JP2001228299A - 放射線像変換パネル - Google Patents

放射線像変換パネル

Info

Publication number
JP2001228299A
JP2001228299A JP2000041698A JP2000041698A JP2001228299A JP 2001228299 A JP2001228299 A JP 2001228299A JP 2000041698 A JP2000041698 A JP 2000041698A JP 2000041698 A JP2000041698 A JP 2000041698A JP 2001228299 A JP2001228299 A JP 2001228299A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation image
image conversion
conversion panel
protective film
silicone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000041698A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Ogawa
博 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000041698A priority Critical patent/JP2001228299A/ja
Publication of JP2001228299A publication Critical patent/JP2001228299A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 放射線像変換パネルを、繰り返し長期間使用
しても、防汚性の低下が少なく、耐傷性、耐久性に優れ
たものとする。 【解決手段】 少なくとも、輝尽性蛍光体からなる蛍光
体層と保護膜とを有する放射線像変換パネルにおいて、
保護膜をシリコーン系グラフト共重合体樹脂からなるも
のとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、たとえば特開昭55-12145号に記載されているような
輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られてい
る。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換
パネル(蓄積性蛍光体シート)を利用するもので、被写
体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)で時系
列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積され
ている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発光光)として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検
体の放射線画像を可視像として再生するものである。読
み取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわ
れた後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射
線像変換パネルは繰り返し使用される。
【0003】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フイルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影
ごとに放射線写真フイルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルをくり返し使
用するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
【0004】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、基本構造として、支持体とその表面に設け
られた輝尽性蛍光体層とからなるものである。(ただ
し、蛍光体層が自己支持性である場合には必ずしも支持
体を必要としない。)輝尽性蛍光体層は、通常は輝尽性
蛍光体とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからな
るが、蒸着法や焼結法によって形成される結合剤を含ま
ないで輝尽性蛍光体の凝集体のみから構成されるものも
知られている。また、輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高
分子物質が含浸されている輝尽性蛍光体層を有する放射
線像変換パネルも知られている。これらのいずれの蛍光
体層でも、輝尽性蛍光体はX線などの放射線を吸収した
のち励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性質を有す
るものであるから、被写体を透過したあるいは被検体か
ら発せられた放射線は、その放射線量に比例して放射線
像変換パネルの輝尽性蛍光体層に吸収され、パネルには
被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの
蓄積像として形成される。この蓄積像は、上記励起光を
照射することにより輝尽発光光として放出させることが
でき、この輝尽発光光を光電的に読み取って電気信号に
変換することにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化
することが可能となる。
【0005】輝尽性蛍光体層の表面(支持体に面してい
ない側の表面)には通常、保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護し
ている。保護膜には、セルロース誘導体やポリメチルメ
タクリレートなどのような透明な有機高分子物質を適当
な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布す
ることで形成されたもの、あるいはポリエチレンテレフ
タレートなどの有機高分子フイルムや透明なガラス板な
どの保護膜形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面
に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合
物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものなどが
知られている。
【0006】これらのうち、塗布によって形成した保護
膜は、一般に蛍光体層との接着強度が強く、また比較的
簡単な工程で製造できるという利点を持っている。
【0007】ところで、放射線像変換方法の実施におい
て、放射線像変換パネルは、放射線の照射(放射線像の
記録)・励起光の照射(記録された放射線像の読出し)
・消去光の照射(残存する放射線像の消去)というサイ
クルで繰り返し使用される。そして放射線像変換パネル
の各ステップへの移行はベルト、ローラーなどの搬送手
段により行なわれ、一サイクル終了後パネルは通常積層
して保存される。ところが、上記のような、塗布によっ
て形成された保護膜を有する放射線像変換パネルを、こ
のように繰返し使用していると、たとえば保護膜表面に
汚れが付着するなどの理由により、当該放射線像変換パ
ネルが形成する放射線画像の画質が徐々に低下する傾向
がある。放射線像変換パネルも従来の放射線写真法と同
様に、高感度であってかつ画質(鮮鋭度、粒状性など)
の良好な画像を与えるものであることが望まれるから、
