JP2001288254A - ポリアリーレンの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 分子量を容易に制御でき、加工性に優れたポ
リアリーレンを得る。 【解決手段】 （Ａ）ジハロゲン化芳香族化合物および
ジスルフォネート化芳香族化合物もしくはいずれか一方
を、（Ｂ）モノハロゲン化芳香族化合物、モノスルフォ
ネート化芳香族化合物などの分子量調節剤の存在下で重
合する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリアリーレンの
製造方法に関し、さらに詳細には、耐熱性、化学的安定
性、透明性を利用した、電子材料や光学材料に有用な加
工性の優れたポリアリーレンの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】芳香環連鎖構造からなるポリフェニレン
などのポリアリーレンは、化学的安定性、熱的安定性に
優れたポリマー構造である。しかしながら、芳香環連鎖
構造によるため、有機溶媒に対する溶解性が劣り、加工
性に限界がある。溶解性を向上させる手段として、可溶
性基として側鎖を導入する試みが行なわれている。しか
しながら、側鎖を導入することにより、耐熱性が低下し
たり、原料の製造が煩雑になるなどの問題がある。

【０００３】従来のポリフェニレンとしては、例えば米
国特許第５，２１４，０４４号明細書、国際出願ＷＯ９
６／２８４９１号明細書、ヨーロッパ特許公開第６２９
２１７号公報などに記載されているポリマーを挙げるこ
とができる。これらのポリマーは、基本的にポリパラフ
ェニレンからなる剛直構造を主としてなり、一部に屈曲
性モノマーを共重合するなどしている。しかしながら、
これらに提案されているフェニレン連鎖からなるポリア
リーレンについて、分子量調整方法については記載され
ていない。すなわち、ポリアリーレンの用途に応じた分
子量の調整は、不可能であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、用途に応じ
た適正な分子量を有するポリアリーレンの製造方法を提
供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）ジハロ
ゲン化芳香族化合物およびジスルフォネート化芳香族化
合物の群から選ばれた少なくとも１種の芳香族化合物
（以下「（Ａ）芳香族化合物」ともいう）を、（Ｂ）分
子量調節剤の存在下で重合することを特徴とするポリア
リーレンの製造方法に関する。ここで、（Ａ）芳香族化
合物は、下記一般式（１）〜（４）の群から選ばれた少
なくとも１種であることが好ましい。

【０００６】

【化３】

【０００７】〔一般式（１）中、Ｘは−ＣＹＹ′−（こ
こで、Ｙ〜Ｙ′は同一または異なり、水素原子、アルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基またはアリール基を示す）
で表される基、フルオレニレン基、または酸素原子、窒
素原子もしくはイオウ原子を含む２価の有機基を示し、
Ｒ¹ 〜Ｒ⁸ は同一または異なり、スルホン酸基、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル
基、アリル基、またはアリール基であり、Ｒ〜Ｒ′は同
一または異なり、ハロゲン原子、または−ＯＳＯ₂Ｚ
（ここで、Ｚはアルキル基、ハロゲン化アルキル基もし
くはアリール基を示す）で表される基である。〕

【０００８】

【化４】

【０００９】〔一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁹ 〜Ｒ
¹⁶は、同一または異なり、スルホン酸基、水素原子、ア
ルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アリ
ール基または官能基を含む１価の有機基を示し、Ｒ〜
Ｒ′は、一般式（１）に同じ。〕 また、（Ｂ）分子量調節剤としては、モノハロゲン化芳
香族化合物およびモノスルフォネート化芳香族化合物の
群から選ばれた少なくとも１種が好ましい。さらに、上
記モノハロゲン化芳香族化合物またはモノスルフォネー
ト化芳香族化合物は、電子吸引性基を有する構造のもの
が好ましい。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明のポリアリーレンの製造方
法は、上記（Ａ）芳香族化合物を、（Ｂ）分子量調節剤
として、反応点が１箇所しかないモノマー（モノハロゲ
ン化合物、モノスルフォネート化合物など）を重合系に
少量添加し、得られるポリアリーレンの高分子量化を抑
えて、分子量を調節するものである。

【００１１】なお、本発明で得られるポリアリーレンの
具体例としては、特に限定されるものではなく、いかな
るものでもよいが、例えば、上記一般式（１）〜（４）
に対応する（Ａ）芳香族化合物を、遷移金属化合物を含
む触媒系の存在下で（共）重合して得られるものであ
る。本発明により得られるポリアリーレンについて、以
下、説明する。

【００１２】まず、上記一般式（１）で表される（Ａ）
芳香族化合物から得られるポリアリーレン（以下「ポリ
アリーレン（１）」ともいう）について、説明する。上
記一般式（１）で表される繰り返し構造単位の−ＣＹ
Ｙ′−のＹ〜Ｙ′のうち、ハロゲン化アルキル基として
は、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基な
どが、またアリール基としては、フェニル基、ビフェニ
ル基、トリル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げ
られる。

【００１３】また、上記一般式（１）において、Ｘとし
ての２価の有機基としては、酸素原子、窒素原子もしく
はイオウ原子を含む２価の有機基が挙げられる。この２
価の有機基としては、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，
−ＣＯＮＨ−，−Ｓ−，−ＳＯ−，−ＳＯ₂ −，−ＮＨ
ＣＯＮＨ−などの官能基が挙げられる。これらの中で、
−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＮＨ−，−ＳＯ₂ −が、得ら
れるポリマーの重合度、機械的性質、耐熱性の観点から
好ましい。これらは、１分子中に複数個含まれていても
よく、また、官能基の種類は問わない。

