JP2001300789A - 粉末材料を均質な物品に成形するための方法および装置 - Google Patents

粉末材料を均質な物品に成形するための方法および装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 粉末材料を均質な物品に成形するための方法
及び装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 粉末材料をガス源に接続された成形キャ
ビティ(5)に入れる工程と、ガスを成形キャビティ
(5)の下側端部に吹き込んで、粉末材料内の粒子をガ
ス流内で懸濁させる工程と、成形キャビティ(5)の上
側端部を上側成形パンチ(3)により封止する工程と、
成形キャビティ(5)の下側端部を真空源に接続する工
程と、下側パンチ(4)を成形キャビティ(5)の下側
端部に対して移動することによって、接続部(6、7)
を封止する工程と、その後で、成形パンチ(3)の助け
により、粉末材料を成形する工程とを含んでいる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、粉末材料を均質な
物品に成形するための方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】粉末材料を成形キャビティ内で成形する
ことにより軸受輪、ブシュ、中実体などの物品を製造す
る工程では、粉末を成形キャビティ内に均一に分布させ
てから成形作業を開始することが重要である。しかしな
がら、粉末内の粒子が均一に分布するよう、また、成形
キャビティを充填する粉末材料の上面が水平となるよ
う、成形キャビティを粉末で充填することは、困難であ
る。さらに、成形作業が非常に高い成形速度で行われ、
したがって、成形時間が、数ミリ秒台の場合は、空気
が、成形物品に巻き込まれ、その均質性が低下する可能
性が大きい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、粉末
内の粒子が、成形キャビティ内で、均一に分布し、か
つ、成形キャビティ内の粉末の上面が水平となってから
成形作業を開始する、粉末材料を均質な物品に成形する
ための方法および装置を提供することによってこれらの
問題を解決することである。
【0004】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】この目的
は、粉末材料を均質な物品に成形するための方法におい
て、粉末材料をガス源に接続された成形キャビティに入
れる工程と、ガスを成形キャビティの下側端部に吹き込
んで、粉末材料内の粒子をガス流内で懸濁させる工程
と、成形キャビティの上側端部を上側成形パンチにより
封止する工程と、成形キャビティの下側端部を真空源に
接続する工程と、下側パンチを成形キャビティの下側端
部に対して移動することによって、接続部を封止する工
程と、その後で、成形パンチの助けにより、粉末材料を
成形する工程と、を含むことを特徴とする方法によって
成し遂げられる。
【0005】好適な一実施形態においては、真空源は、
成形キャビティ内に、少なくとも大気圧の半分のサブ圧
力を作り出す。
【0006】本発明はまた、粉末材料を均質な物品に成
形する装置であって、垂直な側壁および開いた端部を有
する成形キャビティ、および成形キャビティと同じ横断
面積を有し、成形キャビティに出し入れ可能な上側およ
び下側パンチを含む装置において、成形キャビティの側
壁の下端部分に、開口が配設されており、前記開口は、
ガスを吹き込む装置および成形キャビティからガスを吸
引する装置に接続されており、かつ、下側パンチは、成
形キャビティに対して、第一の位置(この位置ではパン
チの上側端面は、開口より下に在る)から第二の位置
(この位置では開口は、下側パンチの側壁によって覆わ
れている)まで、移動可能であることを特徴とする装置
にも関する。
【0007】好適な一実施形態においては、ガスを透過
させる膜が開口を覆い、前記膜は、成形キャビティ内に
入れるべき粉末材料内の最も小さな粒子も通さない。望
ましくは、成形キャビティの垂直な壁面は、中空の円筒
体の形状を有するダイの内壁と中空のダイによって規定
される内部空間内に同心に位置する円柱状のコアピンの
側壁から成り、上側および下側パンチは、環状の成形キ
ャビティに嵌る、環状フランジを含む、それぞれ、下側
および上側端面を有し、開口は、ダイの内壁および(ま
たは)コアピンの側壁の下側端部における環状溝を含む
ガスを吹き込む装置および成形キャビティからガスを吸
引する装置に接続されている。
【0008】
【発明の実施の形態】粉末を成形して、軸受軌道輪など
の中実環状物品にする装置を、図1〜3に示す。この装
置は、中空の円筒ダイ1、コアピン2、上側成形パンチ
3および下側パンチ4を含んでいる。コアピン2は、円
柱状で、ダイ1に対して、同心に配設されており、した
