JP2001019488A - ガラス組成 - Google Patents

ガラス組成

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JP2001019488A
JP2001019488A JP11191752A JP19175299A JP2001019488A JP 2001019488 A JP2001019488 A JP 2001019488A JP 11191752 A JP11191752 A JP 11191752A JP 19175299 A JP19175299 A JP 19175299A JP 2001019488 A JP2001019488 A JP 2001019488A
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glass
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zro
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Hideki Osada
英喜 長田
Hideki Kawai
秀樹 河合
Toshiharu Mori
登史晴 森
Hiroshi Yugame
博 遊亀
Kazuhiko Ishimaru
和彦 石丸
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
    • C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum

Abstract

(57)【要約】 【課題】 比弾性率の高いガラスを提供する。 【解決手段】 ガラス組成において、主成分の組成範囲
を、ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ ８０ｗｔ％以
下、Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、
Ｌｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、Ｐ2Ｏ
5が０．２ｗｔ％以上で且つ ５ｗｔ％以下、ＴｉＯ2が
０．１ｗｔ％以上で且つ １０ｗｔ％以下、ＺｒＯ2が
０．１ｗｔ％以上で且つ １２ｗｔ％以下、ＺｒＯ2／
Ｐ2Ｏ5が０．１以上で且つ １．６以下、とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス組成、特に結
晶化ガラスに適したガラス組成に関する。さらに詳しく
は、結晶化ガラス磁気ディスクの組成に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気ディスク用の基板としては、
アルミニウム基板、ガラス基板等が実用化されている。
中でもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、最も注目されている。そのようなガラ
ス基板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化し
た化学強化ガラス基板や、基板に結晶成分を析出させて
結合の強化を図る結晶化ガラス基板が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで最近の基板に
対する性能の要求は、日に日に厳しくなってきており、
とくに高速回転時のたわみやそりに直接的に関わる強度
に対する性能の向上が求められている。これは基板材料
の比弾性率（＝ヤング率／比重）によって表すことがで
き、数値が高ければ高いほど望ましい。またこのような
要求を満たしながら、生産性の向上が求められている。
そこで本発明は、ガラスの比弾性率が向上し、さらに生
産性の高いを組成を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１に記載された発明は、主成分の組成範囲を、
ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ ８０ｗｔ％以下、Ａ
ｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、Ｌｉ2
Ｏが３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、Ｐ2Ｏ5が
０．２ｗｔ％以上で且つ ５ｗｔ％以下、ＴｉＯ2が
０．１ｗｔ％以上で且つ １０ｗｔ％以下、ＺｒＯ2が
０．１ｗｔ％以上で且つ １２ｗｔ％以下、ＺｒＯ2／
Ｐ2Ｏ5が０．１以上で且つ １．６以下、にしたことを
特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。本発明に係る実施形態のガラス基板は、主成
分の組成範囲が、ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ８０
ｗｔ％以下、Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％
以下、Ｌｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％以下、
Ｐ2Ｏ5が０．２ｗｔ％以上で且つ５ｗｔ％以下、ＴｉＯ
2が０．１ｗｔ％以上で且つ１０ｗｔ％以下、ＺｒＯ2が
０．１ｗｔ％以上で且つ１２ｗｔ％以下、ＺｒＯ2／Ｐ2
Ｏ5が０．１以上で且つ１．６以下であることを特徴と
している。
【０００６】ＳｉＯ2はガラス形成酸化物のため組成比
が６５ｗｔ％より少ないと、溶融性が悪くなり、８０ｗ
ｔ％を越えるとガラスとして安定状態になるため、結晶
が析出しにくくなる。
【０００７】Ａｌ2Ｏ3はガラス中間酸化物であり、熱処
理によって析出する結晶相であるホウ酸アルミニウム系
結晶の構成成分である。組成比が３ｗｔ％より少ないと
析出結晶が少なく、強度が得られず、１５ｗｔ％を越え
ると溶融温度が高くなり失透しやすくなる。
【０００８】Ｌｉ2Ｏは融剤としての役割を果たすとと
もに、リチウムダイシリケート系結晶の構成成分であ
る。組成比が３ｗｔ％より少ないと結晶相であるリチウ
ムダイシリケートの析出が不十分となり、１５ｗｔ％を
越えると、析出結晶相のリチウムダイシリケートが不安
定となり結晶化を制御しにくくなる。また化学的耐久性
が低下し磁気膜に影響を与える恐れがあり、また研磨−
洗浄工程における安定性が悪くなる。
【０００９】Ｐ2Ｏ5は融剤として働き、リチウムダイシ
リケート系結晶を析出させる核形成剤であり、ガラス全
体に結晶を均一に析出させるために重要な成分である。
組成比が０．２ｗｔ％より少ないと十分な結晶核が形成
されにくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質
に析出し、微細で均質な結晶構造が得られにくくなり、
研磨加工においてディスク基板として必要な平滑面が得
られなくなる。また難溶融性のＺｒＯ2成分に対する融
剤としての効果が十分得られなくなる。５ｗｔ％を越え
ると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、また失透性
も強くなることから溶融成形時の生産性が低下する。ま
た化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れが
あると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
【００１０】ＴｉＯ2は融剤であり、結晶成長を促進さ
せる。組成比が０．１ｗｔ％より少ないと溶融性が悪く
なると共に、結晶成長がしにくくなり、１０ｗｔ％を越
えると結晶化が急激に促進され、結晶化状態の制御が困
難となり析出結晶の粗大化、結晶相の不均質が発生し、
微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研磨加工にお
いてディスク基板として必要な平滑面が得られなくな
る。さらに溶融成形時に失透しやすくなり、生産性が低
下する。
【００１１】ＺｒＯ2はガラス修飾酸化物であり、ガラ
スの結晶核剤である。特にクオーツ系結晶をガラス全体
に均一に析出させるために非常に有効である。組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な結晶核が形成されなく
にくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析
出し、微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研磨加
工においてディスク基板として必要な平滑面が得られな
くなる。また化学的耐久性および耐マイグレーションが
低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあるとともに、研
磨−洗浄工程において安定性が悪くなる。また１２ｗｔ
％を越えると溶融温度が高くなり、また失透しやすくな
り溶融成形が困難となる。また析出結晶相が変化し求め
る特性が得られにくくなる。
【００１２】ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5はクオーツ系結晶の結晶
核剤と、リチウムダイシリケート系の結晶核剤との比で
あり、０．１ｗｔ％より少ないと、クオーツ系結晶がほ
とんど得られず、求める特性が得にくくなり、１．６ｗ
ｔ％を超えるとクオーツ系結晶が析出しすぎて求める特
性が得られなくなる。
【００１３】以下製造方法を説明する。最終的に生成さ
れるガラス基板の主成分の組成を含む原料を所定の割合
にて充分に混合し、これを白金るつぼに入れ溶融を行
う。溶融後金型に流し概略の形状を形成する。これを室
温までアニールする。続いて、示される１次熱処理温度
と１次処理時間により保持し（熱処理）、結晶核生成が
行われる。引き続き、２次熱処理温度と２次処理時間に
より保持し結晶核成長を行う。これを除冷することによ
り目的とする結晶化ガラスが得られる。
【００１４】以上の製造方法によって得られたガラス基
板は、ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ８０ｗｔ％以
下、Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％以下、Ｌ
ｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ１５ｗｔ％以下、Ｐ2Ｏ5が
０．２ｗｔ％以上で且つ５ｗｔ％以下、ＴｉＯ2が０．
１ｗｔ％以上で且つ１０ｗｔ％以下、ＺｒＯ2が０．１
ｗｔ％以上で且つ１２ｗｔ％以下、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が
０．１以上で且つ１．６以下とするために、非常に高い
比弾性率と高い生産性を得ることが可能となった。
【００１５】
【実施例】次に実施形態を実施した具体的な実施例につ
いて説明する。第１〜第４実施例のガラスを構成する材
料組成比（単位：ｗｔ％）、条件式の値、溶融温度と溶
融時間、１次熱処理温度と１次処理時間、２次熱処理温
度と２次処理時間、主析出結晶相、副析出結晶相、平均
結晶粒径、比重、ヤング率、比弾性率を表１に示す。同
様に第５〜第８実施例のガラスを表２に示す。同様に第
９〜第１２実施例のガラスを表３に示す。同様に第１３
〜第１６実施例のガラスを表４に示す。同様に第１７〜
第２０実施例のガラスを表５に示す。同様に第２１〜第
２４実施例のガラスを表６に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【表２】
【００１８】
【表３】
【００１９】
【表４】
【００２０】
【表５】
【００２１】
【表６】
【００２２】第１の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７２．１ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを８．
５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．８ｗｔ％、ＴｉＯ2を２．２ｗ
ｔ％、ＺｒＯ2を２．５ｗｔ％、ＣａＯを２．９ｗｔ
％、Ｋ2Ｏを１．５ｗｔ％、Ｓｂ2Ｏ3を０．５ｗｔ％、
ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．４の組成比である。
【００２３】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３９．６という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００２４】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶
融性、安定した結晶相があることができる。組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、求める強度が得られにくくなる。
【００２５】また、融剤として働くＫ2Ｏを加えている
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
【００２６】また、清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えて
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。５ｗｔ％を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
【００２７】第２の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
６９ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を７．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを３．
６ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４．８ｗｔ％、ＴｉＯ2を１．２ｗ
ｔ％、ＺｒＯ2を７．５ｗｔ％、ＣａＯを２．２ｗｔ
％、Ｋ2Ｏを３ｗｔ％、Ｓｂ2Ｏ3を１．５ｗｔ％、Ｚｒ
Ｏ2／Ｐ2Ｏ5が１．６の組成比である。
【００２８】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５４０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間
５．５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時
間にて処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出
結晶相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３４．
１という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【００２９】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶
融性、安定した結晶相があることができる。組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、求める強度が得られにくくなる。
【００３０】また、融剤として働くＫ2Ｏを加えている
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
【００３１】また、清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えて
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。５ｗｔ％を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
【００３２】第３の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７３．９ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．４ｗｔ％、ＴｉＯ2を
１．２ｗｔ％、ＺｒＯ2を３．２ｗｔ％、ＺｒＯ2／Ｐ2
Ｏ5が１．３の組成比である。
【００３３】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．０と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００３４】第４の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７４ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを８．５ｗ
ｔ％、Ｐ2Ｏ5を３ｗｔ％、ＴｉＯ2を５．１ｗｔ％、Ｚ
ｒＯ2を１．４ｗｔ％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．５の組成
比である。
【００３５】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が４０．０と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００３６】第５の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７０．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を１０．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３ｗｔ％、ＴｉＯ2を３．
３ｗｔ％、ＺｒＯ2を２ｗｔ％、ＣａＯを０．５ｗｔ
％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．７の組成比である。
【００３７】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が４０．２と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００３８】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶
融性、安定した結晶相があることができる。組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、求める強度が得られにくくなる。
【００３９】第６の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１１．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
７．８ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を２ｗ
ｔ％、ＺｒＯ2を０．５ｗｔ％、ＣａＯを２ｗｔ％、Ｚ
ｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．３の組成比である。
【００４０】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相が
リチウムダイシリケートで、比弾性率が４０．３という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００４１】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＣａＯを加えているため高い溶
融性、安定した結晶相があることができる。組成比が
０．１ｗｔ％より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。５ｗｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、求める強度が得られにくくなる。
【００４２】第７の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
６６．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を９．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＴｉＯ2を３．８
