JP2000241596A - 放射線像変換パネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 蛍光体の充填率が高くて感度が高く、しかも
輝尽発光量のムラの少ない放射線像変換パネル及びその
製造方法の提供。 【解決手段】 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、
結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順
に有し、前記下塗り層の軟化温度が、前記蛍光体層の軟
化温度以上であることを特徴とする放射線像変換パネル
である。また、支持体上に、下塗り層を形成する工程
と、結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液を用いて、前
記下塗り層の軟化温度以下の軟化温度をもつ蛍光体シー
トを成形する工程と、前記蛍光体シートを、前記下塗り
層上に、前記蛍光体シートの軟化温度以上の温度で圧縮
しながら接着させ蛍光体層を形成する工程と、を含むこ
とを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ル及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、例えば、特開昭５５−１２１４５号公報等に記載さ
れているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法
が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する
放射線像変換パネル（蓄積性蛍光体シートと呼ばれるこ
ともある）を利用するもので、被写体を透過したあるい
は被検体から発せられた放射線を該パネルの輝尽性蛍光
体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤
外線等の電磁波（励起光）で時系列的に励起することに
より、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネル
ギーを蛍光（輝尽発光光）として放出させ、この蛍光を
光電的に読み取って電気信号を得、得られた電気信号に
基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像と
して再生するものである。

【０００３】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。従って、この方法は、特に医療診断を目的と
するＸ線撮影時の直接医療用放射線撮影において利用価
値の非常に高いものである。

【０００４】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、基本構造として、支持体とその片面に設け
られた下塗り層、輝尽性蛍光体層（以下、単に「蛍光体
層」と称する。）及び保護層からなるものである。前記
下塗り層は、主として蛍光体層と支持体との接着性を高
めるために設けられており、主として軟質の樹脂からな
る。前記下塗り層には輝尽光の反射率を高めるために光
反射性の微粒子を添加したり、パネルの帯電を防止する
ために導電性の粉体やウィスカー等を添加することがあ
る。

【０００５】前記蛍光体層は、一般に、輝尽性蛍光体と
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなるもので
あり、輝尽性蛍光体はＸ線等の放射線を吸収したのち、
励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性質を有するも
のである。従って、被写体を透過したあるいは被検体か
ら発せられた放射線は、その放射線量に比例して放射線
像変換パネルの蛍光体層に吸収され、パネルには被写体
あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄積像
として形成される。この蓄積像は、上記励起光を照射す
ることにより輝尽発光光として放出させることができ、
この輝尽発光光を光電的に読み取って電気信号に変換す
ることにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化するこ
とが可能となる。

【０００６】放射線像変換方法は、上記のように非常に
有利な画像形成方法であるが、この方法に用いられる放
射線像変換パネルも従来の放射線写真法に用いられる増
感紙と同様に、高感度であって、かつ画質（鮮鋭度、粒
状性等）の良好な画質を与えるものであることが望まれ
る。放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネルに
含有されている輝尽性蛍光体の総輝尽発光量に依存し、
この総発光量は輝尽性蛍光体自体の発光輝度によるのみ
ならず、蛍光体層における輝尽性蛍光体の含有量によっ
ても異なる。輝尽性蛍光体の含有量が多いことはまた、
Ｘ線等の放射線に対する吸収も大であることを意味する
から、一層高い感度が得られ、同時に画質（特に、粒状
性）が向上する。一方、蛍光体層における輝尽性蛍光体
の含有量が一定である場合には、輝尽性蛍光体粒子が密
に充填されているほどその層厚を薄くすることができる
から、散乱による励起光の広がりを少なくすることがで
き、相対的に高い鮮鋭度を得ることができる。

【０００７】本願出願人は、輝尽性蛍光体が密に充填さ
れた蛍光体層を持つ放射線像変換パネルの一つとして、
蛍光体層を圧縮処理することにより蛍光体層の空隙率を
低下せしめた放射線像変換パネル及びその製造方法を既
に出願している（特開昭５９−１２６２９９号公報、特
開昭５９−１２６３００号公報参照）。上記の放射線像
変換パネルは、蛍光体層を圧縮処理することで、蛍光体
層中の輝尽性蛍光体の密度をそれまでの放射線像変換パ
ネルよりも高く、かつ密度ムラを少なくしたものであっ
た。その結果、この放射線像変換パネルは優れた鮮鋭度
を持つものとなったが、圧縮処理によってもなお、輝尽
性蛍光体の密度ムラが依然として残り、輝尽発光量のム
ラは充分満足できるものではなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける問題を解決し、以下の目的を達成することを課題
とする。即ち、本発明は、蛍光体の充填率が高くて感度
が高く、しかも輝尽発光量のムラ（以下、「発光ムラ」
と称することがある。）の少ない放射線像変換パネルを
提供することを目的とする。また、本発明は、圧縮処理
による密度ムラに起因する発光ムラを抑制しつつ、蛍光
体充填率を高めることのできる放射線像変換パネルの製
造方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
を解決するために、前記下塗り層の軟化温度に着目し、
鋭意研究を行った。その結果、前記下塗り層の軟化温度
を、前記蛍光体層の軟化温度以上にすることにより、加
熱圧縮処理する際に、前記下塗り層が軟化し、圧縮によ
る圧力が逃げてしまうことを防ぎ、前記蛍光体層の高密
度化を達成でき、かつ、密度ムラの発生を効果的に抑制
できるという知見を発見した。前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。 ＜１＞ 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、結合剤
及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順に有
し、前記下塗り層の軟化温度が、前記蛍光体層の軟化温
度以上であることを特徴とする放射線像変換パネルであ
る。 ＜２＞ 支持体上に、下塗り層を形成する工程と、結合
剤及び輝尽性蛍光体を含有する液を用いて、前記下塗り
層の軟化温度以下の軟化温度をもつ蛍光体シートを成形
する工程と、前記蛍光体シートを、前記下塗り層上に、
前記蛍光体シートの軟化温度以上の温度で圧縮しながら
接着させ蛍光体層を形成する工程と、を含むことを特徴
とする放射線像変換パネルの製造方法である。

