JP2001280931A - 干渉計、形状測定装置及び方法、並びに露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ピンホールを使った干渉計において、縞走査
（フリンジスキャン）を行う際に生じる光量変動をなく
す。 【解決手段】 干渉計(100)は、光源(40)からの光から
球面波を発生させるため、所定の大きさのピンホール(7
0A,71A)を有するピンホール部材(70,71)と、ピンホール
部材(70)から被検面までの往復距離と等しい光路長にな
るように、光源(40)からの光を引き回す光学部材(70B,8
2)と、光学部材(70B,82)からの光の光軸方向に移動可能
であり光軸方向とは異なる方向に移動した場合でも光軸
方向と同一方向に光を反射する反射部材(66,72＆74)と
を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レンズ又はミラーなど
の球面又は非球面の面形状を高精度に計測するための干
渉計、形状測定装置及び方法、並びに露光装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ミラー（被検物）などの球面又は非球面
（被測定面）の面精度を高精度に計測する干渉計又は形
状測定装置として、特開平2-228505号で開示される発明
がある。この公報で開示された干渉計又は形状測定装置
は、一旦平面ミラーで反射した光を球面反射鏡で反射さ
せて、その光をピンホールに向ける。すると該ピンホー
ルから回折による球面波が発生するので、その球面波を
参照光として検出手段であるＣＣＤ等に到達させる。そ
の一方で、ピンホールから出た球面波を被測定面に照射
させ、その被測定面からの反射光を一旦ピンホールの周
辺の反射面に到達させてから、その反射光を測定光とし
て検出手段に到達させる。そして、これら参照光と測定
光とを検出手段で干渉させて被測定面の面精度を測定す
るものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】特開平2-228505号で開
示された発明では、測定精度を向上させるために、ピエ
ゾ素子12で球面反射鏡を光軸方向に微小に振動させて、
高精度に被測定面の面形状を読みとることができるよう
になっている。つまり、球面反射鏡を微小に振動させる
ことにより光路差が微小に変化し、それに伴って干渉縞
の状態が変化するので、この変化を被照射面の各領域で
検出することにより被測定面の歪みが測定される。この
動作を縞走査（フリンジスキャンとも呼ばれる）と呼
ぶ。縞走査を行うために球面反射鏡の光軸方向の移動を
行うと、どうしても多少の球面反射鏡の傾き若しくは横
ずれ（光軸方向と直交する方向のずれ）が生じてしま
う。球面反射鏡の傾きもしくは横ずれが起こると、ピン
ホールに照射する光軸がずれてしまい、ピンホールから
出る球面波の光量が球面反射鏡の光軸方向の移動を行う
前と後とで異なってしまう。この光量変動が干渉縞の観
察結果に悪影響を与えてしまう。

【０００４】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、縞走査を行っても、干渉縞
の観察結果に悪影響を与えない干渉計、面形状測定装置
/方法、この測定方法により製作された露光装置を提供
することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、参照光と被検
物(60,61)の被検面からの測定光とを干渉させて、被検
面(60A,61A)の面精度を計測する干渉計(100)において、
光源(40)からの光から球面波を発生させるため、所定の
大きさのピンホール(70A,71A)を有するピンホール部材
(70,71)と、ピンホール部材(70)から被検面までの往復
距離と等しい光路長になるように、光源(40)からの光を
引き回す光学部材(70B,82)と、光学部材(70B,82)からの
光の光軸方向に移動可能であり光軸方向とは異なる方向
に移動した場合でも光軸方向と同一方向に光を反射する
反射部材(66,72＆74)とを有する干渉計を提供する。

【０００６】この構成により、反射部材が常に光軸方向
と同一方向に光を反射するので、縞走査により生じてい
た悪影響を与えなることなく、干渉縞を観察できる。

【０００７】かかる反射部材として、例えば、コーナー
キューブ部材(66)、又は集光光学系(72)及び集光光学系
の集光位置に配置された反射部材(74)が適当である。

