JP2001247499A - アルコールの製造方法 - Google Patents

アルコールの製造方法

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JP2001247499A
JP2001247499A JP2000064543A JP2000064543A JP2001247499A JP 2001247499 A JP2001247499 A JP 2001247499A JP 2000064543 A JP2000064543 A JP 2000064543A JP 2000064543 A JP2000064543 A JP 2000064543A JP 2001247499 A JP2001247499 A JP 2001247499A
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JP
Japan
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carboxylic acid
compound
acid
ruthenium
ester
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JP2000064543A
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English (en)
Inventor
Kotohiro Nomura
琴広 野村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 比較的低い水素ガス圧力の下でもカルボン酸
やそのエステルを水素還元してアルコールを製造し得る
方法を提供する。 【解決手段】 カルボン酸またはそのエステルをエーテ
ル系溶媒または芳香族炭化水素系溶媒中でルテニウムま
たはその化合物とホスフィン化合物と、好ましくは遷移
金属、遷移金属化合物およびアミンから選ばれる1種以
上の助触媒との存在下に水素還元を行いアルコールを得
る。芳香族カルボン酸や芳香環を有する置換基で置換さ
れた脂肪族カルボン酸およびこれらのエステルの水素還
元に好ましく適用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルコールの製造
方法に関し、詳しくはカルボン酸またはそのエステルの
水素還元によるアルコールの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カルボン酸またはそのエステルを水素で
還元してアルコールを製造する方法は広く知られてお
り、例えばシュウ酸ジメチルをメタノール中でルテニウ
ム化合物およびホスフィン化合物の存在下に水素で還元
する方法(Chem.Commun.,667〜668(1997))、パルチミ
ン酸メチル、フタル酸ジメチル、マレイン酸ジメチルな
どをメタノール、イソプロピルアルコール、2,2,2
−トリフルオロエタノール、1,1,1,3,3,3−
ヘキサフルオロプロパン−2−オールなどのアルコール
溶媒中でルテニウム化合物およびホスフィン化合物の存
在下に水素で還元する方法(Chem.Commun.,1367〜1368
(1998))、フェニル酢酸エチルをルテニウム化合物、ス
ズ化合物およびアルミナの存在下に溶媒を用いることな
く水素で還元する方法(J.Am.Oil Chem.,1996,Vol.73,4
65〜469)などが知られている。
【0003】しかし、これらの方法は、水素還元を比較
的高い水素ガス圧力の下に行う必要があった。また、芳
香族カルボン酸や芳香環を有する置換基で置換された脂
肪族カルボン酸およびこれらのエステルを水素還元しよ
うとするとその芳香環までも水添されてしまうという問
題もあった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
比較的低い水素ガス圧力の下でもカルボン酸やそのエス
テルを水素還元してアルコールを製造し得る方法を開発
するべく鋭意検討した結果、エーテル系溶媒または芳香
族炭化水素系溶媒中におけるルテニウムまたはその化合
物とホスフィン化合物との存在下でのカルボン酸または
そのエステルの水素還元は、比較的低い水素ガス圧力の
下でも進行してアルコールを生成し得、しかも芳香族カ
ルボン酸や芳香環を有する置換基で置換された脂肪族カ
ルボン酸を水素で還元してもその芳香環を水添すること
なくアルコールに導き得ることを見出し、本発明に至っ
た。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、カ
ルボン酸またはそのエステルをエーテル系溶媒または芳
香族炭化水素系溶媒中でルテニウムまたはその化合物と
ホスフィン化合物との存在下に水素還元することを特徴
とするアルコールの製造方法を提供するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法は、カルボン酸
またはそのエステルを水素還元する方法である。カルボ
ン酸は芳香族カルボン酸であってもよいし、脂肪族カル
ボン酸であってもよい。また、カルボン酸は一分子中に
カルボキシル基を1つ有するモノカルボン酸であっても