【００１０】本発明によれば、圧縮の際、軟化温度以上
の温度にされた結合剤中に分散された輝尽性蛍光体結晶
は、ある程度の自由度を持った状態で圧力を受けるため
に、加わる圧力によって輝尽性蛍光体結晶を破壊するこ
となく充填度を高めることができる。しかも、蛍光体シ
ートを支持体に固定しない状態で圧力を加え、圧縮しな
がら支持体上へ設置するので、蛍光体シートに加わる圧
力は、蛍光体結晶を破壊することなく、シートを薄く延
ばし広げるように働く。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。まず、本発明の放射線像変換パネルの製造方法に
ついて説明する。本発明の放射線像変換パネルの製造方
法は、支持体上に下塗り層を形成する工程（以下、「下
塗り層形成工程」と称する。）と、蛍光体シートを成形
する工程（以下、「蛍光体シート成形工程」と称す
る。）と、前記蛍光体シートを用いて蛍光体層を形成す
る工程（以下、「蛍光体層形成工程」と称する。）とを
含み、更に必要に応じて、その他の層を形成する工程
（以下、「その他の層形成工程」と称する。）を含んで
なる。以下、各工程について説明する。

【００１２】［蛍光体シート成形工程］前記蛍光体シー
ト成形工程は、結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液を
用いて、前記下塗り層の軟化温度以下の軟化温度をもつ
蛍光体シートを成形する工程である。本発明の放射線像
変換パネルの製造方法は、前記下塗り層の軟化温度以下
の軟化温度をもつ蛍光体シートを成形することに特徴を
有する。前記軟化温度とは、物質が加熱により変形、軟
化を起こし始める温度であり、本発明における軟化温度
は、ＪＩＳ Ｋ７１９６に定められている測定方法によ
り求められるＴＭＡ軟化温度である。これは、０．５０
±０．０１Ｎ（５０±１ｇｆ）の荷重がかかった標準圧
子（直径１ｍｍ）が試料に侵入した深さが変曲したとき
の温度を測定することにより求められる。本発明におけ
る軟化温度は、２３℃±２℃の条件の下、軟化温度測定
装置（ＴＭＡ１２０、セイコー電子（株）製）により測
定した値をいう。

【００１３】前記蛍光体シートの軟化温度を、前記下塗
り層の軟化温度以下（言い換えると、前記下塗り層の軟
化温度を、前記蛍光体シートの軟化温度以上）にする理
由は、前記下塗り層の軟化温度が、前記蛍光体シートの
軟化温度より低いと、前記蛍光体シートを前記下塗り層
上にカレンダーロール等により圧縮処理する際に、前記
蛍光体シートの軟化温度以上の温度で加熱するが、その
際、前記下塗り層が軟化してしまい、圧縮による圧力が
逃げてしまうため、前記蛍光体層の高密度化が困難とな
り、密度ムラができてしまうからである。

【００１４】前記蛍光体シートの軟化温度は、前記下塗
り層の軟化温度以下であればよいため、前記蛍光体シー
トの軟化温度と前記下塗り層の軟化温度とが、同じであ
ってもよい。一般的に、前記蛍光体シートの軟化温度
は、前記蛍光体シートの成形の際に用いられる前記結合
剤の軟化温度によって、およそ定められることがあり、
また、前記下塗り層の軟化温度は、前記下塗り層の形成
の際の用いられる結合剤の軟化温度によって、およそ定
められることがある。従って、蛍光体シートに用いられ
る結合剤と、下塗り層に用いられる結合剤とを、同じ種
類の結合剤とすることもできる。

【００１５】また、前記蛍光体シートの軟化温度は、前
記下塗り層の軟化温度以下であればよいが、前記蛍光体
シートの軟化温度は、前記下塗り層の軟化温度より５℃
以下であることが好ましく、１０℃以下であることがよ
り好ましい。

【００１６】前記蛍光体シートは、前記結合剤及び輝尽
性蛍光体を含有する液（以下、「蛍光体層形成用塗布
液」と呼ぶことがある。）を、仮支持体上に塗布し、乾
燥させることにより成形する。次に、前記蛍光体層形成
用塗布液について説明する。前記蛍光体層形成用塗布液
は、少なくとも、結合剤及び輝尽性蛍光体を含有し、更
に必用に応じて、その他の成分を含有してなる。

【００１７】（結合剤）前記結合剤は、常温で弾力を持
ち、加熱されると流動性を持つようになる熱可塑性エラ
ストマーが好ましい。前記熱可塑性エラストマーの具体
例としては、例えば、ポリスチレン、ポリオレフィン、
ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリブタジ
エン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、アクリル
共重合体、天然ゴム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩
素化ポリエチレン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコ
ンゴム等が挙げられる。これらのうち、塗膜強度、透明
度の観点から、ポリウレタン、ポリエステル、アクリル
共重合体が好ましい。前記結合剤は、軟化温度又は融点
が３０〜３００℃であるものが好ましく、３０〜２００
℃のものがより好ましく、３０〜１５０℃のものが特に
好ましい。前記結合剤の軟化温度又は融点が、３０℃未
満であると、カレンダー処理時に溶融する恐れがあり、
一方、３００℃を超えると、カレンダー処理で圧縮でき
なくなることがある。

【００１８】前記結合剤は、１種単独で用いてもよく、
２種以上を併用してもよい。また、前記熱可塑性エラス
トマーと、それ以外のエラストマーとからなる２種以上
の混合物でもよい。また、前記熱可塑性エラストマー以
外のポリマー（例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、
ポリイミド樹脂等）を含んでいてもよい。特に、エポキ
シ樹脂は、通常、黄変防止剤として使用される。

【００１９】（輝尽性蛍光体）前記輝尽性蛍光体は、放
射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す
蛍光体であり、実用的な面からは波長が４００〜９００
ｎｍの範囲にある励起光によって、３００〜５００ｎｍ
の波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが好まし
い。前記輝尽性蛍光体の例としては、例えば、以下に示
すものが挙げられる。特開昭４８−８０４８７号公報に
記載されているＢａＳＯ₄：ＡＸ及び特開昭４８−８０
４８９号公報に記載されているＳｒＳＯ₄：ＡＸで表さ
れる蛍光体、特開昭５３−３９２７７号公報に記載され
ているＬｉ₂Ｂ₄Ｏ₇：Ｃｕ，Ａｇ、特開昭５４−４７８
８３号公報に記載されているＬｉ₂Ｏ・（Ｂ₂Ｏ₂）_X：Ｃ
ｕ及びＬｉ₂Ｏ・（Ｂ₂Ｏ₂）_X：Ｃｕ，Ａｇ、米国特許第
３，８５９，５２７号明細書に記載されているＳｒＳ：
Ｃｅ，Ｓｍ，ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、ＴｈＯ₂：Ｅｒ、及
びＬａ₂Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ、特開昭５５−１２１４２号
公報に記載されているＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ、ＢａＯｘＡ
ｌ₂Ｏ₃：Ｅｕ（但し、０．８≦ｘ≦１０）、及び、Ｍ^II
Ｏ・ｘＳｉＯ₂：Ａ［但し、Ｍ^IIは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓ
ｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、又はＢａであり、Ａは、Ｃｅ、Ｔｂ、
Ｅｕ、Ｔｍ、Ｐｂ、Ｔｌ、Ｂｉ、又はＭｎであり、ｘ
は、０．５≦ｘ≦２．５である。］、