上記のような汚れの付着を防止することは重要な課題で
ある。
【0008】上記の繰返し使用による放射線像変換パネ
ルの感度低下を防ぐことのできる塗布膜としては、既に
本出願人により出願された「輝尽性蛍光体からなる蛍光
体層と保護膜とを有する放射線像変換パネルにおいて、
前記保護膜が有機溶媒可溶性のフッ素系樹脂を含む塗布
膜により形成された膜であることを特徴とする放射線像
変換パネル」(特登2540370号)が知られている。しか
し、この有機溶媒可溶性フッ素樹脂では防汚性が充分に
満足できるレベルとはいえなかったため、有機溶媒可溶
性フッ素樹脂にさらにポリシロキサン骨格含有オリゴマ
ー(変性シリコーンオイル)を添加して防汚性の向上を
図っている(特登271589号)。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ポリシロキサ
ン骨格含有オリゴマーを併用すると、繰返し使用におけ
る初期の防汚性は改良されるものの、繰り返し使用して
いくとポリシロキサン骨格含有オリゴマーが保護層表面
から取れて防汚性が低下し、長期間の繰り返し使用にお
いて、初期と同様の防汚性を維持させることは困難であ
った。また、シリコーン骨格からなるポリマーを使用す
ると、塗膜の強度が低いために塗膜が削れ落ちてしまい
耐久性の面で充分とは言えなかった。
【0010】上述のように、放射線像変換パネルの保護
膜は、パネルの繰り返し使用によって、その保護膜表面
が繰り返し他の物体表面と接触し、その結果、保護膜表
面に汚れが付着しがちであり、この汚れは、最終的に得
られる放射線像の劣化あるいは、放射線像に関する画像
情報の質の低下をもたらすため、保護膜の防汚性のさら
なる向上、充分な耐久性が望まれる。
【0011】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、放射線像変換パネルの使用初期の防汚性はもちろん
のこと、繰返し使用においても防汚性を維持することが
可能であって、かつ耐久性も充分な保護層を有する放射
線像変換パネルを提供することを目的とするものであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の放射線像変換パ
ネルは、少なくとも、輝尽性蛍光体からなる蛍光体層と
保護膜とを有する放射線像変換パネルにおいて、前記保
護膜がシリコーン系グラフト共重合体樹脂からなるもの
であることを特徴とするものである。
【0013】前記シリコーン系グラフト共重合体樹脂
は、ビニル系重合体の主鎖とシリコーンマクロモノマー
の側鎖からなるグラフト共重合体であることが好まし
い。前記ビニル系重合体はアクリル系共重合体であるこ
とが好ましく、アクリル系共重合体としては、特にアク
リルポリオール共重合体であることが好ましい。
【0014】前記保護膜は、前記シリコーン系グラフト
共重合体樹脂をポリイソシアネートで硬化させた膜であ
ることが好ましい。前記保護膜は、有機または無機の白
色粉末を含むことが好ましい。
【0015】前記保護膜は、蛍光体層上に直接設けられ
ていてもよいし、また、前記保護膜と前記蛍光体層との
間に透明フィルムが設けられていてもよい。
【0016】
【発明の効果】本発明の放射線像変換パネルは、保護膜
が、シリコーン系グラフト共重合体樹脂からなるため、
繰り返し使用しても初期の防汚性はもちろんのこと、繰
り返し使用後においても防汚性が低下することを抑制す
ることができ、また保護膜の強度を向上させることがで
きるので、耐傷性、耐久性に優れた放射線像変換パネル
とすることができる。
【0017】なお、シリコーン系グラフト共重合体樹脂
に、ビニル系重合体の主鎖とシリコーンマクロモノマー
の側鎖からなるグラフト共重合体を用いることにより、
あるいはビニル系重合体にアクリル系共重合体、特にア
クリルポリオール共重合体を用いることにより、防汚性
および耐傷性をより向上させることができる。また、保
護膜を、シリコーン系グラフト共重合体樹脂をポリイソ
シアネートで硬化させた膜とすることにより、耐久性を
より向上させることができる。
【0018】また、保護膜に有機または無機の粉末を含
有させることにより、光学的特性の低下を抑制すること
が可能となる。
【0019】なお、保護膜を蛍光体層上に直接設ける場
合には、発光性のよい放射線像変換パネルとすることが
できる。また、前記保護膜と前記蛍光体層との間に透明
フィルムが設けられている場合には、耐久性の優れた放
射線像変換パネルとすることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の放射線像変換パネ
ルについて詳細に説明する。本発明に使用されるシリー
コーン系共重合体は、ビニル系モノマーをラジカル重合
した主鎖にシリコーンマクロモノマーをグラフト重合し
た、グラフト共重合体樹脂である。
【0021】ビニル系モノマーとしては塩化ビニル、塩
化ビニリデン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレ
ン、無水マレイン酸、アクリル酸、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート、ブチルアクリレート等のアク
リル酸エステル、2エチルヘキシルアクリレート、下記
式(1)に示すポリエチレングリコール変性(メタ)ア
クリル酸、ポリプロピレングリコール変性(メタ)アク
リル酸、下記式(2)に示す水酸基含有アクリルモノマ
ー、グリシジルメタクリレート等公知のラジカル重合性
モノマーを使用することができる。
【0022】
【化1】 (式(1)中、Rは水素原子またはメチル基であり、
lは2または3の整数であり、jは2から60の整数で
ある。)
【化2】 (式(2)中、Rは水素原子またはメチル基であり、
は炭素数2〜4のアルキレン基であり、kは1〜5
0の整数である。) 本発明に使用するシリコーン系マクロモノマーとは下記
式(3)で表されるシリコーンの末端にメタクリロイル
基、アクリロイル基、アリル基、スチリル基等のラジカ
ル重合性基を有するマクロモノマー
【化3】 (式(3)中、R およびR は炭素数1〜10の一
価の飽和脂肪族炭化水素基、フェニル基または一価のハ
ロゲン化炭化水素基である。またnは好ましくは10以
上1000以下である);または、主鎖中に下記式
(4)で示されるラジカル重合性モノマーを共重合さ
せ、更に式(3)の末端が水酸基のシリコーンマクロモ
ノマーをグラフトさせたシリコーン系グラフト共重合体
等、公知のシリコーン系グラフト共重合体を使用するこ
とができる。
【0023】
【化4】 (式(4)中、Rは水素原子またはメチル基であ
り、Rは炭素数が1〜10のアルキル基またはフェニル
基であり、Xは炭素数が1〜10のアルコキシ基または
ハロゲン原子であり、pは0または1である) 本発明に使用可能なシリコーン系グラフト共重合体樹脂
の具体例としては、特登第2570552号の実施例1〜3に
記載のシリコーン系グラフトポリマー、特登第2551306
号の実施例1〜3に記載のシリコーン系グラフトポリマ
ー、特開平10-140075号の実施例1及び2に記載のシリ
コーン系グラフトポリマー、特開平11-140143号の実施
例1〜3に記載のシリコーン系グラフトポリマーや、市
販品として東亜合成化学工業株式会社製造のレゼダGS-1
015等を好ましくあげることができる。
【0024】本発明では上記シリコーン系グラフト共重
合体をポリイソシアネート等の硬化剤と反応させて硬膜
とすることにより、より耐久性の高い保護膜を得ること
ができる。また、柔軟性の調整のため、他の共重合体を
併用することも可能である。
【0025】本発明の保護膜の厚みは約 0.01〜10μm、
好ましくは0.5〜5μmである。本発明の保護膜を透明フ
イルム上に塗布する場合の透明フイルムの厚みは1〜20
μm、好ましくは2〜10μmである。使用する透明フイル
