JP2001278829A

JP2001278829A - 新規な不飽和エーテル化合物、該化合物の製造方法、該化合物を含む組成物及びその硬化物

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Publication number: JP2001278829A
Application number: JP2000096388A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Honda; 芳弘本田; Masato Kaneda; 昌人金田
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 2000-03-31
Filing date: 2000-03-31
Publication date: 2001-10-10
Anticipated expiration: 2020-03-31
Also published as: JP4600614B2

Abstract

(57)【要約】【課題】皮膚刺激性、臭気性、酸素による重合阻害を
解決し、かつ低粘度な新規な不飽和エーテル化合物とそ
の製造方法、並びに組成物及び硬化物の提供。【解決手段】一般式（１）に代表される新規な不飽和
エーテル化合物とその製造方法、並びに組成物及び硬化
物。一般式（１）【化１】（一般式（１）において、Ｒ¹は水素、炭素数１〜炭素
数６のアルキル基、シクロアルキル基、またはフェニル
基から選ばれたいずれか一種を表し、Ｒ²,Ｒ³はそれぞ
れ独立に下記に示す構造式（１）又は構造式（２）を表
す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な不飽和エー
テル化合物、該化合物の製造方法、該化合物を含む組成
物及びその硬化物に関する。

【０００２】さらに詳しくは、皮膚刺激性、臭気性、酸
素による重合阻害を解決し、かつ低粘度の新規な不飽和
エーテル化合物とその製造方法、並びに新規な不飽和エ
ーテル化合物を含有する組成物の提供及びその組成物を
硬化することにより得られる硬化物に関する。

【０００３】

【従来の技術】従来、熱硬化樹脂、あるいは硬化樹脂組
成物にはアクリル酸エステルや多官能アクリレート等の
アクリル系モノマーが主成分として用いられているもの
が多い。これらの樹脂、あるいは組成物は、コーティン
グ材料、ペイント材料、光学材料、接着剤など、様々な
用途に応用できるため非常に有用である。

【０００４】しかし、これらのアクリル系モノマーには
皮膚刺激性や臭気性、さらには酸素による重合阻害等の
問題がありその改善が求められている。このような問題
点を解決する観点からアクリル系モノマーの代替モノマ
ーとして、近年脂環式プロペニルエーテル化合物が報告
されている。

【０００５】このような脂環式プロペニルエーテル化合
物の具体例としては、例えば特開平１１−１４０１３５
号公報に示されるトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デ
カン骨格を持つプロペニルエーテルを挙げることができ
る。しかし、このプロペニルエーテルは分子量が大きい
ために粘度が高く、さらに重合性部位の濃度が低いため
に硬化物の架橋密度が低く硬度が十分でないという欠点
を有する。すなわち、従来用いられているアクリル系モ
ノマーの代替モノマーとしては、十分な硬化性を有して
はいないと考えられる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、低皮膚刺激
性かつ低毒性であり、酸素による重合阻害の影響が少な
く、さらに従来の脂環式プロペニルエーテル化合物に比
べて低粘度で、その硬化物の硬度がアクリル系モノマー
の代替モノマーとして十分実用可能な新規な脂環式プロ
ペニルエーテル化合物を含む不飽和エーテル化合物、該
化合物の製造方法、該化合物を含む組成物及びその硬化
物を提供することを目的とする。特に該化合物を含む組
成物はコーティング材料、ペイント材料、光学材料、接
着剤など、様々な用途に応用できる。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来のア
クリル系モノマーの代替モノマーとしての脂環式プロペ
ニルエーテル化合物の問題点を克服すべく鋭意研究を行
った結果、上記課題を解決するような新規な重合性化合
物を見いだし発明を完成させるに至った。

【０００８】すなわち本発明（Ｉ）は、一般式（１）〜
一般式（４）のいずれかで表されることを特徴とする不
飽和エーテル化合物である。

【０００９】一般式（１）

【００１０】

【化２９】一般式（２）

【００１１】

【化３０】一般式（３）

【００１２】

【化３１】一般式（４）

【００１３】

【化３２】

【００１４】（一般式（１）〜一般式（４）において、
Ｒ¹は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロ
アルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一
種を表し、Ｒ²,Ｒ³はそれぞれ独立に下記に示す構造式
（１）又は構造式（２）を表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃

【００１５】また、本発明（ＩＩ）は、一般式（５）〜
一般式（８）のいずれかで表されるジオール化合物をア
リル化することを特徴とする、一般式（９）〜一般式
（１２）のいずれかで表される不飽和エーテル化合物の
製造方法である。

【００１６】一般式（５）

【００１７】

【化３３】一般式（６）

【００１８】

【化３４】一般式（７）

【００１９】

【化３５】一般式（８）

【００２０】

【化３６】

【００２１】（一般式（５）〜一般式（８）において、
Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロ
アルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一
種を表す。）一般式（９）

【００２２】

【化３７】一般式（１０）

【００２３】

【化３８】一般式（１１）

【００２４】

【化３９】一般式（１２）

【００２５】

【化４０】

【００２６】（一般式（９）〜一般式（１２）におい
て、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シ
クロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれ
か一種を表し、Ｒ⁵,Ｒ⁶はいずれも下記構造式（１）を
表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂

【００２７】また、本発明（ＩＩＩ）は一般式（９）〜
一般式（１２）のいずれかで表される不飽和エーテル化
合物を異性化することを特徴とする一般式（１３）〜一
般式（１６）のいずれかで表される不飽和エーテル化合
物の製造方法である。

【００２８】一般式（９）

【００２９】

【化４１】一般式（１０）

【００３０】

【化４２】一般式（１１）

【００３１】

【化４３】一般式（１２）

【００３２】

【化４４】

【００３３】（一般式（９）〜一般式（１２）におい
て、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シ
クロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれ
か一種を表し、Ｒ⁵,Ｒ⁶はいずれも下記構造式（１）を
表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 一般式（１３）

【００３４】

【化４５】一般式（１４）

【００３５】

【化４６】一般式（１５）

【００３６】

【化４７】一般式（１６）

【００３７】

【化４８】

【００３８】（一般式（１３）〜一般式（１６）におい
て、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シ
クロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれ
か一種を表し、Ｒ⁷,Ｒ⁸の内少なくとも一方は構造式
（２）であり、他方は構造式（１）又は構造式（２）の
いずれかを表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃

【００３９】また、本発明（ＩＶ）は、本発明（Ｉ）の
不飽和エーテル化合物の少なくとも一種以上を含むこと
を特徴とする重合性組成物である。

【００４０】また、本発明（Ｖ）は、本発明（ＩＶ）の
重合性組成物を硬化することにより得られる硬化物であ
る。以下、本発明を詳細に説明する。

【００４１】

【発明の実施形態】まず、本発明（Ｉ）について説明す
る。本発明（Ｉ）は、一般式（１）〜一般式（４）のい
ずれかで表されることを特徴とする不飽和エーテル化合
物である。

【００４２】一般式（１）

【００４３】

【化４９】一般式（２）

【００４４】

【化５０】一般式（３）

【００４５】

【化５１】一般式（４）

【００４６】

【化５２】

【００４７】（一般式（１）〜一般式（４）において、
Ｒ¹は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロ
アルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一
種を表し、Ｒ²,Ｒ³はそれぞれ独立に下記に示す構造式
（１）又は構造式（２）を表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃

【００４８】Ｒ¹は具体的には、水素、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル
基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、フェニル基などが例示できる。これらのうち原料
入手の容易さからＲ¹がフェニル基、メチル基または水
素が好ましく、この中でもメチル基が特に好ましい。

【００４９】Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立にアリル基（−Ｃ
Ｈ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂）またはプロペニル基（−ＣＨ＝ＣＨ
−ＣＨ₃）を表す。Ｒ²とＲ³はそれぞれ同一であっても
また異なっていてもよい。

【００５０】一般式（１）〜一般式（４）の化合物の具
体例としては、１，１−ビス（アリルオキシメチル）シ
クロヘキサン、１，１−ビス（１−プロペニルオキシメ
チル）シクロヘキサン、２−メチル−１，１−ビス（ア
リルオキシメチル）シクロヘキサン、２−メチル−１，
１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサ
ン、２−フェニル−１，１−ビス（アリルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、２−フェニル−１，１−ビス（１
−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサン、２−エチ
ル−１，１−ビス（アリルオキシメチル）シクロヘキサ
ン、２−エチル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシ
メチル）シクロヘキサン、２−ｎ−プロピル−１，１−
ビス（アリルオキシメチル）シクロヘキサン、２−ｎ−
プロピル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、

【００５１】２−シクロヘキシル−１，１−ビス（アリ
ルオキシメチル）シクロヘキサン、２−シクロヘキシル
−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）シクロ
ヘキサン、１，１−ビス（アリルオキシメチル）−３−
シクロヘキセン、１，１−ビス（１−プロペニルオキシ
メチル）−３−シクロヘキセン、６−メチル−１，１−
ビス（アリルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６
−メチル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）−３−シクロヘキセン、６−フェニル−１，１−ビ
ス（アリルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−
フェニル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）−３−シクロヘキセン、６−エチル−１，１−ビス
（アリルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−エ
チル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）−
３−シクロヘキセン、

【００５２】６−ｎ−プロピル−１，１−ビス（アリル
オキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−ｎ−プロピ
ル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）−３
−シクロヘキセン、６−シクロヘキシル−１，１−ビス
（アリルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−シ
クロヘキシル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメ
チル）−３−シクロヘキセン、２，２−ビス（アリルオ
キシメチル）ノルボルナン、２，２−ビス（１−プロペ
ニルオキシメチル）ノルボルナン、２，２−ビス（アリ
ルオキシメチル）−５−ノルボルネン、２，２−ビス
（１−プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、
３−メチル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）ノル
ボルナン、３−メチル−２，２−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）ノルボルナン、３−メチル−２，２−ビ
ス（アリルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−メ
チル−２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチル）−
５−ノルボルネン、３−フェニル−２，２−ビス（アリ
ルオキシメチル）ノルボルナン、３−フェニル−２，２
−ビス（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、
３−フェニル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）−
５−ノルボルネン、３−フェニル−２，２−ビス（１−
プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−エ
チル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）ノルボルナ
ン、３−エチル−２，２−ビス（１−プロペニルオキシ
メチル）ノルボルナン、

