JP2001240540A - 固形製剤の製造法 - Google Patents

固形製剤の製造法

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JP2001240540A JP2000386174A JP2000386174A JP2001240540A JP 2001240540 A JP2001240540 A JP 2001240540A JP 2000386174 A JP2000386174 A JP 2000386174A JP 2000386174 A JP2000386174 A JP 2000386174A JP 2001240540 A JP2001240540 A JP 2001240540A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】機械的粉砕を行わずに3−ホルミルアミノ−7
−メチルスルホニルアミノ−6−フェノキシ−4H−1
−ベンゾピラン−4−オンに代表される薬物の固形製剤
を製造するにあたり、溶出性の改善された固形製剤を容
易に製造する方法を開発すること。 【解決手段】3−ホルミルアミノ−7−メチルスルホニ
ルアミノ−6−フェノキシ−4H−1−ベンゾピラン−
4−オンに代表される薬物、結晶セルロースおよび崩壊
剤を造粒機に投入した後、水を添加して混合し、次い
で、結合剤の溶液を添加して湿式造粒を行う。この方法
により製造された3−ホルミルアミノ−7−メチルスル
ホニルアミノ−6−フェノキシ−4H−1−ベンゾピラ
ン−4−オンに代表される固形製剤は、その溶出性にお
いて、機械的粉砕で製造された微粉砕品を使用した固形
製剤に比して優れた溶出性を示す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶出性が改善され
た固形製剤の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】次の一般式[1]
【化4】 「式中、R1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
低級アルキル、低級アルケニルまたはアリール基を;R
2は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、カルボ
キシル基、ヒドロキシル基、ホルミル基もしくはアルコ
キシカルボニル基または置換されていてもよいアルキ
ル、アルコキシ、フェノキシ、シクロアルキル、カルバ
モイル、アミノもしくはフェニル基を;R4は、水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル
基、アシル基、ヒドロキシル基もしくはアルコキシカル
ボニル基または置換されていてもよいアルキル、アルコ
キシ、アルキルチオ、フェニルチオ、低級アルキニル、
低級アルケニル、スルファモイル、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アミジノ、フェニルもしくは
複素環式基、または式
【化5】 もしくは式
【化6】 (式中、R6は、水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基
もしくはアルコキシカルボニル基または置換されていて
もよいアルキル、シクロアルキル、フェニル、アミノ、
アシル、カルバモイル、アルキルスルホニル、イミノメ
チルもしくはアミジノ基を;R7は、水素原子、置換さ
れていてもよいアルキル、アルコキシ、フェニル、シク
ロアルキルもしくは複素環式基を示す。また、R6およ
びR7が隣接する窒素原子と一緒になって3〜7員環の
置換されていてもよい複素環式基を形成してもよい。)
で表わされる基を;R5は、置換されていてもよいフェ
ニル、チエニル、フリルまたはピリジル基を;Zは、酸
素原子、硫黄原子またはイミノ基を;および破線は、単
結合または二重結合を示す。」で表される4H−1−ベ
ンゾピラン−4−オン誘導体またはその塩は、抗炎症作
用、解熱鎮痛作用、抗関節炎作用および抗アレルギー作
用を有すること(特開平2-49778号)、さらに、免疫調
節作用も示し、各種の自己免疫疾患の予防・治療に有用
であることが知られている(再公表平6-623714号)。
【0003】中でも、3−アシルアミノ−7−アルキル
スルホニルアミノ−6−フェニルオキシ−4H−1−ベ
ンゾピラン−4−オンまたはその塩、とりわけ、3−ホ
ルミルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ−6−フェ
ノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オンについて開
発が進められている。
【0004】一般式[1]の4H−1−ベンゾピラン−
4−オン誘導体またはその塩の代表的化合物である、3
−ホルミルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ−6−
フェノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オンの固形
製剤において、その溶出性を改善するために、例えば、
機械的粉砕による微細化法が用いられる。しかしなが
ら、3−ホルミルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ
−6−フェノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
は、水難溶性で、帯電しやすく、その結晶は、凝集して
塊を作りやすい性質を有する。よって、機械的粉砕によ
る微細化法で製剤化する場合、ピンミル、ハンマーミル
で粉砕を行う際に帯電が激しく、一部粉砕できないこと
があり、また、粉砕できた部分でも帯電が激しいため、
粉砕機、フィルターおよびポリ袋に付着し、取り扱いに
くい。また、ジェットミルで粉砕した場合においても得
られた粉砕末は帯電しており、取り扱いにくい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、機械
的粉砕を行わずに一般式[1]で表される薬物、とりわ
け、3−ホルミルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ
−6−フェノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
の固形製剤を製造するにあたり、溶出性が改善された固
形製剤を容易に製造する方法を開発することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、機械的粉砕を行わない一般式[1]に示した薬
物の製剤化方法として、一般式[1]に示した薬物、結
晶セルロースおよび崩壊剤を造粒機内に投入した後、水
を添加して混合し、次いで結合剤の溶液を添加して湿式
造粒する方法が好ましい製剤化方法であり、この方法に
より製造された一般式[1]の薬物の固形製剤、とりわ
け、3−ホルミルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ
−6−フェノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
の固形製剤が、その溶出性において、機械的粉砕で製造
された微粉砕品を使用した固形製剤に比して短時間で高
い溶出率を達成することを見出し、本発明を完成した。
【0007】次に本発明を詳細に説明する。一般式
[1]の薬物のR1〜RおよびZに定義された以下の
各用語は、特にことわらない限り、以下の意味を有す
る。アルキル基とは、例えば、メチル、エチル、n-プロ
ピル、iso-プロピル、n-ブチル、iso-ブチル、tert−ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルな
どの直鎖状または分岐鎖状C1-8アルキル基を;シクロ
アルキル基とは、例えば、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプ
チルなどのC3-8シクロアルキル基を;低級アルキル基
とは、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、iso-プロ
ピル、n-ブチル、iso-ブチル、tertーブチルおよびペン
チルなどの直鎖状または分岐鎖状C1-5アルキル基を;
低級アルケニル基とは、例えば、ビニル、アリル、イソ
プロペニルおよびブテニルなどの直鎖状または分岐鎖状
2-5アルケニル基を;アルコキシ基とは、−O−アル
キル基(アルキル基は、上記した直鎖状または分岐鎖状
1-8アルキル基を示す。)を;アシル基とは、例え
ば、ホルミル基またはアセチル、プロピオニルおよびブ
チリル基などのC2-8アルカノイル基またはメトキサリ
ルおよびエトキサリルなどのアルコキシオキサリル基、
シクロヘキサンカルボニルのようなC3-8シクロアルキ
ルカルボニル基またはベンゾイル基のようなアロイル基
などを;
【0008】アルコキシカルボニル基とは、−CO−O
−アルキル基(アルキル基は、上記した直鎖状または分
岐鎖状C1-8アルキル基を示す。)を;アルコキシカル
ボニルアミノ基とは、−NH−CO−O−アルキル基
(アルキル基は、上記した直鎖状または分岐鎖状C1-8
アルキル基を示す。)を;ハロゲン原子とは、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などを;アル
キルチオ基とは、例えば、−S−アルキル基(アルキル
基は、上記した直鎖状または分岐鎖状C1-8アルキル基
を示す。)を;アルキルスルフィニル基とは、例えば、
メチルスルフィニルおよびエチルスルフィニルなどのC