ムは、波長300nmから900nmにおいて光透過率が80%以上
であるものが好ましく、更に90%以上であることが好ま
しい。具体的にはポリエチレンテレフタレート(PE
T)フイルムが透明性が高く安価に入手できるので特に
好ましい。
【0026】本発明の保護膜中には、有機または無機の
粉末が含まれていても良く、含有量は、保護膜重量当り
0.5〜60重量%が好ましく、5〜50 重量%程度がより好
ましい。粉末は特定の帯域に吸収を有するもの(例えば
群青等)でもよいが、概して300〜900nmの波長域で特異
な吸収を示さない白色粉末が好ましい。また、これら粉
末の平均粒径は0.01〜10μm程度が好ましく、 0.3〜3
μm程度であることがより好ましい。これら粒子の粒子
サイズには一般に分布(ばらつき)があるが、分布が狭
い方が好ましい。
【0027】白色有機粉末の例としては、ベンゾグアナ
ミン樹脂粉末、メラミンホルムアルデヒド樹脂粉末、硬
化アクリル樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末、フッ素樹脂
粉末、ポリエステル樹脂粉末等があり、その具体例とし
ては、日本触媒(株)製エポスターシリーズのMS、M30、
S、S6、S12、エポスターMAシリーズ、総研化学(株)製
のMR-2G、MR-7G、MPシリーズ、ダイキン工業(株)製のル
ブロンL-2、L-5、LD-1、LD-100、東芝シリコーン(株)製
のトスパールXC99-A8808、トスパール120、130、145、2
40、東洋紡(株)製のPETBEADSシリーズ等を好ましくあげ
ることができる。白色無機粉末の例としては、アルミ
ナ、シリカ、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化
亜鉛、酸化鉛、酸化スズ、酸化ガドリニウム、雲母、ゼ
オライト、硫酸バリウム、ダイヤモンド等があり、その
具体例としては住友化学工業(株)製:AKP10、AKP20、AK
P30、HIT50、HIT100、スミコランダムAA1等のスミコラ
ンダムシリーズ、(株)日本触媒製:KEP150等のKEPシリ
ーズ、三井金属(株)製:パストランシリーズ、白石カル
シウム(株)製:白艶華シリーズ、ホモカルシリーズ、等
を好ましくあげることができる。
【0028】次に、本発明の放射線像変換パネルの蛍光
体層を構成する輝尽性蛍光体について述べる。輝尽性蛍
光体は、先に述べたように放射線を照射した後、励起光
を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な
面からは波長が400〜900nmの範囲にある励起光によって
300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であるこ
とが望ましい。
【0029】以下に本発明の放射線像変換パネルに用い
られる輝尽性蛍光体の例を示す。
【0030】米国特許第3,859,527号明細書に記載され
ているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO:Er、およびLaO
S:Eu,Sm、特開昭55−12143号に記載されている(Ba
1−X−y,Mg,Ca)FX:aEu2+(ただし、XはClお
よびBrのうちの少なくとも一つであり、xおよびyは、
0<x+y≦0.6、かつxy≠0であり、aは、10−6
a≦5×10−2である)、特開昭55−12144号に記載さ
れているLnO:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、およびLu
のうちの少なくとも一つ、XはClおよびBrのうちの少な
くとも一つ、AはCeおよびTbのうちの少なくとも一つ、
そして、xは、0<x<0.1である)、特開昭55−12145
号に記載されている(Ba1−X,M2+ )FX:yA(ただ
し、M 2+はMg、Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なく
とも一つ、XはCl、Br、およびIのうちの少なくとも一
つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、および
Erのうちの少なくとも一つ、そしてxは、0≦x≦0.
6、yは、0≦y≦0.2である)、特開昭55−160078号に
記載されているMIIFX・xA:yLn(ただし、MIIはBa、
Ca、Sr、Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、A
はBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、AlO、YO、L
aO、InO、SiO、TiO、ZrO、GeO、Sn
O、NbO、TaO、およびThOのうちの少なくと
も一種、LnはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、E
r、Sm、およびGdのうちの少なくとも一種、XはCl、B
r、およびIのうちの少なくとも一種であり、xおよび
yはそれぞれ5×10−5≦x≦0.5、および0<y≦0.2
である)の組成式で表わされる蛍光体、特開昭56−1167
77号に記載されている(Ba1−X,MII )F・aBaX
:yEu,zA(ただし、MIIはベリリウム、マグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカドミ
ウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および
ヨウ素のうちの少なくとも一種、Aはジルコニウムおよ
びスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、a、
x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦
1、10−6≦y≦2×10−1、および0<z≦10−2
ある)の組成式で表わされる蛍光体、特開昭57−23673
号に記載されている(Ba1−X,MII )F・aBaX:
yEu,zB(ただし、MIIはベリリウム、マグネシウム、
カルシウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウム
のうちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、およびヨウ
素のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、および
zはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10−6≦y
≦2×10−1、および0<z≦10−2である)の組成式
で表わされる蛍光体、特開昭57−23675号に記載されて
いる(Ba1−X,MII )F・aBaX:yEu,zA(ただ
し、MIIはベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうちの少な
くとも一種、Xは塩素、臭素、およびヨウ素のうちの少
なくとも一種、Aは砒素および硅素のうちの少なくとも
一種であり、a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a
≦1.25、0≦x≦1、10−6≦y≦2×10−1、および
0<z≦5×10−1である)の組成式で表わされる蛍光
体、特開昭58−69281号に記載されているMIIIOX:xCe
(ただし、MIIIはPr、Nd、Pm、Sm、Eu、Tb、Dy、H
o、Er、Tm、Yb、およびBiからなる群より選ばれる少な
くとも一種の三価金属であり、XはClおよびBrのうちの
いずれか一方あるいはその両方であり、xは0<x<0.
