JP2001287969A - ガラス組成 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 6
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N Arsenious Acid Chemical compound O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 2
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Inorganic materials O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003484 crystal nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 238000011221 initial treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N tetraantimony hexaoxide Chemical compound O1[Sb](O2)O[Sb]3O[Sb]1O[Sb]2O3 YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0036—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0045—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3 and MgO as main constituents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
を、SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以
下、Al2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、
MgOが0.1wt%以上で且つ 12wt%以下、L
i2Oが3wt%以上で且つ 12wt%以下、ZnO
が5wt%以上で且つ 22wt%以下、とした。
Description
晶化ガラスに適したガラス組成に関する。さらに詳しく
は、結晶化ガラス磁気ディスクの組成に関する。
アルミニウム基板、ガラス基板等が実用化されている。
中でもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、最も注目されている。そのようなガラ
ス基板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化し
た化学強化ガラス基板や、基板に結晶成分を析出させて
結合の強化を図る結晶化ガラス基板が知られている。
は、日に日に厳しくなってきており、とくに高速回転時
のたわみやそりに直接的に関わる強度に対する性能の向
上が求められている。これは基板材料のヤング率によっ
て表すことができ、数値が高ければ高いほど望ましい。
る組成においては、ヤング率は130以上を達成してい
る。しかし、上記先行技術においては熱処理温度が1次
処理温度で800度、2次処理温度で1000度と非常
に高く、製造が困難である。
ヤング率を達成しながら、生産性の向上が求めらること
になる。そこで本発明は、ガラスのヤング率が向上し、
さらに生産性の高いを組成を提供することを目的とす
る。
に請求項1に記載された発明は、主成分の組成範囲を、
SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以下、A
l2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、MgO
が0.1wt%以上で且つ 12wt%以下、Li2O
が3wt%以上で且つ 12wt%以下、ZnOが5w
t%以上で且つ 22wt%以下、にしたことを特徴と
する。
説明する。本発明に係る実施形態のガラス基板は、主成
分の組成範囲が、SiO2が65wt%以上で且つ80
wt%以下、Al2O3が3wt%以上で且つ15wt%
以下、MgOが0.1wt%以上で且つ12wt%以
下、Li2Oが3wt%以上で且つ12wt%以下、Z
nOが5wt%以上で且つ22wt%以下、であること
を特徴としている。
が65wt%より少ないと、溶融性が悪くなり、80w
t%を越えるとガラスとして安定状態になるため、結晶
が析出しにくくなる。
理によって析出する結晶相であるマグネシウムアルミニ
ウム系結晶の構成成分である。組成比が3wt%より少
ないと析出結晶が少なく、強度が得られず、15wt%
を越えると溶融温度が高くなり失透しやすくなる。
め粒状の結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成する。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと作業温度幅が狭
くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性が向上し
ない。12wt%を越えると、他の結晶相が析出して求
める強度を得ることが難しくなる。
定性が向上している。組成比が3wt%より少ないと溶
融性が悪くなり、12wt%を越えると、また研磨−洗
浄工程における安定性が悪くなる。
出を補助する。ただし、組成比が5wt%より少ないと
十分な結晶均質化の改善がなされない。22wt%を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
れるガラス基板の主成分の組成を含む原料を所定の割合
にて充分に混合し、これを白金るつぼに入れ溶融を行
う。溶融後金型に流し概略の形状を形成する。これを室
温までアニールする。続いて、500〜680度の1次
熱処理温度と1次処理時間により保持し(熱処理)、結
晶核生成が行われる。引き続き、680〜800度の2
次熱処理温度と2次処理時間により保持し結晶核成長を
行う。これを除冷することにより目的とする結晶化ガラ
スが得られる。
加工を施すことにより、ディスク基板として利用でき
る。
板は、主成分の組成範囲が、SiO 2が65wt%以上
で且つ80wt%以下、Al2O3が3wt%以上で且つ
15wt%以下、MgOが0.1wt%以上で且つ12
wt%以下、Li2Oが3wt%以上で且つ12wt%
以下、ZnOが5wt%以上で且つ22wt%以下、と
するために、非常に高いヤング率と高い生産性を得るこ
とが可能となった。
ることにより、よりよい性能が得られる。
生産時の安定性が向上している。組成比が0.1wt%
より少ないと溶融性が悪くなると共に、結晶成長がしに
くくなり、10wt%を越えると結晶化が急激に促進さ
れ、結晶化状態の制御が困難となり析出結晶の粗大化、
結晶相の不均質が発生し、微細で均質な結晶構造が得ら
れなくなり、研磨加工においてディスク基板として必要
な平滑面が得られなくなる。さらに溶融成形時に失透し
やすくなり、生産性が低下する。
結晶を析出させる核形成剤であり、ガラス全体に結晶を
均一に析出させるために重要な成分である。組成比が
0.1wt%より少ないと十分な結晶核が形成されにく
くなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析出
し、微細で均質な結晶構造が得られにくくなり、研磨加
工においてディスク基板として必要な平滑面が得られな
くなる。5.0wt%を越えると、溶融時の炉剤に対す
る反応性が増し、また失透性も強くなることから溶融成
形時の生産性が低下する。また化学的耐久性が低下し、
磁気膜に影響を与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工
程における安定性が悪くなる。
えているためガラスの結晶核剤が有効に機能する。組成
比が0.1wt%より少ないと十分な結晶核が形成され
なくにくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質
に析出し、微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研
磨加工においてディスク基板として必要な平滑面が得ら
れなくなる。また化学的耐久性および耐マイグレーショ
ンが低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあるととも
に、研磨−洗浄工程において安定性が悪くなる。また1
2wt%を越えると溶融温度が高くなり、また失透しや
すくなり溶融成形が困難となる。また析出結晶相が変化
し求める特性が得られにくくなる。
一な結晶析出を補助する。ただし、組成比が0.1wt
%より少ないと十分な結晶均質化の改善がなされない。
9wt%を越えると、化学的耐久性を向上させることが
できなくなる。
め結晶核剤物質が増加することになる。ただし、組成比
が0.1wt%より少ないと十分な剛性の向上がなされ
ない。9wt%を越えると、ガラスの結晶化が不安定と
なり、析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が得
られにくくなる。
め溶融性、強度を向上させ、またガラスマトリクス相の
化学的耐久性を向上させる。ただし、組成比が0.1w
t%より少ないと十分な剛性の向上がなされない。9w
t%を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出
結晶相を制御できなくなり、求める特性が得られにくく
なる。
産時の安定性が向上している。ただし、組成比が0.1
wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。9
wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制さ
