JPH09226174A - マルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査装置Info
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- JPH09226174A JPH09226174A JP8061647A JP6164796A JPH09226174A JP H09226174 A JPH09226174 A JP H09226174A JP 8061647 A JP8061647 A JP 8061647A JP 6164796 A JP6164796 A JP 6164796A JP H09226174 A JPH09226174 A JP H09226174A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビーム間のピッチを正確に制御することが出
来るマルチビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 このマルチビーム走査装置１００では，
感光体ドラム３１０の非記録領域にＰＳＤ３１１を配置
し，当該ＰＳＤ３１１でビーム位置を直接検出する。続
いて，この直接検出したビーム位置から，ビーム間の正
確なビーム間のピッチを算出し，当該正確なビーム間の
ピッチを基準として，所望の記録密度に対応するビーム
間のピッチに変更する。これにより，ビーム間のピッチ
を正確に制御する。
来るマルチビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 このマルチビーム走査装置１００では，
感光体ドラム３１０の非記録領域にＰＳＤ３１１を配置
し，当該ＰＳＤ３１１でビーム位置を直接検出する。続
いて，この直接検出したビーム位置から，ビーム間の正
確なビーム間のピッチを算出し，当該正確なビーム間の
ピッチを基準として，所望の記録密度に対応するビーム
間のピッチに変更する。これにより，ビーム間のピッチ
を正確に制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマルチビーム走査装
置に関し，より詳細には，レーザプリンタ，デジタル複
写機などにおいて情報を高速に記録するために用いるマ
ルチビーム走査装置に関する。
置に関し，より詳細には，レーザプリンタ，デジタル複
写機などにおいて情報を高速に記録するために用いるマ
ルチビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の光走査装置では，感光体上を１本
の光ビームで走査するのが一般的であったが，現在で
は，１本の光ビームで走査する場合よりも記録速度を速
くするために複数の光ビーム（以下「マルチビーム」と
いう）を同時に走査させるマルチビーム走査装置が実用
化されている。
の光ビームで走査するのが一般的であったが，現在で
は，１本の光ビームで走査する場合よりも記録速度を速
くするために複数の光ビーム（以下「マルチビーム」と
いう）を同時に走査させるマルチビーム走査装置が実用
化されている。
【０００３】このマルチビーム走査装置は，１台でレー
ザプリンタ，複写機，ファクシミリなどの諸機能を合わ
せ持つディジタル複写機，多機能レーザプリンタなどに
広く使用されている。
ザプリンタ，複写機，ファクシミリなどの諸機能を合わ
せ持つディジタル複写機，多機能レーザプリンタなどに
広く使用されている。
【０００４】一方，前記ディジタル複写機などにおいて
前記諸機能を効率良く使い分けるには，画像出力の高速
化を図るべく，入力データに応じて解像度を切り換える
必要がある。すなわち，必要に応じてマルチビームのビ
ーム間のピッチを変更する必要があるのである。ビーム
間のピッチが小さければ情報の記録密度は高まるが画像
出力は遅くなり，ピッチが大きければ記録密度は低くな
るが画像出力は速くなる。
前記諸機能を効率良く使い分けるには，画像出力の高速
化を図るべく，入力データに応じて解像度を切り換える
必要がある。すなわち，必要に応じてマルチビームのビ
ーム間のピッチを変更する必要があるのである。ビーム
間のピッチが小さければ情報の記録密度は高まるが画像
出力は遅くなり，ピッチが大きければ記録密度は低くな
るが画像出力は速くなる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで，上記従来の
マルチビーム走査装置では，ビーム間のピッチを変更す
る際，マルチビームを出射するマルチビーム光源装置
を，前記マルチビームの光軸を中心に回動させるのが一
般的である。
マルチビーム走査装置では，ビーム間のピッチを変更す
