JP2001290002A - 表示装置用反射防止フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示装置の表示部の耐磨耗性の向上を図る。 【解決手段】 ガラス基材上に形成する表示装置用反射
防止フィルター１００において、ＳｉＯ₂ を含む少なく
とも一層の反射防止層１０２と、末端にアルコキシシラ
ン基を有しかつパーフルオロポリエーテル基を有する化
合物に、ＳｉＯ₂と相互作用が小である化合物を添加し
て生成される組成物による材料層１０３が形成されてな
る構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置用反射防
止フィルターに係わる。

【０００２】

【従来の技術】透明材料、例えばガラスを通して物を見
る場合に、ガラス面での反射光が強いために反射像が明
瞭であると、見る者に対して煩わしさを与える場合が多
い。例えば、眼鏡用レンズにおいては、いわゆるゴース
ト、フレア等と呼ばれる反射像を生じて、見る者に不快
感を与えたりする。また、ルッキングガラスなどにおい
ては、ガラス面上の反射した光のために、内容物が視覚
的に判然しない場合がある等の問題ある。

【０００３】このような反射による視覚を妨げる等の問
題を解決するべく、反射を防止するために、基材上に基
材と屈折率の異なる材料を、真空蒸着法等によって被覆
して反射防止層を形成させる方法が、従来から提案され
てきた。この方法においては、基材上に形成する反射防
止層の厚さを最適な値に設定することが、反射防止効果
を高めるために必要であることが知られている。

【０００４】例えば、この反射防止層を単層構造とする
場合には、下層の基材より、低屈折率の材料用いて、か
つ光学的膜厚を対象とする光波長の１／４ないしはその
奇数倍に選択することが、反射率を極小とし、すなわち
透過率を極大とするために有効であることが知られてい
る。ここで、光学的膜厚とは、被膜形成材料の屈折率と
該被膜の膜厚の積で与えられるものである。

【０００５】また、反射防止層を多層構造とすることも
提案されており、この場合には、反射防止層の膜厚の選
択に関しても、種々の提案がなされている（光学技術コ
ンタクト Vol.9 No.8, p17(1971) ）。

【０００６】一方、特開昭５８−４６３０１号公報、お
よび特開昭５９−４９５０１号公報には、上記光学的膜
厚の条件を満足させる多層構造の反射防止層、液状組成
物を用いて形成させる方法についての提案がなされてい
る。また、近年においては、軽量で安全かつ取扱いに便
利な長所を活かして、プラスチックを基材に用いた反射
防止性を有する光学物品が提案されており、実用化され
ている。そして、その多くにおいては、表面に、二酸化
珪素を有する材料による反射防止層が形成されているも
のである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような基材上に真空蒸着法によって反射防止層を形成
する場合、この反射防止層の材料としては、主に、無機
酸化物、あるいは無機ハロゲン化物が用いられている。
基材としてガラスを用いた場合には、その上層の反射防
止層は高い表面硬度をもつが、一方のおいては使用者に
よる手垢や指紋、汗、ヘアーリキッド、ヘアースプレー
等により汚れが付着した場合に汚れが目立ちやすく、さ
らにはこの汚れを除去しにくいという問題を有してい
る。

【０００８】また、このような反射防止層は、表面の滑
りが悪いため、目立つ傷がつきやすく、また、水に対す
る濡れ性が大きいため、雨滴やその他の水分の飛沫が付
着した場合に、大きな跡が尽きやすく、特に、眼鏡レン
ズを通して見た場合には、大面積にわたって物体が歪ん
で見える等の問題があった。

【０００９】上記特開昭５８−４６３０１号公報、およ
び上記特開昭５９−４９５０１号公報、また特開昭５９
−５０４０１号公報において記載されている反射防止層
においても、高い表面硬度を付与するために、最表層中
にシリカ微粒子などに代表される無機物を３０〔重量
部〕以上含有させる技術が記載されているが、このよう
な組成から得られる反射防止層は、表面の滑りが悪くな
ってしまい、布等による摩擦によって、傷が付きやす
く、また傷も目立つものになるという問題点を有してい
る。

【００１０】上述したような問題点を改良するために、
各種の表面処理剤が提案されており、市販されている。
しかしこれらはいずれも水や各種の溶剤によって溶解し
てしまうので、表面処理を施しても永続性がなく、耐久
性に乏しいものであった。

