JP2001019468A - ガラス組成 - Google Patents

ガラス組成

Info

Publication number
JP2001019468A
JP2001019468A JP11191744A JP19174499A JP2001019468A JP 2001019468 A JP2001019468 A JP 2001019468A JP 11191744 A JP11191744 A JP 11191744A JP 19174499 A JP19174499 A JP 19174499A JP 2001019468 A JP2001019468 A JP 2001019468A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
glass
hours
composition ratio
crystal phase
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11191744A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4849702B2 (ja
Inventor
Hideki Osada
英喜 長田
Hideki Kawai
秀樹 河合
Toshiharu Mori
登史晴 森
Hiroshi Yugame
博 遊亀
Kazuhiko Ishimaru
和彦 石丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Priority to JP19174499A priority Critical patent/JP4849702B2/ja
Priority to US09/610,338 priority patent/US6524982B1/en
Publication of JP2001019468A publication Critical patent/JP2001019468A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4849702B2 publication Critical patent/JP4849702B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
    • C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 比弾性率の高いガラスを提供する。 【解決手段】 ガラス組成において、主成分の組成範囲
を、ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ ８０ｗｔ％以
下、Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、
Ｌｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、Ｐ2Ｏ
5が０．２ｗｔ％以上で且つ ５ｗｔ％以下、ＺｒＯ2が
２．５ｗｔ％以上で且つ １２ｗｔ％以下、とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス組成、特に結
晶化ガラスに適したガラス組成に関する。さらに詳しく
は、結晶化ガラス磁気ディスクの組成に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気ディスク用の基板としては、
アルミニウム基板、ガラス基板等が実用化されている。
中でもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、最も注目されている。そのようなガラ
ス基板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化し
た化学強化ガラス基板や、基板に結晶成分を析出させて
結合の強化を図る結晶化ガラス基板が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで最近の基板に
対する性能の要求は、日に日に厳しくなってきており、
とくに高速回転時のたわみやそりに直接的に関わる強度
に対する性能の向上が求められている。これは基板材料
の比弾性率（＝ヤング率／比重）によって表すことがで
き、数値が高ければ高いほど望ましい。またこのような
要求を満たしながら、生産性の向上が求められている。
そこで本発明は、ガラスの比弾性率が向上し、さらに生
産性の高いを組成を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１に記載された発明は、主成分の組成範囲を、
ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ ８０ｗｔ％以下、Ａ
ｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、Ｌｉ2
Ｏが３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、Ｐ2Ｏ5が
０．２ｗｔ％以上で且つ ５ｗｔ％以下、ＺｒＯ2が
２．５ｗｔ％以上で且つ １２ｗｔ％以下、にしたこと
を特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。本発明に係る実施形態のガラス基板は、主成
分の組成範囲が、ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ８０
ｗｔ％以下、Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％
以下、Ｌｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％以下、
Ｐ2Ｏ5が０．２ｗｔ％以上で且つ５ｗｔ％以下、ＺｒＯ
2が２．５ｗｔ％以上で且つ１２ｗｔ％以下であること
を特徴としている。
【０００６】ＳｉＯ2はガラス形成酸化物のため組成比
が６５ｗｔ％より少ないと、溶融性が悪くなり、８０ｗ
ｔ％を越えるとガラスとして安定状態になるため、結晶
が析出しにくくなる。
【０００７】Ａｌ2Ｏ3はガラス中間酸化物であり、熱処
理によって析出する結晶相であるホウ酸アルミニウム系
結晶の構成成分である。組成比が３ｗｔ％より少ないと
析出結晶が少なく、強度が得られず、１５ｗｔ％を越え
ると溶融温度が高くなり失透しやすくなる。
【０００８】Ｌｉ2Ｏは融剤としての役割を果たすとと
もに、リチウムダイシリケート系結晶の構成成分であ
る。組成比が３ｗｔ％より少ないと結晶相であるリチウ
ムダイシリケートの析出が不十分となり、１５ｗｔ％を
越えると、析出結晶相のリチウムダイシリケートが不安
定となり結晶化を制御しにくくなる。また化学的耐久性
が低下し磁気膜に影響を与える恐れがあり、また研磨−
洗浄工程における安定性が悪くなる。
【０００９】Ｐ2Ｏ5は融剤として働き、リチウムダイシ
リケート系結晶を析出させる核形成剤であり、ガラス全
体に結晶を均一に析出させるために重要な成分である。
組成比が０．２ｗｔ％より少ないと十分な結晶核が形成
されにくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質
に析出し、微細で均質な結晶構造が得られにくくなり、
研磨加工においてディスク基板として必要な平滑面が得
られなくなる。また難溶融性のＺｒＯ2成分に対する融
剤としての効果が十分得られなくなる。５ｗｔ％を越え
ると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、また失透性
も強くなることから溶融成形時の生産性が低下する。ま
た化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れが
あると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
【００１０】ＺｒＯ2はガラス修飾酸化物であり、ガラ
スの結晶核剤である。特にクオーツ系結晶をガラス全体
に均一に析出させるために非常に有効である。組成比が
２．５ｗｔ％より少ないと十分な結晶核が形成されなく
にくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析
出し、微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研磨加
工においてディスク基板として必要な平滑面が得られな
くなる。また化学的耐久性および耐マイグレーションが
低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあるとともに、研
磨−洗浄工程において安定性が悪くなる。また１２ｗｔ
％を越えると溶融温度が高くなり、また失透しやすくな
り溶融成形が困難となる。また析出結晶相が変化し求め
る特性が得られにくくなる。
【００１１】以下製造方法を説明する。最終的に生成さ
れるガラス基板の主成分の組成を含む原料を所定の割合
にて充分に混合し、これを白金るつぼに入れ溶融を行
う。溶融後金型に流し概略の形状を形成する。これを室
温までアニールする。続いて、示される１次熱処理温度
と１次処理時間により保持し（熱処理）、結晶核生成が
行われる。引き続き、２次熱処理温度と２次処理時間に
より保持し結晶核成長を行う。これを除冷することによ
り目的とする結晶化ガラスが得られる。
【００１２】以上の製造方法によって得られたガラス基
板は、ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ８０ｗｔ％以
下、Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％以下、Ｌ
ｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％以下、Ｐ2Ｏ5が
０．２ｗｔ％以上で且つ５ｗｔ％以下、ＺｒＯ2が２．
５ｗｔ％以上で且つ１２ｗｔ％以下とするために、非常
に高い比弾性率と高い生産性を得ることが可能となっ
た。
【００１３】
【実施例】次に実施形態を実施した具体的な実施例につ
いて説明する。第１〜第４実施例のガラスを構成する材
料組成比（単位：ｗｔ％）、溶融温度と溶融時間、１次
熱処理温度と１次処理時間、２次熱処理温度と２次処理
時間、主析出結晶相、副析出結晶相、平均結晶粒径、比
重、ヤング率、比弾性率を表１に示す。同様に第５〜第
８実施例のガラスを表２に示す。同様に第９〜第１２実