る際，マルチビームを出射するマルチビーム光源装置
を，前記マルチビームの光軸を中心に回動させるのが一
般的である。
【０００６】また，かかる従来技術としては特開昭５６
−４２２４８号公報に記載のマルチビーム走査装置が知
られている。
−４２２４８号公報に記載のマルチビーム走査装置が知
られている。
【０００７】しかし，マルチビーム光源装置の回動を，
当該マルチビーム光源装置を駆動するパルスモータのパ
ルス数により検出しているので，前記回動を正確に捉え
るのが困難である。前記回動が正確に捉えられないと，
当該回動に比例して変化するビーム間のピッチを正確に
制御するのが困難になるといった問題点がある。
当該マルチビーム光源装置を駆動するパルスモータのパ
ルス数により検出しているので，前記回動を正確に捉え
るのが困難である。前記回動が正確に捉えられないと，
当該回動に比例して変化するビーム間のピッチを正確に
制御するのが困難になるといった問題点がある。
【０００８】そこで，本発明は上記に鑑みてなされたも
のであって，ビーム間のピッチを正確に制御することが
出来るマルチビーム走査装置を提供することを目的とす
る。
のであって，ビーム間のピッチを正確に制御することが
出来るマルチビーム走査装置を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに，請求項１では，マルチビームを出射するマルチビ
ーム光源と，前記マルチビーム光源を光軸中心に回動さ
せるマルチビーム光源回動手段とを有し，記録領域上に
前記マルチビームを走査して情報の記録を行うマルチビ
ーム走査装置において，前記記録領域外に設けられ，か
つ，ビーム位置を検出するビーム位置検出手段と，前記
ビーム位置検出手段により検出したビーム位置に基づき
前記マルチビーム光源回動手段を回動させて，ビーム間
のピッチを変化させるビームピッチ可変手段と，を具備
することを特徴とするマルチビーム走査装置を提供す
る。
めに，請求項１では，マルチビームを出射するマルチビ
ーム光源と，前記マルチビーム光源を光軸中心に回動さ
せるマルチビーム光源回動手段とを有し，記録領域上に
前記マルチビームを走査して情報の記録を行うマルチビ
ーム走査装置において，前記記録領域外に設けられ，か
つ，ビーム位置を検出するビーム位置検出手段と，前記
ビーム位置検出手段により検出したビーム位置に基づき
前記マルチビーム光源回動手段を回動させて，ビーム間
のピッチを変化させるビームピッチ可変手段と，を具備
することを特徴とするマルチビーム走査装置を提供す
る。
【００１０】すなわち，前記ビーム位置検出手段で検出
したビーム位置を，前記ビームピッチ可変手段へフィー
ドバックすることで閉ループを構成したのである。ま
ず，前記ビーム位置検出手段によりビーム位置を直接検
出して，当該ビーム位置を正確に捉える。次に，当該ビ
ーム位置を基準として前記マルチビーム光源回動手段を
所定の角度回動する。この回動角度は，直接検出して得
た正確なビーム位置を基準として求める。従って，当該
回動角度より決まるビーム間のピッチは正確なものとな
る。この結果，ビーム間のピッチを正確に制御すること
が出来る。
したビーム位置を，前記ビームピッチ可変手段へフィー
ドバックすることで閉ループを構成したのである。ま
ず，前記ビーム位置検出手段によりビーム位置を直接検
出して，当該ビーム位置を正確に捉える。次に，当該ビ
ーム位置を基準として前記マルチビーム光源回動手段を
所定の角度回動する。この回動角度は，直接検出して得
た正確なビーム位置を基準として求める。従って，当該
回動角度より決まるビーム間のピッチは正確なものとな
る。この結果，ビーム間のピッチを正確に制御すること
が出来る。
【００１１】また，請求項２では，上記マルチビーム走
査装置において，前記ビーム位置検出手段は，光半導体
位置検出器であることを特徴とするマルチビーム走査装
置を提供する。 このように，前記ビーム位置検出手段
に，光半導体位置検出器（Position Sensitive Detecto
r :ＰＳＤ）を用いたのは，周知の如く，ＰＳＤがビー
ムの入射強度およびその入射強度の変化とは無関係にビ
ーム位置を検出できるからである。
査装置において，前記ビーム位置検出手段は，光半導体
位置検出器であることを特徴とするマルチビーム走査装
置を提供する。 このように，前記ビーム位置検出手段
に，光半導体位置検出器（Position Sensitive Detecto
r :ＰＳＤ）を用いたのは，周知の如く，ＰＳＤがビー
ムの入射強度およびその入射強度の変化とは無関係にビ
ーム位置を検出できるからである。
【００１２】従って，かかるＰＳＤを用いれば，環境条
件が変化してもビーム位置検出精度が一定しているの