【００１１】また、特開平３−２６６８０１号公報に
は、撥水性を付与するために、フッ素系樹脂層を形成す
る技術の提案がなされている。しかしながら、フッ素系
樹脂を用いることによって撥水性を付与することはでき
るが、表面の摩擦あるいは磨耗に対しての耐久性に関し
ては、いまだに満足な結果が得られていない。

【００１２】表面の摩擦あるいは磨耗に対しての耐久性
と、耐汚染性に関しての解決を図るために、パーフルオ
ロポリエーテル化合物によって表面処理を施すことが提
案されている（特願平７−２２４０６３号）。しかしこ
の特願平７−２２４０６３号に提案された技術において
は、表面処理剤の化学的な安定性が不充分であり、例え
ば溶剤による処理等によって、その表面の反射防止効果
が著しく低下するという問題を有している。

【００１３】また、特開平９−６１６０５号公報には、
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン
化合物で被覆することによって反射防止性を有する表示
装置用フィルターの耐磨耗性、あるいは耐汚染性の問題
を解決する技術が提案されている。この特開平９−６１
６０５号公報に提案されている技術においては、反射防
止層の下層のガラス中のＳｉＯ₂ 成分と、反射防止層を
形成するための材料とで相互作用を持たせるために、ア
ルコキシシラン基を分子構造中に含ませて、ＳｉＯ ₂ 成
分と強固な結合を形成させたものである。

【００１４】しかしながら、この特開平９−６１６０５
号公報において提案されている反射防止層においても、
耐磨耗性の観点から考察すれば、いまだその特性におい
て改善の余地がある。すなわち、特開平９−６１６０５
号公報において提案されている反射防止層においては、
アルコキシシラン化合物が、ＳｉＯ₂ 成分と化学的な反
応を起こすために、この材料の表面による移動性がない
ため、実際に摩擦接触が起こったときに、その部分にお
いてこの材料が取り除かれてしまった場合にその周辺か
ら材料移動による修復がなされないためであると考えら
れる。

【００１５】そこで、本発明者は、鋭意研究を重ね、上
述した問題の解決を図る表示装置用反射防止フィルター
を提案するものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明の表示装置用反射
防止フィルターは、ガラス基材上に形成する表示装置用
反射防止フィルターであり、その構造は、ＳｉＯ₂ を含
む少なくとも一層の反射防止層を有し、この反射防止層
上に、末端にアルコキシシラン基を有し、かつパーフル
オロポリエーテル基を有する下記〔化２〕に示す化合物
に、ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化合物を添加して生
成される組成物による材料層が形成されてなるものとす
る。

【化２】Ｒ_f ＣＯＲ₁ −Ｒ₂ −Ｓｉ（ＯＲ₃ ）₃ （Ｒ_f は、パーフルオロポリエーテル基を示す。Ｒ
₁ は、Ｏ，ＮＨ，Ｓのいずれかを示す。Ｒ₂ は、アルキ
レン鎖を示す。Ｒ₃ はアルキル基を示す。）

【００１７】本発明の表示装置用反射防止フィルターに
よれば、ＳｉＯ₂ を含む少なくとも一層の反射防止層上
に、末端にアルコキシシラン基を有し、かつパーフルオ
ロポリエーテル基を有する上記〔化２〕に示す化合物
に、ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化合物を添加して生
成される組成物による材料層の形成を行ったので、材料
層の、反射防止層上でのミクロ的な流動がなされ、材料
層表面で摩擦接触が起こったときに、その部分において
この材料が取り除かれてしまった場合においても、その
周辺から材料移動による修復がなされ、表示装置表面の
耐磨耗性の向上を図られる。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の表示装置用反射防止フィ
ルターは、ガラス基材上に形成する表示装置用反射防止
フィルターであり、その構造は、ＳｉＯ₂ を含む少なく
とも一層の反射防止層を有し、この反射防止層上に、末
端にアルコキシシラン基を有しかつパーフルオロポリエ
ーテル基を有する下記〔化３〕に示す化合物に、ＳｉＯ
₂ と相互作用が小である化合物を添加して生成される組
成物による材料層が形成されてなるものとする。