がって、成形キャビティ5の側壁は、ダイの内壁および
コアピンの側壁によって規定されている。成形キャビテ
ィ5の底壁は、ダイの内側側壁とコアピンの側壁の間の
環状空間に嵌合する中空円筒体の形状を有する下側パン
チ4の上側端面によって規定されている。上側パンチ3
は、上側端部が閉じた中空円筒体の形状を有する。
【0009】ダイ1は、その下側端部に環状溝6を有し
ている。溝6は、適当な導管によってガス源(図示せ
ず)に連絡している。溝6に対向して、同様の環状溝7
が、コアピン2に作られている。この溝7も、適当な導
管によってガス源に連絡している。図示の実施形態にお
いては、溝7は、少なくとも二つの半径方向の穴によっ
て、中心穴8に連絡している。中心穴8は、適当な導管
によって溝6と同じガス源に連絡している。成形キャビ
ティ5に対して旋削されている各溝6,7の側壁は、そ
れぞれ、ガス透過性の膜9および10によって閉じられ
ている。
【0010】図1において、装置は、粉末材料を成形キ
ャビティ5に導入した直後の成形工程開始状態で示して
ある。成形キャビティに充填された粉末材料内の粒子の
分布を均一にするため、ガス源によって、ガスが、図1
の矢印で示したように、成形キャビティ内に吹き込まれ
る。ガスの流量は、流動床が形成される、すなわち、粉
末材料内の粒子が、ガス流によって懸濁されるような流
量である。それによって、粉末材料内の粒子の均一な分
布および水平な上側粒子面が確立する。流動床を作り出
すための流量は、粉末材料内の粒子の密度、粒度および
形状により決まる。
【0011】説明の実施形態においては、ガス流は、成
形キャビティに粉末材料を充填した後で作り出される。
ガス流が先ず成形キャビティの底部に達すると、ガス流
は、成形キャビティ内の粉末材料に撹拌効果を及ぼし、
次いで、粉末材料の粒子を懸濁させるのに十分な流量に
達すると、粉末材料内の粒子の均一な分布が確保され
る。流量は、成形キャビティ内の圧力が突然に増大し
て、成形キャビティ内の粒子のいくらかが、成形キャビ
ティから飛び出さないよう、徐々に上げるべきであるこ
とが指摘されている。
【0012】別法として、成形キャビティ内のガス流
は、成形キャビティが粉末材料で充填される直前に作り
出す。この場合には、成形キャビティ全体の圧力降下
は、成形キャビティの充填中、徐々に増大し、したがっ
て、成形キャビティ内で圧力が突然増大する虞はない。
【0013】成形キャビティの充填を行ってからガス流
を作り出す場合は、望ましくは、下側パンチ4を、図1
に示した位置から上方に移動し、成形キャビティ内に充
填された粉末材料の上面が、コアピンおよびダイの上面
と面一になるようにする。このようにすれば、成形キャ
ビティ内に充填された余分な粉末材料を掻き落とすこと
ができる。次いで、下側パンチを下方に移動し、図1に
示した位置まで下げてから、ガス流を作り出す。
【0014】使用ガスは、空気または不活性気体でよ
い。
【0015】成形キャビティ5内に粒子が流動化された
ら、ガス流を停止する。同時に、上側パンチ3を下方に
移動して、環状空間の上端に入れ、この空間の上端が、
周囲の大気から封止されるようにする。溝6および7を
真空源(図示せず)に連絡する。すると、成形キャビテ
ィ内のガスは、成形キャビティから引き出され、金型を
充填している粉末材料内の均一に分布した粒子は、互い
に他に接触するようになる。成形キャビティ内に作り出
されたサブ圧力は、少なくとも大気圧の半分である。膜
9,10は、非常に細かいため、いかなる粒子も膜を通
過して溝6,7に至ることができないことが指摘され
る。粉末材料を成形して、均質な物品にするための方法
におけるこの工程は、図2に示してあり、成形キャビテ
ィからのガスの吸出しを矢印で示してある。
【0016】サブ圧力工程中、成形キャビティを周囲の
大気から確実に封止するためには、それぞれ、ダイと上
側および下側パンチの間に、封止体(図示せず)を設け
るのが一般に適切である。下側パンチの封止体は、望ま
しくは、金型に固定されており、一方、上側パンチの封
止体は、上側パンチにスライド可能に取り付けられ、封
止体と上側パンチの下面が面一になる位置に予め張力を
掛けられている。
【0017】次いで、下側パンチ4は、溝6,7が下側
パンチの外側壁面によって覆われ、溝6,7が、真空源
から切り離されるような距離、上方に移動する。成形キ
ャビティ内の粉末材料は、下側パンチ4と共に上方に移
動し、下側パンチの終端位置(これは図3に示してあ
る)で、粉末材料の上面は、上側パンチ3の下端の面に
突き当たる。
【0018】これで、装置は、成形キャビティ内の粉末
材料の成形の用意ができ、成形パンチ3は、図3の矢印
で示したように、力Pで下方に駆動される。成形パンチ
は、非常に高い成形速度で駆動され、したがって、成形
動作には、僅か数ミリ秒しか掛からない。
【0019】下側パンチ4は、成形工程の終了後、成形
キャビティ5から成形された物品を排出するよう、便利