で，上記請求項１とあいまって，ビーム間のピッチを正
確に制御することが出来る。
件が変化してもビーム位置検出精度が一定しているの
で，上記請求項１とあいまって，ビーム間のピッチを正
確に制御することが出来る。
【００１３】また，請求項３では，前記マルチビーム走
査装置（請求項２）において，マルチビームを構成する
ビームの出射を１本毎に行い，前記光半導体位置検出器
によりビーム位置をビーム１本毎に検出し，検出した各
ビーム位置の差分からビームピッチを算出し，当該ビー
ムピッチを基準としてビーム間のピッチを変化させるこ
とを特徴とするマルチビーム走査装置を提供する。
査装置（請求項２）において，マルチビームを構成する
ビームの出射を１本毎に行い，前記光半導体位置検出器
によりビーム位置をビーム１本毎に検出し，検出した各
ビーム位置の差分からビームピッチを算出し，当該ビー
ムピッチを基準としてビーム間のピッチを変化させるこ
とを特徴とするマルチビーム走査装置を提供する。
【００１４】ＰＳＤの特性として，２本のビーム位置を
同時に検出するのが困難である。そこで，ビームの検出
をビーム１本毎に行うようにし，検出したビーム位置の
差分からビームピッチを算出し，このビームピッチを基
準として前記回動角度を求めるようにした。このため，
ＰＳＤを有効活用でき，ビーム間のピッチを正確に制御
することが出来るようになる。なお，回動角度を求めた
後は，上記請求項１と同様の手法で，ビーム間のピッチ
を変化させることになる。
同時に検出するのが困難である。そこで，ビームの検出
をビーム１本毎に行うようにし，検出したビーム位置の
差分からビームピッチを算出し，このビームピッチを基
準として前記回動角度を求めるようにした。このため，
ＰＳＤを有効活用でき，ビーム間のピッチを正確に制御
することが出来るようになる。なお，回動角度を求めた
後は，上記請求項１と同様の手法で，ビーム間のピッチ
を変化させることになる。
【００１５】また，請求項４では，上記マルチビーム走
査装置において，ビーム検出位置に対するビーム位置検
出歪みが直線性となるように補正するビーム位置検出歪
み補正手段を具備することを特徴とするマルチビーム走
査装置を提供する。
査装置において，ビーム検出位置に対するビーム位置検
出歪みが直線性となるように補正するビーム位置検出歪
み補正手段を具備することを特徴とするマルチビーム走
査装置を提供する。
【００１６】マルチビームのビーム間のピッチはかなり
小さいので，ビーム検出位置に対するビーム位置検出歪
みが僅かな非直線性であっても，ビーム位置の検出精度
が劣化し，検出位置によってはビーム間のピッチ制御に
大きな悪影響を及ぼす。例えば，前記ＰＳＤにおいは，
検出位置に対する位置検出歪みが僅かな非直線性であっ
ても，ビーム間のピッチ制御に悪影響を及ぼすのであ
る。
小さいので，ビーム検出位置に対するビーム位置検出歪
みが僅かな非直線性であっても，ビーム位置の検出精度
が劣化し，検出位置によってはビーム間のピッチ制御に
大きな悪影響を及ぼす。例えば，前記ＰＳＤにおいは，
検出位置に対する位置検出歪みが僅かな非直線性であっ
ても，ビーム間のピッチ制御に悪影響を及ぼすのであ
る。
【００１７】そこで，前記ビーム位置検出歪み補正手段
により，前記ビームの検出位置に対するビーム位置検出
歪みが直線性になるように補正するようにした。このた
め，ビーム位置の検出精度が良好になり，ビーム間のピ
ッチを正確に制御することが出来るようになる。
により，前記ビームの検出位置に対するビーム位置検出
歪みが直線性になるように補正するようにした。このた
め，ビーム位置の検出精度が良好になり，ビーム間のピ
ッチを正確に制御することが出来るようになる。
【００１８】また，請求項５では，上記マルチビーム走
査装置において，前記ビーム位置検出手段からのビーム
位置信号を用いて同期検出を行うことを特徴とするマル
チビーム走査装置を提供する。
査装置において，前記ビーム位置検出手段からのビーム
位置信号を用いて同期検出を行うことを特徴とするマル
チビーム走査装置を提供する。
【００１９】前記ビーム位置検出手段は，高精度にビー
ム位置を検出しているので，当該ビーム位置検出手段の
ビーム位置信号を用いれば，同期検出の精度が向上す
る。
ム位置を検出しているので，当該ビーム位置検出手段の
ビーム位置信号を用いれば，同期検出の精度が向上す
る。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下，本発明について，図面を参
照して詳細に説明する。なお，これらの実施例により本
発明が限定されるものではない。
照して詳細に説明する。なお，これらの実施例により本
発明が限定されるものではない。