【０００８】また、光学部材で引き回される光路中に光
量調整部材(64)を配置すれば、被測定面の反射率が悪く
測定光の光量が小さい場合でも、その測定光に合わせて
参照光の光量を小さくする等の調整ができる。

【０００９】さらに、被測定面が非球面形状又は凸形状
の場合には、被測定面に合わせるような波面を変換する
変換部材(80)を、ピンホール部材(70)と被測定面との間
に配置すればよい。

【００１０】

【発明の実施の形態】−形状測定装置の全体構成− 図１は、ミラーなどの球面の面精度を高精度に計測する
ための干渉計を備えた形状測定装置の全体構成である。

【００１１】定盤10は、床15からの振動を遮断するため
にエア／ゴムダンパ及びアクチュエータを用いた防振装
置20によって支えられている。定盤10上には、Ｘ軸、Ｙ
軸及びＺ軸方向、並びにＸ軸を中心に回転するθｘ、Ｙ
軸を中心に回転するθｙ及びＺ軸を中心に回転するθｚ
方向に、レンズ又はミラーなどの被検物60を移動させる
ステージ32が設けられている。また定盤10上にはステー
ジ32の位置を計測するレーザー測長干渉計30が設けられ
ている。ステージ32上にはレンズ又はミラーなど被検物
60を真空吸着するチャック34、及びレーザー測長干渉計
30からのレーザー光を反射するための移動鏡36が設けら
れている。定盤10上には、後述する被検物60を測定する
干渉計100を窒素又はヘリウムで密封し、湿度温度管理
するためのチャンバー壁75が設けられている。

【００１２】干渉計100は、He-Neレーザー光源40と、こ
の光源40からのレーザー光を導くミラー42と、レーザー
光を収束する集光レンズ44と、球面波を発生させるピン
ホールが形成されたピンホールミラー70と、ピンホール
ミラー70で反射された光を平行にするコリメータレンズ
62と、NDフィルタ64と、コーナーキューブプリズム66
と、球面波を収束する集光レンズ48と、光を電気信号に
変換するＣＣＤ（電荷結合素子）等の光電変換器50とか
らなる。光電変換器50からの出力はコンピュータ55に取
り込まれて解析され、干渉縞の状態から被測定面の球面
形状又は収差などが求められる。

【００１３】なお、図１中、レーザー測長干渉計30及び
レーザー光源40はチャンバー壁75内に配置されていない
が、これは熱源となるものをチャンバー壁75内に入れな
い理由による。しかし、空調設備に余裕があればレーザ
ー測長干渉計30及びレーザー光源40をチャンバー壁75内
に配置してもよい。精度を向上させるためには、He-Ne
レーザーの代わりに、He-Neレーザーより波長の短い紫
外線、軟Ｘ線などを用いる。 −第１実施例の干渉計− 図２は、図１中の干渉計100を拡大したものである。

【００１４】第１実施例の干渉計においては、レーザー
光源１と被測定面４の間に、ピンホールを形成した反射
鏡（以下ピンホールミラーと称す）70が光軸に対して約
45゜の角度をなし、かつピンホールが光軸上に位置する
ように配置されている。

【００１５】本実施例におけるピンホールミラー70は、
ガラス板等の表面に例えばアルミ・クロム等の薄膜70B
が蒸着されており、薄膜の略中央部にピンホール70Aが
エッチング等によって形成されている。このピンホール
70Aの開口は、長径が光軸と45゜の角度をなす楕円とな
っており、光軸方向から見たときに次式を満足する大き
さの円（直径φ）となるように形成されている。

【００１６】

【数１】λ／２＜ φ ＜λｒ／２ａ λ：レーザーの波長、ｒ：被測定面の曲率半径、ａ：被
測定面の口径 なお、径がφ≦λ／２の円である場合には、球面波を生
ずる光の光量が少なくなる弊害がある。逆に径がλｒ／
２ａ≦φの円である場合には、ピンホールで発生する球
面波に歪が生じる弊害がある。つまり、かかるピンホー
ルは回折により球面波を発生する役目をしている。かか
る詳細は特開平2-228505号に開示されている。

