JP2001281572A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】簡単な構成で主・副独立に結像状態を検知し、
主・副独立に焦点位置を補正してビーム径やビームピッ
チを制御する光走査装置を実現する。 【解決手段】本発明の光走査装置は、光ビームを出射す
る光源ユニット１と、光源ユニットから出射した光ビー
ムを偏向して被走査面１３ａ上に集光し主走査方向に走
査する走査光学系４〜７と、走査光学系により走査され
る光ビームを検出する光ビーム検出部８と、光ビーム検
出部８からのビーム検出信号に基づいて主・副走査方向
のビーム径を計測するビーム径計測部９と、被走査面上
の主・副走査方向のビーム径を制御するビーム径制御部
１０を具備し、上記光源ユニット１が複数の光ビームを
出射する場合には、光ビーム検出部８からのビーム検出
信号に基づいて光ビームの副走査方向のピッチを計測す
る副走査ピッチ計測部１１と、副走査方向のピッチを制
御するピッチ制御部１２を具備する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル複写機、
レーザープリンタ、レーザーファクシミリ、レーザープ
ロッタ等の画像形成装置の書き込み光学系や、計測器、
検査装置等に応用される光走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体レーザー等の光源からの光ビーム
を走査光学系で偏向して被走査面上に集光し主走査方向
に走査する光走査装置が知られており、デジタル複写
機、レーザープリンタ、レーザーファクシミリ、レーザ
ープロッタ等の画像形成装置の書き込み光学系や、計測
器、検査装置等に応用されている。近年、画像記録が高
精細化、高密度化する中で、光走査装置にも光ビームの
径やビームピッチの高精度化が求められている。しか
し、光ビームを高精度に調整したとしても温度等の外乱
によりビーム径やピッチは変動するから、光ビームの結
像状態を検知して、もし設定値よりずれていたら補正す
ることが必要である。

【０００３】そこで特許第２７６１７２３号公報には、
環境温度の変動に起因する結像位置のずれを防止して正
確にレーザー光を走査可能な走査光学装置を提供するこ
とを目的として、「レーザー光を発光する光源と、光源
から出射されたレーザー光をコリメートするコリメータ
レンズと、コリメータレンズを通過した後のレーザー光
を受光する光電変換素子と、光電変換素子の出力に応じ
てコリメータレンズの位置を光軸方向に調整する調整手
段とを有する走査光学装置において、上記調整手段は、
画像信号に応じて明滅するレーザー光を受光した際の光
電変換素子の最大出力値と最小出力値の差に応じて上記
コリメータレンズの位置を調整することを特徴とする走
査光学装置」が提案されている。また、上記公報には、
画像信号に応じて明滅するレーザー光を受光した際に、
光電変換素子がレーザー光を受光することにより出力す
る出力値の最大出力値と最小出力値の差に応じて適正な
スポット径となるようにコリメータレンズの位置を調整
することにより、被走査面におけるスポットの大きさが
環境変動により変化した場合でも、所望の大きさに調整
し得ることが記載されている。

【０００４】特開平１０−２０２２５号公報には、簡単
な構成のビーム集光状態検出手段を使用するにも拘わら
ず高速走査に対応でき、ビーム集光位置を精度よく調整
でき、高品質の画像を得ることのできるレーザビーム走
査光学装置を提供することを目的として、「レーザ光源
から放射されたレーザビームの集光位置を調整するため
の光学素子と、走査されたレーザビームが通過したこと
を検出して検出信号を発生する検出手段と、該検出信号
の発生から所定時間後に前記レーザ光源をパルス発光さ
せるパルス発光手段と、被走査面と光学的に略等価位置
に配置され、パルス発光されたレーザビームを受光する
ビーム集光状態検出手段と、該検出手段の検出結果に基
づいて前記光学素子を駆動し、レーザビームの集光位置
を調整する制御手段とを備えたことを特徴とするレーザ
ビーム走査光学装置」が提案されている。また、上記公
報には、レーザ光源を定点でパルス発光させ、このパル
スビームの集光状態を検出するようにしたため、高速走
査であっても簡単な構成の検出手段でレーザビームの集
光状態を検出でき、かつ、集光状態検出結果に基づいて
光学素子を駆動してレーザビームの集光位置を調整する
ことにより、常時高品質の画像を得ることができること
が記載されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述の特開平１０−２
０２２５号公報記載の光走査装置（走査光学装置）にお
いては、光ビームの結像状態の検知においてパルス発光
を前提にしているが、実際には、パルス発光のタイミン
グがずれるので検知精度が下がる。また、この従来例で
はナイフエッジ法を用いているが、この方法では、主走
査方向の光ビームの結像状態は検知できるが、副走査方
向の光ビームの結像状態は検知できない（従来技術にお
いて、主・副独立に検知する例はない）。また、特開平
１０−２０２２５号公報や、特許第２７６１７２３号公
報において、焦点位置を調整する調整機構はコリメート
レンズを光軸方向に調整しているが、光源とコリメート
レンズの位置関係は精度が要求され光軸ずれなども起こ
るため、実際には調整は困難である。また、コリメート
レンズを光軸方向に調整しても、主・副同時に焦点位置
を補正できるとは限らない。

【０００６】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
って、簡単な構成で主・副独立に結像状態を検知し、主
・副独立に焦点位置を補正してビーム径やビームピッチ
を制御することができる新規な構成の光走査装置を実現
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の光走査装置は、光ビームを出射する
光源ユニットと、該光源ユニットから出射した光ビーム
を偏向して被走査面上に集光し主走査方向に走査する走
査光学系と、該走査光学系により走査される光ビームを
検出する光ビーム検出手段と、該光ビーム検出手段から
のビーム検出信号に基づいて主走査方向および副走査方
向のビーム径を計測するビーム径計測手段と、前記被走
査面上の主走査方向および副走査方向のビーム径を制御
するビーム径制御手段を具備する構成としたものであ
る。すなわち、請求項１の構成では、光ビームを検出
し、そのビーム検出信号に基づいて主走査および副走査
方向のビーム径を計測して、主走査方向および副走査方
向のビーム径を制御することにより、安定で良好なビー
ムスポットを得ることが可能となる。