【００５３】３−エチル−２，２−ビス（アリルオキシ
メチル）−５−ノルボルネン、３−エチル−２，２−ビ
ス（１−プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネ
ン、３−ｎ−プロピル−２，２−ビス（アリルオキシメ
チル）ノルボルナン、３−ｎ−プロピル−２，２−ビス
（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−ｎ
−プロピル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５
−ノルボルネン、３−ｎ−プロピル−２，２−ビス（１
−プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−
シクロヘキシル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）
ノルボルナン、３−シクロヘキシル−２，２−ビス（１
−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−シクロ
ヘキシル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５−
ノルボルネン、３−シクロヘキシル−２，２−ビス（１
−プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、１−
アリルオキシメチル−１−（１−プロペニルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、２−メチル−１−アリルオキシメ
チル−１−（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘキ
サン、２−フェニル−１−アリルオキシメチル−１−
（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサン、２−
エチル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニ
ルオキシメチル）シクロヘキサン、２−ｎ−プロピル−
１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニルオキシ
メチル）シクロヘキサン、２−シクロヘキシル−１−ア
リルオキシメチル−１−（１−プロペニルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、１−アリルオキシメチル−１−
（１−プロペニルオキシメチル）−３−シクロヘキセ
ン、

【００５４】６−メチル−１−アリルオキシメチル−１
−（１−プロペニルオキシメチル）−３−シクロヘキセ
ン、６−フェニル−１−アリルオキシメチル−１−（１
−プロペニルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６
−エチル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペ
ニルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−ｎ−プ
ロピル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニ
ルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−シクロヘ
キシル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニ
ルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、２−アリルオ
キシメチル−２−（１−プロペニルオキシメチル）ノル
ボルナン、２−アリルオキシメチル−２−（１−プロペ
ニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−メチル−
２−アリルオキシメチル−２−（１−プロペニルオキシ
メチル）ノルボルナン、３−メチル−２−アリルオキシ
メチル−２−（１−プロペニルオキシメチル）−５−ノ
ルボルネン、３−フェニル−２−アリルオキシメチル−
２−（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３
−フェニル−２−アリルオキシメチル−２−（１―プロ
ペニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−エチル
−２−アリルオキシメチル−２−（１−プロペニルオキ
シメチル）ノルボルナン、

【００５５】３−エチル−２−アリルオキシメチル−２
−（１―プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネ
ン、３−ｎ−プロピル−２−アリルオキシメチル−２−
（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−ｎ
−プロピル−２−アリルオキシメチル−２−（１―プロ
ペニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−シクロ
ヘキシル−２−アリルオキシメチル−２−（１−プロペ
ニルオキシメチル）ノルボルナン、３−シクロヘキシル
−２−アリルオキシメチル−２−（１―プロペニルオキ
シメチル）−５−ノルボルネン等を例示することができ
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００５６】本発明（Ｉ）の不飽和エーテル化合物は、
¹Ｈ−及び¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトル、並びにＦＴ−ＩＲ
スペクトルにより、その構造を同定することが可能であ
る。

【００５７】次に、本発明（ＩＩ）について説明する。
本発明（ＩＩ）は、一般式（５）〜一般式（８）のいず
れかで表されるジオール化合物をアリル化することを特
徴とする、一般式（９）〜一般式（１２）のいずれかで
表される不飽和エーテル化合物の製造方法である。

【００５８】一般式（５）

【００５９】

【化５３】一般式（６）

【００６０】

【化５４】一般式（７）

【００６１】

【化５５】一般式（８）

【００６２】

【化５６】

【００６３】（一般式（５）〜一般式（８）において、
Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロ
アルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一
種を表す。）一般式（９）

【００６４】

【化５７】一般式（１０）

【００６５】

【化５８】一般式（１１）

【００６６】

【化５９】一般式（１２）

【００６７】

【化６０】

【００６８】（一般式（９）〜一般式（１２）におい
て、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シ
クロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれ
か一種を表し、Ｒ⁵,Ｒ⁶はいずれも下記構造式（１）を
表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂

【００６９】一般式（５）〜一般式（１２）におけるＲ
⁴は具体的には、水素、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル
基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基な
どが例示できる。これらのうち原料入手の容易さからＲ
¹がフェニル基、メチル基または水素が好ましく、この
中でもメチル基が特に好ましい。

【００７０】一般式（５）〜一般式（８）の化合物の具
体例としては、１，１−シクロヘキサンジメタノール、
３−シクロヘキセン−１，１−ジメタノール、２−メチ
ル−１，１−シクロヘキサンジメタノール、６−メチル
−３−シクロヘキセン−１，１−ジメタノール、２−フ
ェニル−１，１−シクロヘキサンジメタノール、６−フ
ェニル−３−シクロヘキセン−１，１−ジメタノール、
２−エチル−１，１−シクロヘキサンジメタノール、６
−エチル−３−シクロヘキセン−１，１−ジメタノー
ル、２−シクロヘキシル−１，１−シクロヘキサンジメ
タノール、６−シクロヘキシル−３−シクロヘキセン−
１，１−ジメタノール、２−ｎ−プロピル−１，１−シ
クロヘキサンジメタノール、６−ｎ−プロピル−３−シ
クロヘキセン−１，１−ジメタノール、２，２−ノルボ
ルナンジメタノール、

【００７１】５−ノルボルネン−２，２−ジメタノー
ル、３−メチル−２，２−ノルボルナンジメタノール、
３−メチル−５−ノルボルネン−２，２−ジメタノー
ル、３−フェニル−２，２−ノルボルナンジメタノー
ル、３−フェニル−５−ノルボルネン−２，２−ジメタ
ノール、３−エチル−２，２−ノルボルナンジメタノー
ル、３−エチル−５−ノルボルネン−２，２−ジメタノ
ール、３−シクロヘキシル−２，２−ノルボルナンジメ
タノール、３−シクロヘキシル−５−ノルボルネン−
２，２−ジメタノール、３−ｎ−プロピル−２，２−ノ
ルボルナンジメタノール、３−ｎ−プロピル−５−ノル
ボルネン−２，２−ジメタノールを例示することができ
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７２】一般式（５）〜一般式（８）で表されるジ
オール化合物は、従来公知の方法で合成できる。具体的
には例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２６，４６５４
（１９６１）で示されているように、ブタジエンまたは
シクロペンタジエンと各種不飽和共役アルデヒド化合物
とのＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応を行い、飽和のジオー
ル化合物を製造する場合はこの段階で水添し、さらにホ
ルマリンとのＣａｎｉｚｚａｒｏ反応を行うことにより
合成することができる。

【００７３】また、一般式（９）〜一般式（１２）で表
される化合物の具体例としては、１，１−ビス（アリル
オキシメチル）シクロヘキサン、２−メチル−１，１−
ビス（アリルオキシメチル）シクロヘキサン、２−フェ
ニル−１，１−ビス（アリルオキシメチル）シクロヘキ
サン、２−エチル−１，１−ビス（アリルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、２−ｎ−プロピル−１，１−ビス
（アリルオキシメチル）シクロヘキサン、２−シクロヘ
キシル−１，１−ビス（アリルオキシメチル）シクロヘ
キサン、１，１−ビス（アリルオキシメチル）−３−シ
クロヘキセン、６−メチル−１，１−ビス（アリルオキ
シメチル）−３−シクロヘキセン、６−フェニル−１，
１−ビス（アリルオキシメチル）−３−シクロヘキセ
ン、６−エチル−１，１−ビス（アリルオキシメチル）
−３−シクロヘキセン、６−ｎ−プロピル−１，１−ビ
ス（アリルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−
シクロヘキシル−１，１−ビス（アリルオキシメチル）
−３−シクロヘキセン、

【００７４】２，２−ビス（アリルオキシメチル）ノル
ボルナン、２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５−
ノルボルネン、３−メチル−２，２−ビス（アリルオキ
シメチル）ノルボルナン、３−メチル−２，２−ビス
（アリルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−フェ
ニル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）ノルボルナ
ン、３−フェニル−２，２−ビス（アリルオキシメチ
ル）−５−ノルボルネン、３−エチル−２，２−ビス
（アリルオキシメチル）ノルボルナン、３−エチル−
２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５−ノルボルネ
ン、３−ｎ−プロピル−２，２−ビス（アリルオキシメ
チル）ノルボルナン、３−ｎ−プロピル−２，２−ビス
（アリルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−シク
ロヘキシル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）ノル
ボルナン、３−シクロヘキシル−２，２−ビス（アリル
オキシメチル）−５−ノルボルネンを例示することがで
きるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７５】一般式（５）〜一般式（８）のジオール化
合物のアリル化による一般式（９）〜一般式（１２）の
いずれかで表される不飽和エーテル化合物の製造は、従
来公知のアルコールのアリル化反応により達成できる。
具体的には例えば、ｉ）塩基性化合物存在下、ハロゲン化アリルと一般式
（５）〜一般式（８）のジオール化合物を反応させる方
法、ｉｉ）塩基性化合物存在下または塩基性化合物非存在
下、各種スルホン酸アリルエステルと一般式（５）〜一
般式（８）のジオール化合物を反応させる方法、

【００７６】ｉｉｉ）オキソニウム塩、アンモニウム
塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩またはヨードニウ
ム塩と一般式（５）〜一般式（８）のジオール化合物を
反応させる方法、ｉｖ）アリルアルコールと一般式（５）〜一般式（８）
のジオール化合物を反応させる方法、等が例示できる。

【００７７】これらのアリル化の方法の中でも、原料入
手の容易さ、反応の効率といった観点から、ハロゲン化
アリルと一般式（５）〜一般式（８）のジオール化合物
を反応させる方法、又は各種スルホン酸アリルエステル
と一般式（５）〜一般式（８）のジオール化合物を反応
させる方法がより好ましい。

【００７８】ハロゲン化アリルまたは各種スルホン酸ア
リルエステルと一般式（５）〜一般式（８）のジオール
化合物を塩基性化合物存在下反応させる場合、用いる塩
基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどの水酸化アルカリ金属、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属、金属ナ
トリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属、ナトリウ
ムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド、酸化亜
鉛、酸化バリウム、酸化銀、酸化水銀などの金属酸化物
を例示できる。