1である)の組成式で表わされる蛍光体、特開昭58−206
678号に記載されているBa1−XMX/2X/2FX:yEu
2+(ただし、MはLi、Na、K、Rb、およびCsからなる
群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わ
し;Lは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、D
y、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In、およびTlからな
る群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし;X
は、Cl、Br、およびIからなる群より選ばれる少なくと
も一種のハロゲンを表わし;そして、xは10−2≦x≦
0.5、yは0<y≦0.1である)の組成式で表わされる蛍
光体、特開昭59−27980号に記載されているBaFX・xA:yE
u2+(ただし、Xは、Cl、Br、およびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、テト
ラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり;そして、xは
10−6≦x≦0.1、yは0<y≦0.1である)の組成式で
表わされる蛍光体、特開昭59−47289号に記載されてい
るBaFX・xA:yEu2+(ただし、Xは、Cl、Br、およびI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;Aは、ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロチタン
酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは
二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ば
れる少なくとも一種の化合物の焼成物であり;そして、
xは10−6≦x≦0.1、yは0<y≦0.1である)の組成
式で表わされる蛍光体、特開昭59−56479号に記載され
ているBaFX・xNaX′:aEu2+(ただし、XおよびX′
は、それぞれCl、Br、およびIのうちの少なくとも一種
であり、xおよびaはそれぞれ0<x≦2、および0<
a≦0.2である)の組成式で表わされる蛍光体、特開昭5
9−56480号に記載されているMIIFX・xNaX′:yEu2+:
zA(ただし、M IIは、Ba、Sr、およびCaからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;
XおよびX′は、それぞれCl、Br、およびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、V、
Cr、Mn、Fe、Co、およびNiより選ばれる少なくとも一種
の繊維金属であり;そして、xは0<x≦2、yは0<
y≦0.2、およびzは0<z≦10−2である)の組成式
で表わされる蛍光体、特開昭59−75200号に記載されて
いるMIIFX・aMX′・bM′IIX″・cM IIX
xA:yEu2+(ただし、MIIはBa、Sr、およびCaからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属で
あり;MはLi、Na、K、Rb、およびCsからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;M′II
BeおよびMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二
価金属であり;MIIIはAl、Ga、In、およびTlからなる
群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり;Aは金
属酸化物であり;XはCl、Br、およびIからなる群より選
ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;X′、X″、およ
び Xは、F、Cl、Br、およびIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり;そして、aは0≦a
≦2、bは0≦b≦10−2、cは0≦c≦10−2、かつ
a+b+c≧10−6であり;xは0<x≦0.5、yは0<
y≦0.2である)の組成式で表わされる蛍光体、特開昭6
0−84381号に記載されているMIIX・aMIIX′:xE
u2+(ただし、MIIはBa、SrおよびCaからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;X
およびX′はCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであって、かつ X≠X′であ
り;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0<x≦0.2であ
る)の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、特開昭60−10
1173号に記載されているMIIFX・aMX′:xEu2+(た
だし、M IIはBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;MはRbおよ
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属であり;XはCl、BrおよびIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり;X′はF、Cl、Brおよ
びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であり;そしてaおよびxはそれぞれ0≦a≦4.0およ
び0<x≦0.2である)の組成式で表わされる輝尽性蛍
光体、特開昭62−25189号に記載されているMX:xBi
(ただし、MはRbおよびCsからなる群より選ばれる少
なくとも一種のアルカリ金属であり;XはCl、BrおよびI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;そしてxは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組
成式で表わされる輝尽性蛍光体、などをあげることがで
きる。
【0031】特開平2-229882号に記載のLnOX:xCe(但
し、LnはLa、Y、Gd、およびLuのうちの少なくとも一
つ、XはCl、BrおよびIのうちの少なくとも一つ、
xは0<x≦0.2であり、LnとXとの比率が原子比で
0.500<X/Ln≦0.998であり、かつ輝尽性励起スペクト
ルの極大波長λが550nm<λ<700nm)で表わされるセリ
ウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体。
【0032】なお、上記特開昭60−84381号に記載され
ているMIIX・aMIIX′:xEu 輝尽性蛍光体に
は、以下に示すような添加物がMIIX・aMIIX′
1モル当り以下の割合で含まれていてもよい。
【0033】特開昭60−166379号に記載されているbM
X″(ただし、MはRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり、X″はF、Cl、
BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり、そしてbは0<b≦10.0である);特開
昭60−221483号に記載されているbKX″・cMgX・dM
IIIX′(ただし、MIIIはSc、Y、La、Gdおよび
Luからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属で
あり、X″、XおよびX′はいずれもF、Cl、Brおよび
Iからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンで
あり、そしてb、cおよびdはそれぞれ、0≦b≦2.
