JP2001266324A

JP2001266324A - 磁気ヘッドスライダとその製造方法

Info

Publication number: JP2001266324A
Application number: JP2000107149A
Authority: JP
Inventors: Tomoo Otsuka; 智雄大塚
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 2000-01-13
Filing date: 2000-04-07
Publication date: 2001-09-28

Abstract

(57)【要約】【課題】製造効率を良好としたうえで、スライダ本体
の媒体対向面やレールに設けられた突起の耐磨耗性を向
上できるとともにスライダ本体に設けられた磁気ヘッド
コアの腐食を防止できる磁気ヘッドスライダの提供。【解決手段】スライダ本体１０内に磁気ヘッドコアが
設けられ、スライダ本体１０の磁気ディスク７１側の媒
体対向面に浮力発生のためのレールが形成され、磁気デ
ィスク７１に対して浮上走行して磁気情報の書き込みあ
るいは読み出しを行うものであって、スライダ本体１０
の媒体対向面に設けられた各サイドレール１２の表面上
に接着層６１を介して耐腐食性を有する第１のカーボン
膜６２が設けられ、第１のカーボン膜６２上に中間膜６
３と第２のカーボン膜６４が交互に形成されてなる突起
１７、１８が設けられ、第２のカーボン膜６４のうち少
なくとも最外層の第２のカーボン膜６４は耐磨耗性を有
することを特徴とする磁気ヘッドスライダＳ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体上を
微小間隔で浮上して磁気情報の記録再生を行う磁気ヘッ
ドスライダとその製造方法に係わり、特に、製造効率を
良好としたうえで、スライダ本体の媒体対向面やレール
に設けられた突起の耐磨耗性を向上できるとともにスラ
イダ本体に設けられた磁気ヘッドコアの腐食を防止でき
るようにした技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、コンピュータ用の磁気記録装置に
おいて、図９に示すような磁気ディスク装置が知られて
いる。この磁気ディスク装置は、回転自在に設けられた
円盤状の磁気ディスク８１上に磁気ヘッドスライダ８２
が対向配置された構成であり、磁気ヘッドスライダ８２
は３角形状のバネ板８３を介して支持アーム８４により
支持されていて、支持アーム８４の回動中心部８４ａを
中心とする回動操作により磁気ヘッドスライダ８２が磁
気ディスク８１の直径方向の所望の位置に移動できるよ
うに構成されている。

【０００３】図９に示す構成の磁気ディスク装置におい
て、磁気ディスク８１が停止している場合、磁気ヘッド
スライダ８２の底面は磁気ヘッドスライダ８２を支持す
るバネ板８３の付勢力によって磁気ディスク８１に軽く
押し付けられており、磁気ディスク８１が回転されてい
る場合は、回転に伴って生じる空気の流れを利用して磁
気ヘッドスライダ８２は磁気ディスク８１上を所定の高
さで浮上走行するように構成され、磁気ディスク８１の
回転が停止されると浮上走行していた磁気ヘッドスライ
ダ８２は再び磁気ディスク８１に接触して停止される
が、前記の浮上走行時に磁気ディスク８１の磁気記録層
に対して磁気情報の読み書きがなされるように構成され
ており、この一連の作動状況は通常ＣＳＳ（コンタクト
スタートストップ）と称されている。

【０００４】図１０乃至図１２従来から広く使用されて
いる２レール型の磁気ヘッドスライダ８２を示す図であ
る。図１０は磁気ヘッドスライダ８２の浮上走行状態を
示す側面図ており、図１１は静姿勢の状態を示す側面図
であり、図１２は、この磁気ヘッドスライダ８２のサイ
ドレール８６の長さ方向に沿った断面の拡大図である。
この磁気ヘッドスライダ８２の底面には、中央部に１本
の溝（図示略）を形成してその両側にサイドレール８
６、８６が形成され、各サイドレール８６の先端下面側
（磁気ディスク８１の回転方向上流側）には、傾斜面８
６ａが形成されていて、この傾斜面８６ａを介して図１
０の矢印Ａに示すように空気が流入することで磁気ヘッ
ドスライダ８２のサイドレール８６の底面が正圧発生部
となって磁気ヘッドスライダ８２が浮上走行するように
なっている。また、図１０の２点鎖線で示すようにサイ
ドレール８６の底面に負圧溝８６ｂを形成し、この負圧
溝８６ｂで発生させた負圧と前記サイドレール８６、８
６で発生させた正圧を均衡させることにより浮上走行性
の安定化を図った磁気ヘッドの構成も知られている。ま
た、各サイドレール８６の表面には、図１２に示すよう
にＳｉからなる密着層９１が形成され、さらにこの密着
層９１上に第１のカーボン膜９２が形成されている。

【０００５】図１０は磁気ヘッドスライダ８２を側面側
から見た状態を示すが、磁気ヘッドスライダ８２が浮上
走行している場合は、傾斜面８６ａを介して空気が磁気
ヘッドスライダ８２の底面側に流れ込み、更に負圧溝８
６ｂを形成した場合は磁気ヘッド後部側に負圧が発生し
ているので、磁気ヘッドスライダ８２は図１０に示すよ
うに空気の流入側を上に持ち上げた状態で微小角度傾斜
しながら浮上走行しており、一般にこの傾斜角度はピッ
チ角（通常１００μＲａｄ程度）と称されている。

【０００６】このような構成の磁気ヘッドスライダ８２
にあっては、磁気ディスク８１の起動時（立ち上がり
時）と停止時（立ち下がり時）に磁気ディスクに摺接す
る。そこで、磁気ディスク面の摩耗や消耗を防止するた
めに、磁気ディスク８１の記録層の上に保護膜を形成し
たり、さらに、この保護膜上に潤滑層を形成している。
上記のような構成の磁気ヘッドスライダ８２において
は、磁気記録の面から見ると浮上時には磁気ヘッドスラ
イダ８２の磁気ギャップＧが磁気ディスク８１の磁気記
録層にできるだけ接近した方が有利であるので、磁気ヘ
ッドスライダ８２の浮上走行時の高さをできる限り低く
することが望ましく、また、近年、磁気ディスク装置の
高記録密度化及び小型化に伴って、磁気ヘッドスライダ
８２の浮上量（磁気ヘッドスライダ８２と磁気ディスク
８１とのスペーシング量）をさらに小さくする傾向にあ
る。浮上量を小さくしようとする場合には、浮上状態の
磁気ヘッドスライダ８２と、磁気ディスク８１との接触
を回避するために磁気ディスク８１の表面粗さをできる
だけ小さくする必要がある。