1-4アルキルスルフィニル基を;アルキルスルホニル基
とは、例えば、メチルスルホニルおよびエチルスルホニ
ルなどのC1- 4アルキルスルホニル基を;アリール基と
は、フェニルおよびナフチルなどの基を;アシルアミノ
基とは、例えば、−NH−アシル基(アシル基は、上記
したと同様の意味を有する。)を;アルキルアミノ基と
は、例えば、−NH−アルキル基(アルキル基は、上記
した直鎖状または分岐鎖状C1-8アルキル基を示す。)
を;ジアルキルアミノ基とは、例えば、−N(アルキ
ル)2基(アルキル基は、上記した直鎖状または分岐鎖
状C1-8アルキル基を示す。)を;ハロアルキル基と
は、例えば、クロロメチル、フルオロメチル、ジクロロ
メチル、トリフルオロメチル、ジクロロエチルおよびト
リクロロエチルなどのようなハロ−C1-8アルキル基
を;低級アルキニル基とは、例えば、エチニルおよび2
−プロピニルなどのC2-5アルキニル基を;
【0009】複素環式基とは、例えば、チエニル、フリ
ル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チア
ゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、ベンズイミダ
ゾリル、ベンズチアゾリル、1,2,3−チアジアゾリ
ル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾ
リル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,3−トリア
ゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、ピリ
ジル、キノリル、イソキノリル、ピリミジニル、ピペラ
ジニル、ピラジニル、ピリダジニル、1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリル、1,2,4−トリアジニル、イミダ
ゾ[1,2−b][1,2,4]トリアジニル、ピロリジニ
ル、モルホリニルおよびキヌクリジニルなどのような酸
素原子、窒素原子および硫黄原子から選ばれる少なくと
も1つの異項原子を含有する4〜6員または縮合複素環
式基を示す。
【0010】一般式[1]において、R6およびR7が隣
接する窒素原子と一緒になって3〜7員環の複素環式基
を形成する場合、その複素環式基としては、例えば、ア
ゼチジン−1−イル、ピロリジン−1−イル、ピペリジ
ン−1−イルおよびピロール−1−イルなどのような3
〜7員環の含窒素複素環式基が挙げられる。
【0011】また、R3におけるアルキル、アルコキ
シ、フェノキシ、シクロアルキル、カルバモイル、アミ
ノおよびフェニル基;R4におけるアルキル、アルコキ
シ、アルキルチオ、フェニルチオ、低級アルキニル、低
級アルケニル、スルファモイル、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アミジノ、フェニルおよび複
素環式基;R6におけるアルキル、シクロアルキル、フ
ェニル、アミノ、アシル、カルバモイル、アルキルスル
ホニル、イミノメチルおよびアミジノ基;R7における
アルキル、アルコキシ、フェニル、シクロアルキルおよ
び複素環式基;R6およびR7が隣接する窒素原子と一緒
になって形成される3〜7員環の複素環式基並びにR5
におけるフェニル、チエニル、フリルおよびピリジル基
は、ハロゲン原子、アルコキシ、アルキルチオ、フェノ
キシ、カルボキシル、アシル、アルコキシカルボニル、
カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルキルスル
ホニル、ヒドロキシル、メルカプト、アシルアミノ、ア
ルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロア
ルキル、オキソ、ニトロ、ハロアルキル、アミノ、フェ
ニル、アルコキシカルボニルアミノ、ヒドロキシイミノ
および複素環式基から選ばれる一種または二種以上の置
換基で置換されていてもよい。
【0012】一般式[1]の4H−1−ベンゾピラン−
4−オン誘導体の塩としては、医薬として許容される
塩、例えば、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ
金属との塩;カルシウムおよびマグネシウムなどのアル
カリ土類金属との塩;アンモニウム塩;トリエチルアミ
ンおよびピリジンなどの有機アミン類との塩;リジン、
アルギニンおよびオルニチンなどのアミノ酸との塩;塩
酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸との塩;フマル
酸、マレイン酸、リンゴ酸およびクエン酸などの有機カ
ルボン酸との塩;並びにメタンスルホン酸、p-トルエン
スルホン酸およびナフタレンジスルホン酸などのスルホ
ン酸との塩などが挙げられる。