【００１４】さらに、上記一般式（１）中のＲ¹ 〜Ｒ⁸
のうち、ハロゲン原子としては、フッ素原子などが、ア
ルキル基としては、メチル基、エチル基などが、ハロゲ
ン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペン
タフルオロエチル基などが、アリル基としては、プロペ
ニル基などが、アリール基としては、フェニル基、ペン
タフルオロフェニル基などが挙げられる。一般式（１）
において、Ｘとしては、−Ｃ（ＣＦ₃ ）₂ −、−Ｃ（Ｃ
Ｆ₃ ）（Ｃ₆ Ｈ₅ ）−、フルオレニレン基、特にフルオ
レニレン基が好ましい。

【００１５】また、上記一般式（１）中、Ｒ〜Ｒ′は同
一または異なり、ハロゲン原子、または−ＯＳＯ₂ Ｚ
（ここで、Ｚはアルキル基、ハロゲン化アルキル基もし
くはアリール基を示す）で表される基である。一般式
（１）において、Ｘとしては、−Ｃ（ＣＦ₃ ）₂ −、−
Ｃ（ＣＦ₃ ）（Ｃ₆ Ｈ₅ ）−、フルオレニレン基が好ま
しく、Ｒ〜Ｒ′としては、−ＯＳＯ₂ Ｚで表される基
や、塩素原子，臭素原子が好ましい。上記一般式（１）
中、Ｒ〜Ｒ′のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子が挙げられる。また、一般式（１）
中、−ＯＳＯ₂ Ｚ中のＺを構成する、アルキル基として
はメチル基、エチル基などが、ハロゲン化アルキル基と
してはトリフルオロメチル基などが、アリール基として
はフェニル基、ｐ−トリル基などが挙げられる。

【００１６】上記一般式（１）で表される芳香族化合物
の具体例としては、２，２−ビス（４−メチルスルフォ
ニロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４
−メチルスルフォニロキシフェニル）メタン、ビス（４
−メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルメタ
ン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−
メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（４−メチルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−メ
チルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、９，９−ビス（４−メチルスル
フォニロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４
−メチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）フル
オレン、９，９−ビス（４−メチルスルフォニロキシ−
３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス
（４−メチルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、ビス（４
−メチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）ジフ
ェニルメタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−
３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルメタン、ビス
（４−メチルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニ
ル）ジフェニルメタン、ビス（４−メチルスルフォニロ
キシ−３−フルオロフェニル）ジフェニルメタン、ビス
（４−メチルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロフ
ェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビス（４−メチル
スルフォニロキシ−３−フルオロフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３，
５−ジフルオロフェニル）フルオレン、ビス（４−メチ
ルスルフォニロキシフェニル）メタン、ビス（４−メチ
ルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビ
ス（４−メチルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−
３−プロペニルフェニル）メタン、ビス（４−メチルス
ルフォニロキシフェニル）トリフルオロメチルフェニル
メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニル）
フェニルメタンなどが挙げられる。

【００１７】また、一般式（１）で表される芳香族化合
物の具体例としては、２，２−ビス（４−トリフルオロ
メチルスルフォニロキシフェニル）ヘキサフルオロプロ
パン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ
フェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロメチルスル
フォニロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビ
ス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−メ
チルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス
（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−プロ
ペニルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３，５
−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、９，９
−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，
９−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−
３−プロペニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス
（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−フェ
ニルフェニル）フルオレン、ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）ジフェニ
ルメタン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルメタン、
ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−
プロペニルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ト
リフルオロメチルスルフォニロキシ−３−フルオロフェ
ニル）ジフェニルメタン、ビス（４−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）ジ
フェニルメタン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）フルオレン、ビ
ス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニ
ル）メタン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビス（４−トリ
フルオロメチルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）メタン、ビス
（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）
トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス（４−トリフ
ルオロメチルスルフォニロキシフェニル）などが挙げら
れる。

【００１８】さらに、上記一般式（１）で表される芳香
族化合物の具体例としては、２，２−ビス（４−フェニ
ルスルフォニロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニル）メ
タン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニル）
ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシ−３−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロ
パン、２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−
３−プロペニルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３，５
−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、９，９
−ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニル）フル
オレン、９，９−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ
−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４
−フェニルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（４−フェニルスルフォ
ニロキシ−３−プロペニルフェニル）フルオレン、９，
９−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−フェニ
ルフェニル）フルオレン、ビス（４−フェニルスルフォ
ニロキシ−３−メチルフェニル）ジフェニルメタン、ビ
ス（４−フェニルスルフォニロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−フェニルスル
フォニロキシ−３−プロペニルフェニル）ジフェニルメ
タン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−フル
オロフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−フェニル
スルフォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）ジフ
ェニルメタン、９，９−ビス（４−フェニルスルフォニ
ロキシ−３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−
ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３，５−ジフル
オロフェニル）フルオレン、ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシフェニル）メタン、ビス（４−フェニルスル
フォニロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビス（４
−フェニルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３
−プロペニルフェニル）メタン、ビス（４−フェニルス
ルフォニロキシフェニル）トリフルオロメチルフェニル
メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニ
ル）フェニルメタンなどが挙げられる。