【０００７】しかし、磁気ディスク８１の起動時あるい
は停止時においては、磁気ディスク８１の表面が平滑に
なるほど磁気ディスク８１と磁気ヘッドスライダ８２と
の接触面積が大きくなってスライダ８２と磁気ディスク
８１との吸着が生じ易く、吸着トルクが高くなり、磁気
ディスク８１を回転させるモータの始動時の負荷が大き
くなったり、また、磁気ディスク８１の回転起動の際に
支持アーム８４やスライダ８２に設けられた磁気ヘッド
素子や磁気ディスク記録層が破損し易くなるため、これ
を防止するために各サイドレール８６の上記空気流の流
入側寄りと、空気流の流出側寄りにそれぞれ突起８９、
８９を密着層および第１のカーボン膜を介して設けて磁
気ディスク８１との接触面積を小さくしている。各突起
８９は、Ｓｉからなる中間膜９３と、この上に形成され
た第２のカーボン膜９４から構成されている。第１と第
２のカーボン膜９２、９４は、通常、製造効率等の問題
から同じ材質のカーボン膜が使用されている。

【０００８】上記のような構成の従来の磁気ヘッドスラ
イダの製造例を以下に述べる。まず、磁気ヘッドコア９
０が形成されたＡｌ₂Ｏ₃ＴｉＣからなる板状体の磁気デ
ィスク側の媒体対向面上にＳｉからなる接着層９１、第
１のカーボン膜９２、Ｓｉからなる中間膜９３、第２の
カーボン膜９４をスパッタ法により形成する。ついで、
接着層９１と第１のカーボン膜９２と中間膜９３と第２
のカーボン膜９４の積層膜をパターニングして上記媒体
対向面にサイドレール８６、８６とこれの間の溝を形成
する。ここで形成された各サイドレール８６の表面に
は、上記の積層膜が残っており、サイドレール８６，８
６の間の溝の表面は、上記板状体が露出している。この
後、各サイドレール８６上の中間膜９３と第２のカーボ
ン膜９４をパターニングして、突起８９を形成すると、
図１０乃至図１２に示すような磁気ヘッドスライダ８２
が得られる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な構成の従来の磁気ヘッドスライダにおいては、磁気デ
ィスク８１の起動時と停止時に図１１に示すように突起
８９が磁気ディスク８１と摺動する際の摩擦により摩耗
し易いため、突起８９を設けた効果が低下してしまうと
いう問題があった。そこで、第１、第２のカーボン膜９
２、９４をなす材料として耐磨耗性が良好なダイヤモン
ドライクカーボンを用いることが考えられている。しか
しながらダイヤモンドライクカーボンは、緻密度および
密着度が低いため、第１のカーボン膜９２の材料として
用いると、耐腐食性が悪く、スライダ本体に設けられた
磁気ヘッドコアの劣化が起こるという問題があった。

【００１０】本発明は前記事情に鑑みてなされたもので
あり、製造効率を良好としたうえで、スライダ本体の媒
体対向面やレールに設けられた突起の耐磨耗性を向上で
きるとともにスライダ本体に設けられた磁気ヘッドコア
の腐食を防止できる磁気ヘッドスライダを提供すること
を課題とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドスラ
イダは前記課題を解決するために、板状のスライダ本体
内に磁気ヘッドコアが設けられ、前記スライダ本体の磁
気ディスク側の媒体対向面に浮力発生のためのレールが
形成され、磁気ディスクに対して浮上走行して磁気情報
の書き込みあるいは読み出しを行う磁気ヘッドスライダ
であって、前記スライダ本体の媒体対向面およびレール
のうち少なくともレールの表面上に接着層を介して耐腐
食性を有する第１のカーボン膜が設けられ、該第１のカ
ーボン膜上に中間膜と第２のカーボン膜が交互に形成さ
れてなる突起が設けられ、前記突起を構成する第２のカ
ーボン膜のうち少なくとも最外層の第２のカーボン膜
は、耐磨耗性を有することを特徴とする。

【００１２】このような構成の磁気ヘッドスライダによ
れば、上記突起の最表面に耐磨耗性を有する第２のカー
ボン膜が形成されているので、磁気ディスクの起動時と
停止時に上記突起が磁気ディスクと摺動しても摩耗しに
くく、上記突起の耐摩耗性を著しく向上でき、さらにま
た、前記スライダ本体の媒体対向面およびレールのうち
少なくともレールの表面が耐腐食性を有する第１のカー
ボン膜で覆われているので、スライダ本体に設けられた
磁気ヘッドコアが腐食により劣化するのを防止できる。
また、上記のように突起の耐磨耗性が著しく向上するの
で、上記スライダと上記磁気ディスクとの接触面積が増
大するのを防止でき、スライダと磁気ディスクとの吸着
力が高くなることに起因して磁気ヘッドコアに設けられ
た磁気ヘッド素子や磁気ディスクの記録層等が磁気ディ
スクの回転起動の際に破損することも防止できる。さら
に、上記のような特性を有する第１、第２のカーボン膜
は、ＥＣＲＣＶＤ法（Electron Cyclotron Resonance C
hemical Vapor Deposition）により形成する際、成膜装
置内に供給する反応ガス（炭素を含むガス）の種類を変
更したり、基板バイアスを調整することにより、異なる
特性を有するカーボン膜を効率良く製造できる。従って
本発明の磁気ヘッドスライダによれば、製造効率を良好
としたうえで、スライダ本体の媒体対向面やレールに設
けられた突起の耐磨耗性を向上できるとともにスライダ
本体に設けられた磁気ヘッドコアの腐食を防止できる。

【００１３】また、前記構成の本発明の磁気ヘッドスラ
イダにおいて、前記耐腐食性を有する第１のカーボン膜
は、水素含有量が３０原子％以上のカーボン膜からな
り、前記耐磨耗性を有する第２のカーボン膜は膜硬度２
２ＧＰa以上のカーボン膜からなるものが好適に用いら
れる。上記の水素含有量が３０原子％以上の第１のカー
ボン膜は、例えば、接着層、第１のカーボン膜、中間膜
が形成されたスライダ本体の中間膜上にＥＣＲＣＶＤ法
により形成する際、成膜装置内に供給する反応ガス（炭
素を含むガス）の種類を変更したり、基板バイアスを調
整する（基板バイアスを低くする）ことにより、成膜す
ることができる。上記反応ガスとしてメタンガスを用い
ると、水素含有量が３５原子％以上のカーボン膜を成膜
できる。また、上記反応ガスとしてエチレンガスを用い
る場合、基板バイアスによって水素含有量が３０原子％
を越えるカーボン膜を成膜できる。このように上記スラ
イダ本体の媒体対向面およびレールのうち少なくともレ
ールの表面を覆う第１のカーボン膜中の水素含有量を高
くすることにより、膜硬度は低下するのもののアモルフ
ァス化して緻密度が増し、密着度が大きくなり剥がれに
くくなるので、上記スライダ本体に設けられた磁気ヘッ
ドコアが腐食により劣化するのを防止できる。