【００１７】また、第１実施例の干渉計では、被測定面
60に入射する光軸とほぼ直交する光軸上に、コーナーキ
ューブプリズム66と二次元CCD50がピンホールミラー70
を介して対向するように配置されている。

【００１８】以上のような構成の干渉計において、レー
ザー光源40から出た光は、レンズ44で集光されピンホー
ルミラー70に当り、光の一部はピンホール70Aを通過す
る。ピンホール70Aを通過した光は、ピンホールの回折
により理想的球面波として広がり、計算機ホログラム又
はNull（ヌル）素子80を介して、測定用光束として凹形
状ミラー60の被測定面（被検面）60Aを照射する。

【００１９】被測定面60Aで反射された測定用光束は、
計算機ホログラム又はNull（ヌル）素子80を再び通過
し、ピンホールミラー70に集光される。この際、ピンホ
ール70Aの径は被測定面４での反射光の集光点の大きさ
λｒ／ａより十分小さいので、大部分の光はピンホール
ミラー70で反射されて、集光レンズ48を通って100×100
のエレメントを持つ２次元CCD50の受光面に到達する。

【００２０】計算機ホログラム又はNull（ヌル）素子80
は、凹形状ミラー60の被測定面の理想的な形状（設計形
状）に合致するように、球面波を回折させるものであ
り、予め計算して作成されるものである。凹形状ミラー
60が球面であれば、計算機ホログラム又はNull（ヌル）
素子80は不要であるが、凹形状ミラー60が非球面であれ
ば、その非球面形状に合わせた波面にするために必要で
ある。

【００２１】他方、レンズ44で集光されピンホールミラ
ー70で反射された光は、コリメータレンズ62を経て平行
光になり、光量を調節するNDフィルタ64を経由して、コ
ーナーキューブプリズム66に入射する。コーナーキュー
ブプリズム66に入射した光は、コーナーキューブプリズ
ム66で反射され、再び、NDフィルタ64及びコリメータレ
ンズ62を経由して、ピンホールミラー70に戻る。ピンホ
ールミラー70に戻った光は、ピンホール70Aを通過した
光は、ピンホールの回折により理想的球面波として広が
り、参照光として２次元CCD50の受光面に到達する。

【００２２】ピンホールミラー70からコーナーキューブ
プリズム66までの光路長（往復分）は、ピンホールミラ
ー70から被測定面60Aまでの光路長（往復分）とほぼ等
しくして配置されている。このような配置により、光源
のレーザーの可干渉性が多少低くても、被測定面60Aか
らの光とコーナーキューブプリズム66の光とが干渉し易
くなる。

【００２３】NDフィルタ64は、被測定面60Aの反射率に
合わせて、光量調節用として適宜選択して使用される。
例えば、被測定面60Aが低い反射率の面である場合に
は、その被測定面60Aからの反射光がピンホールミラー7
0で反射されて、測定光が２次元CCD50の受光面に到達す
る。一方、コーナーキューブプリズム66に向かった光が
まったく減光されないまま参照光としてCCD50の受光面
に到達する。測定光と参照光との光量差があまりに大き
いと、干渉縞のコントラストが悪くなるため、干渉縞の
コントラストをよくするためにNDフィルタ64が使用され
る。なお、NDフィルタ64は、ピンホールミラー70からコ
ーナーキューブプリズム66までの間であれば、どこに配
置してもよい。

【００２４】コーナーキューブプリズム66は、入射した
光の入射方向と同一方向に光を反射させる特性を有して
いるため、縞走査させる際にコーナーキューブプリズム
66を図２中の矢印方向に移動させても、ピンホールミラ
ー70に戻る光の集光位置に影響を与えない。つまり、コ
ーナーキューブプリズム66の移動に伴って、反射光の傾
きもしくは横ずれ（光軸方向と直交する方向のずれ）が
生じないため、干渉縞の観察結果に悪影響を与えない。