【００２０】特開昭５５−１２１４３号公報に記載され
ている（Ｂａ_1-x-y，ＭｇＸ，Ｃａ_y）ＦＸ：ａＥｕ
²⁺［但し、ＸはＣｌ及びＢｒのうちの少なくとも一つで
あり、ｘ及びｙは、０＜ｘ＋ｙ≦０．６、かつｘｙ≠０
であり、ａは、１０^-6≦ａ≦５×１０^-2である。］、特
開昭５５−１２１４４号公報に記載されているＬｎＯ
Ｘ：ｘＡ［但し、ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇｄ、及びＬｕのう
ちの少なくとも一つ、ＸはＣｌ及びＢｒのうちの少なく
とも一つ、ＡはＣｅ及びＴｂのうちの少なくとも一つ、
そして、ｘは、０＜ｘ＜０．１である。］、特開昭５５
−１２１４５号公報に記載されている（Ｂａ_1-X，Ｍ²⁺
Ｘ）ＦＸ：ｙＡ［但し、Ｍ²⁺はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚ
ｎ、及びＣｄのうちの少なくとも一つ、ＸはＣｌ、Ｂ
ｒ、及びＩのうちの少なくとも一つ、ＡはＥｕ、Ｔｂ、
Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、及びＥｒ
のうちの少なくとも一つ、そしてｘは、０≦ｘ≦０．
６、ｙは、０≦ｙ≦０．２である。］、特開昭５５−８
４３８９７号公報に記載されているＢａＦＸ：ｘＣｅ・
ｙＡで表される蛍光体、特開昭５５−１６００７８号公
報に記載されているＭ^IIＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ［但し、Ｍ
^IIはＢａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ｚｎ、及びＣｄのうちの
少なくとも一種、ＡはＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｓｒ
Ｏ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｉ
ｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＧｅＯ₂、ＳｎＯ
₂、Ｎｂ₂Ｏ ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、及びＴｈＯ₂のうちの少なくと
も一種、ＬｎはＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、
Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｓｍ、及びＧｄのうちの少な
くとも一種、ＸはＣｌ、Ｂｒ、及びＩのうちの少なくと
も一種であり、ｘ及びｙは、それぞれ５×１０^-5≦ｘ≦
０．５、及び０＜ｙ≦０．２である。］の組成式で表さ
れる蛍光体、

【００２１】特開昭５６−１１６７７７号公報に記載さ
れている（Ｂａ_1-X，Ｍ^IIＸ）Ｆ₂・ａＢａＸ₂：ｙＥ
ｕ，ｚＡ［但し、Ｍ^IIはベリリウム、マグネシウム、カ
ルシウム、ストロンチウム、亜鉛、及びカドミウムのう
ちの少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、及び沃素のうち
の少なくとも一種、Ａはジルコニウム及びスカンジウム
のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、及びｚ
は、それぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０
^-6≦ｙ≦２×１０^-1、及び０＜ｚ≦１０^-2である。］の
組成式で表される蛍光体、特開昭５７−２３６７３号公
報に記載されている（Ｂａ_1-X，Ｍ^IIＸ）Ｆ₂・ａＢａＸ
₂：ｙＥｕ，ｚＢ［但し、Ｍ^IIはベリリウム、マグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛、及びカドミ
ウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、及び沃
素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、及びｚ
は、それぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０
^-6≦ｙ≦２×１０^-1、及び０＜ｚ≦１０^-2である。］の
組成式で表される蛍光体、特開昭５７−２３６７５号公
報に記載されている（Ｂａ_1-X，Ｍ^IIＸ）Ｆ₂・ａＢａＸ
₂：ｙＥｕ，ｚＡ［但し、Ｍ^IIはベリリウム、マグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛、及びカドミ
ウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、及び沃
素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素及び硅素のうちの
少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、及びｚはそれぞれ
０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０^-6≦ｙ≦２×
１０^-1、及び０＜ｚ≦５×１０^-1である。］の組成式で
表される蛍光体、特開昭５８−６９２８１号公報に記載
されているＭ^IIIＯＸ：ｘＣｅ［但し、Ｍ^IIIはＰｒ、Ｎ
ｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔ
ｍ、Ｙｂ、及びＢｉからなる群より選ばれる少なくとも
一種の三価金属であり、ＸはＣｌ及びＢｒのうちのいず
れか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜０．１
である。］の組成式で表される蛍光体、

【００２２】特開昭５８−２０６６７８号公報に記載さ
れているＢａ_1-XＭＸ／２ＬＸ／２ＦＸ：ｙＥｕ²⁺［但
し、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、及びＣｓからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表し；Ｌ
は、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、
Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、及びＴｌからなる群より選ばれる少な
くとも一種の三価金属を表し；Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、及び
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを
表し；そして、ｘは１０^-2≦ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦
０．１である。］の組成式で表される蛍光体、特開昭５
９−２７９８０号公報に記載されているＢａＦＸ・ｘ
Ａ：ｙＥｕ²⁺［但し、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａ
は、テトラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり；そし
て、ｘは１０^-6≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１であ
る。］の組成式で表される蛍光体、特開昭５９−３８２
７８号公報に記載されているｘＭ₃（ＰＯ₄）₂・ＮＸ₂：
ｙＡ、Ｍ₃（ＰＯ₄）₂：ｙＡ及びｎＲｅＸ₃・ｍＡ
Ｘ′₂：ｘＥｕ、ｎＲｅＸ₃・ｍＡＸ′₂：ｘＥｕ，ｙＳ
ｍ、Ｍ^IＸ・ａＭ^IIＸ′₂・ｂＭ^IIIＸ″₃：ｃＡで表され
る蛍光体、特開昭５９−４７２８９号公報に記載されて
いるＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ²⁺［但し、Ｘは、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり；Ａは、ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフ
ルオロチタン酸及びヘキサフルオロジルコニウム酸の一
価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物
群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であ
り；そして、ｘは１０ ^-6≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦
０．１である。］の組成式で表される蛍光体、