【００１４】上記の膜硬度２２ＧＰａ以上の第２のカー
ボン膜は、例えば、接着層、第１のカーボン膜、中間膜
が形成されたスライダ本体の中間膜上にＥＣＲＣＶＤ法
により形成する際、成膜装置内に供給する反応ガス（炭
素を含むガス）の種類を変更したり、基板バイアスを調
整する（基板バイアスを高くする）ことにより、カーボ
ン膜中の水素含有量を低くすることにより成膜できる。
第２のカーボン膜中の水素含有量は３０原子％未満とす
ることが好ましい。このように上記突起を構成する第２
のカーボン膜中の水素含有量を低くすることにより、炭
素原子同士の結合が強くなり、硬度を高くすることがで
きる。また、第２のカーボン膜は、水素含有量が０原子
％のカーボン膜からなるものであってもよい。このよう
なカーボン膜の具体例としては、カソディックアークカ
ーボン（ＣＡＣ）が挙げることができる。カソディック
アークカーボンからなる第２のカーボン膜は、例えば、
成膜装置内に接着層、第１のカーボン膜、中間膜が形成
されたスライダ本体を配置し、真空雰囲気中でグラファ
イトの塊をアーク放電することにより成膜できる。さら
に、前記構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、
前記磁気ヘッドコアは、巨大磁気抵抗効果型素子が備え
られていることが好ましい。

【００１５】本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法
は、上記課題を解決するために、磁気ヘッドコアが設け
られた板状のスライダ本体の磁気ディスク側の媒体対向
面上に、接着層と、耐腐食性を有する第１のカーボン膜
とを形成する工程と、前記第１のカーボン膜上に中間膜
と第２のカーボン膜とを交互に形成し、このとき少なく
とも最外層の第２のカーボン膜は耐磨耗性を有するもの
を形成する工程と、前記接着層と第１のカーボン膜と中
間膜と第２のカーボン膜との積層膜の少なくとも前記最
外層の第２のカーボン膜とこれの下層の中間膜をパター
ニングして突起を形成する工程とを有することを特徴と
する。このような構成の磁気ヘッドスライダの製造方法
によれば、本発明の磁気ヘッドスライダの製造に好適に
用いることができる。また、前記の構成の本発明の磁気
ヘッドスライダの製造方法において、前記耐腐食性を有
する第１のカーボン膜は、水素含有量が３０原子％以上
のカーボン膜から形成し、前記耐磨耗性を有する第２の
カーボン膜は膜硬度２２ＧＰa以上のカーボン膜から形
成することが好ましい。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の磁
気ヘッドスライダの一実施形態について説明する。図１
は本発明に係る磁気ヘッドスライダの実施形態例を示す
底面図であり、図２は図１の磁気ヘッドスライダが浮上
姿勢の状態のときのＩＩ−ＩＩ線断面図である。この例
の磁気ヘッドスライダＳは、Ａｌ₂Ｏ₃ＴｉＣなどからな
る板状のスライダ本体１０に、後述する構成の磁気ヘッ
ドコア１１を備えたもので、磁気コア部分以外の部分は
全体的にはセラミックス製などの基板から構成されてな
り、図９に示す従来の磁気ヘッドスライダと同様に使用
されるものである。スライダ本体１０の底面（図１では
上面であって、磁気ディスク７１に対向する媒体対向
面）には、その両側縁部に位置してスライダ本体１０の
前部側から後部側に至るサイドレール１２が２本形成さ
れている。なお、本明細書では、図１におけるスライダ
本体１０の下側をスライダ本体１０の前部側と称し、こ
の前部側が一般にはスライダのリーディング側と称され
て磁気ディスク７１からの空気流が流入される側１０ａ
であり、反対に、図１におけるスライダ本体１０の上側
をスライダ本体１０の後部側と称し、この後部側が一般
にはスライダのトレーリング側と称されて磁気ディスク
からの空気流が流出される側１０ｂである。

【００１７】各サイドレール１２は、正圧を発生させる
ために設けられたものであり、空気流の流入側１０ａの
端部が空気流の流出側１０ｂの端部より幅広でこれら流
入側の端部と流出側の端部の間の中央部が幅狭に形成さ
れている。各サイドレール１２の中央部には、図１の鎖
線で示したように切欠部１０ｄが形成されていてもよ
い。両サイドレール１２、１２の後端部間にはアイラン
ド状のセンターレール１３が形成されている。これら両
サイドレール１２、１２とセンターレール１３の表面に
は、クラウンが形成されていることが好ましい。また、
両サイドレール１２，１２およびセンターレール１３の
周囲にはそれぞれ段部２０が形成されている。また、ス
ライダ本体１０の底面には、両サイドレール１２に挟ま
れた状態で負圧溝１５が形成されている。この負圧溝１
５の前部側は中央部にかけて末広がりに形成されて、そ
の後部側はセンターレール１３で二つに分断されて上記
中央部より幅狭に形成されている。

【００１８】両サイドレール１２、１２およびセンター
レール１３の表面上には、図２に示すようにＳｉ、Ｓｉ
Ｃ等からなる接着層６１を介して耐腐食性を有する第１
のカーボン膜６２が設けられている。第１のカーボン膜
６２中には、水素が３０原子％以上含まれているものが
好適に用いられ、好ましくは３５原子％以上含まれてい
ることが好ましい。第１のカーボン膜６２中の水素含有
量が３０原子％未満になると、耐腐食性が悪くなり、ス
ライダ本体１０に設けられた磁気ヘッドコア１１が腐食
により劣化し易くなる。接着層６１の厚みは、０．５ｎ
ｍ程度とされる。第１のカーボン膜６２の厚みは、４．
５ｎｍ程度とされる。