【００７９】また、ハロゲン化アリルとしては、塩化ア
リル、臭化アリル、ヨウ化アリルを例示できる。スルホ
ン酸アリルエステルとしてはｐ−トルエンスルホン酸ア
リルエステル、ベンゼンスルホン酸アリルエステル、メ
タンスルホン酸アリルエステルなどを例示できる。いず
れもこれらに限定されるわけではない。

【００８０】これらのアリル化反応は、溶媒中で行うこ
ともできる。用いる溶媒としては、アリル化反応に不活
性な物であれば特に制限はない。具体的には例えば、ジ
エチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、トリオキサンなどのエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、ヘキサンなどの炭化水素、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、Ｎ―メチルピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒
を挙げることができる。これらの溶媒から一種又は二種
以上を混合して用いることもできる。

【００８１】またさらにアリル化反応の際に塩基性化合
物として水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸
化アルカリ金属を用いる場合には、水に溶解して用いて
もよい。しかしこの場合は用いる溶媒等の条件によって
は二層分離することがある。これを解決するために系を
均一にし反応を加速させる目的で相関移動触媒を用いる
こともできる。用いる相間移動触媒としては、テトラブ
チルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモ
ニウムクロリドなどの四級アンモニウム塩、テトラブチ
ルホスホニウムクロリドなどのホスホニウム塩、１５−
クラウン−５、１８−クラウン−６などのクラウンエー
テルなどを挙げることができる。

【００８２】ハロゲン化アリルを用いた製造方法におい
ては、一般式（５）〜一般式（８）のジオール化合物に
対してハロゲン化アリル及び塩基性化合物は当量以上用
いることが好ましい。具体的には好ましくはジオール化
合物１モルに対してハロゲン化アリルは２モル〜２０モ
ル、より好ましくは２モル〜１０モルであり、塩基性化
合物は２モル〜２０モル、より好ましくは２モル〜１０
モルを用いて行うことが望ましい。

【００８３】また、反応温度は０℃〜２００℃、好まし
くは２０℃〜１５０℃の範囲で行うことが望ましい。０
℃以下では反応が遅くなり、２００℃以上ではジオール
化合物が変質する可能性がある。

【００８４】さらに、反応時間は１０分〜４８時間であ
り、通常３０分〜２４時間で終了する。

【００８５】スルホン酸エステルを用いる製造方法に関
しては、一般式（５）〜一般式（８）で示されるジオー
ル化合物に対してスルホン酸エステル及び塩基性化合物
は当量以上用いることが好ましい。具体的には好ましく
はジオール化合物１モルに対してスルホン酸エステルを
２モル〜２０モル、より好ましくは２モル〜１０モルで
あり、塩基性化合物は０モル〜２０モル、好ましくは０
モル〜１０モル用いる。

【００８６】反応温度は０℃〜２００℃、好ましくは、
２０℃〜１５０℃の範囲で行うことが望ましい。０℃以
下では反応が遅くなり、２００℃以上ではジオール化合
物が変質する可能性がある。

【００８７】さらに反応時間は１０分〜４８時間であ
り、通常３０分〜２４時間で終了する。

【００８８】一般式（５）〜一般式（８）で示されるジ
オール化合物のジアリルエーテル化反応は、おそらく２
つのアルコール部位において順次進行するものと考えら
れる。すなわち、ジオール化合物の２つのアルコール部
位のうち、任意の片方のみがアリル化されたモノアリル
化合物を中間体として経て一般式（９）〜一般式（１
２）のいずれかで表される不飽和エーテル化合物を形成
するものと考えられる。現在のところ、この推定のジア
リルエーテル化反応メカニズムの確証はなく、もちろん
これに限定されるわけではないことは言うまでもない。

【００８９】次に本発明（ＩＩＩ）について説明する。
本発明（ＩＩＩ）は一般式（９）〜一般式（１２）のい
ずれかで表される不飽和エーテル化合物を異性化するこ
とを特徴とする一般式（１３）〜一般式（１６）のいず
れかで表される不飽和エーテル化合物の製造方法であ
る。

【００９０】一般式（９）

【００９１】

【化６１】一般式（１０）

【００９２】

【化６２】一般式（１１）

【００９３】

【化６３】一般式（１２）

【００９４】

【化６４】

【００９５】（一般式（９）〜一般式（１２）におい
て、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シ
クロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれ
か一種を表し、Ｒ⁵,Ｒ⁶はいずれも下記構造式（１）を
表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 一般式（１３）

【００９６】

【化６５】一般式（１４）

【００９７】

【化６６】一般式（１５）

【００９８】

【化６７】一般式（１６）

【００９９】

【化６８】

【０１００】（一般式（１３）〜一般式（１６）におい
て、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シ
クロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれ
か一種を表し、Ｒ⁷,Ｒ⁸の内少なくとも一方は構造式
（２）であり、他方は構造式（１）又は構造式（２）の
いずれかを表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃

【０１０１】一般式（１３）〜一般式（１６）のいずれ
かで表される不飽和エーテル化合物の具体例としては、
１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘ
キサン、２−メチル−１，１−ビス（１−プロペニルオ
キシメチル）シクロヘキサン、２−フェニル−１，１−
ビス（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサン、
２−エチル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）シクロヘキサン、２−ｎ−プロピル−１，１−ビス
（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサン、２−
シクロヘキシル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシ
メチル）シクロヘキサン、１，１−ビス（１−プロペニ
ルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−メチル−
１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）−３−シ
クロヘキセン、６−フェニル−１，１−ビス（１−プロ
ペニルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−エチ
ル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）−３
−シクロヘキセン、６−ｎ−プロピル−１，１−ビス
（１−プロペニルオキシメチル）−３−シクロヘキセ
ン、６−シクロヘキシル−１，１−ビス（１−プロペニ
ルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、

【０１０２】２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）ノルボルナン、２，２−ビス（１−プロペニルオキ
シメチル）−５−ノルボルネン、３−メチル−２，２−
ビス（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３
−メチル−２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）−５−ノルボルネン、３−フェニル−２，２−ビス
（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−フ
ェニル−２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチル）
−５−ノルボルネン、３−エチル−２，２−ビス（１−
プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−エチル−
２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチル）−５−ノ
ルボルネン、３−ｎ−プロピル−２，２−ビス（１−プ
ロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−ｎ−プロピ
ル−２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチル）−５
−ノルボルネン、３−シクロヘキシル−２，２−ビス
（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−シ
クロヘキシル−２，２−ビス（１−プロペニルオキシメ
チル）−５−ノルボルネン、

【０１０３】１−アリルオキシメチル−１−（１−プロ
ペニルオキシメチル）シクロヘキサン、２−メチル−１
−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニルオキシメ
チル）シクロヘキサン、２−フェニル−１−アリルオキ
シメチル−１−（１−プロペニルオキシメチル）シクロ
ヘキサン、２−エチル−１−アリルオキシメチル−１−
（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサン、２−
ｎ−プロピル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プ
ロペニルオキシメチル）シクロヘキサン、２−シクロヘ
キシル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニ
ルオキシメチル）シクロヘキサン、１−アリルオキシメ
チル−１−（１−プロペニルオキシメチル）−３−シク
ロヘキセン、６−メチル−１−アリルオキシメチル−１
−（１−プロペニルオキシメチル）−３−シクロヘキセ
ン、６−フェニル−１−アリルオキシメチル−１−（１
−プロペニルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６
−エチル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペ
ニルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−ｎ−プ
ロピル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニ
ルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、６−シクロヘ
キシル−１−アリルオキシメチル−１−（１−プロペニ
ルオキシメチル）−３−シクロヘキセン、

【０１０４】２−アリルオキシメチル−２−（１−プロ
ペニルオキシメチル）ノルボルナン、２−アリルオキシ
メチル−２−（１−プロペニルオキシメチル）−５−ノ
ルボルネン、３−メチル−２−アリルオキシメチル−２
−（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３−
メチル−２−アリルオキシメチル−２−（１−プロペニ
ルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−フェニル−
２−アリルオキシメチル−２−（１−プロペニルオキシ
メチル）ノルボルナン、３−フェニル−２−アリルオキ
シメチル−２−（１―プロペニルオキシメチル）−５−
ノルボルネン、３−エチル−２−アリルオキシメチル−
２−（１−プロペニルオキシメチル）ノルボルナン、３
−エチル−２−アリルオキシメチル−２−（１―プロペ
ニルオキシメチル）−５−ノルボルネン、３−ｎ−プロ
ピル−２−アリルオキシメチル−２−（１−プロペニル
オキシメチル）ノルボルナン、３−ｎ−プロピル−２−
アリルオキシメチル−２−（１―プロペニルオキシメチ
ル）−５−ノルボルネン、３−シクロヘキシル−２−ア
リルオキシメチル−２−（１−プロペニルオキシメチ
ル）ノルボルナン、３−シクロヘキシル−２−アリルオ
キシメチル−２−（１―プロペニルオキシメチル）−５
−ノルボルネンを例示することができるが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。

【０１０５】本発明（ＩＩＩ）の異性化については通常
触媒（異性化触媒）を用いるのが好ましい。この際、用
いることのできる異性化触媒としては例えば、アルカリ
化合物や周期律表第８族元素化合物などを用いることが
可能である。

【０１０６】アルカリ化合物の具体例としては、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムメトキシド、カリウム−ｔ−
ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化
物、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属といった
アルカリ化合物が挙げられる。

【０１０７】また、周期律表第８族元素化合物として
は、周期律表第８族元素の単体、塩化物、塩またはホス
フィン、ニトリル、カルボニル、アルケンを配位子とし
た錯体、またはこれらををシリカ、アルミナ、シリカ−
アルミナ、活性炭、金属酸化物等の担体に担持したもの
を用いることができ、これらは、一種または二種を以上
組み合わせてもよい。

【０１０８】具体的には、パラジウム−シリカ、パラジ
ウム−アルミナ、パラジウム−シリカアルミナ、パラジ
ウム−カーボン、ルテニウム−シリカ、ルテニウム−ア
ルミナ、ルテニウム−シリカアルミナ、ルテニウム−カ
ーボン、ロジウム−シリカ、ロジウム−アルミナ、ロジ
ウム−シリカアルミナ、ロジウム−カーボン、白金−シ
リカ、白金−アルミナ、白金−シリカアルミナ、白金−
カーボン、イリジウム−シリカ、イリジウム−アルミ
ナ、イリジウム−シリカアルミナ、イリジウム−カーボ
ンなどの金属担持物、