【0013】一般式[1]の4H−1−ベンゾピラン−
4−オン誘導体およびその塩は、さらに全ての異性体
(幾何異性体および光学異性体)、水和物、溶媒和物お
よび結晶形を包含するものである。
【0014】一般式[1]の4H−1−ベンゾピラン−
4−オン誘導体またはその塩は、特開平2-49778号公報
に記載された方法によって製造することができる。
【0015】次に、本発明の製造について説明する。本
発明の製造法は、次の工程により実施すればよい。 (1)工程1 一般式[1]に示した薬物、結晶セルロースおよび崩壊
剤を造粒機内に投入して混合末とし、次いで水を添加し
て混合する。 (2)工程2 次いで、結合剤の溶液を添加して湿式造粒法により造粒
した後、乾燥し、造粒末とする。
【0016】工程1で使用する造粒機は、攪拌造粒機が
好ましい。工程1で使用される結晶セルロースとして
は、例えば、かさ密度が0.13〜0.71g/cm3
平均粒子径が8〜80μmのものが挙げられ、好ましく
は、かさ密度が0.26〜0.31g/cm3、平均粒子
径が40μmの結晶セルロースが挙げられる。工程1で
使用される崩壊剤は、例えば、カルメロース、カルメロ
ースカルシウム、クロスカルメロースナトリウム、低置
換度ヒドロキシプロピルセルロースなどのセルロース系
崩壊剤およびそれらの塩;コーンスターチ、カルボキシ
メチルスターチナトリウム、ヒドロキシプロピルスター
チ、部分アルファー化デンプンなどのスターチ系崩壊剤
およびそれらの塩などが挙げられ、好ましくは、カルメ
ロース、カルメロースカルシウム、クロスカルメロース
ナトリウム、低置換度ヒドロキシプロピルセルロースな
どのセルロース系崩壊剤およびそれらの塩が挙げられ、
さらにより好ましいものとしてカルメロースカルシウム
が挙げられる。
【0017】工程1における一般式[1]に示した薬物
の使用量は、混合末に対し、1〜50%であり、好ましく
は、15〜35%であればよい。結晶セルロースの使用量
は、混合末に対し、40〜97%であり、好ましくは、60〜
80%であればよい。崩壊剤の量は、混合末に対し、2〜2
0%であり、好ましくは5〜10%であればよい。混合末に
加える水の量は、混合末に対し、10〜35%であり、好ま
しくは、15〜25%であればよい。
【0018】工程2で使用する結合剤としては、ヒドロ
キシプロピルセルロースなどのヒドロキシアルキルセル
ロース;ポリビニルピロリドンなどが挙げられ、好まし
くは、ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒドロキシ
アルキルセルロースが挙げられる。工程2における結合
剤の使用量は、混合末に対し、0.5〜5%であり、好まし
くは、1〜3%である。
【0019】工程1および2において、必要に応じてさ
らに適当な添加物、例えば、着色剤;矯味剤等を添加し
てもよい。
【0020】本発明の製造法により製造された造粒末
は、通常公知の製剤化方法を使用し、散剤、細粒剤、顆
粒剤、錠剤およびカプセル剤などに使用することができ
るが、錠剤に使用することが好ましい。造粒末を錠剤、
散剤、細粒剤、顆粒剤およびカプセル剤とするには、例
えば、通常公知の製剤化方法を使用し、必要に応じて整
粒し、必要に応じて賦形剤及び又は崩壊剤を添加し、製
剤化すればよい。また、必要に応じて着色料および/ま
たは矯味剤などを添加してもよい。
【0021】例えば、造粒末を錠剤とするには、通常公
知の製剤化方法を使用すればよいが、例えば、造粒末に
賦形剤および/または崩壊剤を加えて混合し、さらに滑
沢剤を加えて打錠末とした後、ロータリー打錠機などを
使用して打錠することにより製造することができる。こ
の製造に使用される賦形剤としては、例えば、リン酸水
素カルシウム、含水二酸化ケイ素、軽質無水ケイ酸、無
水リン酸水素カルシウム、炭酸カルシウム、コーンスタ
ーチ、乳糖、結晶セルロース・カルボキシメチルセルロ
ースナトリウムおよび結晶セルロースなどの賦形剤が挙
げられる。この製造に使用される崩壊剤としては、例え
ば、カルメロース、カルメロースカルシウム、クロスカ
ルメロースナトリウム、低置換度ヒドロキシプロピルセ
ルロース、結晶セルロースなどのセルロース系崩壊剤お
よびそれらの塩並びにコーンスターチ、カルボキシメチ
ルスターチナトリウム、ヒドロキシプロピルスターチ、
部分アルファー化デンプンなどスターチ系崩壊剤および
それらの塩などが挙げられる。この製造に使用される滑
沢剤としては、ステアリン酸マグネシウムおよびタルク
などが挙げられる。また、錠剤には、例えば、HPMC
系のフィルムコーティング液、例えば、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース2910、ポリオキシエチレン
[105]ポリオキシプロピレン[5]グリコール、タ
ルク、酸化チタンおよび精製水の混合液またはヒドロキ
シプロピルメチルセルロース2910、マクロゴール6