【００２５】なお、本実施例におけるコーナーキューブ
プリズム66の代わりに、三枚の直交する反射ミラーによ
って構成してもよい。

【００２６】−第２実施例の干渉計− 図３は、第２実施例の干渉計100を説明するものであ
る。第１実施例と同じ部材には同一番号を付している。

【００２７】第２実施例の干渉計では、被測定面61Aに
入射する光軸とほぼ直交する光軸上に、集光レンズ72、
反射鏡74と二次元CCD50がピンホールミラー70を介して
対向するように配置されている。

【００２８】レーザー光源40から出た光は、レンズ44で
集光されピンホールミラー70に当り、光の一部はピンホ
ール70Aを通過する。ピンホール70Aを通過した光は、ピ
ンホールの回折により理想的球面波として広がり、計算
機ホログラム又はNull（ヌル）素子80を介して、測定用
光束として凸形状ミラー61の被測定面61Aを照射する。

【００２９】被測定面61Aで反射された測定用光束は、
計算機ホログラム又はNull（ヌル）素子80を再び通過
し、ピンホールミラー70に集光される。集光された大部
分の光はピンホールミラー70で反射されて、集光レンズ
48を通って２次元CCD50の受光面に到達する。

【００３０】計算機ホログラム又はNull（ヌル）素子80
は、凸形状ミラー61の被測定面の理想的な形状に合致す
るように、球面波を回折させる作用を有する。ピンホー
ル70Ａの径（直径）φは、上述した通りである。

【００３１】他方、レンズ44で集光されピンホールミラ
ー70で反射された光は、コリメータレンズ62を経て平行
光になり、集光レンズ72を介して反射ミラー74に入射す
る。反射ミラー74で反射した光は、再び、集光レンズ72
及びコリメータレンズ62を経由して、ピンホールミラー
70に戻る。ピンホールミラー70に戻った光は、ピンホー
ル70Aを通過した光は、ピンホールの回折により理想的
球面波として広がり、参照光として２次元CCD50の受光
面に到達する。

【００３２】ピンホールミラー70から反射ミラー74まで
の光路長（往復分）は、ピンホールミラー70から被測定
面60Aまでの光路長（往復分）とほぼ等しくして配置さ
れている。

【００３３】集光レンズ72と反射ミラー74とは一体に筐
体73に結合され、該筐体73がピエゾ素子によって光軸方
向に移動するように構成されている。集光レンズ72の集
光位置に反射ミラー74が配置される構造になっているの
で、入射した光の光軸方向と同一方向に光を反射するこ
とができる。つまり、縞走査させる際に集光レンズ72と
反射ミラー74とを図３中の矢印方向に移動させても、集
光レンズ72と反射ミラー74から戻る光の集光位置に影響
を与えない。従って、集光レンズ72と反射ミラー74とを
備えた筐体73の移動に伴って、参照光の基となる光の傾
きもしくは横ずれが生じないため、干渉縞の観察結果に
悪影響を与えない。

【００３４】なお、第１実施例と同様に、NDフィルタ64
を、ピンホールミラー70から反射ミラー74までの間に配
置してもよい。

【００３５】−第３実施例の干渉計− 図４は、第３実施例の干渉計100を説明するものであ
る。第１実施例と同じ部材には同一番号を付している。

【００３６】第３実施例の干渉計では、光源40と集光レ
ンズ44との間に、参照光用の光を分離するハーフミラー
82が配置されている点で第１実施例と相違する。

【００３７】レーザー光源40から出た光は、ハーフミラ
ー82を透過した一部の光がレンズ44で集光されピンホー
ル板71のピンホール71Aを通過する。ピンホール71Aを通
過した光は、ピンホールの回折により理想的球面波とし
て広がり、計算機ホログラム又はNull（ヌル）素子80を
介して、測定用光束として凸形状ミラー61の被測定面61
Aを照射する。