【化３】Ｒ_f ＣＯＲ₁ −Ｒ₂ −Ｓｉ（ＯＲ₃ ）₃ （Ｒ_f は、パーフルオロポリエーテル基を示す。Ｒ
₁ は、Ｏ，ＮＨ，Ｓのいずれかを示す。Ｒ₂ は、アルキ
レン鎖を示す。Ｒ₃ はアルキル基を示す。）

【００１９】以下に本発明の表示装置用反射防止フィル
ターについての実施の形態を一例を挙げて説明するが、
本発明の表示装置用反射防止フィルターは、以下に説明
するものに限定されるものではない。

【００２０】先ず、本発明の表示装置用反射防止フィル
ター１００を適用する対象の例として、図１に、陰極線
管（以下ＣＲＴと呼ぶ）例えばモノクロームＣＲＴを用
いた表示装置１の要部の基本的構成を示す。この図１に
おいて、ＣＲＴ１ａは、内部が真空に保たれ、内面に蛍
光体が塗布されたパネル部２と、内面に設けられた導電
膜により電子ビーム走行空間を等電位に保つと共に、外
面の導電膜との間で高耐電圧の平滑コンデンサを形成す
るファンネル部３と、電子銃６が内部に設けられたネッ
ク部５とを有してなる。

【００２１】端子１２を介して供給されたビデオ信号Ｖ
Ｄは、ビデオ増幅器１０にて増幅され、電子銃６に送ら
れる。この電子銃６からはビデオ信号ＶＤに応じた電子
ビームｅｂが発射される。また、偏向回路１１は、ビデ
オ増幅器１０においてビデオ信号ＶＤから取り出された
水平、垂直同期信号に応じて偏向ヨーク４を駆動する。
上記電子銃６から発射された電子ビームｅｂは、上記偏
向回路１１により駆動される偏向ヨーク４から発生する
磁界によって軌道を曲げられ、上記パネル部２内面の蛍
光面を走査しながら、この蛍光面の蛍光体を発光させ
る。なお、この図１の場合の電子ビームｅｂの走査方向
は、紙面に対し垂直方向となる。

【００２２】本発明の表示装置用反射防止フィルター１
００は、図１中に示すように、表示装置１を構成するパ
ネル部２面上に形成されるが、パネル部２面上に直接、
材料を塗布して成膜形成することもでき、あるいは、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム等の所定の透明基材
上に材料を塗布して、フィルム状としたものを、パネル
部２の面上に貼りつけて形成することもできる。

【００２３】次に、本発明の表示装置用反射防止フィル
ター１００について、一例の概略断面図を示して説明す
る。図２に示す表示装置用反射防止フィルター１００
は、透明基材１０１上に、少なくとも一層の反射防止層
１０２を有し、この反射防止層１０２上に、上記〔化学
式１〕に示す化合物に、所定のＳｉＯ₂ と相互作用が小
である化合物を添加して生成される組成物による材料層
１０３が形成された構成を有する。

【００２４】図２に示す透明基材１０１は、例えば、１
００〔μｍ〕のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
フィルムを適用することができる。

【００２５】上記透明基材１０１上の反射防止層１０２
は、少なくとも一層のＳｉＯ₂ からなる膜を有するもの
とする。なお、この反射防止層１０２が多層構造である
場合には、最表層に、ＳｉＯ₂膜を有するものとする。
このとき、最表層のＳｉＯ₂ 膜は、この光学的膜厚ｎ
を、対象とする光の波長λとしたとき、ｎ＝（１／４）
λ、あるいはその奇数倍に選定することが、極小の反射
率すなわち極大の透過率を実現することができるので、
反射防止効果を最大限に発揮することができる。

【００２６】また、反射防止層１０２を構成する最表層
のＳｉＯ₂ 膜の下層に形成する膜については、ＳｉＯ₂
の他、各種無機物の材料を適用することができる。すな
わち、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ 、
ＳｉＯ、ＨｆＯ₂、ＺｎＯ、Ｉｎ₂ Ｏ₃ ／ＳｎＯ₂ 、Ｔ
ｉＯ、Ｔｉ₂ Ｏ₃ 、Ｙ₂ Ｏ₃ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃、ＭｇＯ、Ｃ
ｅＯ₂ 等を適宜使用することができる。