【００２１】図１は，本発明の一実施例のマルチビーム
走査装置を示す構造図である。このマルチビーム走査装
置１００は，マルチビームを出射するマルチビーム光源
ユニット３０４と，出射されたマルチビームを副走査方
向に絞りこむシリンダレンズ３０５と，マルチビームの
ビーム間のピッチに応じて回転数が切り換えられるポリ
ゴンミラー３０６と，主走査方向のドットピッチを均等
にするｆθレンズ３０７およびトロイダルレンズ３０８
と，ビームを反射する反射鏡３０９と，ビームの被走査
媒体である感光体ドラム３１０とを具備している。
走査装置を示す構造図である。このマルチビーム走査装
置１００は，マルチビームを出射するマルチビーム光源
ユニット３０４と，出射されたマルチビームを副走査方
向に絞りこむシリンダレンズ３０５と，マルチビームの
ビーム間のピッチに応じて回転数が切り換えられるポリ
ゴンミラー３０６と，主走査方向のドットピッチを均等
にするｆθレンズ３０７およびトロイダルレンズ３０８
と，ビームを反射する反射鏡３０９と，ビームの被走査
媒体である感光体ドラム３１０とを具備している。
【００２２】また，前記反射鏡３０９の両側方には，同
期検出ミラー３３０，３３０が配置されている。
期検出ミラー３３０，３３０が配置されている。
【００２３】３１１は，副走査方向のビーム位置を検出
するＰＳＤである。このＰＳＤ３１１の構造については
後に詳述する。
するＰＳＤである。このＰＳＤ３１１の構造については
後に詳述する。
【００２４】また，マルチビーム走査装置１００は，前
記ＰＳＤ３１１のビーム位置信号を補正する位置信号補
正部３１５と，スキャナ等から入力された印字データを
偶数行，奇数行のデータに分ける印字制御部３０２と，
当該印字制御部３０２からのデータを後述する半導体レ
ーザ（１０，１１）への変調信号とする半導体レーザ制
御部３０３と，記録密度切換信号に応じてビーム間のピ
ッチを変更するビームピッチ可変部３１２と，前記ポリ
ゴンミラーの動作を制御するモータ制御部３２１とを具
備している。
記ＰＳＤ３１１のビーム位置信号を補正する位置信号補
正部３１５と，スキャナ等から入力された印字データを
偶数行，奇数行のデータに分ける印字制御部３０２と，
当該印字制御部３０２からのデータを後述する半導体レ
ーザ（１０，１１）への変調信号とする半導体レーザ制
御部３０３と，記録密度切換信号に応じてビーム間のピ
ッチを変更するビームピッチ可変部３１２と，前記ポリ
ゴンミラーの動作を制御するモータ制御部３２１とを具
備している。
【００２５】また，前記ビームピッチ可変部３１２は，
前記ＰＳＤ３１１の出力した複数のビーム位置信号から
それぞれのビーム位置信号の差分を算出する差分算出部
３１２ａと，この差分算出部３１２ａにより算出された
差分信号に基づき前記マルチビーム光源ユニット３０４
の回転角度を制御する回転角度制御部３１３と，前記回
転角度制御部３１３により制御される回転駆動部３１４
とで構成される。
前記ＰＳＤ３１１の出力した複数のビーム位置信号から
それぞれのビーム位置信号の差分を算出する差分算出部
３１２ａと，この差分算出部３１２ａにより算出された
差分信号に基づき前記マルチビーム光源ユニット３０４
の回転角度を制御する回転角度制御部３１３と，前記回
転角度制御部３１３により制御される回転駆動部３１４
とで構成される。
【００２６】図２は，上記マルチビーム光源ユニット３
０４の構造説明図である。１０，１１は半導体レーザで
あり，同一平面（ＸＹ平面）上に配設されている。この
半導体レーザ１０，１１から出射したレーザビームは，
コリメータレンズ１２，１３によりそれぞれ平行光束と
され，続いて，アパーチャ１６，１７により所定の光束
１４，１５に整形される。
０４の構造説明図である。１０，１１は半導体レーザで
あり，同一平面（ＸＹ平面）上に配設されている。この
半導体レーザ１０，１１から出射したレーザビームは，
コリメータレンズ１２，１３によりそれぞれ平行光束と
され，続いて，アパーチャ１６，１７により所定の光束
１４，１５に整形される。
【００２７】前記光束１５は，１／２波長板１８で偏向
面を９０度回転し，ビーム合成プリズム１９に入射す
る。続いて，斜面１９ａで内面反射し，更に，偏向ビー
ムスプリッタ面１９ｂで反射し，基準となる光束１４の
光軸近傍に合成される。
面を９０度回転し，ビーム合成プリズム１９に入射す
る。続いて，斜面１９ａで内面反射し，更に，偏向ビー
ムスプリッタ面１９ｂで反射し，基準となる光束１４の
光軸近傍に合成される。
【００２８】この際，前記半導体レーザ１１とコリメー
タレンズ１３とをわずかに偏心させておけば，ビーム
（ビーム１とビーム２）を主走査方向に対して角度αを
隔てて出射できる。