【００３８】被測定面61Aで反射された測定用光束は、
ピンホール板71に集光され、その大部分の光はピンホー
ル板71で反射されて、集光レンズ48を通って２次元CCD5
0の受光面に到達する。

【００３９】他方、ハーフミラー82で反射された光は、
全反射ミラー84を介し、コーナーキューブプリズム66に
入射する。コーナーキューブプリズム66から反射された
光は、全反射ミラー84及び集光レンズ62を介してピンホ
ール板71にいたる。ピンホール71Aを通過した光は、ピ
ンホールの回折により理想的球面波として広がり、参照
光として２次元CCD50の受光面に到達する。

【００４０】ハーフミラー82からコーナーキューブプリ
ズム66を介してピンホール板71にいたる光路長は、ピン
ホール板71から被測定面60Aまでの光路長の往復分とハ
ーフミラー82から集光レンズ44を介してピンホール板71
にいたる光路長との和とほぼ等しくして配置されてい
る。

【００４１】第１実施例で説明したように、縞走査させ
る際にコーナーキューブプリズム66を図４中の矢印方向
に移動させる際に横ずれが生じても、コーナーキューブ
プリズム66から戻る光の光軸方向に影響を与えない。従
って、集光レンズ72と反射ミラー74の一体の移動に伴っ
て、参照光の基となる光の傾きもしくは横ずれが生じな
いため、干渉縞の観察結果に悪影響を与えない。

【００４２】なお、第１実施例と同様に、NDフィルタ64
を、コーナーキューブプリズム66を経由するハーフミラ
ー82からピンホール板71までの光路中に配置してもよ
い。ハーフミラー82は、図４中で示すように、光源40か
らの光束よりも小さなものであれば、一部の光が集光レ
ンズ44に向かうので全反射ミラーであってもよい。さら
にＰ偏光及びＳ偏光が光源側から射出されるものである
場合には、ハーフミラー82の代わりに偏光ビームスプリ
ッタを配置し、さらに集光レンズ62とピンホール板71と
の間および集光レンズ44とピンホール板71との間に検光
子（アナライザ）を配置しても、被検面の形状測定がで
きる。 −干渉計で測定された被検物の適用例− ミラー、レンズなどの被検物は、上述した干渉計、形状
測定装置及び形状測定方法により、高精度に計測するこ
とができる。被検物の精度が出ていなかった場合には、
コンピュータ55で求められた結果に基づいて、その被検
物を研磨し所定の精度内に追い込んでいく。

【００４３】所定の範囲内に入ったミラー、レンズなど
の被検物は、高精度のミラー及びレンズが使用される、
例えば複数枚のミラーを使用した軟Ｘ線、Ｘ線露光装置
用の投影光学系に適用することができ、複数枚のレンズ
を使用したエキシマレーザ、ｉ線等の露光装置用の照明
光学系又は投影光学系に搭載することができる。

【００４４】ここで、軟Ｘ線露光装置用の投影光学系Ｐ
Ｏについて図５を用いてより詳細に説明する。この図５
に示されるように、光源からの光束ＥＬは、ミラーＭで
反射され、レチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲに照
射される。レチクルＲで反射された光束は、投影光学系
ＰＯを介してウエハステージＷＳＴ上のウエハＷ上に照
射される。レチクルＲに描かれた半導体回路パターンを
ウエハ上に露光して半導体回路（チップ）を作成するた
めには、レチクルＲ及びウエハＷが図中の矢印で示され
る方向へ同期して走査される。