【００２７】このように、反射防止層１０２を構成する
最表層の下層に各種無機物の層を形成することにより、
耐熱性、反射防止性、反射光色、耐久性、表面硬度等の
向上を図ることができる。このような多層構造の反射防
止層の膜厚および屈折率の選択に関しては、各種提案が
なされている（光学技術コンタクトＶｏ．９，Ｎｏ．
９，ｐｐ１７，〔１９７１〕）。また、反射防止層１０
２を構成するＳｉＯ₂ を含めた各種無機物の被膜化方法
としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパ
ッタリング法等の従来公知のＰＶＤ法（Physical Vapor
Deposition 法 )を、いずれも適用することができる。

【００２８】次に、反射防止層１０２上に形成する材料
層１０３について、説明する。この材料層１０３は、末
端にアルコキシシラン基を有しかつパーフルオロポリエ
ーテル基を有する下記〔化４〕に示す化合物に、ＳｉＯ
₂ と相互作用が小である化合物を添加して生成される組
成物により、形成されるものとする。

【００２９】

【化４】Ｒ_f ＣＯＲ₁ −Ｒ₂ −Ｓｉ（ＯＲ₃ ）₃ （Ｒ_f は、パーフルオロポリエーテル基を示す。Ｒ
₁ は、Ｏ，ＮＨ，Ｓのいずれかを示す。Ｒ₂ は、アルキ
レン鎖を示す。Ｒ₃ はアルキル基を示す。）

【００３０】上記パーフルオロポリエーテル基（Ｒ_f ）
の具体的な例としては、下記〔化５〕〜〔化７〕に示す
構造のものが挙げられるが、以下に示すものに限定する
ものではない。

【００３１】

【化５】

【００３２】

【化６】

【００３３】

【化７】Ｆ（ＯＣＦＣＦ₂ ）_k −

【００３４】ここで、上記パーフルオロポリエーテル基
（Ｒ_f ）の化学構造中、ｌ，ｍ，ｎ，ｋは、それぞれ１
以上の整数であるものとする。また、多官能パーフルオ
ロポリエーテルとしては、下記〔化８〕に示すものを例
として挙げられる。

【００３５】

【化８】−（ＯＣＦ₂ ）_p （ＣＦ₂ ＣＦ₂ Ｏ）_q −

【００３６】ここで、上記多官能パーフルオロポリエー
テル基の化学構造中、ｐ，ｑは１以上の整数であると
し、ｐ／ｑは０．５〜２であることが望ましい。

【００３７】なお、材料層１０３を構成する組成物を作
製するために用いる「ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化
合物」とは、最終的に材料層１０３形成後、これを、エ
タノールを含んだ脱脂綿を１〔ｋｇ／ｃｍ² 〕の圧力
で、２０往復程度払拭したのち、材料残存率を測定した
場合に、これが５０〔％〕未満である効果を得られる化
合物であると定義する。

【００３８】このＳｉＯ₂ と相互作用が小である化合物
の具体例としては、下記〔化９〕〜〔化１３〕に示すも
のを挙げることができる。

【００３９】

【化９】

【００４０】

【化１０】ＣＦ₃ Ｏ（ＣＦ₂ Ｏ）_n （ＣＦ₂ ＣＦ₂ Ｏ）
_m ＣＦ₂ ＯＣＦ₃

【００４１】

【化１１】

【００４２】

【化１２】Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₃

【００４３】

【化１３】Ｃ₁₈Ｈ₃₇ＮＨ₂

【００４４】また、本発明の表示装置用反射防止フィル
ター１００を構成する材料層１０３形成に用いる、末端
にアルコキシシラン基を有しかつパーフルオロポリエー
テル基を有する化合物の数平均分子量は、化学的安定性
や取扱い易さを考慮して、５００〜１００００程度であ
るものが好ましく、さらに望ましくは、７００〜５００
０程度のものが良い。

【００４５】また、ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化合
物の数平均分子量は、これが、パーフルオロポリエーテ
ル化合物であるときには、５００〜１００００であるこ
とが必要であり、さらに望ましくは、５００〜５０００
であることが必要である。これは、パーフルオロポリエ
ーテル化合物の数平均分子量が５００未満であると、最
終的に材料層１０３を形成したとき、耐磨耗性の効果が
充分得られなくなるという問題があり、一方、数平均分
子量が１００００を越えるものは、市販品として入手困
難であり、また、５０００を越えるものについては、工
業的に合成することはコスト高を招来するという問題が
あるからである。なお、工業的には、入手しやすい２０
００〜３０００程度の分子量のものが使用される。