0、0≦c≦2.0、0≦d≦2.0であって、かつ2×10
−5≦b+c+dである);特開昭60−228592号に記載
されているyB(ただし、yは2×10−4≦y≦2×10
−1である);特開昭60−228593号に記載されているbA
(ただし、AはSiOおよびPOからなる群より選ば
れる少なくとも一種の酸化物であり、そしてbは10−4
≦b≦2×10−1である);特開昭61−120883号に記載
されているbSiO(ただし、bは0<b≦3×10−2であ
る);特開昭61−120885号に記載されているbSnX″
(ただし、X″はF、Cl、BrおよびIからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてbは
0<b≦10−3である);特開昭61−235486号に記載さ
れているbCsX″・cSnX(ただし、X″およびXはそれ
ぞれF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンであり、そしてbおよびcはそれぞ
れ、0<b≦10.0および10−6≦c≦2×10−2であ
る);および特開昭61−235487号に記載されているbCs
X″・yLn3+(ただし、X″はF、Cl、BrおよびIから
なる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、
LnはSc、Y、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、T
m、YbおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種
の希土類元素であり、そしてbおよびyはそれぞれ、0
<b≦10.0および10−6≦y≦1.8×10−1である)。
【0034】上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロ
ピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体およ
びセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体は高輝
度の輝尽発光を示すので特に好ましい。上記蛍光体のう
ち焼成工程の途中または最終段階で、弱酸化性雰囲気で
焼成または冷却を行い粒子表面を一部酸化させた蛍光体
粒子は消去特性が良好で特に好ましい。
【0035】本発明に用いる特に適した希土類賦活アル
カリ土類金属フッ化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は、 基本組成式 :(Ba1−a,MII )FX:zLn ・・・(I) で代表されるものである。(ただし、MIIは Sr及びCa
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類
金属を表し、Ln は Ce、Pr、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Nd、
Er、Tm及び Ybからなる群より選ばれる少なくとも一種
の希土類元素を表し、XはCl、BrおよびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表す。a は0≦
a<1、zは0<z≦0.2 の範囲内の数値を表す。) 上記基本組成式(I)中のaは 0.5以下の数値であるこ
とが好ましい。Lnとしては、特にEuまたはCeであること
が好ましい。また、基本組成式(I)はその組成物が化
学量論的に F:X=1:1であることを示しているのではな
く、(Ba1−a,M II )FXで表わされる PbFCl型結晶構
造の化合物であることを示している。一般に、BaFX結晶
においてX−イオンの空格子点であるF(X)中心が
多く生成された状態が600〜700nmの光に対する輝尽効率
を高める上で好ましい。このときFはXよりもやや過剰
にあることが多い。
【0036】なお、基本組成式(I)では省略している
が、必要に応じて下記のような添加物を(I)に加えて
も良い。
【0037】bA,wN,xNII,yNIII (ただし、NはLi、Na、K、Rb及びCsからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ金属化合物を表し、N
IIはMg及びBeからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ土類金属化合物を表し、NIIIはAl、Ga、I
n、Tl、Sc、Y、La、Gd及びLuからなる群より選ばれる少
なくとも一種の三価金属化合物を表す。これらの金属化
合物としては特開昭59-75200号に記載のようなハロゲン
化物を用いることが好ましいが、それらに限定されるも
のではない。AはAlO、SiO、ZrOなどの金属酸
化物を表わす。BaFX粒子同士の焼結を防止する上では一
次粒子の平均粒径が0.1μm以下の超微粒子で(Ba1−a,
MII )FXとの反応性が低いものが好ましく、特にAl
Oが好ましい。なお、b、w、x及びyは(Ba1−a,M
II )FXのモル数を1としたときの仕込添加量であ
り、0≦b≦0.5、0≦w≦2、0≦x≦0.3、0≦y≦
0.3の各範囲内の数値をそれぞれ表す。これらの数値は
焼成やその後の洗浄処理によって減量する添加物に関し
ては、最終的な組成物に含まれる元素比を表わしている
わけではない。また、最終的な組成物において添加され
たままの化合物として残留するものもあれば、BaFXと反
応する、あるいは取り込まれてしまうものもある。
【0038】その他、必要に応じて特開昭55-12145号に
記載のZn及びCd化合物、特開昭55-160078号に記載の金
属酸化物であるTiO、BeO、MgO、CaO、SrO、BaO、Zn
O、YO 、LaO、InO、GeO、SnO、Nb
O、TaO、ThO、特開昭56-116777号に記載のZr
及びSc化合物、特開昭57-23673号に記載のB化合物、特
開昭57-23675号に記載のAs及びSi化合物、特開昭59- 27
980号に記載のテトラフルオロホウ酸化合物、特開昭59-
47289号に記載のヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオ
ロチタン酸、及びヘキサフルオロジルコニウム酸の1価
もしくは2価の塩からなるヘキサフルオロ化合物、特開
昭59-56480号に記載のV、Cr、Mn、Fe、Co、及びNiなど
の遷移金属化合物などをさらに添加しても良い。ただ
し、本発明の対象となるのは上述の添加物を含む蛍光体
に限られるものではなく、希土類賦活アルカリ土類金属
フッ化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体とみなされる組成を
基本的に含むものであればいかなる物であっても良い。
【0039】上記基本組成式(I)で表される希土類賦
活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体
は、通常は、アスペクト比が1.0〜5.0の範囲にある。本
発明における希土類賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲ
ン化物系輝尽蛍光体は、粒子アスペクト比が1.0〜2.0
(さらに好ましくは、1.0〜1.5)の範囲、粒子サイズの
メジアン径(Dm)が1〜10μm(さらに好ましくは、
2〜7μm)の範囲、かつ、粒子サイズ分布の標準偏差
をσとしたときのσ/Dmが50%以下 (さらに好まし
くは、40%以下)の範囲にあるものである。また、粒子
の形状としては、直方体型、正六面体型、正八面体型、
これらの中間多面体型、14面体型等があり、14面体
型が好ましいが、前記粒子アスペクト比、粒子サイズお
よび粒子サイズ分布を満たすものであれば、必ずしも1
4面体型に限られるものではない。
【0040】本発明の放射線像変換パネルの輝尽性蛍光
体層は、輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有支持する
結合剤とからなるのものばかりでなく、結合剤を含まな
いで輝尽性蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、あ