【００１９】各サイドレール１２上には、上記接着層６
１、第１のカーボン膜６２を介して第１、第２の突起１
７、１８が形成されている。第１の突起１７は空気流の
流入側寄りに設けられており、第２の突起１８は空気流
の流出側寄りに設けられている。これら第１と第２の突
起１７、１８は、図２に示すようにＳｉ、ＳｉＣ等から
なる中間膜６３と第２のカーボン膜６４が交互に（図面
では中間膜６３と第２のカーボン膜６４がそれぞれ１層
ずつ）形成されてなるものである。中間膜６３は、第１
のカーボン膜６２側に設けられており、突起を形成する
際にエッチングストッパーとして機能するものである。
各突起１７、１８の最表面に位置する第２のカーボン膜
６４は、耐磨耗性を有しており、膜硬度２２ＧＰa以上
のカーボン膜から構成されている。

【００２０】ここでの膜硬度は、押込み硬さ試験機を用
い荷重に対する押し込み深さを深さを測定し、下記式
（１）により求めたものである。押込み試験機に備えら
れた測定圧子としては、図５に示すような開き角（α）
６５°のダイヤモンド三角錐圧子を用いた。なお、図５
中、Ａｐは、投影面積を示す。膜硬度（Ｈ）＝Ｐ／Ａｓ≒３７．９６２×１０^-3×Ｐ／ｈ²・・・（１）（式中、Ｐは荷重、ｈは押し込み深さ、Ａｓは変位ｈに
対する三角錐圧子の表面積である。）膜硬度２２ＧＰａ以上のカーボン膜の具体例としては、
水素含有量が３０原子％未満のカーボン膜が用いられ、
好ましくは水素含有量が２７原子％のカーボン膜が用い
られる。さらに好ましくは水素含有量が０原子％のカソ
ディックアークカーボン（ＣＡＣ）が用いられる。

【００２１】第１の突起１７は、横断面円状のものであ
る。第２の突起１８は、横断面楕円状のものであり、長
軸がサイドレール１２の長さ方向に配置されている。第
１、第２の突起１７、１８の高さは、磁気ヘッドスライ
ダＳの浮上量が２５ｎｍで、第２の突起１８と磁気ギャ
ップＧとの距離が３００μｍの場合、３５ｎｍ以上とさ
れるが、スライダ本体１０は浮上時には１００μＲａｄ
程度傾斜しているので磁気ヘッドコア１１に近い方の突
起１８は高すぎると、浮上時に突起１８の方が磁気ギャ
ップＧより磁気ディスク７１に近づいてしまうため、す
なわち、磁気ギャップＧと磁気ディスク７１との距離が
遠くなるため不利になってしまう。また、第１、第２の
突起１７、１８を構成する中間膜６２の厚みは４ｎｍ程
度とされ、耐磨耗性を有する第２のカーボン膜６４の厚
みは３１ｎｍ程度とされる。このような第１と第２の突
起１７、１８の表面には、クラウンが形成されているこ
とが好ましい。

【００２２】次に、スライダ本体１０の後端部側中央に
形成された磁気ヘッドコア１１の構造について説明す
る。この例で示す磁気ヘッドコア１１は、図３と図４に
断面構造を示すような複合型磁気ヘッドコアであり、ス
ライダ本体１０の後分部側端面（トレーリング側端面）
に、ＭＲヘッド（読出ヘッド）ｈ1と、インダクティブ
ヘッド（書込ヘッド）ｈ2とが順に積層されて構成され
ている。ＭＲヘッドｈ1は、磁気抵抗効果を利用してデ
ィスクなどの記録媒体からの漏れ磁束を検出し、磁気信
号を読み取るものである。図３と図４に示すようにＭＲ
ヘッドｈ1は、スライダ本体１０の後端部に形成された
センダスト（Ｆｅ-Ａｌ-Ｓｉ）等の磁性合金からなる下
部シールド層３３上に、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）などの非
磁性材料により形成された下部ギャップ層３４が設けら
れ、この下部ギャップ層３４上に、巨大磁気抵抗効果材
料膜（巨大磁気抵抗効果型素子）３５が積層されてい
る。

【００２３】巨大磁気抵抗効果材料膜３５の両側には、
この膜にバイアス磁界を与えるハードバイアス層や検出
電流を与える電極層４１などが形成され、更にその上に
は、上部ギャップ層が形成され、その上に上部シールド
層が形成されており、この上部シールド層は、その上に
設けられるインダクティブヘッドｈ2の下部コア層４５
と兼用にされている。

【００２４】インダクティブヘッドｈ2は、下部コア層
４５の上に、ギャップ層４４が形成され、その上に平面
的に螺旋状となるようにパターン化されたコイル層４６
が形成され、コイル層４６は絶縁材料層４７に囲まれて
いる。絶縁材料層４７の上に形成された上部コア層４８
は、その先端部４８ａをＡＢＳ面３１ｂにて下部コア層
４５に微小間隙をあけて対向し、その基端部４８ｂを下
部コア層４５と磁気的に接続させて設けられている。ま
た、上部コア層４８の上にはアルミナなどからなる保護
層４９が設けられている。インダクティブヘッドｈ2で
は、コイル層４６に記録電流が与えられ、コイル層４６
からコア層に記録磁界が与えられる。そして、磁気ギャ
ップＧの部分での下部コア層４５と上部コア層４８の先
端部からの漏れ磁界により磁気ディスクなどの磁気記録
媒体に磁気信号を記録することができる。

【００２５】巨大磁気抵抗効果材料膜３５は、フリー強
磁性層と非磁性層とピン止め強磁性層と反強磁性層を積
層して断面台形状の積層体が形成されてなるものであ
る。上記フリー強磁性層、ピン止め強磁性層は、いずれ
も強磁性体の薄膜からなるが、具体的にはＮｉ-Ｆｅ合
金、Ｃｏ-Ｆｅ合金、Ｎｉ-Ｃｏ合金、Ｃｏ、Ｎｉ-Ｆｅ-
Ｃｏ合金などからなる。また、上記フリー強磁性層を
Ｃｏ層から、あるいはＮｉ-Ｆｅ合金層から、あるいは
Ｃｏ層とＮｉ-Ｆｅ合金層の積層構造、あるいはＣｏ−
Ｆｅ合金層とＮｉ−Ｆｅ合金層との積層構造から構成
することもできる。なお、Ｃｏ層とＮｉ-Ｆｅ合金層と
の２層構造とする場合は、上記非磁性層側に薄いＣｏ層
を配置する構造とすることが好ましい。またＣｏ−Ｆ
ｅ合金層とＮｉ−Ｆｅ合金層の２層構造とする場合は上
記非磁性層側に薄いＣｏ−Ｆｅ合金層を配置することが
好ましい。