【０００８】請求項２記載の光走査装置は、複数の光ビ
ームを出射する光源ユニットと、該光源ユニットから出
射した複数の光ビームを偏向して被走査面上に集光し主
走査方向に走査する走査光学系と、該走査光学系により
走査される複数の光ビームを検出する光ビーム検出手段
と、該光ビーム検出手段からのビーム検出信号に基づい
て主走査方向および副走査方向のビーム径を計測するビ
ーム径計測手段と、前記光ビーム検出手段からのビーム
検出信号に基づいて複数の光ビームの副走査方向のピッ
チを計測する副走査ピッチ計測手段と、前記被走査面上
の主走査方向および副走査方向のビーム径を制御するビ
ーム径制御手段と、副走査方向のピッチを制御するピッ
チ制御手段を具備する構成としたものである。すなわ
ち、請求項２の構成では、複数の光ビームを一括走査さ
せ、その複数の光ビームを検出し、そのビーム検出信号
に基づいて主走査および副走査方向のビーム径を計測し
て、主走査方向および副走査方向のビーム径を制御する
とともに、ビーム検出信号に基づいてビームピッチを計
測し、所定のピッチとなるようにピッチを制御すること
により、安定で良好なビームスポットとピッチを得るこ
とが可能となる。

【０００９】請求項３記載の光走査装置は、請求項１ま
たは請求項２の構成に加えて、前記光ビーム検出手段
は、検出部の辺縁が副走査方向と平行な辺と、非平行な
辺とを具備する構成としたものである。すなわち、請求
項３の構成では、光ビーム検出に、検出部の辺縁が副走
査方向と平行な辺と、非平行な辺とを使うことにより、
主走査方向、副走査方向のビーム径を計測することが可
能となる。

【００１０】請求項４記載の光走査装置は、請求項１ま
たは請求項２または請求項３の構成に加えて、前記光ビ
ーム検出手段の検出部を一つのセンサーで構成したこと
を特徴とする。すなわち、請求項４の構成では、光ビー
ムの検出に一つのセンサーを使うことにより、精度良く
ビーム径を計測することが可能となる。また、請求項５
記載の光走査装置は、請求項１または請求項２または請
求項３の構成に加えて、前記光ビーム検出手段の検出部
を二つ以上のセンサーで構成したことを特徴とする。す
なわち、請求項５の構成では、光ビームの検出に二つ以
上のセンサーを使うことにより、簡便な回路でビーム径
を計測することが可能となる。

【００１１】請求項６記載の光走査装置は、請求項１〜
請求項５の何れか一つの構成に加えて、前記ビーム径計
測手段におけるビーム径計測は、前記光ビーム検出手段
からのビーム検出信号を時間微分し、微分した信号のピ
ーク値を計測してビーム径と対応させることを特徴とす
る。すなわち、請求項６の構成では、ビーム径計測は、
ビーム検出信号を時間微分し、微分した信号のピーク値
を計測してビーム径と対応させることにより簡便な回路
で精度良くビーム径を計測することが可能となる。

【００１２】請求項７記載の光走査装置は、請求項１〜
請求項５の何れか一つの構成に加えて、前記ビーム径計
測手段におけるビーム径計測は、前記光ビーム検出手段
からのビーム検出信号を時間微分し、微分した信号の或
る閾値以上の時間を計測してビーム径と対応させること
を特徴とする。すなわち、請求項７の構成では、ビーム
径計測は、ビーム検出信号を時間微分し、微分した信号
の或る閾値以上の時間を計測してビーム径と対応させる
ことにより簡便な回路でノイズの影響を少なくしてビー
ム径を計測することが可能となる。

【００１３】請求項８記載の光走査装置は、請求項１〜
請求項７の何れか一つの構成に加えて、前記主走査方向
および副走査方向のビーム径制御手段は、主走査方向、
副走査方向のビーム径をそれぞれ調整する主シリンドリ
カルレンズと副シリンドリカルレンズを配し、それぞれ
のシリンドリカルレンズを光軸方向に移動させてビーム
径を制御することを特徴とする。すなわち、請求項８の
構成では、主走査方向および副走査方向のビーム径制御
に、主走査方向、副走査方向のビーム径を調整する主シ
リンドリカルレンズと副シリンドリカルレンズを配し、
それぞれのシリンドリカルレンズを光軸方向に移動させ
てビーム径を制御することにより、簡便に主・副走査方
向のビーム径を制御することが可能となる。

【００１４】請求項９記載の光走査装置は、請求項８の
構成に加えて、前記シリンドリカルレンズを所定の位置
から順次移動させて、前記ビーム径計測手段にてビーム
径計測を行い、得られた一連の計測値からビームが最大
に絞り込まれている位置（ビームウエスト位置）を検出
することを特徴とする。すなわち、請求項９の構成で
は、シリンドリカルレンズを所定の位置から順次移動さ
せて、前記ビーム径計測手段にてビーム径計測を行い、
得られた一連の計測値からビームが最大に絞り込まれて
いる位置（ビームウエスト位置）を検出することによ
り、環境変動があっても安定して良好なビーム径を得る
ことが可能となる。

【００１５】請求項１０記載の光走査装置は、請求項９
の構成に加えて、装置構成を請求項２に記載の複数の光
ビームを出射する光源ユニット、走査光学系、光ビーム
検出手段、ビーム径計測手段、副走査ピッチ計測手段、
ビーム径制御手段、ピッチ制御手段を具備した構成と
し、ビーム径およびビームピッチの制御時には、主走査
方向のビームウエスト位置を検出し、その検出した位置
へ主シリンドリカルレンズを移動させ、次に副走査方向
のビームウエスト位置を検出し、その検出した位置へ副
シリンドリカルレンズを移動させ、次にビームピッチを
検出して適正なビームピッチとなるように光源ユニット
と副シリンドリカルレンズを同じ距離だけ移動させるこ
とを特徴とする。すなわち、請求項１０の構成では、ビ
ーム径およびビームピッチの制御時には、主走査方向の
ビームウエスト位置を検出し、その検出した位置へ主シ
リンドリカルレンズを移動させ、次に副走査方向のビー
ムウエスト位置を検出し、その検出した位置へ副シリン
ドリカルレンズを移動させ、次にビームピッチを検出し
て適正なビームピッチとなるように光源ユニットと副シ
リンドリカルレンズを同じ距離だけ移動させることによ
り、環境変動があっても安定して良好なビーム径および
ビームピッチを得ることが可能となる。