【００１９】さらにまた、上記一般式（１）で表される
芳香族化合物の具体例としては、２，２−ビス（ｐ−ト
リルスルフォニロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニル）メタ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニル）ジフ
ェニルメタン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニロ
キシ−３−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−プロ
ペニルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン、９，９−ビス（ｐ−
トリルスルフォニロキシフェニル）フルオレン、９，９
−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−メチルフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォ
ニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−プロ
ペニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ−トリ
ルスルフォニロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−メチルフ
ェニル）ジフェニルメタン、ビス（ｐ−トリルスルフォ
ニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルメタ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−プロペニ
ルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（ｐ−トリルスル
フォニロキシ−３−フルオロフェニル）ジフェニルメタ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジフ
ルオロフェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニル）フ
ルオレン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ
−３，５−ジフルオロフェニル）フルオレン、ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）メタ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロ
キシ−３−プロペニルフェニル）メタン、ビス（ｐ−ト
リルスルフォニロキシフェニル）トリフルオロメチルフ
ェニルメタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェ
ニル）フェニルメタンなどが挙げられる。

【００２０】さらにまた、上記一般式（１）で表される
芳香族化合物の具体例としては、Ｘとして上記官能基を
有する芳香族化合物として、ビス（４−クロロフェニ
ル）エーテル、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、
２，４′−ジクロロベンゾフェノン、４−クロロ安息香
酸−４′−クロロフェニル、３−クロロ安息香酸−４′
−クロロフェニル、３−クロロ安息香酸−３′−クロロ
フェニル、４，４′−ジクロロベンズアニリド、３，
４′−ジクロロベンズアニリド、３，３′−ジクロロベ
ンズアニリド、ビス（４−クロロフェニル）スルフィ
ド、３−クロロフェニル−４′−クロロフェニルスルフ
ィド、ビス（３−クロロフェニル）スルフィド、ビス
（４−クロロフェニル）スルホキシド、３−クロロフェ
ニル−４′−クロロフェニルスルホキシド、ビス（３−
クロロフェニル）スルホキシド、ビス（４−クロロフェ
ニル）スルホン、３−クロロフェニル−４′−クロロフ
ェニルスルホン、ビス（３−クロロフェニル）スルホ
ン、ビス（４−クロロフェニル）尿素、３−クロロフェ
ニル−４−クロロフェニル尿素、ビス（３−クロロフェ
ニル）尿素など挙げられる。これらのうち、４，４′−
ジクロロベンゾフェノン、ビス（４−クロロフェニル）
スルホンなどが、得られるポリマーの分子量、耐熱性、
溶解性の観点から好ましい。

【００２１】次に、上記一般式（２）〜（４）で表され
る芳香族化合物から得られるポリアリーレン（以下、そ
れぞれ、「ポリアリーレン（２）」、「ポリアリーレン
（３）」、あるいは「ポリアリーレン（４）」ともい
う）について、説明する。

【００２２】本発明で得られるポリアリーレン（２）〜
（４）は、上記一般式（２）〜（４）で表される芳香族
化合物を、遷移金属化合物を含む触媒系の存在下に、重
合溶媒中で重合することにより製造される。

【００２３】上記一般式（２）で表される芳香族化合物
の具体例としては、ｐ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジブロ
モベンゼン、ｐ−ジヨードベンゼン、ｐ−ジメチルスル
フォニロキシベンゼン、２，５−ジクロロトルエン、
２，５−ジブロモトルエン、２，５−ジヨードトルエ
ン、２，５−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、２，
５−ジクロロ−ｐ−キシレン、２，５−ジブロモ−ｐ−
キシレン、２，５−ジヨード−ｐ−キシレン、２，５−
ジクロロベンゾトリフルオライド、２，５−ジブロモベ
ンゾトリフルオライド、２，５−ジヨードベンゾトリフ
ルオライド、１，４−ジクロロ−２，３，５，６−テト
ラフルオロベンゼン、１，４−ジブロモ−２，３，５，
６−テトラフルオロベンゼン、１，４−ジヨード−２，
３，５，６−テトラフルオロベンゼン、２，５−ジクロ
ロベンゾフェノン、２，５−ジクロロ−４′−フェノキ
シベンゾフェノン、２，５−ジブロモベンゾフェノン、
２，５−ジブロモ−４′−フェノキシベンゾフェノン、
２，５−ジクロロベンジルクロリド、２，５−ジブロモ
ベンジルクロリド、２，５−ジクロロベンズアミド、
２，５−ジブロモベンズアミド、２，５−ジクロロ安息
香酸フェニル、２，５−ジブロモ安息香酸フェニルなど
が挙げられ、好ましくはｐ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジ
メチルスルフォニロキシベンゼン、２，５−ジクロロト
ルエン、２，５−ジクロロベンゾトリフルオライドであ
る。