タレンズ１３とをわずかに偏心させておけば，ビーム
（ビーム１とビーム２）を主走査方向に対して角度αを
隔てて出射できる。
【００２９】このマルチビーム光源ユニット３０４が光
軸を中心にして回転することで，副走査方向のビーム間
のピッチを変更できる。
軸を中心にして回転することで，副走査方向のビーム間
のピッチを変更できる。
【００３０】図３に，副走査方向のビーム間のピッチを
変更する場合の説明図を示す。図中θ１〜θ３は，前記
マルチビーム光源ユニット３０４の回転角度を示す。こ
の回転角度により副走査方向のピッチが決まる（ピッチ
Ｐ１〜Ｐ３）。なお，副走査方向のビーム間のピッチが
狭いほど記録密度が高い（ピッチＰ１の場合が最も高
い）。
変更する場合の説明図を示す。図中θ１〜θ３は，前記
マルチビーム光源ユニット３０４の回転角度を示す。こ
の回転角度により副走査方向のピッチが決まる（ピッチ
Ｐ１〜Ｐ３）。なお，副走査方向のビーム間のピッチが
狭いほど記録密度が高い（ピッチＰ１の場合が最も高
い）。
【００３１】図４は，前記ＰＳＤ３１１の構造説明図で
ある。前記ＰＳＤ３１１は，基体３１面上の１次元方向
に，電極３２および電極３３を配設した構造である。３
４は共通電極である。このＰＳＤ３１１では，入射ビー
ムＢの１次元方向のビーム位置によって出力信号Ｉａ，
Ｉｂが変化するので，前記１次元方向のビーム位置を検
出することが出来る。
ある。前記ＰＳＤ３１１は，基体３１面上の１次元方向
に，電極３２および電極３３を配設した構造である。３
４は共通電極である。このＰＳＤ３１１では，入射ビー
ムＢの１次元方向のビーム位置によって出力信号Ｉａ，
Ｉｂが変化するので，前記１次元方向のビーム位置を検
出することが出来る。
【００３２】ここで，出力信号Ｉａ，Ｉｂの差をＰと
し，電極Ａと光の入射位置までの距離をＸとし，電極Ａ
と電極Ｂとの距離をＹとすれば，Ｘ＝Ｙ（１−Ｐ）／２
と表される。従って，ＰＳＤ３１１は，入射光の光強度
および光強度の変化とは無関係にビーム位置信号を求め
得ることが判る。
し，電極Ａと光の入射位置までの距離をＸとし，電極Ａ
と電極Ｂとの距離をＹとすれば，Ｘ＝Ｙ（１−Ｐ）／２
と表される。従って，ＰＳＤ３１１は，入射光の光強度
および光強度の変化とは無関係にビーム位置信号を求め
得ることが判る。
【００３３】次に，このマルチビーム走査装置１００の
動作について説明する。通常，情報の記録は次にように
行う。まず，マルチビーム光源ユニット３０４から出射
したマルチビームは，前記シリンダレンズ３０５で副走
査方向に絞りこまれ，続いて，ポリゴンミラー３０６に
より反射される。続いて，前記反射したビームは，ｆθ
レンズ３０７およびトロイダルレンズ３０８を通ること
で主走査方向のドットピッチが均等化される。かかる処
理がなされたマルチビームは，前記反射鏡３０９により
反射され，感光体ドラム３１０上を走査する。これによ
り情報の記録が行われる。
動作について説明する。通常，情報の記録は次にように
行う。まず，マルチビーム光源ユニット３０４から出射
したマルチビームは，前記シリンダレンズ３０５で副走
査方向に絞りこまれ，続いて，ポリゴンミラー３０６に
より反射される。続いて，前記反射したビームは，ｆθ
レンズ３０７およびトロイダルレンズ３０８を通ること
で主走査方向のドットピッチが均等化される。かかる処
理がなされたマルチビームは，前記反射鏡３０９により
反射され，感光体ドラム３１０上を走査する。これによ
り情報の記録が行われる。
【００３４】次に，記録密度を切り換える場合について
説明する。まず，印字制御部３０２が記録密度切換信号
を受信すると，前記印字制御部３０２は，前記半導体レ
ーザ制御部３０３に記録密度切換信号用データを送信す
る。
説明する。まず，印字制御部３０２が記録密度切換信号
を受信すると，前記印字制御部３０２は，前記半導体レ
ーザ制御部３０３に記録密度切換信号用データを送信す
る。
【００３５】記録密度切換信号用データを受信した半導
体レーザ制御部３０３は，記録密度切換用ビームを１本
づつ経時的に出射するように前記マルチビーム光源ユニ
ット３０４を制御する。ＰＳＤ３１１は２本のビーム位
置を同時に検出できないからである。
体レーザ制御部３０３は，記録密度切換用ビームを１本
づつ経時的に出射するように前記マルチビーム光源ユニ
ット３０４を制御する。ＰＳＤ３１１は２本のビーム位
置を同時に検出できないからである。
【００３６】続いて，前記ＰＳＤ３１１は，２本のビー
ムのビーム位置を次々に検出する。
ムのビーム位置を次々に検出する。
【００３７】次に，前記ＰＳＤ３１１は，検出したビー
ム位置信号を次々に出力するが，出力されたビーム位置
信号は，前記ビーム位置信号補正部３１５により補正処