施例のガラスを表３に示す。同様に第１３〜第１６実施
例のガラスを表４に示す。同様に第１７〜第２０実施例
のガラスを表５に示す。同様に第２１〜第２４実施例の
ガラスを表６に示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【表２】
【００１６】
【表３】
【００１７】
【表４】
【００１８】
【表５】
【００１９】
【表６】
【００２０】第１の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７４．６ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を６．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
８．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２ｗｔ％、ＺｒＯ2を３．５ｗ
ｔ％、ＣａＯを２．９ｗｔ％、Ｋ2Ｏを１．５ｗｔ％、
Ｓｂ2Ｏ3を０．５ｗｔ％の組成比である。
【００２１】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．７という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００２２】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【００２３】また、融剤として働くＫ2Ｏを加えている
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
【００２４】また、清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えて
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。５ｗｔ％を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
【００２５】第２の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７２．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を７．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
３．６ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２ｗｔ％、ＺｒＯ2を８ｗｔ
％、ＣａＯを２．２ｗｔ％、Ｋ2Ｏを３ｗｔ％、Ｓｂ2Ｏ
3を１．５ｗｔ％の組成比である。
【００２６】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５４０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５
時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて
処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相
がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３５．０とい
う特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性
率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００２７】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【００２８】また、融剤として働くＫ2Ｏを加えている
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
【００２９】また、清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えて
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。５ｗｔ％を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
【００３０】第３の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７５．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを８．
５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４．２ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．８ｗ
ｔ％の組成比である。
【００３１】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度６９０度、２次処理時間２．５時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．
２という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【００３２】第４の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７３．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを８．
５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３ｗｔ％、ＺｒＯ2を７ｗｔ％の組
成比である。
【００３３】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５００度、溶融時間２
時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３７．８という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００３４】第５の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．１ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
９．７ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４．２ｗｔ％、ＺｒＯ2を３．
５ｗｔ％、ＣａＯを０．５ｗｔ％の組成比である。
【００３５】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．８と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００３６】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【００３７】第６の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７２．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１１．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を７．８ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４．５ｗｔ％、ＺｒＯ2を２
ｗｔ％、ＣａＯを２ｗｔ％の組成比である。
【００３８】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３８．９と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００３９】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【００４０】第７の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
６７ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
９．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＺｒＯ2を８ｗｔ
％、Ｋ2Ｏを１ｗｔ％の組成比である。
【００４１】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５００度、溶融時間２
時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．５時
間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３７．２という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００４２】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＫ2Ｏを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ％を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
【００４３】第８の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
６９ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを９
ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３．８ｗｔ％、ＺｒＯ2を５ｗｔ％、
Ｋ2Ｏを３ｗｔ％の組成比である。
【００４４】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３６．２と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００４５】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＫ2Ｏを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ％を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