【００２６】これは、上記非磁性層を上記フリー強磁性
層、上記ピン止め強磁性層で挟む構造の巨大磁気抵抗効
果発生機構にあっては、ＣｏとＣｕの界面で伝導電子の
スピン依存散乱の効果が大きいこと、および、上記フリ
ー強磁性層、ピン止め強磁性層を同種の材料から構成す
る方が、異種の材料から構成するよりも、伝導電子のス
ピン依存散乱以外の因子が生じる可能性が低く、より高
い磁気抵抗効果を得られることに起因している。このよ
うなことから、上記ピン止め強磁性層をＣｏから構成し
た場合は、上記フリー強磁性層の上記非磁性層側を所定
の厚さでＣｏ層に置換した構造が好ましい。また、Ｃｏ
層を特に区別して設けなくとも、上記フリー強磁性層の
非磁性層側にＣｏの多く含ませた合金状態とし、上記非
磁性層側に向かうにつれて徐々にＣｏ濃度が薄くなるよ
うな濃度勾配層としても良い。また、上記フリー強磁性
層、ピン止め強磁性層をＣｏ−Ｆｅ合金層から構成し、
これらフリー強磁性層、ピン止め強磁性層で上記非磁性
層を挟む構造とした場合も、Ｃｏ−Ｆｅ合金層とＣｕ層
の界面で伝導電子のスピン依存散乱の効果が大きく、伝
導電子のスピン依存散乱以外の因子が生じる可能性が低
く、より高い磁気抵抗効果が得られる。上記非磁性層
は、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｕ、Ａｇなどに代表される非磁性体
からなり、２〜４ｎｍ程度の厚さに形成されている。

【００２７】上記反強磁性層は、例えば、Ｘ₁-Ｍｎ合金
からなることが好ましい。ここで上記組成式においてＸ
₁は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔのいずれか１種ま
たは２種以上からなることが好ましい。上記Ｘ₁-Ｍｎ合
金のＸ₁が単一の金属原子である場合のＸ₁の含有率の好
ましい範囲は、Ｒｕは１０〜４５原子％、Ｒｈは１０〜
４０原子％、Ｉｒは１０〜４０原子％、Ｐｄは１０〜２
５原子％、Ｐｔは１０〜２５原子％である。なお、以上
の記載において１０〜４５原子％とは、１０原子％以上
で４５原子％以下を意味し、「〜」で表示する数値範囲
の上限下限は全て「以上」および「以下」で規定される
ものとする。上記組成範囲のＭｎ系合金は、不規則結晶
構造を有するものであるが、この不規則結晶構造とは、
面心正方晶（fct規則格子；ＣｕＡｕＩ構造など）のよ
うな規則的な結晶構造ではない状態を意味している。即
ち、ここで用いられるＭｎ合金は、スパッタリングなど
により成膜された後に、上記面心正方晶などの規則的な
結晶構造（ＣｕＡｕＩ構造など）とするための高温でか
つ長時間の加熱処理を行わないものであり、不規則結晶
構造とは、スパッタリングなどの成膜法により形成され
たままの状態、あるいはこれに通常のアニール処理が施
された状態のものである。

【００２８】上記Ｘ₁−Ｍｎ合金（元素Ｘ₁はＲｕ、Ｒ
ｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔのうちのいずれか１種または２種
以上からなる。）のＸ₁の含有率のより好ましい範囲は
Ｘ₁が３７〜６３原子％である。なお以上の記載におい
て３７〜６３原子％とは３７原子％以上で６３原子％以
下を意味し、「〜」で表示する数値範囲の上限下限は全
て「以上」および「以下」で規定されるものとする。上
記組成範囲のＸ₁−Ｍｎ合金は、スパッタリング等の成
膜法などにより形成された状態ではＸ₁、Ｍｎ原子の配
列順序が不規則な、面心立方格子であり、強磁性層との
境界面で交換異方性磁界はほとんど発生しないが磁界中
でアニール処理を施すことにより、面心正方格子に変態
し、強磁性層との境界面で一方向異方性の大きな交換異
方性磁界（Ｈ_ex）を発生することができる。

【００２９】又、上記反強磁性層はＸ₁−Ｍｎ−Ｘ₂合金
からなるものであってもよい。ここで上記組成式におい
て、Ｘ₁は先に述べたようにＲｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、
Ｐｔのうちの１種または２種以上からなることが好まし
い。また、Ｘ₂はＡｕ、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、
Ｐ、Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｎ、Ｎｂ、
Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｓｎ、Ｉｎのうちのいずか１種
または２種以上からなることが好ましい。Ｘ₁とＭｎの
組成比は、原子％でＸ₁：Ｍｎ＝４：６〜６：４であ
る。Ｘ₂の含有率は原子％で０．２〜１０原子％であ
る。

【００３０】上記反強磁性層がＸ₁−Ｍｎ−Ｘ₂合金から
なる場合にも、成膜後に、磁界中でアニール処理を施す
ことにより強磁性層との境界面で一方向異方性の大きな
交換異方性磁界（Ｈ_ex）を発生することができる。上記
のＸ₁−Ｍｎ系合金あるいはＸ₁−Ｍｎ−Ｘ₂系合金から
なる反強磁性層であるならば、上記ピン止め強磁性層と
の境界面に一方向異方性の交換異方性磁界を印加するこ
とができ、ピン止め強磁性層の外部信号磁界に対する磁
化の回転をピン止めすることができる。また、上記Ｘ₁
−Ｍｎ系の合金の反強磁性層であるならば、Ｆｅ−Ｍｎ
に比べて耐食性に優れ、また温度変化に対する交換異
方性磁界（Ｈ_ex）の変動が少なくなる。上記のような構
成のＭＲヘッドｈ1においては、磁気ディスク７１から
の微小の漏れ磁界の有無により巨大磁気抵抗効果材料膜
３５の電気抵抗が変化するので、この抵抗変化を読み取
ることで磁気ディスクの記録内容を読み取ることができ
る。

【００３１】上記のような構成の磁気ヘッドスライダＳ
を製造するには、例えば、Ａｌ₂Ｏ₃ＴｉＣなどからなる
板状体（ウエハ）に複数の磁気ヘッドコア１１を形成し
た後、上記板状体を複数の基体に切断する。なお、サイ
ドレール１２、１２およびセンターレール１３にクラウ
ンを形成する場合には、上記基体の表面にラップ加工等
が施される。