理が施される。この補正処理は、次のようにして行う。
ム位置信号を次々に出力するが，出力されたビーム位置
信号は，前記ビーム位置信号補正部３１５により補正処
理が施される。この補正処理は、次のようにして行う。
【００３８】図５は，ＰＳＤ３１１のビーム入射位置に
対する位置検出歪み特性を示すグラフ図である。具体的
には，浜松ホトニクス（株）製のＰＳＤ（品番Ｓ１３５
２）の位置検出歪み特性を示す。
対する位置検出歪み特性を示すグラフ図である。具体的
には，浜松ホトニクス（株）製のＰＳＤ（品番Ｓ１３５
２）の位置検出歪み特性を示す。
【００３９】前記ビーム位置信号補正部３１５は，図中
に示すような位置検出歪み特性が，非直線性から直線性
になるように補正処理を行う。当該補正処理は，前記ビ
ーム位置信号に所定のフィルタをかけることで行う。
に示すような位置検出歪み特性が，非直線性から直線性
になるように補正処理を行う。当該補正処理は，前記ビ
ーム位置信号に所定のフィルタをかけることで行う。
【００４０】次に，前記補正処理の施されたビーム位置
信号は，前記差分算出部３１２ａに送信される。当該差
分算出部３１２ａでは，前記２つのビーム位置信号から
ビーム位置の差分を算出する。すなわち，この差分が図
３におけるピッチＰ１〜Ｐ３に相当する。
信号は，前記差分算出部３１２ａに送信される。当該差
分算出部３１２ａでは，前記２つのビーム位置信号から
ビーム位置の差分を算出する。すなわち，この差分が図
３におけるピッチＰ１〜Ｐ３に相当する。
【００４１】このように，ビーム間のピッチを前記ＰＳ
Ｄ３１１により直接検出するので，この時点でのビーム
間のピッチを正確に測定できる。
Ｄ３１１により直接検出するので，この時点でのビーム
間のピッチを正確に測定できる。
【００４２】ところで，前記記録密度切換信号は，ピッ
チ（角度）切換信号として前記回転角度制御部３１４に
入力される。
チ（角度）切換信号として前記回転角度制御部３１４に
入力される。
【００４３】この回転角度制御部３１４は，前記正確に
測定したビーム間のピッチを基準として，前記入力され
たピッチ切換信号により与えられた回転角度だけ前記マ
ルチビーム光源ユニット３０４を回転させる。マルチビ
ーム光源ユニット３０４は，前記回転駆動部３１３によ
り回転駆動される。これより，ビーム間のピッチが変更
され，前記記録密度の切換が終了する。
測定したビーム間のピッチを基準として，前記入力され
たピッチ切換信号により与えられた回転角度だけ前記マ
ルチビーム光源ユニット３０４を回転させる。マルチビ
ーム光源ユニット３０４は，前記回転駆動部３１３によ
り回転駆動される。これより，ビーム間のピッチが変更
され，前記記録密度の切換が終了する。
【００４４】ビーム間のピッチを変更した後は，上記同
様にマルチビームを前記マルチビーム光源ユニット３０
４から出射し，前記感光体ドラム３１０上を走査する。
これにより切り換え後の記録密度で情報の記録が行われ
る。
様にマルチビームを前記マルチビーム光源ユニット３０
４から出射し，前記感光体ドラム３１０上を走査する。
これにより切り換え後の記録密度で情報の記録が行われ
る。
【００４５】また，同期検出は，前記同期検出ミラー３
３０，３３０により行う他，前記ＰＳＤ３１１を用いて
行うようにしてもよい。すなわち，前記ＰＤＳ３１１の
ビーム位置信号を前記印字制御部３０２に出力すれば，
当該ビーム位置信号を同期信号として用いることが出来
る。
３０，３３０により行う他，前記ＰＳＤ３１１を用いて
行うようにしてもよい。すなわち，前記ＰＤＳ３１１の
ビーム位置信号を前記印字制御部３０２に出力すれば，
当該ビーム位置信号を同期信号として用いることが出来
る。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように，本発明のマルチビ
ーム走査装置（請求項１）によれば，前記ビーム位置検
出手段とビームピッチ可変手段とを用いて閉ループを構
成し，正確に求めたビーム間のピッチを基準として，マ
ルチビーム光源回動手段の回動角度を求める。このた
め，ビーム間のピッチを正確に制御することが出来る。
ーム走査装置（請求項１）によれば，前記ビーム位置検
出手段とビームピッチ可変手段とを用いて閉ループを構
成し，正確に求めたビーム間のピッチを基準として，マ
ルチビーム光源回動手段の回動角度を求める。このた
め，ビーム間のピッチを正確に制御することが出来る。
【００４７】また，本発明のマルチビーム走査装置（請
求項２）によれば，ＰＳＤを用いてビーム位置を検出す
るので，ビームの入射強度およびその入射強度の変化に
無関係にビーム位置を検出できる。このため，環境条件
の変化に対してもビーム位置の検出精度が一定するの