【００４６】なお、本発明の表示装置用反射防止フィル
ター１００は、透明基材１０１を有さない構造としても
よく、図１に示す陰極線管１ａの表示画面に、直接反射
防止層１０２および材料層１０３を被着させて形成した
構造とすることもできる。

【００４７】また、材料層１０３は、厚さ数〔ｎｍ〕程
度に形成すること必要であり、このため材料層１０３を
形成するために塗布する材料の濃度は、０．１〜５〔ｗ
ｔ％〕程度であることが必要である。なお、材料層１０
３を形成する組成物は、通常揮発性溶媒によって希釈し
て用いる。この場合、組成物の希釈に用いる溶媒として
は、従来適用されているものを使用することができる
が、組成物の安定性、材料層１０３の下層の二酸化珪素
膜に対する濡れ性、揮発性等を考慮して、表面エネルギ
ーの低いフッ素系溶剤が好ましい。

【００４８】材料層１０３の膜厚は、１００〔ｎｍ〕未
満に形成することが必要であるが、反射防止性を担保
し、かつ水に対する静止接触角とのバランスおよび表面
硬度との関係から、０．５〜１０〔ｎｍ〕程度が望まし
い。

【００４９】また、材料層１０３は、従来公知のコーテ
ィングによって形成することができる。特に反射防止効
果の均一性を確保したり、反射干渉色のコントロールを
容易にしたりするためには、スピンコート、浸漬塗布、
カーテンフロー塗布等が適用される。また、紙や布等
に、材料層１０３を形成するための塗布液を含浸させて
塗布流延させる方法も適用できる。

【００５０】なお、本発明の表示装置用反射防止フィル
ター１００を形成するための、ガラス基材としては、ソ
ーダガラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、液晶
化ガラスのいずれも用いることができる（例えば、化学
便覧基礎編、Ｐ．Ｉ−５３７、日本化学会編）。また、
ＣＲＴにおいては、ストロンチウムやバリウムを含む珪
酸ガラスが用いられ、液晶表示素子装置においては、無
アルカリガラスが用いられており、本発明の表示装置用
反射防止フィルターは、これらのガラスのいずれにも適
用することができ、その他、従来公知の材料からなるガ
ラスについて、いずれも適用することができる。

【００５１】また、本発明の表示装置用反射防止フィル
ター１００を構成する材料層１０３を形成するための反
射防止層１０２の表面は予め清浄化しておく必要があ
る。反射防止層１０２の表面を清浄化するには、界面活
性剤で汚れを除去したり、有機溶剤により脱脂したり、
フレオンによる蒸気清浄を行ったりする方法が挙げられ
る。また、反射防止層１０２と材料層１０３の密着性を
向上させ、かつ材料層１０３の耐久性を向上させるため
に、塗布工程の前処理として、反射防止層１０２に活性
化ガス処理、酸、アルカリによる薬品処理等を行うこと
もできる。

【００５２】次に、本発明の表示装置用反射防止フィル
ターについて、具体的な実施例を挙げて説明するが、本
発明の表示装置用反射防止フィルターは、以下に示す各
実施例に限定されるものではない。

【００５３】先ず、図１に示した陰極線管（ＣＲＴ）の
パネル部である表示画面２に、スパッタリングによっ
て、厚さが例えば１３０〔ｎｍ〕程度のＩＴＯ（酸化錫
ドープ酸化インジウム、Indium Tim Oxide) 膜を形成
し、その上に、反射防止層１０２として、ＳｉＯ₂ を例
えば８０〔ｎｍ〕程度に蒸着して形成した。

【００５４】次に、末端にアルコキシシラン基を有しか
つパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を用意す
る。本実施例において用いる末端にアルコキシシラン基
を有しかつパーフルオロポリエーテル基を有する〔化合
物１〕〜〔化合物３〕の構造を〔表１〕に示す。

【００５５】

【表１】

【００５６】次に、上記〔表１〕に示す〔化合物１〕〜
〔化合物３〕に添加する化合物として、下層のＳｉＯ₂
層と相互作用が小である化合物を用意する。本実施例に
おいて用いるＳｉＯ₂ 層と相互作用が小である〔化合物
４〕〜〔化合物８〕の構造を〔表２〕に示す。