【０１０９】塩化ルテニウム、塩化パラジウム、塩化ロ
ジウム、塩化白金などの金属塩化物、ジクロロトリス
（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロテト
ラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジヒド
リドテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウ
ム、クロロヒドリドトリス（トリフェニルホスフィン）
ルテニウム、カルボニルクロロヒドリドトリス（トリフ
ェニルホスフィン）ルテニウム、カルボニルジヒドリド
トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムなどのル
テニウム錯体、

【０１１０】ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウ
ム、カルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム、ジクロロビス（トリアルキルホスフィン）パラ
ジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジ
ウム、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）パラジ
ウム、ジクロロ（１，３−ノルボルナジエン）パラジウ
ムなどのパラジウム錯体、

【０１１１】クロロトリス（トリフェニルホスフィン）
ロジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ロジ
ウム塩化物、ヒドリドテトラキス（トリフェニルホスフ
ィン）ロジウムなどのロジウム錯体、

【０１１２】クロロトリス（トリフェニルホスフィン）
イリジウム、トリクロロトリス（トリエチルホスフィ
ン）イリジウム、クロロカルボニルビス（トリフェニル
ホスフィン）イリジウムなどのイリジウム錯体、

【０１１３】ビス（ベンゾニトリル）ジクロロ白金、ジ
クロロビス（アセトニトリル）白金、ジクロロビス（ト
リブチルホスフィン）白金、ヒドリドクロロビス（トリ
エチルホスフィン）白金、ヨードトリアルキル白金など
の白金錯体が挙げられる。

【０１１４】これらの触媒は一種または二種以上を組み
合わせて用いることができる。さらに、上記の塩化物、
錯体を一種または二種以上を担体に担持し触媒として用
いることもできる。

【０１１５】上記の元素を担体に担持させた触媒の中で
は、パラジウムを含む触媒の活性が高く、特にパラジウ
ム−アルミナ、パラジウム−カーボンなどが好ましい。
また、金属錯体の中ではルテニウムを含む錯体の活性が
高く、特にジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）
ルテニウムが好ましい。

【０１１６】これら異性化触媒は一般式（９）〜（１
２）のジアリルエーテル化合物に対して、０．０１質量
％〜３０質量％、好ましくは０．０５質量％〜１０質量
％、より好ましくは０．１質量％〜５質量％の量で用い
られる。反応温度は３０℃〜２５０℃、好ましくは１０
０℃〜２００℃の範囲である。３０℃以下では反応が遅
くなり、２５０℃を越えると副反応を起こす恐れがあ
る。

【０１１７】この異性化反応は、窒素雰囲気下など、不
活性ガス雰囲気中で行うことも可能である。

【０１１８】また、これらの反応は溶媒中で行うことも
できる。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、ジ
メトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ト
リオキサンなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類、アセトン、メチルエ
チルケトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコールなどの
アルコール類などが挙げられる。

【０１１９】また、異性化反応時に、重合反応が生じる
のを防止するために、重合禁止剤を用いることもでき
る。重合禁止剤の具体例としては、ｐ−ベンゾキノン、
２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキノンなどのキノン
類、ハイドロキノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、２、
５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、モノ−ｔ−ブチル
ハイドロキノン、テトラキス［メチレン−３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート］メタンなどのフェノール類、ナフテン酸銅、ナ
フテン酸コバルトなどの金属塩などが挙げられる。

【０１２０】異性化して得られた一般式（１３）〜一般
式（１６）のいずれかで表される不飽和エーテル化合物
はそのまま使用することもできるが、場合によっては、
蒸留などの方法により精製して使用してもよい。

【０１２１】本発明（ＩＶ）は、本発明（Ｉ）の不飽和
エーテル化合物の少なくとも一種以上を含むことを特徴
とする重合性組成物である。この重合性組成物には必要
に応じて種々の重合開始剤、重合性モノマー、光重合増
感剤、染料、顔料、可塑剤、無機充填材、溶剤などを混
合することにより、本発明（ＩＶ）の重合性組成物を得
ることができる。

【０１２２】本発明の重合性組成物は重合開始剤を含有
してもよい。重合開始剤としては、熱ラジカル重合開始
剤、光ラジカル重合開始剤、熱カチオン重合開始剤、光
カチオン重合開始剤などのラジカル重合、カチオン重合
を起こすものであれば特に制限はない。また、重合開始
剤は、重合性組成物としてあらかじめ混合してもよい
し、重合の直前に添加してもよい。

【０１２３】熱ラジカル重合開始剤の具体例としては、
例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，
２’−アゾビスイソバレロニトリルなどのアゾ系化合
物、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチ
ルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド
などのケトンパーオキシド類、ベンゾイルパーオキシ
ド、ラウロイルパーオキシド、デカノイルパーオキシド
などのジアシルパーオキシド類、ジクミルパーオキシ
ド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパ
ーオキシドなどのジアルキルパーオキシド類、１，１−
ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン、２、２−ジ
−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタンなどのパーオキシケ
タール類、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチ
ルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチル
パーオキシイソブチレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシ
ヘキサヒドロテレフタレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキ
シアゼレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−ト
リメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテ
ート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブ
チルパーオキシトリメチルアジペートなどのアルキルパ
ーオキシエステル類、ジイソプロピルパーオキシジカー
ボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネー
ト、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネートな
どのパーオキシカーボネートなどが挙げられる。これら
の重合開始剤は１種類または２種類以上を組み合わせて
用いることができる。

【０１２４】紫外線、電子線、放射線照射による重合で
用いる光ラジカル重合開始剤の具体例としては、例え
ば、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−
１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モンフォリ
ノプロパン、１，２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−
１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン、１，２−
ヒドロオキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オンなどのアセトフェノンまたはその誘導体、ベンゾ
フェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４−トリメチルシリルベンゾフェノン、４−ベ
ンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィドなどのベ
ンゾフェノンまたはその誘導体、ベンゾイン、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテルなどのベンゾインまたはその誘導体、メチルフェ
ニルグリオキシレート、ベンゾインジメチルケタール、
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキサイドなどが挙げられる。これらの重合開始剤は
一種、または二種以上を組み合わせて用いることができ
る。

【０１２５】熱カチオン重合で用いる重合開始剤の具体
例としては、例えば、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素
ジエチルエーテル錯体、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、
四塩化チタン、四塩化スズなどが挙げられる。これらの
重合開始剤は一種、または二種以上を組み合わせて用い
ることができる。

【０１２６】光カチオン重合で用いる重合開始剤の具体
例としては、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨー
ドニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリー
ルホスホニウム塩、ピリジニウム塩、キノリニウム塩な
どのイオン性重合開始剤、２−ニトロベンジルエステ
ル、イミノスルホナート、１−オキソ−２−ジアゾナフ
トキノン−４−スルホナート誘導体、Ｎ−ヒドロキシイ
ミド＝スルホナート、トリ（メタンスルホニルオキシ）
ベンゼン誘導体などのスルホン酸を発生する非イオン性
重合開始剤、カルボン酸−ｏ−ニトロベンジルエステ
ル、１−オキソ−２−ジアゾナフトキノン−５−アリー
ルスルホナートなどのカルボン酸を発生する非イオン性
重合開始剤、トリアリールリン酸エステル誘導体などの
リン酸を発生する非イオン性重合開始剤が挙げられる。
これらの重合開始剤は一種、または二種以上を組み合わ
せて用いることができる。

【０１２７】これらの重合開始剤の使用量は、本発明
（ＩＶ）の重合性組成物に含まれる本発明（Ｉ）の不飽
和エーテル化合物の総和に対して０．０１質量％〜５０
質量％、好ましくは０．０５質量％〜３０質量％、より
好ましくは０．１質量％〜２０質量％の範囲である。

【０１２８】さらに本発明（ＶＩ）の重合性組成物は本
発明（Ｉ）の不飽和エーテル化合物以外の他の重合性モ
ノマーを含有してもよい。

【０１２９】用いる重合性モノマーについては一般に重
合性モノマーとして用いられているもので特に制限はな
い。具体的には例えば、エチレン、プロピレン、１−ブ
テン、イソブテン、ブタジエンなどの鎖状オレフィン
類、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロペンタジ
エンなどのシクロオレフィン類、スチレン、ジビニルベ
ンゼンなどのビニル置換芳香族炭化水素、メチルビニル
エーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエ
ーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシ
ルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ラウ
リルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、ステアリ
ルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、アクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの不飽和カルボン
酸類、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ク
ロトン酸エステル、マレイン酸エステル、フマル酸エス
テル、イタコン酸エステルなどの不飽和カルボン酸エス
テル、アリルアルコール、クロチルアルコールなどの不
飽和アルコール、アクロレイン、メタクロレイン、クロ
トンアルデヒドなどの不飽和アルデヒド類、マレイミ
ド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、
Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、ビスマレイミドなどの
マレイミド類、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロー
ルメタクリルアミド、アクリロニトリルなどが挙げられ
る。

【０１３０】好ましくはビニルエーテル類、不飽和カル
ボン酸類、不飽和カルボン酸エステル、マレイミド類、
ビニル置換芳香族炭化水素である。これらの重合性モノ
マーは一種、または二種以上を組み合わせて用いること
ができる。

【０１３１】本発明（ＶＩ）の重合性組成物は光重合増
感剤を含有してもよい。用いる光重合増感剤としては、
一般的に用いられているものであれば特に制限はない。
具体的には例えば、光ラジカル重合増感剤としては、チ
オピリリウム塩、メロシアニン、キノリン、スチルキノ
リン、アリールケトン類、芳香族ケトン類、ケトクマリ
ン類などが挙げられ、光カチオン重合増感剤としては、
ペリレン、ピレン、アントラセン、コロネン、フェノチ
アジンなどが挙げられる。これらの光重合増感剤は一
種、または二種以上を組み合わせて用いることができ
る。