【００１６】請求項１１記載の光走査装置は、請求項９
または請求項１０の構成に加えて、ビームウエスト位置
を検出できない場合は、シリンドリカルレンズを元の位
置まで移動させ、異常であることを通報するか、もしく
は、ピッチ調整後のピッチが所定のピッチでないとき異
常であることを通報することの少なくとも１つを行うこ
とを特徴とする。すなわち、請求項１１の構成では、ビ
ームウエスト位置を検出できない場合は、シリンドリカ
ルレンズを元の位置まで移動させ、異常であることを通
報するか、もしくは、ピッチ調整後のピッチが所定のピ
ッチでないとき異常であることを通報することの少なく
とも１つを行うことにより、制御系に異常が起こった場
合、ビーム径やビームピッチが設定値よりずれたまま出
力を続けることを防止することが可能となる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の構成、動作を図示
の実施例に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の一
実施例を示す光走査装置の構成説明図であり、例えばデ
ジタル複写機、レーザープリンタ、レーザーファクシミ
リ、レーザープロッタ等の画像形成装置の書き込み光学
系として用いられる光走査装置の例である。従って、こ
こでは被走査面１３ａは光導電性感光体１３の感光面で
ある。図１に示す光走査装置は、単数もしくは複数の光
ビームを出射する光源ユニット（ＬＤＵ）１と、光源ユ
ニット１から出射した単数もしくは複数の光ビームを偏
向して被走査面１３ａ上に集光し主走査方向に走査する
走査光学系（ポリゴンミラー４、ｆθレンズ５、折り返
しミラー６、トロイダルレンズ７などから構成される）
と、該走査光学系により走査される単数もしくは複数の
光ビームを検出する光ビーム検出部８と、光ビーム検出
部８からのビーム検出信号に基づいて主走査方向および
副走査方向のビーム径を計測するビーム径計測部９と、
光ビーム検出部８からのビーム検出信号に基づいて複数
の光ビームの副走査方向のピッチを計測する副走査ピッ
チ計測部１１と、被走査面１３ａ上の主走査方向および
副走査方向のビーム径を制御するビーム径制御部１０
と、副走査方向のピッチを制御するピッチ制御部１２を
具備しており、さらに、光源ユニット１とポリゴンミラ
ー４の間の光路には、副走査方向、主走査方向のビーム
径を調整するための副シリンドリカルレンズ２と主シリ
ンドリカルレンズ３が光軸方向に移動可能に配設されて
いる。ここで、上記の構成において、主走査方向とは光
偏向器であるポリゴンミラー４の回転によって光ビーム
が偏向走査される方向であり、感光体１３の被走査面
（感光面）１３ａ上では、図中のＡ方向が主走査方向で
ある。また、副走査方向は、被走査面１３ａ上で主走査
方向と光軸に直交する方向であり、光走査装置による書
き込み時には、被走査面（感光面）１３ａは副走査方向
に移動される。尚、図１は請求項２に対応した構成であ
るが、光源ユニット１を１ビーム構成とし、副走査ピッ
チ計測部１１とピッチ制御部１２を省いた構成とすると
請求項１に対応した光走査装置となり、その他の構成は
同じであるので、ここでは、請求項２の構成を基本構成
とした光走査装置の実施例について説明する。

【００１８】図１において、光源ユニット１内には複数
の発光部（例えば４つの半導体レーザ（ＬＤ））を有す
る半導体レーザーアレイ（ＬＤＡ）が搭載されており、
また、必要に応じてコリメートレンズ等のカップリング
光学系が搭載されている。このＬＤＡを搭載した光源ユ
ニット１から照射された４つの光（レーザー）ビーム
は、副シリンダレンズ２および主シリンダレンズ３を通
過し、図示しないポリゴンモーターにより高速回転され
るポリゴンミラー４にて偏向され、ｆθレンズ５、折り
返しミラー６、トロイダルレンズ７により感光体１３の
被走査面（感光面）１３ａ上に結像されると共に主走査
方向（図中のＡ方向）に走査され、副走査方向に隣接し
た４ラインの光ビームにより一括記録が行われる。ま
た、走査される光ビームは、折り返しミラー６の近傍の
記録領域外に配設された光ビーム検出用ミラー６１で折
り返され、被走査面１３ａ上の結像位置と光学的に同値
な位置に置かれた光ビーム検出部８上を走査する。

【００１９】上記のように、副走査方向に所定のピッチ
で配列した４つの光ビームは、感光体１３の被走査面１
３ａ上を主走査方向に一括走査して、一回の走査で副走
査方向４ラインの記録を行う。この際、４つの半導体レ
ーザ（ＬＤ）からの光ビームのビーム径および副走査方
向のピッチは当初所定の値に設定されているが、温度等
の環境の変化により、各ＬＤのビーム径および副走査方
向のピッチが変動することがある。そこで、光ビーム検
出部８からの、各ＬＤの光ビーム検出信号パルスに基づ
いて、ビーム径計測部９にてビーム径計測を行い、ビー
ム径制御部１０にて主走査方向のビーム径を主に制御す
る主シリンドリカルレンズ３および、副走査方向のビー
ム径を制御する副シリンドリカルレンズ２を、図示しな
いパルスモータ（ＰＭ）等の駆動手段にて光軸方向に移
動させ、ビーム径を制御する。さらに、光ビーム検出部
８からの、各ＬＤの光ビーム検出信号パルスに基づい
て、副走査ピッチ検出部１１にて副走査方向の間隔を計
測し、所定のピッチ間隔とのずれが生じている場合、そ
のずれ量をピッチ制御部１２に入力してピッチを補正す
る。例えば、ずれ量をパルスに換算し、図示しないパル
スモータ等の駆動手段により光源ユニット１および、副
シリンドリカルレンズ２を移動させることにより、副走
査方向のピッチのずれを補正する。

【００２０】次にビーム径計測とビーム径の制御およ
び、副走査ピッチ計測とピッチ制御の具体例について説
明する。図２は光ビーム検出部を構成するビーム検知器
とその検出信号の一例を示す図である。この例では、図
２（ａ）に示すように、ビーム検知器８を受光部が直角
三角形状の１つのセンサー（例えばフォトダイオード
（ＰＤ））８１で構成し、そのセンサー８１の辺縁が副
走査方向と平行な辺８１ａと、非平行な辺８１ｂとを具
備する構成としたものである（請求項３，４）。尚、図
２（ａ）では、ビーム検知器８の受光部は白抜きの直角
三角形状となっているが、これは方形状のフォトダイオ
ード（ＰＤ）にハッチング領域のような形状の遮光板を
用いてマスクするような形態としてもよいし、また、白
抜きの直角三角形状をしたフォトダイオードを用いても
よい。