【００５７】

【表２】

【００５８】上記〔表１〕に示す〔化合物１〕〜〔化合
物３〕に、上記〔表２〕に示す〔化合物４〕〜〔化合物
８〕を適宜組み合わせて添加し、下記〔表３〕に示す
〔組成物１〕〜〔組成物１４〕を作製する。なお、これ
ら〔組成物１〕〜〔組成物１４〕を構成する各化合物に
ついての使用割合、すなわち、（〔表１〕中の化合物／
〔表２〕中の化合物）の割合を、〔表３〕中に示した。
〔表３〕に示すように、〔組成物１〕〜〔組成物１３〕
については、この割合を、１００／６０〜１００／３の
範囲とし、〔組成物１４〕については、この範囲外とす
ることとした。

【００５９】

【表３】

【００６０】次に、〔組成物１〕〜〔組成物１４〕を、
例えば４〔重量部〕に対してアルコールを２００〔重量
部〕混合し、０．１〜５〔重量％〕の均一な溶液とした
後、例えばメンブランフィルターによって濾過を行い、
コーティング用の材料を作製する。

【００６１】次に、反射防止層１０２上に、上述のよう
にして作製した材料を、例えば５〔ｃｍ／ｍｉｎ〕の引
き上げ速度でディップコーティングし、材料層１０３を
形成した。

【００６２】次に、上述のようにして作製した表示装置
用反射防止フィルターの性能を評価する。なお、上述の
ようにして作製した〔組成物１〕〜〔組成物１３〕のそ
れぞれを用いて作製したサンプルを〔実施例１〕〜〔実
施例１３〕とする。また、比較対象するものとして、材
料層１０３の形成を行わなかったものを〔比較例１〕と
する。また、上記〔化合物１〕のみを用いて材料層１０
３の形成を行ったものを〔比較例２〕とし、上記〔化合
物６〕のみを用いて材料層１０３を形成したものを〔比
較例３〕とし、上記〔化合物５〕のみを用いて材料層１
０３を形成したものを〔比較例４〕とし、〔表３〕中の
〔組成物１４〕を用いて作製したものを〔比較例５〕と
する。

【００６３】次に、上記サンプルの特性の評価を行う評
価方法を以下の（１）〜（５）に示す。 （１）耐汚染性試験 水道水５〔ｍｌ〕を、上述のようにして作製した各サン
プルの面上に滴下し、常温雰囲気下で、４８〔時間〕放
置後、布で払拭した後の表面の水垢の残存状態を観察し
た。水垢を充分に除去できた場合を「良好」とし、充分
に除去できなかった場合を「不良」と評価した。なお、
この耐汚染性試験は、各サンプルの表面をエチルアルコ
ール洗浄を行う前後のそれぞれにおいて評価した。

【００６４】（２）表面すべり性 各サンプルの表面を市販のシャープペンシルの先に３０
０〔ｇ〕の荷重をかけて、引っ掻いた。評価基準は、以
下の通りである。 まったく引っかからない：○ さらに荷重を加えると引っ掛かる：△ 荷重を減らしても引っ掛かる：× なお、この表面すべり性の評価も、各サンプルの表面を
エチルアルコール洗浄を行う前後のそれぞれにおいて評
価した。

【００６５】（３）耐磨耗性試験 各サンプルの表面を、所定のスチ−ルウール（＃０００
０）で、３００〔ｇ〕の荷重をかけて、３０〔回〕擦っ
た後、傷が発生したかを評価した。評価基準は、以下の
通りである。 傷が全くつかない：○ 細かい傷がついた：△ 傷が著しい ：× なお、この耐磨耗性試験も、各サンプルの表面をエチル
アルコール洗浄を行う前後のそれぞれにおいて評価し
た。

【００６６】（４）手垢の付き難さの評価 手垢の付き難さについて、目視で評価した。評価基準
は、以下の通りである。 手垢がついても目立たない：○ 手垢が付くが、簡単に除去できる：△ 手垢が付いたあとが目立つ： × なお、この手垢の付き難さの評価も、各サンプルの表面
をエチルアルコール洗浄を行う前後のそれぞれにおいて
評価した。