よいし、2つのカルボキシル基を有するジカルボン酸な
どのような複数のカルボキシル基を有するカルボン酸で
あってもよい。
【0007】芳香族カルボン酸としては、例えば安息香
酸、1−ナフテン酸、2−ナフテン酸、p−フタル酸、
m−フタル酸、o−フタル酸などが挙げられる。
【0008】かかる芳香族カルボン酸は置換基で置換さ
れていてもよい。置換基としては、例えばアルキル基、
水酸基、ハロゲン原子、アルコキシル基、アミノ基、ア
リール基などが挙げられる。アルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、オクチル基、シクロヘキシル基などが、ハロゲン
原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などが、アルコキシル基としては、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
などが、アミノ基としては、例えばアミノ基、N,N-
ジメチルアミノ基、N,N−時エチルアミノ基などが、
アリール基としては、例えばフェニル基、キシリル基、
クロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ジメチルヒ
ドロキシフェニル基、ナフチル基などのアリール基、ベ
ンジル基などのアラルキル基などがそれぞれ挙げられ
る。
【0009】かかる置換基で置換された芳香族カルボン
酸としては、例えばメチル安息香酸、エチル安息香酸、
ヒドロキシ安息香酸、クロロ安息香酸、ブロモ安息香
酸、メトキシ安息香酸、エトキシ安息香酸、アミノ安息
香酸、N,N−ジメチル安息香酸、フェニル安息香酸な
どが挙げられる。
【0010】脂肪族カルボン酸としては、例えば酢酸、
プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン
酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、シュウ酸、プロパンジカルボン酸、ブタンジカルボ
ン酸、ヘキサンジカルボン酸、セバシン酸などが挙げら
れる。
【0011】脂肪族カルボン酸は、上記芳香族カルボン
酸と同様の置換基、例えば水酸基、ハロゲン原子、アル
コキシル基、アミノ基、アリール基、アラルキル基など
で置換されていてもよい。かかる置換基で置換された脂
肪族カルボン酸としては、例えばヒドロキシ酢酸、ヒド
ロキシプロピオン酸、ヒドロキシ酪酸、クロロ酢酸、ブ
ロモ酢酸、クロロプロピオン酸、メトキシ酢酸、エトキ
シ酢酸、アミノ酢酸、アミノプロピオン酸、アミノヘキ
サン酸、フェニル酢酸、フェニルプロピオン酸、4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオン酸、3−(3−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸、3−(3−
t−ペンチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン
酸、3−(3−t−オクチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸、3−(3−シクロヘキシル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオン酸、3−[3−(1−メ
チルシクロヘキシル)−4−ヒドロキシフェニル]プロ
ピオン酸、3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)プロピオン酸、3−(3−t−ペン
チル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオ
ン酸、3−(3−t−オクチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)プロピオン酸、3−(3−シクロヘキ
シル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオ
ン酸、3−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル]プロピオン酸、3−
(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−エチルフェニ
ル)プロピオン酸、3−(3−t−ペンチル−4−ヒド
ロキシ−5−エチルフェニル)プロピオン酸、3−(3
−t−オクチル−4−ヒドロキシ−5−エチルフェニ
ル)プロピオン酸、3−(3−シクロヘキシル−4−ヒ
ドロキシ−5−エチルフェニル)プロピオン酸、3−
[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−ヒドロキシ
−5−エチルフェニル]プロピオン酸、3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン
酸、3−(3−t−ペンチル−4−ヒドロキシ−5−t
−ブチルフェニル)プロピオン酸、3−(3−t−オク
チル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロ
ピオン酸、3−(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ
−5−t−ブチルフェニル)プロピオン酸、3−[3−
(1−メチルシクロヘキシル)−4−ヒドロキシ−5−
t−ブチルフェニル]プロピオン酸などが挙げられる。
【0012】本発明の製造方法に適用されるカルボン酸
のエステルとしては、上記各カルボン酸のメチルエステ
ル、エチルエステル、ブチルエステル、オクチルエステ
ルなどのアルキルエステル、フェニルエステル、ビフェ
ニルエステル、ナフチルエステルなどのアリールエステ
ル、ベンジルエステルなどのアラルキルエステルなどが
挙げられる。
【0013】かかるエステルは、カルボン酸がジカルボ
ン酸である場合には、2つのカルボキシル基が全てエス
テル化されたカルボン酸ジエステルであってもよいし、
2つのカルボキシル基のうちの一方がエステル化された
カルボン酸モノエステルであってもよい。カルボン酸と
そのエステルとは混合されて用いられてもよい。
【0014】本発明の製造方法は、カルボン酸またはそ
のエステルが芳香族カルボン酸やアリール基、アラルキ
ル基などのような芳香環を有する置換基で置換された脂
肪族カルボン酸またはこれらのエステルであってもその
芳香環を水添することなく水素還元してアルコールに導
くことができる。
【0015】本発明の製造方法に用いられる溶媒は、エ
ーテル系溶媒または芳香族炭化水素系溶媒である。エー
テル系溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジグライム、トリグライム、テトラグライム(テト
ラエチレングリコールジメチルエーテル)、ジオキサン
などが挙げられる。芳香族炭化水素系溶媒としては、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンな
どが挙げられる。これらの溶媒は、それぞれ単独または
2種以上を混合して用いることができ、エーテル系溶媒
と芳香族炭化水素系溶媒とを混合して用いてもよい。か
かる溶媒の使用量は、カルボン酸またはそのエステルに
対して通常1〜100重量倍、好ましくは3〜50重量
倍程度である。
【0016】本発明の製造方法においては、ルテニウム
またはその化合物の存在下に水素還元が行われる。ルテ
ニウムは、ルテニウム金属を粉末状で用いてもよいし、
グラファイト、活性炭などのカーボン担体、アルミナ担
体などの担体に担持した状態で用いてもよい。
【0017】ルテニウムの化合物としては、、ルテニウ
ム(II)化合物、ルテニウム(III)化合物などが好ま
しく用いられる。ルテニウム(II)化合物としては、例
えばクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウ
ム(II)、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)ル
テニウム(II)、ビス(2−メチルアリル)1,5−シ
クロオクタジエンルテニウム(II)、カルボニルクロロ
ヒドリドトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム
(II)、カルボニルジヒドリドトリス(トリフェニルホ
スフィン)ルテニウム(II)、ジクロロトリス(トリフ
ェニルホスフィン)ルテニウム(II)、ジヒドリドテト
ラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)、
ルテノセンなどのルテニウム(II)単核錯体などをはじ
めとするルテニウム(II)錯体などが挙げられる。
【0018】ルテニウム(III)化合物としては、例え
ばルテニウム(III)アセチルアセトナート、ルテニウ
ム(III)アセテート、ペンタアミンクロロルテニウム
(III)などのルテニウム(III)の単核錯体、m−シメ
ン ビスクロロルテニウム(III)2核錯体、m−シメン
ビスヨードルテニウム(III)2核錯体、p−シメンビ
スヨードルテニウム(III)2核錯体などのルテニウム
(III)2核錯体などのルテニウム(III)錯体、塩化ル
テニウム(III)、臭化ルテニウム(III)、ヨウ化ルテ
ニウム(III)などのルテニウム(III)ハロゲン化物な
どが挙げられる。中でも、ルテニウム(III)錯体がさ
らに好ましく用いられる。
【0019】ルテニウムまたはその化合物の使用量は、
カルボン酸またはそのエステル100モル当たり通常
0.1〜10モル程度、好ましくは0.5〜5モル程度
である。
【0020】本発明の製造方法においては、ホスフィン
化合物の存在下に水素還元が行われる。ホスフィン化合
物としては、例えば2級ホスフィン、3級ホスフィンな
どが挙げられる。2級ホスフィンとしては、例えばジメ
チルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジブチルホスフ
ィン、ジシクロヘキシルホスフィン、ジオクチルホスフ
ィン、ジフェニルホスフィン、ジキシリルホスフィンな
どが挙げられる。
【0021】3級ホスフィンは、モノホスフィンであっ
てもよいし、ジホスフィンであってもよいし、トリホス
フィンであってもよい。モノホスフィンとしては、例え
ばトリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ
−n−プロピルホスフィン、トリイソプロピルホスフィ
ン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリイソブチルホス
フィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリシク
ロヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィンなどの
トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ト
リ o−トリルホスフィン、トリm−トリルホスフィ
ン、トリ p−トリルホスフィンなどのトリアリールホ
スフィン、メチルジフェニルホスフィンなどのアルキル
ジアリールホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、
ジエチルフェニルホスフィンなどのジアルキルアリール
ホスフィンなどが挙げられる。
【0022】ジホスフィンとしては、例えばテトラフェ
ニルジホスフィン、ビス(ジメチルホスフィノ)メタ
ン、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、1,2−ビ
ス(ジエチルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジエ
チルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)エタン、1,3−ビス(ジメチルホスフィ
ノ)プロパン、1,3−ビス(ジエチルホスフィノ)プ
ロパン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパ
ン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、
1,4−ビス(ジメチルホスフィノ)ブタン、1,4−
ビス(ジエチルホスフィノ)ブタン、1,4−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)ブタン、2,3−ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)ブタン、1,6−ビス(ジメチルホスフ
ィノ)ヘキサン、1,6−ビス(ジエチルホスフィノ)
ヘキサン、1,6−ビス(ジフェニルホスフィノ)ヘキ
サン、シス−1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エ
チレン、o−ビス(ジメチルホスフィノ)ベンゼンなど
が挙げられる。
【0023】トリホスフィンとしては、例えばトリス
(ジフェニルホスフィノメチル)メタン、1,1,1−
トリス(ジメチルホスフィノメチル)エタン、1,1,
1−トリス(ジエチルホスフィノメチル)エタン、1,
1,1−トリス(ジフェニルホスフィノメチル)エタン
などが挙げられる。
【0024】ホスフィン化合物の中でも3級ホスフィン
が好ましく用いられ、さらにはトリホスフィンが、特に
はトリアルキルホスフィンが好ましく用いられる。とり
わけトリ−n−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシル
ホスフィン、トリオクチルホスフィンが好ましく用いら
れる。
【0025】ホスフィン化合物は、それぞれ単独または
2種以上を混合して用いることができ、その使用量は、
ルテニウムまたはその化合物の使用量1モル当たり通常
0.5〜60モル程度、好ましくは1〜50モル程度で
ある。
【0026】本発明の製造方法において、ルテニウムま
たはその化合物とホスフィン化合物とは、触媒としてカ
ルボン酸またはそのエステルに作用するものと考えられ
る。
【0027】本発明の製造方法においては、遷移金属、
遷移金属化合物およびアミンから選ばれる少なくとも1
種の助触媒の存在下に水素還元を行ってもよい。かかる
助触媒を用いることで、目的とするアルコールの収率を
向上することができる。
【0028】遷移金属としては、例えば亜鉛、チタン、
銅、ニッケル、コバルト、パラジウム、ロジウムなどが
挙げられる。遷移金属化合物としては、例えば酸化亜
鉛、塩化亜鉛などの亜鉛化合物、テトラプロポキシチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、テトラキス(ジメチ
ルアミノ)チタンなどのチタン化合物が挙げられる。
【0029】アミンとしては、例えばトリエチルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、オク
チルジメチルアミンなどのトリアルキルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリンなどの芳香族
アミンなどが挙げられる。
【0030】かかる助触媒の中でも、亜鉛、テトライソ
プロポキシチタン、トリエチルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、トリブチルアミンなどが好ましく用いられ
る。助触媒を用いる場合、これらの助触媒はそれぞれ単
独または2種以上を混合して用いることができ、その使
用量はルテニウムまたはその化合物の使用量1モル当た