【００２３】特開昭５９−５６４７９号公報に記載され
ているＢａＦＸ・ｘＮａＸ′：ａＥｕ²⁺［但し、Ｘ及び
Ｘ′は、それぞれＣｌ、Ｂｒ、及びＩのうちの少なくと
も一種であり、ｘ及びａはそれぞれ０＜ｘ≦２、及び０
＜ａ≦０．２である。］の組成式で表される蛍光体、特
開昭５９−５６４８０号公報に記載されているＭ^IIＦＸ
・ｘＮａＸ′：ｙＥｕ²⁺：ｚＡ［但し、Ｍ^IIは、Ｂａ、
Ｓｒ、及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ土類金属であり；Ｘ及びＸ′は、それぞれＣ
ｌ、Ｂｒ、及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一
種のハロゲンであり；Ａは、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、及びＮｉより選ばれる少なくとも一種の繊維金属で
あり；そして、ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦０．２、
及びｚは０＜ｚ≦１０^-2である。］の組成式で表される
蛍光体、特開昭５９−７５２００号公報に記載されてい
るＭ^IIＦＸ・ａＭ^IＸ′・ｂＭ′^IIＸ″₂・ｃＭ^IIIＸ₃・
ｘＡ：ｙＥｕ²⁺［但し、Ｍ^IIはＢａ、Ｓｒ、及びＣａか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり；Ｍ^IはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、及びＣｓから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であ
り；Ｍ′^IIはＢｅ及びＭｇからなる群より選ばれる少な
くとも一種の二価金属であり；Ｍ^IIIはＡｌ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、及びＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の
三価金属であり；Ａは金属酸化物であり；ＸはＣｌ、Ｂ
ｒ、及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり；Ｘ′、Ｘ″、及びＸは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦
１０^-2、ｃは０≦ｃ≦１０^-2、かつａ＋ｂ＋ｃ≧１０^-6
であり；ｘは０＜ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．２であ
る。］の組成式で表される蛍光体、

【００２４】特開昭６０−８４３８１号公報に記載され
ているＭ^IIＸ₂・ａＭ^IIＸ′₂：ｘＥｕ²⁺［但し、Ｍ^IIは
Ｂａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも
一種のアルカリ土類金属であり；Ｘ及びＸ′はＣｌ、Ｂ
ｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであって、かつＸ≠Ｘ′であり；そしてａは０．１
≦ａ≦１０．０、ｘは０＜ｘ≦０．２である。］の組成
式で表される輝尽性蛍光体、特開昭６０−１０１１７３
号公報に記載されているＭ^IIＦＸ・ａＭ^IＸ′：ｘＥｕ
²⁺［但し、Ｍ^IIはＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｍ^I
はＲｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ′
はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンであり；そしてａ及びｘは、それぞ
れ０≦ａ≦４．０及び０＜ｘ≦０．２である。］の組成
式で表される輝尽性蛍光体、特開昭６２−２５１８９号
公報に記載されているＭ^IＸ：ｘＢｉ［但し、Ｍ^IはＲｂ
及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアル
カリ金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてｘは
０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である。］の組成式で表さ
れる輝尽性蛍光体、等が挙げられる。

【００２５】また、上記特開昭６０−８４３８１号公報
に記載されているＭ^IIＸ₂・ａＭ^IIＸ′₂：ｘＥｕ²⁺輝尽
性蛍光体には、以下に示すような添加物がＭ^IIＸ₂・ａ
Ｍ^IIＸ′₂ １モル当り以下の割合で含まれていてもよ
い。特開昭６０−１６６３７９号公報に記載されている
ｂＭ^IＸ″［但し、Ｍ^Iは、Ｒｂ及びＣｓからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、Ｘ″は
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくと
も一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０．０
である。］；特開昭６０−２２１４８３号公報に記載さ
れているｂＫＸ″・ｃＭｇＸ₂・ｄＭ^IIIＸ′₃［但し、
Ｍ^IIIはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より
選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ｘ″、Ｘ及
びＸ′はいずれもＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂ、
ｃ及びｄはそれぞれ、０≦ｂ≦２．０、０≦ｃ≦２．
０、０≦ｄ≦２．０であって、かつ２×１０^-5≦ｂ＋ｃ
＋ｄである。］；特開昭６０−２２８５９２号公報に記
載されているｙＢ［但し、ｙは２×１０ ^-4≦ｙ≦２×１
０^-1である。］；特開昭６０−２２８５９３号公報に記
載されているｂＡ［但し、ＡはＳｉＯ₂及びＰ₂Ｏ₅から
なる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そ
してｂは１０^-4≦ｂ≦２×１０^-1である。］；

【００２６】特開昭６１−１２０８８３号公報に記載さ
れているｂＳｉＯ［但し、ｂは０＜ｂ≦３×１０^-2であ
る。］；特開昭６１−１２０８８５号公報に記載されて
いるｂＳｎＸ″₂［但し、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩ
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてｂは０＜ｂ≦１０^-3である。］；特開昭６１
−２３５４８６号公報に記載されているｂＣｓＸ″・ｃ
ＳｎＸ₂［但し、Ｘ″及びＸはそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ
及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり、そしてｂ及びｃはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．
０及び１０^-6≦ｃ≦２×１０^-2である。］；及び特開昭
６１−２３５４８７号公報に記載されているｂＣｓＸ″
・ｙＬｎ³⁺［但し、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、Ｌ
ｎはＳｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、
Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より
選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり、そしてｂ
及びｙはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０及び１０^-6≦ｙ≦
１．８×１０^-1である。］。

【００２７】上記の輝尽性蛍光体のうち、二価ユーロピ
ウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体及びセ
リウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体は、高輝
度の輝尽発光を示すため特に好ましい。但し、本発明に
用いられる輝尽性蛍光体は、上記の輝尽性蛍光体に限ら
れるものではなく、放射線を照射したのちに励起光を照
射した場合に輝尽発光を示す蛍光体であれば、いかなる
ものであってもよい。