るいは輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸
されている蛍光体層などでもよい。
【0041】次に、蛍光体層が輝尽性蛍光体とこれを分
散状態で含有支持する結合剤とからなる場合を例にと
り、本発明の放射線像変換パネルを製造する方法を説明
する。
【0042】蛍光体層は、次のような公知の方法により
支持体上に形成することができる。まず、輝尽性蛍光体
と結合剤とを溶剤に加え、これを充分に混合して、結合
剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製
する。塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比
は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種
類などによって異なるが、一般には結合剤と蛍光体との
混合比は、1:1乃至1:100(重量比)の範囲から選
ばれ、そして特に1:8乃至1:40(重量比)の範囲か
ら選ぶのが好ましい。上記のようにして調製された蛍光
体と結合剤とを含有する塗布液を、次に、支持体の表面
に均一に塗布することにより塗膜を形成する。この塗布
操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドクターブレー
ド、ロールコーター、ナイフコーターなどを用いること
により行なうことができる。
【0043】支持体としては、従来の放射線像変換パネ
ルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができ
る。公知の放射線像変換パネルにおいて、支持体と蛍光
体層の結合を強化するため、あるいは放射線像変換パネ
ルとしての感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上
させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面に
ゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層とし
たり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からな
る光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性
物質からなる光吸収層などを設けることが知られてい
る。本発明において用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設けることができ、それらの構成は所望
の放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に
選択することができる。
【0044】さらに特開昭58-200200号に記載されてい
るように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、
支持体の蛍光体層側の表面(支持体の蛍光体層側の表面
に接着性付与層、光反射層または光吸収層などが設けら
れている場合には、その表面を意味する)には微小凹凸
が形成されていてもよい。
【0045】上記のようにして支持体上に塗膜を形成し
たのち塗膜を乾燥して、支持体上への輝尽性蛍光体層の
形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体と
の混合比などによって異なるが、通常は20μm乃至1mm
とする。ただし、この層厚は 50乃至500μmとするのが
好ましい。なお、輝尽性蛍光体層は、必ずしも上記のよ
うに支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要はな
く、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチック
シ−トなどのシ−ト上に塗布液を塗布し乾燥することに
より蛍光体層を形成したのち、これを、支持体上に押圧
するか、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光
体層とを接合してもよい。
【0046】なお、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
ことを目的として、本発明の放射線像変換パネルを構成
する上記各層の少なくとも一つの層が励起光を吸収し、
輝尽発光光は吸収しないような着色剤によって着色され
ていてもよい(特公昭54-23400号参照)。さらに本発明
を実施例により詳しく説明する。
【0047】
【実施例】(実施例1)下記のようにして、本発明の放
射線像変換パネルを製造した。シリコーン系離型剤が塗
布されているポリエチレンテレフタレートシート(仮支
持体;厚み:180μm)のシリコーン系離型剤層上に、蛍
光体(BaFBr0.850.15:Eu2+)1000g、結
合剤としてポリウレタンエラストマー(大日本インキ化学
工業(株)、パンデックスT-5265H[固形])35.5g、架橋剤
としてポリイソシエネート(日本ポリウレタン工業
(株)、コロネートHX[固形分100%])4.5g、黄変防止剤と
してエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)、エピコー
ト#1001[固形])10g、着色剤として群青(第一化成工
業(株)、SM-1)0.02g、アリールカルボン酸として安息香
酸 0.2gをメチルエチルケトン/トルエン=7/3混合
溶媒にディスパーで3時間分散させて調整した、粘度3
Pa・s(25℃)の蛍光体層塗布液をエクストルージョンコ
ーターで塗布・乾燥して蛍光体シートを得た(シート厚
300μm)。
【0048】次に支持体を形成した。まず、ポリエチレ
ンテレフタレートシート(東レ製ルミラーS-10(250μ
m);ヘイズ度(typical)=20;片側にカーボンブラック、
シリカ、結合剤からなる遮光層(約18μm)が設けられ
ているもの)の遮光層の反対側に、酸化カドリニウム
(GdO)の微細粒子(全粒子中の 90重量%の粒子の
粒子径が 1〜5μmの範囲にあるもの)350g、結合剤と
して軟質アクリル樹脂(大日本インキ化学工業(株)、ク
リスコートP-1018GS[20%トルエン溶液])1800g、可塑
剤としてフタル酸エステル(大八化学(株)、#10) 40
g、導電剤としてZnOウィスカー(松下アムテック
(株)、パナテトラA-1-1)120g、着色剤として群青(第
一化成工業(株)、SM-1)を2gメチルエチルケトンにデ
ィスパーを用いて分散・溶解(粘度 0.5Pa・s:20℃)し
て作製した反射材料層(下塗り層)塗布液を膜厚が20μ
mとなるようにエクストルージョンコーターを用いて塗
布・乾燥したものを用意した。
【0049】続いて、カレンダー処理を行った。蛍光体
シートの仮支持体を剥離しながら、蛍光体層を前記支持
体の反射材料層上に重ね合わせ、両者をカレンダーロー
ル間に通した。カレンダーロールの圧力は49MPa、上側
ロール温度75℃、下側ロール温度75℃、送り速度 1.0m/
minで、連続的に行った。この加熱圧縮により、蛍光体層
は支持体に反射材料層を介して完全に融着した蛍光体層
(層厚:210μm)となった。
【0050】次に保護膜を形成した。9μm厚ポリエチ
レンテレフタレート(東レ(株)、ルミラー9-F53)と耐熱
再剥離膜(PANAC(株)、CT38)を貼り合わせたフイルムの
ポリエチレンテレフタレートの上に、シリコーングラフ
ト共重合体樹脂溶液(東亞合成化学工業(株)製、レゼダ
GS-1032[45%PGMAC溶液])123g、有機フィラーと
してメラミン−ホルムアルデヒド((株)日本触媒、エポ
スターS6)13g、分散剤としてアルミカップリング剤
(味の素(株)、プレンアクトAL-M)0.2g、メチルエチル
ケトン 100gからなる保護膜塗布液を、バーコーターで
厚さ2μmに塗布した後、120℃で20分間熱処理して乾燥
するとともに熱硬化させた。
【0051】上記混合液を3mmφのジルコニアボールを
使用したボールミルで24時間分散混合した後、触媒とし