【００２４】上記一般式（３）で表される芳香族化合物
の具体例としては、４，４′−ジメチルスルフォニロキ
シビフェニル、４，４′−ジメチルスルフォニロキシ−
３，３′−ジプロペニルビフェニル、４，４′−ジブロ
モビフェニル、４，４′−ジヨードビフェニル、４，
４′−ジメチルスルフォニロキシ−３，３′−ジメチル
ビフェニル、４，４′−ジメチルスルフォニロキシ−
３，３′−ジフルオロビフェニル、４，４′−ジメチル
スルフォニロキシ−３，３′，５，５′−テトラフルオ
ロビフェニル、４，４′−ジブロモオクタフルオロビフ
ェニル、４，４−メチルスルフォニロキシオクタフルオ
ロビフェニルなどが挙げられ、好ましくは４，４′−ジ
メチルスルフォニロキシビフェニル、４，４′−ジブロ
モビフェニル、４，４′−ジヨードビフェニル、４，
４′−ジメチルスルフォニロキシ−３，３′−ジプロペ
ニルビフェニルである。

【００２５】上記一般式（４）で表される芳香族化合物
の具体例としては、ｍ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジブロ
モベンゼン、ｍ−ジヨードベンゼン、ｍ−ジメチルスル
フォニロキシベンゼン、２，４−ジクロロトルエン、
２，４−ジブロモトルエン、２，４−ジヨードトルエ
ン、３，５−ジクロロトルエン、３，５−ジブロモトル
エン、３，５−ジヨードトルエン、２，６−ジクロロト
ルエン、２，６−ジブロモトルエン、２，６−ジヨード
トルエン、３，５−ジメチルスルフォニロキシトルエ
ン、２，６−ジメチルスルフォニロキシトルエン、２，
４−ジクロロベンゾトリフルオライド、２，４−ジブロ
モベンゾトリフルオライド、２，４−ジヨードベンゾト
リフルオライド、３，５−ジクロロベンゾトリフルオラ
イド、３，５−ジブロモトリフルオライド、３，５−ジ
ヨードベンゾトリフルオライド、１，３−ジブロモ−
２，４，５，６−テトラフルオロベンゼン、２，４−ジ
クロロベンゾフェノン、２，４−ジクロロ−４′−フェ
ノキシベンゾフェノン、２，４−ジブロモベンゾフェノ
ン、２，４−ジブロモ−４′−フェノキシベンゾフェノ
ン、２，４−ジクロロベンジルクロリド、２，４−ジブ
ロモベンジルクロリド、２，４−ジクロロベンズアミ
ド、２，４−ジブロモベンズアミド、２，４−ジクロロ
安息香酸フェニル、２，４−ジブロモ安息香酸フェニ
ル、２，４−ジクロロ−４′−メチルベンゾフェノンな
どが挙げられ、好ましくはｍ−ジクロロベンゼン、２，
４−ジクロロトルエン、３，５−ジメチルスルフォニロ
キシトルエン、２，４−ジクロロベンゾトリフルオライ
ドである。

【００２６】以上の一般式（１）〜（４）で表される芳
香族化合物のうち、耐熱性、機械的性質、溶解性付与の
機能性能のバランスの面から、（１）または（２）で表
される屈曲性基を主鎖に含む芳香族化合物の少なくとも
１種を使用することが好ましい。

【００２７】上記一般式（１）〜（４）で表される芳香
族化合物の群から選ばれた少なくとも１種の共重合比
は、一般式（１）で表される化合物が好ましくは５〜１
００モル％、さらに好ましくは１０〜９０モル％、一般
式（２）〜（４）で表される他の化合物が好ましくは０
〜１００％、さらに好ましくは１０〜１００モル％であ
る。一般式（１）で表される芳香族化合物を、全化合物
中に、好ましくは５〜１００モル％、さらに好ましくは
１０〜９０モル％用いると、耐熱性、機械的性質、溶解
性の向上に効果がある。一般式（２）で表される芳香族
化合物を用いる場合には、その割合は、全化合物中に
に、好ましくは０〜１００モル％、さらに好ましくは０
〜９０モル％である。この範囲内であると、良好な耐熱
性が得られる。一般式（３）で表される芳香族化合物を
用いる場合には、その割合は、全化合物中に、好ましく
は０〜３０モル％、さらに好ましくは０〜２０モル％で
ある。この範囲内であると、良好な耐熱性が得られる。
一般式（４）で表される芳香族化合物を用いる場合に
は、その割合は、全化合物中に、好ましくは０〜８０モ
ル％、さらに好ましくは０〜７０モル％である。この範
囲では、良好な溶解性が得られる。

【００２８】本発明で得られるポリアリーレンは、
（Ａ）ジハロゲン芳香族化合物およびジスルフォネート
化芳香族化合物もしくはそのいずれか一方からなる芳香
族化合物〔例えば、上記一般式（１）〜（４）の群から
選ばれた少なくとも１種〕を、（Ｂ）分子量調節剤の存
在下、かつ遷移金属化合物を含む触媒系の存在下に、重
合溶媒中で重合することにより製造される。