【００２８】（その他の成分） −フッ素系界面活性剤− 前記蛍光体層形成用塗布液には、前記その他の成分とし
て、フッ素系界面活性剤を添加することができる。前記
フッ素系界面活性剤は、塗布時の厚みムラを減少させ
て、密度ムラを減らす目的のために添加することができ
る。前記フッ素系界面活性剤とは、通常の界面活性剤の
疎水基の炭素原子に結合した水素原子の代わりに、その
一部又は全部をフッ素原子で置換したもの、又はアルキ
ル基又はエーテル基の水素原子の一部又は全部をフッ素
原子で置換した基を有する低分子化合物、オリゴマー、
又はポリマーをいう。前記フッ素系界面活性剤のうち、
ノニオン系、オリゴマー系、ポリマー系が特に好まし
い。

【００２９】前記フッ素系界面活性剤の具体例として
は、例えば、大日本インキ化学工業（株）製のメガファ
ックシリーズ（特に、Ｆ−１１０、Ｆ−１１６、Ｆ−１
２０、Ｆ−１４２Ｄ、Ｆ−１４４Ｄ、Ｆ−１５０、Ｆ−
１６０、Ｆ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１
７７、Ｆ−１７８Ａ、Ｆ−１７８Ｋ、Ｆ−１７９、Ｆ−
１８３、Ｆ−１８４、Ｆ−１９１、Ｆ−８１２等）、朝
日ガラス（株）製のサーフロンシリーズ（特に、Ｓ−３
８１、Ｓ−３８３、Ｓ−３９３、ＳＣ−１０１、ＳＣ−
１０５、ＫＨ−４０等）、住友３Ｍ（株）製のＦＣシリ
ーズ（特に、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１等）等が挙げ
られる。これらフッ素系界面活性剤の色は、無色から淡
黄色が励起光や発光光に悪影響を及ぼす恐れがないため
好ましい。本発明において、前記フッ素系界面活性剤
は、前記結合剤及び輝尽性蛍光体との分散時に添加して
もよく、分散後に添加してもよい。

【００３０】−溶剤− 前記蛍光体層形成用塗布液には、前記その他の成分とし
て、溶剤を用いることができる。前記溶剤は、前記結合
剤及び輝尽性蛍光体を充分に混合して、結合剤溶液中に
輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製するために
用いることができる。前記溶剤の具体例としては、例え
ば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−
ブタノール等の低級アルコール；メチレンクロライド、
エチレンクロライド等の塩素原子含有炭化水素；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級
脂肪酸と低級アルコールとのエステル；ジオキサン、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル等のエーテル；そして、それら
の混合物が挙げられる。

【００３１】前記蛍光体層形成用塗布液における前記結
合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、目的とする放射線像
変換パネルの特性、輝尽性蛍光体の種類等によって異な
るが、一般には、前記結合剤と輝尽性蛍光体との混合比
は、１：１〜１：１００（重量比）が好ましく、１：８
〜１：４０（重量比）がより好ましい。

【００３２】−分散剤・可塑剤− 前記蛍光体層形成用塗布液には、前記その他の成分とし
て、分散剤や可塑剤等の添加剤を用いることができる。
前記分散剤は、前記塗布液中における輝尽性蛍光体の分
散性を向上させるため、また、前記可塑剤は、形成後の
蛍光体層中における結合剤と輝尽性蛍光体との間の結合
力を向上させるために用いることができる。前記分散剤
の具体例としては、例えば、フタル酸、ステアリン酸、
カプロン酸、親油性界面活性剤等が挙げられる。また、
前記可塑剤の具体例としては、例えば、燐酸トリフェニ
ル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐酸エステ
ル；フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等の
フタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエチ
ル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリコール
酸エステル；そして、トリエチレングリコールとアジピ
ン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク
酸とのポリエステル等のポリエチレングリコールと脂肪
族二塩基酸とのポリエステル等が挙げられる。

【００３３】（仮支持体）次に、前記仮支持体について
説明する。前記仮支持体は、例えば、ガラス、金属の
板、あるいは従来の放射線写真法における増感紙（又は
増感用スクリーン）の支持体として用いられている各種
の材料、あるいは放射線像変換パネルの支持体として公
知の材料から任意に選ぶことができる。そのような材料
の具体例としては、例えば、セルロースアセテート、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート等のプ
ラスチック物質のフィルム、アルミニウム箔、アルミニ
ウム合金箔等の金属シート、通常の紙、バライタ紙、レ
ジンコート紙、二酸化チタン等の顔料を含有するピグメ
ント紙、ポリビニルアルコール等をサイジングした紙、
アルミナ、ジルコニア、マグネシア、チタニア等のセラ
ミックスの板あるいはシート等が挙げられる。前記仮支
持体の厚さは、特に限定されないが、通常５０〜３００
μｍ程度である。

【００３４】（蛍光体シートの成形方法）前記蛍光体シ
ートは、前記蛍光体層形成用塗布液を、前記仮支持体上
に塗布し、乾燥させることにより成形されるが、前記蛍
光体層形成用塗布液は、前述した結合剤、輝尽性蛍光
体、溶剤等のその他の成分を、プロペラミキサー、ディ
ゾルバー、ボールミル等の従来公知の分散機により、分
散させて調製する。得られた蛍光体層形成用塗布液の２
５℃における粘度は、１〜１０Ｐａ・ｓが好ましく、２
〜５Ｐａ・ｓがより好ましい。

【００３５】次に、上記のようにして調製された蛍光体
層形成用塗布液を、蛍光体シート成形用の前記仮支持体
の表面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜を形成
する。この塗布操作は、通常の塗布手段、例えば、ドク
ターブレード、ロールコーター、ナイフコーター等を用
いることにより行うことができる。次に、前記塗布液を
乾燥させ、前記仮支持体から剥がして放射線像変換パネ
ルの蛍光体層となる蛍光体シートを得る。前記仮支持体
の表面には、成形された蛍光体シートを仮支持体から剥
がし易くするために、予め離型剤を塗布しておくことが
好ましい。前記蛍光体シートの厚さは、目的に応じて適
宜選択することができるが、５０〜５００μｍが好まし
く、１００〜３００μｍがより好ましい。

【００３６】［下塗り層形成工程］前記下塗り層形成工
程は、支持体上に、下塗り層を形成する工程である。前
記下塗り層は、少なくとも結合剤を含有する下塗り層形
成用塗布液を、前記支持体上に塗布し、乾燥させること
によって形成する。