れ、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える
恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪
くなる。
るためガラスの分相を促し、結晶析出および成長を促進
させる。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと十
分な溶融性改善がなされない。9wt%を越えると、ガ
ラスが失透しやすくなり成形が困難になると共に、結晶
が粗大化し微細な結晶が得られなくなる。
剛性が向上している。ただし、組成比が0.1wt%よ
り少ないと十分な剛性向上が得られない。9wt%を越
えると、結晶析出が抑制され、十分な結晶化度が得られ
ず、所望の特性が達成されない。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られなく
なり、生産性が低下する。9wt%を越えると、ガラス
の結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなくな
り、求める特性が得られにくくなる。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られなく
なり、生産性が低下する。9wt%を越えると、ガラス
の結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなくな
り、求める特性が得られにくくなる。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。表1〜4には実施例1〜32のガラス組成を重量%
で示した。これらの数値に従って、先述した製造方法に
よりガラス基板を得た。
かつ生産性の高いガラス基板を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 主成分の組成範囲を、 SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以下、 Al2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、 MgOが0.1wt%以上で且つ 12wt%以下、 Li2Oが3wt%以上で且つ 12wt%以下、 ZnOが5wt%以上で且つ 22wt%以下、 としたことを特徴とするガラス組成。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000100819A JP4207358B2 (ja) | 2000-04-03 | 2000-04-03 | ガラス組成 |
US09/822,329 US6635591B2 (en) | 2000-04-03 | 2001-04-02 | Glass composition for crystallized glass |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000100819A JP4207358B2 (ja) | 2000-04-03 | 2000-04-03 | ガラス組成 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001287969A true JP2001287969A (ja) | 2001-10-16 |
JP4207358B2 JP4207358B2 (ja) | 2009-01-14 |
Family
ID=18614964
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000100819A Expired - Fee Related JP4207358B2 (ja) | 2000-04-03 | 2000-04-03 | ガラス組成 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6635591B2 (ja) |
JP (1) | JP4207358B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1125789C (zh) * | 2000-05-16 | 2003-10-29 | 湖北新华光信息材料股份有限公司 | 一种高强度磁盘基板用微晶玻璃及其制造方法 |
DE10333399B3 (de) * | 2003-07-16 | 2005-04-07 | Schott Ag | Verwendung eines Glases für optische Transmissionskomponenten großer Dicke |
JP4933863B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2012-05-16 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラスおよび結晶化ガラスの製造方法 |
JP4977406B2 (ja) * | 2006-06-06 | 2012-07-18 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス及び結晶化ガラスの製造方法 |
WO2011038312A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Glass-crystalline particle powders including a glass component and a crystalline component |
CN104891811A (zh) * | 2015-05-29 | 2015-09-09 | 成都光明光电股份有限公司 | 晶质玻璃 |
CA3117892A1 (en) | 2018-11-26 | 2020-06-04 | Owens Corning Intellectual Capital, Llc | High performance fiberglass composition with improved elastic modulus |
JP7480142B2 (ja) | 2018-11-26 | 2024-05-09 | オウェンス コーニング インテレクチュアル キャピタル リミテッド ライアビリティ カンパニー | 改善された比弾性率を有する高性能ガラス繊維組成物 |
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KR100188901B1 (ko) | 1996-02-02 | 1999-06-01 | 가지카와 히로시 | 자기디스크용 결정화 유리기판 |
JP3131138B2 (ja) | 1996-02-05 | 2001-01-31 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク用結晶化ガラス基板 |
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JP3996294B2 (ja) | 1998-03-13 | 2007-10-24 | Hoya株式会社 | 結晶化ガラスからなる情報記録媒体用基板及び情報記録媒体 |
FR2777559B1 (fr) | 1998-04-16 | 2000-07-13 | En Nom Collectif Eurokera Soc | Fabrication de plaques vitroceramiques a ouverture(s) au pourtour deforme ; plaques vitroceramiques deformees |
JP4831854B2 (ja) * | 1999-07-06 | 2011-12-07 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
US6426311B1 (en) * | 2000-02-01 | 2002-07-30 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramics |
-
2000
- 2000-04-03 JP JP2000100819A patent/JP4207358B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-04-02 US US09/822,329 patent/US6635591B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20010056021A1 (en) | 2001-12-27 |
US6635591B2 (en) | 2003-10-21 |
JP4207358B2 (ja) | 2009-01-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131031 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
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R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
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R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
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R371 | Transfer withdrawn |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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