【００２１】図２（ａ）に示すような受光部形状の１つ
のセンサー８１からなるビーム検知器８をＬＤからの光
ビームが主走査方向（図中の矢印方向）に通過した場
合、ビーム検知器８による検出信号は図２（ｂ）のよう
になる。ここで、ビーム径計測部９におけるビーム径計
測の一例としては、ビーム検知器８からのビーム検出信
号を時間微分し、微分した信号のピーク値Ｐ１，Ｐ２を
計測することにより、ビーム径と対応させることができ
る（請求項６）。また、ビーム径計測部９におけるビー
ム径計測の別の例としては、ビーム検知器８からのビー
ム検出信号を時間微分し、微分した信号の或る閾値以上
の時間Ｔ１，Ｔ２を計測することにより、ビーム径と対
応させることができる（請求項７）。

【００２２】尚、図２（ｃ）は（ｂ）のビーム検出信号
を時間微分した微分波形を示しており、Ｐ１とＴ１は、
光ビームがビーム検知器８の副走査方向と平行な辺８ａ
を通過した部分で得られる信号であり、Ｐ２とＴ２は光
ビームがビーム検知器８の副走査方向と非平行な辺８ｂ
を通過した部分で得られる信号である。従って、Ｐ１，
Ｐ２、またはＴ１，Ｔ２の計測値と、光ビームの主・副
走査方向のビーム径との関係を予め対応づけておくこと
により、Ｐ１，Ｐ２、またはＴ１，Ｔ２の計測値から主
・副走査方向のビーム径を容易に計測することができ
る。

【００２３】ここで、図２（ｃ）の微分波形のピーク値
Ｐ１，Ｐ２を得るための回路の一例を図３に、或る閾値
以上の時間Ｔ１，Ｔ２を得るための回路の一例を図４示
す。図３に示すＰ１，Ｐ２を得るための回路は、ビーム
検知器８からの信号を増幅する増幅器（ＡＭＰ）９１
と、増幅された検出信号を時間微分する微分器９２と、
微分器９２からの信号を反転増幅する反転増幅器９３
と、微分器９２からの信号と反転増幅器９３からの信号
を切り換えるスイッチング回路９４と、微分後の信号
（またはその反転信号）のピーク値を検出するピークホ
ールド回路９５と、ピーク値の信号をＡ−Ｄ変換するＡ
−Ｄコンバータ（ＡＤＣ）９６などで構成されている。
また、図４に示すＴ１，Ｔ２を得るための回路は、ビー
ム検知器８からの信号を増幅する増幅器（ＡＭＰ）９１
と、増幅された検出信号を時間微分する微分器９２と、
微分器９２からの信号を反転増幅する反転増幅器９３
と、微分器９２からの信号と反転増幅器９３からの信号
を切り換えるスイッチング回路９４と、微分後の信号
（またはその反転信号）を或る閾値と比較しその閾値以
上の信号を出力するコンパレータ９７と、その閾値以上
の信号の時間を計測するカウンター９８などで構成され
ている。

【００２４】次に図５は光ビーム検出部を構成するビー
ム検知器とその検出信号の別の例を示す図である。この
例では、図５（ａ）に示すように、ビーム検知器８を長
方形状の２つのセンサー（例えば２つのフォトダイオー
ド（ＰＤ１、ＰＤ２））８２，８３で構成し、その２つ
のセンサーのうち、一方のセンサー（ＰＤ１）８２の辺
縁が副走査方向と平行な辺を具備するように配置し、他
方のセンサー（ＰＤ２）の辺縁が副走査方向と非平行な
辺を具備するように配置した構成としたものである。

【００２５】図５（ａ）に示すような配置構成の２つの
センサー８２，８３からなるビーム検知器８をＬＤから
の光ビームが主走査方向（図中の矢印方向）に通過した
場合、ビーム検知器８による検出信号は図５（ｂ）のよ
うになる。ここで、ビーム径計測部９におけるビーム径
計測の一例としては、ビーム検知器８の２つのセンサー
（ＰＤ１，ＰＤ２）８２，８３からのビーム検出信号を
それぞれ時間微分し、微分した信号のピーク値Ｐ１，Ｐ
２を計測することにより、ビーム径と対応させることが
できる（請求項６）。また、ビーム径計測部９における
ビーム径計測の別の例としては、ビーム検知器８の２つ
のセンサー（ＰＤ１，ＰＤ２）８２，８３からのビーム
検出信号をそれぞれ時間微分し、微分した信号の或る閾
値以上の時間Ｔ１，Ｔ２を計測することにより、ビーム
径と対応させることができる（請求項７）。

【００２６】尚、図５（ｃ）は（ｂ）の２つのセンサー
（ＰＤ１，ＰＤ２）８２，８３からのビーム検出信号を
時間微分した微分波形を示しており、Ｐ１とＴ１は、光
ビームがビーム検知器８の副走査方向と平行な辺を有す
るセンサー（ＰＤ１）８２を通過した際に得られる信号
であり、Ｐ２とＴ２は光ビームがビーム検知器８の副走
査方向と非平行な辺を有するセンサー（ＰＤ２）８３を
通過した際に得られる信号である。従って、Ｐ１，Ｐ
２、またはＴ１，Ｔ２の計測値と、光ビームの主・副走
査方向のビーム径との関係を予め対応づけておくことに
より、Ｐ１，Ｐ２、またはＴ１，Ｔ２の計測値からビー
ム径を容易に計測することができる。