てジブチルチンジラウレート(共同薬品(株),KS1260)
0.7mg、架橋剤としてポリイソシアネート(住友バイエ
ルウレタン(株)、スミジュールN3500[固形分100%])10
g、及びメチルエチルケトンを粘度が 3mPa・sになるよ
うに追加混合し、塗布液を調整した。
【0052】次に、塗布層を設けた9μm厚ポリエチレン
テレフタレートから、耐熱再剥離膜を剥離し、塗布層と反
対側に、ポリエステル樹脂溶液(東洋紡績(株)、バイロン
30SS)を塗布・乾燥して接着層(接着剤塗布重量 2g/
m)を設けた後、このフイルムをラミネートロールを
用いて、前記蛍光体層上に接着層を介して接着し、保護層
を形成した。更に、エンボス機にて保護層の上に粗さが
Raで 0.4μmのエンボスを付けた。
【0053】さらに、裏面保護層を付与した。20μm厚
のOPPフイルム(東レ(株)、トレファンYM-11#20)
に、ポリエステル樹脂溶液(東洋紡績(株)、バイロン30S
S)を塗布・乾燥して接着層(接着剤塗布重量9g/m)を
設けた。このOPPフイルムを、ラミネートロールを用
いて、前記支持体の蛍光体層が設けられている側とは反
対側(遮光層側)に、接着層を介して接着し、裏面保護層を
形成した。
【0054】最後に縁貼りを行った。シリコーン系ポリ
マーとしてポリジメチルシロキサン単位を有するポリウ
レタン(大日精化(株)、ダイアロマーSP-3023[15%メチル
エチルケトン/トルエン溶液])70g、架橋剤としてポ
リイソシアネート(大日精化(株)、クロスネートD-70 [5
0%溶液])3g、黄変防止剤としてエポキシ樹脂(油化
シェルエポキシ(株)、エピコート#1001[固形])0.6g及
び滑り剤としてアルコール変性シリコーン(信越化学
(株)、X-22-2809[66%キシレン含有ペースト])0.2gをメ
チルエチルケトン15gに溶解して、縁貼り用塗布液を調
製した。この塗布液を、先に製造した保護層が付設され
た放射線像変換パネルの各側面に塗布し、室温で充分に
乾燥して、膜厚約25μmの側面硬化皮膜を形成した。
【0055】以上のようにして、上面及び側面が保護さ
れた保護層付き放射線像変換パネルを製造した。
【0056】(実施例2)実施例1の保護層に使用した
シリコーングラフト共重合体樹脂溶液に換えて、シリコ
ーングラフト共重合体樹脂溶液(東亞合成化学工業(株)
製、レゼダGS-1032)111.9gとアクリル樹脂共重合体溶
液(大日本インキ化学工業(株)製、クリスコートP1018
( 20%トルエン溶液))25gを用いた以外は、実施例
1と同様にして保護層付き放射線像変換パネルを製造し
た。
【0057】(実施例3)実施例1の保護層で使用した
有機フィラー(エポスターS6)に換えて無機フィラー
(アルミナ:住友化学(株)製:AKP20 )25gを使用した
以外は実施例1と同様にして放射線像変換パネルを製造
した。
【0058】(実施例4)実施例1の保護膜用塗布液
を、シリコーングラフト共重合体樹脂溶液(東亞合成化
学工業(株)製、レゼダGS-1032 [45%PGMAC溶液])123
g、有機フィラーとしてメラミン−ホルムアルデヒド
((株)日本触媒製、エポスターS6)13g、分散剤として
アルミカップリング剤(味の素(株)製、プレンアクトAL-
M)0.2gをトルエン/ヘキサン=5/5混合溶液100g
に入れ、この混合液を3mmφのジルコニアボールを使用
したボールミルで24時間分散混合した後、触媒(ジブチ
ルチンジラウレート、共同薬品(株)製KS1260)0.7m
g、架橋剤(ポリイソシアネート、住友バイエルウレタ
ン(株)製スミジュールN3500[固形分100%])10g及びト
ルエン/ヘキサン=5/5溶剤を粘度が3mPa・sになる
ように追加混合して調整し、蛍光体層上に直接ディップ
コーターで塗布・乾燥(120℃)する工程に代える以外
は実施例1と同様にして、放射線像変換パネルを製造し
た。
【0059】(実施例5)実施例1の保護層に使用した
シリコーングラフト共重合体樹脂溶液に換えて、シリコ
ーングラフト共重合体樹脂溶液(東亞合成化学工業(株)
製、GS-1032)111.9gとアクリル樹脂共重合体溶液(大
日本インキ化学工業(株)製、クリスコートP1018(20%
トルエン溶液))25gを用いた以外は実施例1と同様に
して保護層付き放射線像変換パネルを製造した。
【0060】(実施例6)実施例4の有機フィラーに換
えて無機フィラー(アルミナ:住友化学(株)製:AKP2
0)25gを使用した以外は実施例5と同様にして放射線
像変換パネルを製造した。
【0061】(比較例1)実施例1の保護層に使用した
シリコーングラフト共重合体樹脂溶液に換えてフッ素系
共重合体樹脂である旭硝子(株)製:ルミフロンLF504X
(30%キシレン溶液)185gを使用した以外は実施例1
と同様にして保護層付き放射線像変換パネルを製造し
た。
【0062】(比較例2)比較例1のボールミル分散混
合後の塗布液に更に変性ポリシロキサンワックス(信越
シリコーン(株)製:X22-2809)を0.5g添加した以外は
同様にして保護層付き放射線像変換パネルを製造した。
【0063】(比較例3)保護層として、塗布層を設け
てない9μm厚PETを使用した以外は実施例1と同様
にして保護層付き放射線像変換パネルを製造した。
【0064】(比較例4)実施例1の保護膜用塗布液
を、フッ素系共重合体樹脂(旭硝子(株)製、ルミフロン
LF504X(30%キシレン溶液))185g、有機フィラーと
してメラミン−ホルムアルデヒド((株)日本触媒製、エ
ポスターS6)13g、分散剤としてアルミカップリング剤
(味の素(株)製、プレンアクトAL-M)0.2gをトルエン
/ヘキサン=5/5混合溶剤100gに入れ、この混合液
を3mmφのジルコニアボールを使用したボールミルで2
4時間分散混合した後、変性ポリシロキサンワックス
(信越シリコーン(株)製:X22-2809)0.5g、触媒(ジ
ブチルチンジラウレート、共同薬品(株)製KS1260)0.7
mg、架橋剤(ポリイソシアネート、住友バイエルウレ
タン(株)製スミジュールN3500[固形分100%])10g及び
トルエン/ヘキサン=5/5溶剤を粘度が3mPa・sにな
るように追加混合し、保護膜用塗布液を調整した。この
保護膜用塗布液を蛍光体層上に直接ディップコーターで
塗布・乾燥(120℃)する工程に代える以外は実施例1
と同様にして、放射線像変換パネルを製造した。
【0065】(比較例5)実施例1の保護層用塗布液に
換えて、シリコーン共重合体樹脂である信越シリコーン
(株)製KS3702L(30%トルエン溶液)185g、有機フィラ
ー(メラミン−ホルムアルデヒド、(株)日本触媒製、エ
ポスターS6)13g、分散剤としてアルミカップリング剤
(味の素(株)製、プレンアクトAL-M)0.2g、メチルエ
チルケトン100gの混合液を、3mmφのジルコニアボー
ルを使用したボールミルで24時間分散混合した後、架橋
剤(信越シリコーン(株)製:CAT-PL-50)1.9g及びメチ
ルエチルケトンを粘度が3mPa・sになるように追加混合
し、保護膜用塗布液を調整した以外は実施例1と同様に
して保護層付き放射線像変換パネルを製造した。
【0066】(評価実験) 1.摩擦係数 実施例および比較例で得た放射線像変換パネルのそれぞ
れの保護膜表面の摩擦係数を下記の方法により測定し
た。まず、放射線像変換パネルを2cm×2cmの正方形に
切断し、測定試料を作成した。次に、別に用意したポリ
エチレンテレフタレートシートの上に、測定試料を、保
護層側を下にして置き、この試料の上に試料の重量も含
めて100gとなるように荷重をかけた。次に、この荷重
がかけられている試料を、引張速度4cm/分にてシート
に沿って引っ張り、テンシロン(UTM-11-20:東洋ボー
ルドウイン(株)製)を用いて、温度25℃、湿度 60%
の条件で、速度4cm/分の運動状態にある試料の引張力
F(g)を測定した。この引張力Fと上記の荷重(100
g)とから、放射線像変換パネル試料の保護層表面の摩
擦係数を引張力/荷重の値により算出した。
【0067】2.防汚性・耐傷性 実施例および比較例で得た放射線像変換パネルのそれぞ
れの保護膜表面の防汚性を下記の方法により測定した。
まず、放射線像変換パネルを25.2cm×30.3cmの長方形に
切断し、測定試料を作成した。作成した試料表面に黒マ
