アミノエチルアミノ）エチ
ルアミノ〕プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（３−ト
リメトキシシリルプロピル）ウレア、Ｎ−（３−トリエ
トキシシリルプロピル）ウレア、２−（２−アミノエチ
ルチオ）エチルトリメトキシシラン、２−（２−アミノ
エチルチオ）エチルトリエトキシシラン、２−（２−ア
ミノエチルチオ）エチルジメトキシメチルシラン、２−
（２−アミノエチルチオ）エチルジエトキシメチルシラ
ン、２−アミノフェニルトリメトキシシラン、２−アミ
ノフェニルトリエトキシシラン、３−アミノフェニルト
リメトキシシラン、３−アミノフェニルトリエトキシシ
ラン、４−アミノフェニルトリメトキシシラン、４−ア
ミノフェニルトリエトキシシランなどのアミノシラン
類；ビス（３−トリメトキシシリルプロピル）アミン、
ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）アミン、３−
シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、３
−シクロヘキシルアミノプロピルジメトキシメチルシラ
ン、３−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、
３−フェニルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、
３−ベンジルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−
ベンジルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、３−
（ｐ−ビニルベンジルアミノ）プロピルトリメトキシシ
ラン、３−（ｐ−ビニルベンジルアミノ）プロピルジメ
トキシメチルシラン、３−アリルアミノプロピルトリメ
トキシシラン、３−アリルアミノプロピルジメトキシメ
チルシラン、３−ピペラジノプロピルトリメトキシシラ
ン、３−ピペラジノプロピルジメトキシメチルシランな
どのイミノシラン類；３−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシ
ラン、３−グリシドキシプロピルジエトキシメチルシラ
ン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルジメトキシメチルシランなどのエポキシシ
ラン類；３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラ
ン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、
３−イソシアネートプロピルジメトキシメチルシラン、
３−イソシアネートプロピルジエトキシメチルシランな
どのイソシアネートシラン類などを挙げることができ
る。これらの官能性シラン化合物は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。
に使用される官能性シラン化合物としては、例えば、
３，４−ジカルボキシフェニルトリメトキシシランの酸
無水物、３，４−ジカルボキシベンジルトリメトキシシ
ランの酸無水物などのカルボン酸無水物基含有シラン
類；メルカプトメチルトリメトキシシラン、２−メルカ
プトエチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルジメト
キシメチルシランなどのメルカプトシラン類；３−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルト
リエトキシシラン、３−アミノプロピルジメトキシメチ
ルシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラ
ン、３−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−
アミノプロピルジメチルエトキシシラン、（２−アミノ
エチルアミノ）メチルトリメトキシシラン、３−（２−
アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３
−（２−アミノエチルアミノ）プロピルジメトキシメチ
ルシラン、３−〔２−（２−アミノエチルアミノ）エチ
ルアミノ〕プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（３−ト
リメトキシシリルプロピル）ウレア、Ｎ−（３−トリエ
トキシシリルプロピル）ウレア、２−（２−アミノエチ
ルチオ）エチルトリメトキシシラン、２−（２−アミノ
エチルチオ）エチルトリエトキシシラン、２−（２−ア
ミノエチルチオ）エチルジメトキシメチルシラン、２−
（２−アミノエチルチオ）エチルジエトキシメチルシラ
ン、２−アミノフェニルトリメトキシシラン、２−アミ
ノフェニルトリエトキシシラン、３−アミノフェニルト
リメトキシシラン、３−アミノフェニルトリエトキシシ
ラン、４−アミノフェニルトリメトキシシラン、４−ア
ミノフェニルトリエトキシシランなどのアミノシラン
類；ビス（３−トリメトキシシリルプロピル）アミン、
ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）アミン、３−
シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、３
−シクロヘキシルアミノプロピルジメトキシメチルシラ
ン、３−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、
３−フェニルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、
３−ベンジルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−
ベンジルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、３−
（ｐ−ビニルベンジルアミノ）プロピルトリメトキシシ
ラン、３−（ｐ−ビニルベンジルアミノ）プロピルジメ
トキシメチルシラン、３−アリルアミノプロピルトリメ
トキシシラン、３−アリルアミノプロピルジメトキシメ
チルシラン、３−ピペラジノプロピルトリメトキシシラ
ン、３−ピペラジノプロピルジメトキシメチルシランな
どのイミノシラン類；３−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシ
ラン、３−グリシドキシプロピルジエトキシメチルシラ
ン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルジメトキシメチルシランなどのエポキシシ
ラン類；３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラ
ン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、
３−イソシアネートプロピルジメトキシメチルシラン、
３−イソシアネートプロピルジエトキシメチルシランな
どのイソシアネートシラン類などを挙げることができ
る。これらの官能性シラン化合物は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。
【００２５】上記加水分解性シリル基の含量は、（Ａ）
成分中に、０．０１〜２０モル％、好ましくは０．０２
〜１５モル％である。０．０１モル％未満では、塗膜の
密着性が劣るものとなり、一方、２０モル％を超える
と、溶液のろ過性が劣る場合がある。
成分中に、０．０１〜２０モル％、好ましくは０．０２
〜１５モル％である。０．０１モル％未満では、塗膜の
密着性が劣るものとなり、一方、２０モル％を超える
と、溶液のろ過性が劣る場合がある。
【００２６】なお、上記製造条件を適宜調節することに
より、ポリアミック酸の対数粘度〔ηinh 〕（Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド溶媒、温度３０℃、濃度０．５ｇ
／ｄｌ）を、０．１〜４ｄｌ／ｇ範囲内の値とすること
が好ましく、０．３〜２ｄｌ／ｇの範囲内の値とするこ
とがより好ましい。そのほか、上記製造条件を適宜調節
することにより、得られるポリアミック酸において、イ
ミド化率が５０％を超えない範囲内で、部分的にイミド
化されていてもよい。
より、ポリアミック酸の対数粘度〔ηinh 〕（Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド溶媒、温度３０℃、濃度０．５ｇ
／ｄｌ）を、０．１〜４ｄｌ／ｇ範囲内の値とすること
が好ましく、０．３〜２ｄｌ／ｇの範囲内の値とするこ
とがより好ましい。そのほか、上記製造条件を適宜調節
することにより、得られるポリアミック酸において、イ
ミド化率が５０％を超えない範囲内で、部分的にイミド
化されていてもよい。
【００２７】上記の方法で得られらたポリアミック酸を
縮合することによりポリイミドを製造することができ
る。ポリイミドは、溶液状態で以下に示すような加熱イ
ミド化法または化学イミド化法をにより環化脱水縮合す
ることができる。加熱イミド化法としては、ポリアミッ
ク酸溶液を加熱することにより、ポリイミド溶液として
得られる。この場合の加熱温度は、通常、８０〜３００
℃の範囲内の値であり、好ましくは１００〜２５０℃の
範囲内の値である。この際、副生する水の除去を容易と
するため、水と共沸し、特に反応系外で水と容易に分離
しうる成分、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素系溶媒を脱水剤として存在させるこ
とも好ましい。また、加熱イミド化法に際しては、脱水
閉環を促進するため、第３級アミン、例えば、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ト
リブチルアミンなどの脂肪族第３級アミン類；Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンなどの芳
香族第３級アミン類；ピリジン、キノリン、イソキノリ
ンなどの複素環式第３級アミン類などの触媒を添加する
ことが好ましい。そして、この触媒の添加量を、ポリア
ミック酸１００重量部あたり、例えば１０〜４００重量
部の範囲内の値とすることが好ましい。さらに、加熱イ
ミド化法では、クレゾール、クロロフェノールなどのフ
ェノール系溶媒中で加熱することもできる。この場合
は、モノマーを該溶媒中で加熱重縮合により、ポリアミ
ック酸経由の一段階で直接ポリイミドとすることができ
る。
縮合することによりポリイミドを製造することができ
る。ポリイミドは、溶液状態で以下に示すような加熱イ
ミド化法または化学イミド化法をにより環化脱水縮合す
ることができる。加熱イミド化法としては、ポリアミッ
ク酸溶液を加熱することにより、ポリイミド溶液として
得られる。この場合の加熱温度は、通常、８０〜３００
℃の範囲内の値であり、好ましくは１００〜２５０℃の
範囲内の値である。この際、副生する水の除去を容易と
するため、水と共沸し、特に反応系外で水と容易に分離
しうる成分、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素系溶媒を脱水剤として存在させるこ
とも好ましい。また、加熱イミド化法に際しては、脱水
閉環を促進するため、第３級アミン、例えば、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ト
リブチルアミンなどの脂肪族第３級アミン類；Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンなどの芳
香族第３級アミン類；ピリジン、キノリン、イソキノリ
ンなどの複素環式第３級アミン類などの触媒を添加する
ことが好ましい。そして、この触媒の添加量を、ポリア
ミック酸１００重量部あたり、例えば１０〜４００重量
部の範囲内の値とすることが好ましい。さらに、加熱イ
ミド化法では、クレゾール、クロロフェノールなどのフ
ェノール系溶媒中で加熱することもできる。この場合
は、モノマーを該溶媒中で加熱重縮合により、ポリアミ
ック酸経由の一段階で直接ポリイミドとすることができ
る。
【００２８】また、加熱イミド化法を実施する際に、均
一に反応を生じさせるために、有機溶媒を使用するが、
ポリアミック酸の製造に使用される有機溶媒と同一の有
機溶媒を使用することが好ましい。
一に反応を生じさせるために、有機溶媒を使用するが、
ポリアミック酸の製造に使用される有機溶媒と同一の有
機溶媒を使用することが好ましい。
【００２９】また、ポリアミック酸の化学イミド化法に
よるポリイミドの調製は、通常、ポリアミック酸を溶液
状態で脱水環化縮合させる脱水剤を用いるイミド化法を
採用することができる。この化学イミド化法における使
用溶媒は、前述したよう、例えば、ポリアミック酸の製
造に使用されるものと同様の有機溶媒を挙げることがで
きる。
よるポリイミドの調製は、通常、ポリアミック酸を溶液
状態で脱水環化縮合させる脱水剤を用いるイミド化法を
採用することができる。この化学イミド化法における使
用溶媒は、前述したよう、例えば、ポリアミック酸の製
造に使用されるものと同様の有機溶媒を挙げることがで
きる。
【００３０】また、化学イミド化法に使用される脱水剤
としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水
酪酸などの酸無水物を挙げることができる。これらの脱
水剤は、単独で使用することができるし、あるいは２種
以上を混合して使用することもできる。なお、脱水剤の
使用量を、下記一般式（５）で表されるポリアミック酸
の繰返し単位１モルあたり、通常、２〜１００モルの範
囲内の値とするのが好ましく、２〜５０モルの範囲内の
値とすることがより好ましい。 （式中、Ｙはテトラカルボン酸由来の４価の有機基を、
また、Ｚはジアミン由来の２価の有機基を示す。） また、化学イミド化法における反応温度についても、特
に制限されるものではないが、通常、０〜２００℃範囲
内の値とするのが好ましい。さらに、化学イミド化法に
おいて、加熱イミド化法の場合と同様に第３級アミンを
触媒として使用することも好ましい。
としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水
酪酸などの酸無水物を挙げることができる。これらの脱
水剤は、単独で使用することができるし、あるいは２種
以上を混合して使用することもできる。なお、脱水剤の
使用量を、下記一般式（５）で表されるポリアミック酸
の繰返し単位１モルあたり、通常、２〜１００モルの範
囲内の値とするのが好ましく、２〜５０モルの範囲内の
値とすることがより好ましい。 （式中、Ｙはテトラカルボン酸由来の４価の有機基を、
また、Ｚはジアミン由来の２価の有機基を示す。） また、化学イミド化法における反応温度についても、特
に制限されるものではないが、通常、０〜２００℃範囲
内の値とするのが好ましい。さらに、化学イミド化法に
おいて、加熱イミド化法の場合と同様に第３級アミンを
触媒として使用することも好ましい。
【００３１】本発明においては、イミド化率が５０％以
上、特に９０％以上の値であるポリイミドが耐熱性およ
び保存安定性において好ましい。また、本発明に用いら
れるポリアミック酸およびポリイミドの数平均分子量
は、好ましくは１, ０００〜１, ０００, ０００、さら
に好ましくは２，０００〜８００，０００である。ポリ
アミック酸およびポリイミドの分子量が１, ０００未満
となると、樹脂の耐熱性や機械的特性が低下するほか、
塗工性に劣る傾向にあり、一方１, ０００, ０００を超
えると、溶液粘度が高く、均一な製膜が困難となり、例
えば電子材料用の絶縁膜や保護膜に使用できなくなるた
めである。したがって、ポリイミドの耐熱性と均一な製
膜性とのバランスがより良好な観点から、ポリイミドの
分子量を、１, ０００〜１, ０００, ０００の範囲内の
値とするのが好ましい。以上の（Ａ）成分は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。
上、特に９０％以上の値であるポリイミドが耐熱性およ
び保存安定性において好ましい。また、本発明に用いら
れるポリアミック酸およびポリイミドの数平均分子量
は、好ましくは１, ０００〜１, ０００, ０００、さら
に好ましくは２，０００〜８００，０００である。ポリ
アミック酸およびポリイミドの分子量が１, ０００未満
となると、樹脂の耐熱性や機械的特性が低下するほか、
塗工性に劣る傾向にあり、一方１, ０００, ０００を超
えると、溶液粘度が高く、均一な製膜が困難となり、例
えば電子材料用の絶縁膜や保護膜に使用できなくなるた
めである。したがって、ポリイミドの耐熱性と均一な製
膜性とのバランスがより良好な観点から、ポリイミドの
分子量を、１, ０００〜１, ０００, ０００の範囲内の
値とするのが好ましい。以上の（Ａ）成分は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。
【００３２】（Ｉ）成分を構成する（Ａ）成分は、テト
ラカルボン酸二無水物と１分子中にアミノ基を３以上有
するポリアミンを含むアミン化合物とを反応させて得ら
れる、分岐状構造を有する、ポリアミック酸およびポリ
イミドもしくはいずれか一方であることが好ましい。こ
の分岐状構造を有する（Ａ）成分としては、例えば、上
記一般式（４）で表される化合物および２，２′，３，
３′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物もしくはい
ずれ一方を含むポリアミンとの反応生成物であり、有機
溶媒に可溶性の分岐状の、ポリアミック酸および／また
はポリイミド（以下「可溶性分岐状ポリイミド」ともい
う）が好ましい。上記可溶性分岐状ポリイミドは、通
常、特定構造のジアミンと、もしくは、特定構造のテト
ラカルボン酸二無水物をモノマー成分として用い、ジア
ミンモノマーの一部を３官能以上のアミンに代え、有機
溶媒中での重付加反応によって得られる分岐状のポリア
ミック酸を、さらに加熱、もしくは化学的方法によって
脱水環化縮合させる、または所定のモノマーを仕込んだ
のち、高温で一段階の反応で可溶性分岐状ポリイミドを
得る方法によって調製することができる。
ラカルボン酸二無水物と１分子中にアミノ基を３以上有
するポリアミンを含むアミン化合物とを反応させて得ら
れる、分岐状構造を有する、ポリアミック酸およびポリ
イミドもしくはいずれか一方であることが好ましい。こ
の分岐状構造を有する（Ａ）成分としては、例えば、上
記一般式（４）で表される化合物および２，２′，３，
３′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物もしくはい
ずれ一方を含むポリアミンとの反応生成物であり、有機
溶媒に可溶性の分岐状の、ポリアミック酸および／また
はポリイミド（以下「可溶性分岐状ポリイミド」ともい
う）が好ましい。上記可溶性分岐状ポリイミドは、通
常、特定構造のジアミンと、もしくは、特定構造のテト
ラカルボン酸二無水物をモノマー成分として用い、ジア
ミンモノマーの一部を３官能以上のアミンに代え、有機
溶媒中での重付加反応によって得られる分岐状のポリア
ミック酸を、さらに加熱、もしくは化学的方法によって
脱水環化縮合させる、または所定のモノマーを仕込んだ
のち、高温で一段階の反応で可溶性分岐状ポリイミドを
得る方法によって調製することができる。
【００３３】ここで、分岐状構造を有する（Ａ）成分に
用いられるテトラカルボン酸二無水物やジアミン、必要
に応じて用いられるジアミノシロキサンの種類や割合
は、分岐状構造を有しない上記（Ａ）成分に用いられる
場合と同様である。また、分岐状構造を有する（Ａ）成
分においても、加水分解性オルガノシリル基を有し、こ
の場合の合成法や使用割合も、分岐状構造を有さない上
記（Ａ）成分における場合と同様である。
用いられるテトラカルボン酸二無水物やジアミン、必要
に応じて用いられるジアミノシロキサンの種類や割合
は、分岐状構造を有しない上記（Ａ）成分に用いられる
場合と同様である。また、分岐状構造を有する（Ａ）成
分においても、加水分解性オルガノシリル基を有し、こ
の場合の合成法や使用割合も、分岐状構造を有さない上
記（Ａ）成分における場合と同様である。
【００３４】分岐状構造を有する（Ａ）成分において、
分岐構造にするために３官能以上のポリアミンを含むア
ミン化合物、好ましくは、アミノ基を３〜６個有するポ
リアミンを用いることが必要である。ポリアミンのう
ち、アミノ基を３個有する化合物としては、例えば、
１，３，５−トリアミノベンゼン、３，３′，５−トリ
アミノビフェニル、３，３′，５−トリアミノジフェニ
ルエーテル、１，１−ビス（４−アミノフェニル）−１
−（４−アミノフェニル）エタン、１，１−ビス（４−
アミノフェニル）−１−（４−アミノフェニル）−２，
２，２−トリフルオロエタン、２−アミノ−９，９−ビ
ス（４−アミノフェニル）フルオレン、２−アミノ−
９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレンなどを挙げることができる。
分岐構造にするために３官能以上のポリアミンを含むア
ミン化合物、好ましくは、アミノ基を３〜６個有するポ
リアミンを用いることが必要である。ポリアミンのう
ち、アミノ基を３個有する化合物としては、例えば、
１，３，５−トリアミノベンゼン、３，３′，５−トリ
アミノビフェニル、３，３′，５−トリアミノジフェニ
ルエーテル、１，１−ビス（４−アミノフェニル）−１
−（４−アミノフェニル）エタン、１，１−ビス（４−
アミノフェニル）−１−（４−アミノフェニル）−２，
２，２−トリフルオロエタン、２−アミノ−９，９−ビ
ス（４−アミノフェニル）フルオレン、２−アミノ−
９，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕フルオレンなどを挙げることができる。
【００３５】また、アミノ基を４個有する化合物として
は、９，９−ビス（３，４−ジアミノフェニル）フルオ
レン、９，９−ビス（３，５−ジアミノフェニル）フル
オレン、２，７−ジアミノ−９，９−ビス（２−アミノ
フェニル）フルオレン、２，７−ジアミノ−９，９−ビ
ス（３−アミノフェニル）フルオレン、２，７−ジアミ
ノ−９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、
３，６−ジアミノ−９，９−ビス（２−アミノフェニ
ル）フルオレン、３，６−ジアミノ−９，９−ビス（３
−アミノフェニル）フルオレン、３，６−ジアミノ−
９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，
５−ジアミノ−９，９−ビス（２−アミノフェニル）フ
ルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビス（３−アミ
ノフェニル）フルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−
ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、１，２，４，
５−テトラアミノベンゼン、３，３′，４，４′−テト
ラアミノビフェニル、ビス（３，４−ジアミノフェニ
ル）メタン、ビス（３，５−ジアミノフェニル）メタ
ン、２，２−ビス（３，４−ジアミノフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３，４−ジアミノフェニル）−１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、ビス
（３，５−ジアミノフェニル）エーテル、
は、９，９−ビス（３，４−ジアミノフェニル）フルオ
レン、９，９−ビス（３，５−ジアミノフェニル）フル
オレン、２，７−ジアミノ−９，９−ビス（２−アミノ
フェニル）フルオレン、２，７−ジアミノ−９，９−ビ
ス（３−アミノフェニル）フルオレン、２，７−ジアミ
ノ−９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、
３，６−ジアミノ−９，９−ビス（２−アミノフェニ
ル）フルオレン、３，６−ジアミノ−９，９−ビス（３
−アミノフェニル）フルオレン、３，６−ジアミノ−
９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，
５−ジアミノ−９，９−ビス（２−アミノフェニル）フ
ルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビス（３−アミ
ノフェニル）フルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−
ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、１，２，４，
５−テトラアミノベンゼン、３，３′，４，４′−テト
ラアミノビフェニル、ビス（３，４−ジアミノフェニ
ル）メタン、ビス（３，５−ジアミノフェニル）メタ
ン、２，２−ビス（３，４−ジアミノフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３，４−ジアミノフェニル）−１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、ビス
（３，５−ジアミノフェニル）エーテル、
【００３６】２，７−ジアミノ−９，９−ビス〔３−
（２−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、２，
７−ジアミノ−９，９−ビス〔３−（３−アミノフェノ
キシ）フェニル〕フルオレン、２，７−ジアミノ−９，
９−ビス〔３−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フ
ルオレン、３，６−ジアミノ−９，９−ビス〔３−（２
−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、３，６−
ジアミノ−９，９−ビス〔３−（３−アミノフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、３，６−ジアミノ−９，９
−ビス〔３−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビス〔３−（２−
アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、４，５−ジ
アミノ−９，９−ビス〔３−（３−アミノフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビ
ス〔３−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、
（２−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、２，
７−ジアミノ−９，９−ビス〔３−（３−アミノフェノ
キシ）フェニル〕フルオレン、２，７−ジアミノ−９，
９−ビス〔３−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フ
ルオレン、３，６−ジアミノ−９，９−ビス〔３−（２
−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、３，６−
ジアミノ−９，９−ビス〔３−（３−アミノフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、３，６−ジアミノ−９，９
−ビス〔３−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビス〔３−（２−
アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、４，５−ジ
アミノ−９，９−ビス〔３−（３−アミノフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビ
ス〔３−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、
【００３７】２，７−ジアミノ−９，９−ビス〔４−
（２−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、２，
７−ジアミノ−９，９−ビス〔４−（３−アミノフェノ
キシ）フェニル〕フルオレン、２，７−ジアミノ−９，
９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フ
ルオレン、３，６−ジアミノ−９，９−ビス〔４−（２
−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、３，６−
ジアミノ−９，９−ビス〔４−（３−アミノフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、３，６−ジアミノ−９，９
−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビス〔４−（２−
アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、４，５−ジ
アミノ−９，９−ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビ
ス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（３，５−ジアミノフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、１，３−ビス（３，５−ジ
アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（３，５−
ジアミノフェノキシ）ベンゼン、２，２−ビス〔４−
（３，５−ジアミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（３，５−ジアミノフェノキシ）フ