【００４５】投影光学系ＰＯは、レチクルＲで反射され
たＥＵＶ光ＥＬを順次反射する第１ミラーＭ１、第２ミ
ラーＭ２、第３ミラーＭ３、第４ミラーＭ４の合計４枚
のミラー（反射光学素子）と、これらのミラーＭ１〜Ｍ
４を保持する鏡筒ＰＰとから構成されている。前記第１
ミラーＭ１及び第４ミラーＭ４の反射面は非球面の形状
を有し、第２ミラーＭ２の反射面は平面であり、第３ミ
ラーＭ３の反射面は球面形状となっている。各反射面は
設計値に対して露光波長の約５０分の１から６０分の１
以下の加工精度が実現され、ＲＭＳ値（標準偏差）で
０．２ｎｍから０．３ｎｍ以下の誤差しかない。この誤
差内に加工されているかを検査するために、本実施例を
使った形状測定装置が使われる。各ミラーの素材は低膨
張ガラスあるいは金属であって、表面にはレチクルＲと
同様の２種類の物質を交互に重ねた多層膜によりＥＵＶ
光に対する反射層が形成されている。

【００４６】この場合、図５に示されるように、第１ミ
ラーＭ１で反射された光が第２ミラーＭ２に到達できる
ように、第４ミラーＭ４には穴が空けられている。同様
に第４ミラーＭ４で反射された光がウエハＷに到達でき
るよう第１ミラーＭ１には穴が設けられている。勿論、
穴を空けるのでなく、ミラーの外形を光束が通過可能な
切り欠きを有する形状としても良い。

【００４７】投影光学系ＰＯが置かれている環境は真空
であるため、露光用照明光の照射による熱の逃げ場がな
い。そこで、本実施形態では、ミラーＭ１〜Ｍ４と当該
ミラーＭ１〜Ｍ４を保持する鏡筒ＰＰの間をヒートパイ
プＨＰで連結するとともに、鏡筒ＰＰを冷却する冷却装
置を設けている。すなわち、鏡筒ＰＰを内側のミラー保
持部５０と、その外周部に装着された冷却装置としての
冷却ジャケット５２との２重構造とし、冷却ジャケット
５２の内部には、冷却液を流入チューブ５４側から流出
チューブ５６側に流すための螺旋状のパイプ５８が設け
られている。冷却ジャケット５２から流出チューブ５６
を介して流出した冷却水は、不図示の冷凍装置内で冷媒
との間で熱交換を行い、所定温度まで冷却された後、流
入チューブ５４を介して冷却ジャケット５２内に流入す
るようになっており、このようにして冷却水が循環され
るようになっている。

【００４８】投影光学系ＰＯでは、露光用照明光（ＥＵ
Ｖ光）ＥＬの照射によりミラーＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４
に熱エネルギが与えられても、ヒートパイプＨＰにより
一定温度に温度調整された鏡筒ＰＰとの間で熱交換が行
われて、ミラーＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４が一定温度に冷
却されるようになっている。この場合において、本実施
形態では、図５に示されるように、ミラーＭ１、Ｍ２、
Ｍ４等については、その裏面側のみでなく表面側（反射
面側）の露光用照明光が照射されない部分にもヒートパ
イプＨＰが貼り付けられているので、裏面側のみを冷却
する場合に比べてより効果的に前記各ミラーの冷却が行
われる。

【００４９】かかる冷却温度と合致するように、図１に
示したチャンバー壁75内の温度管理することが好まし
い。

【００５０】

【発明の効果】本発明は、光学部材で引き回された光と
同一方向に反射手段によって反射する構成にしたので、
反射手段からピンホールに光を照射し、該ピンホールか
ら発生する参照光が、縞走査のために反射手段が移動し
た際でも、常に一定の光量を有することになる。従っ
て、干渉縞の走査の際に生じていた干渉縞の計測悪化を
防止することができる。また、光量調整手段を光学部材
で引き回された光路に入れれば干渉縞のコントラストの
調整も容易にできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の形状測定装置の全体構成を表した図で
ある。