【００４６】第９の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７４ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを８．
７ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．５ｗｔ％、ＺｒＯ2を４．５ｗ
ｔ％、Ｓｂ2Ｏ3を０．５ｗｔ％の組成比である。
【００４７】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３６．２という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００４８】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ％よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。５ｗｔ％を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
【００４９】第１０の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７３．８ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８．７ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．５
ｗｔ％、Ｓｂ2Ｏ3を１．５ｗｔ％の組成比である。
【００５０】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３６．８と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００５１】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ％よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。５ｗｔ％を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
【００５２】第１１の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７２．８ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を９ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．２ｗｔ％、ＺｒＯ2を４．５
ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を２ｗｔ％の組成比である。
【００５３】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３７．２という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００５４】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
フォーマーとして働くＢ2Ｏ3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。１５ｗｔ％を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
【００５５】第１２の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１１．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
８．３ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．５ｗ
ｔ％、Ｂ2Ｏ3を３ｗｔ％の組成比である。
【００５６】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３８．１と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００５７】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
フォーマーとして働くＢ2Ｏ3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。１５ｗｔ％を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
【００５８】第１３の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
９．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３ｗｔ％、ＺｒＯ2を６．３ｗ
ｔ％、ＭｇＯを１ｗｔ％の組成比である。
【００５９】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
トで、副析出結晶相がクオーツ、比弾性率が３７．０と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００６０】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＭｇＯを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。１２ｗｔ％を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
【００６１】第１４の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７４．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．５ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．５
ｗｔ％、ＭｇＯを４ｗｔ％の組成比である。
【００６２】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相が
リチウムダイシリケートで、比弾性率が３８．５という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００６３】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＭｇＯを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。１２ｗｔ％を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
【００６４】第１５の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７６．８ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．６ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を５．７ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．２ｗｔ％、ＺｒＯ2を
４．７ｗｔ％、ＢａＯを２ｗｔ％の組成比である。
【００６５】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５２０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５
時間、２次処理温度６９０度、２次処理時間２．５時間
にて処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結
晶相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３４．０
という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比
弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【００６６】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＢａＯを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ％を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
【００６７】第１６の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７５．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．６ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を６．２ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３．２ｗｔ％、ＺｒＯ2を
２．５ｗｔ％、ＢａＯを３ｗｔ％の組成比である。
【００６８】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５２０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間
５．５時間、２次処理温度６９０度、２次処理時間２．
５時間にて処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副
析出結晶相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３
４．８という特性のガラス基板が得られた。上記組成は
高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を
有する。
【００６９】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＢａＯを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ％を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