ェニル〕−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプ
ロパンなどを挙げることができる。
（２−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、２，
７−ジアミノ−９，９−ビス〔４−（３−アミノフェノ
キシ）フェニル〕フルオレン、２，７−ジアミノ−９，
９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フ
ルオレン、３，６−ジアミノ−９，９−ビス〔４−（２
−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、３，６−
ジアミノ−９，９−ビス〔４−（３−アミノフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、３，６−ジアミノ−９，９
−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フル
オレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビス〔４−（２−
アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン、４，５−ジ
アミノ−９，９−ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）
フェニル〕フルオレン、４，５−ジアミノ−９，９−ビ
ス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレ
ン、９，９−ビス〔４−（３，５−ジアミノフェノキ
シ）フェニル〕フルオレン、１，３−ビス（３，５−ジ
アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（３，５−
ジアミノフェノキシ）ベンゼン、２，２−ビス〔４−
（３，５−ジアミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（３，５−ジアミノフェノキシ）フ
ェニル〕−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプ
ロパンなどを挙げることができる。
【００３８】これらのテトラアミンのうち、特に、９，
９−ビス（３，４−ジアミノフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（３，５−ジアミノフェニル）フルオレ
ン、２，７−ジアミノ−９，９−ビス（４−アミノフェ
ニル）フルオレン、２，７−ジアミノ−９，９−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン
などが好ましい。
９−ビス（３，４−ジアミノフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（３，５−ジアミノフェニル）フルオレ
ン、２，７−ジアミノ−９，９−ビス（４−アミノフェ
ニル）フルオレン、２，７−ジアミノ−９，９−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕フルオレン
などが好ましい。
【００３９】分岐状構造を有する（Ａ）成分において、
ジアミン化合物１モルあたり、３官能以上のポリアミン
を、通常、０．０１〜０．３モル、好ましくは０．０２
〜０．２５モル使用する。
ジアミン化合物１モルあたり、３官能以上のポリアミン
を、通常、０．０１〜０．３モル、好ましくは０．０２
〜０．２５モル使用する。
【００４０】なお、分岐状構造を有する（Ａ）成分にお
いて、テトラカルボン酸二無水物とアミン化合物との反
応に用いられる有機溶媒、テトラカルボン酸二無水物と
ポリアミンを含むアミン化合物の使用割合、有機溶媒中
のモノマー濃度、反応温度、反応時間、得られるポリア
ミック酸の対数粘度、ポリアミック酸からポリイミドへ
の縮合方法、ポリアミック酸やポリイミドの数平均分子
量についても、分岐状構造を有しない上記（Ａ）成分を
調製する際のテトラカルボン酸二無水物とジアミンにお
ける場合と同様であるので、省略する。以上の分岐状構
造を有する（Ａ）成分は、単独でまたは２種以上を混合
して使用することができる。
いて、テトラカルボン酸二無水物とアミン化合物との反
応に用いられる有機溶媒、テトラカルボン酸二無水物と
ポリアミンを含むアミン化合物の使用割合、有機溶媒中
のモノマー濃度、反応温度、反応時間、得られるポリア
ミック酸の対数粘度、ポリアミック酸からポリイミドへ
の縮合方法、ポリアミック酸やポリイミドの数平均分子
量についても、分岐状構造を有しない上記（Ａ）成分を
調製する際のテトラカルボン酸二無水物とジアミンにお
ける場合と同様であるので、省略する。以上の分岐状構
造を有する（Ａ）成分は、単独でまたは２種以上を混合
して使用することができる。
【００４１】本発明の組成物において、（Ｉ）〜（II）
成分中の（Ａ）成分の配合割合は、加水分解・縮合後の
（Ｂ）成分１００重量部（完全加水分解縮合物換算）に
対して、完全縮合物換算で、通常、３〜５０重量部、好
ましくは３〜４５重量部である。なお、（Ｂ）成分の量
は、（Ｉ）〜（II）成分の合計量を示す。この場合、
（Ａ）成分の配合割合が５重量部未満では、得られる膜
形成用組成物の硬化時にクラックを発生する恐れがあ
る。一方、５０重量部を超えると、得られる膜の耐湿性
が低下する傾向がある。ここで、（Ａ）成分の完全縮合
物とは、ポリアミック酸が完全に閉環して、すべてポリ
イミド構造になったものをいう。また、（Ｂ）成分の完
全加水分解縮合物とは、シラン化合物のＲ2 Ｏ−基やＲ
4 Ｏ−基，Ｒ5 Ｏ−基が１００％加水分解してＳｉＯＨ
基となり、さらに完全に縮合してシロキサン構造になっ
たものをいう。
成分中の（Ａ）成分の配合割合は、加水分解・縮合後の
（Ｂ）成分１００重量部（完全加水分解縮合物換算）に
対して、完全縮合物換算で、通常、３〜５０重量部、好
ましくは３〜４５重量部である。なお、（Ｂ）成分の量
は、（Ｉ）〜（II）成分の合計量を示す。この場合、
（Ａ）成分の配合割合が５重量部未満では、得られる膜
形成用組成物の硬化時にクラックを発生する恐れがあ
る。一方、５０重量部を超えると、得られる膜の耐湿性
が低下する傾向がある。ここで、（Ａ）成分の完全縮合
物とは、ポリアミック酸が完全に閉環して、すべてポリ
イミド構造になったものをいう。また、（Ｂ）成分の完
全加水分解縮合物とは、シラン化合物のＲ2 Ｏ−基やＲ
4 Ｏ−基，Ｒ5 Ｏ−基が１００％加水分解してＳｉＯＨ
基となり、さらに完全に縮合してシロキサン構造になっ
たものをいう。
【００４２】（Ｉ）成分を構成する（Ｂ）シラン化合
物；本発明の（Ｉ）成分は、上記（Ａ）成分の存在下
に、（Ｂ）シラン化合物を加水分解・縮合して得られる
ポリオルガノシロキサン／ポリイミド系のハイブリッド
体である。（Ａ）成分の存在下に、（Ｂ）シラン化合物
を加水分解・縮合させることにより、（Ａ）成分中の加
水分解性オルガノシリル基が（Ｂ）シラン化合物と共縮
合して、（Ｉ）ハイブリッド体が得られ、これにより、
（Ｉ）〜（II）成分の相溶性が優れ、得られる組成物の
保存安定性が良好で、かつ可撓性に優れた塗膜となる。
以下、（Ｉ）ハイブリッド体に用いられる化合物（Ｂ−
１）〜（Ｂ−２）について、説明する。
物；本発明の（Ｉ）成分は、上記（Ａ）成分の存在下
に、（Ｂ）シラン化合物を加水分解・縮合して得られる
ポリオルガノシロキサン／ポリイミド系のハイブリッド
体である。（Ａ）成分の存在下に、（Ｂ）シラン化合物
を加水分解・縮合させることにより、（Ａ）成分中の加
水分解性オルガノシリル基が（Ｂ）シラン化合物と共縮
合して、（Ｉ）ハイブリッド体が得られ、これにより、
（Ｉ）〜（II）成分の相溶性が優れ、得られる組成物の
保存安定性が良好で、かつ可撓性に優れた塗膜となる。
以下、（Ｉ）ハイブリッド体に用いられる化合物（Ｂ−
１）〜（Ｂ−２）について、説明する。
【００４３】化合物（Ｂ−１）；上記一般式（１）にお
いて、Ｒ1 およびＲ2 の１価の有機基としては、アルキ
ル基、アリール基、アリル基、グリシジル基などを挙げ
ることができる。また、一般式（１）において、Ｒ1 は
１価の有機基、特にアルキル基またはフェニル基である
ことが好ましい。ここで、アルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられ、
好ましくは炭素数１〜５であり、これらのアルキル基は
鎖状でも、分岐していてもよく、さらに水素原子がフッ
素原子などに置換されていてもよい。一般式（１）にお
いて、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、
メチルフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基などを挙げ
ることができる。
いて、Ｒ1 およびＲ2 の１価の有機基としては、アルキ
ル基、アリール基、アリル基、グリシジル基などを挙げ
ることができる。また、一般式（１）において、Ｒ1 は
１価の有機基、特にアルキル基またはフェニル基である
ことが好ましい。ここで、アルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられ、
好ましくは炭素数１〜５であり、これらのアルキル基は
鎖状でも、分岐していてもよく、さらに水素原子がフッ
素原子などに置換されていてもよい。一般式（１）にお
いて、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、
メチルフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基などを挙げ
ることができる。
【００４４】一般式（１）で表される化合物の具体例と
しては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、ト
リ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉｓｏ−プロポキシ
シラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブ
トキシシラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、トリ
フェノキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フル
オロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキ
シシラン、フルオロトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、
フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、フルオロトリフェノキシシラン、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プ
ロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、
テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシ
シラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフ
ェノキシシランなど；
しては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、ト
リ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉｓｏ−プロポキシ
シラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブ
トキシシラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、トリ
フェノキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フル
オロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキ
シシラン、フルオロトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、
フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、フルオロトリフェノキシシラン、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プ
ロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、
テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシ
シラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフ
ェノキシシランなど；
【００４５】メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メ
チルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ
−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルト
リフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシ
ラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチル
トリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブト
キシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、
エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロ
ポキシシラン、ビニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラ
ン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ｎ−プロピル
トリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラ
ン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−プ
ロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−プロピル
トリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｓｅｃ
−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、ｎ−プロピルトリフェノキシシラン、ｉ−
プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキ
シシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、
ｉ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｉ−プ
ロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−
ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ
−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリフェノキシシラ
ン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラ
ン、ｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−
ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅ
ｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−ｉ−
トリエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−プロ
ポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｉｓｏ−プロポ
キシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、
ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓ
ｅｃ−ブチル−トリフェノキシシラン、ｔ−ブチルトリ
メトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔ−
ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−
ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−ブト
キシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｔ−
ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ
−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキ
シシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニ
ルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシラ
ンなど；
トキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メ
チルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ
−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルト
リフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシ
ラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチル
トリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブト
キシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、
エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロ
ポキシシラン、ビニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラ
ン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ｎ−プロピル
トリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラ
ン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−プ
ロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−プロピル
トリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｓｅｃ
−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、ｎ−プロピルトリフェノキシシラン、ｉ−
プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキ
シシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、
ｉ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｉ−プ
ロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−
ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ
−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリフェノキシシラ
ン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラ
ン、ｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−
ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅ
ｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−ｉ−
トリエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−プロ
ポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｉｓｏ−プロポ
キシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、
ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓ
ｅｃ−ブチル−トリフェノキシシラン、ｔ−ブチルトリ
メトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔ−
ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−
ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−ブト
キシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｔ−
ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ
−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキ
シシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニ
ルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシラ
ンなど；
【００４６】ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、
ジメチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメチル−
ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｓｅｃ−ブト
キシシラン、ジメチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラ
ン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシ
シラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ
−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキ
シシラン、ジエチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチ
ル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、
ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル
ジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−プロポ
キシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキ
シシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、
ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ
−ｎ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｉｓｏ−
プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジエ
トキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−プロポ
キシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロ
ポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキ
シシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキ
シシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−フェノキシシ
ラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチ
ルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−プロポ
キシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシ
シラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ
−ｎ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−
ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチ
ル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメト
キシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシシラン、ジ
−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｓ
ｅｃ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｓ
ｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−
ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブ
チル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブ
チル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシ
ラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシ
ラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、
ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル−ジ−エトキ
シシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ
フェニル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジフェニル
−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｓｅｃ−
ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
シラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビニルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエ
トキシシランなど；を挙げることができる。
トキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、
ジメチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメチル−
ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｓｅｃ−ブト
キシシラン、ジメチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラ
ン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシ
シラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ
−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキ
シシラン、ジエチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチ
ル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、
ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル
ジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−プロポ
キシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキ
シシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、
ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ
−ｎ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｉｓｏ−
プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジエ
トキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−プロポ
キシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロ
ポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキ
シシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキ
シシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−フェノキシシ
ラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチ
ルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−プロポ
キシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシ
シラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ
−ｎ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−
ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチ
ル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメト
キシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシシラン、ジ
−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｓ
ｅｃ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｓ
ｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−
ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブ
チル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブ
チル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシ
ラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシ
ラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、
ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル−ジ−エトキ
シシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ
フェニル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジフェニル
−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｓｅｃ−
ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
シラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビニルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエ
トキシシランなど；を挙げることができる。
【００４７】好ましくは、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テ
トラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラフェノキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルト
リ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチル
ジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェ
ニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、
トリメチルモノメトキシシラン、トリメチルモノエトキ
シシラン、トリエチルモノメトキシシラン、トリエチル
モノエトキシシラン、トリフェニルモノメトキシシラ
ン、トリフェニルモノエトキシシランである。これら
は、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
ラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テ
トラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラフェノキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルト
リ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチル
ジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェ
ニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、
トリメチルモノメトキシシラン、トリメチルモノエトキ
シシラン、トリエチルモノメトキシシラン、トリエチル
モノエトキシシラン、トリフェニルモノメトキシシラ
ン、トリフェニルモノエトキシシランである。これら
は、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
【００４８】化合物（Ｂ−２）；上記一般式（２）にお
いて、１価の有機基としては、先の一般式（１）と同様
な有機基を挙げることができる。また、一般式（２）の
Ｒ7 である２価の有機基としては、メチレン基、炭素数
２〜６のアルキレン基などを挙げることができる。一般
式（２）のうち、Ｒ7 が酸素原子の化合物としては、ヘ
キサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサ
ン、ヘキサフェノキシジシロキサン、１，１，１，３，
３−ペンタメトキシ−３−メチルジシロキサン、１，
１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−メチルジシロキ
サン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−フェ
ニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキ
シ−３−フェニルジシロキサン、１，１，３，３−テト
ラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，
３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロキサ
ン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジフェ
ニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−
１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３−トリメ
トキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，
１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリメチルジシロ
キサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリ
フェニルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−
１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，３−ジメ
トキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、
１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テ
トラフェニルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，
１，３，３−テトラフェニルジシロキサンなどを挙げる
ことができる。
いて、１価の有機基としては、先の一般式（１）と同様
な有機基を挙げることができる。また、一般式（２）の
Ｒ7 である２価の有機基としては、メチレン基、炭素数
２〜６のアルキレン基などを挙げることができる。一般
式（２）のうち、Ｒ7 が酸素原子の化合物としては、ヘ
キサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサ
ン、ヘキサフェノキシジシロキサン、１，１，１，３，
３−ペンタメトキシ−３−メチルジシロキサン、１，
１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−メチルジシロキ
サン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−フェ
ニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキ
シ−３−フェニルジシロキサン、１，１，３，３−テト
ラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，
３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロキサ
ン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジフェ
ニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−
１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３−トリメ
トキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，
１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリメチルジシロ
キサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリ
フェニルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−
１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，３−ジメ
トキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、
１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テ
トラフェニルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，
１，３，３−テトラフェニルジシロキサンなどを挙げる
ことができる。
【００４９】これらのうち、ヘキサメトキシジシロキサ
ン、ヘキサエトキシジシロキサン、１，１，３，３−テ
トラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，
１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロ
キサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジ
フェニルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキ
シ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，
３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシ
ロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テト
ラフェニルジシロキサンなどを、好ましい例として挙げ
ることができる。
ン、ヘキサエトキシジシロキサン、１，１，３，３−テ
トラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，
１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロ
キサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジ
フェニルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキ
シ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，
３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシ
ロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テト
ラフェニルジシロキサンなどを、好ましい例として挙げ
ることができる。
【００５０】また、一般式（２）において、ｄが０の化
合物としては、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキ
シジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、１，１，１，
２，２−ペンタメトキシ−２−メチルジシラン、１，
１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−メチルジシラ
ン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−フェニ
ルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２
−フェニルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ
−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラ
エトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２
−テトラメトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，
１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジフェニルジシ
ラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリメ
チルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２
−トリメチルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−
１，２，２−トリフェニルジシラン、１，１，２−トリ
エトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，２
−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラ
ン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチ
ルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テ
トラフェニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，
２，２−テトラフェニルジシランなどを挙げることがで
きる。
合物としては、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキ
シジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、１，１，１，
２，２−ペンタメトキシ−２−メチルジシラン、１，
１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−メチルジシラ
ン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−フェニ
ルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２
−フェニルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ
−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラ
エトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２
−テトラメトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，
１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジフェニルジシ
ラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリメ
チルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２
−トリメチルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−
１，２，２−トリフェニルジシラン、１，１，２−トリ
エトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，２
−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラ
ン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチ
ルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テ
トラフェニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，
２，２−テトラフェニルジシランなどを挙げることがで
きる。
【００５１】さらに、一般式（２）において、Ｒ7 が−
（ＣＨ2 ）n −で表される基の化合物としては、ビス
（ヘキサメトキシシリル）メタン、ビス（ヘキサエトキ
シシリル）メタン、ビス（ヘキサフェノキシシリル）メ
タン、ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス
（ジエトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジメトキシ
フェニルシリル）メタン、ビス（ジエトキシフェニルシ
リル）メタン、ビス（メトキシジメチルシリル）メタ
ン、ビス（エトキシジメチルシリル）メタン、ビス（メ
トキシジフェニルシリル）メタン、ビス（エトキシジフ
ェニルシリル）メタン、ビス（ヘキサメトキシシリル）
エタン、ビス（ヘキサエトキシシリル）エタン、ビス
（ヘキサフェノキシシリル）エタン、ビス（ジメトキシ
メチルシリル）エタン、ビス（ジエトキシメチルシリ
ル）エタン、ビス（ジメトキシフェニルシリル）エタ
ン、ビス（ジエトキシフェニルシリル）エタン、ビス
（メトキシジメチルシリル）エタン、ビス（エトキシジ
メチルシリル）エタン、ビス（メトキシジフェニルシリ
ル）エタン、ビス（エトキシジフェニルシリル）エタ
ン、１，３−ビス（ヘキサメトキシシリル）プロパン、
１，３−ビス（ヘキサエトキシシリル）プロパン、１，
３−ビス（ヘキサフェノキシシリル）プロパン、１，３
−ビス（ジメトキシメチルシリル）プロパン、１，３−
ビス（ジエトキシメチルシリル）プロパン、１，３−ビ
ス（ジメトキシフェニルシリル）プロパン、１，３−ビ
ス（ジエトキシフェニルシリル）プロパン、１，３−ビ
ス（メトキシジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス
（エトキシジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス
（メトキシジフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス
（エトキシジフェニルシリル）プロパンなどを挙げるこ
とができる。
（ＣＨ2 ）n −で表される基の化合物としては、ビス
（ヘキサメトキシシリル）メタン、ビス（ヘキサエトキ
シシリル）メタン、ビス（ヘキサフェノキシシリル）メ
タン、ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス
（ジエトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジメトキシ
フェニルシリル）メタン、ビス（ジエトキシフェニルシ
リル）メタン、ビス（メトキシジメチルシリル）メタ
ン、ビス（エトキシジメチルシリル）メタン、ビス（メ
トキシジフェニルシリル）メタン、ビス（エトキシジフ
ェニルシリル）メタン、ビス（ヘキサメトキシシリル）
エタン、ビス（ヘキサエトキシシリル）エタン、ビス
（ヘキサフェノキシシリル）エタン、ビス（ジメトキシ
メチルシリル）エタン、ビス（ジエトキシメチルシリ
ル）エタン、ビス（ジメトキシフェニルシリル）エタ
ン、ビス（ジエトキシフェニルシリル）エタン、ビス
（メトキシジメチルシリル）エタン、ビス（エトキシジ
メチルシリル）エタン、ビス（メトキシジフェニルシリ
ル）エタン、ビス（エトキシジフェニルシリル）エタ
ン、１，３−ビス（ヘキサメトキシシリル）プロパン、
１，３−ビス（ヘキサエトキシシリル）プロパン、１，
３−ビス（ヘキサフェノキシシリル）プロパン、１，３
−ビス（ジメトキシメチルシリル）プロパン、１，３−
ビス（ジエトキシメチルシリル）プロパン、１，３−ビ
ス（ジメトキシフェニルシリル）プロパン、１，３−ビ
ス（ジエトキシフェニルシリル）プロパン、１，３−ビ
ス（メトキシジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス
（エトキシジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス
（メトキシジフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス
（エトキシジフェニルシリル）プロパンなどを挙げるこ
とができる。
【００５２】これらのうち、ヘキサメトキシジシラン、
ヘキサエトキシジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、
１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジメチルジ
シラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジ
メチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−
１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラ
エトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，２−ジメ
トキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，
２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラ
ン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラフェ
ニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−
テトラフェニルジシラン、ビス（ヘキサメトキシシリ
ル）メタン、ビス（ヘキサエトキシシリル）メタン、ビ
ス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジエトキ
シメチルシリル）メタン、ビス（ジメトキシフェニルシ
リル）メタン、ビス（ジエトキシフェニルシリル）メタ
ン、ビス（メトキシジメチルシリル）メタン、ビス（エ
トキシジメチルシリル）メタン、ビス（メトキシジフェ
ニルシリル）メタン、ビス（エトキシジフェニルシリ
ル）メタンを、好ましい例として挙げることができる。
本発明において、（Ｂ）成分としては、上記化合物（Ｂ
−１）を使用することが好ましく、特に一般式（１）に
おいて、ａ＝０の化合物およびａ＝１の化合物を併用す
ることが好ましい。
ヘキサエトキシジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、
１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジメチルジ
シラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジ
メチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−
１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラ
エトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，２−ジメ
トキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，
２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラ
ン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラフェ
ニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−
テトラフェニルジシラン、ビス（ヘキサメトキシシリ
ル）メタン、ビス（ヘキサエトキシシリル）メタン、ビ
ス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジエトキ
シメチルシリル）メタン、ビス（ジメトキシフェニルシ
リル）メタン、ビス（ジエトキシフェニルシリル）メタ
ン、ビス（メトキシジメチルシリル）メタン、ビス（エ
トキシジメチルシリル）メタン、ビス（メトキシジフェ
ニルシリル）メタン、ビス（エトキシジフェニルシリ
ル）メタンを、好ましい例として挙げることができる。
本発明において、（Ｂ）成分としては、上記化合物（Ｂ
−１）を使用することが好ましく、特に一般式（１）に
おいて、ａ＝０の化合物およびａ＝１の化合物を併用す
ることが好ましい。
【００５３】（Ｉ）ハイブリッド体の調製； （Ｉ）ハイブリッド体を調製するには、例えば、溶液状
態の（Ａ）成分に（Ｂ）シラン化合物と必要量の水を加
えて、（Ｂ）成分を加水分解・縮合させるか（溶液
法）、あるいは、水性エマルジョン状態の（Ａ）成分に
（Ｂ）シラン化合物を加えて加水分解・縮合する（エマ
ルジョン法）。この際、いずれの場合でも、（Ｂ）成分
を構成する化合物（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）を加水分解、
縮合させる際に、Ｒ2 Ｏ−基，Ｒ4 Ｏ−基およびＲ5 Ｏ
−基の総量１モル当たり、０．２５〜３モルの水を用い
ることが好ましく、０．３〜２．５モルの水を加えるこ
とが特に好ましい。添加する水の量が０．２５〜３モル
の範囲内の値であれば、塗膜の均一性が低下する恐れが
無く、また、加水分解および縮合反応中のポリマーの析
出やゲル化の恐れが少ないためである。
態の（Ａ）成分に（Ｂ）シラン化合物と必要量の水を加
えて、（Ｂ）成分を加水分解・縮合させるか（溶液
法）、あるいは、水性エマルジョン状態の（Ａ）成分に
（Ｂ）シラン化合物を加えて加水分解・縮合する（エマ
ルジョン法）。この際、いずれの場合でも、（Ｂ）成分
を構成する化合物（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）を加水分解、
縮合させる際に、Ｒ2 Ｏ−基，Ｒ4 Ｏ−基およびＲ5 Ｏ
−基の総量１モル当たり、０．２５〜３モルの水を用い
ることが好ましく、０．３〜２．５モルの水を加えるこ
とが特に好ましい。添加する水の量が０．２５〜３モル
の範囲内の値であれば、塗膜の均一性が低下する恐れが
無く、また、加水分解および縮合反応中のポリマーの析
出やゲル化の恐れが少ないためである。
【００５４】上記いずれの場合も、（Ｉ）ハイブリッド
体を製造する際の反応温度は、通常、０〜１２０℃、好
ましくは１０〜１００℃、反応時間は、通常、１０分〜
３６時間、好ましくは３０分〜２４時間程度である。
体を製造する際の反応温度は、通常、０〜１２０℃、好
ましくは１０〜１００℃、反応時間は、通常、１０分〜
３６時間、好ましくは３０分〜２４時間程度である。
【００５５】また、化合物（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）を加
水分解、縮合させる際には、（Ｄ）触媒を使用してもよ
い。この際に使用する（Ｄ）触媒としては、金属キレー