【０１３２】さらに、本発明（ＶＩ）の重合性組成物は
染料を含有してもよい。染料としては、一般的に用いら
れているものをものであれば特に制限はない。具体的に
は例えば、アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイ
ド染料、ジフェニルメタン染料、キサンテン染料、アク
リジン染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染
料、ポリメチン（シアニン）染料、キノリン染料、フタ
ロシアニン染料、酸化染料などが挙げられる。これらの
染料は一種、または二種以上を組み合わせて用いること
ができる。

【０１３３】本発明（ＶＩ）の重合性組成物は顔料を含
有してもよい。用いる顔料としては一般的に用いられて
いるものをものであれば特に制限はない。具体的には例
えば、不溶性アゾ顔料、溶性アゾ顔料、銅フタロシアニ
ン系顔料、キナクリドン系顔料などの有機顔料、クロム
酸塩、フェロシアン化合物、金属酸化物、硫化物セレン
化合物、金属塩類（硫酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩、リン酸
塩）、金属粉末、カーボンブラックなどの無機顔料が挙
げられる。これら顔料の混合比率は本発明（ＶＩ）の重
合性組成物に対して通常は０．５質量％〜１０質量％、
好ましくは１質量％〜５質量％である。これらの顔料は
一種、または二種以上を組み合わせて用いることができ
る。

【０１３４】本発明（ＶＩ）の重合性組成物は可塑剤を
含有してもよい。用いる可塑剤としては一般的に用いら
れているものをものであれば特に制限はない。具体的に
は例えば、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フ
タル酸ブチルベンジル、フタル酸ジイソデシルなどのフ
タル酸エステル類、アジピン酸ジ−２−エチルヘキシ
ル、セバシン酸−２−エチルヘキシルなどの脂肪族２塩
基酸エステル、トリメリット酸トリ−２−エチルヘキシ
シル、トリメリット酸トリオクチルなどのトリメリット
酸エステル、リン酸トリ−２−エチルヘキシシル、リン
酸トリオクチル、リン酸トリクレジルなどのリン酸エス
テル、オレイン酸ブチルなどの脂肪酸エステルなどが挙
げられる。これら可塑剤の混合比率は本発明（ＶＩ）の
重合性組成物に対して１質量％〜３０質量％、好ましく
は３質量％〜２０質量％である。これらの可塑剤は一
種、または二種以上を組み合わせて用いることができ
る。

【０１３５】本発明（ＶＩ）の重合性組成物は無機充填
材を含有してもよい。用いる無機充填材としては一般的
に用いられているものをものであれば特に制限はない。
具体的には例えば、炭酸カルシウム、アルミナ、シリ
カ、硫酸カルシウムなどを挙げることができる。無機充
填材の混合比率は本発明（ＶＩ）の重合性組成物に対し
て５質量％〜１００質量％、好ましくは１０質量％〜７
０質量％である。これらの無機充填材は一種、または二
種以上を組み合わせて用いることができる。

【０１３６】本発明（ＶＩ）の重合性組成物は用途、使
用目的によっては溶剤を含有してもよい。用いる溶剤と
しては一般に用いられているものであれば特に制限はな
い。具体的には例えば、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、ブタノール、イソブタノール、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシ
レンなどを挙げることができる。これらの溶剤は一種、
または二種以上を組み合わせて用いることができる。

【０１３７】最後に本発明（Ｖ）について説明する。

【０１３８】本発明（Ｖ）は、本発明（ＩＶ）の重合性
組成物を硬化することにより得られる硬化物である。す
なわち、本発明（ＩＶ）の重合性組成物をラジカル重
合、カチオン重合、光カチオン重合などをさせることに
より本発明（Ｖ）の硬化物を得ることができる。

【０１３９】具体的には、重合開始剤としてラジカル重
合開始剤を用いれば、熱や紫外線、電子線、放射線など
を照射することによりラジカル重合硬化物を得ることが
できる。光カチオン重合開始剤を用いれば、紫外線、電
子線、放射線などの照射により光カチオン重合硬化物を
得ることができる。カチオン重合開始剤を用いればカチ
オン重合硬化物を得ることができる。

【０１４０】光ラジカル重合、光カチオン重合の際の光
硬化の光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、重水素ランプ、ハロゲンランプ、キ
セノンランプ、カーボンアーク灯、蛍光灯、Ｈｅ−Ｃｄ
レーザーなどを用いることができる。これらの光源のう
ち、高圧水銀灯が硬化に際して好ましい。

【０１４１】光ラジカル重合、光カチオン重合の際に用
いる光の波長及び照射量は、用いた重合開始剤により異
なるが好ましくは２００ｎｍ〜７５０ｎｍ、より好まし
くは２００ｎｍ〜４５０ｎｍであり、光の照射量は通常
１０ｍＪ／ｃｍ²〜１０００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは１
００ｍＪ／ｃｍ²〜５００ｍＪ／ｃｍ²である。

【０１４２】熱ラジカル重合の反応温度は好ましくは５
０℃〜３００℃、より好ましくは１００℃〜２５０℃の
範囲である。５０℃以下では硬化が進行しにくく、３０
０℃以上では重合性組成物および硬化物が変質する恐れ
がある。

【０１４３】カチオン重合の反応温度は好ましくは０℃
〜３００℃、より好ましくは２０℃〜２００℃である。
０℃以下では硬化が進行しにくく、３００℃以上では重
合性組成物および硬化物が変質する恐れがある。

【０１４４】

【実施例】以下に実施例により、本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。各種分析条件１．¹ Ｈ−ＮＭＲ、¹³ Ｃ−ＮＭＲ測定条件日本電子製ＪＮＭ−ＥＸ４００型（４００ＭＨｚ）スペ
クトロメータ使用。溶媒ＣＤＣｌ₃、内標ＴＭＳ（テトラメチルシラ
ン）２．ＦＴ−ＩＲ測定条件Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ製ＳｐｅｃｔｒｕｍＧＸスペ
クトロメータ使用。ＫＢｒ液膜法。３．ＧＣ分析条件島津製作所製ガスクロマトグラフＧＣ−７Ａ使用キャリアー：Ｈｅ、１ｍｌ／ｍｉｎ、スプリット比１／
５０検出器：ＦＩＤカラム：ＧＬサイエンス社製ＮＥＵＴＲＡＢＯＮＤ−１
（０．２５ｍｍφ×６０ｍ、膜厚１．５μｍ）カラム温度：１５０℃（１０ｍｉｎ）→３２℃／ｍｉｎ
→２００℃（３０ｍｉｎ）インジェクション温度：２８０℃ 注入量：０．２μｌ

【０１４５】実施例１：１，１−ビス（アリルオキシメ
チル）シクロヘキサンの合成１２０ｍｌオートクレーブ（ＳＵＳ３１６製、攪拌機付
き、耐圧２０ＭＰａ）中に１，１−シクロヘキサンジメ
タノール１４．４２ｇ（０．１ｍｏｌ）、４８％水酸化
ナトリウム水溶液６６．６７ｇ（０．８ｍｏｌ）、塩化
アリル４５．９ｇ（０．６ｍｏｌ）、及びテトラブチル
アンモニウムクロリド２．８ｇを仕込み、蓋をして窒素
ガスを導入、脱圧（０．５ＭＰａ×４回）を繰り返すこ
とにより窒素置換し、最後に窒素圧を０．２０ＭＰａか
けたまま内容を密閉した。その後、撹拌しながら内温を
９０℃まで昇温し、そのまま９０℃で６時間反応を実施
した。内圧は０．３１ＭＰａまで上昇し、６時間後には
０．２８ＭＰａまで低下した。

【０１４６】内温を室温まで冷却後、内容物約０．４ｍ
ｌを取り出しアセトンで５ｍｌに希釈して分析サンプル
を調製した。このサンプルのＧＣ分析をしたところ、原
料１，１−シクロヘキサンジメタノールのピークは確認
されなかったことから、この原料の転化率が１００％で
あることを確認した。また、ＧＣチャートで１７．７分
から２５．４分の間にみられる各生成物のピーク面積の
合計のうち、主生成物である１，１−ビス（アリルオキ
シメチル）シクロヘキサンに相当する２３．５分のピー
クの面積の占める割合から算出した選択率は９９％であ
った。

【０１４７】反応により生成した塩を５０ｍｌの水に溶
解させた後、有機物をヘキサン２００ｍｌで抽出した。
分液後、有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄し、有機層を
約２０ｇの乾燥剤（無水硫酸ナトリウム）で乾燥させ
た。得られた有機層を濾過し、乾燥剤をヘキサン２０ｍ
ｌで洗浄後、ロータリーエバポレーターで溶媒、原料及
び低沸生成物を減圧留去した。このようにして得られた
粗生成物２２．３ｇを減圧蒸留し、沸点８８℃（０．２
７ｋＰａ）の無色透明な留分１８．３ｇを得た。

【０１４８】得られた留分のＦＴ−ＩＲ、¹Ｈ−及び，
¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、１，１−
ビス（アリルオキシメチル）シクロヘキサンであると同
定された。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０８０，３
０１５，２９３０，２８５３（νＣ−Ｈ）、１６４７
（νＣ＝Ｃ）、１１４３，１０９４（νＣ−Ｏ）、９８
７，９２２（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ１．４１
（１０Ｈ，ｃｙ−Ｈ）３．３１（４Ｈ，ｃｙ−ＣＨ₂Ｏ）、３．９４−３．９
６（４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−Ｃ＝）、５．１２−５．２
８，５．８４−５．９４（−ＣＨ＝ＣＨ₂）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ２１．５，２
６．３，３０．１，３８．５（Ｃ（ｃｙ））、７２．１
（ｃｙ−ＣＨ₂−Ｏ）、７３．５（Ｏ−ＣＨ₂−）、１１
５．９，１３５．４（−ＣＨ＝ＣＨ₂）

【０１４９】実施例２：２−メチル−１，１−ビス（ア
リルオキシメチル）シクロヘキサンの合成１２０ｍｌオートクレーブ（ＳＵＳ３１６製、攪拌機付
き、耐圧２０ＭＰａ）中に２−メチル−１，１−シクロ
ヘキサンジメタノール１５．８２ｇ（０．１ｍｏｌ）、
４８％水酸化ナトリウム水溶液６６．６７ｇ（０．８ｍ
ｏｌ）、塩化アリル４５．９ｇ（０．６ｍｏｌ）、及び
テトラブチルアンモニウムクロリド２．８ｇを仕込み、
蓋をして窒素ガスを導入、脱圧（０．５ＭＰａ×４回）
を繰り返すことにより窒素置換し、最後に窒素圧を０．
２０ＭＰａかけたまま内容を密閉した。その後、撹拌し
ながら内温を９０℃まで昇温し、そのまま９０℃で６時
間反応を実施した。内圧は０．３１ＭＰａまで上昇し、
６時間後には０．２８ＭＰａまで低下した。