000、タルク、酸化チタンおよび精製水の混合液など
を用い、通常公知の方法によりフィルムコーティングを
行い、フィルム錠とすることができる。
【0022】次に実施例、比較例および試験例で本発明
製造法を説明するがこれらに限定されるものではない。
また、フィルムコーティング液Aとは、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース2910、ポリオキシエチレン
[105]ポリオキシプロピレン[5]グリコール、タ
ルク、酸化チタンおよび精製水の混合液を示す。
【0023】
【実施例】実施例1 3−ホルミルアミノ−7−メチルスルホニルアミノ−6
−フェノキシ−4H−1−ベンゾピラン−4−オン(以
下、薬物Aとする)250.0g、結晶セルロース(アビセル
PH101、旭化成製)860.0gおよびカルメロースカル
シウム(ECG−505、五徳薬品製)90.0gを攪拌造
粒機(パウレック製、VG−10)に投入し、混合攪拌
しながら精製水250gを添加し、さらに30分間混合した。
次いで、3.6%(W/W)ヒドロキシプロピルセルロース
(HPC−L、日本曹達製)溶液526.4gを加え、湿式造
粒後、乾燥し、造粒末を得た。得られた造粒末1109.4g
に結晶セルロース(アビセルPH302、旭化成製)52
5.0gおよびECG−505 46.2gを加え、混合した。次
いで、ステアリン酸マグネシウム3.4gを加え、混合し、
打錠末とした。この打錠末をロータリー打錠機(畑鉄工
製、HT−P18A)で打錠し、錠剤径7.5mm、1錠重
量185mgの錠剤を得た。得られた錠剤に、フィルムコー
ティング液Aを使用し、ドリアコーター(パウレック
製、DRC−500)でフィルムコーティングを施し、
フィルム錠を製造した。
【0024】実施例2 薬物A250.0g、アビセルPH101 860.0gおよびEC
G−505 90.0gを攪拌造粒機(パウレック製、VG−
10)に投入し、混合攪拌しながら精製水187.5gを添加
し、さらに30分間混合した。次いで、3.2%(W/W)HP
C−L溶液588.9gを加え、湿式造粒後、乾燥し、造粒末
を得た。得られた造粒末1086.0gにアビセルPH302
514.0gおよびECG−505 45.2gを加え、混合した。
次いで、ステアリン酸マグネシウム3.3gを加え、混合
し、打錠末とした。得られた打錠末をロータリー打錠機
(畑鉄工製、HT−P18A)で打錠し、錠剤径7.5m
m、1錠重量185mgの錠剤を得た。得られた錠剤に、フィ
ルムコーティング液Aを使用し、ドリアコーター(パウ
レック製、DRC−500)でフィルムコーティングを
施し、フィルム錠を製造した。
【0025】実施例3 薬物A250.0g、アビセルPH101 860.0gおよびEC
G−505 90.0gを攪拌造粒機(パウレック製、VG−
10)に投入し、混合攪拌しながら精製水375gを添加
し、さらに30分間混合した。次いで、4.7%(W/W)HP
C−L溶液401.4gを加え、湿式造粒後、乾燥し、造粒末
を得た。得られた造粒末1095.3gにアビセルPH302
518.4gおよびECG−505 45.6gを加え、混合した。
次いで、ステアリン酸マグネシウム3.4gを加え、混合
し、打錠末とした。得られた打錠末をロータリー打錠機
(畑鉄工製、HT−P18A)で打錠し、錠剤径7.5m
m、1錠重量185mgの錠剤を得た。この錠剤に、フィルム
コーティング液Aを使用し、ドリアコーター(パウレッ
ク製、DRC−500)でフィルムコーティングを施
し、フィルム錠を製造した。
【0026】比較例1 薬物A35.0g、アビセルPH101 120.4gおよびECG
−505 12.6gを攪拌造粒機内(パウレック製、VG−
01)に投入して混合した。次いで、2.0%(W/W)HP
C−L溶液129.2gを加え、湿式造粒後、乾燥し、造粒末
を得た。得られた造粒末121.9gにアビセルPH302 5
7.7gおよびECG−505 5.1gを加え、混合した。次
いで、ステアリン酸マグネシウム0.37gを加え、混合
し、打錠末とした。得られた打錠末をロータリー打錠機
(畑鉄工製、HT−P18A)で打錠し、錠剤径7.5m
m、1錠重量185mgの錠剤を得た。この錠剤に、フィルム
コーティング液Aを使用し、フィルムコーティング機
(フロイント産業製、FM−2型)でフィルムコーティ
ングを施し、フィルム錠を製造した。
【0027】比較例2 薬物Aをジェットミルにより微粉砕した。この微粉砕品
166.7gにアビセルPH101 718.5gおよびECG−5
05 56.3gを転動流動造粒乾燥機(パウレック製、MP
−10)に投入して混合し、2.0%(W/W)HPC−L溶
液625gを加え、湿式造粒した。このバッチサイズで同様
にして、3バッチを製造し、末を合わせて乾燥し、造粒
末2622.9gを得た。得られた造粒末にアビセルPH30
2 658.5gおよびECG−505 103.2gを加え、混合