ト化合物、酸性化合物（有機酸，無機酸）、アルカリ性
化合物（有機塩基，無機塩基）を挙げることができる。
水分解、縮合させる際には、（Ｄ）触媒を使用してもよ
い。この際に使用する（Ｄ）触媒としては、金属キレー
ト化合物、酸性化合物（有機酸，無機酸）、アルカリ性
化合物（有機塩基，無機塩基）を挙げることができる。
【００５６】金属キレート化合物としては、上記一般式
（３）で表される金属のキレート化合物が挙げられる。
上記一般式（３）中、Ｒ8 はキレート剤、Ｍはチタン、
ジルコニウム、アルミニウムなどの金属原子、Ｒ9 は炭
素数２〜５のアルキル基または炭素数６〜２０のアリー
ル基を示し、ｆは金属Ｍの原子価、ｅは１〜ｆの整数で
ある。この金属キレート化合物の具体例としては、トリ
エトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ
−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタ
ン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナー
ト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセ
トナート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（ア
セチルアセトナート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モ
ノ（アセチルアセトナート）チタン、ジエトキシ・ビス
（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ
・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｉ−プロ
ポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ
−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ
−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チ
タン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナー
ト）チタン、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナ
ート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチ
ルアセトナート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリ
ス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−ブトキ
シ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｓ
ｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタ
ン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナー
ト）チタン、テトラキス（アセチルアセトナート）チタ
ン、トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チ
タン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセ
テート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチル
アセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ
（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブ
トキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ
−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタ
ン、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタ
ン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテー
ト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセト
アセテート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチル
アセトアセテート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビ
ス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｔ−ブトキ
シ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、モノエト
キシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ
−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）
チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセト
アセテート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エ
チルアセトアセテート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキ
シ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−
ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタ
ン、テトラキス（エチルアセトアセテート）チタン、モ
ノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセ
テート）チタン、ビス（アセチルアセトナート）ビス
（エチルアセトアセテート）チタン、トリス（アセチル
アセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）チタン
などのチタンキレート化合物；
（３）で表される金属のキレート化合物が挙げられる。
上記一般式（３）中、Ｒ8 はキレート剤、Ｍはチタン、
ジルコニウム、アルミニウムなどの金属原子、Ｒ9 は炭
素数２〜５のアルキル基または炭素数６〜２０のアリー
ル基を示し、ｆは金属Ｍの原子価、ｅは１〜ｆの整数で
ある。この金属キレート化合物の具体例としては、トリ
エトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ
−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタ
ン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナー
ト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセ
トナート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（ア
セチルアセトナート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モ
ノ（アセチルアセトナート）チタン、ジエトキシ・ビス
（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ
・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｉ−プロ
ポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ
−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ
−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チ
タン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナー
ト）チタン、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナ
ート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチ
ルアセトナート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリ
ス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−ブトキ
シ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｓ
ｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタ
ン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナー
ト）チタン、テトラキス（アセチルアセトナート）チタ
ン、トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チ
タン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセ
テート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチル
アセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ
（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブ
トキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ
−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタ
ン、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタ
ン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテー
ト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセト
アセテート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチル
アセトアセテート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビ
ス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｔ−ブトキ
シ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、モノエト
キシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ
−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）
チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセト
アセテート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エ
チルアセトアセテート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキ
シ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−
ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタ
ン、テトラキス（エチルアセトアセテート）チタン、モ
ノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセ
テート）チタン、ビス（アセチルアセトナート）ビス
（エチルアセトアセテート）チタン、トリス（アセチル
アセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）チタン
などのチタンキレート化合物；
【００５７】トリエトキシ・モノ（アセチルアセトナー
ト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセ
チルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキ
シ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ
−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコ
ニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセ
トナート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ
（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジエトキシ・
ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−
プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウ
ム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナー
ト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチル
アセトナート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・
ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｔ−
ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウ
ム、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジ
ルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチル
アセトナート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・
トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−
ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコ
ニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルア
セトナート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリ
ス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、テトラキス
（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリエトキシ
・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ
−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジ
ルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセ
トアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モ
ノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジル
コニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトア
セテート）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（エチルア
セトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・
ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ
−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコ
ニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテ
ート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エ
チルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキ
シ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モ
ノエトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコ
ニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセト
アセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・ト
リス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−
ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジル
コニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルア
セトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・
トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テト
ラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ
（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテ
ート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナート）ビ
ス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリス
（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテー
ト）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；
ト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセ
チルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキ
シ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ
−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコ
ニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセ
トナート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ
（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジエトキシ・
ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−
プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウ
ム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナー
ト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチル
アセトナート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・
ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｔ−
ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウ
ム、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジ
ルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチル
アセトナート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・
トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−
ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコ
ニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルア
セトナート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリ
ス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、テトラキス
（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリエトキシ
・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ
−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジ
ルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセ
トアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モ
ノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジル
コニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトア
セテート）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（エチルア
セトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・
ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ
−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコ
ニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテ
ート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エ
チルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキ
シ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モ
ノエトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコ
ニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセト
アセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・ト
リス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−
ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジル
コニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルア
セトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・
トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テト
ラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ
（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテ
ート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナート）ビ
ス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリス
（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテー
ト）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；
【００５８】トリス（アセチルアセトナート）アルミニ
ウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム
などのアルミニウムキレート化合物；などを挙げること
ができる。
ウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム
などのアルミニウムキレート化合物；などを挙げること
ができる。
【００５９】有機酸としては、例えば、酢酸、プロピオ
ン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン
酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレ
イン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没
食子酸、酪酸、メリット酸、アラキドン酸、シキミ酸、
２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リ
ノール酸、リノレイン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−
アミノ安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ
酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン
酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸などを挙げ
ることができる。無機酸としては、例えば、塩酸、硝
酸、硫酸、フッ酸、リン酸などを挙げることができる。
ン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン
酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレ
イン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没
食子酸、酪酸、メリット酸、アラキドン酸、シキミ酸、
２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リ
ノール酸、リノレイン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−
アミノ安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ
酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン
酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸などを挙げ
ることができる。無機酸としては、例えば、塩酸、硝
酸、硫酸、フッ酸、リン酸などを挙げることができる。
【００６０】有機塩基としては、例えば、ピリジン、ピ
ロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリ
ン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノ
ールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、ジアザビシクロオクラン、ジアザビシク
ロノナン、ジアザビシクロウンデセン、テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイドなどを挙げることができ
る。無機塩基としては、例えば、アンモニア、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カ
ルシウムなどを挙げることができる。
ロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリ
ン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノ
ールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、ジアザビシクロオクラン、ジアザビシク
ロノナン、ジアザビシクロウンデセン、テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイドなどを挙げることができ