ｗｔ％、ＺｒＯ2を５ｗｔ％、Ｋ2Ｏを１ｗｔ％、ＺｒＯ
2／Ｐ2Ｏ5が１．３の組成比である。
【００４３】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．３と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００４４】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＫ2Ｏを加えているため生産時
の安定性が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れ
があると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
【００４５】第８の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
６９．１ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を９ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を２ｗｔ
％、ＺｒＯ2を３．２ｗｔ％、Ｋ2Ｏを３ｗｔ％、ＺｒＯ
2／Ｐ2Ｏ5が０．９の組成比である。
【００４６】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．２と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００４７】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＫ2Ｏを加えているため生産時
の安定性が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れ
があると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
【００４８】第９の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2を
７０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを８．
７ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を４．５ｗ
ｔ％、ＺｒＯ2を４ｗｔ％、Ｓｂ2Ｏ3を０．５ｗｔ％、
ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．６の組成比である。
【００４９】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．０という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００５０】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えているため生
産時の安定性が向上している。ただし、組成比が０．１
ｗｔ％より少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、
生産性が低下する。５ｗｔ％を越えると、ガラスの結晶
化が不安定となり析出結晶相を制御できなくなり、求め
る特性が得られにくくなる。
【００５１】第１０の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７２．４ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を１１．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．２ｗｔ％、ＴｉＯ2を
２．５ｗｔ％、ＺｒＯ2を１．４ｗｔ％、Ｓｂ2Ｏ3を
１．５ｗｔ％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．２の組成比であ
る。
【００５２】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．０という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００５３】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、清澄剤として働くＳｂ2Ｏ3を加えているため生
産時の安定性が向上している。ただし、組成比が０．１
ｗｔ％より少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、
生産性が低下する。５ｗｔ％を越えると、ガラスの結晶
化が不安定となり析出結晶相を制御できなくなり、求め
る特性が得られにくくなる。
【００５４】第１１の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を６９．８ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を１０．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．２ｗｔ％、ＴｉＯ2を
３ｗｔ％、ＺｒＯ2を３ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を２ｗｔ％、Ｚ
ｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．４の組成比である。
【００５５】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．８という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００５６】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、フォーマーとして働くＢ2Ｏ3を加えているため
ガラスの分相を促し、結晶析出および成長を促進させ
る。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な
溶融性改善がなされない。１５ｗｔ％を越えると、ガラ
スが失透しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が
粗大化し微細な結晶が得られなくなる。
【００５７】第１２の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７１．７ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１０．７ｗｔ％、Ｌｉ2
Ｏを９．８ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を
３ｗｔ％、ＺｒＯ2を０．３ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を３ｗｔ
％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．２の組成比である。
【００５８】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４４０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３９．８という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００５９】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、フォーマーとして働くＢ2Ｏ3を加えているため
ガラスの分相を促し、結晶析出および成長を促進させ
る。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ないと十分な
溶融性改善がなされない。１５ｗｔ％を越えると、ガラ
スが失透しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が
粗大化し微細な結晶が得られなくなる。
【００６０】第１３の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．７ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
９．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３ｗｔ％、ＴｉＯ2を３．６ｗ
ｔ％、ＺｒＯ2を３．２ｗｔ％、ＭｇＯを１ｗｔ％、Ｚ
ｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．１の組成比である。
【００６１】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
トで、副析出結晶相がクオーツ、比弾性率が３８．２と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００６２】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＭｇＯを加えているため結晶相
の一つである粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊
を形成する。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ない
と作業温度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学
的耐久性が向上しない。１２ｗｔ％を越えると、他の結
晶相が析出して求める強度を得ることが難しくなる。
【００６３】第１４の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７４．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を７．３ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を３ｗｔ
％、ＺｒＯ2を２ｗｔ％、ＭｇＯを４ｗｔ％、ＺｒＯ2／
Ｐ2Ｏ5が１．３の組成比である。