【図２】形状測定装置に使われる第１実施例の干渉計で
あり、縞走査を行うために、コーナーキューブプリズム
を使用している。

【図３】形状測定装置に使われる第２実施例の干渉計で
あり、縞走査を行うために、集光レンズと集光レンズの
集光位置に配置された反射ミラーを使用している。

【図４】形状測定装置に使われる第３実施例の干渉計で
あり、第１、２実施例のようにピンホールミラーで参照
光用に光を反射するのでなく、光源とピンホールとの間
に配置された部材で参照光用に光を生成している。

【図５】形状測定装置を用いて測定された反射ミラーを
軟Ｘ線（ＥＵＶ）用露光装置の投影光学系に用いた例を
示す。

【主要部分の符号の説明】

44；集光レンズ、50；ＣＣＤ、60,61；被検物、64；Ｎ
Ｄフィルター、70；ピンホールミラー、72；集光レン
ズ、74；反射ミラー、80；NULL素子、146；反射型反射
面、48；集光レンズ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F064 AA09 CC01 FF02 GG12 GG16 GG20 GG22 GG41 GG61 HH03 HH08 2F065 AA53 BB22 CC21 CC22 DD04 FF01 FF52 GG05 JJ03 JJ26 LL00 LL12 LL17 LL24 LL30 NN01

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 参照光と被検物の被検面からの測定光と
   を干渉面で干渉させて、前記被検面の面精度を計測する
   干渉計において、 光源からの光から球面波を発生させるため、所定の大き
   さのピンホールを有するピンホール部材と、 前記ピンホール部材から前記被検面までの往復距離と等
   しい光路長になるように、前記光源からの光を引き回す
   光学部材と、 前記光学部材からの光の光軸方向に移動可能であり、前
   記光軸方向とは異なる方向に移動した場合でも前記光軸
   方向と同一方向に光を反射する反射部材と、 を有することを特徴とする干渉計。
2. 【請求項２】 前記反射部材は、コーナーキューブ部材
   を含むことを特徴とする請求項１記載の干渉計。
3. 【請求項３】 前記反射部材は、集光光学系と該集光光
   学系の集光位置に配置された反射光学系とを含むことを
   特徴とする請求項１記載の干渉計。
4. 【請求項４】 前記光学部材で引き回される光路中に、
   光量を調整する光量調整手段を配置することを特徴とす
   る請求項１乃至３中の１項記載の干渉計。
5. 【請求項５】 前記ピンホール部材と前記被測定面との
   間に、前記被検面の設計面形状に光の波面を変換する変
   換部材を配置することを特徴とする請求項１乃至４中の
   １項記載の干渉計。
6. 【請求項６】 請求項１乃至５中の１項に記載した干渉
   計を、温度調節されたチャンバー内に載置したことを特
   徴とする形状測定装置。
7. 【請求項７】 光源から光をピンホールに照射し、該ピ
   ンホールから発生した光を被検物の被検面に照射させ
   て、前記被検面から発生した測定光を検出面に導く工程
   と、 前記ピンホールから前記被検面までの光路長とほぼ同じ
   だけ引き回してから、前記光源からの光を前記ピンホー
   ルへ照射し、前記ピンホールから発生した参照光を前記
   検出面に導く工程と、 前記検出面で前記測定光と前記参照光とを干渉させて前
   記被検面の面形状を測定する工程とを有し、 前記光源から前記ピンホールまで光を引き回す際に、光
   軸方向とは異なる方向に反射部材が移動した場合でも前
   記光軸方向と同一方向に光を反射させることを特徴とす
   る形状測定方法。
8. 【請求項８】 前記光源からの光を引き回して前記ピン
   ホールへ照射する間に、前記光の光量を調整することを
   特徴とする請求項７記載の形状測定方法。
9. 【請求項９】 請求項７〜８の形状測定方法を使って測
   定された前記被検物を投影光学系に有し、前記投影光学
   系を介して原板に描かれたパターンを露光基板に露光す
   ることを特徴とする露光装置。