る。無機塩基としては、例えば、アンモニア、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カ
ルシウムなどを挙げることができる。
【００６１】これら触媒のうち、有機塩基、無機塩基、
有機酸、無機酸が好ましく、より好ましくは、有機酸、
無機塩基を挙げることができる。有機酸としては、特に
酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸が好ましい。こ
れらの触媒は、１種あるいは２種以上を同時に使用して
もよい。
有機酸、無機酸が好ましく、より好ましくは、有機酸、
無機塩基を挙げることができる。有機酸としては、特に
酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸が好ましい。こ
れらの触媒は、１種あるいは２種以上を同時に使用して
もよい。
【００６２】上記（Ｄ）触媒の使用量は、化合物（Ｂ−
１）〜（Ｂ−２）に含まれるＲ2 Ｏ−基，Ｒ4 Ｏ−基お
よびＲ5 Ｏ−基の総量１モルに対して、通常、０．００
００１〜０．０５モル、好ましくは０．００００１〜
０．０１モルである。
１）〜（Ｂ−２）に含まれるＲ2 Ｏ−基，Ｒ4 Ｏ−基お
よびＲ5 Ｏ−基の総量１モルに対して、通常、０．００
００１〜０．０５モル、好ましくは０．００００１〜
０．０１モルである。
【００６３】（Ｉ）ハイブリッド体の分子量は、ＧＰＣ
（屈折率，粘度，光散乱測定）法による重量平均分子量
で、好ましくは２，０００〜１，２００，０００、さら
に好ましくは２，０００〜１，０００，０００である。
２，０００未満では、塗膜の均一性が低下する場合があ
る。一方、１，２００，０００を超えると、溶液のろ過
性が低下する場合がある。
（屈折率，粘度，光散乱測定）法による重量平均分子量
で、好ましくは２，０００〜１，２００，０００、さら
に好ましくは２，０００〜１，０００，０００である。
２，０００未満では、塗膜の均一性が低下する場合があ
る。一方、１，２００，０００を超えると、溶液のろ過
性が低下する場合がある。
【００６４】（II）加水分解縮合物 本発明の膜形成用組成物を構成する（II）成分は、シラ
ン化合物〔上記化合物（Ｂ−１）および（Ｂ−２）もし
くはいずれか一方〕の、加水分解物および縮合物もしく
はいずれか一方（加水分解縮合物）である。ここで、膜
を形成するベースポリマーとして、上記（Ｉ）ハイブリ
ッド体とこの（II）加水分解縮合物を併用することによ
り、上記のように、両者の相溶性が良好となり、本発明
の組成物は、保存安定性に優れる。これに有機溶媒など
を含んだ保存安定性に優れた本発明の膜形成用組成物
は、例えば、浸漬法またはスピンコート法などにより、
シリコンウエハなどの基材に塗布され、加熱処理される
と、（Ｉ）ハイブリッド体において、（Ａ）成分の縮合
・閉環反応と（Ｂ）成分の熱重縮合が、また（II）成分
の熱重縮合が変更して生起し、（Ｂ）成分がガラス質ま
たは巨大高分子の膜を形成するとともに、（Ａ）成分が
高分子量のポリイミドとなり、これら（Ｉ）〜（II）成
分の両者が複合化して、可撓性に優れた塗膜となる。こ
の結果、得られる膜は、耐熱性、電気絶縁性（比誘電率
３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐性に優れた絶縁膜形
成材料となる。また、本発明の組成物には、後記するよ
うに、さらに（Ｃ）有機ポリマーを配合すると、塗膜の
加熱処理によって、この（Ｃ）有機ポリマーが分解・除
去されて、さらに電気絶縁性が向上するとともに、多孔
質の低密度化膜が得られる。
ン化合物〔上記化合物（Ｂ−１）および（Ｂ−２）もし
くはいずれか一方〕の、加水分解物および縮合物もしく
はいずれか一方（加水分解縮合物）である。ここで、膜
を形成するベースポリマーとして、上記（Ｉ）ハイブリ
ッド体とこの（II）加水分解縮合物を併用することによ
り、上記のように、両者の相溶性が良好となり、本発明
の組成物は、保存安定性に優れる。これに有機溶媒など
を含んだ保存安定性に優れた本発明の膜形成用組成物
は、例えば、浸漬法またはスピンコート法などにより、
シリコンウエハなどの基材に塗布され、加熱処理される
と、（Ｉ）ハイブリッド体において、（Ａ）成分の縮合
・閉環反応と（Ｂ）成分の熱重縮合が、また（II）成分
の熱重縮合が変更して生起し、（Ｂ）成分がガラス質ま
たは巨大高分子の膜を形成するとともに、（Ａ）成分が
高分子量のポリイミドとなり、これら（Ｉ）〜（II）成
分の両者が複合化して、可撓性に優れた塗膜となる。こ
の結果、得られる膜は、耐熱性、電気絶縁性（比誘電率
３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐性に優れた絶縁膜形
成材料となる。また、本発明の組成物には、後記するよ
うに、さらに（Ｃ）有機ポリマーを配合すると、塗膜の
加熱処理によって、この（Ｃ）有機ポリマーが分解・除
去されて、さらに電気絶縁性が向上するとともに、多孔
質の低密度化膜が得られる。
【００６５】本発明において、（Ｉ）〜（II）成分にお
ける加水分解とは、上記（Ｉ）〜（II）成分を構成する
化合物（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）に含まれるＲ2 Ｏ−基，
Ｒ4Ｏ−基およびＲ5 Ｏ−基がすべてが加水分解されて
いる必要はなく、例えば１個だけが加水分解されている
もの、２個以上が加水分解されているもの、あるいは、
これらの混合物が生成することである。また、本発明に
おいて、縮合とは、（Ｂ）成分を構成する加水分解物の
シラノール基が縮合してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成した
ものであるが、本発明では、シラノール基がすべて縮合
している必要はなく、僅かな一部のシラノール基が縮合
したもの、縮合の程度が異なっているものの混合物など
をも生成することを包含した概念である。
ける加水分解とは、上記（Ｉ）〜（II）成分を構成する
化合物（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）に含まれるＲ2 Ｏ−基，
Ｒ4Ｏ−基およびＲ5 Ｏ−基がすべてが加水分解されて
いる必要はなく、例えば１個だけが加水分解されている
もの、２個以上が加水分解されているもの、あるいは、
これらの混合物が生成することである。また、本発明に
おいて、縮合とは、（Ｂ）成分を構成する加水分解物の
シラノール基が縮合してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成した
ものであるが、本発明では、シラノール基がすべて縮合
している必要はなく、僅かな一部のシラノール基が縮合
したもの、縮合の程度が異なっているものの混合物など
をも生成することを包含した概念である。
【００６６】本発明において、（II）成分は、上記化合
物（Ｂ−１）および（Ｂ−２）もしくはいずれか一方
が、（共）加水分解・縮合してなる加水分解縮合物であ
る。
物（Ｂ−１）および（Ｂ−２）もしくはいずれか一方
が、（共）加水分解・縮合してなる加水分解縮合物であ
る。
【００６７】なお、上記（II）成分を構成する化合物
（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）を加水分解、縮合させる際の水
の使用量は、（Ｉ）成分を調製する際の水の使用量と同
様である。すなわち、Ｒ2 Ｏ−基，Ｒ4 Ｏ−基およびＲ
5 Ｏ−基の総量１モル当たり、０．２５〜３モルの水を
用いることが好ましく、０．３〜２．５モルの水を加え
ることが特に好ましい。添加する水の量が０．２５〜３
モルの範囲内の値であれば、塗膜の均一性が低下する恐
れが無く、また、加水分解および縮合反応中のポリマー
の析出やゲル化の恐れが少ない。また、（II）加水分解
縮合物を調製するに際しては、上記（Ｉ）成分と同様
に、（Ｄ）触媒を使用することが好ましく、その使用量
も、（Ｉ）成分における場合と同様である。
（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）を加水分解、縮合させる際の水
の使用量は、（Ｉ）成分を調製する際の水の使用量と同
様である。すなわち、Ｒ2 Ｏ−基，Ｒ4 Ｏ−基およびＲ
5 Ｏ−基の総量１モル当たり、０．２５〜３モルの水を
用いることが好ましく、０．３〜２．５モルの水を加え
ることが特に好ましい。添加する水の量が０．２５〜３
モルの範囲内の値であれば、塗膜の均一性が低下する恐
れが無く、また、加水分解および縮合反応中のポリマー
の析出やゲル化の恐れが少ない。また、（II）加水分解
縮合物を調製するに際しては、上記（Ｉ）成分と同様
に、（Ｄ）触媒を使用することが好ましく、その使用量
も、（Ｉ）成分における場合と同様である。
【００６８】（II）成分の分子量は、ＧＰＣ（屈折率，
粘度，光散乱測定）法による重量平均分子量で、好まし
くは２，０００〜１００，０００、さらに好ましくは
２，０００〜９０，０００である。２，０００未満で
は、塗膜の均一性が低下する場合がある。一方、１０
０，０００を超えると、溶液のろ過性が低下する場合が
ある。
粘度，光散乱測定）法による重量平均分子量で、好まし
くは２，０００〜１００，０００、さらに好ましくは
２，０００〜９０，０００である。２，０００未満で
は、塗膜の均一性が低下する場合がある。一方、１０
０，０００を超えると、溶液のろ過性が低下する場合が
ある。
【００６９】（Ｉ）成分と（II）成分の使用割合；本発
明の膜形成用組成物において、上記（Ｉ）成分と（II）
成分の使用割合は、（Ｉ）成分１００重量部（完全加水
分解縮合物換算）に対し、（II）成分が５〜５００重量
部、好ましくは１０〜４００重量部である。５重量部未
満では、塗膜の機械的強度が劣る場合があり、一方、５
００重量部を超えると、塗膜の耐クラック性が低下する
場合がある。
明の膜形成用組成物において、上記（Ｉ）成分と（II）
成分の使用割合は、（Ｉ）成分１００重量部（完全加水
分解縮合物換算）に対し、（II）成分が５〜５００重量
部、好ましくは１０〜４００重量部である。５重量部未
満では、塗膜の機械的強度が劣る場合があり、一方、５
００重量部を超えると、塗膜の耐クラック性が低下する
場合がある。
【００７０】（Ｃ）有機ポリマー；本発明の膜形成用組
成物は、上記（Ｉ）〜（II）成分を含有するが、さらに
（Ｃ）有機ポリマーを配合してもよい。（Ｃ）成分は、
ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
アンハイドライド、および（メタ）アクリル系重合体の
群から選ばれた少なくとも１種である。
成物は、上記（Ｉ）〜（II）成分を含有するが、さらに
（Ｃ）有機ポリマーを配合してもよい。（Ｃ）成分は、
ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
アンハイドライド、および（メタ）アクリル系重合体の
群から選ばれた少なくとも１種である。
【００７１】このうち、（Ｃ）成分を構成するポリエー
テルとしては、繰り返し単位中の炭素数が２〜１２のポ
リアルキレングリコール化合物を挙げることができ、例
えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、ポリペンタメチレングリコール、ポリヘ
キサメチレングリコール、ポリエチレングリコール−ポ
リプロピレングリコールブロックコポリマー、ポリエチ
レングリコール−ポリテトラメチレングリコールブロッ
クコポリマー、ポリエチレングリコール−ポリプロピレ
ングリコール−ポリエチレングリコールブロックコポリ
マー、およびそのメチルエーテル、エチルエーテル、プ
ロピルエーテル、トリメトキシシリルエーテル、トリエ
トキシシリルエーテル、トリプロポキシシリルエーテ
ル、トリメトキシシリルメチルエーテル、トリエトキシ
シリルメチルエーテル、２−トリメトキシシリルエチル
エーテル、２−トリエトキシシリルエチルエーテル、３
−トリメトキシシリルプロピルエーテル、３−トリエト
キシシリルプロピルエーテルなどのほか、ポリエチレン
グリコールモノペンチルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノヘキシルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノペプチルエーテル、ポリエチレングリコールモノオク
チルエーテル、ポリエチレングリコールモノノニルエー
テル、ポリエチレングリコールモノデカニルエーテル、
ポリエチレングリコールモノウンデカニルエーテル、ポ
リエチレングリコールモノドデカニルエーテル、ポリエ
チレングリコールモノトリデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノテトラデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノペンタデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノヘキサデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノヘプタデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノオクタデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノノナデカニルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノイコサニルエーテル、ポリエチレング
リコールモノヘニコサニルエーテル、ポリエチレングリ
コールモノドコサニルエーテル、ポリエチレングリコー
ルモノトリコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノテトラコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノペンタコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノヘキサコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノヘプタコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノオクタコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノノナコサニルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノトリアコンタニルエーテルなどのポリエチレングリコ
ールアルキルエーテル類およびそのメチルエーテル、エ
チルエーテル、プロピルエーテル、トリメトキシシリル
エーテル、トリエトキシシリルエーテル、トリプロポキ
シシリルエーテル、トリメトキシシリルメチルエーテ
ル、トリエトキシシリルメチルエーテル、２−トリメト
キシシリルエチルエーテル、２−トリエトキシシリルエ
チルエーテル、３−トリメトキシシリルプロピルエーテ
ル、３−トリエトキシシリルプロピルエーテルなどのポ
リエチレングリコールアルキルエーテル誘導体；
テルとしては、繰り返し単位中の炭素数が２〜１２のポ
リアルキレングリコール化合物を挙げることができ、例
えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、ポリペンタメチレングリコール、ポリヘ
キサメチレングリコール、ポリエチレングリコール−ポ
リプロピレングリコールブロックコポリマー、ポリエチ
レングリコール−ポリテトラメチレングリコールブロッ
クコポリマー、ポリエチレングリコール−ポリプロピレ
ングリコール−ポリエチレングリコールブロックコポリ
マー、およびそのメチルエーテル、エチルエーテル、プ
ロピルエーテル、トリメトキシシリルエーテル、トリエ
トキシシリルエーテル、トリプロポキシシリルエーテ
ル、トリメトキシシリルメチルエーテル、トリエトキシ
シリルメチルエーテル、２−トリメトキシシリルエチル
エーテル、２−トリエトキシシリルエチルエーテル、３
−トリメトキシシリルプロピルエーテル、３−トリエト
キシシリルプロピルエーテルなどのほか、ポリエチレン
グリコールモノペンチルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノヘキシルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノペプチルエーテル、ポリエチレングリコールモノオク
チルエーテル、ポリエチレングリコールモノノニルエー
テル、ポリエチレングリコールモノデカニルエーテル、
ポリエチレングリコールモノウンデカニルエーテル、ポ
リエチレングリコールモノドデカニルエーテル、ポリエ
チレングリコールモノトリデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノテトラデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノペンタデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノヘキサデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノヘプタデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノオクタデカニルエーテル、ポリエチ
レングリコールモノノナデカニルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノイコサニルエーテル、ポリエチレング
リコールモノヘニコサニルエーテル、ポリエチレングリ
コールモノドコサニルエーテル、ポリエチレングリコー
ルモノトリコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノテトラコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノペンタコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノヘキサコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノヘプタコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノオクタコサニルエーテル、ポリエチレングリコール
モノノナコサニルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノトリアコンタニルエーテルなどのポリエチレングリコ
ールアルキルエーテル類およびそのメチルエーテル、エ
チルエーテル、プロピルエーテル、トリメトキシシリル
エーテル、トリエトキシシリルエーテル、トリプロポキ
シシリルエーテル、トリメトキシシリルメチルエーテ
ル、トリエトキシシリルメチルエーテル、２−トリメト
キシシリルエチルエーテル、２−トリエトキシシリルエ
チルエーテル、３−トリメトキシシリルプロピルエーテ
ル、３−トリエトキシシリルプロピルエーテルなどのポ
リエチレングリコールアルキルエーテル誘導体；
【００７２】ポリエチレングリコールモノ−ｐ−メチル
フェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−
エチルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ
−ｐ−プロピルフェニルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノ−ｐ−ブチルフェニルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノ−ｐ−ペンチルフェニルエーテル、ポリ
エチレングリコールモノ−ｐ−ヘキシルフェニルエーテ
ル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−ペプチルフェニ
ルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−オクチ
ルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ
−ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノ−ｐ−デカニルフェニルエーテル、ポリエチレングリ
コールモノ−ｐ−ウンデカニルフェニルエーテル、ポリ
エチレングリコールモノ−ｐ−ドデカニルフェニルエー
テル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−トリデカニル
フェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−
テトラデカニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノ−ｐ−ペンタデカニルフェニルエーテル、ポリ
エチレングリコールモノ−ｐ−ヘキサデカニルフェニル
エーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−ヘプタデ
カニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ
−ｐ−オクタデカニルフェニルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノ−ｐ−ノナデカニルフェニルエーテル、
ポリエチレングリコールモノ−ｐ−イコサニルフェニル
エーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−ヘニコサ
ニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−
ｐ−ドコサニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノ−ｐ−トリコサニルフェニルエーテル、ポリエ
チレングリコールモノ−ｐ−テトラコサニルフェニルエ
ーテルなどのポリエチレングリコール−ｐ−アルキルフ
ェニルエーテル類およびそのメチルエーテル、エチルエ
ーテル、プロピルエーテル、トリメトキシシリルエーテ
ル、トリエトキシシリルエーテル、トリプロポキシシリ
ルエーテル、トリメトキシシリルメチルエーテル、トリ
エトキシシリルメチルエーテル、２−トリメトキシシリ
ルエチルエーテル、２−トリエトキシシリルエチルエー
テル、３−トリメトキシシリルプロピルエーテル、３−
トリエトキシシリルプロピルエーテルなどのポリエチレ
ングリコール−ｐ−アルキルフェニルエーテル誘導体；
フェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−
エチルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ
−ｐ−プロピルフェニルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノ−ｐ−ブチルフェニルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノ−ｐ−ペンチルフェニルエーテル、ポリ
エチレングリコールモノ−ｐ−ヘキシルフェニルエーテ
ル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−ペプチルフェニ
ルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−オクチ
ルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ
−ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノ−ｐ−デカニルフェニルエーテル、ポリエチレングリ
コールモノ−ｐ−ウンデカニルフェニルエーテル、ポリ
エチレングリコールモノ−ｐ−ドデカニルフェニルエー
テル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−トリデカニル
フェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−
テトラデカニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノ−ｐ−ペンタデカニルフェニルエーテル、ポリ
エチレングリコールモノ−ｐ−ヘキサデカニルフェニル
エーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−ヘプタデ
カニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ
−ｐ−オクタデカニルフェニルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノ−ｐ−ノナデカニルフェニルエーテル、
ポリエチレングリコールモノ−ｐ−イコサニルフェニル
エーテル、ポリエチレングリコールモノ−ｐ−ヘニコサ
ニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−
ｐ−ドコサニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコ
ールモノ−ｐ−トリコサニルフェニルエーテル、ポリエ
チレングリコールモノ−ｐ−テトラコサニルフェニルエ
ーテルなどのポリエチレングリコール−ｐ−アルキルフ
ェニルエーテル類およびそのメチルエーテル、エチルエ
ーテル、プロピルエーテル、トリメトキシシリルエーテ
ル、トリエトキシシリルエーテル、トリプロポキシシリ
ルエーテル、トリメトキシシリルメチルエーテル、トリ
エトキシシリルメチルエーテル、２−トリメトキシシリ
ルエチルエーテル、２−トリエトキシシリルエチルエー
テル、３−トリメトキシシリルプロピルエーテル、３−
トリエトキシシリルプロピルエーテルなどのポリエチレ
ングリコール−ｐ−アルキルフェニルエーテル誘導体；
【００７３】ポリエチレングリコールモノペンタン酸エ
ステル、ポリエチレングリコールモノヘキサン酸エステ
ル、ポリエチレングリコールモノヘプタン酸エステル、
ポリエチレングリコールモノオクタン酸エステル、ポリ
エチレングリコールモノノナン酸エステル、ポリエチレ
ングリコールモノデカン酸エステル、ポリエチレングリ
コールモノウンデカン酸エステル、ポリエチレングリコ
ールモノドデカン酸エステル、ポリエチレングリコール
モノトリデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノテトラデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノペンタデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノヘキサデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノヘプタデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノオクタデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノノナデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモノ
イコサン酸エステル、ポリエチレングリコールモノヘニ
コサン酸エステル、ポリエチレングリコールモノドコサ
ン酸エステル、ポリエチレングリコールモノトリコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノテトラコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノペンタコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノヘキサコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノヘプタコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノオクタコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノノナコサン酸
エステル、ポリエチレングリコールモノトリアコンタン
酸エステルなどのポリエチレングリコールアルキル酸エ
ステル類およびそのメチルエーテル、エチルエーテル、
プロピルエーテル、トリメトキシシリルエーテル、トリ
エトキシシリルエーテル、トリプロポキシシリルエーテ
ル、トリメトキシシリルメチルエーテル、トリエトキシ
シリルメチルエーテル、２−トリメトキシシリルエチル
エーテル、２−トリエトキシシリルエチルエーテル、３
−トリメトキシシリルプロピルエーテル、３−トリエト
キシシリルプロピルエーテルなどのポリエチレングリコ
ールアルキル酸エステル誘導体などを挙げることができ
る。これらのポリエーテルは、１種単独であるいは２種
以上を併用することができる。
ステル、ポリエチレングリコールモノヘキサン酸エステ
ル、ポリエチレングリコールモノヘプタン酸エステル、
ポリエチレングリコールモノオクタン酸エステル、ポリ
エチレングリコールモノノナン酸エステル、ポリエチレ
ングリコールモノデカン酸エステル、ポリエチレングリ
コールモノウンデカン酸エステル、ポリエチレングリコ
ールモノドデカン酸エステル、ポリエチレングリコール
モノトリデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノテトラデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノペンタデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノヘキサデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノヘプタデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノオクタデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモ
ノノナデカン酸エステル、ポリエチレングリコールモノ
イコサン酸エステル、ポリエチレングリコールモノヘニ
コサン酸エステル、ポリエチレングリコールモノドコサ
ン酸エステル、ポリエチレングリコールモノトリコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノテトラコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノペンタコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノヘキサコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノヘプタコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノオクタコサン
酸エステル、ポリエチレングリコールモノノナコサン酸
エステル、ポリエチレングリコールモノトリアコンタン
酸エステルなどのポリエチレングリコールアルキル酸エ
ステル類およびそのメチルエーテル、エチルエーテル、
プロピルエーテル、トリメトキシシリルエーテル、トリ
エトキシシリルエーテル、トリプロポキシシリルエーテ
ル、トリメトキシシリルメチルエーテル、トリエトキシ
シリルメチルエーテル、２−トリメトキシシリルエチル
エーテル、２−トリエトキシシリルエチルエーテル、３
−トリメトキシシリルプロピルエーテル、３−トリエト
キシシリルプロピルエーテルなどのポリエチレングリコ
ールアルキル酸エステル誘導体などを挙げることができ
る。これらのポリエーテルは、１種単独であるいは２種
以上を併用することができる。
【００７４】ポリエーテルのＧＰＣ法による重量平均分
子量は、通常、３００〜３００，０００、好ましくは３
００〜２００，０００、特に好ましくは３００〜１０
０，０００である。
子量は、通常、３００〜３００，０００、好ましくは３
００〜２００，０００、特に好ましくは３００〜１０
０，０００である。
【００７５】また、（Ｃ）成分を構成するポリエステル
としては、炭素数２〜１２の脂肪族鎖およびエステル結
合を繰り返し単位中に含む化合物を挙げることができ、
例えば、ポリカプロラクトン、ポリピバロラクトン、ポ
リエチレンオキサレート、ポリエチレンマロネート、ポ
リエチレンスクシネート、ポリエチレングリタレート、
ポリエチレンアジペート、ポリエチレンピメレート、ポ
リエチレンスベレート、ポリエチレンアゼラート、ポリ
エチレンセバケート、ポリプロピレンオキサレート、ポ
リプロピレンマロネート、ポリプロピレンスクシネー
ト、ポリプロピレングリタレート、ポリプロピレンアジ
ペート、ポリプロピレンピメレート、ポリプロピレンス
ベレート、ポリプロピレンアゼラート、ポリプロピレン
セバケート、ポリブチレンオキサレート、ポリブチレン
マロネート、ポリブチレンスクシネート、ポリブチレン
グリタレート、ポリブチレンアジペート、ポリブチレン
ピメレート、ポリブチレンスベレート、ポリブチレンア
ゼラート、ポリブチレンセバケート、ポリオキシジエチ
レンオキサレート、ポリオキシジエチレンマロネート、
ポリオキシジエチレンスクシネート、ポリオキシジエチ
レングリタレート、ポリオキシジエチレンアジペート、
ポリオキシジエチレンピメレート、ポリオキシジエチレ
ンスベレート、ポリオキシジエチレンアゼラート、ポリ
オキシジエチレンセバケートなどの脂肪族ポリエステル
類、およびそのメチルエーテル、エチルエーテル、プロ
ピルエーテル、トリメトキシシリルエーテル、トリエト
キシシリルエーテル、トリプロポキシシリルエーテル、
トリメトキシシリルメチルエーテル、トリエトキシシリ
ルメチルエーテル、２−トリメトキシシリルエチルエー
テル、２−トリエトキシシリルエチルエーテル、３−ト
リメトキシシリルプロピルエーテル、３−トリエトキシ
シリルプロピルエーテル、メチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、トリメトキシシリルエステ
ル、トリエトキシシリルエステル、トリプロポキシシリ
ルエステル、トリメトキシシリルメチルエステル、トリ
エトキシシリルメチルエステル、２−トリメトキシシリ
ルエチルエステル、２−トリエトキシシリルエチルエス
テル、３−トリメトキシシリルプロピルエステル、３−
トリエトキシシリルプロピルエステルなどの脂肪族ポリ
エステルアルキルエーテル誘導体及び脂肪族ポリエステ
ルアルキルエステル誘導体が挙げられる。これらのポリ
エステルは、１種単独であるいは２種以上を併用するこ
とができる。
としては、炭素数２〜１２の脂肪族鎖およびエステル結
合を繰り返し単位中に含む化合物を挙げることができ、
例えば、ポリカプロラクトン、ポリピバロラクトン、ポ
リエチレンオキサレート、ポリエチレンマロネート、ポ
リエチレンスクシネート、ポリエチレングリタレート、
ポリエチレンアジペート、ポリエチレンピメレート、ポ
リエチレンスベレート、ポリエチレンアゼラート、ポリ
エチレンセバケート、ポリプロピレンオキサレート、ポ
リプロピレンマロネート、ポリプロピレンスクシネー
ト、ポリプロピレングリタレート、ポリプロピレンアジ
ペート、ポリプロピレンピメレート、ポリプロピレンス
ベレート、ポリプロピレンアゼラート、ポリプロピレン
セバケート、ポリブチレンオキサレート、ポリブチレン
マロネート、ポリブチレンスクシネート、ポリブチレン
グリタレート、ポリブチレンアジペート、ポリブチレン
ピメレート、ポリブチレンスベレート、ポリブチレンア
ゼラート、ポリブチレンセバケート、ポリオキシジエチ
レンオキサレート、ポリオキシジエチレンマロネート、
ポリオキシジエチレンスクシネート、ポリオキシジエチ
レングリタレート、ポリオキシジエチレンアジペート、
ポリオキシジエチレンピメレート、ポリオキシジエチレ
ンスベレート、ポリオキシジエチレンアゼラート、ポリ
オキシジエチレンセバケートなどの脂肪族ポリエステル
類、およびそのメチルエーテル、エチルエーテル、プロ
ピルエーテル、トリメトキシシリルエーテル、トリエト
キシシリルエーテル、トリプロポキシシリルエーテル、
トリメトキシシリルメチルエーテル、トリエトキシシリ
ルメチルエーテル、２−トリメトキシシリルエチルエー
テル、２−トリエトキシシリルエチルエーテル、３−ト
リメトキシシリルプロピルエーテル、３−トリエトキシ
シリルプロピルエーテル、メチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、トリメトキシシリルエステ
ル、トリエトキシシリルエステル、トリプロポキシシリ
ルエステル、トリメトキシシリルメチルエステル、トリ
エトキシシリルメチルエステル、２−トリメトキシシリ
ルエチルエステル、２−トリエトキシシリルエチルエス
テル、３−トリメトキシシリルプロピルエステル、３−
トリエトキシシリルプロピルエステルなどの脂肪族ポリ
エステルアルキルエーテル誘導体及び脂肪族ポリエステ
ルアルキルエステル誘導体が挙げられる。これらのポリ
エステルは、１種単独であるいは２種以上を併用するこ
とができる。
【００７６】ポリエステルのＧＰＣ法による重量平均分
子量は、通常、３００〜３００，０００、好ましくは３
００〜２００，０００、特に好ましくは３００〜１０
０，０００である。
子量は、通常、３００〜３００，０００、好ましくは３
００〜２００，０００、特に好ましくは３００〜１０
０，０００である。
【００７７】さらに、（Ｃ）成分を構成するポリカーボ
ネートとしては、繰り返し単位中の炭素数が２〜１２の
脂肪族ポリカーボネートを挙げることができ、例えば、
ポリエチレンカーボネート、ポリプロピレンカーボネー
ト、ポリトリメチレンカーボネート、ポリテトラメチレ
ンカーボネート、ポリペンタメチレンカーボネート、ポ
リヘキサメチレンカーボネート、ポリヘプタメチレンカ
ーボネート、ポリオクタメチレンカーボネート、ポリノ
ナメチレンカーボネート、ポリデカメチレンカーボネー
ト、ポリオキシジエチレンカーボネート、ポリ−３，６
−ジオキシオクタンカーボネート、ポリ−３，６，９−
トリオキシウンデカンカーボネート、ポリオキシジプロ
ピレンカーボネート、ポリシクロペンタンカーボネー
ト、ポリシクロヘキサンカーボネートなどの脂肪族ポリ
カーボネート、およびそのメチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、トリメトキシシリルエステ
ル、トリエトキシシリルエステル、トリプロポキシシリ
ルエステル、トリメトキシシリルメチルエステル、トリ
エトキシシリルメチルエステル、２−トリメトキシシリ
ルエチルエステル、２−トリエトキシシリルエチルエス
テル、３−トリメトキシシリルプロピルエステル、３−
トリエトキシシリルプロピルエステルなどの脂肪族ポリ
カーボネートアルキルエステル誘導体が挙げられる。こ
れらのポリカーボネートは、１種単独であるいは２種以
上を併用することができる。
ネートとしては、繰り返し単位中の炭素数が２〜１２の
脂肪族ポリカーボネートを挙げることができ、例えば、
ポリエチレンカーボネート、ポリプロピレンカーボネー
ト、ポリトリメチレンカーボネート、ポリテトラメチレ
ンカーボネート、ポリペンタメチレンカーボネート、ポ
リヘキサメチレンカーボネート、ポリヘプタメチレンカ
ーボネート、ポリオクタメチレンカーボネート、ポリノ
ナメチレンカーボネート、ポリデカメチレンカーボネー
ト、ポリオキシジエチレンカーボネート、ポリ−３，６
−ジオキシオクタンカーボネート、ポリ−３，６，９−
トリオキシウンデカンカーボネート、ポリオキシジプロ
ピレンカーボネート、ポリシクロペンタンカーボネー
ト、ポリシクロヘキサンカーボネートなどの脂肪族ポリ
カーボネート、およびそのメチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、トリメトキシシリルエステ
ル、トリエトキシシリルエステル、トリプロポキシシリ
ルエステル、トリメトキシシリルメチルエステル、トリ
エトキシシリルメチルエステル、２−トリメトキシシリ
ルエチルエステル、２−トリエトキシシリルエチルエス
テル、３−トリメトキシシリルプロピルエステル、３−
トリエトキシシリルプロピルエステルなどの脂肪族ポリ
カーボネートアルキルエステル誘導体が挙げられる。こ
れらのポリカーボネートは、１種単独であるいは２種以
上を併用することができる。
【００７８】ポリカーボネートのＧＰＣ法による重量平
均分子量は、通常、３００〜３００，０００、好ましく
は３００〜２００，０００、特に好ましくは３００〜１
００，０００である。
均分子量は、通常、３００〜３００，０００、好ましく
は３００〜２００，０００、特に好ましくは３００〜１
００，０００である。
【００７９】さらに、（Ｃ）成分を構成するポリアンハ
イドライドとしては、炭素数２〜１２の脂肪族ジカルボ
ン酸から得られるポリアンハイドライドが挙げられ、例
えば、ポリオキサリックアンハイドライド、ポリマロニ
ックアンハイドライド、ポリスクシニックアンハイドラ
イド、ポリグルタリックアンハイドライド、ポリアジピ
ックアンハイドライド、ポリピメリックアンハイドライ
ド、ポリスベリックアンハイドライド、ポリアゼライッ
クアンハイドライド、ポリセバシックアンハイドライド
などの脂肪族ポリアンハイドライド、およびそのメチル
エステル、エチルエステル、プロピルエステル、トリメ
トキシシリルエステル、トリエトキシシリルエステル、
トリプロポキシシリルエステル、トリメトキシシリルメ
チルエステル、トリエトキシシリルメチルエステル、２
−トリメトキシシリルエチルエステル、２−トリエトキ
シシリルエチルエステル、３−トリメトキシシリルプロ
ピルエステル、３−トリエトキシシリルプロピルエステ
ルなどの脂肪族ポリアンハイドライドアルキルエステル
誘導体などが挙げられる。これらのポリアンハイドライ
ドは、１種単独であるいは２種以上を併用することがで
きる。
イドライドとしては、炭素数２〜１２の脂肪族ジカルボ
ン酸から得られるポリアンハイドライドが挙げられ、例
えば、ポリオキサリックアンハイドライド、ポリマロニ
ックアンハイドライド、ポリスクシニックアンハイドラ
イド、ポリグルタリックアンハイドライド、ポリアジピ
ックアンハイドライド、ポリピメリックアンハイドライ
ド、ポリスベリックアンハイドライド、ポリアゼライッ
クアンハイドライド、ポリセバシックアンハイドライド
などの脂肪族ポリアンハイドライド、およびそのメチル
エステル、エチルエステル、プロピルエステル、トリメ
トキシシリルエステル、トリエトキシシリルエステル、
トリプロポキシシリルエステル、トリメトキシシリルメ
チルエステル、トリエトキシシリルメチルエステル、２
−トリメトキシシリルエチルエステル、２−トリエトキ
シシリルエチルエステル、３−トリメトキシシリルプロ
ピルエステル、３−トリエトキシシリルプロピルエステ
ルなどの脂肪族ポリアンハイドライドアルキルエステル
誘導体などが挙げられる。これらのポリアンハイドライ
ドは、１種単独であるいは２種以上を併用することがで
きる。
【００８０】ポリアンハイドライドのＧＰＣ法による重
量平均分子量は、通常、３００〜３００，０００、好ま
しくは３００〜２００，０００、特に好ましくは３００
〜１００，０００である。
量平均分子量は、通常、３００〜３００，０００、好ま
しくは３００〜２００，０００、特に好ましくは３００
〜１００，０００である。
【００８１】さらに、（Ｃ）成分を構成する（メタ）ア
クリル系重合体としては、ポリオキシエチル基、ポリオ
キシプロピル基、アミド基、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基の群より選ばれた少なくとも１種を有する（メ
タ）アクリル系重合体が挙げられる。上記（メタ）アク
リル系重合体は、アクリル酸、メタクリル酸、上記官能
基を有するアクリル酸誘導体、上記官能基を有するメタ
クリル酸誘導体、上記官能基を有さないアクリル酸エス
テルおよび上記官能基を有さないメタクリル酸エステル
より構成される。
クリル系重合体としては、ポリオキシエチル基、ポリオ
キシプロピル基、アミド基、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基の群より選ばれた少なくとも１種を有する（メ
タ）アクリル系重合体が挙げられる。上記（メタ）アク
リル系重合体は、アクリル酸、メタクリル酸、上記官能
基を有するアクリル酸誘導体、上記官能基を有するメタ
クリル酸誘導体、上記官能基を有さないアクリル酸エス
テルおよび上記官能基を有さないメタクリル酸エステル
より構成される。
【００８２】上記官能基を有するアクリル酸誘導体の具
体例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ジ
エチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、エト
キシポリエチレングリコールアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、ジプロピレングリコールア
クリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、
メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキ
シポリプロピレングリコールアクリレート、エトキシジ
プロピレングリコールアクリレート、エトキシポリプロ
ピレングリコールアクリレート、２−ジメチルアミノエ
チルアクリレート、２−ジエチルアミノエチルアクリレ
ート、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、アクリ
ルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、グ
リシジルアクリレートなどのモノアクリレート類；ジエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレートなどのジアクリレート類；などが挙
げられる。これらは、１種または２種以上を同時に使用
してもよい。
体例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ジ
エチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、エト
キシポリエチレングリコールアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、ジプロピレングリコールア
クリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、
メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキ
シポリプロピレングリコールアクリレート、エトキシジ
プロピレングリコールアクリレート、エトキシポリプロ
ピレングリコールアクリレート、２−ジメチルアミノエ
チルアクリレート、２−ジエチルアミノエチルアクリレ
ート、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、アクリ
ルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、グ
リシジルアクリレートなどのモノアクリレート類；ジエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレートなどのジアクリレート類；などが挙
げられる。これらは、１種または２種以上を同時に使用
してもよい。
【００８３】上記官能基を有するメタクリル酸誘導体の
具体例としては、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ジエチレングリコールメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールメタクリレート、メトキシジエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールメタ
クリレート、エトキシポリエチレングリコールメタクリ
レート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジプ
ロピレングリコールメタクリレート、ポリプロピレング
リコールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコ
ールメタクリレート、メトキシポリプロピレングリコー
ルメタクリレート、エトキシジプロピレングリコールメ
タクリレート、エトキシポリプロピレングリコールメタ
クリレート、２−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、２−ジエチルアミノエチルメタクリレート、メタク
リルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルア
ミド、グリシジルメタクリレートなどのモノメタクリレ
ート類；ジエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレング
リコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール
ジメタクリレートなどのジメタクリレート類；などが挙
げられる。これらは、１種または２種以上を同時に使用
してもよい。
具体例としては、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ジエチレングリコールメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールメタクリレート、メトキシジエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールメタ
クリレート、エトキシポリエチレングリコールメタクリ
レート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジプ
ロピレングリコールメタクリレート、ポリプロピレング
リコールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコ
ールメタクリレート、メトキシポリプロピレングリコー
ルメタクリレート、エトキシジプロピレングリコールメ
タクリレート、エトキシポリプロピレングリコールメタ
クリレート、２−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、２−ジエチルアミノエチルメタクリレート、メタク
リルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルア
ミド、グリシジルメタクリレートなどのモノメタクリレ
ート類；ジエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレング
リコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール
ジメタクリレートなどのジメタクリレート類；などが挙
げられる。これらは、１種または２種以上を同時に使用
してもよい。
【００８４】上記官能基を有さないアクリル酸エステル
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、ｎ−プロピルアクリレート、ｉｓｏ−プロピル
アクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉｓｏ−ブチ
ルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒ
−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシル
アクリレート、ヘプチルアクリレート、オクチルアクリ
レート、ノニルアクリレート、デシルアクリレート、ド
デシルアクリレート、テトラデシルアクリレート、ヘキ
サデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、２−メトキシエチルアクリレート、２−エトキ
シエチルアクリレート、２−メトキシプロピルアクリレ
ート、２−エトキシプロピルアクリレート、ベンジルア
クリレート、フェニルカルビトールアクリレート、ノニ
ルフェニルアクリレート、ノニルフェニルカルビトール
アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボ
ルニルアクリレートなどのモノアクリレート類；エチレ
ングリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコ
ールジアクリレート、１，４−ブチレングリコールジア
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、２，２−
ビス（４−アクリロキシプロピロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニ
ル）プロパンなどのジアクリレート類；トリメチロール
エタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート
などのトリアクリレート類；ペンタエリスリトールテト
ラアクリレートなどのテトラアクリレート類などが挙げ
られる。これらは、１種または２種以上を同時に使用し
てもよい。
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、ｎ−プロピルアクリレート、ｉｓｏ−プロピル
アクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉｓｏ−ブチ
ルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒ
−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシル
アクリレート、ヘプチルアクリレート、オクチルアクリ
レート、ノニルアクリレート、デシルアクリレート、ド
デシルアクリレート、テトラデシルアクリレート、ヘキ
サデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、２−メトキシエチルアクリレート、２−エトキ
シエチルアクリレート、２−メトキシプロピルアクリレ
ート、２−エトキシプロピルアクリレート、ベンジルア
クリレート、フェニルカルビトールアクリレート、ノニ
ルフェニルアクリレート、ノニルフェニルカルビトール
アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボ
ルニルアクリレートなどのモノアクリレート類；エチレ
ングリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコ
ールジアクリレート、１，４−ブチレングリコールジア
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、２，２−
ビス（４−アクリロキシプロピロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニ
ル）プロパンなどのジアクリレート類；トリメチロール
エタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート
などのトリアクリレート類；ペンタエリスリトールテト
ラアクリレートなどのテトラアクリレート類などが挙げ
られる。これらは、１種または２種以上を同時に使用し
てもよい。
【００８５】上記官能基を有さないメタクリル酸エステ
ルの具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｉｓｏ−
プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、
ｉｓｏ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタク
リレート、ｔｅｒ−ブチルメタクリレート、アミルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、ヘプチルメタク
リレート、オクチルメタクリレート、ノニルメタクリレ
ート、デシルメタクリレート、ドデシルメタクリレー
ト、テトラデシルメタクリレート、ヘキサデシルメタク
リレート、オクタデシルメタクリレート、シクロヘキシ
ルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、２−メトキシエチルメタクリレート、２−エトキシ
エチルメタクリレート、２−メトキシプロピルメタクリ
レート、２−エトキシプロピルメタクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、フェニルカルビトールメタクリレー
ト、ノニルフェニルメタクリレート、ノニルフェニルカ
ルビトールメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、イソボルニルメタクリレートなどのモノメタ
クリレート類；エチレングリコールジメタクリレート、
１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，４
−ブチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチル
グリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサングリコ
ールジメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロ
キシジエトキシフェニル）プロパンなどのジメタクリレ
ート類；トリメチロールエタントリエタクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレートなどのトリメ
タクリレート類などが挙げられる。これらは、１種また
は２種以上を同時に使用してもよい。
ルの具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｉｓｏ−
プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、
ｉｓｏ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタク
リレート、ｔｅｒ−ブチルメタクリレート、アミルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、ヘプチルメタク
リレート、オクチルメタクリレート、ノニルメタクリレ
ート、デシルメタクリレート、ドデシルメタクリレー
ト、テトラデシルメタクリレート、ヘキサデシルメタク
リレート、オクタデシルメタクリレート、シクロヘキシ
ルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、２−メトキシエチルメタクリレート、２−エトキシ
エチルメタクリレート、２−メトキシプロピルメタクリ
レート、２−エトキシプロピルメタクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、フェニルカルビトールメタクリレー
ト、ノニルフェニルメタクリレート、ノニルフェニルカ
ルビトールメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、イソボルニルメタクリレートなどのモノメタ
クリレート類；エチレングリコールジメタクリレート、
１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，４
−ブチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチル
グリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサングリコ
ールジメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロ
キシジエトキシフェニル）プロパンなどのジメタクリレ
ート類；トリメチロールエタントリエタクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレートなどのトリメ
タクリレート類などが挙げられる。これらは、１種また
は２種以上を同時に使用してもよい。
【００８６】本発明において、ポリオキシエチル基、ポ
リオキシプロピル基、アミド基、ヒドロキシル基、カル
ボキシル基、グリシジル基の群より選ばれた少なくとも
１種を有する（メタ）アクリル系重合体は、アクリル
酸、メタクリル酸、上記官能基を有するアクリル酸誘導
体および上記官能基を有するメタクリル酸誘導体を、上
記（メタ）アクリレート系重合体を構成する全モノマー
に対して通常５モル％以上、好ましくは１０モル％以
上、特に好ましくは２０モル％以上含む。アクリル酸、
メタクリル酸、上記官能基を有するアクリル酸誘導体お
よび上記官能基を有するメタクリル酸誘導体が５モル％
未満の場合は、得られる硬化物塗膜中の空隙のサイズが
大きくなり微細配線間の層間絶縁膜材料として好ましく
ない。
リオキシプロピル基、アミド基、ヒドロキシル基、カル
ボキシル基、グリシジル基の群より選ばれた少なくとも
１種を有する（メタ）アクリル系重合体は、アクリル
酸、メタクリル酸、上記官能基を有するアクリル酸誘導
体および上記官能基を有するメタクリル酸誘導体を、上
記（メタ）アクリレート系重合体を構成する全モノマー
に対して通常５モル％以上、好ましくは１０モル％以
上、特に好ましくは２０モル％以上含む。アクリル酸、
メタクリル酸、上記官能基を有するアクリル酸誘導体お
よび上記官能基を有するメタクリル酸誘導体が５モル％
未満の場合は、得られる硬化物塗膜中の空隙のサイズが
大きくなり微細配線間の層間絶縁膜材料として好ましく
ない。
【００８７】本発明において、（メタ）アクリレート系
重合体は、上記アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸
誘導体およびメタクリル酸誘導体以外のラジカル重合性
モノマーを４０モル％以下共重合していてもよい。ラジ
カル重合性モノマーとしては、アクリロニトリルなどの
不飽和ニトリル、メチルビニルケトンなどの不飽和ケト
ン、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族化合物
などを挙げることができる。本発明において、（メタ）
アクリル系重合体のＧＰＣ法による数平均分子量は、
１，０００〜２００，０００、好ましくは１，０００〜
５０，０００である。
重合体は、上記アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸
誘導体およびメタクリル酸誘導体以外のラジカル重合性
モノマーを４０モル％以下共重合していてもよい。ラジ
カル重合性モノマーとしては、アクリロニトリルなどの
不飽和ニトリル、メチルビニルケトンなどの不飽和ケト
ン、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族化合物
などを挙げることができる。本発明において、（メタ）
アクリル系重合体のＧＰＣ法による数平均分子量は、
１，０００〜２００，０００、好ましくは１，０００〜
５０，０００である。
【００８８】以上の（Ｃ）有機ポリマーは、１種あるい
は２種以上を混合して使用することができる。本発明に
おいて上記（Ｃ）成分を用いることで、得られる塗膜の
密度を低下させ、低誘電率を達成することができ、半導
体素子などにおける層間絶縁膜として有用である。
（Ｃ）有機ポリマーの使用量は、（Ｉ）〜（II）成分中
における、（Ａ）成分（完全縮合物換算）と（Ｂ）成分
（完全加水分解縮合物換算）の総量１００重量部に対
し、好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましくは５
〜６０重量部である。５重量部未満では、誘電率を下げ
る効果が小さく、一方、１００重量部を超えると、機械
的強度が低下する。
は２種以上を混合して使用することができる。本発明に
おいて上記（Ｃ）成分を用いることで、得られる塗膜の
密度を低下させ、低誘電率を達成することができ、半導
体素子などにおける層間絶縁膜として有用である。
（Ｃ）有機ポリマーの使用量は、（Ｉ）〜（II）成分中
における、（Ａ）成分（完全縮合物換算）と（Ｂ）成分
（完全加水分解縮合物換算）の総量１００重量部に対
し、好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましくは５
〜６０重量部である。５重量部未満では、誘電率を下げ
る効果が小さく、一方、１００重量部を超えると、機械
的強度が低下する。
【００８９】さらに、本発明においては、上記（Ａ）〜
（Ｂ）分や、（Ｄ）成分以外に、下記（Ｅ）成分を使用
することが好ましい。 （Ｅ）成分；（Ｅ）成分は、β−ジケトン類およびβ−
ケトエステル類から選ばれる化合物である。（Ｅ）成分
は、上記（Ｄ）成分をなす金属キレート化合物中の金属
原子に配位することにより、該金属キレート化合物の
（Ｉ）〜（II）との間の縮合反応の促進作用を適度に抑
制することによって、得られる膜形成用組成物の保存安
定性を向上させる作用を示すものと考えられる。このよ
うな（Ｅ）成分の具体例としては、アセチルアセトン、
アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ｎ−
プロピル、アセト酢酸ｉ−プロピル、アセト酢酸ｎ−ブ
チル、アセト酢酸ｉ−ブチル、アセト酢酸ｓｅｃ−ブチ
ル、アセト酢酸ｔ−ブチル、２，４−ヘキサンジオン、
２，４−ヘプタンジオン、３，５−ヘプタンジオン、
２，４−オクタンジオン、３，５−オクタンジオン、
２，４−ノナンジオン、３，５−ノナンジオン、５−メ
チル−２，４−ヘキサンジオンを挙げることができる。
これらの化合物のうち、アセチルアセトン、アセト酢酸
エチルが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。
本発明において、（Ｅ）成分は、単独でまたは２種以上
を混合して使用することができる。（Ｅ）成分の配合割
合は、（Ｄ）成分を構成する金属キレート化合物１モル
当り、通常、２モル以上、好ましくは３〜２０モル、さ
らに好ましくは４〜１５モルである。この場合、（Ｅ）
成分の配合割合が２モル未満では、得られる膜形成用組
成物の保存安定性の向上効果が低下する傾向がある。
（Ｂ）分や、（Ｄ）成分以外に、下記（Ｅ）成分を使用
することが好ましい。 （Ｅ）成分；（Ｅ）成分は、β−ジケトン類およびβ−
ケトエステル類から選ばれる化合物である。（Ｅ）成分
は、上記（Ｄ）成分をなす金属キレート化合物中の金属
原子に配位することにより、該金属キレート化合物の
（Ｉ）〜（II）との間の縮合反応の促進作用を適度に抑
制することによって、得られる膜形成用組成物の保存安
定性を向上させる作用を示すものと考えられる。このよ
うな（Ｅ）成分の具体例としては、アセチルアセトン、
アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ｎ−
プロピル、アセト酢酸ｉ−プロピル、アセト酢酸ｎ−ブ
チル、アセト酢酸ｉ−ブチル、アセト酢酸ｓｅｃ−ブチ
ル、アセト酢酸ｔ−ブチル、２，４−ヘキサンジオン、
２，４−ヘプタンジオン、３，５−ヘプタンジオン、
２，４−オクタンジオン、３，５−オクタンジオン、
２，４−ノナンジオン、３，５−ノナンジオン、５−メ
チル−２，４−ヘキサンジオンを挙げることができる。
これらの化合物のうち、アセチルアセトン、アセト酢酸
エチルが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。
本発明において、（Ｅ）成分は、単独でまたは２種以上
を混合して使用することができる。（Ｅ）成分の配合割
合は、（Ｄ）成分を構成する金属キレート化合物１モル
当り、通常、２モル以上、好ましくは３〜２０モル、さ
らに好ましくは４〜１５モルである。この場合、（Ｅ）
成分の配合割合が２モル未満では、得られる膜形成用組
成物の保存安定性の向上効果が低下する傾向がある。
【００９０】他の添加剤；さらに、本発明の膜形成用組
成物には、例えば、クレー、ゼオライト、タルク、マイ
カ、シリカ、カーボンブラック、グラファイト、アルミ
ナ、炭酸カルシウム、ワラストナイトなどの充填剤や、
ガラス、カーボン、アルミナ、チタン酸カリウム、ほう
酸アルミニウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、芳香族ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、全芳香族ポリ
エステル、超高分子量ポリエチレン、高強度ポリアクリ
ロニトリル、高強力ポリビニルアルコールなどの繊維あ
るいはウイスカーなどの補強材を配合することができ
る。上記補強材は、織布、不織布、編み物などの布帛の
形で用い、該布帛に本発明の膜形成用組成物を含浸させ
て使用することもできる。これらの充填剤および補強材
は、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。また上記添加剤以外に、必要に応じて、
酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電
防止剤、難燃剤、滑剤、防曇剤、防カビ剤、顔料、染
料、分散剤、増粘剤、レベリング剤、シランカップリン
グ剤、チタンカップリング剤や、オルトぎ酸メチル、オ
ルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの脱水剤な
どを配合することもできる。
成物には、例えば、クレー、ゼオライト、タルク、マイ
カ、シリカ、カーボンブラック、グラファイト、アルミ
ナ、炭酸カルシウム、ワラストナイトなどの充填剤や、
ガラス、カーボン、アルミナ、チタン酸カリウム、ほう
酸アルミニウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、芳香族ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、全芳香族ポリ
エステル、超高分子量ポリエチレン、高強度ポリアクリ
ロニトリル、高強力ポリビニルアルコールなどの繊維あ
るいはウイスカーなどの補強材を配合することができ
る。上記補強材は、織布、不織布、編み物などの布帛の
形で用い、該布帛に本発明の膜形成用組成物を含浸させ
て使用することもできる。これらの充填剤および補強材
は、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。また上記添加剤以外に、必要に応じて、
酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電
防止剤、難燃剤、滑剤、防曇剤、防カビ剤、顔料、染
料、分散剤、増粘剤、レベリング剤、シランカップリン
グ剤、チタンカップリング剤や、オルトぎ酸メチル、オ
ルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの脱水剤な
どを配合することもできる。
【００９１】膜形成用組成物の調製 本発明の膜形成用組成物は、好ましくは、上記（Ｉ）〜
（II）成分や（Ｄ）成分、さらに必要に応じて（Ｃ）成
分を含有する組成物を調製する。本発明の膜形成用組成
物の特に好ましい調製法は、下記〜の方法が挙げら
れる。 有機溶媒溶液または水性エマルジョンタイプの（Ａ）
成分、（Ｂ）シラン化合物および（Ｄ）成分の混合物
に、（Ｂ）シラン化合物中のアルコキシシリル基および
／またはアシルオキシシリル基１当量あたり、０．３〜
１モルの水を加え、シラン化合物を加水分解・部分縮合
させて、（Ｉ）成分を調製し、これに別途、調製された
（II）成分を配合する。 有機溶媒溶液または水性エマルジョンタイプの（Ａ）
成分、（Ｄ）成分の一部の混合物に、（Ｂ）シラン化合
物、（Ｄ）成分の残りの量、および（Ｂ）シラン化合物
中のアルコキシシリル基および／またはアシルオキシシ
リル基１当量あたり、０．３〜１モルの水を加え、
（Ｂ）シラン化合物を加水分解・部分縮合させて、
（Ｉ）成分を調製し、これに別途、調製された（II）成
分を配合する。
（II）成分や（Ｄ）成分、さらに必要に応じて（Ｃ）成
分を含有する組成物を調製する。本発明の膜形成用組成
物の特に好ましい調製法は、下記〜の方法が挙げら
れる。 有機溶媒溶液または水性エマルジョンタイプの（Ａ）
成分、（Ｂ）シラン化合物および（Ｄ）成分の混合物
に、（Ｂ）シラン化合物中のアルコキシシリル基および
／またはアシルオキシシリル基１当量あたり、０．３〜
１モルの水を加え、シラン化合物を加水分解・部分縮合
させて、（Ｉ）成分を調製し、これに別途、調製された
（II）成分を配合する。 有機溶媒溶液または水性エマルジョンタイプの（Ａ）
成分、（Ｄ）成分の一部の混合物に、（Ｂ）シラン化合
物、（Ｄ）成分の残りの量、および（Ｂ）シラン化合物
中のアルコキシシリル基および／またはアシルオキシシ
リル基１当量あたり、０．３〜１モルの水を加え、
（Ｂ）シラン化合物を加水分解・部分縮合させて、
（Ｉ）成分を調製し、これに別途、調製された（II）成
分を配合する。
【００９２】また、本発明においては、膜形成用組成物
の全固形分濃度を調整し、併せて粘度も調整するため
に、有機溶媒を使用することができる。このような有機
溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、イソペンタン、
ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ｎ−ヘプタン、イソヘプ
タン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−オクタ
ン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、
メチルエチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピ
ルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソブチルベンゼン、
トリエチルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、アミル
ナフタレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；メタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ
−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノー
ル、２−メチルブタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ
−ペンタノール、３−メトキシブタノール、ｎ−ヘキサ
ノール、２−メチルペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノー
ル、２−エチルブタノール、ｓｅｃ−ヘプタノール、ヘ
プタノール−３、ｎ−オクタノール、２−エチルヘキサ
ノール、ｓｅｃ−オクタノール、ノニルアルコール、
２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ｎ−デカノー
ル、ｓｅｃ−ウンデシルアルコール、トリメチルノニル
アルコール、ｓｅｃ−テトラデシルアルコール、ｓｅｃ
−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサ
ノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フェ
ニルメチルカルビノール、ジアセトンアルコール、クレ
ゾールなどのモノアルコール系溶媒；エチレングリコー
ル、１，２−プロピレングリコール、１，３−ブチレン
グリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、
ペンタンジオール−２，４、ヘキサンジオール−２，
５、ヘプタンジオール−２，４、２−エチル−１，３−
ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレ
ングリコール、グリセリンなどの多価アルコール系溶
媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロ
ピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｎ−ペンチルケ
トン、エチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、ジ
イソブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサ
ノン、メチルシクロヘキサノン、２，４−ペンタンジオ
ン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フエンチヨ
ンなどのケトン系溶媒；
の全固形分濃度を調整し、併せて粘度も調整するため
に、有機溶媒を使用することができる。このような有機
溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、イソペンタン、
ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ｎ−ヘプタン、イソヘプ
タン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−オクタ
ン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、
メチルエチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピ
ルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソブチルベンゼン、
トリエチルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、アミル
ナフタレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；メタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ
−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノー
ル、２−メチルブタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ
−ペンタノール、３−メトキシブタノール、ｎ−ヘキサ
ノール、２−メチルペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノー
ル、２−エチルブタノール、ｓｅｃ−ヘプタノール、ヘ
プタノール−３、ｎ−オクタノール、２−エチルヘキサ
ノール、ｓｅｃ−オクタノール、ノニルアルコール、
２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ｎ−デカノー
ル、ｓｅｃ−ウンデシルアルコール、トリメチルノニル
アルコール、ｓｅｃ−テトラデシルアルコール、ｓｅｃ
−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサ
ノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フェ
ニルメチルカルビノール、ジアセトンアルコール、クレ
ゾールなどのモノアルコール系溶媒；エチレングリコー
ル、１，２−プロピレングリコール、１，３−ブチレン
グリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、
ペンタンジオール−２，４、ヘキサンジオール−２，
５、ヘプタンジオール−２，４、２−エチル−１，３−
ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレ
ングリコール、グリセリンなどの多価アルコール系溶
媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロ
ピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｎ−ペンチルケ
トン、エチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、ジ
イソブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサ
ノン、メチルシクロヘキサノン、２，４−ペンタンジオ
ン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フエンチヨ
ンなどのケトン系溶媒；
【００９３】エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
ｎ−ブチルエーテル、ヘキシルエーテル、２−エチルヘ
キシルエーテル、エチレンオキシド、１，２−プロピレ
ンオキシド、ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、
ジオキサン、ジメチルジオキサン、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテルエチレングリコールモ
ノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチル
ブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エ
トキシトリグリコール、テトラエチレングリコールジブ
チルエーテル、モノプロピレングリコールメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロ
ピレングリコールメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、２−メチルテトラヒドロフランなどのエーテル系溶
媒；ジエチルカーボネート、酢酸メチル、酢酸エチル、
γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸ｎ−プ
ロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−
ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸
ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸メチ
ルペンチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘ
キシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチ
ルシクロヘキシル、酢酸ノニル、アセト酢酸メチル、ア
セト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、
酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メ
トキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオ
ン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸ｉ−ペンチル、メトキシ
プロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、シ
ュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−ｎ−ブチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−ペンチル、
マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチ
ルなどのエステル系溶媒；Ｎ−メチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホル
ムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオン
アミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの窒素化合物系溶
媒；硫化ジメチル、硫化ジエチル、チオフェン、テトラ
ヒドロチオフェン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、１，３−プロパンスルトンなどの硫黄化合物系溶媒
などを挙げることができる。これらの有機溶媒は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。
ｎ−ブチルエーテル、ヘキシルエーテル、２−エチルヘ
キシルエーテル、エチレンオキシド、１，２−プロピレ
ンオキシド、ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、
ジオキサン、ジメチルジオキサン、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテルエチレングリコールモ
ノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチル
ブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エ
トキシトリグリコール、テトラエチレングリコールジブ
チルエーテル、モノプロピレングリコールメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロ
ピレングリコールメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、２−メチルテトラヒドロフランなどのエーテル系溶
媒；ジエチルカーボネート、酢酸メチル、酢酸エチル、
γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸ｎ−プ
ロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−
ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸
ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸メチ
ルペンチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘ
キシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチ
ルシクロヘキシル、酢酸ノニル、アセト酢酸メチル、ア
セト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、
酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メ
トキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオ
ン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸ｉ−ペンチル、メトキシ
プロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、シ
ュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−ｎ−ブチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−ペンチル、
マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチ
ルなどのエステル系溶媒；Ｎ−メチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホル
ムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオン
アミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの窒素化合物系溶
媒；硫化ジメチル、硫化ジエチル、チオフェン、テトラ
ヒドロチオフェン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、１，３−プロパンスルトンなどの硫黄化合物系溶媒
などを挙げることができる。これらの有機溶媒は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００９４】基板・膜の形成方法 本発明の組成物を用いて膜を形成するには、まず本発明
の組成物を基板に塗布し、塗膜を形成する。ここで、本
発明の組成物を塗布することのできる基板としては、半
導体、ガラス、セラミックス、金属などが挙げられる。
また、塗布方法としては、スピンコート、ディッピン
グ、ローラーブレードなどが挙げられる。本発明の組成
物は、特にシリコンウエハ、ＳｉＯ2 ウエハ、ＳｉＮウ
エハなどの上に塗布され、絶縁膜とすることに適してい
る。この際の膜厚は、乾燥膜厚として、１回塗りで厚さ
０．０５〜１．５μｍ程度、２回塗りでは厚さ０．１〜
３μｍ程度の塗膜を形成することができる。形成する塗
膜の厚さは、通常、０．２〜２０μｍである。
の組成物を基板に塗布し、塗膜を形成する。ここで、本
発明の組成物を塗布することのできる基板としては、半
導体、ガラス、セラミックス、金属などが挙げられる。
また、塗布方法としては、スピンコート、ディッピン
グ、ローラーブレードなどが挙げられる。本発明の組成
物は、特にシリコンウエハ、ＳｉＯ2 ウエハ、ＳｉＮウ
エハなどの上に塗布され、絶縁膜とすることに適してい
る。この際の膜厚は、乾燥膜厚として、１回塗りで厚さ
０．０５〜１．５μｍ程度、２回塗りでは厚さ０．１〜
３μｍ程度の塗膜を形成することができる。形成する塗