【００６４】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３８．３と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００６５】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＭｇＯを加えているため結晶相
の一つである粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊
を形成する。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より少ない
と作業温度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学
的耐久性が向上しない。１２ｗｔ％を越えると、他の結
晶相が析出して求める強度を得ることが難しくなる。
【００６６】第１５の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７６．８ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
５．７ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１．２ｗｔ％、ＴｉＯ2を３．
５ｗｔ％、ＺｒＯ2を１．８ｗｔ％、ＢａＯを２ｗｔ
％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．５の組成比である。
【００６７】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５００度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５時
間、２次処理温度６９０度、２次処理時間２．５時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３７．４と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００６８】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＢａＯを加えているため生産時
の安定性が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【００６９】第１６の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７５．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を７．２ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を７．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を１ｗｔ％、ＴｉＯ2を４．２
ｗｔ％、ＺｒＯ2を１．６ｗｔ％、ＢａＯを３ｗｔ％、
ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．６の組成比である。
【００７０】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５４０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８５度、１次処理時間５時
間、２次処理温度６９０度、２次処理時間２．５時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３７．０と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００７１】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＢａＯを加えているため生産時
の安定性が向上している。ただし、組成比が０．１ｗｔ
％より少ないと十分な溶融性改善がなされない。５ｗｔ
％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【００７２】第１７の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７４．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を７．６ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を６．９ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＴｉＯ2を５．２
ｗｔ％、ＺｒＯ2を１．５ｗｔ％、ＺｎＯを０．３ｗｔ
％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．４の組成比である。
【００７３】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が３８．８と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００７４】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＺｎＯを加えているため均一な
結晶析出を補助する。ただし、組成比が０．１ｗｔ％よ
り少ないと十分な結晶均質化の改善がなされない。５ｗ
ｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制さ
れ、求める強度が得られにくくなる。
【００７５】第１８の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７３．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を７．５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８．８ｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を３．
５ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．５ｗｔ％、ＺｎＯを２ｗｔ
％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．０の組成比である。
【００７６】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．０という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００７７】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＺｎＯを加えているため均一な
結晶析出を補助する。ただし、組成比が０．１ｗｔ％よ
り少ないと十分な結晶均質化の改善がなされない。５ｗ
ｔ％を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制さ
れ、求める強度が得られにくくなる。
【００７８】第１９の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７３．２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８．７ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を１０．１ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を
３．５ｗｔ％、ＺｒＯ2を１．５ｗｔ％、Ｎｂ2Ｏ5を
０．５ｗｔ％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．６の組成比であ
る。
【００７９】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．２という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００８０】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＮｂ2Ｏ5を加えているため結晶
核剤物質が増加することになる。ただし、組成比が０．
１ｗｔ％より少ないと十分な剛性の向上がなされない。
５ｗｔ％を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、
析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が得られに
くくなる。
【００８１】第２０の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７２ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を１１．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
１０．４ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を０．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を３
ｗｔ％、ＺｒＯ2を０．８ｗｔ％、Ｎｂ2Ｏ5を１．５ｗ
ｔ％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．６の組成比である。
【００８２】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４６０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度６００度、１次処理時間４．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３８．１と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００８３】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＮｂ2Ｏ5を加えているため結晶