【００７０】第１７の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７４．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を６．９ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＺｒＯ2を５．５
ｗｔ％、ＺｎＯを０．３ｗｔ％の組成比である。
【００７１】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３６．０と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００７２】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＺｎＯを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。５ｗｔ％を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
【００７３】第１８の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７３．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８．３ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＺｒＯ2を３．７
ｗｔ％、ＺｎＯを２ｗｔ％の組成比である。
【００７４】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３６．５と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００７５】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＺｎＯを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。５ｗｔ％を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
【００７６】第１９の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７３．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を１０．１ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＺｒＯ2を３ｗ
ｔ％、Ｎｂ2Ｏ5を０．５ｗｔ％の組成比である。
【００７７】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３７．０と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００７８】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＮｂ2Ｏ5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が０．１ｗｔ％
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
【００７９】第２０の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを１
０．４ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４．２ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．
７ｗｔ％、Ｎｂ2Ｏ5を１．５ｗｔ％の組成比である。
【００８０】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３７．２と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００８１】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＮｂ2Ｏ5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が０．１ｗｔ％
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
【００８２】第２１の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７７ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを８
ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．５ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．８ｗｔ
％、Ｔａ2Ｏ5を１．２ｗｔ％の組成比である。
【００８３】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度６９０度、２次処理時間２．５時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３７．２と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００８４】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＴａ2Ｏ5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００８５】第２２の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を６８．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを１
０．７ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３．８ｗｔ％、ＺｒＯ2を４ｗ
ｔ％、Ｔａ2Ｏ5を４ｗｔ％の組成比である。
【００８６】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５４０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間
５．５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３３．
８という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【００８７】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＴａ2Ｏ5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００８８】第２３の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７３．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を１０ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．５ｗｔ％、ＺｒＯ2を３．
５ｗｔ％、Ｌａ2Ｏ3を１ｗｔ％の組成比である。
【００８９】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３６．２という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００９０】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＬａ2Ｏ3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００９１】第２４の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を６６．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．７ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を１０ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４．８ｗｔ％、ＺｒＯ2を５ｗ
ｔ％、Ｌａ2Ｏ3を４ｗｔ％の組成比である。
【００９２】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５４０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間
５．５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３３．
２という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【００９３】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＺｒＯ2に加えて、
融剤として働くＬａ2Ｏ3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００９４】
【発明の効果】本発明によると、比弾性率が３０以上か
つ生産性の高いガラス基板を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遊亀 博 大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 石丸 和彦 大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 4G062 AA11 BB01 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DD02 DD03 DE01 DF01 EA03 EA04 EB01 EC01 ED01 EE01 EF01 EG01 FA01 FB01 FC03 FC04 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN33 QQ02 QQ06 5D006 CB04 CB07 DA03 FA00