【００６７】（５）接触角試験 水（Ｈ₂ Ｏ）およびヨウ化メチレン（ＣＨ₂ Ｉ₂ ）の接
触角を測定することによって、潤滑膜の残存率および
水、油に対する汚染性のめやすとすることができる。す
なわち、接触角が小さいものについては、濡れ性が良い
ために汚染されやすく、接触角が大きいものについて
は、撥水性、撥油性に優れ、汚染されにくいものと評価
できる。なお、この接触角試験についての評価も、各サ
ンプルの表面をエチルアルコール洗浄を行う前後のそれ
ぞれにおいて評価した。

【００６８】上述した（１）〜（５）の評価の結果を下
記〔表４〕に示す。

【００６９】

【表４】

【００７０】〔表４〕に示すように、ガラス基材上にＳ
ｉＯ₂ の反射防止層と、末端にアルコキシシラン基を有
し、かつパーフルオロポリエーテル基を有する〔表１〕
中の化合物に、ＳｉＯ₂ と相互作用が小である〔表２〕
中の化合物を添加して生成される〔表３〕中の〔組成物
１〕〜〔組成物１３〕による材料層を有する表示装置用
反射防止フィルターについては、上記（１）〜（５）の
評価について、いずれも優れた評価結果が得られた。特
に、耐磨耗性の評価については、〔比較例１〕〜〔比較
例５〕がいずれも、エチルアルコール洗浄後において評
価に劣化が見られるのに対し、〔実施例１〕〜〔実施例
１３〕のサンプルは、いずれも耐磨耗性の劣化が見られ
ないことが分かった。

【００７１】反射防止層１０２上に、材料層１０３を有
さない構成の〔比較例１〕のサンプルにおいては、耐汚
染性、表面すべり性、耐磨耗性試験、手垢の付き難さの
いずれの評価についても、好ましい結果が得られず、ま
た、水（Ｈ₂ Ｏ）およびヨウ化メチレン（ＣＨ₂ Ｉ₂ ）
の接触角については、他のサンプルより極めて小さく、
水、油に汚染されやすいことがわかった。

【００７２】〔表１〕中の〔化合物１〕のみを用いて
〔表２〕中の化合物を添加しなかった場合の〔比較例
２〕においては、耐磨耗性試験の評価が好ましい結果が
得られなかった。

【００７３】〔表２〕中の〔化合物６〕のみを用いて、
〔表１〕中の化合物を用いなかった場合の〔比較例３〕
においては、エタノール洗浄後の耐汚染性、表面すべり
性、耐磨耗性、手垢の付き難さ、および接触角のいずれ
の評価についても好ましい結果が得られなかった。

【００７４】〔表２〕中の〔化合物５〕のみを用いて、
〔表１〕中の化合物を用いなかった場合の〔比較例４〕
においては、耐汚染性、エタノール洗浄後の表面すべり
性、耐磨耗性、手垢の付き難さ、および接触角の各評価
について、好ましい結果が得られなかった。

【００７５】〔表３〕に示すように、〔化合物１〕と
〔化合物４〕の双方を用いて材料層１０３の形成を行っ
た〔実施例９〕〜〔実施例１３〕と、〔比較例５〕とを
比較すると、（化合物１／化合物４）の割合が、（１０
０／６０）〜（１００／３）である〔実施例９〕〜〔実
施例１３〕については、耐汚染性、表面すべり性、耐磨
耗性試験、手垢のつき難さ、および接触角試験にいずれ
の結果についても実用上望ましい結果が得られたが、
（化合物１／化合物４）の割合が、上記範囲外である
〔組成物１４〕を用いた〔比較例５〕においては、エタ
ノール洗浄後の耐汚染性、表面すべり性、耐磨耗性、手
垢の付き難さのいずれについても、好ましい結果が得ら
れなかった。このことから、末端にアルコキシシラン基
を有しかつパーフルオロポリエーテル基を有する化合物
１００〔重量部〕に対して、上記ＳｉＯ ₂ と相互作用が
小である化合物を、３〜６０〔重量部〕添加されてなる
組成物を用いることが必要である。