【００２９】ここで、（Ｂ）分子量調節剤は、得られる
ポリアリーレンの高分子量化を止めるために、反応点が
一箇所しかないモノマー（モノハロゲン化芳香族化合
物、モノスルフォネート化合物）である。この（Ｂ）分
子量調節剤を一般式で示すと、例えば、Ｒ−φ、Ｒ−φ
−Ｔ、Ｒ−φ−Ｔ−φなどで表される。ここで、Ｒは、
上記に同じであり、ハロゲン原子、または−ＯＳＯ₂ Ｚ
（ここで、Ｚはアルキル基、ハロゲン化アルキル基もし
くはアリール基を示す）で表される基、φは、ベンゼン
核、Ｔは、１価もしくは２価の電子吸引性基で、１価の
基では、例えば−ＣＮ、−ＮＯ₂ 、−ＣＯＮＲ″₂ （こ
こで、Ｒ″はアルキル基もしくはアリール基を示す）な
どが、また、２価の基では、例えば−ＣＯ−、−ＣＯＮ
Ｈ−、−ＳＯ₂ −、−ＳＯ−、−Ｃ（ＣＦ₃ ）−、−Ｃ
（ＣＦ₃ ）（Ｃ₆ Ｈ₅ ）−、−ＣＯＯ−など挙げられ
る。

【００３０】（Ｂ）分子量調節剤の好ましい例として
は、４−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンズアニ
リド、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、４−ブロモベ
ンゾフェノン、４−ブロモベンズアニリド、４−クロロ
安息香酸フェニル、４−ブロモ安息香酸フェニル、安息
香酸４−クロロフェニル、安息香酸４−ブロモフェニ
ル、２，２−クロロフェニル−フェニルヘキサフルオロ
プロパン、１，１，１−ジフェニル−クロロフェニルト
リフルオロメタンなどのモノハロゲン化芳香族化合物、
クロロフェニル−フェニルスルホン、４−スルホニロキ
シベンゾフェノン、４−スルホニロキシジフェニルスル
ホンなどのモノスルフォネート化合物などが挙げられ
る。本発明において、モノハロゲン化芳香族化合物が有
するハロゲン原子は、塩素原子、または臭素原子である
ことが好ましい。

【００３１】（Ｂ）分子量調節剤の使用量は、（Ａ）芳
香族化合物１モルに対して、０．１〜１００ｍｍｏｌ、
好ましくは０．５〜３０．０ｍｍｏｌである。０．１ｍ
ｍｏｌ未満では、分子量を下げる効果がなく、一方、１
００ｍｍｏｌを超えると、分子量が著しく低下する。

【００３２】以上の本発明のポリアリーレン（１）〜
（４）（またはこれらの共重合体）を製造する際に使用
される触媒は、遷移金属化合物を含む触媒系であり、こ
の触媒系としては、遷移金属塩および配位子、または
配位子が配位された遷移金属（塩）、ならびに還元剤
を必須成分とし、さらに、重合速度を上げるために、
「塩」を添加してもよい。ここで、遷移金属塩として
は、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、ニ
ッケルアセチルアセトナートなどのニッケル化合物、塩
化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウムなど
のパラジウム化合物、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などの
鉄化合物、塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバル
トなどのコバルト化合物などが挙げられる。これらのう
ち特に、塩化ニッケル、臭化ニッケルなどが好ましい。
また、配位子としては、トリフェニルホスフィン、２，
２′−ビピリジン、１，５−シクロオクタジエン、１，
３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンなどが挙げ
られるが、トリフェニルホスフィン、２，２′−ビピリ
ジンが好ましい。上記配位子は、１種単独で、あるいは
２種以上を併用することができる。

【００３３】さらに、あらかじめ配位子が配位された遷
移金属（塩）としては、例えば、塩化ニッケルビス（ト
リフェニルホスフィン）、臭化ニッケルビス（トリフェ
ニルホスフィン）、ヨウ化ニッケルビス（トリフェニル
ホスフィン）、硝酸ニッケルビス（トリフェニルホスフ
ィン）、塩化ニッケル（２，２′ビピリジン）、臭化ニ
ッケル（２，２′ビピリジン）、ヨウ化ニッケル（２，
２′ビピリジン）、硝酸ニッケル（２，２′ビピリジ
ン）、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル、
テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テト
ラキス（トリフェニルホスファイト）ニッケル、テトラ
キス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどが挙げ
られるが、塩化ニッケルビス（トリフェニルホスフィ
ン）、塩化ニッケル（２，２′ビピリジン）が好まし
い。

【００３４】本発明の触媒系において使用することがで
きる上記還元剤としては、例えば、鉄、亜鉛、マンガ
ン、アルミニウム、マグネシウム、ナトリウム、カルシ
ウムなどを挙げることできるが、亜鉛、マグネシウム、
マンガンが好ましい。これらの還元剤は、酸や有機酸に
接触させることにより、より活性化して用いることがで
きる。また、本発明の触媒系において使用することので
きる「塩」としては、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウ
ム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硫酸ナトリウ
ムなどのナトリウム化合物、フッ化カリウム、塩化カリ
ウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、硫酸カリウムな
どのカリウム化合物、フッ化テトラエチルアンモニウ
ム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチル
アンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、硫酸
テトラエチルアンモニウムなどのアンモニウム化合物な
どが挙げられるが、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウ
ム、臭化カリウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨ
ウ化テトラエチルアンモニウムが好ましい。