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 主成分の組成範囲を、 ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ ８０ｗｔ％以下、 Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、 Ｌｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、 Ｐ2Ｏ5が０．２ｗｔ％以上で且つ ５ｗｔ％以下、 ＺｒＯ2が２．５ｗｔ％以上で且つ １２ｗｔ％以下、
    としたことを特徴とするガラス組成。
JP19174499A 1999-07-06 1999-07-06 結晶化ガラス Expired - Fee Related JP4849702B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19174499A JP4849702B2 (ja) 1999-07-06 1999-07-06 結晶化ガラス
US09/610,338 US6524982B1 (en) 1999-07-06 2000-07-05 Glass-ceramic composition for recording disk substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19174499A JP4849702B2 (ja) 1999-07-06 1999-07-06 結晶化ガラス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001019468A true JP2001019468A (ja) 2001-01-23
JP4849702B2 JP4849702B2 (ja) 2012-01-11

Family

ID=16279790

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19174499A Expired - Fee Related JP4849702B2 (ja) 1999-07-06 1999-07-06 結晶化ガラス

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6524982B1 (ja)
JP (1) JP4849702B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8051678B2 (en) 2001-08-08 2011-11-08 Minolta Co., Ltd. Press molding method for manufacturing of glass substrate
JP2011225441A (ja) * 2010-04-16 2011-11-10 Ivoclar Vivadent Ag ＺｒＯ２成分を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
JP2013543831A (ja) * 2010-11-02 2013-12-09 フラオンホファー−ゲゼルシャフト・ツア・フェルデルング・デア・アンゲヴァンテン・フォルシュング・エー・ファオ ケイ酸リチウムガラスまたはガラスセラミック、その製造方法およびその使用
JP2015505786A (ja) * 2011-10-14 2015-02-26 イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
JP2015505787A (ja) * 2011-10-14 2015-02-26 イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ 三価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
US9604873B2 (en) 2009-12-23 2017-03-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Lithium disilicate glass-ceramic, method for production thereof and use thereof
CN112919810A (zh) * 2021-03-23 2021-06-08 成都光明光电股份有限公司 玻璃陶瓷、玻璃陶瓷制品及其制造方法
CN112939469A (zh) * 2021-03-23 2021-06-11 成都光明光电股份有限公司 微晶玻璃和微晶玻璃制品
JP7074269B1 (ja) * 2020-08-21 2022-05-24 Ａｇｃ株式会社 化学強化ガラスおよび結晶化ガラス並びにそれらの製造方法
JP2022125272A (ja) * 2013-09-06 2022-08-26 コーニング インコーポレイテッド 二ケイ酸リチウム及びβ‐スポジュメン構造を有する高強度ガラスセラミック

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1125789C (zh) * 2000-05-16 2003-10-29 湖北新华光信息材料股份有限公司 一种高强度磁盘基板用微晶玻璃及其制造方法
MX351161B (es) 2011-10-14 2017-10-04 Ivoclar Vivadent Ag Vidrio y cerámica de vidrio de silicato de litio con óxido de metal pentavalente.
EP3572384B1 (en) 2014-10-08 2020-11-18 Corning Incorporated High strength glass-ceramics having petalite and lithium silicate structures
KR20210096140A (ko) 2018-11-26 2021-08-04 오웬스 코닝 인텔렉츄얼 캐피탈 엘엘씨 향상된 탄성 계수를 갖는 고성능 섬유 유리 조성물
CA3117986A1 (en) 2018-11-26 2020-06-04 Owens Corning Intellectual Capital, Llc High performance fiberglass composition with improved specific modulus