り1〜50モル程度、好ましくは2〜40モル程度であ
る。
【0031】水素還元は、例えばカルボン酸またはその
エステルを溶媒中でルテニウムまたはその化合物とホス
フィン化合物と、助触媒を用いる場合には助触媒との存
在下に水素と接触させればよく、具体的には、カルボン
酸またはそのエステルと溶媒とルテニウムまたはその化
合物とホスフィン化合物と、助触媒を用いる場合には助
触媒とを混合した混合物を水素ガス雰囲気下で加熱すれ
ばよい。かくして、カルボン酸またはそのエステルを還
元することができる。
【0032】水素ガスの圧力は、4MPa程度以上でも
よいが、3MPa程度以下であってもカルボン酸または
そのエステルを水素還元してアルコールを製造すること
ができる。水素圧力は通常0.5MPa以上であり2M
Pa以下である。加熱温度は、通常150〜300℃程
度、好ましくは180〜250℃程度の範囲である。反
応時間は特に限定されないが、通常は3〜20時間程度
である。
【0033】還元反応後の反応混合物には、生成したア
ルコールと原料のカルボン酸またはカルボン酸エステル
との反応生成物が含まれる場合もあるが、かかる反応生
成物は、水素還元の後、加水分解することにより、容易
に目的とするアルコールに導くことができる。加水分解
するには、例えば水素還元反応後の反応混合物に酸を加
えればよい。酸としては、例えば硫酸、塩酸、リン酸な
どが挙げられ、その使用量は、用いたカルボン酸または
そのエステル100モル当たり通常1〜10モル程度で
ある。
【0034】反応後または加水分解後の反応混合物から
目的とするアルコールを分取する。アルコールを分取す
るには、例えば固形分がある場合にはこれを濾別したの
ち、溶媒留去すればよい。溶媒留去の前に、水や、水に
不溶性の有機溶媒、例えばトルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、酢
酸エチル、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテルなどを加えてから分液
し、溶媒を留去してもよい。また、分取されたアルコー
ルは、晶析、蒸留、カラムクロマトグラフ処理などによ
って精製することもできる。
【0035】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、比較的小さ
い水素圧力の下でカルボン酸またはそのエステルを水素
還元してアルコールを製造することができる。また、ア
リール基で置換された脂肪族カルボン酸やそのエステル
であっても、その芳香環を水添することなく、アルコー
ルを製造することができる。
【0036】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
【0037】実施例1 窒素ガス雰囲気下でオートクレーブ(容量20cm3
にテトラエチレングリコールジメチルエーテル(3cm
3)、ルテニウム(III)アセチルアセトナート8mg
(0.02mmol)、トリオクチルホスフィン74.
1mg(0.2mmol)、亜鉛(粉末状)52.3m
g(0.8mmol)およびフェニル酢酸メチル15
0.2mg(1mmol)を投入したのち、オートクレ
ーブを密封し、水素ガスを導入して内圧を1MPaとし
た。次いで、混合物を攪拌しながら水素ガスを導入して
内圧を1MPaに保ちながら200℃に加熱し、同温度
で5時間攪拌を続けた。その後、室温まで冷却し、水素
ガスを排気して、反応混合物を得た。
【0038】この反応混合物をガスクロマトグラフ分析
(内部標準物質としてメシチレンを用いた)によって定
量分析した結果、フェニルエタノールが4.2mg
(0.034mmol)、フェニル酢酸ベンジルが1
7.9mg(0.07mmol)それぞれ生成していた
ことを確認した。また、フェニル酢酸メチルのフェニル
基が水添された生成物は検出できなかった。
【0039】この反応混合物に硫酸を加えてpHを1と
し、次いで80℃で3時間保温してフェニル酢酸ベンジ
ルを加水分解した。加水分解後の反応混合物を上記と同
様にして定量分析したところ、この反応混合物はフェニ
ルエタノールを12.7mg(0.104mmol)含
有しており、フェニル酢酸ベンジルは検出できなかっ
た。
【0040】実施例2 亜鉛(粉末状)の使用量を13.1mg(0.2mmo
l)とし、反応時間を15時間とした以外は、実施例1
と同様に操作して、反応混合物を得た。この反応混合物
を実施例1と同様にして定量分析したところ、フェニル
エタノールが10mg(0.082mmol)、フェニ
ル酢酸ベンジルが22.1mg(0.086mmol)
それぞれ生成していた。また、フェニル酢酸メチルのフ
ェニル基が水添された生成物は検出できなかった。次い
で、この反応混合物を実施例1と同様にして加水分解し
たところ、加水分解後の反応生成物はフェニルエタノー
ルを20.5mg(0.168mmol)含有してお
り、フェニル酢酸ベンジルは検出されなかった。
【0041】実施例3 亜鉛(粉末状)の使用量を13.1mg(0.2mmo
l)とした以外は、実施例1と同様に操作して、反応混
合物を得た。この反応混合物を実施例1と同様にして定
量分析したところ、フェニルエタノールが2.2mg
(0.018mmol)、フェニル酢酸ベンジルが8.