【００３５】触媒系における各成分の使用割合は、遷移
金属塩または配位子が配位された遷移金属（塩）が、上
記一般式（１）〜（４）で表される芳香族化合物の総計
１モルに対し、通常、０．０００１〜１０モル、好まし
くは０．０１〜０．５モルである。０．０００１モル未
満では、重合反応が充分に進行せず、一方、１０モルを
超えると、分子量が低下するという問題がある。触媒系
において、遷移金属塩および配位子を用いる場合、この
配位子の使用割合は、遷移金属塩１モルに対し、通常、
０．１〜１００モル、好ましくは１〜１０モルである。
０．１モル未満では、触媒活性が不充分となり、一方、
１００モルを超えると、分子量が低下するという問題が
ある。また、触媒系における還元剤の使用割合は、上記
一般式（１）〜（４）で表される芳香族化合物の総計１
モルに対し、通常、０．１〜１００モル、好ましくは１
〜１０モルである。０．１モル未満では、重合が充分進
行せず、一方、１００モルを超えると、得られる重合体
の精製が困難になるという問題がある。さらに、触媒系
に「塩」を使用する場合、その使用割合は、上記一般式
（１）〜（４）で表される芳香族化合物の総計１モルに
対し、通常、０．００１〜１００モル、好ましくは０．
０１〜１モルである。０．００１モル未満では、重合速
度を上げる効果が不充分であり、一方、１００モルを超
えると、得られる重合体の精製が困難となるという問題
がある。

【００３６】本発明で使用することのできる重合溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノ
ン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２
−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタ
ムなどが挙げられ、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１
−メチル−２−ピロリドンが好ましい。これらの重合溶
媒は、充分に乾燥してから用いることが好ましい。重合
溶媒中における上記一般式（１）〜（４）で表される芳
香族化合物の総計の濃度は、通常、１〜９０重量％、好
ましくは５〜４０重量％である。また、本発明のポリア
リーレンを重合する際の重合温度は、通常、０〜２００
℃、好ましくは５０〜８０℃である。また、重合時間
は、通常、０．５〜１００時間、好ましくは１〜４０時
間である。

【００３７】以上の一般式（１）〜（４）で表される
（Ａ）芳香族化合物を用いて得られるポリアリーレンの
繰り返し構造単位は、下記一般式（１）′〜（４）′で
表される。

【００３８】

【化５】

【００３９】（式中、Ｒ¹ 〜Ｒ⁸ 、Ｘは上記に同じ） なお、上記一般式（１）′で表される繰り返し構造単位
を有する重合体の具体例としては、ポリ（４，４′−ビ
フェニレン−２，２−ヘキサフルオロイソプロピリデ
ン）、ポリ（４，４′−ビフェニレンメチレン）、ポリ
（４，４′−ビフェニレンジフェニルメチレン）、ポリ
（２，２′−ジメチル−４，４′−ビフェニレン−２，
２−ヘキサフルオロイソプロピリデン）、ポリ（２，
２′−ジプロペニル−４，４′−ビフェニレン−２，２
−ヘキサフルオロプロピリデン）、ポリ（２，２′，
６，６′−テトラメチル−４，４′−ビフェニレン−
２，２−ヘキサフルオロイソプロピリデン）、ポリ
（４，４′−ビフェニレン−９，９−フルオレニレ
ン）、ポリ（２，２′−ジメチル−４，４′−ジフェニ
レン−９，９−フルオレニレン）、ポリ（２，２′，
６，６′−テトラメチル−４，４′−ビフェニレン−
９，９−フルオレニレン）、ポリ（２，２′−ジプロペ
ニル−４，４′−ビフェニレン−９，９−フルオレニレ
ン）、ポリ（２，２′−ジフェニル−４，４′−ビフェ
ニレン−９，９−フルオレニレン）、ポリ（２，２′−
ジメチル−４，４′−ビフェニレンジフェニルメチレ
ン）、ポリ（２，２′，６，６′−テトラメチル−４，
４′−ビフェニレンジフェニルメチレン）、ポリ（２，
２′−ジプロペニル−４，４′−ビフェニレンジフェニ
ルメチレン）、ポリ（２，２′−ジフルオロ−４，４′
−ビフェニレンジフェニルメチレン）、ポリ（２，
２′，６，６′−テトラフルオロ−４，４′−ビフェニ
レンジフェニルメチレン）、ポリ（２，２′−ジフルオ
ロ−４，４′−ビフェニレン−９，９−フルオレニレ
ン）、ポリ（２，２′，６，６′−テトラフルオロ−
４，４′−ビフェニレン−９，９−フルオレニレン）、
ポリ（４，４′−ビフェニレンメチレン）、ポリ（２，
２′−ジメチル−４，４′−ビフェニレンメチレン）、
ポリ（２，２′，６，６′−テトラメチル−４，４′−
ビフェニレンメチレン）、ポリ（２，２′−ジプロペニ
ル−４，４′−ビフェニレン）、ポリ（４，４′−ビフ
ェニレントリフルオロメチルフェニルメチレン）、ポリ
（４，４′−ビフェニレンフェニルメチレン）などが挙
げられる。