【００２７】ここで、図５（ｃ）の微分波形のピーク値
Ｐ１，Ｐ２を得るための回路の一例を図６に、図５
（ｂ）のＰＤ１ビーム検出信号とＰＤ２ビーム検出信号
の時間差（ＴＰＤ）を得るための回路の一例を図７に、
図５（ｃ）の或る閾値以上の時間Ｔ１，Ｔ２を得るため
の回路の一例を図８に示す。図６に示すＰ１，Ｐ２を得
るための回路は、ビーム検知器８からの信号を増幅する
増幅器（ＡＭＰ）９１と、増幅された検出信号を時間微
分する微分器９２と、微分後の信号のピーク値を検出す
るピークホールド回路９５と、ピーク値の信号をＡ−Ｄ
変換するＡ−Ｄコンバータ（ＡＤＣ）９６などで構成さ
れている。また、図７に示すＴＰＤを得るための回路
は、ビーム検知器８からの信号を増幅する増幅器（ＡＭ
Ｐ）９１と、増幅後の検出信号を或る閾値と比較しその
閾値以上の信号を出力するコンパレータ９７と、その閾
値以上の信号の時間を計測するカウンター９８などで構
成されている。また、図８に示すＴ１，Ｔ２を得るため
の回路は、ビーム検知器８からの信号を増幅する増幅器
（ＡＭＰ）９１と、増幅された検出信号を時間微分する
微分器９２と、微分後の信号を或る閾値と比較しその閾
値以上の信号を出力するコンパレータ９７と、その閾値
以上の信号の時間を計測するカウンター９８などで構成
されている。これらの回路図から判るように、図５
（ａ）のように光ビーム検知器８を２つのセンサーで構
成することにより、簡便な回路でビーム径を計測するこ
とができる。

【００２８】次に図２（ａ）に示す構成のビーム検知器
を用いて副走査方向のピッチを計測する場合、図２
（ｂ）のビーム検出信号におけるＴＰは、光ビームがビ
ーム検知器８の副走査方向と平行な辺８ａを通過してか
ら、ビーム検知器８の副走査方向と非平行な辺８ｂを通
過するまでの時間であり、複数の光ビームが副走査方向
に所定のピッチで配列されて主走査方向に走査される場
合、ＴＰの値は各光ビームのセンサー通過位置によって
異なるので、半導体レーザアレイ（ＬＤＡ）の各半導体
レーザを個別に点灯し、副走査ピッチ計測部１１でそれ
ぞれのＴＰを計測して比較することにより、副走査ピッ
チを計測することができる。また、複数の光ビーム（例
えば４つの光ビーム）の全体のピッチ変動を計測する場
合、図９に示すようにＬＤ１とＬＤ４を点灯して光ビー
ムを走査し、ビーム検知器８のセンサー８１により信号
を検出すると図９（ｂ）のような検出信号が得られるの
で、これを図４と同様の回路で時間微分することによ
り、図９（ｃ）の微分波形が得られる。そしてこの信号
をコンパレータを通すことにより、図９（ｄ）のような
出力信号が得られる。この図９（ｄ）の出力信号から、
ＬＤ１の光ビームがセンサー８１の副走査方向に非平行
な辺８１ｂを通過してから、ＬＤ４の光ビームがセンサ
ー８１の副走査方向に非平行な辺８１ｂを通過するまで
の時間差Ｔ１が得られる。ここで、センサー８１の副走
査方向に非平行な辺８１ｂの傾斜角と、光ビームの走査
速度は所定の値に設定されているので、図９（ｄ）のＴ
１の計測値から、ＬＤ１の光ビームとＬＤ４の光ビーム
の副走査方向のピッチ間隔Ｐ１を計測することができ
る。

【００２９】次に図５（ａ）に示す構成のビーム検知器
を用いて副走査方向のピッチを計測する場合、図５
（ｂ）のビーム検出信号におけるＴＰＤは、光ビームが
ビーム検知器８の副走査方向と平行な辺を有するセンサ
ー（ＰＤ１）８２を通過してから、ビーム検知器８の副
走査方向と非平行な辺を有するセンサー（ＰＤ２）８３
を通過するまでの時間であり、複数の光ビームが副走査
方向に所定のピッチで配列されて主走査方向に走査され
る場合、ＴＰＤの値は各光ビームのセンサー通過位置に
よって異なるので、半導体レーザアレイ（ＬＤＡ）の各
半導体レーザを個別に点灯し、副走査ピッチ計測部１１
でそれぞれのＴＰＤを計測して比較することにより、副
走査ピッチを計測することができる。また、複数の光ビ
ーム（例えば４つの光ビーム）の全体のピッチ変動を計
測する場合、副走査方向に非平行な辺を有する側のセン
サー８３のみを用いて計測することができる。この場
合、図１０（ａ）に示すようにＬＤ１とＬＤ４を点灯し
て光ビームを走査し、ビーム検知器８のセンサー８３に
より信号を検出すると、図１０（ｂ）のような検出信号
が得られる。また、このビーム検出信号を積分器で積分
することにより、図１０（ｃ）に示すような信号が得ら
れる。ここで、Ｔ２とＴ０の差、あるいはＶ２とＶ０の
差がＬＤ１の光ビームとＬＤ４の光ビームの副走査方向
のピッチ間隔Ｐ２に対応しているので、これらの関係を
予め求めておくことにより、ＬＤ１とＬＤ４の光ビーム
の副走査方向のピッチを計測することができる。

【００３０】次に本発明の光走査装置においては、上記
のビーム径の計測の後、主走査方向および副走査方向の
ビーム径制御部１０は、主走査方向、副走査方向のビー
ム径をそれぞれ調整する主シリンドリカルレンズ３と副
シリンドリカルレンズ２を配し、それぞれのシリンドリ
カルレンズを光軸方向に移動させてビーム径を制御する
（請求項８）。その際、シリンドリカルレンズ２，３を
所定の位置（初期位置）から順次移動させて、ビーム径
計測部９にてビーム径計測を行い、得られた一連の計測
値からビームが最大に絞り込まれている位置（ビームウ
エスト位置）を検出する（請求項９）。ここで、図１１
は、シリンドリカルレンズをパルスモーター等で初期位
置から順次移動させ、ビーム径計測部９にてビーム径計
測を行い、得られた一連の計測値からビームウエスト位
置を検出し、その検出した位置にシリンドリカルレンズ
を移動する方法の一例を示している。