で，ビーム間のピッチを正確に制御することが出来る。
求項２）によれば，ＰＳＤを用いてビーム位置を検出す
るので，ビームの入射強度およびその入射強度の変化に
無関係にビーム位置を検出できる。このため，環境条件
の変化に対してもビーム位置の検出精度が一定するの
で，ビーム間のピッチを正確に制御することが出来る。
【００４８】また，本発明のマルチビーム走査装置（請
求項３）では，ＰＳＤの特性に鑑み，ビーム位置をビー
ム１本毎に検出し，検出した各ビーム位置の差分からビ
ームピッチを算出し，当該ビームピッチを基準としてビ
ーム間のピッチを変更するようにした。このため，ＰＳ
Ｄを有効活用でき，ビーム間のピッチを正確に制御する
ことが出来る。
求項３）では，ＰＳＤの特性に鑑み，ビーム位置をビー
ム１本毎に検出し，検出した各ビーム位置の差分からビ
ームピッチを算出し，当該ビームピッチを基準としてビ
ーム間のピッチを変更するようにした。このため，ＰＳ
Ｄを有効活用でき，ビーム間のピッチを正確に制御する
ことが出来る。
【００４９】また，本発明のマルチビーム走査装置（請
求項４）では，ビーム位置検出歪み補正手段により，ビ
ームの検出位置に対するビーム位置検出歪み特性が直線
性になるように補正するようにした。このため，ビーム
位置の検出精度が良好になり，ビーム間のピッチを正確
に制御することが出来る。
求項４）では，ビーム位置検出歪み補正手段により，ビ
ームの検出位置に対するビーム位置検出歪み特性が直線
性になるように補正するようにした。このため，ビーム
位置の検出精度が良好になり，ビーム間のピッチを正確
に制御することが出来る。
【００５０】また，本発明のマルチビーム走査装置（請
求項５）では，ビーム位置検出手段からのビーム位置信
号を用いて同期検出を行うようにした。ビーム位置検出
手段は高精度にビーム位置を検出しているので，当該ビ
ーム位置検出手段のビーム位置信号を用いれば，同期検
出の精度が向上する。
求項５）では，ビーム位置検出手段からのビーム位置信
号を用いて同期検出を行うようにした。ビーム位置検出
手段は高精度にビーム位置を検出しているので，当該ビ
ーム位置検出手段のビーム位置信号を用いれば，同期検
出の精度が向上する。
【図１】本発明の一実施例のマルチビーム走査装置を示
す構造図である。
す構造図である。
【図２】マルチビーム光源ユニットの構造説明図であ
る。
る。
【図３】副走査方向のビーム間のピッチを変更する場合
の説明図である。
の説明図である。
【図４】ＰＳＤの構造説明図である。
【図５】ＰＳＤのビーム入射位置に対する位置検出歪み
特性を示すグラフ図である。
特性を示すグラフ図である。
１００ マルチビーム走査装置 ３０４ マルチビーム光源装置 ３０５ シリンダレンズ ３０６ ポリゴンミラー ３０７ ｆθレンズ ３０８ トロイダルレンズ ３０９ 反射鏡 ３１０ 感光体ドラム ３３０ 同期検出ミラー ３１１ ＰＳＤ ３１５ 位置信号補正部 ３０２ 印字制御部 ３０３ 半導体レーザ制御部 ３１２ ビームピッチ可変部 ３２１ モータ制御部 ３１２ａ 差分算出部 ３１３ 回転角度制御部 ３１４ 回転駆動部 １０，１１ 半導体レーザ １２，１３ コリメータレンズ １４，１５ 光束 １６，１７ アパーチャ １８ １／２波長板 １９ ビーム合成プリズム １９ａ 斜面 １９ｂ 偏向ビームスプリッタ面 ３１ 基体 ３２，３３ 電極 ３４ 共通電極 θ１〜θ３ 回転角度 Ｐ１〜Ｐ３ ピッチ
Claims (5)
- 【請求項１】 マルチビームを出射するマルチビーム光
源と，前記マルチビーム光源を光軸中心に回動させるマ
ルチビーム光源回動手段とを有し，記録領域上に前記マ
ルチビームを走査して情報の記録を行うマルチビーム走
査装置において，前記記録領域外に設けられ，かつ，ビ
ーム位置を検出するビーム位置検出手段と，前記ビーム
位置検出手段により検出したビーム位置に基づき前記マ
ルチビーム光源回動手段を回動させて，ビーム間のピッ
チを変化させるビームピッチ可変手段と，を具備するこ
とを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載のマルチビーム走査装置
において，前記ビーム位置検出手段は，光半導体位置検
出器であることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載のマルチビーム走査装置
において，マルチビームを構成するビームの出射を１本
毎に行い，前記光半導体位置検出器によりビーム位置を
ビーム１本毎に検出し，検出した各ビーム位置の差分か
らビームピッチを算出し，当該ビームピッチを基準とし
てビーム間のピッチを変化させることを特徴とするマル