【００４０】

【化６】

【００４１】（式中、Ｒ⁹ 〜Ｒ¹⁶は、上記に同じ） また、上記一般式（１）で表される芳香族化合物および
一般式（２）で表される芳香族化合物を用いて、上記一
般式（１）′および一般式（２）′で表される繰り返し
構造単位からなる共重合体を得る際の反応式の一例は、
下記のとおりである。

【００４２】

【化７】

【００４３】式中、ｍ，ｎは繰り返し構造単位数を示
し、それぞれ、０〜１００の範囲であり、単独重合体お
よび共重合体を含む。

【００４４】なお、本発明で用いられるポリアリーレン
骨格を有する重合体は、核磁気共鳴スペクトル（ ¹Ｈ−
ＮＭＲ）により、６．０〜８．５ｐｐｍの芳香族プロト
ンのピークから、その構造を確認することができる。ま
た、ヘテロ原子を含むような（共）重合体においては、
元素分析によって、その組成を計算することができる。

【００４５】また、このようにして得られる本発明のポ
リアリーレンの分子量は、ポリスチレン換算重量平均分
子量で、３，０００〜３００，０００、好ましくは５，
０００〜２５０，０００である。本発明では、（Ｂ）分
子量調節剤を使用することによって、特に分子量の上限
値を低く抑えることができ、加工性に優れたポリアリー
レンが得られる。３，０００未満では、塗膜にクラック
が発生するなど、塗膜性が不充分であり、また強度的性
質にも問題がある。一方、３００，０００を超えると、
溶解性が不充分となり、また溶液粘度が高く、加工性が
不良になるなどの問題がある。

【００４６】本発明のポリアリーレンを用いて、膜を製
造するには、まず、例えば本発明のポリアリーレンを、
通常、溶媒に溶解させ、基板に流延、またはスピンコー
トにより塗布したのち、焼成により溶媒を除去する方法
や、溶融成形法などが挙げられる。ここで、膜の厚さ
は、乾燥膜厚で、通常、０．１〜１０μｍである。

【００４７】また、上記ポリアリーレンを溶解させる溶
媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、シクロヘキ
サノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル
−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルエチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メ
チルアミルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−
ペンタノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸
エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−
メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、
乳酸メチル、乳酸エチル、クロロホルム、塩化メチレン
などを挙げることができる。好ましくは、シクロヘキサ
ノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２
−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、３−エトキシプロ
ピオン酸エチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ
エチルエーテルアセテート、メチルアミルケトンであ
る。

【００４８】上記ポリアリーレンを上記溶媒に溶解させ
る濃度としては、通常、１〜６０重量％、好ましくは５
〜４０重量％である。１重量％未満であると、充分な厚
さの塗膜が得られず、一方、６０重量％を超えると、充
分に流延せず、均一な塗膜が得られないことがある。

【００４９】本発明のポリアリーレンには、必要に応じ
て添加剤を添加することができる。この添加剤として
は、シランカップリング剤、メチロール化メラミン、ト
リアゼン化合物などの架橋剤などを挙げることができ
る。

【００５０】本発明のポリアリーレンより得られる膜
は、例えば高屈折率の光学材料用をはじめ、電子材料や
表示素子用の耐熱性コーティング材、例えば層間絶縁
膜、バッファーコート材、保護膜などに有用である。ま
た、このポリアリーレンをスルホン化することによって
得られるスルホン化ポリマーは、一次電池用電解質、二
次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、表示素
子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、
イオン交換膜などに利用可能なプロトン伝導性の伝導膜
に利用可能である。

【００５１】

【実施例】以下、実施例を挙げ本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例中の各種の測定項目は、下記のよ
うにして求めた。

【００５２】数平均分子量、重量平均分子量 数平均分子量，重量平均分子量は、溶媒にテトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）を用い、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（ＧＰＣ）によって、ポリスチレン換算の
分子量を求めた。

【００５３】実施例１〔ポリ（４−フェノキシ−２，５
−ベンゾフェノン）の合成〕 ２，５−ジクロロ−４−フェノキシベンゾフェノン２
４．０ｇ（７０ｍｍｏｌ）、４−クロロベンゾフェノン
０．１５０ｇ（０．７ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニル
ホスフィン）ニッケルクロリド１．３７ｇ（１２ｍｍｏ
ｌ）、よう化ナトリウム１．３６ｇ（５２ｍｍｏｌ）、
トリフェニルホスフィン７．３４ｇ（１６０ｍｍｏ
ｌ）、亜鉛１１．０ｇ（９６０ｍｍｏｌ）をフラスコに
とり、乾燥窒素置換した。Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）８７．５ｍｌを加え、７０℃に加熱し、２０時間撹
拌した。 反応液をメタノール：濃塩酸（容積比＝９：１）の混合
液に注ぎ、生成物を沈殿させた。沈殿物をろ過、メタノ
ールで洗浄後、乾燥し、収量１８．６ｇ、収率９７％で
目的の重合体を得た。ＧＰＣで求めた重合体の数平均分
子量は４４，７００、重量平均分子量は１７０，０００
であった。

【００５４】実施例２ 実施例１で用いた４−クロロベンゾフェノン０．１５０
ｇ（０．７ｍｍｏｌ）の代わりに、４−クロロベンゾフ
ェノン０．３００ｇ（１．４ｍｍｏｌ）を用い、実施例
１と同様に重合、後処理を行い、収量１８．３ｇ、収率
９６％で重合体を得た。ＧＰＣで測定した数平均分子量
は３１，３００、重量平均分子量は９４，６００であっ
た。