ジックインキで線を描き、乾燥後にティッシュペーパー
で乾拭きし、マジックインキの残存量を調べた。次に、
測定試料の保護膜を上面にして置き、その上で2×3cm
角の不織布を50gの加重で、1万回往復摺動させた。摺
動後に黒マジックインキの残存量を同様にして調べた。
防汚性の評価は以下の三段階で行った。
【0068】 A:残存ほとんど無し B:やや(1割程度)残存あり C:残存あり また、試料の保護層表面を目視で観察し、評価した。評
価は下記の三段階の基準により行なった。
【0069】 A:擦り傷の発生は殆どなし B:擦り傷が多少発生したが、実用上において問題のな
い程度 C:擦り傷の発生が非常に多い 3.画質(輝尽発光量、ノイズ)、走行性 放射線像変換パネルの画質を以下のように評価した。放
射線像変換パネルに、管電圧80kVpのX線を照射したの
ち、He-Neレ−ザ−光(632.8nm)で走査して蛍光体を励
起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光して電気
信号に変換し、これを画像再生装置によって画像として
再生して表示装置上に画像を得た。得られた蛍光体層か
ら輝尽発光光量測定し、また、10mRの線量におけるノイ
ズ(RM)を測定した。測定器は富士写真フイルム(株)
製FCR9000を使用した。
【0070】走行評価は、FCR9000(富士写真フイルム
(株)製)のメカニズムを模した走行機を使用して15℃
10%RHの温湿度で1万回走行させた。走行後、画像を
再生して保護層の傷や汚れの付着による画像異常の有無
を確認し、以下の三段階で評価した。
【0071】 A:異常が無かった B:僅かに異常があった C:異常があった 結果を表1に示す。輝尽発光量は比較例1のパネルの輝
尽発光量を100とした相対値で表わした。
【0072】
【表1】 表1から明らかなように、本発明による保護膜を表面に
有する放射線像変換パネルは、摩擦係数が低く、かつ高
い防汚性・耐傷性を示し、画質は従来並以上であって走
行耐久性に優れていた。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも、輝尽性蛍光体からなる蛍光
    体層と保護膜とを有する放射線像変換パネルにおいて、
    前記保護膜がシリコーン系グラフト共重合体樹脂からな
    るものであることを特徴とする放射線像変換パネル。
  2. 【請求項2】 前記シリコーン系グラフト共重合体樹脂
    が、ビニル系重合体の主鎖とシリコーンマクロモノマー
    の側鎖からなるグラフト共重合体であることを特徴とす
    る請求項1記載の放射線像変換パネル。
  3. 【請求項3】 前記ビニル系重合体がアクリル系共重合
    体であることを特徴とする請求項2記載の放射線像変換
    パネル。
  4. 【請求項4】 前記アクリル系共重合体がアクリルポリ
    オール共重合体であることを特徴とする請求項3記載の
    放射線像変換パネル。
  5. 【請求項5】 前記保護膜が前記シリコーン系グラフト
    共重合体樹脂をポリイソシアネートで硬化させた膜であ
    ることを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の
    放射線像変換パネル。
  6. 【請求項6】 前記保護膜が有機または無機の白色粉末
    を含むことを特徴とする請求項1から5いずれか1項記
    載の放射線像変換パネル。
  7. 【請求項7】 前記保護膜と前記蛍光体層との間に透明
    フイルムが設けられていることを特徴とする請求項1か
    ら6いずれか1項記載の放射線像変換パネル。
  8. 【請求項8】 前記保護膜が前記蛍光体層上に直接設け
    られていることを特徴とする請求項1から6いずれか1
    項記載の放射線像変換パネル。
JP2000041698A 2000-02-18 2000-02-18 放射線像変換パネル Withdrawn JP2001228299A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000041698A JP2001228299A (ja) 2000-02-18 2000-02-18 放射線像変換パネル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000041698A JP2001228299A (ja) 2000-02-18 2000-02-18 放射線像変換パネル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001228299A true JP2001228299A (ja) 2001-08-24

Family

ID=18564894

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000041698A Withdrawn JP2001228299A (ja) 2000-02-18 2000-02-18 放射線像変換パネル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001228299A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172800A (ja) * 2003-11-20 2005-06-30 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線像変換パネル及びその製造方法
JP2008082852A (ja) * 2006-09-27 2008-04-10 Toshiba Corp 放射線検出装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172800A (ja) * 2003-11-20 2005-06-30 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線像変換パネル及びその製造方法
JP2008082852A (ja) * 2006-09-27 2008-04-10 Toshiba Corp 放射線検出装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4246887B2 (ja) 放射線像変換パネルの製造方法
JPS6117999A (ja) 放射線像変換パネル
JP2549911B2 (ja) 放射線像変換パネルとその製造法
JP4244098B2 (ja) 放射線像変換パネル
JP2001228299A (ja) 放射線像変換パネル
JP2004226269A (ja) 放射線像変換器およびその製造方法
JP2715189B2 (ja) 放射線像変換パネル
JP2000346996A (ja) 放射線像変換パネル
JP2002148395A (ja) 放射線発光パネル
JP2002174697A (ja) 放射線発光パネル
JP2002006091A (ja) 放射線像変換パネル
US7169481B2 (en) Radiation image conversion panel and manufacturing method therefor
JP4244095B2 (ja) 放射線像変換パネルの製造方法
JP2540363B2 (ja) 放射線像変換パネルおよびその製造法
JP3999430B2 (ja) 放射線像変換パネルおよびその製造方法
JP2549913B2 (ja) 放射線像変換パネル
JP2002156498A (ja) 放射線像変換パネル
JP2769932B2 (ja) 放射線像変換パネル
JP2002116300A (ja) 放射線発光パネル
JP2001349994A (ja) 放射線像変換パネル
JP2549912B2 (ja) 放射線像変換パネルの製造法
JP2000241596A (ja) 放射線像変換パネル及びその製造方法
JP3996364B2 (ja) 放射線像変換パネルの製造方法
JP2002174698A (ja) 放射線発光パネル
JP2001059898A (ja) 放射線像変換パネルの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070501