【０１５０】内温を室温まで冷却後、内容物約０．４ｍ
ｌを取り出しアセトンで５ｍｌに希釈して分析サンプル
を調製した。このサンプルのＧＣ分析をしたところ、原
料２−１，１−シクロヘキサンジメタノールのピークは
確認されなかったことから、この原料の転化率が１００
％であることを確認した。また、ＧＣチャートで１７．
５分から２５．２分の間にみられる各生成物のピーク面
積の合計のうち、主生成物である２−メチル−１，１−
ビス（アリルオキシメチル）シクロヘキサンに相当する
２５．２分のピークの面積の占める割合から算出した選
択率は９２％であった。

【０１５１】その後、実施例１と同様な分離操作を行
い、２３．０ｇの粗生成物が得られた。この粗生成物を
減圧蒸留し、沸点１０６℃（０．３４ｋＰａ）の無色透
明な留分１６．８ｇを得た。

【０１５２】得られた留分のＦＴ−ＩＲ、¹Ｈ−及び，
¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、この生成
物は２−メチル−１，１−ビス（アリルオキシメチル）
シクロヘキサンであると同定された。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０８０，３
０１５，２９３０，２８６０（νＣ−Ｈ）、１６４７
（νＣ＝Ｃ）、１１４３，１０９６（νＣ−Ｏ）、９９
３，９２１（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ０．８８
ｄ（３Ｈ，ｃｙ−ＣＨ₃）、１．２２−１．７５（９
Ｈ，ｃｙ−Ｈ）、３．２６−３．４７（４Ｈ，ｃｙ−Ｃ
Ｈ₂Ｏ−）、３．９１−３．９７（４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−
Ｃ＝）、５．１２−５．２９，５．８３−５．９５（−
ＣＨ＝ＣＨ₂）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ１６．０（−Ｃ
Ｈ₃）、２１．７，２５．０，２９．２，３０．６，３
３．７，４１．１（Ｃ（ｃｙ））、７０．３，７４．３
（ｃｙ−ＣＨ₂−Ｏ）、７２．３（Ｏ−ＣＨ₂−）、１１
６．０，１３５．５（−ＣＨ＝ＣＨ₂）

【０１５３】実施例３：３−メチル−２，２−ビス（ア
リルオキシメチル）ノルボルナンの合成１２０ｍｌオートクレーブ（ＳＵＳ３１６製、攪拌機付
き、耐圧２０ＭＰａ）中に３−メチル−２，２−ノルボ
ルナンジメタノール１７．０３ｇ（０．１ｍｏｌ）、４
８％水酸化ナトリウム水溶液６６．６７ｇ（０．８ｍｏ
ｌ）、塩化アリル４５．９ｇ（０．６ｍｏｌ）、及びテ
トラブチルアンモニウムクロリド２．８ｇを仕込み、蓋
をして窒素ガスを導入、脱圧（０．５ＭＰａ×４回）を
繰り返すことにより窒素置換し、最後に窒素圧を０．２
０ＭＰａかけたまま内容を密閉した。その後、撹拌しな
がら内温を９０℃まで昇温し、そのまま９０℃で６時間
反応を実施した。内圧は０．３３ＭＰａまで上昇し、６
時間後には０．３０ＭＰａまで低下した。

【０１５４】内温を室温まで冷却後、内容物約０．４ｍ
ｌを取り出しアセトンで５ｍｌに希釈して分析サンプル
を調製した。このサンプルのＧＣ分析をしたところ、原
料である３−メチル−２，２−ノルボルナンジメタノー
ルのピークは確認されなかったことから、この原料の転
化率が１００％であることを確認した。また、ＧＣチャ
ートで１７．６分から２７．９分の間にみられる各生成
物のピーク面積の合計のうち、主生成物である３−メチ
ル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）ノルボルナン
に相当する２７．７分のピークの面積の占める割合から
算出した選択率は９１％であった。

【０１５５】その後、実施例１と同様な分離操作を行
い、２４．０ｇの粗生成物が得られた。この粗生成物を
減圧蒸留し、沸点１０８℃（０．４７ｋＰａ）の無色透
明な留分１７．０ｇを得た。

【０１５６】得られた留分のＦＴ−ＩＲ、¹Ｈ−及び，
¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、３−メチ
ル−２，２−ビス（アリルオキシメチル）ノルボルナン
であると同定された。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０８１，３
０１６，２９３０，２８６１（νＣ−Ｈ）、１６４７
（νＣ＝Ｃ）、１１４３，１０９６（νＣ−Ｏ）、９９
３，９２１（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ０．９３
ｄ（３Ｈ，−ＣＨ₃）、１．０４−１．７９，２．０６
（９Ｈ，ｎｏｒｂｏｒｎａｎｅｒｉｎｇ−Ｈ）、３．
２７−３．４３（４Ｈ，ｃｙ−ＣＨ₂Ｏ−）、３．９２
−３．９７（４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−Ｃ＝）、５．１０−
５．２８，５．８５−５．９４（−ＣＨ＝ＣＨ₂）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ１５．７（−Ｃ
Ｈ₃）、２４．０，２９．３，３５．１，４２．３，４
５．１，４８．５（Ｃ（ｎｏｒｂｏｒｎａｎｅ））、７
０．６，７２．０，７２．１，７３．２（−ＣＨ₂−Ｏ
−）、１１５．８．１１５．９，１３５．５（−ＣＨ＝
ＣＨ₂）

【０１５７】実施例４：２，２−ビス（アリルオキシメ
チル）−５−ノルボルネンの合成１２０ｍｌオートクレーブ（ＳＵＳ３１６製、攪拌機付
き、耐圧２０ＭＰａ）中に５−ノルボルネン−２，２−
ジメタノール１５．４２ｇ（０．１ｍｏｌ）、４８％水
酸化ナトリウム水溶液６６．６７ｇ（０．８ｍｏｌ）、
塩化アリル４５．９ｇ（０．６ｍｏｌ）、及びテトラブ
チルアンモニウムクロリド２．８ｇを仕込み、蓋をして
窒素ガスを導入、脱圧（０．５ＭＰａ×４回）を繰り返
すことにより窒素置換し、最後に窒素圧を０．２０ＭＰ
ａかけたまま内容を密閉した。その後、撹拌しながら内
温を９０℃まで昇温し、そのまま９０℃で６時間反応を
実施した。内圧は０．３０ＭＰａまで上昇し、６時間後
には０．２８ＭＰａまで低下した。

【０１５８】内温を室温まで冷却後、内容物約０．４ｍ
ｌを取り出しアセトンで５ｍｌに希釈して分析サンプル
を調製した。このサンプルのＧＣ分析をしたところ、原
料である５−ノルボルネン−２，２−ジメタノールのピ
ークは確認されなかったことから、この原料の転化率が
１００％であることを確認した。また、ＧＣチャートで
１７．６分から２５．４分の間にみられる各生成物のピ
ーク面積の合計のうち、主生成物である２，２−ビス
（アリルオキシメチル）−５−ノルボルネンに相当する
２４．８分のピークの面積の占める割合から算出した選
択率は９８％であった。

【０１５９】その後、実施例１と同様な分離操作を行
い、２３．２ｇの粗生成物が得られた。この粗生成物を
減圧蒸留し、沸点１１３℃（０．６７ｋＰａ）の無色透
明な留分１８．８ｇを得た。

【０１６０】得られた留分のＦＴ−ＩＲ、¹Ｈ−及び，
¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、２，２−
ビス（アリルオキシメチル）−５−ノルボルネンである
と同定された。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０６２，２
９７０，２８６９（νＣ−Ｈ）、１６４７（νＣ＝
Ｃ）、１１４５，１０９７（νＣ−Ｏ）、９９０，９２
２，７１９（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ０．７４
−０．７７，１．３６−１．３９，１．５１−１．５
５，２．６７，．７８（６Ｈ，ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅＣ
ｓｐ３−Ｈ）、３．１１ｄ，３．２６ｄ，３．４４ｄ，
３．６１ｄ（４Ｈ，ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅ−ＣＨ₂Ｏ
−）、３．８９−３．９１，３．９９−４．０１（４
Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−Ｃ＝）、５．１１−５．３０，５．
８３−５．９６（−ＣＨ＝ＣＨ₂）、６．０３−６．１
２（ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅ−ＣＨ＝ＣＨ−）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ３３．１，４
２．３，４６．２，４７．２，４７．６（ｎｏｒｂｏｒ
ｎｅｎｅＣｓｐ３））、７２．０，７２．２，７３．
０，７４．３（−ＣＨ₂−Ｏ）、１１６．１，１１６．
３，１３５．０，１３５．３，１３５．４，１３６．９
（−ＣＨ＝ＣＨ₂，−ＣＨ＝ＣＨ−）

【０１６１】実施例５：１，１−ビス（アリルオキシメ
チル）シクロヘキサンの異性化による１，１−ビス（１
−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサンの合成誘導撹拌子を入れた２０ｍのナス型フラスコにジクロロ
トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム１９ｍｇ
（０．０２ｍｍｏｌ）を仕込み、内容を窒素置換した後
に実施例１で調製した１，１−ビス（アリルオキシメチ
ル）シクロヘキサン４．３８ｇ（０．０２ｍｏｌ）をシ
リンジを用いて添加した。

【０１６２】このフラスコを予め加熱しておいた１２０
℃のオイルバスに浸け、撹拌させながら反応を行った。

【０１６３】６時間後、反応液の約０．２ｍｌをサンプ
リングしアセトンで３ｍｌに希釈してＧＣ分析用サンプ
ルを調製した。このサンプルのＧＣ分析を行った結果、
基質の１，１−ビス（アリルオキシメチル）シクロヘキ
サンのピークが消失していることから、基質の転化率が
ほぼ１００％であることを確認した。また、２０．８分
から２５．９分にみられる各生成物のピーク面積の合計
のうち、主生成物である１，１−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）シクロヘキサンの２４．３、２５．０、
２５．９の３種の異性体の面積の占める割合が９８．９
％、中間体である１−アリルオキシメチル−１−（１−
プロペニルオキシ）シクロヘキサンの２３．９、２４．
７分のピークの占める割合が１．１％であり、基質のア
リル基の約９９．５％がプロペニル基へ異性化している
ことがわかった。