【００５５】実施例３ 実施例１で用いた４−クロロベンゾフェノン０．１５０
ｇ（０．７ｍｍｏｌ）の代わりに、４−クロロベンゾフ
ェノン０．７６０ｇ（３．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例
１と同様に重合、後処理を行い、収量１８．８ｇ、収率
９８％で重合体を得た。ＧＰＣで測定した数平均分子量
は１５，４００、重量平均分子量は３７，６００であっ
た。

【００５６】実施例４ 実施例１で用いた４−クロロベンゾフェノン０．１５０
ｇ（０．７ｍｍｏｌ）の代わりに、４−クロロベンズア
ニリド０．１６２ｇ（０．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例
１と同様に重合、後処理を行い、収量１８．８ｇ、収率
９８％で重合体を得た。ＧＰＣで測定した数平均分子量
は５１，２００、重量平均分子量は２０２，２００であ
った。

【００５７】比較例１ 実施例１で用いた４−クロロベンゾフェノン０．１５０
ｇ（０．７ｍｍｏｌ）を加えることなく、その他は実施
例１と同様に重合し、後処理を行った。収量１８．４
ｇ、収率９６％で重合体を得た。ＧＰＣで測定した数平
均分子量は６３，１００、重量平均分子量は３０２，０
００であった。

【００５８】実施例５（２，５−ジクロロ−４−フェノ
キシベンゾフェノンと４，４′−ジクロロベンゾフェノ
ンの共重合体の合成） 実施例１で用いた２，５−ジクロロ−４−フェノキシベ
ンゾフェノン２４．０ｇ（７０ｍｍｏｌ）の代わりに、
２，５−ジクロロ−４−フェノキシベンゾフェノン２
１. ６ｇ（６３ｍｍｏｌ）と４，４′−ジクロロベンゾ
フェノン１．７５ｇ（７ｍｍｏｌ）を用いた。その他
は、実施例１同様に重合、後処理を行った。収量１８．
０ｇ、収率９８％で重合体を得た。ＧＰＣで測定した数
平均分子量は６９，８００、重量平均分子量は２２２，
８００であった。

【００５９】比較例２ 実施例５で用いた４−クロロベンゾフェノン０．１５０
ｇ（０．７ｍｍｏｌ）を加えることなく重合し、収量１
８．０ｇ、収率９８％で重合体を得た。その他は、実施
例１同様に重合、後処理を行った。ＧＰＣで測定した数
平均分子量は９２，５００、重量平均分子量は２３６，
８００であった。

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、ポリアリーレンの分子
量を容易に制御でき、加工性に優れたポリアリーレンが
得られ、耐熱性に優れた光学材料、電子材料に展開でき
る。また、またこのポリアリーレンをスルホン化したス
ルホン酸基を有するポリアリーレンは、耐久性に優れる
プロトン伝導性形成材料を与えることが可能である。

フロントページの続き (72)発明者 山川 芳孝 東京都中央区築地２丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 4J032 CA03 CA04 CA53 CA54 CB01 CB03 CD02 CE03 CG01 CG08

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）ジハロゲン化芳香族化合物および
   ジスルフォネート化芳香族化合物の群から選ばれた少な
   くとも１種の芳香族化合物を、（Ｂ）分子量調節剤の存
   在下で重合することを特徴とするポリアリーレンの製造
   方法。
2. 【請求項２】 （Ａ）芳香族化合物が、下記一般式
   （１）〜（４）の群から選ばれた少なくとも１種である
   請求項１記載のポリアリーレンの製造方法。 【化１】 〔一般式（１）中、Ｘは−ＣＹＹ′−（ここで、Ｙ〜
   Ｙ′は同一または異なり、水素原子、アルキル基、ハロ
   ゲン化アルキル基またはアリール基を示す）で表される
   基、フルオレニレン基、または酸素原子、窒素原子もし
   くはイオウ原子を含む２価の有機基を示し、Ｒ¹ 〜Ｒ⁸
   は同一または異なり、スルホン酸基、水素原子、ハロゲ
   ン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリル
   基、またはアリール基であり、Ｒ〜Ｒ′は同一または異
   なり、ハロゲン原子、または−ＯＳＯ₂Ｚ（ここで、Ｚ
   はアルキル基、ハロゲン化アルキル基もしくはアリール
   基を示す）で表される基である。〕 【化２】 〔一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁹ 〜Ｒ¹⁶は、同一または
   異なり、スルホン酸基、水素原子、アルキル基、ハロゲ
   ン原子、ハロゲン化アルキル基、アリール基または官能
   基を含む１価の有機基を示し、Ｒ〜Ｒ′は、一般式
   （１）に同じ。〕
3. 【請求項３】 （Ｂ）分子量調節剤が、モノハロゲン化
   芳香族化合物およびモノスルフォネート化芳香族化合物
   の群から選ばれた少なくとも１種である請求項１記載の
   ポリアリーレンの製造方法。
4. 【請求項４】 モノハロゲン化芳香族化合物またはモノ
   スルフォネート化芳香族化合物が電子吸引性基を有する
   請求項３記載のポリアリーレンの製造方法。