【００３２】この後、図６のＡに示すように、基体１
０ｃの表面上（磁気ディスク側の媒体対向面となる側の
面上）に、スパッタ法又はＣＶＤ法によりＳｉ又はＳｉ
Ｃよりなる接着層６１を形成した後、ＥＣＲＣＶＤ法
（Electron Cyclotron Resonanｃe Chemical Vapor Dep
osition）によりカーボン膜を形成する際に成膜装置内
に供給する反応ガス（炭素を含むガス）の種類を変更し
たり、あるいは基板バイアスを調整（基板バイアスを低
くする）することにより、第１のカーボン膜６２を成膜
する。上記反応ガスとしてメタンガスを用いると、水素
含有量が３５原子％以上のカーボン膜を成膜できる。ま
た、上記反応ガスとしてエチレンガスを用いる場合、基
板バイアスによって水素含有量が３０原子％を越えるカ
ーボン膜を成膜できる。このように基体１０ｃの表面
（磁気ディスク側の媒体対向面）を覆う第１のカーボン
膜６１中の水素含有量を３０原子％を越えて高くするこ
とにより、膜硬度は低下するのもののアモルファス化し
て緻密度が増し、密着度が大きくなり剥がれにくいカー
ボン膜が得られる。

【００３３】ついで、上記第１のカーボン膜６１の表面
上にスパッタ法又はＣＶＤ法によりＳｉ又はＳｉＣより
なる中間膜６３を形成する。ついで、この中間膜１６上
にＥＣＲＣＶＤ法によりカーボン膜を形成する際、成膜
装置内に供給する反応ガス（炭素を含むガス）の種類を
変更したり、基板バイアスを調整する（基板バイアスを
高くする）ことにより、カーボン膜中の水素含有量を３
０原子％未満と少なくして、膜硬度が２２ＧＰａ以上の
第２のカーボン膜６４を成膜する。このように第２のカ
ーボン膜中の水素含有量を低くすることにより、炭素原
子同士の結合が強くなり、硬度を高くすることができ
る。なお、第２のカーボン膜６４をカソディックアーク
カーボンから構成する場合は、接着層６１、第１のカー
ボン膜６２、中間膜６３が形成された基体１０ｃを成膜
装置内に配置し、真空雰囲気中でグラファイトの塊をア
ーク放電することにより成膜する。ついで、第２のカー
ボン膜６４上に第１のレジストを塗布した後に、この第
１のレジストを露光、現像することにより、図６のＢに
示すようなストライプ状のレジストパターン２２を形成
する。このレジストパターン２２は、サイドレール１
２、１２およびセンターレール１３を形成する領域を覆
っている。

【００３４】この後、図６のＣに示すようにレジストパ
ターン２２に覆われない領域にある第２のカーボン膜６
４、中間膜６３、第１のカーボン膜６２、接着層６１、
基体１０ｃを順次イオンミリングによるエッチングよっ
て除去する。これによりサイドレール１２、１２および
センターレール１３が形成される。また、サイドレール
１２，１２間に負圧溝１５が形成されるとともにスライ
ダ毎に分割するため分割用溝（図示略）が形成される。
この後にレジストパターン２２を除去する。次に、第２
のカーボン膜６４上に第２のレジストを塗布した後にこ
の第２のレジストを露光、現像することにより、図６の
Ｄに示すように、サイドレール１２、１２上の所定位置
に第１、第２の突起１７、１８と同様のパターンを有す
るレジストパターン２７を形成する。

【００３５】この後、第２のカーボン膜６４のレジスト
パターン２７に覆われていない部分を酸素プラズマによ
ってエッチングし除去する。このとき、第２のカーボン
膜６４の下層の中間膜６３は、エッチングストッパーと
して機能し、図６のＥに示すように第２のカーボン膜６
４のみエッチングされて中間膜６３はエッチングされな
い。ついで、中間膜６３のレジストパターン２７に覆わ
れていない部分をＣＦ₄プラズマによってエッチングし
て除去したのち、レジストパターン２７を除去すると、
図６のＦに示すように、第１、第２の突起１７、１８が
形成される。このとき、中間膜６３のみエッチングされ
てこれの下層の第１のカーボン膜６２はエッチングされ
ない。なお、ここで形成された第１、第２の突起１７、
１８の表面にラップ加工等を施してクラウンを形成して
もよい。ついで、上記分割用溝に沿って基体１０ｃを分
割すると、図１乃至図２に示すような磁気ヘッドスライ
ダＳが得られる。

【００３６】前記の如く構成された磁気ヘッドスライダ
Ｓにあっては、ＣＳＳでもって磁気ディスク７１に対し
て浮上走行し、必要に応じて磁気情報の書き込みと読み
込みを行う。従って、磁気ディスク７１が停止している
状態においては、図２に示すように磁気ヘッドスライダ
Ｓは各サイドレール１２に設けられた第２の突起１８の
表面を磁気ディスク７１の表面にこのスライダＳに取り
付けられたバネ板の付勢力で軽く押しつけた状態で停止
している。

【００３７】この状態から磁気ディスク７１が回転を始
めると、磁気ディスク表面に気流が生じ、この気流がス
ライダ本体１０の底面側に流入するようになる。ここ
で、この気流発生により各サイドレール１２の空気流の
流入側１０ａの端部には揚力が発生するのでこの揚力が
上記バネ板の付勢力に打ち勝つ大きさになるとスライダ
本体１０は浮上を始める。また、各サイドレール１２の
空気流の流入側１０ａの端部を通過してスライダ本体１
０の底面側に流入した空気とサイドスライダ１２、１２
の間を通過した空気は負圧溝１５に流入し、ここで大き
な負圧を発生するので、スライダ本体１０は空気の流入
側の端部を上に持ち上げた状態で所定のピッチ角で傾斜
する。

【００３８】実施形態の磁気ヘッドスライダＳにあって
は、第１、第２の突起１７、１８の最表面に耐磨耗性を
有する第２のカーボン膜６４が形成されているので、磁
気ディスク７１の起動時と停止時に上記突起が磁気ディ
スク７１と摺動しても摩耗しにくく、上記突起の耐摩耗
性を著しく向上でき、さらにまた、スライダ本体１０の
サイドレール１２、１２およびセンターレール１３の表
面が耐腐食性を有する第１のカーボン膜６２で覆われて
いるので、スライダ本体１０に設けられた磁気ヘッドコ
ア１１が腐食により劣化するのを防止できる。また、上
記のように第１、第２の突起１７、１８の耐磨耗性が著
しく向上するので、スライダと磁気ディスクとの接触面
積が増大するのを防止でき、スライダと磁気ディスクと
の吸着力が高くなることに起因して磁気ヘッドコア１１
に設けられた磁気ヘッド素子３５や磁気ディスク７１の
記録層等が磁気ディスクの回転起動の際に破損すること
も防止できる。