7mg(0.034mmol)それぞれ生成していた。
また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が水添された生
成物は検出できなかった。次いで、この反応混合物を実
施例1と同様にして加水分解したところ、加水分解後の
反応生成物はフェニルエタノールを6.4mg(0.0
52mmol)含有しており、フェニル酢酸ベンジルは
検出されなかった。
【0042】実施例4 トリオクチルホスフィンに代えてトリシクロヘキシルホ
スフィンを56.1mg(0.5mmol)用いる以外
は、実施例3と同様に操作して、反応混合物を得た。こ
の反応混合物には、フェニルエタノールが10mg
(0.082mmol)、フェニル酢酸ベンジルが0.
5mg(0.002mmol)それぞれ含有されてい
た。また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が水添され
た生成物は検出できなかった。次いで、この反応混合物
を実施例1と同様にして加水分解したところ、加水分解
後の反応生成物はフェニルエタノールを10.5mg
(0.084mmol)含有しており、フェニル酢酸ベ
ンジルは検出されなかった。
【0043】実施例5 トリオクチルホスフィンに代えて1,1,1−トリス
(ジフェニルホスフィノメチル)エタンを25mg
(0.04mmol)用い、亜鉛に代えてトリエチルア
ミンを40.4mg(0.4mmol)用いる以外は、
実施例3と同様に操作して、反応混合物を得た。この反
応混合物を実施例1と同様にして定量分析したところ、
フェニルエタノールが18.1mg(0.148mmo
l)、フェニル酢酸ベンジルが0.5mg(0.002
mmol)それぞれ生成していた。また、フェニル酢酸
メチルのフェニル基が水添された生成物は検出できなか
った。次いで、この反応混合物を実施例1と同様にして
加水分解したところ、加水分解後の反応生成物はフェニ
ルエタノールを18.3mg(0.15mmol)含有
しており、フェニル酢酸ベンジルは検出されなかった。
【0044】実施例6 亜鉛に代えてチタンイソプロポキシドを28.4mg
(0.1mmol)用いる以外は実施例3と同様に操作
して、反応混合物を得た。この反応混合物を実施例1と
同様にして定量分析したところ、フェニルエタノールが
7.1mg(0.058mmol)、フェニル酢酸ベン
ジルが14.3mg(0.056mmol)それぞれ生
成していた。また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が
水添された生成物は検出できなかった。次いで、この反
応混合物を実施例1と同様にして加水分解したところ、
加水分解後の反応生成物はフェニルエタノールを13.
9mg(0.114mmol)含有しており、フェニル
酢酸ベンジルは検出されなかった。
【0045】実施例7 フェニル酢酸メチルの使用量を1502mg(10mm
ol)とし、テトラエチレングリコールジメチルエーテ
ルの使用量を1.5cm3とした以外は実施例3と同様
に操作して、反応混合物を得た。この反応混合物を実施
例1と同様にして定量分析したところ、フェニルエタノ
ールが2.4mg(0.2mmol)、フェニル酢酸ベ
ンジルが100mg(0.39mmol)それぞれ生成
していた。また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が水
添された生成物は検出できなかった。次いで、この反応
混合物を実施例1と同様にして加水分解したところ、加
水分解後の反応生成物はフェニルエタノールを50.1
mg(0.41mmol)含有しており、フェニル酢酸
ベンジルは検出されなかった。
【0046】実施例8 テトラメチレングリコールジメチルエーテルに代えてキ
シレン(3cm3)を用いる以外は実施例1と同様に操
作して、反応混合物を得た。この反応混合物を実施例1
と同様にして定量分析したところ、フェニルエタノール
が5.9mg(0.048mmol)、フェニル酢酸ベ
ンジルが41mg(0.16mmol)それぞれ生成し
ていた。また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が水添
された生成物は検出できなかった。次いで、この反応混
合物を実施例1と同様にして加水分解したところ、加水
分解後の反応生成物はフェニルエタノールを12mg
(0.208mmol)含有しており、フェニル酢酸ベ
ンジルは検出されなかった。
【0047】実施例9 テトラメチレングリコールジメチルエーテルに代えてキ
シレン(1.25cm3)を用いる以外は実施例2と同
様に操作して、反応混合物を得た。この反応混合物を実
施例1と同様にして定量分析したところ、フェニルエタ
ノールが13.2mg(0.108mmol)、フェニ
ル酢酸ベンジルが43.5mg(0.17mmol)そ
れぞれ生成していた。また、フェニル酢酸メチルのフェ
ニル基が水添された生成物は検出できなかった。次い
で、この反応混合物を実施例1と同様にして加水分解し
たところ、加水分解後の反応生成物はフェニルエタノー
ルを34mg(0.278mmol)含有しており、フ
ェニル酢酸ベンジルは検出されなかった。
【0048】実施例10 亜鉛(粉末状)の使用量を1.3mg(0.05mmo
l)とする以外は実施例9と同様に操作して、反応混合
物を得た。この反応混合物を実施例1と同様にして定量
分析したところ、フェニルエタノールが18.3mg
(0.15mmol)、フェニル酢酸ベンジルが58.
4mg(0.228mmol)それぞれ生成していた。
また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が水添された生
成物は検出できなかった。次いで、この反応混合物を実
施例1と同様にして加水分解したところ、加水分解後の
反応生成物はフェニルエタノールを46.2mg(0.
378mmol)含有しており、フェニル酢酸ベンジル
は検出されなかった。
【0049】実施例11 フェニル酢酸メチルの使用量を225.3mg(1.5
mmol)とする以外は実施例10と同様に操作して、
反応混合物を得た。この反応混合物を実施例1と同様に
して定量分析したところ、フェニルエタノールが21.
7mg(0.178mmol)、フェニル酢酸ベンジル
が74.2mg(0.29mmol)それぞれ生成して
いた。また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が水添さ
れた生成物は検出できなかった。次いで、この反応混合
物を実施例1と同様にして加水分解したところ、加水分
解後の反応生成物はフェニルエタノールを57.2mg
(0.469mmol)含有しており、フェニル酢酸ベ
ンジルは検出されなかった。
【0050】実施例12 テトラエチレングリコールジメチルエーテルに代えてト
ルエン(3cm3)を用いた以外は実施例2と同様に操
作して反応混合物を得た。この反応混合物を実施例1と
同様にして定量分析したところ、フェニルエタノールが
4.1mg(0.034mmol)、フェニル酢酸ベン
ジルが30.2mg(0.118mmol)それぞれ生
成していた。また、フェニル酢酸メチルのフェニル基が
水添された生成物は検出できなかった。次いで、この反
応混合物を実施例1と同様にして加水分解したところ、
加水分解後の反応生成物はフェニルエタノールを18.