【０１６４】この反応液を取り出し、ガラスチューブオ
ーブンを用いて生成物を減圧下に蒸留し、触媒より分離
した。これにより３．８ｇの無色透明の生成物を単離し
た。

【０１６５】単離した化合物のＦＴ−ＩＲスペクトル、
¹Ｈ−，及び¹³Ｃ−ＮＭＲは以下の通りであり、１，１
−ビス（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサン
であることを確認した。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０４２，２
９３２，２８６３（νＣ−Ｈ）、１６６８，１６６０
（νＣ＝Ｃ）、１１８４，１１２５，１０９２（νＣ−
Ｏ）、９９２，９３０，７２３（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ１．４３
（１０Ｈ，ｃｙ−Ｈ）、１．５２−１．５８（６Ｈ，
＝Ｃ−ＣＨ₃）、３．５０−３．６３（４Ｈ，ｃｙ−Ｃ
Ｈ₂Ｏ）、４．２８−４．３３（Ｚ−），４．７１−
４．７８（Ｅ−）（２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−）、５．
９２−５．９６（Ｚ−），６．２０−６．２５（Ｅ−）
（２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ９．１，１２．
５（−ＣＨ₃）、２１．４，２６．２，２９．６，３
７．９−３９．１（Ｃ（ｃｙ））、７１．８−７５．２
（ｃｙ−ＣＨ₂−Ｏ）、９７．７−１００．０（Ｏ−Ｃ
Ｈ＝）、１４６．６−１４７．２（−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ
₃）

【０１６６】実施例６：２−メチル−１，１−ビス（１
−プロペニルオキシメチル）シクロヘキサンの合成誘導撹拌子を入れた２０ｍのナス型フラスコにジクロロ
トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム１９ｍｇ
（０．０２ｍｍｏｌ）を仕込み、内容を窒素置換した後
に実施例２で調製した２−メチル−１，１−ビス（アリ
ルオキシメチル）シクロヘキサン４．７７ｇ（０．０２
ｍｏｌ）をシリンジを用いて添加した。

【０１６７】このフラスコを予め加熱しておいた１２０
℃のオイルバスに浸け、撹拌しながら反応を行った。

【０１６８】２時間後、反応液の約０．２ｍｌをサンプ
リングしアセトンで３ｍｌに希釈してＧＣ分析用サンプ
ルを調製した。このサンプルのＧＣ分析を行った結果、
基質の２−メチル−１，１−ビス（アリルオキシメチ
ル）シクロヘキサンのピークが消失していることから、
基質の転化率がほぼ１００％であることを確認した。ま
た、２２．７分から２８．２分にみられる各生成物のピ
ーク面積の合計のうち、主生成物である２−メチル−
１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）シクロヘ
キサンの２６．６、２７．２、２７．４、２８．２の４
種の異性体の面積の占める割合が９８．７％、中間体で
ある２−メチル−１−アリルオキシメチル−１−（１−
プロペニルオキシ）シクロヘキサンの２４．６、２６．
０、２６．８分のピークの占める割合が１．１％であ
り、基質のアリル基の約９９．４％がプロペニル基へ異
性化していることがわかった。

【０１６９】この反応液を取り出し、ガラスチューブオ
ーブンを用いて生成物を減圧下に蒸留し、触媒より分離
した。これにより４．０ｇの無色透明の生成物が得られ
た。

【０１７０】得られた生成物のＦＴ−ＩＲ、¹Ｈ−及
び，¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、２−
メチル−１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチル）
シクロヘキサンであると同定された。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０４２，２
９３１，２８６３（νＣ−Ｈ）、１６６８，１６５９
（νＣ＝Ｃ）、１１８４，１１２５，１０９５（νＣ−
Ｏ）、９７９，９２９，７２３（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ０．８７
−０．９５（３Ｈ，ｃｙ−ＣＨ₃）、１．２６−１．７
４（９Ｈ＋６Ｈ，ｃｙ−Ｈ，−Ｃ＝Ｃ−ＣＨ₃）、３．
４８−３．７８（４Ｈ，ｃｙ−ＣＨ₂Ｏ）、４．２９−
４．３４（Ｚ−），４．７０−４．７９（Ｅ−）（２
Ｈ，−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−）、５．９０−５．９７（Ｚ
−），６．２１−６．２６（Ｅ−）（２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ
＝ＣＨ−）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ９．１−９．
２，１２．４，１５．７−１６．０（−ＣＨ₃）、２
１．４，２４．６，２８．６−２８．７，３０．４，３
３．４−３３．８，４０．３−４１．５（Ｃ（ｃ
ｙ））、６８．４−７５．７（ｃｙ−ＣＨ₂−Ｏ）、９
７．６−１００．３（Ｏ−ＣＨ＝）、１４６．３−１４
７．２（−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃）

【０１７１】実施例７：３−メチル−２，２−ビス（１
−プロペニルオキシメチル）ノルボルナンの合成誘導撹拌子を入れた２０ｍのナス型フラスコにジクロロ
トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム１９ｍｇ
（０．０２ｍｍｏｌ）を仕込み、内容を窒素置換した後
に実施例３で調製した３−メチル−２，２−ビス（アリ
ルオキシメチル）ノルボルナン５．０１ｇ（０．０２ｍ
ｏｌ）をシリンジを用いて添加した。

【０１７２】このフラスコを予め加熱しておいた１２０
℃のオイルバスに浸け、撹拌しながら反応を行った。

【０１７３】１０時間後、反応液の約０．２ｍｌをサン
プリングしアセトンで３ｍｌに希釈してＧＣ分析用サン
プルを調製した。このサンプルのＧＣ分析を行った結
果、基質の３−メチル−２，２−ビス（アリルオキシメ
チル）ノルボルナンのピークが消失していることから、
基質の転化率がほぼ１００％であることを確認した。ま
た、２５．２分から３１．４分にみられる各生成物のピ
ーク面積の合計のうち、主生成物である３−メチル−
２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチル）ノルボル
ナンの２９．２、２９．９、３０．１、３１．０分の４
種の異性体の面積の占める割合が９８．８％、中間体で
ある３−メチル−２−アリルオキシメチル−２−（１−
プロペニルオキシメチル）ノルボルナンの２８．６分の
ピークの占める割合が１．２％であり、基質のアリル基
の約９９．４％がプロペニル基へ異性化していることが
わかった。

【０１７４】この反応液を取り出し、ガラスチューブオ
ーブンを用いて生成物を減圧下に蒸留し、触媒より分離
した。これにより４．４ｇの無色透明の生成物が得られ
た。

【０１７５】得られた留分のＦＴ−ＩＲ、¹Ｈ−及び，
¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、３−メチ
ル−２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチル）ノル
ボルナンであると同定された。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０４２，２
９５５，２８８３（νＣ−Ｈ）、１６６８，１６５９
（νＣ＝Ｃ）、１１８３，１１３０，１０９６（νＣ−
Ｏ）、９７６，９３０，７２３（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ０．９２
−０．９７（３Ｈ，ｎｏｒｂｏｒｎａｎｅ−ＣＨ₃）、
１．０８−２．１４（９Ｈ＋６Ｈ，ｎｏｒｂｏｒｎａｎ
ｅ−Ｈ，−Ｏ−Ｃ＝Ｃ−ＣＨ₃）、３．４５−３．７８
（４Ｈ，ｎｏｒｂｏｒｎａｎｅ−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．
２７−４．３４（Ｚ−），４．７０−４．７７（Ｅ−）
（２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−）、５．８９−５．９７
（Ｚ−），６．１９−６．２５（Ｅ−）（２Ｈ，−Ｏ−
ＣＨ＝ＣＨ−）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ９．２−９．
３，１２．６，１５．５−１５．７（−ＣＨ₃）、２
３．９，２９．３，３５．０，４２．０，４４．９−４
５．２，４７．８−４８．９（Ｃ（ｎｏｒｂｏｒｎａｎ
ｅ））、６８．９−７４．７（ｃｙ−ＣＨ₂−Ｏ）、９
７．６−１００．４（Ｏ−ＣＨ＝）、１４６．３−１４
７．２（−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃）

【０１７６】実施例８：２，２−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）−５−ノルボルネンの合成誘導撹拌子を入れた２０ｍｌのナス型フラスコにジクロ
ロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム１９ｍ
ｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を仕込み、内容を窒素置換した
後に実施例３で調製した２，２−ビス（アリルオキシメ
チル）−５−ノルボルネン４．６９ｇ（０．０２ｍｏ
ｌ）をシリンジを用いて添加した。

【０１７７】このフラスコを予め加熱しておいた１２０
℃のオイルバスに浸け、撹拌しながら反応を行った。

【０１７８】６時間後、反応液の約０．２ｍｌをサンプ
リングしアセトンで３ｍｌに希釈してＧＣ分析用サンプ
ルを調製した。このサンプルのＧＣ分析を行った結果、
基質の２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５−ノル
ボルネンのピークが消失していることから、基質の転化
率がほぼ１００％であることを確認した。また、２１．
８分から２７．３分にみられる各生成物のピーク面積の
合計のうち、主生成物である２，２−ビス（１−プロペ
ニルオキシメチル）−５−ノルボルネンの２５．６、２
６．３、２７．３分の３種の異性体の面積の占める割合
が９８．９％、中間体である２−アリルオキシメチル−
２−（１−プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネ
ンの２５．１、２５．９分のピークの占める割合が１．
２％であり、基質のアリル基の約９９．４％がプロペニ
ル基へ異性化していることがわかった。