【００３７】（支持体）前記支持体は、蛍光体シートを
成形する際に用いられる前記仮支持体と同様の材料から
任意に選ぶことができる。即ち、上記のように成形した
蛍光体シートとは別に、放射線像変換パネルの支持体を
用意する。前記支持体としては、中でも、強度及び価格
の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート等が好ましい。前記支持体の厚さは、特
に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる
が、５０〜５００μｍが好ましく、１００〜３００μｍ
がより好ましい。

【００３８】（下塗り層）前記下塗り層は、前記支持体
と前記蛍光体層との結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルの感度もしくは画質（鮮鋭度、粒状性）
を向上させるために設けられる。前記下塗り層として
は、例えば、前記支持体表面にゼラチン等の高分子物質
を塗布した接着性付与層、二酸化チタン等の光反射性物
質からなる光反射層、カーボンブラック等の光吸収性物
質からなる光吸収層等が挙げられる。これらの各層は、
所望の放射線像変換パネルの目的、用途等に応じて任意
に選択することができる。

【００３９】次に、前記下塗り層形成用塗布液について
説明する。前記下塗り層形成用塗布液は、少なくとも結
合剤を含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有
してなる。前記その他の成分としては、前述した各層に
応じて、任意に選択することができる。前記下塗り層形
成用塗布液に用いられる結合剤は、前記蛍光体層形成用
塗布液に用いられる結合剤の軟化温度以上の軟化温度を
もつ結合剤を用いることが必要である。そのような結合
剤としては、例えば、軟質アクリル樹脂、ポリウレタ
ン、可溶性ポリエステル、可溶性ナイロン等が挙げられ
る。これらのうち、塗膜強度及び透明度の観点から、軟
質アクリル樹脂、ポリウレタン、可溶性ポリエステルが
好ましい。また、前記下塗り層形成用塗布液に用いられ
る溶剤は、前述した蛍光体層形成用塗布液に用いられる
溶剤として例示したものの中から選択することができ
る。

【００４０】前記下塗り層形成用塗布液は、前述した結
合剤、溶剤等のその他の成分を、プロペラミキサー、デ
ィゾルバー、ボールミル等の従来公知の分散機により、
分散させて調製する。得られた下塗り層形成用塗布液の
２５℃における粘度は、０．０５〜５Ｐａ・ｓが好まし
く、０．１〜２Ｐａ・ｓがより好ましい。

【００４１】上記のようにして調製された下塗り層形成
用塗布液を、本発明の放射線像変換パネル用の前記支持
体の表面に塗布することにより塗布液の塗膜を形成す
る。この塗布操作は、通常の塗布手段、例えば、ドクタ
ーブレード、ロールコーター、ナイフコーター等を用い
ることにより行うことができる。前記塗布液の乾燥方法
は、特に限定されず、従来公知の乾燥方法を用いること
ができる。得られる下塗り層の厚さは、１〜１００μｍ
が好ましく、２〜５０μｍがより好ましい。

【００４２】また、特開昭５９−２００２００号公報に
記載されているように、得られる画像の鮮鋭度を向上さ
せる目的で、前記支持体上に形成された下塗り層の表面
（例えば、接着性付与層、光反射層、光吸収層等の表
面）には微小の凹凸が形成されていてもよい。

【００４３】［蛍光体層形成工程］前記蛍光体層形成工
程は、前記蛍光体シートを、前記下塗り層上に、前記蛍
光体シートの軟化温度以上の温度で圧縮（以下、「加熱
圧縮処理」と称することがある。）しながら接着させ蛍
光体層を形成する工程である。前記蛍光体層は、前記蛍
光体シートを、前記下塗り層が形成された支持体上に載
せ、前記蛍光体シートの軟化温度以上又は融点以上の温
度で、圧縮しながら前記下塗り層上に接着することによ
って形成する。

【００４４】前記加熱圧縮処理のために使用される圧縮
装置の例としては、例えば、カレンダーロール、ホット
プレス等、従来公知の圧縮装置が挙げられるが、前記蛍
光体シートを加熱しながら圧縮することのできるもので
あればいかなるものであってもよい。これら圧縮装置の
うち、処理効率の観点から、カレンダーロールが好まし
い。前記カレンダーロールによる加熱圧縮処理は、前記
下塗り層が形成された支持体上に前記蛍光体シートを載
せ、前記蛍光体シートの軟化温度以上又は融点以上に加
熱したローラーの間を、一定の速度（送り速度）で通過
させることにより行われる。前記送り速度は、通常０．
１〜５０ｍ／ｍｉｎ程度であり、０．３〜２０ｍ／ｍｉ
ｎが好ましい。

【００４５】前記加熱圧縮処理の際の圧力は、５０〜１
０００ｋｇｗ／ｃｍ²が好ましく、１００〜５００ｋｇ
ｗ／ｃｍ² がより好ましい。該圧力が、５０ｋｇｗ／ｃ
ｍ²未満の場合には、圧縮率が低下し、輝尽性発光量が
低下することがあり、一方、１０００ｋｇｗ／ｃｍ² を
超えると、輝尽性蛍光体が破壊されて発光量が低下する
ことがある。また、前記加熱圧縮処理の際の加熱温度
（上下のロール温度）は、前記蛍光体シートの軟化温度
以上又は融点以上であるが、圧縮効率の観点から、前記
蛍光体シートの軟化温度（又は融点）よりも、５℃以上
高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好まし
い。また、上と下のロール温度を一般に同じ温度で行う
ことが好ましい。

【００４６】上記のようにして支持体上に形成された蛍
光体層の空隙率は、次の（Ｉ）式により理論的に求める
ことができる。

【００４７】（Ｉ）式

【数１】

【００４８】但し、Ｖ：蛍光体層の全体積 Ｖ_air：蛍光体層中の空気体積 Ａ：蛍光体層の全重量 ρ_x：蛍光体の密度 ρ_y：結合剤の密度 ρ_air：空気の密度 ａ：蛍光体の重量 ｂ：結合剤の重量 更に、前記（Ｉ）式において、ρ_airは、ほぼ０である
から、前記（Ｉ）式は、近似的に次の（II）式で表すこ
とができる。