【００３９】さらに、上記のような特性を有する第１、
第２のカーボン膜６２、６４は、ＥＣＲＣＶＤ法により
形成する際、成膜装置内に供給する反応ガス（炭素を含
むガス）の種類を変更したり、基板バイアスを調整する
ことにより、異なる特性を有するカーボン膜を効率良く
製造できる。従って実施形態の磁気ヘッドスライダＳに
よれば、製造効率を良好としたうえで、スライダ本体１
０の媒体対向面やサイドレール１２、１２に設けられた
第１、第２の突起１７、１８の耐磨耗性を向上できると
ともにスライダ本体１０に設けられた磁気ヘッドコア１
１の腐食を防止できる。

【００４０】なお、上記の実施形態においては、サイド
レール１２、１２及びセンターレール１３の表面に接着
層６１を介して第１のカーボン膜６２が形成された場合
について説明したが、スライダ本体１０のレール形成部
分以外の媒体対向面上にも接着層６１を介して耐腐食性
を有する第１のカーボン膜６２が形成されていてもよ
く、その場合には、磁気ヘッドコア１１の腐食防止効果
をより向上できる。また、上記の実施形態においては、
突起１７、１８を構成する中間膜６３と第２のカーボン
膜６４がそれぞれ１層ずつ設けられた場合について説明
したが、上記突起が中間膜６３と第２のカーボン膜６４
が交互に積層された多層膜（４層以上からなる積層膜）
から構成されていてもよく、その場合、少なくとも最外
層に位置する第２のカーボン膜６４が耐磨耗性を有する
ものであればよい。

【００４１】

【実施例】（実験例１）図１と図２に示す形状の磁気ヘ
ッドスライダを製造する際に、第１、第２の突起１７、
１８の最表面の第２のカーボン膜６４を構成する材料を
下記のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄに変更したときの突起の膜硬さ及
び耐摩耗性について調べた。その結果を図７、図８に示
す。ここで作製した磁気ヘットスライダは、長方形状の
スライダ本体１０の長辺部の長さ１．２４１ｍｍ、幅
１．０ｍｍ、負圧溝１５の空気流の流入側の端部の幅
０．１ｍｍ、最大幅０．７８ｍｍ、深さ（段部２０の表
面からの距離）２．５μｍ、各サイドレール１２の最大
幅０．３４ｍｍ、最小幅０．０８ｍｍ、高さ（段部２０
の表面からの距離）０．２５μｍ、Ｓｉ接着層６１の厚
み０．５ｎｍ、第１のカーボン膜の厚み４．５ｎｍ、第
１の突起１７の径３０ｍｍ、第２の突起１８の長径７５
ｍｍ、短径３０ｍｍ、第１、第２の突起１７、１８の高
さはそれぞれ３５ｎｍ、各突起を構成するＳｉ中間膜６
３の厚みは４ｎｍ、第２のカーボン膜の厚みは３１ｎ
ｍ、第２の突起１８と磁気ギャップＧとの距離を３００
μｍに設定した。また、スライダ本体１０は、浮上時の
浮上量が２５ｎｍで、ピッチ角１００μＲａｄとなるよ
うに設置した。

【００４２】上記材料Ａは、図６に示す工程においてＡ
ｌ₂Ｏ₃ＴｉＣからなる基体１０ｃの上にＳｉ接着層６
１、第１のカーボン膜６２を介して形成したＳｉ中間膜
６３上にＥＣＲＣＶＤ法によりカーボン膜を形成する
際、成膜装置内に供給する反応ガスとしてメタンガスを
用い、基板バイアスを１１０Ｗにすることにより作製し
たものであり、膜中の水素濃度が３８原子％のものであ
る。上記材料Ｂは、成膜装置内に供給する反応ガスとし
てエチレンガスを用い、基板バイアスを２００Ｗにする
以外は、上記材料Ａと同様にして作製したものであり、
膜中の水素濃度が２８原子％のものである。上記材料Ｃ
は、基板バイアスを４００Ｗにする以外は、上記材料Ｂ
と同様にして作製したものであり、膜中の水素濃度が２
６原子％のものである。上記材料Ｄは、カソディックア
ークカーボンであり、膜中の水素濃度がほぼ０原子％の
ものである。また、耐摩耗性は、通常のＣＳＳ５万回後
の突起の高さを測定することにより調べた。図８中、縦
軸の突起の摩耗量は、ＣＳＳを行う前の初期の突起の高
さと５万回ＣＳＳ後の突起の高さの差である。

【００４３】図７に示した結果から最表面に材料Ａから
なるカーボン膜を有する突起の膜硬度Ｈは約２０ＧＰａ
乃至約２２ＧＰａの範囲に分布しており、平均値は２１
ＧＰａ付近であり、最表面に材料Ｂからなるカーボン膜
を有する突起の膜硬度Ｈは約２０ＧＰａ乃至約２４ＧＰ
ａの範囲に分布しており、平均値は２２ＧＰａ付近であ
り、最表面に材料Ｃからなるカーボン膜を有する突起の
膜硬度Ｈは約２３．６ＧＰａ乃至２５．８ＧＰａの範囲
に分布しており、平均値は２４．２ＧＰａ付近であり、
最表面に材料Ｄからなるカーボン膜を有する突起の膜硬
度Ｈは約２８ＧＰａ乃至２９．４ＧＰａの範囲に分布し
ており、平均値は２８．７ＧＰａ付近であることがわか
る。

【００４４】図８に示した結果から膜硬度が約２１ＧＰ
ａの材料Ａからなるカーボン膜を最表面に有する突起
は、摩耗量が７ｎｍ以上と大きい。これに対して膜硬度
が約２２ＧＰａの材料Ｂからなるカーボン膜を最表面に
有する突起は、５ｎｍ以下であり、材料Ａよりも耐摩耗
性が優れていることがわかる。さらに、膜硬度が約２
４．２ＧＰａの材料Ｃからなるカーボン膜を最表面に有
する突起は、摩耗量の平均値が約３．５ｎｍ、膜硬度が
２８．７ＧＰａの材料Ｄからなるカーボン膜を最表面に
有する突起は、摩耗量の平均値が約１．８ｎｍであり、
耐摩耗性がより優れていることがわかる。図８の結果か
ら突起の摩耗量が実用上問題ない（吸着トルクが小さ
い）範囲の５ｎｍ以下であるものは、膜硬度が２２ＧＰ
ａ以上の材料から構成したものであるので、スライダ本
体に形成されたレールに設ける突起の最表面のカーボン
膜を膜硬度が２２ＧＰａ以上のカーボン膜から構成する
ことが有効であることを確認できる。