核剤物質が増加することになる。ただし、組成比が０．
１ｗｔ％より少ないと十分な剛性の向上がなされない。
５ｗｔ％を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、
析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が得られに
くくなる。
【００８４】第２１の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を７．３ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏを
８．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２ｗｔ％、ＴｉＯ2を３ｗｔ
％、ＺｒＯ2を３ｗｔ％、Ｔａ2Ｏ5を１．２ｗｔ％、Ｚ
ｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．５の組成比である。
【００８５】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５００度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間５．
５時間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３６．１と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００８６】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＴａ2Ｏ5を加えているため溶融
性、強度を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的
耐久性を向上させる。ただし、組成比が０．１ｗｔ％よ
り少ないと十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を
越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相
を制御できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００８７】第２２の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を６８．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．８ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８．９ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を３ｗｔ％、ＴｉＯ2を３ｗｔ
％、ＺｒＯ2を２．８ｗｔ％、Ｔａ2Ｏ5を４ｗｔ％、Ｚ
ｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．９の組成比である。
【００８８】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５４０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５７５度、１次処理時間
５．５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３３．
１という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【００８９】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＴａ2Ｏ5を加えているため溶融
性、強度を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的
耐久性を向上させる。ただし、組成比が０．１ｗｔ％よ
り少ないと十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を
越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相
を制御できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００９０】第２３の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を７３．５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を８．７ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を７．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を２．５ｗｔ％、ＴｉＯ2を４
ｗｔ％、ＺｒＯ2を２．８ｗｔ％、Ｌａ2Ｏ3を１ｗｔ
％、ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．１の組成比である。
【００９１】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１４８０度、溶融時間
２．５時間、１次処理温度５８０度、１次処理時間５時
間、２次処理温度７００度、２次処理時間３時間にて処
置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相が
リチウムダイシリケートで、比弾性率が３６．２という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【００９２】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＬａ2Ｏ3を加えているため結晶
析出が抑制される。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より
少ないと十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を越
えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を
制御できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００９３】第２４の実施例のガラス組成は、ＳｉＯ2
を６７．３ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を９．７ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏ
を８．５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5を４ｗｔ％、ＴｉＯ2を２．５
ｗｔ％、ＺｒＯ2を４ｗｔ％、Ｌａ2Ｏ3を４ｗｔ％、Ｚ
ｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が１．０の組成比である。
【００９４】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度１５４０度、溶融時間
１．７５時間、１次処理温度５７０度、１次処理時間
５．５時間、２次処理温度７２０度、２次処理時間４時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が３３．
８という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【００９５】また組成として、基本組成であるＳｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2に
加えて、融剤として働くＬａ2Ｏ3を加えているため結晶
析出が抑制される。ただし、組成比が０．１ｗｔ％より
少ないと十分な剛性の向上がなされない。５ｗｔ％を越
えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を
制御できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【００９６】
【発明の効果】本発明によると、比弾性率が３０以上か
つ生産性の高いガラス基板を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遊亀 博 大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 石丸 和彦 大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 4G062 AA11 BB01 BB09 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DD02 DD03 DE01 DF01 EA03 EA04 EB01 EC01 ED01 EE01 EF01 EG01 FA01 FB02 FB03 FC02 FC03 FC04 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN33 QQ02 QQ06 5D006 CB04 CB07 DA03 FA00

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 主成分の組成範囲を、 ＳｉＯ2が６５ｗｔ％以上で且つ ８０ｗｔ％以下、 Ａｌ2Ｏ3が３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、 Ｌｉ2Ｏが３ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、 Ｐ2Ｏ5が０．２ｗｔ％以上で且つ ５ｗｔ％以下、 ＴｉＯ2が０．１ｗｔ％以上で且つ １０ｗｔ％以下、 ＺｒＯ2が０．１ｗｔ％以上で且つ １２ｗｔ％以下、 ＺｒＯ2／Ｐ2Ｏ5が０．１以上で且つ １．６以下、と
    したことを特徴とするガラス組成。
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