チビーム走査装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のいずれかに記載
のマルチビーム走査装置において，ビーム検出位置に対
するビーム位置検出歪み特性が直線性となるように補正
するビーム位置検出歪み補正手段を具備することを特徴
とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項５】 請求項１から請求項４のいずれかに記載
のマルチビーム走査装置において，前記ビーム位置検出
手段からのビーム位置信号を用いて同期検出を行うこと
を特徴とするマルチビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8061647A JPH09226174A (ja) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | マルチビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8061647A JPH09226174A (ja) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | マルチビーム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09226174A true JPH09226174A (ja) | 1997-09-02 |
Family
ID=13177232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8061647A Pending JPH09226174A (ja) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | マルチビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09226174A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000058101A1 (en) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Olivetti Tecnost S.P.A. | Aligning method for multiple ink jet colour printheads with built-in optoelectronic position detector |
| US7990406B2 (en) | 2008-03-04 | 2011-08-02 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device having a pitch adjustment device for adjusting a beam pitch and image forming apparatus including same |
-
1996
- 1996-02-26 JP JP8061647A patent/JPH09226174A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000058101A1 (en) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Olivetti Tecnost S.P.A. | Aligning method for multiple ink jet colour printheads with built-in optoelectronic position detector |
| US6508530B1 (en) | 1999-03-29 | 2003-01-21 | Olivetti Tecnost S.P.A. | Aligning method for multiple ink jet color printheads with built-in optoelectronic position detector |
| US7990406B2 (en) | 2008-03-04 | 2011-08-02 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device having a pitch adjustment device for adjusting a beam pitch and image forming apparatus including same |
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