【０１７９】この反応液を取り出し、ガラスチューブオ
ーブンを用いて生成物を減圧下に蒸留し、触媒より分離
した。これにより３．８ｇの無色透明の生成物が得られ
た。

【０１８０】得られた留分のＦＴ−ＩＲ、¹Ｈ−及び，
¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、２，２−
ビス（１−プロペニルオキシメチル）−５−ノルボルネ
ンであると同定された。ＦＴ−ＩＲスペクトル：吸収極大ｃｍ^-1 ３０４２，２
９５６，２８８３（νＣ−Ｈ）、１６６８，１６５９
（νＣ＝Ｃ）、１１８３，１１３０，１０９６（νＣ−
Ｏ）、９７６，９３０，７２３（＝ＣＨδ）¹ Ｈ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ０．７７
−０．８３，１．４１−１．５９，２．７２，２．８２
（１１Ｈ＋６Ｈ，ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅＣｓｐ３−Ｈ，
−Ｃ＝Ｃ−ＣＨ₃）、３．２８−３．９３（４Ｈ，ｎｏ
ｒｂｏｒｎｅｎｅ−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．２９−４．３
６（Ｚ−），４．６５−４．７９（Ｅ−）（２Ｈ，−Ｏ
−ＣＨ＝ＣＨ−）、５．８６−６．２８（Ｅ−）（２
Ｈ，−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−）¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ケミカルシフトｐｐｍ９．２−９．
３，１２．６（−ＣＨ₃）、３２．６−３２．９，４
２．４，４６．０−４６．１，４７．１−４８．２（Ｃ
（ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅＣｓｐ３））、７１．４，７
２．７，７４．４，７５．７（ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅ−
ＣＨ₂−Ｏ−）、９９．６−１００．３（Ｏ−ＣＨ
＝）、１３４．７，１３７．３（ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅ
−ＣＨ＝ＣＨ−）、１４６．２−１４７．１（−ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ₃）

【０１８１】

【発明の効果】本発明により新規な不飽和エーテル化合
物、該化合物の製造方法、該化合物を含む組成物及びそ
の硬化物が提供できる。この新規な不飽和エーテル化合
物は皮膚刺激性及び臭気、酸素による重合阻害が低い等
の面で従来のアクリル系モノマーより優れ、かつ低粘度
で硬化物の架橋密度が高く十分な硬度を持つ硬化物を与
えることが可能である。

【０１８２】

【図面の簡単な説明】

図面は、実施例１〜実施例８で合成した不飽和エーテル
化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲ、及びＦＴ−ＩＲ
のチャートである。

【図１】１，１−ビス（アリルオキシメチル）シクロヘ
キサンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図２】１，１−ビス（アリルオキシメチル）シクロヘ
キサンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図３】１，１−ビス（アリルオキシメチル）シクロヘ
キサンのＦＴ−ＩＲチャート

【０１８３】

【図４】２−メチル−１，１−ビス（アリルオキシメチ
ル）シクロヘキサンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図５】２−メチル−１，１−ビス（アリルオキシメチ
ル）シクロヘキサンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図６】２−メチル−１，１−ビス（アリルオキシメチ
ル）シクロヘキサンのＦＴ−ＩＲチャート

【０１８４】

【図７】３−メチル−２，２−ビス（アリルオキシメチ
ル）ノルボルナンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図８】３−メチル−２，２−ビス（アリルオキシメチ
ル）ノルボルナンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図９】３−メチル−２，２−ビス（アリルオキシメチ
ル）ノルボルナンのＦＴ−ＩＲチャート

【０１８５】

【図１０】２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５−
ノルボルネンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図１１】２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５−
ノルボルネンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図１２】２，２−ビス（アリルオキシメチル）−５−
ノルボルネンのＦＴ−ＩＲチャート

【０１８６】

【図１３】１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）シクロヘキサンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図１４】１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）シクロヘキサンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図１５】１，１−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）シクロヘキサンのＦＴ−ＩＲチャート

【０１８７】

【図１６】２−メチル−１，１−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）シクロヘキサンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図１７】２−メチル−１，１−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）シクロヘキサンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図１８】２−メチル−１，１−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）シクロヘキサンのＦＴ−ＩＲチャート

【０１８８】

【図１９】３−メチル−２，２−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）ノルボルナンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図２０】３−メチル−２，２−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）ノルボルナンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図２１】３−メチル−２，２−ビス（１−プロペニル
オキシメチル）ノルボルナンのＦＴ−ＩＲチャート

【０１８９】

【図２２】２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）−５−ノルボルネンの¹Ｈ−ＮＭＲチャート

【図２３】２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）−５−ノルボルネンの¹³Ｃ−ＮＭＲチャート

【図２４】２，２−ビス（１−プロペニルオキシメチ
ル）−５−ノルボルネンのＦＴ−ＩＲチャート

フロントページの続きＦターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB49 AC14 AC43 AD11 AD16 BA23 BA37 BA48 BA51 BB31 BB61 BC10 BC11 BC19 BC31 BC34 BE10 GN03 GN24 GP01 4H039 CA61 CD20 CJ10 4J100 AE75P AR26P BC03P BC04P BC08P BC43P CA01 JA01 JA03 JA32

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（１）〜一般式（４）のいずれか
で表されることを特徴とする不飽和エーテル化合物。一般式（１）【化１】一般式（２）【化２】一般式（３）【化３】一般式（４）【化４】（一般式（１）〜一般式（４）において、Ｒ¹は水素、
炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロアルキル基、
またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表し、Ｒ
²,Ｒ³はそれぞれ独立に下記に示す構造式（１）又は構
造式（２）を表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃
【請求項２】Ｒ¹が水素、メチル基、またはフェニル
基のいずれか一種であることを特徴とする請求項１記載
の不飽和エーテル化合物。
【請求項３】Ｒ¹がメチル基であることを特徴とする
請求項１記載の不飽和エーテル化合物。
【請求項４】一般式（５）〜一般式（８）のいずれか
で表されるジオール化合物をアリル化することを特徴と
する、一般式（９）〜一般式（１２）のいずれかで表さ
れる不飽和エーテル化合物の製造方法。一般式（５）【化５】一般式（６）【化６】一般式（７）【化７】一般式（８）【化８】（一般式（５）〜一般式（８）において、Ｒ⁴は水素、
炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロアルキル基、
またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表す。）一般式（９）【化９】一般式（１０）【化１０】一般式（１１）【化１１】一般式（１２）【化１２】（一般式（９）〜一般式（１２）において、Ｒ⁴は水
素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロアルキル
基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表
し、Ｒ⁵,Ｒ⁶はいずれも下記構造式（１）を表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂
【請求項５】一般式（５）〜一般式（８）のいずれか
で表されるジオール化合物をアリル化することを特徴と
する一般式（９）〜一般式（１２）のいずれかで表され
る不飽和エーテル化合物の製造方法において、一般式
（５）〜一般式（８）のいずれかで表されるジオール化
合物のアルコール部位の片方がアリルエーテル化したモ
ノアリルエーテル化合物を経由して一般式（９）〜一般
式（１２）のいずれかで表される不飽和エーテル化合物
を形成することを特徴とする請求項４記載の不飽和エー
テル化合物の製造方法。
【請求項６】一般式（５）〜一般式（８）のいずれか
で表されるジオール化合物をアリル化する方法が、一般
式（５）〜一般式（８）のいずれかで表されるジオール
化合物とハロゲン化アリルとの反応によることを特徴と
する請求項４又は請求項５のいずれかに記載の不飽和エ
ーテル化合物の製造方法。
【請求項７】一般式（５）〜一般式（８）のいずれか
で表されるジオール化合物をアリル化する方法が、一般
式（５）〜一般式（８）のいずれかで表されるジオール
化合物とスルホン酸アリルエステルとの反応によること
を特徴とする請求項４又は請求項５のいずれかに記載の
不飽和エーテル化合物の製造方法。
【請求項８】一般式（９）〜一般式（１２）のいずれ
かで表される不飽和エーテル化合物を異性化することを
特徴とする、一般式（１３）〜一般式（１６）のいずれ
かで表される不飽和エーテル化合物の製造方法。一般式（９）【化１３】一般式（１０）【化１４】一般式（１１）【化１５】一般式（１２）【化１６】（一般式（９）〜一般式（１２）において、Ｒ⁴は水
素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロアルキル
基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表
し、Ｒ⁵,Ｒ⁶はいずれも下記構造式（１）を表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 一般式（１３）【化１７】一般式（１４）【化１８】一般式（１５）【化１９】一般式（１６）【化２０】（一般式（１３）〜一般式（１６）において、Ｒ⁴は水
素、炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロアルキル
基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表
し、Ｒ⁷,Ｒ⁸の内少なくとも一方は構造式（２）であ
り、他方は構造式（１）又は構造式（２）のいずれかを
表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃
【請求項９】一般式（９）〜一般式（１２）のいずれ
かで表される不飽和エーテル化合物の異性化において、
アルカリ化合物または周期律表第８族元素を含む触媒を
用いることを特徴とする請求項８記載の不飽和エーテル
化合物の製造方法。
【請求項１０】周期律表第８族元素が、パラジウムま
たはロジウムのいずれか一種以上であることを特徴とす
る請求項９記載の不飽和エーテル化合物の製造方法。
【請求項１１】Ｒ⁴が水素、メチル基、またはフェニ
ル基のいずれか一種であることを特徴とする請求項４〜
請求項１０のいずれかに記載の不飽和エーテル化合物の
製造方法。
【請求項１２】一般式（１）〜一般式（４）のいずれ
かで表されることを特徴とする不飽和エーテル化合物の
少なくとも一種以上を含むことを特徴とする重合性組成
物。一般式（１）【化２１】一般式（２）【化２２】一般式（３）【化２３】一般式（４）【化２４】（一般式（１）〜一般式（４）において、Ｒ¹は水素、
炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロアルキル基、
またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表し、Ｒ
²,Ｒ³はそれぞれ独立に下記に示す構造式（１）又は構
造式（２）を表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃
【請求項１３】一般式（１）〜一般式（４）のいずれ
かで表されることを特徴とする不飽和エーテル化合物の
少なくとも一種以上を含むことを特徴とする重合性組成
物を硬化することにより得られる硬化物。一般式（１）【化２５】一般式（２）【化２６】一般式（３）【化２７】一般式（４）【化２８】（一般式（１）〜一般式（４）において、Ｒ¹は水素、
炭素数１〜炭素数６のアルキル基、シクロアルキル基、
またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表し、Ｒ
²,Ｒ³はそれぞれ独立に下記に示す構造式（１）又は構
造式（２）を表す。）構造式（１） −ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ₂ 構造式（２） −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