【００３１】次に図１２は、ビーム径およびビームピッ
チの制御方法を示すフローチャートである。図１に示す
構成の光走査装置において、ビーム径およびビームピッ
チの具体的な制御方法としては、図１１、図１２に示す
ように、まず、パルスモータ（ＰＭ）等の駆動手段（図
示せず）により主シリンドリカルレンズ３を所定の位置
（初期位置）から順次移動させて、前述したビーム径計
測部９にてビーム径計測を行い、得られた一連の計測値
からビームが最大に絞り込まれている位置（ビームウエ
スト位置）を検出する（Ｓ１）。そして、主走査方向の
ビームウエスト位置を検出した後、その検出した位置へ
の主シリンドリカルレンズ（ＣＹＬ）３の移動量を演算
し（Ｓ２）、その演算した移動量だけパルスモータ（Ｐ
Ｍ）等の駆動手段（図示せず）を駆動して主走査方向の
ビームウエスト位置へ主シリンドリカルレンズ３を移動
させる（Ｓ３）。次にパルスモータ（ＰＭ）等の駆動手
段（図示せず）により副シリンドリカルレンズ２を所定
の位置（初期位置）から順次移動させて、ビーム径計測
部９にてビーム径計測を行い、得られた一連の計測値か
らビームが最大に絞り込まれている位置（ビームウエス
ト位置）を検出する（Ｓ４）。そして、副走査方向のビ
ームウエスト位置を検出した後、その検出した位置への
副シリンドリカルレンズ（ＣＹＬ）２の移動量を演算し
（Ｓ５）、その演算した移動量だけパルスモータ（Ｐ
Ｍ）等の駆動手段（図示せず）を駆動して副走査方向の
ビームウエスト位置へ副シリンドリカルレンズ２を移動
させる（Ｓ６）。次に前述した副走査ピッチ計測部１１
によりビームピッチを検出し（Ｓ７）、適正なビームピ
ッチとなるように光源ユニット（ＬＤＵ）１の移動量を
演算し（Ｓ８）、その演算した移動量だけパルスモータ
（ＰＭ）等の駆動手段（図示せず）を駆動して光源ユニ
ット（ＬＤＵ）１と副シリンドリカルレンズ２を同じ距
離だけ移動させる（請求項１０）。これらの制御によ
り、簡便に主・副走査方向のビーム径と、副走査方向の
ビームピッチを調整することができ、環境変動があって
も安定して良好なビーム径およびビームピッチを得るこ
とができる。

【００３２】ところで、図１２に示すような制御方法に
おいては、制御系に何らかの異常が生じた場合、ビーム
径やビームピッチが設定値よりずれたまま出力を続けて
しまうことがある。そこで、このような異常事態を回避
するため、図１２の制御に加えて、主走査方向あるいは
副走査方向のビームウエスト位置を検出できない場合
は、主走査方向あるいは副走査方向のシリンドリカルレ
ンズを元の位置まで移動させ、異常であることを通報す
るか、もしくは、ピッチ調整後のピッチが所定のピッチ
でないとき異常であることを通報することの少なくとも
１つを行うようにするとよい（請求項１１）。

【００３３】ここで、図１３はエラー通報の機能を含め
たビーム径およびビームピッチの制御方法を示すフロー
チャートである。図１３の制御では、まず、パルスモー
タ（ＰＭ）等の駆動手段（図示せず）により主シリンド
リカルレンズ３を所定の位置（初期位置）から順次移動
させて、前述したビーム径計測部９にてビーム径計測を
行い、得られた一連の計測値からビームが最大に絞り込
まれている位置（ビームウエスト位置）を検出する（Ｔ
１）。そして、主走査方向のビームウエスト位置を検出
できた場合は（Ｔ２）、その検出した位置への主シリン
ドリカルレンズ（ＣＹＬ）３の移動量を演算し（Ｔ
３）、その演算した移動量だけパルスモータ（ＰＭ）等
の駆動手段（図示せず）を駆動して主走査方向のビーム
ウエスト位置へ主シリンドリカルレンズ３を移動させる
（Ｔ４）。次にパルスモータ（ＰＭ）等の駆動手段（図
示せず）により副シリンドリカルレンズ２を所定の位置
（初期位置）から順次移動させて、ビーム径計測部９に
てビーム径計測を行い、得られた一連の計測値からビー
ムが最大に絞り込まれている位置（ビームウエスト位
置）を検出する（Ｔ５）。そして、副走査方向のビーム
ウエスト位置を検出できた場合は（Ｔ６）、その検出し
た位置への副シリンドリカルレンズ（ＣＹＬ）２の移動
量を演算し（Ｔ７）、その演算した移動量だけパルスモ
ータ（ＰＭ）等の駆動手段（図示せず）を駆動して副走
査方向のビームウエスト位置へ副シリンドリカルレンズ
２を移動させる（Ｔ８）。次に前述した副走査ピッチ計
測部１１によりビームピッチを検出し（Ｔ９）、適正な
ビームピッチとなるように光源ユニット（ＬＤＵ）１の
移動量を演算し（Ｔ１０）、その演算した移動量だけパ
ルスモータ（ＰＭ）等の駆動手段（図示せず）を駆動し
て光源ユニット（ＬＤＵ）１と副シリンドリカルレンズ
２を同じ距離だけ移動させる（Ｔ１１）。

【００３４】このＴ１〜Ｔ１１の一連の制御の過程で、
主走査方向のビームウエスト位置検出を行った際に（Ｔ
１）、主走査方向のビームウエスト位置を検出できない
場合は（Ｔ２）、パルスモータ（ＰＭ）等の駆動手段
（図示せず）を駆動して主シリンドリカルレンズ（ＣＹ
Ｌ）３を元の位置（初期位置）まで移動させ（Ｔ１
４）、異常であることを通報し（Ｔ１６）、制御を終了
する。同様に、副走査方向のビームウエスト位置検出を
行った際に（Ｔ５）、副走査方向のビームウエスト位置
を検出できない場合は（Ｔ６）、パルスモータ（ＰＭ）
等の駆動手段（図示せず）を駆動して副シリンドリカル
レンズ（ＣＹＬ）２を元の位置（初期位置）まで移動さ
せ（Ｔ１５）、異常であることを通報し（Ｔ１６）、制
御を終了する。また、Ｔ１〜Ｔ１１の一連の制御を行っ
た後、再度、副走査ピッチ計測部１１によりビームピッ
チが検出されるが（Ｔ１２）、このビームピッチの検出
値を設定値と比較し（Ｔ１３）、検出値が設定値からず
れていない場合は適正な制御が行われたとして制御を終
了するが、ビームピッチの検出値が設定値からずれてい
る場合は、異常であることを通報し（Ｔ１６）、制御を
終了する。尚、上記のエラー通報（Ｔ１６）は、例えば
画像形成装置の操作部に設けられた表示装置などにより
行われる。