【００４５】（実験例２）突起１７、１８を構成する第
２のカーボン膜６４を上記材料Ｂから構成し、各サイド
レール１２上に形成する第１のカーボン膜６２中の水素
含有量を下記表１に示す範囲で変更した以外は上記実験
例１で作製したものと同様の磁気ヘッドスライダＳを作
製し、潤滑剤の付着量と突起の耐磨耗性を調べた。ここ
での潤滑剤の付着量は、通常のＣＳＳ５万回後の付着量
を測定することにより調べた。また、ここでの潤滑剤と
しては、パーフロロポリエーテルを用いた。その結果を
表１に示す。表１中、潤滑剤の付着量の欄の○は潤滑剤
の付着がなかったものを表し、△は潤滑剤の付着が見ら
れたものを表し、耐磨耗性の欄の◎は突起が殆ど磨耗し
ておらず、磨耗量が磨耗量測定限界以下のものを表し、
○は突起の磨耗量が５ｎｍ以下と小さいものを表し、△
は突起の磨耗量が５〜１０ｎｍと大きいものを表す。

【００４６】

【表１】

【００４７】表１に示した結果からカーボン膜中の水素
含有量が３５原子％以上のサンプルＮｏ.１〜Ｎｏ.３の
ものは、潤滑剤の付着がなく、良好であることがわか
る。また、カーボン膜中の水素含有量が３０原子％未満
のサンプルＮｏ.４〜Ｎｏ.６のものは、突起の磨耗量が
小さく、耐磨耗性を良好とすることができるが、潤滑剤
が付着してしまうことがわかる。

【００４８】

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気ヘッド
スライダによれば、スライダ本体の媒体対向面およびレ
ールのうち少なくともレールの表面上に接着層を介して
耐腐食性を有する第１のカーボン膜が設けられ、該第１
のカーボン膜上に中間膜と第２のカーボン膜が交互に形
成されてなる突起が設けられ、上記突起を構成する第２
のカーボン膜のうち少なくとも最外層の第２のカーボン
膜は、耐磨耗性を有するものであるので、製造効率を良
好としたうえで、スライダ本体の媒体対向面やレールに
設けられた突起の耐磨耗性を向上できるとともにスライ
ダ本体に設けられた磁気ヘッドコアの腐食を防止でき
る。また、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法によ
れば、上記の構成としたことにより、本発明の磁気ヘッ
ドスライダの製造に好適に用いられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気ヘッドスライダの一実施形
態例の底面図。

【図２】図１の磁気ヘッドスライダの浮上姿勢の状態
を示す断面図。

【図３】本発明に係わる磁気ヘッドスライダに設けら
れた磁気ヘッドコア部の一例を示す断面図。

【図４】本発明に係わる磁気ヘッドスライダに設けら
れた磁気ヘッドコア部の一例を示す部分断面図。

【図５】第２のカーボン膜の膜硬度の測定に用いる圧
子の形状を示す図。

【図６】図１乃至図２の磁気ヘッドスライダの製造方
法を工程順に示す図。

【図７】磁気ヘッドスライダの突起の最表面のカーボ
ン膜を構成する材料の膜硬度の測定値を示す図。

【図８】磁気ヘッドスライダの突起の最表面のカーボ
ン膜を構成する材料と突起の摩耗量を示す図。

【図９】従来の磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの
配置関係を示す図。

【図１０】従来の磁気ヘッドスライダの一例の浮上走
行状態を示す側面図。

【図１１】従来の磁気ヘッドスライダの静止姿勢の状
態を示す側面図。

【図１２】従来の磁気ヘッドスライダのサイドレール
の長さ方向に沿った断面の拡大図。

【符号の説明】

Ｓ・・・磁気ヘッドスライダ、１０・・・スライダ本体、１０
ａ・・・空気流の流入側、１０ｂ・・・空気流の流出側、１１
・・・磁気ヘッドコア、１２・・・サイドレール、１３・・・
センターレール、１５・・・負圧溝、１７・・・第１の突起、
１８・・・第２の突起、２２、２７・・・レジストパターン、
３５・・・巨大磁気抵抗効果材料膜（巨大磁気抵抗効果型
素子）、７１・・・磁気ディスク、６１・・・接着層、６２・・
・第1のカーボン膜、６３・・・中間膜、６４・・・第２のカー
ボン膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 21/21 １０１Ｇ１１Ｂ 21/21 １０１Ｑ１０１Ｌ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】板状のスライダ本体内に磁気ヘッドコア
が設けられ、前記スライダ本体の磁気ディスク側の媒体
対向面に浮力発生のためのレールが形成され、磁気ディ
スクに対して浮上走行して磁気情報の書き込みあるいは
読み出しを行う磁気ヘッドスライダであって、前記スライダ本体の媒体対向面およびレールのうち少な
くともレールの表面上に接着層を介して耐腐食性を有す
る第１のカーボン膜が設けられ、該第１のカーボン膜上
に中間膜と第２のカーボン膜が交互に形成されてなる突
起が設けられ、前記突起を構成する第２のカーボン膜の
うち少なくとも最外層の第２のカーボン膜は、耐磨耗性
を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】前記耐腐食性を有する第１のカーボン膜
は、水素含有量が３０原子％以上のカーボン膜からな
り、前記耐磨耗性を有する第２のカーボン膜は膜硬度２
２ＧＰa以上のカーボン膜からなることを特徴とする請
求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】前記磁気ヘッドコアは、巨大磁気抵抗効
果型素子が備えられていることを特徴とする請求項１又
は２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】磁気ヘッドコアが設けられた板状のスラ
イダ本体の磁気ディスク側の媒体対向面上に、接着層
と、耐腐食性を有する第１のカーボン膜とを形成する工
程と、前記第１のカーボン膜上に中間膜と第２のカーボ
ン膜とを交互に形成し、このとき少なくとも最外層の第
２のカーボン膜は耐磨耗性を有するものを形成する工程
と、前記接着層と第１のカーボン膜と中間膜と第２のカ
ーボン膜との積層膜の少なくとも前記最外層の第２のカ
ーボン膜とこれの下層の中間膜をパターニングして突起
を形成する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッド
スライダの製造方法。
【請求項５】前記耐腐食性を有する第１のカーボン膜
は、水素含有量が３０原子％以上のカーボン膜から形成
し、前記耐磨耗性を有する第２のカーボン膜は膜硬度２
２ＧＰa以上のカーボン膜から形成することを特徴とす
る請求項４記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。