【００４９】（II）式

【数２】

【００５０】但し、Ｖ、Ｖ_air、Ａ、ρ_x、ρ_y、ａ及び
ｂの定義は、前記（Ｉ）式と同じである。

【００５１】本発明において、蛍光体層の空隙率は前記
（II）式により計算して求めた。また、蛍光体の充填率
は、次の（III）式によって求めることができる。

【００５２】（III）式

【数３】

【００５３】但し、Ｖ、Ａ、ρ_x、ρ_y、ａ及びｂの定義
は、前記（Ｉ）式と同じである。

【００５４】［その他の層形成工程］前記その他の層
（膜）としては、前記蛍光体層上に、前記蛍光体層を物
理的及び化学的に保護するために、透明な保護膜を形成
することができる。前記透明保護膜は、例えば、酢酸セ
ルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体；あ
るいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢
酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー等の合成
高分子物質のような透明な高分子物質を適当な溶媒に溶
解して調製した溶液を、前記蛍光体層の表面に塗布する
ことにより形成することができる。あるいは、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド等からなる
プラスチックシート；透明なガラス板等の保護膜形成用
シートを別に成形して、前記蛍光体層の表面に適当な接
着剤を用いて接着する等の方法によっても形成すること
ができる。前記保護膜の膜厚は、通常、約０．１〜２０
μｍ程度である。更に、得られる画像の鮮鋭度を向上さ
せる目的で、上記の少なくともいずれかの層に、励起光
を吸収し、輝尽発光光は吸収しないような着色層を加え
てもよい（特公昭５９−２３４００号参照）。

【００５５】以下に、本発明の放射線像変換パネルにつ
いて説明する。本発明の放射線像変換パネルは、支持体
上に、少なくとも、下塗り層と、結合剤及び輝尽性蛍光
体を含有する蛍光体層とをこの順に有し、前記下塗り層
の軟化温度が、前記蛍光体層の軟化温度以上であること
を特徴とする。本発明の放射線像変換パネルは、これま
で説明した本発明の放射線像変換パネルの製造方法によ
って、好ましく製造することができるが、該製造方法に
限定されず、他の製造方法によって製造してもよい。ま
た、本発明の放射線像変換パネルを構成する支持体、下
塗り層、結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層
は、前述した本発明の製造方法に用いられるものが好ま
しいが、下塗り層の軟化温度が、蛍光体層の軟化温度以
上であれば、特に限定されるものではない。本発明の放
射線像変換パネルは、下塗り層の軟化温度が、蛍光体層
の軟化温度以上であるため、蛍光体充填率が高くて感度
が高く、しかも輝尽発光量のムラが少ない。よって、特
に医療診断を目的とするＸ線撮影時の直接医療用放射線
撮影において利用価値が非常に高いものである。

【００５６】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 （実施例１） ［蛍光体シートの成形］輝尽性蛍光体：ＢａＦＢｒ_0.9
Ｉ_0.1：Ｅｕ²⁺１００ｇを溶剤：メチルエチルケトン５
０ｇに加え、これを超音波分散機で６０分間分散した後
分級し、減圧下１５０℃で乾燥した。次に、以下の成分
１を、メチルエチルケトン溶媒に加え、プロペラミキサ
ーで分散させて、粘度が３．０Ｐａ・ｓ（２５℃）の蛍
光体層形成用塗布液を調製した（結合剤／蛍光体比＝１
／２０）。 −成分１− 前記輝尽性蛍光体・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００ｇ 結合剤：ポリウレタン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２７ｇ （大日本インキ化学（株）製パンデクスＴ５２６５Ｈ、 軟化温度約５０℃、１３％ＭＥＫ溶液） 黄変防止剤：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂・・・・・・・・１．０ｇ （油化シェルエポキシ（株）製、エピコート１００１） この蛍光体層形成用塗布液を、シリコン系離型剤が塗布
されているポリエチレンテレフタレート（仮支持体、厚
さ１８０μｍ）上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から
剥離して蛍光体シート（厚さ２７０μｍ）を成形した。

【００５７】［下塗り光反射層の形成］以下の成分２
に、メチルエチルケトンを加えプロペラミキサーで分散
させて、粘度が０．５Ｐａ・ｓ（２５℃）の下塗り光反
射層形成用塗布液を調製した。 −成分２− 酸化ガドリニウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．５ｇ （粒子径１〜５μｍの範囲の粒子を９０％含有） 結合剤：軟質アクリル樹脂・・・・・・・・・・・・・・・・・・２７ｇ （クリスコートＰ１０１８、大日本インキ化学（株）製、 軟化温度約８０℃、固形分２０％） 厚さ３００μｍのポリエチレンテレフタレート（支持
体）をガラス板上に水平に置き、上記の下塗り光反射層
形成用塗布液をドクターブレードを用いて前記支持体上
に均一塗布した後、２５℃から１００℃に徐々に上昇さ
せて塗布膜の乾燥を行い、前記支持体上に下塗り光反射
層を形成した（塗布膜の厚さ：１５μｍ）。

【００５８】［放射線像変換パネルの製造］前記支持体
上に形成された下塗り光反射層の上に前記蛍光体シート
を載せ、加熱圧縮処理を行い、蛍光体層（厚さ２１０μ
ｍ）を形成した。圧縮は、カレンダーロール（山陽
（株）製）を用いて、圧力４００ｋｇｗ／ｃｍ²、加熱
温度（上下のロール温度）８０℃、送り速度５ｍ／ｍｉ
ｎの条件で連続的に行った。この圧縮により、前記蛍光
体シートと前記支持体上の下塗り光反射層とは完全に融
着した。この圧縮の後、ポリエステル系接着剤が片面に
塗布されているポリエチレンテレフタレートの透明フィ
ルム（厚さ１０μｍ）を用意し、接着剤塗布面を前記蛍
光体層の面と向き合わせて接着することにより透明保護
膜を形成した。以上のようにして、支持体、下塗り光反
射層、蛍光体層、透明保護膜から構成された放射線像変
換パネルを製造した。

【００５９】＜軟化温度の測定＞前記下塗り光反射層及
び蛍光体層の軟化温度を測定するために、前記調製した
下塗り光反射層形成用塗布液及び蛍光体層形成用塗布液
を、それぞれ別々の支持体上に塗布乾燥し、形成された
下塗光反射層及び蛍光体層の軟化温度を、軟化温度測定
装置（ＴＭＡ１２０、セイコー電子（株）製）により、
ＪＩＳ Ｋ７１９６に基づいて、２３℃±２℃の条件
下、測定した。結果を表１に示す。

【００６０】＜蛍光体充填率＞蛍光体充填率を前記（II
I）式によって求めた。尚、蛍光体の密度を、５．１ｇ
／ｃｍ³とし、結合剤の密度を、１．１４ｇ／ｃｍ³とし
た。結果を表１に示す。

【００６１】＜輝尽発光量の測定＞得られた放射線像変
換パネルに管電圧８０ＫＶｐのＸ線を照射したのち、Ｈ
ｅ−Ｎｅレーザー光（波長：６３２．８ｎｍ）で励起し
て、前記パネルの輝尽発光量を、輝尽発光量測定装置
（商品名：ＦＣＲ７０００、富士写真フィルム（株）
製）により測定した。尚、測定した値は、以下に示す比
較例１の放射線像変換パネルの輝尽発光量を１００とし
たときの相対値（感度）で表示した。結果を表１に示
す。

【００６２】＜発光ムラの測定＞得られた放射線像変換
パネルを六切りサイズにし、中央部分のパネルの輝尽発
光量と、４隅の３ｃｍ角部分の輝尽発光量とを、輝尽発
光量測定装置（商品名：ＦＣＲ７０００、富士写真フィ
ルム（株）製）により測定し、これら輝尽発光量の差を
発光ムラとして百分率で表した。結果を表１に示す。
尚、前記発光ムラが小さい程、蛍光体層中の蛍光体の密
度ムラが小さいことを意味している。

【００６３】（実施例２）実施例１において、下塗り光
反射層形成用塗布液に使用される成分２を、以下の成分
に代えた外は、実施例１と同様に放射線像変換パネルを
製造し、実施例１と同様の測定を行った。結果を表１に
示す。 −成分− 酸化ガドリニウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．５ｇ （粒子径１〜５μｍの範囲の粒子を９０％含有） ポリウレタン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２７．０ｇ （大日本インキ化学（株）製パンデクスＴ５２６５Ｈ、２０％溶液）

【００６４】（実施例３）実施例１において、下塗り光
反射層形成用塗布液に使用される成分２を、以下の成分
に代え、塗布後室温で２週間経時して塗膜を硬化させ、
支持体上に下塗り光反射層を形成した外は、実施例１と
同様に放射線像変換パネルを製造し、実施例１と同様の
測定を行った。結果を表１に示す。 −成分− 酸化ガドリニウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．５ｇ （粒子径１〜５μｍの範囲の粒子を９０％含有） ポリウレタン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２２．０ｇ （大日本インキ化学（株）製パンデクスＴ５２６５Ｈ、２０％溶液） ポリイソシアネート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１．０ｇ （日本ポリウレタン（株）製、コロネートＨＸ）

【００６５】（実施例４）実施例１において、蛍光体層
形成用塗布液に使用される成分１を、以下の成分に代え
て蛍光体シートを成形し、蛍光体シートと下塗り光反射
層とのカレンダー処理を蛍光体層形成用塗布液を塗布し
た翌日に行った外は、実施例１と同様に放射線像変換パ
ネルを製造し、実施例１と同様の測定を行った。結果を
表１に示す。尚、＜軟化温度の測定＞に際し、上記塗布
液から得られた蛍光体層の軟化温度は、塗布直後は約５
０℃、塗布した翌日は約５５℃であった。 −成分− 前記輝尽性蛍光体・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００ｇ 結合剤：ポリウレタン・・・・・・・・・・・・・・・・・１９．３ｇ （大日本インキ化学（株）製パンデクスＴ５２６５Ｈ、 軟化温度約５０℃、１３％ＭＥＫ溶液） 黄変防止剤：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂・・・・・・・１．０ｇ （油化シェルエポキシ（株）製、エピコート１００１） ポリイソシアネート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１．０ｇ （日本ポリウレタン（株）製、コロネートＨＸ）

【００６６】（比較例１）実施例１において、蛍光体層
形成用塗布液のポリウレタンを、軟質アクリル樹脂（ク
リスコートＰ１０１８、大日本インキ化学（株）製、軟
化温度約８０℃、固形分２０％）に代え、下塗り光反射
層形成用塗布液の軟質アクリル樹脂を、ポリウレタン
（大日本インキ化学（株）製パンデクスＴ５２６５Ｈ、
軟化温度約５０℃、２０％ＭＥＫ溶液）に代えた外は、
実施例１と同様に放射線像変換パネルを製造し、実施例
１と同様の測定を行った。結果を表１に示す。上記構成
では、カレンダー処理時に下塗り光反射層が軟化し過ぎ
るためか、カレンダー後の蛍光体層の厚さが不均一にな
り易かった。

【００６７】（比較例２）実施例３の蛍光体層を室温で
２週間経時した。軟化温度は約７０℃だった。また、実
施例４の下塗り光反射層を用いた以外は、比較例１と同
様にして支持体、下塗り光反射層、蛍光体層、透明保護
膜から構成された放射線像変換パネルを製造した。

【００６８】

【表１】

【００６９】表１の結果から、実施例１〜４の本発明の
放射線像変換パネルは、従来の放射線像変換パネル（比
較例１及び２）に比べ、蛍光体充填率が高く、輝尽発光
量が大きく、感度がよいことがわかる。更に、本発明の
放射線像変換パネルは、発光ムラが少なく、輝尽性蛍光
体の密度ムラが抑制されていることがわかる。

【００７０】

【発明の効果】本発明によれば、蛍光体の充填率が高く
て感度が高く、しかも発光ムラの少ない放射線像変換パ
ネルを提供することができる。また、本発明によれば、
圧縮処理による密度ムラに起因する発光ムラを抑制しつ
つ、蛍光体充填率を高めることのできる放射線像変換パ
ネルの製造方法を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G083 AA03 BB01 CC08 DD14 DD17 EE01 EE03 4F100 AA17 AK25 AK41G AK42 AK53 AR00B AR00C AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C CB00 EH462 EJ192 EJ422 GB90 JA04B JA04C JN06B JN13C JN30

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、少なくとも、下塗り層と、
   結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層とをこの順
   に有し、前記下塗り層の軟化温度が、前記蛍光体層の軟
   化温度以上であることを特徴とする放射線像変換パネ
   ル。
2. 【請求項２】 支持体上に、下塗り層を形成する工程
   と、 結合剤及び輝尽性蛍光体を含有する液を用いて、前記下
   塗り層の軟化温度以下の軟化温度をもつ蛍光体シートを
   成形する工程と、 前記蛍光体シートを、前記下塗り層上に、前記蛍光体シ
   ートの軟化温度以上の温度で圧縮しながら接着させ蛍光
   体層を形成する工程と、を含むことを特徴とする放射線
   像変換パネルの製造方法。