【００７６】上述したように、本発明の表示装置用反射
防止フィルターによれば、ＳｉＯ₂を含む少なくとも一
層の反射防止層上に、末端にアルコキシシラン基を有
し、かつパーフルオロポリエーテル基を有する上記〔化
１〕に示す化合物に、ＳｉＯ₂と相互作用が小である化
合物を添加して生成される組成物による材料層の形成を
行ったので、材料層の、反射防止層上でのミクロ的な流
動が可能になり、実際に材料層表面で摩擦接触が起こっ
たときに、その部分においてこの材料が取り除かれてし
まったときに、その周辺から材料移動による修復がなさ
れ、表示装置表面の耐磨耗性の向上を図ることができ
た。

【００７７】汚れの付着を効果的に回避することがで
き、また、汚れが付着しても目立たず、また、汚れを除
去しやすくすることができた。また、表面の滑りが良好
であるため、表面に傷が付きにくく、かつ、耐磨耗性に
関しての耐久性が優れているものとすることができた。

【００７８】

【発明の効果】本発明の表示装置用反射防止フィルター
によれば、ＳｉＯ₂ を含む少なくとも一層の反射防止層
上に、末端にアルコキシシラン基を有し、かつパーフル
オロポリエーテル基を有する上記〔化１〕に示す化合物
に、ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化合物を添加して生
成される組成物による材料層の形成を行ったので、材料
層の、反射防止層上でのミクロ的な流動が可能になり、
実際に材料層表面で摩擦接触が起こったときに、その部
分においてこの材料が取り除かれてしまったときに、そ
の周辺から材料移動による修復がなされ、表示装置表面
の耐磨耗性の向上を図ることができた。

【００７９】本発明の表示装置用反射防止フィルターに
よれば、汚れの付着を効果的に回避することができ、ま
た、汚れが付着しても目立たず、また、汚れを除去しや
すくすることができた。また、表面の滑りが良好である
ため、表面に傷が付きにくく、かつ、耐磨耗性に関して
の耐久性が優れているものとすることができた。

【００８０】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の表示装置用反射防止フィルターに適用
する表示装置の一例の概略構成図を示す。

【図２】本発明の表示装置用反射防止フィルターの一例
の概略構成図を示す。

【符号の説明】

１ 表示装置、３ ファンネル部、４ 偏向ヨーク、５
ネック部、６ 電子銃、１０ ビデオ信号増幅器、１
１ 偏向回路、１２ 端子、１００ 表示装置用反射防
止フィルター、１０１ 透明基材、１０２ 反射防止
層、１０３ 材料層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA00 AA02 BB02 BB24 CC03 CC42 DD02 DD03 EE05 4F100 AA20B AG00C AH02A AH05A AH06A AK17A AK54A AL05A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10B BA10C CC00A GB41 GB90 JA07A JK09 JN01C JN06B YY00A 5C032 AA02 DD02 DE03 DF03 DF04 DG01 5G435 AA09 BB02 GG11 HH02

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基材上に形成する表示装置用反射
   防止フィルターであって、 ＳｉＯ₂ を含む少なくとも一層の反射防止層を有し、 上記反射防止層上に、末端にアルコキシシラン基を有し
   かつパーフルオロポリエーテル基を有する下記〔化１〕
   に示す化合物に、上記ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化
   合物を添加して生成される組成物による材料層を、有す
   ることを特徴とする表示装置用反射防止フィルター。 【化１】Ｒ_f ＣＯＲ₁ −Ｒ₂ −Ｓｉ（ＯＲ₃ ）₃ （Ｒ_f は、パーフルオロポリエーテル基を示す。Ｒ
   ₁ は、Ｏ，ＮＨ，Ｓのいずれかを示す。Ｒ₂ は、アルキ
   レン鎖を示す。Ｒ₃ はアルキル基を示す。）
2. 【請求項２】 上記ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化合
   物は、パーフルオロポリエーテルであることを特徴とす
   る請求項１に記載の表示装置用反射防止フィルター。
3. 【請求項３】 上記反射防止層が、透明基材上に形成さ
   れてなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用
   反射防止フィルター。
4. 【請求項４】 上記〔化１〕の化合物を重量比で１００
   〔重量部〕に対して、上記ＳｉＯ₂ と相互作用が小であ
   る化合物を、３〜６０〔重量部〕添加されてなることを
   特徴とする請求項１に記載の表示装置用反射防止フィル
   ター。
5. 【請求項５】 上記ＳｉＯ₂ と相互作用が小である化合
   物の数平均分子量が、５００〜５０００であることを特
   徴とする請求項１に記載の表示装置用反射防止フィルタ
   ー。