【００３５】以上のように、図１３に示す制御方法で
は、主走査方向あるいは副走査方向のビームウエスト位
置を検出できない場合は、主シリンドリカルレンズ３あ
るいは副シリンドリカルレンズ２を元の位置まで移動さ
せ、異常であることを通報し、ピッチ調整後のビームピ
ッチが所定のピッチでないときにも異常であることを通
報するので、制御系９〜１２に異常が起こった場合に
も、ビーム径やビームピッチが設定値よりずれたまま出
力を続けることを防止することができる。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の光
走査装置においては、光ビームを検出し、そのビーム検
出信号に基づいて主走査および副走査方向のビーム径を
計測して、主走査方向および副走査方向のビーム径を制
御することにより、安定で良好なビームスポットを得る
ことができる。

【００３７】請求項２記載の光走査装置においては、複
数の光ビームを一括走査させ、その複数の光ビームを検
出し、そのビーム検出信号に基づいて主走査および副走
査方向のビーム径を計測して、主走査方向および副走査
方向のビーム径を制御するとともに、ビーム検出信号に
基づいてビームピッチを計測し、所定のピッチとなるよ
うにピッチを制御することにより、安定で良好なビーム
スポットとピッチを得ることができる。

【００３８】請求項３記載の光走査装置においては、請
求項１または請求項２の構成に加えて、光ビーム検出
に、検出部の辺縁が副走査方向と平行な辺と、非平行な
辺とを使うことにより、主走査方向、副走査方向のビー
ム径を計測することができる。また、請求項４記載の光
走査装置においては、請求項１または請求項２または請
求項３の構成に加えて、光ビームの検出に一つのセンサ
ーを使うことにより、精度良くビーム径を計測すること
ができる。また、請求項５記載の光走査装置において
は、請求項１または請求項２または請求項３の構成に加
えて、光ビームの検出に二つ以上のセンサーを使うこと
により、簡便な回路でビーム径を計測することができ
る。

【００３９】請求項６記載の光走査装置においては、請
求項１〜請求項５の何れか一つの構成に加えて、ビーム
径計測は、ビーム検出信号を時間微分し、微分した信号
のピーク値を計測してビーム径と対応させることによ
り、簡便な回路で精度良くビーム径を計測することがで
きる。また、請求項７記載の光走査装置においては、請
求項１〜請求項５の何れか一つの構成に加えて、ビーム
径計測は、ビーム検出信号を時間微分し、微分した信号
の或る閾値以上の時間を計測してビーム径と対応させる
ことにより、簡便な回路でノイズの影響を少なくしてビ
ーム径を計測することができる。

【００４０】請求項８記載の光走査装置においては、請
求項１〜請求項７の何れか一つの構成に加えて、主走査
方向および副走査方向のビーム径制御に、主走査方向、
副走査方向のビーム径を調整する主シリンドリカルレン
ズと副シリンドリカルレンズを配し、それぞれのシリン
ドリカルレンズを光軸方向に移動させてビーム径を制御
することにより、簡便に主・副走査方向のビーム径を制
御することができる。また、請求項９記載の光走査装置
においては、請求項８の構成に加えて、シリンドリカル
レンズを所定の位置から順次移動させて、前記ビーム径
計測手段にてビーム径計測を行い、得られた一連の計測
値からビームが最大に絞り込まれている位置（ビームウ
エスト位置）を検出することにより、環境変動があって
も安定して良好なビーム径を得ることができる。

【００４１】請求項１０記載の光走査装置においては、
請求項９の構成に加えて、ビーム径およびビームピッチ
の制御時には、主走査方向のビームウエスト位置を検出
し、その検出した位置へ主シリンドリカルレンズを移動
させ、次に副走査方向のビームウエスト位置を検出し、
その検出した位置へ副シリンドリカルレンズを移動さ
せ、次にビームピッチを検出して適正なビームピッチと
なるように光源ユニットと副シリンドリカルレンズを同
じ距離だけ移動させることにより、環境変動があっても
安定して良好なビーム径およびビームピッチを得ること
ができる。

【００４２】請求項１１記載の光走査装置においては、
請求項９または請求項１０の構成に加えて、ビームウエ
スト位置を検出できない場合は、シリンドリカルレンズ
を元の位置まで移動させ、異常であることを通報する
か、もしくは、ピッチ調整後のピッチが所定のピッチで
ないとき異常であることを通報することの少なくとも１
つを行うことにより、制御系に異常が起こった場合に
も、ビーム径やビームピッチが設定値よりずれたまま出
力を続けることを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す光走査装置の構成説明
図である。