した。次いで、ステアリン酸マグネシウム6.84gを加
え、混合し、打錠末とした。得られた打錠末をロータリ
ー打錠機(畑鉄工製、HT−P18A)で打錠し、錠剤
径7.5mm、1錠重量185mgの錠剤を得た。この錠剤に、フ
ィルムコーティング液Aを使用し、フィルムコーティン
グ機(フロイント産業製、FM−2型)でフィルムコー
ティングを施し、フィルム錠を製造した。
【0028】試験例1 実施例および比較例の各々の錠剤を用い、以下に示す方
法の溶出試験を実施し、溶出時間10分および30分で
の溶出率D10(%)およびD30(%)を比較した。溶出
試験方法を以下に記す。
【0029】[溶出試験法]試験液にpH8.0の0.05モル
のリン酸塩緩衝液900mLを用い、日局溶出試験第2法
(パドル法)により、毎分75回転で試験を行った。溶出
試験開始から10分、30分後に溶出液をサンプリング
し、その溶出液を孔径20μmのフィルターでろ過し、試
料とした。得られた試料の吸光度を測定し、溶出率を求
めた。結果を表1に示す。
【0030】
【表1】 ―――――――――――――――――――――――――― 試料 溶出率D10(%) 溶出率D30(%) ―――――――――――――――――――――――――― 実施例1 86.1 94.3 実施例2 83.5 92.3 実施例3 84.2 93.1 比較例1 54.8 74.5 比較例2 70.5 90.0 ――――――――――――――――――――――――――
【0031】
【発明の効果】本発明の製造法で製造された一般式
[1]で表される4H−1−ベンゾピラン−4−オン誘
導体またはその塩の固形製剤、とりわけ、錠剤は、機械
的微粉砕を行うことなしに、微粉砕品を用いた固形製剤
より優れた溶出性を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 47/38 A61K 47/38 A61P 19/02 A61P 19/02 29/00 29/00 37/02 37/02 37/08 37/08

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記(a)の薬物、(b)結晶セルロース
    および(c)崩壊剤を造粒機に投入した後、水を添加し
    て、混合した後、(d)結合剤の溶液を加えて湿式造粒
    することを特徴とする下記(a)の薬物の製剤化方法。 (a)一般式[1] 【化1】 「式中、R1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはアリール基を;R
    2は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、
    水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、カルボ
    キシル基、ヒドロキシル基、ホルミル基もしくはアルコ
    キシカルボニル基または置換されていてもよいアルキ
    ル、アルコキシ、フェノキシ、シクロアルキル、カルバ
    モイル、アミノもしくはフェニル基を;R4は、水素原
    子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル
    基、アシル基、ヒドロキシル基もしくはアルコキシカル
    ボニル基または置換されていてもよいアルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ、フェニルチオ、低級アルキニル、
    低級アルケニル、スルファモイル、アルキルスルフィニ
    ル、アルキルスルホニル、アミジノ、フェニルもしくは
    複素環式基、または式 【化2】 もしくは式 【化3】 (式中、R6は、水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基
    もしくはアルコキシカルボニル基または置換されていて
    もよいアルキル、シクロアルキル、フェニル、アミノ、
    アシル、カルバモイル、アルキルスルホニル、イミノメ
    チルもしくはアミジノ基を;R7は、水素原子、置換さ
    れていてもよいアルキル、アルコキシ、フェニル、シク
    ロアルキルもしくは複素環式基を示す。また、R6およ
    びR7が隣接する窒素原子と一緒になって3〜7員環の
    置換されていてもよい複素環式基を形成してもよい。)
    で表わされる基を;R5は、置換されていてもよいフェ
    ニル、チエニル、フリルまたはピリジル基を;Zは、酸
    素原子、硫黄原子またはイミノ基を;および破線は、単
    結合または二重結合を示す。」で表される4H−1−ベ
    ンゾピラン−4−オン誘導体またはその塩。
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