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4042362A (en) 1976-05-18 1977-08-16 Corning Glass Works Production of glass-ceramic articles
US4426311A (en) * 1980-07-07 1984-01-17 Allied Corporation Methylene chloride-methane sulfonic acid stripping compositions and methods for using same
US4304603A (en) 1980-08-11 1981-12-08 Corning Glass Works Glass-ceramic compositions designed for radomes
US4374931A (en) 1982-01-08 1983-02-22 Corning Glass Works Photochromic glass suitable for ophthalmic applications
US4714687A (en) 1986-10-27 1987-12-22 Corning Glass Works Glass-ceramics suitable for dielectric substrates
US5219799A (en) 1991-10-07 1993-06-15 Corning Incorporated Lithium disilicate-containing glass-ceramics some of which are self-glazing
EP0729924B1 (en) 1993-05-19 2000-01-26 Kabushiki Kaisha Ohara Glass-ceramic for a magnetic disk substrate
US5626935A (en) 1993-05-19 1997-05-06 Kabushiki Kaisya Ohara Magnetic disk substrate and method for manufacturing the same
US5391522A (en) 1993-05-19 1995-02-21 Kabushiki Kaisya Ohara Glass-ceramic for magnetic disks and method for manufacturing the same
JP2959363B2 (ja) 1993-12-09 1999-10-06 株式会社オハラ 磁気ディスク用着色結晶化ガラス
US5352638A (en) 1994-02-22 1994-10-04 Corning Incorporated Nickel aluminosilicate glass-ceramics
US5489558A (en) 1994-03-14 1996-02-06 Corning Incorporated Glasses for flat panel display
FR2726350B1 (fr) 1994-10-14 1997-01-10 Eurokera Plaques pliees en vitroceramique, plaques de cuisson comportant une telle plaque pliee et procede de fabrication d'une plaque pliee en vitroceramique
US5476821A (en) 1994-11-01 1995-12-19 Corning Incorporated High modulus glass-ceramics containing fine grained spinel-type crystals
US5491116A (en) 1995-04-03 1996-02-13 Corning Incorporated Fine-grained glass-ceramics
EP0736497A1 (en) 1995-04-07 1996-10-09 Corning Incorporated Method and apparatus for molding glass
DE69623240T2 (de) * 1995-06-21 2003-03-27 Ngk Insulators, Ltd. Magnetplattenträger, magnetische platte und verfahren zur herstellung des magnetplattenträgers
JPH10208226A (ja) 1997-01-28 1998-08-07 Yamamura Glass Co Ltd 結晶化ガラス磁気ディスク基板
US5726108A (en) 1995-07-24 1998-03-10 Yamamura Glass Co., Ltd. Glass-ceramic magnetic disk substrate
US6287663B1 (en) * 1995-10-31 2001-09-11 Kabushiki Kaisha Ohara Glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium
US5910459A (en) 1995-10-31 1999-06-08 Corning Incorporated Glass-ceramic containing a stabilized hexacelsian crystal structure
US5786286A (en) 1995-10-31 1998-07-28 Corning Incorporated Glass ceramic rear panel for emissive display
JPH10226532A (ja) 1995-12-28 1998-08-25 Yamamura Glass Co Ltd 磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板
US5691256A (en) * 1995-12-28 1997-11-25 Yamamura Glass Co., Ltd. Glass composition for magnetic disk substrates and magnetic disk substrate
TW366331B (en) 1996-02-02 1999-08-11 Ohara Kk A glass-ceramic substrate for a magnetic disk
JP3131138B2 (ja) 1996-02-05 2001-01-31 株式会社オハラ 磁気ディスク用結晶化ガラス基板
JPH09314458A (ja) 1996-05-27 1997-12-09 Yamamura Glass Co Ltd 結晶化ガラスの精密研磨方法
JP3140702B2 (ja) 1996-12-20 2001-03-05 日本碍子株式会社 磁気ディスク基板用結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク
US6187441B1 (en) * 1996-12-26 2001-02-13 Hoya Corporation Glass substrate for information recording medium and magnetic recording medium having the substrate
JPH1116142A (ja) 1997-04-28 1999-01-22 Ohara Inc 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板
JP3098220B2 (ja) 1997-04-28 2000-10-16 株式会社オハラ 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板
JP3311308B2 (ja) * 1998-03-03 2002-08-05 株式会社オハラ 垂直磁気記録媒体用ガラスセラミックス基板
JP3996294B2 (ja) 1998-03-13 2007-10-24 Ｈｏｙａ株式会社 結晶化ガラスからなる情報記録媒体用基板及び情報記録媒体
US6420286B1 (en) * 1998-03-23 2002-07-16 Kabushiki Kaisha Ohara Glass-ceramics
US6383645B1 (en) * 1998-03-23 2002-05-07 Kabushiki Kaisha Ohara Glass-ceramic substrate for an information storage medium
FR2777559B1 (fr) 1998-04-16 2000-07-13 En Nom Collectif Eurokera Soc Fabrication de plaques vitroceramiques a ouverture(s) au pourtour deforme ; plaques vitroceramiques deformees
US6395368B1 (en) * 1998-08-10 2002-05-28 Kabushiki Kaisha Ohara Glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium
JP2000086289A (ja) * 1998-09-10 2000-03-28 Ngk Insulators Ltd 結晶化ガラスの核形成剤、結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク
JP2000143290A (ja) * 1998-11-09 2000-05-23 Ngk Insulators Ltd 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板、磁気ディスクおよび結晶化ガラスの製造方法
JP2001097740A (ja) * 1999-09-29 2001-04-10 Ngk Insulators Ltd 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板および磁気ディスク