に配設されている。
【0020】上記の実施形態においては、ダイおよびコ
アピンの両方に、開口9,10が存在する。別の実施形
態(図示せず)においては、開口は、ダイにのみ設けら
れている。このような場合には、下側パンチに対してダ
イを可動にして、この開口を開閉することが可能であ
る。この別法では、成形作業中、下側パンチの支持が容
易になるであろう。
【0021】冒頭に述べたように、本発明は、物品を円
柱などの中実体に成形するのに応用することもできる。
このような場合には、装置は、コアピンを含まず、した
がって、開口は、ダイのみに存在し、ダイは、望ましく
は、下側パンチに対して可動にして、成形キャビティへ
の開口を開閉するようにする。
【0022】上記の実施形態は、本発明の範囲内で、い
くつかのやり方で修正可能である。溝6,7は、例え
ば、異なるガスおよび真空源に接続できるが、望ましく
は、それらは、同じガスおよび真空源に接続する。ガス
および真空源は、それぞれ、例えば、ブロワーのそれぞ
れ出口および入口にすることができるが、ガス流と真空
を作り出すのに、別個の源を用いることも可能である。
さらに、成形キャビティは、別の形状にして、リング以
外の付形物、例えば、長方形またはU字形の断面を有す
る管を作ることもできる。したがって、本発明は、クレ
ームに示された表現以外の表現によって限定されるべき
ものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好適な実施形態による装置の、流動化
工程における概略横断面図を示す。
【図2】真空工程における図1の装置を示す。
【図3】成形工程の開始直前の図1の装置を示す。
【符号の簡単な説明】
1 ダイ 2 コアピン 3 上側成形パッチ 4 下側成形パッチ 5 成形キャビティ 6 開口 7 開口 9 膜 10 膜

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉末材料を均質な物品に成形するための
    方法において、 粉末材料をガス源に接続された成形キャビティ(5)に
    入れる工程と、 ガスを成形キャビティ(5)の下側端部に吹き込んで、
    粉末材料内の粒子をガス流内で懸濁させる工程と、 成形キャビティ(5)の上側端部を上側成形パンチ
    (3)により封止する工程と、 成形キャビティ(5)の下側端部を真空源に接続する工
    程と、 下側パンチ(4)を成形キャビティ(5)の下側端部に
    対して移動することによって、接続部(6,7)を封止
    する工程と、 その後で、成形パンチ(3)の助けにより、粉末材料を
    成形する工程と、 を含むことを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 真空源は、成形キャビティ(5)内に、
    少なくとも大気圧の半分のサブ圧力を作り出すこととす
    る請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 粉末材料を均質な物品に成形する装置で
    あって、垂直な側壁および開いた端部を有する成形キャ
    ビティ(5)、および成形キャビティと同じ横断面積を
    有し、成形キャビティに出し入れ可能な上側(3)およ
    び下側パンチ(4)を含む装置において、成形キャビテ
    ィ(5)の側壁の下端部分に、開口(6,7)が配設さ
    れており、前記開口は、ガスを吹き込む装置および成形
    キャビティからガスを吸引する装置に接続されており、
    かつ、下側パンチ(4)は、成形キャビティに対して、
    第一の位置(この位置ではパンチの上側端面は、開口よ
    り下に在る)から第二の位置(この位置では開口は、下
    側パンチの側壁によって覆われている)まで、移動可能
    であることを特徴とする装置。
  4. 【請求項4】 ガスを透過させる膜(9,10)が開口
    を覆い、前記膜は、成形キャビティ(5)内に入れるべ
    き粉末材料内の最も小さな粒子も通さないこととする請
    求項3に記載の装置。
  5. 【請求項5】 成形キャビティ(5)の垂直な壁面は、
    中空の円筒体の形状を有するダイ(1)の内壁と中空の
    ダイによって規定される内部空間内に同心に位置する円
    柱状のコアピン(2)の側壁から成り、上側(3)およ
    び下側パンチ(4)は、環状の成形キャビティに嵌る、
    環状フランジを含む、それぞれ、下側および上側端面を
    有し、開口(9,10)は、ダイの内壁および(また
    は)コアピンの側壁の下側端部における環状溝を含むガ
    スを吹き込む装置および成形キャビティからガスを吸引
    する装置に接続されていることとする請求項4に記載の
    装置。
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