膜の厚さは、通常、０．２〜２０μｍである。
【００９５】膜の熱処理 本発明では、（Ｉ）〜（II）成分、これにさらに必要に
応じて成分を有機溶媒に溶解（分散）してなる組成物よ
り、絶縁性、耐熱性に優れた低誘電体膜を形成する際
に、まず、好ましくは基板を５０〜３００℃、さらに好
ましくは６０〜２００℃の温度に加熱して、基板から有
機溶媒を揮発させたのち、真空下または不活性ガス雰囲
気下で３００〜６００℃、好ましくは３００〜５００℃
に加熱する。これにより、（Ｉ）〜（II）成分中の
（Ａ）成分の閉環・縮合反応、（Ｂ）成分の熱重縮合が
進行し、また、（Ｃ）有機ポリマーが存在する場合に
は、（Ｃ）有機ポリマーが分解し、（Ｉ）〜（II）成分
の有機・無機複合体からなる電気絶縁性の膜を得ること
ができる。
応じて成分を有機溶媒に溶解（分散）してなる組成物よ
り、絶縁性、耐熱性に優れた低誘電体膜を形成する際
に、まず、好ましくは基板を５０〜３００℃、さらに好
ましくは６０〜２００℃の温度に加熱して、基板から有
機溶媒を揮発させたのち、真空下または不活性ガス雰囲
気下で３００〜６００℃、好ましくは３００〜５００℃
に加熱する。これにより、（Ｉ）〜（II）成分中の
（Ａ）成分の閉環・縮合反応、（Ｂ）成分の熱重縮合が
進行し、また、（Ｃ）有機ポリマーが存在する場合に
は、（Ｃ）有機ポリマーが分解し、（Ｉ）〜（II）成分
の有機・無機複合体からなる電気絶縁性の膜を得ること
ができる。
【００９６】本発明の組成物の絶縁膜形成材料などの用
途 本発明の膜形成用組成物は、溶液としての保存安定性に
優れるとともに、硬化時にクラックの発生がなく、しか
もこれより得られる膜（硬化物）は、耐熱性、電気絶縁
性（比誘電率３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐性に優
れ、かつ（Ｃ）成分を配合した場合には、さらに電気絶
縁性が向上するとともに低密度でもある。したがって、
本発明の膜形成用組成物は、特に、半導体素子の多層配
線間の層間絶縁膜あるいは平坦化膜、各種の電気機器や
電子部品などの保護膜あるいは電気絶縁膜などとして極
めて好適に使用することができるほか、耐熱性が要求さ
れる接着剤や塗料としても有用である。また、本発明の
膜形成用組成物を予め離型処理した適当な基体に塗布し
て、熱硬化性薄膜を成形し、該薄膜を硬化前に基体から
強制的に剥離することによって、熱硬化性フィルムを取
得することができ、該熱硬化性フィルムは、電気機器や
電子部品などの耐熱性接着フィルムなどとして有用であ
る。あるいは、上記基体から強制的に剥離された熱硬化
性薄膜を硬化させるか、または予め離型処理した適当な
基体上に形成した熱硬化性薄膜を加熱、硬化させたの
ち、得られた硬化薄膜を基体から強制的に剥離すること
によって、硬化フィルムを取得することができる。さら
に、本発明の膜形成用組成物の溶液をガラスクロスなど
の適当な布帛に含浸させたのち乾燥したプリプレグ、あ
るいは無溶媒の該樹脂組成物をガラスクロスなどの適当
な布帛に含浸させたプリプレグは、銅張り積層板などの
積層材などとしても有用である。また、本発明の膜形成
用組成物は、例えば、粉末、ペレットなどの形態で、熱
硬化性成形材料としても有用である。本発明の膜形成用
組成物から熱硬化性フィルムあるいは硬化フィルムを形
成させる際に使用される基体は、特に限定されるもので
はなく、例えば、鉄、ニッケル、ステンレス、チタン、
アルミニウム、銅、各種合金などの金属；窒化ケイ素、
炭化ケイ素、サイアロン、窒化アルミニウム、窒化ほう
素、炭化ほう素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、アル
ミナ、シリカや、これらの混合物などのセラミック；Ｓ
ｉ、Ｇｅ、ＳｉＣ 、ＳｉＧｅ、ＧａＡｓなどの半導
体；ガラス、陶磁器などの窯業材料；芳香族ポリアミ
ド、ポリアミドイミド、ポリイミド、全芳香族ポリエス
テルなどの耐熱性樹脂などを挙げることができる。上記
基体には、所望により、予め離型処理を施しておくこと
ができ、また、シランカップリング剤、チタンカップリ
ング剤などによる薬品処理や、プラズマ処理、イオンプ
レーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着
の如き適宜の前処理を施すこともできる。
途 本発明の膜形成用組成物は、溶液としての保存安定性に
優れるとともに、硬化時にクラックの発生がなく、しか
もこれより得られる膜（硬化物）は、耐熱性、電気絶縁
性（比誘電率３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐性に優
れ、かつ（Ｃ）成分を配合した場合には、さらに電気絶
縁性が向上するとともに低密度でもある。したがって、
本発明の膜形成用組成物は、特に、半導体素子の多層配
線間の層間絶縁膜あるいは平坦化膜、各種の電気機器や
電子部品などの保護膜あるいは電気絶縁膜などとして極
めて好適に使用することができるほか、耐熱性が要求さ
れる接着剤や塗料としても有用である。また、本発明の
膜形成用組成物を予め離型処理した適当な基体に塗布し
て、熱硬化性薄膜を成形し、該薄膜を硬化前に基体から
強制的に剥離することによって、熱硬化性フィルムを取
得することができ、該熱硬化性フィルムは、電気機器や
電子部品などの耐熱性接着フィルムなどとして有用であ
る。あるいは、上記基体から強制的に剥離された熱硬化
性薄膜を硬化させるか、または予め離型処理した適当な
基体上に形成した熱硬化性薄膜を加熱、硬化させたの
ち、得られた硬化薄膜を基体から強制的に剥離すること
によって、硬化フィルムを取得することができる。さら
に、本発明の膜形成用組成物の溶液をガラスクロスなど
の適当な布帛に含浸させたのち乾燥したプリプレグ、あ
るいは無溶媒の該樹脂組成物をガラスクロスなどの適当
な布帛に含浸させたプリプレグは、銅張り積層板などの
積層材などとしても有用である。また、本発明の膜形成
用組成物は、例えば、粉末、ペレットなどの形態で、熱
硬化性成形材料としても有用である。本発明の膜形成用
組成物から熱硬化性フィルムあるいは硬化フィルムを形
成させる際に使用される基体は、特に限定されるもので
はなく、例えば、鉄、ニッケル、ステンレス、チタン、
アルミニウム、銅、各種合金などの金属；窒化ケイ素、
炭化ケイ素、サイアロン、窒化アルミニウム、窒化ほう
素、炭化ほう素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、アル
ミナ、シリカや、これらの混合物などのセラミック；Ｓ
ｉ、Ｇｅ、ＳｉＣ 、ＳｉＧｅ、ＧａＡｓなどの半導
体；ガラス、陶磁器などの窯業材料；芳香族ポリアミ
ド、ポリアミドイミド、ポリイミド、全芳香族ポリエス
テルなどの耐熱性樹脂などを挙げることができる。上記
基体には、所望により、予め離型処理を施しておくこと
ができ、また、シランカップリング剤、チタンカップリ
ング剤などによる薬品処理や、プラズマ処理、イオンプ
レーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着
の如き適宜の前処理を施すこともできる。
【００９７】本発明の膜形成用組成物を上記基体に塗布
する際には、回転塗布法、ロール塗布法、流延塗布法、
浸漬塗布法、噴霧塗布法などの適宜の塗布手段を採用す
ることができる。また、塗布厚さは、塗布手段の選択、
組成物溶液の固形分濃度や粘度を調節することにより、
適宜制御することができる。
する際には、回転塗布法、ロール塗布法、流延塗布法、
浸漬塗布法、噴霧塗布法などの適宜の塗布手段を採用す
ることができる。また、塗布厚さは、塗布手段の選択、
組成物溶液の固形分濃度や粘度を調節することにより、
適宜制御することができる。
【００９８】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の実施の形態を
さらに具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの
実施例に何ら限定されるものではない。実施例および比
較例中の部および％は、特記しない限り重量に基づく。
実施例および比較例における各評価は、下記の要領で行
った。
さらに具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの
実施例に何ら限定されるものではない。実施例および比
較例中の部および％は、特記しない限り重量に基づく。
実施例および比較例における各評価は、下記の要領で行
った。
【００９９】重量平均分子量（Ｍｗ） 下記条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー（ＧＰＣ）法により測定した。 試料：テトラヒドロフランを溶媒として使用し、重合体
１ｇを、１００ｃｃのテトラヒドロフランに溶解して調
製した。 標準ポリスチレン：米国プレッシャーケミカル社製の標
準ポリスチレンを使用した。 装置：米国ウオーターズ社製の高温高速ゲル浸透クロマ
トグラム（モデル１５０−Ｃ ＡＬＣ／ＧＰＣ） カラム：昭和電工（株）製のＳＨＯＤＥＸ Ａ−８０Ｍ
（長さ５０ｃｍ） 測定温度：４０℃ 流速：１ｃｃ／分
ー（ＧＰＣ）法により測定した。 試料：テトラヒドロフランを溶媒として使用し、重合体
１ｇを、１００ｃｃのテトラヒドロフランに溶解して調
製した。 標準ポリスチレン：米国プレッシャーケミカル社製の標
準ポリスチレンを使用した。 装置：米国ウオーターズ社製の高温高速ゲル浸透クロマ
トグラム（モデル１５０−Ｃ ＡＬＣ／ＧＰＣ） カラム：昭和電工（株）製のＳＨＯＤＥＸ Ａ−８０Ｍ
（長さ５０ｃｍ） 測定温度：４０℃ 流速：１ｃｃ／分
【０１００】耐熱性（５％重量減少温度，Ｔｄ５） ８インチシリコンウエハ上に、スピンコート法を用いて
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。この基板
から塗膜を剥離し、ＴＧ法により、窒素雰囲気中、昇温
速度１０℃／分の条件で測定した。
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。この基板
から塗膜を剥離し、ＴＧ法により、窒素雰囲気中、昇温
速度１０℃／分の条件で測定した。
【０１０１】比誘電率 ８インチシリコンウエハ上に、スピンコート法を用いて
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。得られた
基板上にアルミニウムを蒸着し、比誘電率評価用基板を
作製した。比誘電率は、横川・ヒューレットパッカード
（株）製のＨＰ１６４５１Ｂ電極およびＨＰ４２８４Ａ
プレシジョンＬＣＲメーター用いて、１０ｋＨｚにおけ
る容量値から算出した。
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。得られた
基板上にアルミニウムを蒸着し、比誘電率評価用基板を
作製した。比誘電率は、横川・ヒューレットパッカード
（株）製のＨＰ１６４５１Ｂ電極およびＨＰ４２８４Ａ
プレシジョンＬＣＲメーター用いて、１０ｋＨｚにおけ
る容量値から算出した。
【０１０２】クラック耐性 ８インチシリコンウエハ上に、スピンコート法を用いて
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。この際の
最終的な塗膜の膜厚は２．５μｍとした。得られた塗膜
付き基板を純水中に２４時間浸漬し、塗膜の外観を３５
万ルクスの表面観察用ランプで観察し、下記基準で評価
した。 ○；塗膜表面にクラックが認められない。 ×；塗膜表面にクラックが認められる。
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。この際の
最終的な塗膜の膜厚は２．５μｍとした。得られた塗膜
付き基板を純水中に２４時間浸漬し、塗膜の外観を３５
万ルクスの表面観察用ランプで観察し、下記基準で評価
した。 ○；塗膜表面にクラックが認められない。 ×；塗膜表面にクラックが認められる。
【０１０３】塗膜のＣＭＰ耐性 ８インチシリコンウエハ上に、スピンコート法を用いて
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。得られた
塗膜を以下の条件で研磨した。 スラリー：シリカ−過酸化水素系 研磨圧力：２８０ｇ／ｃｍ2 研磨時間：６０秒 ＣＭＰ後の塗膜の外観を３５万ルクスの表面観察用ラン
プで観察し、下記基準で評価した。 ○：変化無し ×：塗膜に傷や剥がれが確認される
組成物試料を塗布し、ホットプレート上で８０℃で３分
間、２００℃で３分間、さらに４２０℃の窒素雰囲気の
ホットプレート上で６０分間基板を焼成した。得られた
塗膜を以下の条件で研磨した。 スラリー：シリカ−過酸化水素系 研磨圧力：２８０ｇ／ｃｍ2 研磨時間：６０秒 ＣＭＰ後の塗膜の外観を３５万ルクスの表面観察用ラン
プで観察し、下記基準で評価した。 ○：変化無し ×：塗膜に傷や剥がれが確認される
【０１０４】合成例１ セパラブルフラスコに９，９−ビス（４−アミノフェノ
キシ）フルオレン７９．２ｇ、２，７−ジアミノ−９，
９−ビス（４−アミノフェノキシ）フルオレン２．９
ｇ、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド８００ｍＬを加え均
一になるまで撹拌した。次いで、２，２′，３，３′−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物５３．６ｇを室温
で一度に加え強く撹拌した。１２時間撹拌後、反応溶液
をＮ，Ｎ―ジメチルアセトアミド８００ｍＬで希釈し、
この反応液にピリジン８８ｍＬ、無水酢酸６９ｍＬを加
えた。室温で１時間撹拌後、１００℃で４時間反応させ
た。反応液を冷却したのち、溶液をジエチルエーテルに
再沈殿した。ろ過して得られた固体を２００℃で６時間
乾燥させた。ナスフラスコに、上記固体を６０ｇとγ−
ブチロラクトン２４０ｇを入れ、均一になるまで撹拌し
た。次いで、アミノフェニルトリメトキシシラン３．６
ｇを加え、室温で１２時間反応させることにより、ポリ
イミド溶液を得た。
キシ）フルオレン７９．２ｇ、２，７−ジアミノ−９，
９−ビス（４−アミノフェノキシ）フルオレン２．９
ｇ、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド８００ｍＬを加え均
一になるまで撹拌した。次いで、２，２′，３，３′−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物５３．６ｇを室温
で一度に加え強く撹拌した。１２時間撹拌後、反応溶液
をＮ，Ｎ―ジメチルアセトアミド８００ｍＬで希釈し、
この反応液にピリジン８８ｍＬ、無水酢酸６９ｍＬを加
えた。室温で１時間撹拌後、１００℃で４時間反応させ
た。反応液を冷却したのち、溶液をジエチルエーテルに
再沈殿した。ろ過して得られた固体を２００℃で６時間
乾燥させた。ナスフラスコに、上記固体を６０ｇとγ−
ブチロラクトン２４０ｇを入れ、均一になるまで撹拌し
た。次いで、アミノフェニルトリメトキシシラン３．６
ｇを加え、室温で１２時間反応させることにより、ポリ
イミド溶液を得た。
【０１０５】合成例２ ポリエチレン容器にポリイミド溶液１５．１ｇ、メチ
ルトリメトキシシラン２１．４ｇ、テトラメトキシシラ
ン４．２ｇ、シクロヘキサノン１０２．５ｇ、ジ−ｉ−
プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン２．
６ｇを加え、６０℃に加熱した。この溶液にイオン交換
水４．２ｇを１時間かけて添加し、６０℃で２時間撹拌
した。反応終了後アセチルアセトン２．５ｇを添加し、
さらに６０℃で３０分撹拌した。次いで、この溶液にシ
クロヘキサノン４０ｇを添加し、５０℃のエバポレータ
ーで反応液からメタノールと水を含有する４０ｇの溶液
を除去し、反応液を得た。この溶液の重量平均分子量
は、２４，０００であった。
ルトリメトキシシラン２１．４ｇ、テトラメトキシシラ
ン４．２ｇ、シクロヘキサノン１０２．５ｇ、ジ−ｉ−
プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン２．
６ｇを加え、６０℃に加熱した。この溶液にイオン交換
水４．２ｇを１時間かけて添加し、６０℃で２時間撹拌
した。反応終了後アセチルアセトン２．５ｇを添加し、
さらに６０℃で３０分撹拌した。次いで、この溶液にシ
クロヘキサノン４０ｇを添加し、５０℃のエバポレータ
ーで反応液からメタノールと水を含有する４０ｇの溶液
を除去し、反応液を得た。この溶液の重量平均分子量
は、２４，０００であった。
【０１０６】合成例３ 合成例２において、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチ
ルアセトナート）チタンの代わりにトリエチルアミン
１．５ｇを使用したこと以外は、合成例２と同様にし
て、反応液を得た。この溶液の重量平均分子量は、３
４，０００であった。
ルアセトナート）チタンの代わりにトリエチルアミン
１．５ｇを使用したこと以外は、合成例２と同様にし
て、反応液を得た。この溶液の重量平均分子量は、３
４，０００であった。
【０１０７】合成例４ 合成例２において、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチ
ルアセトナート）チタンの代わりにマレイン酸１．０ｇ
を使用したこと以外は合成例２と同様にして、反応液
を得た。この溶液の重量平均分子量は、２１，０００で
あった。
ルアセトナート）チタンの代わりにマレイン酸１．０ｇ
を使用したこと以外は合成例２と同様にして、反応液
を得た。この溶液の重量平均分子量は、２１，０００で
あった。
【０１０８】合成例５ 石英製セパラブルフラスコ中で、メチルトリメトキシシ
ラン７７．０４ｇとテトラメトキシシラン２４．０５ｇ
とテトラキス（アセチルアセトナート）チタン０．４８
ｇを、プロピレングリコールモノプロピルエーテル２９
０ｇに溶解させたのち、スリーワンモーターで攪拌さ
せ、溶液温度を６０℃に安定させた。次に、イオン交換
水８４ｇを１時間かけて溶液に添加した。その後、６０
℃で２時間反応させたのち、アセチルアセトン２５ｇを
添加し、さらに３０分間反応させ、反応液を室温まで冷
却した。５０℃で反応液からメタノールと水を含む溶液
を１４９ｇエバポレーションで除去し、反応液を得
た。このようにして得られた縮合物等の重量平均分子量
は、８，９００であった。
ラン７７．０４ｇとテトラメトキシシラン２４．０５ｇ
とテトラキス（アセチルアセトナート）チタン０．４８
ｇを、プロピレングリコールモノプロピルエーテル２９
０ｇに溶解させたのち、スリーワンモーターで攪拌さ
せ、溶液温度を６０℃に安定させた。次に、イオン交換
水８４ｇを１時間かけて溶液に添加した。その後、６０
℃で２時間反応させたのち、アセチルアセトン２５ｇを
添加し、さらに３０分間反応させ、反応液を室温まで冷
却した。５０℃で反応液からメタノールと水を含む溶液
を１４９ｇエバポレーションで除去し、反応液を得
た。このようにして得られた縮合物等の重量平均分子量
は、８，９００であった。
【０１０９】実施例１ 合成例２で得られた反応液を０．２μｍ孔径のポリテ
トラフルオロエチレン（テフロン（登録商標））製フィ
ルターでろ過を行い、本発明の膜形成用組成物を得た。
得られた組成物をスピンコート法でシリコンウエハ上に
塗布した。得られた塗膜の５％重量減少温度は、５２２
℃と優れた耐熱性を示し、塗膜の比誘電率を評価したと
ころ、２．６９と低い誘電率を示した。また、塗膜の水
浸漬でもクラックの伝播は認められず、塗膜をＣＭＰし
た後も塗膜外観に変化は認めらなかった。
トラフルオロエチレン（テフロン（登録商標））製フィ
ルターでろ過を行い、本発明の膜形成用組成物を得た。
得られた組成物をスピンコート法でシリコンウエハ上に
塗布した。得られた塗膜の５％重量減少温度は、５２２
℃と優れた耐熱性を示し、塗膜の比誘電率を評価したと
ころ、２．６９と低い誘電率を示した。また、塗膜の水
浸漬でもクラックの伝播は認められず、塗膜をＣＭＰし
た後も塗膜外観に変化は認めらなかった。
【０１１０】実施例２〜８、比較例１〜３ 表１〜３に示す配合処方とした以外は、実施例１と同様
にして、膜形成用組成物を調製して評価した。結果を表
１〜３に示す。
にして、膜形成用組成物を調製して評価した。結果を表
１〜３に示す。
【０１１１】
【表１】
【０１１２】
【表２】
【０１１３】
【表３】
【０１１４】
【発明の効果】本発明の膜形成用組成物によれば、耐熱
性、電気絶縁性（比誘電率３以下）、クラック耐性、Ｃ
ＭＰ耐性に優れた硬化膜が得られ、絶縁膜形成用材料と
して有用である。
性、電気絶縁性（比誘電率３以下）、クラック耐性、Ｃ
ＭＰ耐性に優れた硬化膜が得られ、絶縁膜形成用材料と
して有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 79/08 Ｃ０８Ｌ 79/08 Ａ Ｚ 83/02 83/02 83/04 83/04 Ｃ０９Ｄ 183/02 Ｃ０９Ｄ 183/02 183/04 183/04 183/14 183/14 Ｈ０１Ｌ 21/312 Ｈ０１Ｌ 21/312 Ｃ //(Ｃ０８Ｌ 79/08 (Ｃ０８Ｌ 79/08 Ａ 83:04） 83:04） (Ｃ０８Ｌ 79/08 (Ｃ０８Ｌ 79/08 Ａ 83:02） 83:02） (Ｃ０８Ｌ 79/08 (Ｃ０８Ｌ 79/08 Ｚ 83:04） 83:04） (Ｃ０８Ｌ 79/08 (Ｃ０８Ｌ 79/08 Ｚ 83:02） 83:02） (72)発明者 後藤 幸平 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 4J002 BG044 BG054 BG064 BG074 BG134 BJ004 CD194 CF03 CF194 CF204 CG014 CG024 CG044 CH024 CH054 CM041 CP022 CP023 CP032 CP033 GQ01 4J038 CG142 DD042 DE022 DF012 DJ031 DJ032 DL021 DL022 DL031 DL032 DL041 DL042 DL071 DL072 DL161 DL162 GA03 GA06 GA07 GA09 GA15 HA096 HA176 HA186 HA216 HA326 HA376 HA416 JA33 JA37 JA38 JA56 JB01 JB09 JB25 JB27 JB29 JB33 JC13 JC38 KA03 KA04 KA06 LA06 MA06 MA09 NA11 NA12 NA14 NA21 NA26 PA19 PB09 PC08 5F058 AA02 AA10 AB05 AB06 AB07 AC02 AC03 AC06 AF04 AG01 AH02 AH03
Claims (8)
- 【請求項１】 （Ｉ）（Ａ）加水分解性オルガノシリル
基を有する、ポリアミック酸およびポリイミドもしくは
いずれか一方の存在下で、 （Ｂ）（Ｂ−１）下記一般式（１）で表される化合物、
および Ｒ1 a Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-a ・・・・・（１） （Ｒ1 は水素原子、フッ素原子または１価の有機基を示
し、Ｒ2 は１価の有機基を示し、ａは０〜２の整数を表
す。） （Ｂ−２）下記一般式（２) で表される化合物 Ｒ3 b （Ｒ4 Ｏ）3-b Ｓｉ−（Ｒ7 ）d −Ｓｉ（ＯＲ5 ）3-c Ｒ6 c ・・・・・（２） （Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 は、同一でも異なってい
てもよく、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃ
は、同一でも異なっていてもよく、０〜２の数を示し、
Ｒ7 は酸素原子または−（ＣＨ2 ）n −で表される基を
示し、ｎは１〜６を、ｄは０または１を示す。）の群か
ら選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、加水分解
し、縮合して得られる、ポリオルガノシロキサン／ポリ
イミドのハイブリッド体と、 （II）（Ｂ）上記（Ｂ−１）および（Ｂ−２）の群から
選ばれた少なくとも１種のシラン化合物の、加水分解物
および縮合物もしくはいずれか一方とを混合してなるこ
とを特徴とする、膜形成用組成物。 - 【請求項２】 （Ｃ）ポリエーテル、ポリエステル、ポ
リカーボネート、ポリアンハイドライドおよびポリ（メ
タ）アクリレートの群から選ばれた少なくとも１種の有
機ポリマーをさらに含有する請求項１記載の膜形成用組
成物。 - 【請求項３】 （Ａ）成分が、（Ａ）成分を構成するモ
ノマー成分中のジアミンの一部を３官能以上のアミン化
合物を用いて得られる分岐状構造を有する請求項１記載
の膜形成用組成物。 - 【請求項４】 （Ｉ）〜（II）成分に用いられる、
（Ｂ）成分が（Ｄ）酸触媒、塩基触媒または下記一般式
（３）で表される金属キレート化合物 Ｒ8 e Ｍ（ＯＲ9 ）f-e ・・・・・（３） （Ｒ8 はキレート剤、Ｍは金属原子、Ｒ9 は炭素数２〜
５のアルキル基または炭素数６〜２０のアリール基を示
し、ｆは金属Ｍの原子価、ｅは１〜ｆの整数を表す。）
からなる触媒の存在下に、加水分解および縮合もしくは
いずれか一方を行うことにより得られる請求項１記載の
膜形成用組成物。 - 【請求項５】 （Ｉ）〜（II）成分中における、（Ａ）
成分に対する（Ｂ）成分の使用割合が、（Ｂ）成分１０
０重量部（完全加水分解縮合物換算）に対し、（Ａ）成
分が３〜５０重量部（完全縮合物換算）である請求項１
記載の膜形成用組成物。 - 【請求項６】 （Ｉ）成分に対する（II）成分の使用割
合が、（Ｉ）成分１００重量部（完全加水分解縮合物換
算）に対し、（II）成分が５〜５００重量部（完全加水
分解縮合物換算）である請求項１記載の膜形成用組成
物。 - 【請求項７】 （Ｉ）〜（II）成分中における（Ａ）成
分と（Ｂ）成分の総量に対する（Ｃ）成分の使用割合
が、（Ａ）成分（完全縮合物換算）と（Ｂ）成分（完全
加水分解縮合物換算）の総量１００重量部に対し、
（Ｃ）成分が５〜１００重量部である請求項２記載の膜
形成用組成物。 - 【請求項８】 請求項１〜７記載いずれか１項記載の膜
形成用組成物からなることを特徴とする絶縁膜形成用材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000138311A JP2001316620A (ja) | 2000-05-11 | 2000-05-11 | 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000138311A JP2001316620A (ja) | 2000-05-11 | 2000-05-11 | 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001316620A true JP2001316620A (ja) | 2001-11-16 |
Family
ID=18645944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000138311A Withdrawn JP2001316620A (ja) | 2000-05-11 | 2000-05-11 | 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001316620A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005320544A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-17 | Eternal Chemical Co Ltd | ポリイミド／シリカ複合材料用の前駆体溶液、その製造方法、及び体積収縮の少ないポリイミド／シリカ複合材料 |
| JP2011132393A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Hitachi Cable Ltd | 絶縁被膜塗料および絶縁電線 |
| JP2014500783A (ja) * | 2010-10-08 | 2014-01-16 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | ハイブリッドコーティングを有する光源、ハイブリッドコーティングを有する光源を備える装置及び／又はこれらの製造方法 |
| TWI491652B (zh) * | 2013-05-17 | 2015-07-11 | 聯茂電子股份有限公司 | 有機-無機混成材料薄膜及其製造方法 |
-
2000
- 2000-05-11 JP JP2000138311A patent/JP2001316620A/ja not_active Withdrawn
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|---|---|---|---|---|
| JP2005320544A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-17 | Eternal Chemical Co Ltd | ポリイミド／シリカ複合材料用の前駆体溶液、その製造方法、及び体積収縮の少ないポリイミド／シリカ複合材料 |
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| JP2014500783A (ja) * | 2010-10-08 | 2014-01-16 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | ハイブリッドコーティングを有する光源、ハイブリッドコーティングを有する光源を備える装置及び／又はこれらの製造方法 |
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Legal Events
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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