5mg(0.152mmol)含有しており、フェニル
酢酸ベンジルは検出されなかった。
【0051】実施例13 トリスアセチルアセトナトルテニウムに代えてp−シメ
ンビスヨードルテニウム(III)2核錯体を9.8mg
(0.01mmol)用いた以外は実施例1と同様に操
作して反応混合物を得た。この反応混合物を実施例1と
同様にして定量分析したところ、フェニルエタノールが
10.5mg(0.086mmol)、フェニル酢酸ベ
ンジルが21.5mg(0.084mmol)それぞれ
生成していた。また、フェニル酢酸メチルのフェニル基
が水添された生成物は検出できなかった。次いで、この
反応混合物を実施例1と同様にして加水分解したとこ
ろ、加水分解後の反応生成物はフェニルエタノールを1
0.4mg(0.17mmol)含有しており、フェニ
ル酢酸ベンジルは検出されなかった。
【0052】比較例1 トリオクチルホスフィンを使用しない以外は実施例2と
同様に操作して反応混合物を得た。この反応混合物を実
施例1と同様にして定量分析したところ、フェニルエタ
ノールおよびフェニル酢酸ベンジルの生成は確認できな
かった。
【0053】比較例2 ルテニウム化合物(ルテニウム(III)アセチルアセト
ナート)を使用しない以外は実施例2と同様に操作して
反応混合物を得た。この反応混合物を実施例1と同様に
して定量分析したところ、フェニルエタノールおよびフ
ェニル酢酸ベンジルの生成は確認できなかった。
【0054】比較例3 亜鉛およびトリオクチルホスフィンを使用しない以外は
実施例2と同様に操作して反応混合物を得た。この反応
混合物を実施例1と同様にして定量分析したところ、フ
ェニルエタノールおよびフェニル酢酸ベンジルの生成は
確認できなかった。
【0055】比較例4 テトラエチレングリコールジメチルエーテルに代えてメ
タノール(3cm3)を用い、反応時間を17時間とす
る以外は実施例3と同様に操作して反応混合物を得た。
この反応混合物を実施例1と同様にして定量分析したと
ころ、フェニルエタノールおよびフェニル酢酸ベンジル
の生成は確認できなかった。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】カルボン酸またはそのエステルをエーテル
    系溶媒または芳香族炭化水素系溶媒中でルテニウムまた
    はその化合物とホスフィン化合物との存在下に水素還元
    することを特徴とするアルコールの製造方法。
  2. 【請求項2】カルボン酸が、芳香族カルボン酸または脂
    肪族カルボン酸である請求項1に記載の製造方法。
  3. 【請求項3】脂肪族カルボン酸が芳香環を有する置換基
    で置換された脂肪族カルボン酸である請求項2に記載の
    製造方法。
  4. 【請求項4】ルテニウムまたはその化合物の使用量がカ
    ルボン酸またはそのエステルの使用量100モル当たり
    0.1〜10モルである請求項1に記載の製造方法。
  5. 【請求項5】ホスフィン化合物の使用量がルテニウムま
    たはその化合物の使用量1モル当たり0.5〜60モル
    である請求項1に記載の製造方法。
  6. 【請求項6】遷移金属、遷移金属化合物およびアミンか
    ら選ばれる1種以上の助触媒の存在下に水素還元する請
    求項1に記載の製造方法。
  7. 【請求項7】遷移金属が亜鉛である請求項6に記載の製
    造方法。
  8. 【請求項8】遷移金属化合物が亜鉛化合物およびチタン
    化合物である請求項6に記載の製造方法。
  9. 【請求項9】助触媒の使用量がルテニウムまたはその化
    合物の使用量1モル当たり1〜50モルである請求項6
    に記載の製造方法。
  10. 【請求項10】水素還元後、加水分解する請求項1に記
    載の製造方法。
  11. 【請求項11】カルボン酸またはそのエステルをエーテ
    ル系溶媒または芳香族炭化水素系溶媒中でルテニウムま
    たはその化合物とホスフィン化合物との存在下に水素と
    接触させることを特徴とする還元することを特徴とする
    カルボン酸またはそのエステルの還元方法。
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