【図２】請求項３，４の一実施例を示す図であって、光
ビーム検出部を構成するビーム検知器とその検出信号の
一例を示す図である。

【図３】ビーム径計測部に設けられる回路の一例を示す
図であって、図２に示すＰ１，Ｐ２を得るための回路を
示すブロック図である。

【図４】ビーム径計測部に設けられる回路の別の例を示
す図であって、図２に示すＴ１，Ｔ２を得るための回路
を示すブロック図である。

【図５】請求項３，５の一実施例を示す図であって、光
ビーム検出部を構成するビーム検知器とその検出信号の
一例を示す図である。

【図６】ビーム径計測部に設けられる回路の一例を示す
図であって、図５に示すＰ１，Ｐ２を得るための回路を
示すブロック図である。

【図７】ビーム径計測部に設けられる回路の一例を示す
図であって、図５に示すＴＰＤを得るための回路を示す
ブロック図である。

【図８】ビーム径計測部に設けられる回路の一例を示す
図であって、図５に示すＴ１，Ｔ２を得るための回路を
示すブロック図である。

【図９】図２に示す構成のビーム検知器を用いて副走査
方向のビームピッチを検出する際の検出信号の一例を示
す図である。

【図１０】図５に示す構成のビーム検知器を用いて副走
査方向のビームピッチを検出する際の検出信号の一例を
示す図である。

【図１１】請求項９の一実施例を示す図であり、ビーム
ウエスト位置を検出し、その検出した位置にシリンドリ
カルレンズを移動する方法の説明図である。

【図１２】請求項１０の一実施例を示す図であり、ビー
ム径およびビームピッチの制御方法を示すフローチャー
トである。

【図１３】請求項１１の一実施例を示す図であり、エラ
ー通報の機能を含めたビーム径およびビームピッチの制
御方法を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１ 光源ユニット（ＬＤＵ） ２ 副シリンドリカルレンズ ３ 主シリンドリカルレンズ ４ ポリゴンミラー（光偏向器） ５ ｆθレンズ ６ 折り返しミラー ７ トロイダルレンズ ８ 光ビーム検出部（ビーム検知器） ９ ビーム径計測部 １０ ビーム径制御部 １１ 副走査ピッチ計測部 １２ ピッチ制御部 １３ 感光体 １３ａ 被走査面（感光面） ６１ 光ビーム検出用ミラー ８１ 副走査方向と平行な辺と非平行な辺とを具備す
るセンサー（ＰＤ） ８２ 副走査方向と平行な辺を有するセンサー（ＰＤ
１） ８３ 副走査方向と非平行な辺を有するセンサー（Ｐ
Ｄ２） ９１ 増幅器（ＡＭＰ） ９２ 微分器 ９３ 反転増幅器 ９４ スイッチング回路 ９５ ピークホールド回路 ９６ Ａ−Ｄコンバータ ９７ コンパレータ ９８ カウンター

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA20 AA26 AA28 AA29 AA35 AA47 AA48 BA57 BA58 BA67 BA71 BA86 DA03 EA04 2H045 AA01 BA02 BA22 BA33 CA88 CB22 DA04 DA41 5C072 AA03 CA06 DA02 HA02 HA06 HA13 HB10 RA12 TA05 XA01 XA05

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光ビームを出射する光源ユニットと、該光
   源ユニットから出射した光ビームを偏向して被走査面上
   に集光し主走査方向に走査する走査光学系と、該走査光
   学系により走査される光ビームを検出する光ビーム検出
   手段と、該光ビーム検出手段からのビーム検出信号に基
   づいて主走査方向および副走査方向のビーム径を計測す
   るビーム径計測手段と、前記被走査面上の主走査方向お
   よび副走査方向のビーム径を制御するビーム径制御手段
   を具備することを特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】複数の光ビームを出射する光源ユニット
   と、該光源ユニットから出射した複数の光ビームを偏向
   して被走査面上に集光し主走査方向に走査する走査光学
   系と、該走査光学系により走査される複数の光ビームを
   検出する光ビーム検出手段と、該光ビーム検出手段から
   のビーム検出信号に基づいて主走査方向および副走査方
   向のビーム径を計測するビーム径計測手段と、前記光ビ
   ーム検出手段からのビーム検出信号に基づいて複数の光
   ビームの副走査方向のピッチを計測する副走査ピッチ計
   測手段と、前記被走査面上の主走査方向および副走査方
   向のビーム径を制御するビーム径制御手段と、副走査方
   向のピッチを制御するピッチ制御手段を具備することを
   特徴とする光走査装置。
3. 【請求項３】請求項１または請求項２記載の光走査装置
   において、 前記光ビーム検出手段は、検出部の辺縁が副走査方向と
   平行な辺と、非平行な辺とを具備することを特徴とする
   光走査装置。
4. 【請求項４】請求項１または請求項２または請求項３記
   載の光走査装置において、 前記光ビーム検出手段の検出部を一つのセンサーで構成
   したことを特徴とする光走査装置。
5. 【請求項５】請求項１または請求項２または請求項３記
   載の光走査装置において、 前記光ビーム検出手段の検出部を二つ以上のセンサーで
   構成したことを特徴とする光走査装置。
6. 【請求項６】請求項１〜請求項５の何れか一つに記載の
   光走査装置において、 前記ビーム径計測手段におけるビーム径計測は、前記光
   ビーム検出手段からのビーム検出信号を時間微分し、微
   分した信号のピーク値を計測してビーム径と対応させる
   ことを特徴とする光走査装置。
7. 【請求項７】請求項１〜請求項５の何れか一つに記載の
   光走査装置において、 前記ビーム径計測手段におけるビーム径計測は、前記光
   ビーム検出手段からのビーム検出信号を時間微分し、微
   分した信号の或る閾値以上の時間を計測してビーム径と
   対応させることを特徴とする光走査装置。
8. 【請求項８】請求項１〜請求項７の何れか一つに記載の
   光走査装置において、 前記主走査方向および副走査方向のビーム径制御手段
   は、主走査方向、副走査方向のビーム径をそれぞれ調整
   する主シリンドリカルレンズと副シリンドリカルレンズ
   を配し、それぞれのシリンドリカルレンズを光軸方向に
   移動させてビーム径を制御することを特徴とする光走査
   装置。
9. 【請求項９】請求項８記載の光走査装置において、 前記シリンドリカルレンズを所定の位置から順次移動さ
   せて、前記ビーム径計測手段にてビーム径計測を行い、
   得られた一連の計測値からビームが最大に絞り込まれて
   いる位置（ビームウエスト位置）を検出することを特徴
   とする光走査装置。
10. 【請求項１０】請求項９記載の光走査装置において、 装置構成を請求項２に記載の複数の光ビームを出射する
    光源ユニット、走査光学系、光ビーム検出手段、ビーム
    径計測手段、副走査ピッチ計測手段、ビーム径制御手
    段、ピッチ制御手段を具備した構成とし、 ビーム径およびビームピッチの制御時には、主走査方向
    のビームウエスト位置を検出し、その検出した位置へ主
    シリンドリカルレンズを移動させ、次に副走査方向のビ
    ームウエスト位置を検出し、その検出した位置へ副シリ
    ンドリカルレンズを移動させ、次にビームピッチを検出
    して適正なビームピッチとなるように光源ユニットと副
    シリンドリカルレンズを同じ距離だけ移動させることを
    特徴とする光走査装置。
11. 【請求項１１】請求項９または請求項１０記載の光走査
    装置において、 ビームウエスト位置を検出できない場合は、シリンドリ
    カルレンズを元の位置まで移動させ、異常であることを
    通報するか、もしくは、ピッチ調整後のピッチが所定の
    ピッチでないとき異常であることを通報することの少な
    くとも１つを行うことを特徴とする光走査装置。