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8051678B2 (en) 2001-08-08 2011-11-08 Minolta Co., Ltd. Press molding method for manufacturing of glass substrate
US10357343B2 (en) 2009-12-23 2019-07-23 Vita Zahnfabrik H. Rauter Gmbh & Co. Kg Lithium disilicate glass-ceramic, method for production thereof and use thereof
US9604873B2 (en) 2009-12-23 2017-03-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Lithium disilicate glass-ceramic, method for production thereof and use thereof
JP2011225441A (ja) * 2010-04-16 2011-11-10 Ivoclar Vivadent Ag ＺｒＯ２成分を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
JP2013543831A (ja) * 2010-11-02 2013-12-09 フラオンホファー−ゲゼルシャフト・ツア・フェルデルング・デア・アンゲヴァンテン・フォルシュング・エー・ファオ ケイ酸リチウムガラスまたはガラスセラミック、その製造方法およびその使用
US10442725B2 (en) 2010-11-02 2019-10-15 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Lithium silicate glasses or glass ceramics, method for production thereof and use thereof
US9125812B2 (en) 2010-11-02 2015-09-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Lithium silicate glass ceramic, method for production thereof and use thereof
JP2015505786A (ja) * 2011-10-14 2015-02-26 イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
JP2015505787A (ja) * 2011-10-14 2015-02-26 イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ 三価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
JP2022125272A (ja) * 2013-09-06 2022-08-26 コーニング インコーポレイテッド 二ケイ酸リチウム及びβ‐スポジュメン構造を有する高強度ガラスセラミック
JP7074269B1 (ja) * 2020-08-21 2022-05-24 Ａｇｃ株式会社 化学強化ガラスおよび結晶化ガラス並びにそれらの製造方法
JP2022103233A (ja) * 2020-08-21 2022-07-07 Ａｇｃ株式会社 化学強化ガラスおよび結晶化ガラス並びにそれらの製造方法
JP7327570B2 (ja) 2020-08-21 2023-08-16 Ａｇｃ株式会社 化学強化ガラスおよび結晶化ガラス並びにそれらの製造方法
CN112919810A (zh) * 2021-03-23 2021-06-08 成都光明光电股份有限公司 玻璃陶瓷、玻璃陶瓷制品及其制造方法
CN112939469A (zh) * 2021-03-23 2021-06-11 成都光明光电股份有限公司 微晶玻璃和微晶玻璃制品

Also Published As

Publication number Publication date
US6524982B1 (en) 2003-02-25
JP4849702B2 (ja) 2012-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4337176B2 (ja) ガラス組成
JP4849702B2 (ja) 結晶化ガラス
JP4158282B2 (ja) 磁気ディスク用結晶化ガラス基板
JP4207358B2 (ja) ガラス組成
JP4831854B2 (ja) 結晶化ガラス組成物
JP4265036B2 (ja) 結晶化ガラス組成物
JP2001019488A (ja) ガラス組成
JP2001019485A (ja) ガラス組成
JP2001019477A (ja) ガラス組成
JP2001019478A (ja) ガラス組成
JP2001019479A (ja) ガラス組成
JP4265035B2 (ja) 結晶化ガラス組成物
JP4207316B2 (ja) 結晶化ガラス組成物
JP2001019487A (ja) ガラス組成
JP2001019491A (ja) ガラス組成
JP2001287928A (ja) ガラス組成
JP2001019482A (ja) ガラス組成
JP2001019469A (ja) ガラス組成
JP2001026441A (ja) ガラス組成
JP2001019486A (ja) ガラス組成
JP2001019483A (ja) ガラス組成
JP2001026456A (ja) ガラス組成
JP2001287931A (ja) ガラス組成
JP2001287934A (ja) ガラス組成
JP2001026452A (ja) ガラス組成

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20050615

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050622

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050706

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080324

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080527

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080726

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080930

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081201

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20081209

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20090116

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110225

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110907

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111018

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141028

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees