JP2002174697A - 放射線発光パネル - Google Patents
放射線発光パネルInfo
- Publication number
- JP2002174697A JP2002174697A JP2000371291A JP2000371291A JP2002174697A JP 2002174697 A JP2002174697 A JP 2002174697A JP 2000371291 A JP2000371291 A JP 2000371291A JP 2000371291 A JP2000371291 A JP 2000371291A JP 2002174697 A JP2002174697 A JP 2002174697A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- protective film
- emitting panel
- phosphor
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 放射線発光パネルの搬送耐久性、防汚性、防
傷性を向上させる。 【解決手段】 支持体11と蛍光体層12と保護膜13とをこ
の順に積層してなる放射線発光パネル10において、保護
膜13を、紫外線または電子線硬化樹脂と、紫外線または
電子線硬化樹脂と反応可能な官能基を末端に１つ以上有
し、かつ数平均分子量が 5000から20000の反応性シリコ
ーンとを含むものとし、保護膜13を紫外線または電子線
の照射によって硬化させる。
傷性を向上させる。 【解決手段】 支持体11と蛍光体層12と保護膜13とをこ
の順に積層してなる放射線発光パネル10において、保護
膜13を、紫外線または電子線硬化樹脂と、紫外線または
電子線硬化樹脂と反応可能な官能基を末端に１つ以上有
し、かつ数平均分子量が 5000から20000の反応性シリコ
ーンとを含むものとし、保護膜13を紫外線または電子線
の照射によって硬化させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ルや、蛍光体によって透過放射線を可視光および／また
は紫外放射線に変換するためのＸ線写真用増感スクリー
ン等の放射線発光パネルに関するものである。
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ルや、蛍光体によって透過放射線を可視光および／また
は紫外放射線に変換するためのＸ線写真用増感スクリー
ン等の放射線発光パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、たとえば特開昭55-12145号に記載されているような
輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られてい
る。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換
パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写
体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）で時系
列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積され
ている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検
体の放射線画像を可視像として再生するものである。読
取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわれ
た後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線
像変換パネルは繰り返し使用される。
て、たとえば特開昭55-12145号に記載されているような
輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られてい
る。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換
パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写
体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）で時系
列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積され
ている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検
体の放射線画像を可視像として再生するものである。読
取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわれ
た後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線
像変換パネルは繰り返し使用される。
【０００３】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影
ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰返し使用
するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影
ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰返し使用
するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
【０００４】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、蛍光体層が自己支持性を有する場合は別と
して、基本的には、支持体とその表面に設けられた蛍光
体層とからなるものである。蛍光体層に含有される蛍光
体はＸ線などの放射線を吸収したのち励起光の照射を受
けると発光を示す性質を有するものであるから、被写体
を透過したあるいは被検体から発せられた放射線は、そ
の放射線量に比例して瞬時発光したり、放射蛍光体層に
吸収され蓄積像として保存される。蛍光体が輝尽性の場
合にはこの蓄積像は、励起光を照射することにより輝尽
発光光として放出させることができ、この光を光電素子
で電気信号に変換することにより放射線エネルギーの蓄
積像を画像化することが可能となる。
換パネルは、蛍光体層が自己支持性を有する場合は別と
して、基本的には、支持体とその表面に設けられた蛍光
体層とからなるものである。蛍光体層に含有される蛍光
体はＸ線などの放射線を吸収したのち励起光の照射を受
けると発光を示す性質を有するものであるから、被写体
を透過したあるいは被検体から発せられた放射線は、そ
の放射線量に比例して瞬時発光したり、放射蛍光体層に
吸収され蓄積像として保存される。蛍光体が輝尽性の場
合にはこの蓄積像は、励起光を照射することにより輝尽
発光光として放出させることができ、この光を光電素子
で電気信号に変換することにより放射線エネルギーの蓄
積像を画像化することが可能となる。
【０００５】輝尽性蛍光体層の表面（支持体に面してい
ない側の表面）には通常、保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護し
ている。保護膜としては、セルロース誘導体やポリメチ
ルメタクリレートなどのような透明な有機高分子物質を
適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗
布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテ
レフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス
板などの保護膜形成用シートを別に形成して蛍光体層の
表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機
化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものな
どが知られている。これらのうち、塗布によって形成し
た保護膜は、一般に蛍光体層との接着強度が強く、また
比較的簡単な工程で製造できるという利点を持ってい
る。
ない側の表面）には通常、保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護し
ている。保護膜としては、セルロース誘導体やポリメチ
ルメタクリレートなどのような透明な有機高分子物質を
適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗
布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテ
レフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス
板などの保護膜形成用シートを別に形成して蛍光体層の
表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機
化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものな
どが知られている。これらのうち、塗布によって形成し
た保護膜は、一般に蛍光体層との接着強度が強く、また
比較的簡単な工程で製造できるという利点を持ってい
る。
【０００６】しかし、このような、塗布によって形成さ
れた保護膜を有する放射線像変換パネルを、繰返し使用
していると、たとえば保護膜表面に擦り傷が発生するな
どの理由により、放射線像変換パネルが形成する放射線
画像の画質は徐々に低下する傾向にある。放射線像変換
パネルも従来の放射線写真法と同様に、高感度であって
かつ画質（鮮鋭度、粒状性など）の良好な画像を与える
ものであることが望まれるから、上記のような擦り傷の
発生を防止することは極めて重要である。
れた保護膜を有する放射線像変換パネルを、繰返し使用
していると、たとえば保護膜表面に擦り傷が発生するな
どの理由により、放射線像変換パネルが形成する放射線
画像の画質は徐々に低下する傾向にある。放射線像変換
パネルも従来の放射線写真法と同様に、高感度であって
かつ画質（鮮鋭度、粒状性など）の良好な画像を与える
ものであることが望まれるから、上記のような擦り傷の
発生を防止することは極めて重要である。
【０００７】上記の繰返し使用による放射線像変換パネ
ルの感度低下を防ぐことのできる保護膜として、既に本
出願人は、膜形成性樹脂とポリシロキサン骨格含有オリ
ゴマーもしくはパーフルオロアルキル基含有オリゴマー
とから形成されたものを開示している（特許第 2715189
号）。この保護膜は、千回以内の繰返し使用においては
充分な効果を有するものであった。
ルの感度低下を防ぐことのできる保護膜として、既に本
出願人は、膜形成性樹脂とポリシロキサン骨格含有オリ
ゴマーもしくはパーフルオロアルキル基含有オリゴマー
とから形成されたものを開示している（特許第 2715189
号）。この保護膜は、千回以内の繰返し使用においては
充分な効果を有するものであった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ポリシロキサ
ン骨格含有オリゴマーやパーフルオロアルキル基含有オ
リゴマーを単に含有したのみで、膜内で分子結合を構成
していない保護膜では、保護膜表面が繰り返し他の物体
表面と接触する結果、オリゴマーが保護膜から削り取ら
れる等で徐々に減少してしまう傾向にあり、近年の数千
回から１万回以上に増加した繰返し使用後においては、
表面に汚れが付着したり、スリキズが付き易くなり、最
終的に得られる放射線像の劣化あるいは、放射線像に関
する画像情報の質の低下をもたらすため、保護膜の耐久
性のさらなる向上が望まれている。
ン骨格含有オリゴマーやパーフルオロアルキル基含有オ
リゴマーを単に含有したのみで、膜内で分子結合を構成
していない保護膜では、保護膜表面が繰り返し他の物体
表面と接触する結果、オリゴマーが保護膜から削り取ら
れる等で徐々に減少してしまう傾向にあり、近年の数千
回から１万回以上に増加した繰返し使用後においては、
表面に汚れが付着したり、スリキズが付き易くなり、最
終的に得られる放射線像の劣化あるいは、放射線像に関
する画像情報の質の低下をもたらすため、保護膜の耐久
性のさらなる向上が望まれている。
【０００９】また、紫外線硬化樹脂からなる保護層につ
いて 特開平11-258398号に開示があるが、ここに記載さ
れている保護層は紫外線を照射することにより硬化され
たものではないため、汚れが保護層表面に付着して画像
情報の質が低下しやすいという問題がある。
いて 特開平11-258398号に開示があるが、ここに記載さ
れている保護層は紫外線を照射することにより硬化され
たものではないため、汚れが保護層表面に付着して画像
情報の質が低下しやすいという問題がある。
【００１０】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、近年の放射線像変換パネルの繰り返し使用回数の増
大にも対応可能な、搬送耐久性、防汚性、防傷性に優れ
た放射線像変換パネルを提供することを目的とするもの
である。
り、近年の放射線像変換パネルの繰り返し使用回数の増
大にも対応可能な、搬送耐久性、防汚性、防傷性に優れ
た放射線像変換パネルを提供することを目的とするもの
である。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の放射線発光パネ
ルは、蛍光体層と保護膜とを有する放射線発光パネルに
おいて、前記保護膜が、紫外線または電子線硬化樹脂
と、該紫外線または電子線硬化樹脂と反応可能な官能基
を末端に１つ以上有し、かつ数平均分子量が 5000から2
0000の反応性シリコーンとを含み、前記保護膜が紫外線
または電子線の照射によって硬化されていることを特徴
とするものである。
ルは、蛍光体層と保護膜とを有する放射線発光パネルに
おいて、前記保護膜が、紫外線または電子線硬化樹脂
と、該紫外線または電子線硬化樹脂と反応可能な官能基
を末端に１つ以上有し、かつ数平均分子量が 5000から2
0000の反応性シリコーンとを含み、前記保護膜が紫外線
または電子線の照射によって硬化されていることを特徴
とするものである。
【００１２】放射線発光パネルとは、輝尽性蛍光体を含
有する放射線像変換パネルの他、輝尽性でない蛍光体を
用いて透過放射線を可視光および／または紫外放射線に
変換するためのＸ線写真用増感スクリーンなども含む広
い概念である。
有する放射線像変換パネルの他、輝尽性でない蛍光体を
用いて透過放射線を可視光および／または紫外放射線に
変換するためのＸ線写真用増感スクリーンなども含む広
い概念である。
【００１３】前記紫外線または電子線硬化樹脂が有する
硬化性官能基は、ビニル基またはアクリレート基である
ことが好ましい。
硬化性官能基は、ビニル基またはアクリレート基である
ことが好ましい。
【００１４】前記反応性シリコーンの末端官能基はメタ
クリロキシ基であることが好ましい。 前記反応性シリ
コーンは、前記紫外線または電子線硬化樹脂（以下、単
に硬化樹脂ともいう）に対して 0.1〜10重量％含有され
ていることが好ましい。
クリロキシ基であることが好ましい。 前記反応性シリ
コーンは、前記紫外線または電子線硬化樹脂（以下、単
に硬化樹脂ともいう）に対して 0.1〜10重量％含有され
ていることが好ましい。
【００１５】前記保護膜の膜厚は、5μm以下であること
が好ましい。前記保護膜中には、0.1μmから2μmの粒径
を有する無機または有機の白色粒子が前記硬化樹脂に対
して5重量％から100重量％の範囲で含有されていること
が好ましい。
が好ましい。前記保護膜中には、0.1μmから2μmの粒径
を有する無機または有機の白色粒子が前記硬化樹脂に対
して5重量％から100重量％の範囲で含有されていること
が好ましい。
【００１６】前記保護膜と前記蛍光体層との間には樹脂
フィルムが設けられていてもよく、前記樹脂フイルム
は、ポリエチレンテレフタレートフイルムであることが
好ましく、厚みは 1μmから12μmであることが好まし
い。前記保護膜は前記蛍光体層上に直接設けられていて
もよい。
フィルムが設けられていてもよく、前記樹脂フイルム
は、ポリエチレンテレフタレートフイルムであることが
好ましく、厚みは 1μmから12μmであることが好まし
い。前記保護膜は前記蛍光体層上に直接設けられていて
もよい。
【００１７】
【発明の効果】本発明の放射線発光パネルは、保護膜
を、紫外線または電子線硬化樹脂と、紫外線または電子
線硬化樹脂と反応可能な官能基を末端に１つ以上有し、
かつ数平均分子量が 5000から20000の反応性シリコーン
とを含み、この保護膜を紫外線または電子線の照射によ
って硬化させたので、搬送耐久性、防汚性、防傷性に優
れた放射線発光パネルとすることができる。
を、紫外線または電子線硬化樹脂と、紫外線または電子
線硬化樹脂と反応可能な官能基を末端に１つ以上有し、
かつ数平均分子量が 5000から20000の反応性シリコーン
とを含み、この保護膜を紫外線または電子線の照射によ
って硬化させたので、搬送耐久性、防汚性、防傷性に優
れた放射線発光パネルとすることができる。
【００１８】すなわち、従来の膜内で分子結合を構成し
ていない保護膜や、紫外線を照射して硬化されていない
保護膜では、保護膜表面が繰り返し他の物体表面と接触
する結果、オリゴマーが保護膜から削り取られる等で徐
々に減少してしまい、表面に汚れが付着したり、スリキ
ズが付き易くなり、最終的に得られる放射線像の劣化あ
るいは、放射線像に関する画像情報の質の低下をもたら
すといったことが見受けられるが、本発明の放射線発光
パネルの保護膜は、硬化樹脂と、この硬化樹脂と反応可
能な官能基を末端に１つ以上有する反応性シリコーンと
を含み、この保護膜を紫外線または電子線の照射によっ
て硬化しているので、保護膜内で硬化樹脂と反応性シリ
コーンが分子結合を構成し、保護膜から硬化樹脂が削り
取られることを防止することができ、搬送耐久性、防傷
性に優れた放射線発光パネルとすることが可能となる。
ていない保護膜や、紫外線を照射して硬化されていない
保護膜では、保護膜表面が繰り返し他の物体表面と接触
する結果、オリゴマーが保護膜から削り取られる等で徐
々に減少してしまい、表面に汚れが付着したり、スリキ
ズが付き易くなり、最終的に得られる放射線像の劣化あ
るいは、放射線像に関する画像情報の質の低下をもたら
すといったことが見受けられるが、本発明の放射線発光
パネルの保護膜は、硬化樹脂と、この硬化樹脂と反応可
能な官能基を末端に１つ以上有する反応性シリコーンと
を含み、この保護膜を紫外線または電子線の照射によっ
て硬化しているので、保護膜内で硬化樹脂と反応性シリ
コーンが分子結合を構成し、保護膜から硬化樹脂が削り
取られることを防止することができ、搬送耐久性、防傷
性に優れた放射線発光パネルとすることが可能となる。
【００１９】また、数平均分子量が 5000から20000の反
応性シリコーンを有するので、防汚性に優れた放射線発
光パネルとすることができ、放射線像に関する画像情報
の質の低下を抑制することができる。
応性シリコーンを有するので、防汚性に優れた放射線発
光パネルとすることができ、放射線像に関する画像情報
の質の低下を抑制することができる。
【００２０】なお、紫外線または電子線硬化樹脂が有す
る硬化性官能基がビニル基またはアクリレート基である
場合や、反応性シリコーンの末端官能基がメタクリロキ
シ基である場合には、硬化樹脂と反応性シリコーンとの
分子結合がより強くなるので、搬送耐久性、防傷性をよ
り向上させることが可能となり、反応性シリコーンが硬
化樹脂に対して 0.1〜10重量％含有されている場合に
は、上記の防汚性の効果をより高めることができる。
る硬化性官能基がビニル基またはアクリレート基である
場合や、反応性シリコーンの末端官能基がメタクリロキ
シ基である場合には、硬化樹脂と反応性シリコーンとの
分子結合がより強くなるので、搬送耐久性、防傷性をよ
り向上させることが可能となり、反応性シリコーンが硬
化樹脂に対して 0.1〜10重量％含有されている場合に
は、上記の防汚性の効果をより高めることができる。
【００２１】また、保護膜の膜厚を5μm以下とする場合
には、画像の鮮鋭度が低下しにくくなる。
には、画像の鮮鋭度が低下しにくくなる。
【００２２】さらにまた、保護膜中に、0.1μmから2μm
の粒径を有する無機または有機の白色粒子を、硬化樹脂
に対して5重量％から100重量％の範囲で含有させること
により、保護膜のニジムラを抑制し、耐久性をより向上
させることができるので放射線発光パネルの画質の劣化
を防止することができる。
の粒径を有する無機または有機の白色粒子を、硬化樹脂
に対して5重量％から100重量％の範囲で含有させること
により、保護膜のニジムラを抑制し、耐久性をより向上
させることができるので放射線発光パネルの画質の劣化
を防止することができる。
【００２３】なお、保護膜を蛍光体層上に直接設ける場
合には、発光性のよい放射線発光パネルとすることがで
きる。また、前記保護膜と前記蛍光体層との間に透明フ
ィルムが設けられている場合には、より耐久性の優れた
放射線発光パネルとすることができる。なお、樹脂フィ
ルムとして、ポリエチレンテレフタレートフイルムを用
いる場合や、その厚みを 1μmから12μmとする場合に
は、さらに耐久性の向上が期待できる。
合には、発光性のよい放射線発光パネルとすることがで
きる。また、前記保護膜と前記蛍光体層との間に透明フ
ィルムが設けられている場合には、より耐久性の優れた
放射線発光パネルとすることができる。なお、樹脂フィ
ルムとして、ポリエチレンテレフタレートフイルムを用
いる場合や、その厚みを 1μmから12μmとする場合に
は、さらに耐久性の向上が期待できる。
【００２４】なお、本発明は輝尽性でない蛍光体を用い
て透過放射線を可視光および／または紫外放射線に変換
するためのパネル、例えばＸ線写真用増感スクリーン等
の蛍光体層の強度や耐久性の向上にも有用であるが、輝
尽性蛍光体を用いた放射線像変換パネルにおいて極めて
有用である。
て透過放射線を可視光および／または紫外放射線に変換
するためのパネル、例えばＸ線写真用増感スクリーン等
の蛍光体層の強度や耐久性の向上にも有用であるが、輝
尽性蛍光体を用いた放射線像変換パネルにおいて極めて
有用である。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。なお、蛍光体層が自己支持
性がある場合には支持体は必要とされないが、本実施の
形態では放射線発光パネルの一般的な構成である蛍光体
層と支持体と保護膜を有する放射線発光パネルを例にと
って説明する。
施の形態について説明する。なお、蛍光体層が自己支持
性がある場合には支持体は必要とされないが、本実施の
形態では放射線発光パネルの一般的な構成である蛍光体
層と支持体と保護膜を有する放射線発光パネルを例にと
って説明する。
【００２６】図１は本発明の第一の実施の形態を示す放
射線発光パネルの一部断面図である。図１に示すよう
に、本発明の放射線発光パネル10は、支持体11の上に蛍
光体層12が積層され、蛍光体層12の上にさらに保護膜13
が積層されたものである。
射線発光パネルの一部断面図である。図１に示すよう
に、本発明の放射線発光パネル10は、支持体11の上に蛍
光体層12が積層され、蛍光体層12の上にさらに保護膜13
が積層されたものである。
【００２７】なお、図示はしていないが、放射線発光パ
ネルの端部は、蛍光体層の吸湿や放射線発光パネルに強
度を与えるため縁貼がされていることが好ましい。
ネルの端部は、蛍光体層の吸湿や放射線発光パネルに強
度を与えるため縁貼がされていることが好ましい。
【００２８】次に本発明の放射線発光パネルの各層につ
いて、蛍光体層、支持体、保護膜の順にさらに詳細に説
明する。まず、本発明の放射線発光パネルの蛍光体層の
蛍光体が輝尽性蛍光体である場合について述べる。輝尽
性蛍光体は、先に述べたように放射線を照射した後、励
起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用
的な面からは波長が400〜900nmの範囲にある励起光によ
って300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であ
ることが望ましい。本発明の放射線像変換パネルに用い
られる輝尽性蛍光体の例としては、特公平7-84588号等
に記載されている。
いて、蛍光体層、支持体、保護膜の順にさらに詳細に説
明する。まず、本発明の放射線発光パネルの蛍光体層の
蛍光体が輝尽性蛍光体である場合について述べる。輝尽
性蛍光体は、先に述べたように放射線を照射した後、励
起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用
的な面からは波長が400〜900nmの範囲にある励起光によ
って300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であ
ることが望ましい。本発明の放射線像変換パネルに用い
られる輝尽性蛍光体の例としては、特公平7-84588号等
に記載されている。
【００２９】一般式 (M1-f・Mf I)X・bMIIIX3″:cA（Ｉ）
で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点
から一般式（Ｉ）における ＭＩとしては、Rb，Csおよ
び／またはCsを含有したNa、同Ｋが好ましく、特にRbお
よびCsから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好
ましい。ＭIII としてはＹ，La，Lu，Al，GaおよびInか
ら選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。Ｘ″
としては、Ｆ，ClおよびBrから選ばれる少なくとも一種
のハロゲンが好ましい。MIIIX3″の含有率を表すｂ値は
０≦ｂ≦10-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点
から一般式（Ｉ）における ＭＩとしては、Rb，Csおよ
び／またはCsを含有したNa、同Ｋが好ましく、特にRbお
よびCsから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好
ましい。ＭIII としてはＹ，La，Lu，Al，GaおよびInか
ら選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。Ｘ″
としては、Ｆ，ClおよびBrから選ばれる少なくとも一種
のハロゲンが好ましい。MIIIX3″の含有率を表すｂ値は
０≦ｂ≦10-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
【００３０】一般式（Ｉ）において、賦活剤Ａとしては
Eu，Tb，Ce，Tm，Dy，Ho，Gd，Sm，TlおよびNaから選ば
れる少なくとも一種の金属が好ましく、特にEu，Ce，S
m，TlおよびNaから選ばれる少なくとも一種の金属が好
ましい。また、賦活剤の量を表すＣ値は10-6＜Ｃ＜0.1
の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好まし
い。
Eu，Tb，Ce，Tm，Dy，Ho，Gd，Sm，TlおよびNaから選ば
れる少なくとも一種の金属が好ましく、特にEu，Ce，S
m，TlおよびNaから選ばれる少なくとも一種の金属が好
ましい。また、賦活剤の量を表すＣ値は10-6＜Ｃ＜0.1
の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好まし
い。
【００３１】また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いる
ことができる。米国特許第3,859,527号明細書に記載さ
れているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO2:Er、およびLa2O2
S:Eu,Sm、
ことができる。米国特許第3,859,527号明細書に記載さ
れているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO2:Er、およびLa2O2
S:Eu,Sm、
【００３２】特開昭55-12142号に記載されている ZnS:C
u,Pb、BaO・xAl2O3:Eu（ただし、0.8≦ｘ≦10）、およ
び、MIIO・xSiO2 :A（ただし、MIIはMg，Ca，Sr，Zn，C
d、またはBaであり、ＡはCe，Tb，Eu，Tm，Pb，Tl，Bi
またはMnであり、ｘは0.5≦x≦2.5である）、
u,Pb、BaO・xAl2O3:Eu（ただし、0.8≦ｘ≦10）、およ
び、MIIO・xSiO2 :A（ただし、MIIはMg，Ca，Sr，Zn，C
d、またはBaであり、ＡはCe，Tb，Eu，Tm，Pb，Tl，Bi
またはMnであり、ｘは0.5≦x≦2.5である）、
【００３３】特開昭55-12143号に記載されている (Ba
1-X-y ,MgX ,Cay )FX:aEu2+（ただし、X はClおよびBrの
うちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙは、０＜x+y
≦0.6、かつxy≠０であり、ａは、10-6≦ａ≦5×10-2で
ある）、
1-X-y ,MgX ,Cay )FX:aEu2+（ただし、X はClおよびBrの
うちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙは、０＜x+y
≦0.6、かつxy≠０であり、ａは、10-6≦ａ≦5×10-2で
ある）、
【００３４】特開昭55-12144号に記載されている LnOX:
xA（ただし、LnはLa，Ｙ，Gd、およびLuのうちの少なく
とも一種、XはClおよびBrのうちの少なくとも一種、Aは
CeおよびTbのうちの少なくとも一種、そして、ｘは、０
＜ｘ＜0.1である）、
xA（ただし、LnはLa，Ｙ，Gd、およびLuのうちの少なく
とも一種、XはClおよびBrのうちの少なくとも一種、Aは
CeおよびTbのうちの少なくとも一種、そして、ｘは、０
＜ｘ＜0.1である）、
【００３５】特開昭55-12145号に記載されている(B
a1-X,M2+ X)FX:yA（ただし、M2+はMg，Ca，Sr，Zn、およ
びCdのうちの少なくとも一種、ＸはCl，BrおよびＩのう
ちの少なくとも一種、ＡはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，H
o，Nd，YbおよびErのうちの少なくとも一種、そしてｘ
は０≦ｘ≦0.6、ｙは０≦ｙ≦0.2である）、
a1-X,M2+ X)FX:yA（ただし、M2+はMg，Ca，Sr，Zn、およ
びCdのうちの少なくとも一種、ＸはCl，BrおよびＩのう
ちの少なくとも一種、ＡはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，H
o，Nd，YbおよびErのうちの少なくとも一種、そしてｘ
は０≦ｘ≦0.6、ｙは０≦ｙ≦0.2である）、
【００３６】特開昭55-160078号に記載されているMIIFX
・xA:yLn（ただし、MIIはBa，Ca，Sr，Mg，ZnおよびCd
のうちの少なくとも一種、AはBeO，MgO，CaO，SrO，Ba
O，ZnO，Al2O3，Y2O3，La2O3，In2O3，SiO2，TiO2，ZrO
2，GeO2，SnO2，Nb2O5，Ta2O5およびThO2 のうちの少な
くとも一種、LnはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，Ho，Nd，Y
b，Er，SmおよびGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl，B
rおよびＩのうちの少なくとも一種であり、xおよびyは
それぞれ 5×10-5≦x≦0.5、および０＜y≦0.2である）
の組成式で表わされる蛍光体、
・xA:yLn（ただし、MIIはBa，Ca，Sr，Mg，ZnおよびCd
のうちの少なくとも一種、AはBeO，MgO，CaO，SrO，Ba
O，ZnO，Al2O3，Y2O3，La2O3，In2O3，SiO2，TiO2，ZrO
2，GeO2，SnO2，Nb2O5，Ta2O5およびThO2 のうちの少な
くとも一種、LnはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，Ho，Nd，Y
b，Er，SmおよびGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl，B
rおよびＩのうちの少なくとも一種であり、xおよびyは
それぞれ 5×10-5≦x≦0.5、および０＜y≦0.2である）
の組成式で表わされる蛍光体、
【００３７】特開昭56-116777号に記載されている(Ba
1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA（ただし、MIIはベリリウ
ム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａはジルコ
ニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であ
り、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ 0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦10-2
である）の組成式で表わされる蛍光体、
1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA（ただし、MIIはベリリウ
ム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａはジルコ
ニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であ
り、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ 0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦10-2
である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３８】特開昭57-23673号に記載されている(B
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zB（ただし、M II はベリリウ
ム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、
ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦
１、10-6≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦10-2である）
の組成式で表わされる蛍光体、
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zB（ただし、M II はベリリウ
ム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、
ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦
１、10-6≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦10-2である）
の組成式で表わされる蛍光体、
【００３９】特開昭57-23675号に記載されている(B
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA（ただし、MIIはベリリウ
ム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素お
よび硅素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、
およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10-6
≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦5×10-1である）の組成
式で表わされる蛍光体、
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA（ただし、MIIはベリリウ
ム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素お
よび硅素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、
およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10-6
≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦5×10-1である）の組成
式で表わされる蛍光体、
【００４０】特開昭58-69281号に記載されている MIIIO
X:xCe（ただし、MIIIはPr，Nd，Pm，Sm，Eu，Tb，Dy，H
o，Er，Tm，YbおよびBiからなる群より選ばれる少なく
とも一種の三価金属であり、ＸはClおよびBrのうちのい
ずれか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜0.1
である）の組成式で表わされる蛍光体、
X:xCe（ただし、MIIIはPr，Nd，Pm，Sm，Eu，Tb，Dy，H
o，Er，Tm，YbおよびBiからなる群より選ばれる少なく
とも一種の三価金属であり、ＸはClおよびBrのうちのい
ずれか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜0.1
である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４１】特開昭58-206678号に記載されているBa1-X
MX/2ＬX/2FX:yEu2+（ただし、ＭはLi，Na，Ｋ，Rbおよ
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属を表わし；Lは、Sc，Ｙ，La，Ce，Pr，Nd，Pm，S
m，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb，Lu，Al，Ga，Inおよ
びTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
を表わし；X は、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、ｘは10
-2≦ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.1である）の組成式で表わ
される蛍光体、
MX/2ＬX/2FX:yEu2+（ただし、ＭはLi，Na，Ｋ，Rbおよ
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属を表わし；Lは、Sc，Ｙ，La，Ce，Pr，Nd，Pm，S
m，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb，Lu，Al，Ga，Inおよ
びTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
を表わし；X は、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、ｘは10
-2≦ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.1である）の組成式で表わ
される蛍光体、
【００４２】特開昭59-27980号に記載のBaFX・xA:yEu2+
（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフルオ
ロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6 ≦
ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わさ
れる蛍光体、
（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフルオ
ロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6 ≦
ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わさ
れる蛍光体、
【００４３】特開昭59-47289号に記載されているBaFX・x
A:yEu2+（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、ヘキ
サフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘキ
サフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩
からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6≦ｘ
≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わされ
る蛍光体、
A:yEu2+（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、ヘキ
サフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘキ
サフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩
からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6≦ｘ
≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わされ
る蛍光体、
【００４４】特開昭59-56479号に記載されているBaFX・x
NaX′:aEu2+（ただし、XおよびX′は、それぞれCl、B
r、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよび
ａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦0.2である）
の組成式で表わされる蛍光体、
NaX′:aEu2+（ただし、XおよびX′は、それぞれCl、B
r、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよび
ａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦0.2である）
の組成式で表わされる蛍光体、
【００４５】特開昭59-56480号に記載されているMIIFX
・xNaX′:yEu2+:zA（ただし、MIIは、Ba，SrおよびCaか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり；X およびX′は、それぞれCl，BrおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;Aは、Ｖ，Cr，Mn，Fe，CoおよびNiより選ばれる少な
くとも一種の遷移金属であり;そして、ｘは０＜ｘ≦
２、ｙは０＜ｙ≦0.2、およびｚは０＜ｚ≦10-2であ
る）の組成式で表わされる蛍光体、
・xNaX′:yEu2+:zA（ただし、MIIは、Ba，SrおよびCaか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり；X およびX′は、それぞれCl，BrおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;Aは、Ｖ，Cr，Mn，Fe，CoおよびNiより選ばれる少な
くとも一種の遷移金属であり;そして、ｘは０＜ｘ≦
２、ｙは０＜ｙ≦0.2、およびｚは０＜ｚ≦10-2であ
る）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４６】特開昭59-75200号に記載されている MIIFX
・aMIX′・bM′IIX″2・cMIIIX3・xA:yEu2+（ただし、MII
はBa，SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一
種のアルカリ土類金属であり；MI はLi，Na，Ｋ，Rbお
よびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり;M′IIはBeおよびMgからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の二価金属であり;MIII はAl，Ga，In
およびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価
金属であり；Aは金属酸化物であり；XはCl，BrおよびＩ
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；X′，X″および Xは、Ｆ，Cl，BrおよびＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そし
て、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦10-2、ｃは０≦ｃ≦
10-2、かつa+b+c≧10-6 であり；x は０＜ｘ≦0.5、ｙ
は０＜ｙ≦0.2 である）の組成式で表わされる蛍光体、
・aMIX′・bM′IIX″2・cMIIIX3・xA:yEu2+（ただし、MII
はBa，SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一
種のアルカリ土類金属であり；MI はLi，Na，Ｋ，Rbお
よびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり;M′IIはBeおよびMgからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の二価金属であり;MIII はAl，Ga，In
およびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価
金属であり；Aは金属酸化物であり；XはCl，BrおよびＩ
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；X′，X″および Xは、Ｆ，Cl，BrおよびＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そし
て、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦10-2、ｃは０≦ｃ≦
10-2、かつa+b+c≧10-6 であり；x は０＜ｘ≦0.5、ｙ
は０＜ｙ≦0.2 である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４７】特開昭60-84381号に記載されている MII X
2・aMIIX′2:xEu2+（ただし、MIIはBa，Srおよび Caか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり；XおよびX′はCl，BrおよびＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつ X≠
X′であり；そしてａは0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜ｘ≦0.
2である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
2・aMIIX′2:xEu2+（ただし、MIIはBa，Srおよび Caか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり；XおよびX′はCl，BrおよびＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつ X≠
X′であり；そしてａは0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜ｘ≦0.
2である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００４８】特開昭60-101173号に記載されているMIIFX
・aMI X′:xEu2+（ただし、MII はBa，SrおよびCaから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属
であり；MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属であり;XはCl，BrおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；X′はＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａおよびｘは
それぞれ０≦ａ≦4.0および０＜ｘ≦0.2である）の組成
式で表わされる輝尽性蛍光体、
・aMI X′:xEu2+（ただし、MII はBa，SrおよびCaから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属
であり；MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属であり;XはCl，BrおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；X′はＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａおよびｘは
それぞれ０≦ａ≦4.0および０＜ｘ≦0.2である）の組成
式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００４９】特開昭62-25189号に記載されているMI X:x
Bi（ ただし、MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり；X はCl，Brおよ
びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であり；そしてxは0＜x≦0.2の範囲の数値である）の組
成式で表わされる輝尽性蛍光体、
Bi（ ただし、MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり；X はCl，Brおよ
びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であり；そしてxは0＜x≦0.2の範囲の数値である）の組
成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００５０】特開平2-229882号に記載のLnOX:xCe（但
し、LnはLa，Ｙ，GdおよびLuのうちの少なくとも一つ、
ＸはCl，BrおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは0＜x
≦0.2であり、LnとＸとの比率が原子比で0.500＜X/Ln≦
0.998であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λ
が550nm＜λ＜700nm）で表わされるセリウム賦活希土類
オキシハロゲン化物蛍光体、などをあげることができ
る。
し、LnはLa，Ｙ，GdおよびLuのうちの少なくとも一つ、
ＸはCl，BrおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは0＜x
≦0.2であり、LnとＸとの比率が原子比で0.500＜X/Ln≦
0.998であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λ
が550nm＜λ＜700nm）で表わされるセリウム賦活希土類
オキシハロゲン化物蛍光体、などをあげることができ
る。
【００５１】また、上記特開昭60-84381号に記載されて
いるMIIX2・aMIIX′2:xEu2+輝尽性蛍光体には、以下に
示すような添加物がMIIX2・aMIIX′2 1モル当り以下の割
合で含まれていてもよい。
いるMIIX2・aMIIX′2:xEu2+輝尽性蛍光体には、以下に
示すような添加物がMIIX2・aMIIX′2 1モル当り以下の割
合で含まれていてもよい。
【００５２】特開昭60−166379号に記載されているbM
IX″（ただし、MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり、X″はＦ，Cl，B
rおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦10.0である）；特開
昭60-221483号に記載されているbKX″・cMgX2 ・dM
III X′3（ただし、MIII はSc，Ｙ，La，Gdおよび Luか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り、X″、X およびX′はいずれもＦ，Cl，BrおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦2.0、
０≦ｃ≦2.0、０≦ｄ≦2.0であって、かつ2×10-5≦b+c
+dである）;特開昭60-228592号に記載されている yB
（ただし、yは2×10-4≦ｙ≦2×10-1である）;特開昭60
-228593号に記載されている bA（ただし、AはSiO 2 およ
びP2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物
であり、そしてbは10-4 ≦b≦2×10-1 である）;特開昭
61−120883号に記載されているbSiO（ただし、bは0＜b
≦3×10-2 である）;特開昭61−120885号に記載されて
いるbSnX″2 （ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そ
してbは０＜ｂ≦10-3である）；特開昭61-235486号に記
載されているbCsX″・cSnX2 （ただし、X″およびX はそ
れぞれＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれ
ぞれ、０＜ｂ≦10.0 および10-6≦ｃ≦2×10-2であ
る）；および特開昭61-235487号に記載されているbCs
X″・yLn3+（ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、Lnは
Sc，Ｙ，Ce，Pr，Nd，Sm，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土
類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦
10.0および10 -6≦ｙ≦1.8×10-1である）。
IX″（ただし、MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり、X″はＦ，Cl，B
rおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦10.0である）；特開
昭60-221483号に記載されているbKX″・cMgX2 ・dM
III X′3（ただし、MIII はSc，Ｙ，La，Gdおよび Luか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り、X″、X およびX′はいずれもＦ，Cl，BrおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦2.0、
０≦ｃ≦2.0、０≦ｄ≦2.0であって、かつ2×10-5≦b+c
+dである）;特開昭60-228592号に記載されている yB
（ただし、yは2×10-4≦ｙ≦2×10-1である）;特開昭60
-228593号に記載されている bA（ただし、AはSiO 2 およ
びP2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物
であり、そしてbは10-4 ≦b≦2×10-1 である）;特開昭
61−120883号に記載されているbSiO（ただし、bは0＜b
≦3×10-2 である）;特開昭61−120885号に記載されて
いるbSnX″2 （ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そ
してbは０＜ｂ≦10-3である）；特開昭61-235486号に記
載されているbCsX″・cSnX2 （ただし、X″およびX はそ
れぞれＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれ
ぞれ、０＜ｂ≦10.0 および10-6≦ｃ≦2×10-2であ
る）；および特開昭61-235487号に記載されているbCs
X″・yLn3+（ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、Lnは
Sc，Ｙ，Ce，Pr，Nd，Sm，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土
類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦
10.0および10 -6≦ｙ≦1.8×10-1である）。
【００５３】上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロ
ピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体およ
びセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体は高輝
度の輝尽発光を示すので特に好ましい。ただし、本発明
に用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるも
のではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した
場合に輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであ
ってもよい。
ピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体およ
びセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体は高輝
度の輝尽発光を示すので特に好ましい。ただし、本発明
に用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるも
のではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した
場合に輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであ
ってもよい。
【００５４】ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体
は上述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射
したのちに励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光
体であれば特に限定されるものではない。
は上述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射
したのちに励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光
体であれば特に限定されるものではない。
【００５５】また、本発明の放射線発光パネルが、輝尽
性ではない蛍光体を用いて透過性放射線を可視光および
／または紫外放射線に変換するためのパネル、たとえば
放射線増感スクリーンの場合、これに使用される蛍光体
としては、タングステン酸塩系蛍光体（CaWO4 、MgW
O4 、CaWO4 :Pbなど）、テルビウム賦活希土類酸硫化物
系蛍光体（Y2O2S:Tb、Gd2O2S:Tb、La2O2S:Tb、(Y,Gd)2O
2S:Tb、(Y,Gd)O2 S:Tb,Tmなど）、テルビウム賦活希土
類リン酸塩系蛍光体（YPO4 :Tb、GdPO4 :Tb、LaPO4 :Tb
など）、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体（LaOBr:Tb、LaOBr:Tb,Tm、LaOCl:Tb、LaOCl:Tb,T
m、LaOCl:Tb,Tm、LaOBr:Tb、GdOBr:Tb、GdOCl:Tbな
ど）、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体
（LaOBr:Tm、LaOCl:Tmなど）、硫酸バリウム系蛍光体
（BaSO4 :Pb、BaSO4 :Eu2+、(Ba,Sr)SO4 :Eu2+など）、
２価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属リン酸塩系蛍
光体(Ba3 (PO4)2:Eu2+、Ba3(PO4)2 :Eu2+など）、２価の
ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物
系蛍光体（BaFCl:EU2+、BaFBr:Eu2+,BaFCl:EU2+,Tb、Ba
FBr:Eu2+,Tb、BaF2 ・BaCl2 ・KCl:Eu2+、(Ba・Mg)F2・BaCl
2・KCl:Eu 2+など）、ヨウ化物系蛍光体（CsI:Na、CsI:T
l、NaI、KI:Tlなど）、硫化物系蛍光体（ZnS:Ag、(Zn,C
d)S:Ag、(Zn,Cd)S:Cu、(Zn,Cd)S:Cu,Alなど）、リン酸
ハフニウム系蛍光体（HfP2O7 :Cuなど）、タンタル酸塩
系蛍光体（YTaO4 、YTaO4 :Tm、YTaO4 :Nb、(Y,Sr)TaO
4-x :Nb、LuTaO4、LuTaO4 :Nb、(Lu,Sr)TaO4-x :Nb、Gd
TaO4 :Tm、Gd2O3・Ta2O5・B2O3:Tbなど）を好ましくあげ
ることができる。但し本発明に用いられる蛍光体はこれ
らに限定されるものではなく、放射線の照射によって可
視または近紫外領域の発光を示す蛍光体であれば使用す
ることができる。
性ではない蛍光体を用いて透過性放射線を可視光および
／または紫外放射線に変換するためのパネル、たとえば
放射線増感スクリーンの場合、これに使用される蛍光体
としては、タングステン酸塩系蛍光体（CaWO4 、MgW
O4 、CaWO4 :Pbなど）、テルビウム賦活希土類酸硫化物
系蛍光体（Y2O2S:Tb、Gd2O2S:Tb、La2O2S:Tb、(Y,Gd)2O
2S:Tb、(Y,Gd)O2 S:Tb,Tmなど）、テルビウム賦活希土
類リン酸塩系蛍光体（YPO4 :Tb、GdPO4 :Tb、LaPO4 :Tb
など）、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体（LaOBr:Tb、LaOBr:Tb,Tm、LaOCl:Tb、LaOCl:Tb,T
m、LaOCl:Tb,Tm、LaOBr:Tb、GdOBr:Tb、GdOCl:Tbな
ど）、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体
（LaOBr:Tm、LaOCl:Tmなど）、硫酸バリウム系蛍光体
（BaSO4 :Pb、BaSO4 :Eu2+、(Ba,Sr)SO4 :Eu2+など）、
２価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属リン酸塩系蛍
光体(Ba3 (PO4)2:Eu2+、Ba3(PO4)2 :Eu2+など）、２価の
ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物
系蛍光体（BaFCl:EU2+、BaFBr:Eu2+,BaFCl:EU2+,Tb、Ba
FBr:Eu2+,Tb、BaF2 ・BaCl2 ・KCl:Eu2+、(Ba・Mg)F2・BaCl
2・KCl:Eu 2+など）、ヨウ化物系蛍光体（CsI:Na、CsI:T
l、NaI、KI:Tlなど）、硫化物系蛍光体（ZnS:Ag、(Zn,C
d)S:Ag、(Zn,Cd)S:Cu、(Zn,Cd)S:Cu,Alなど）、リン酸
ハフニウム系蛍光体（HfP2O7 :Cuなど）、タンタル酸塩
系蛍光体（YTaO4 、YTaO4 :Tm、YTaO4 :Nb、(Y,Sr)TaO
4-x :Nb、LuTaO4、LuTaO4 :Nb、(Lu,Sr)TaO4-x :Nb、Gd
TaO4 :Tm、Gd2O3・Ta2O5・B2O3:Tbなど）を好ましくあげ
ることができる。但し本発明に用いられる蛍光体はこれ
らに限定されるものではなく、放射線の照射によって可
視または近紫外領域の発光を示す蛍光体であれば使用す
ることができる。
【００５６】以下、ここでは、蛍光体層が輝尽性蛍光体
である放射線像変換パネルについて説明する。
である放射線像変換パネルについて説明する。
【００５７】蛍光体層に用いられる結合剤としては、常
温で弾力を持ち、加熱されると流動性を持つようになる
熱可塑性エラストマーが好適に用いられる。熱可塑性エ
ラストマーとしては、ポリスチレン、ポリオレフィン、
ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリブタジ
エン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、天然ゴ
ム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチレ
ン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコンゴムなどを好
ましくあげることができる。
温で弾力を持ち、加熱されると流動性を持つようになる
熱可塑性エラストマーが好適に用いられる。熱可塑性エ
ラストマーとしては、ポリスチレン、ポリオレフィン、
ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリブタジ
エン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、天然ゴ
ム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチレ
ン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコンゴムなどを好
ましくあげることができる。
【００５８】上記の熱可塑性エラストマーは、軟化温度
または融点が 30℃〜300℃であるものが一般的に用いら
れるが、30℃〜200℃ のものを用いることが好ましく、
30℃〜150℃のものを用いることがより好ましい。
または融点が 30℃〜300℃であるものが一般的に用いら
れるが、30℃〜200℃ のものを用いることが好ましく、
30℃〜150℃のものを用いることがより好ましい。
【００５９】また、紫外線または電子線硬化型の樹脂を
使用して紫外線または電子線で乾燥・硬化することもで
きる。紫外線または電子線硬化の樹脂としては、後述す
る縁貼層に使用する樹脂を用いることができるが、この
場合、縁貼層と同じ樹脂を用いてもよいし、異なる樹脂
を用いてもよい。
使用して紫外線または電子線で乾燥・硬化することもで
きる。紫外線または電子線硬化の樹脂としては、後述す
る縁貼層に使用する樹脂を用いることができるが、この
場合、縁貼層と同じ樹脂を用いてもよいし、異なる樹脂
を用いてもよい。
【００６０】上記結合剤を蛍光体、溶剤とともに充分に
混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した
塗布液を調製する。
混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した
塗布液を調製する。
【００６１】溶剤としては、メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコ
ールなどの低級アルコール；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、な
どのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど
の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル；エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、などのエーテル；ト
ルエン、キシレン、シクロヘキサン、などの炭化水素；
および、それらの混合物をあげることができる。
ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコ
ールなどの低級アルコール；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、な
どのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど
の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル；エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、などのエーテル；ト
ルエン、キシレン、シクロヘキサン、などの炭化水素；
および、それらの混合物をあげることができる。
【００６２】塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との
混合比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光
体の種類などによって異なるが、一般には結合剤と蛍光
体との混合比は、1:1〜1:100（重量比）の範囲から選ば
れ、 1:8〜1:40（重量比）の範囲から選ぶのがより好ま
しい。
混合比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光
体の種類などによって異なるが、一般には結合剤と蛍光
体との混合比は、1:1〜1:100（重量比）の範囲から選ば
れ、 1:8〜1:40（重量比）の範囲から選ぶのがより好ま
しい。
【００６３】なお、蛍光体層は、発光量やノイズなど画
質を比較的制御しやすく、機械的強度を高めることが容
易なことから、蛍光体を結合剤中に分散させた蛍光体層
が最も多く使用されているが、結合剤を含まないで輝尽
性蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、あるいは輝
尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されてい
る蛍光体層などであってもよい。
質を比較的制御しやすく、機械的強度を高めることが容
易なことから、蛍光体を結合剤中に分散させた蛍光体層
が最も多く使用されているが、結合剤を含まないで輝尽
性蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、あるいは輝
尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されてい
る蛍光体層などであってもよい。
【００６４】以下、ここでは、蛍光体層が輝尽性蛍光体
とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからなる場合
を例にとり、放射線像変換パネルを製造する方法につい
て順を追って説明する。
とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからなる場合
を例にとり、放射線像変換パネルを製造する方法につい
て順を追って説明する。
【００６５】蛍光体層は、次のような公知の方法により
支持体上に形成することができる。まず、輝尽性蛍光体
と結合剤とを溶剤に加え、これを充分に混合して、結合
剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製
する。次に、支持体の表面にこの塗布液を均一に塗布す
ることにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の
塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコータ
ー、ナイフコーターなどを用いることにより行なうこと
ができる。
支持体上に形成することができる。まず、輝尽性蛍光体
と結合剤とを溶剤に加え、これを充分に混合して、結合
剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製
する。次に、支持体の表面にこの塗布液を均一に塗布す
ることにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の
塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコータ
ー、ナイフコーターなどを用いることにより行なうこと
ができる。
【００６６】支持体としては、従来の放射線像変換パネ
ルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができ
る。また、支持体と蛍光体層の結合を強化するため、あ
るいは放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質
（鮮鋭度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子物質を
塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボ
ンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを
設けることが知られているが、本発明において用いられ
る支持体についても、これらの各種の層を設けることが
できる。それらの構成は所望の放射線像変換パネルの目
的、用途などに応じて任意に選択することができる。
ルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができ
る。また、支持体と蛍光体層の結合を強化するため、あ
るいは放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質
（鮮鋭度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子物質を
塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボ
ンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを
設けることが知られているが、本発明において用いられ
る支持体についても、これらの各種の層を設けることが
できる。それらの構成は所望の放射線像変換パネルの目
的、用途などに応じて任意に選択することができる。
【００６７】さらに特開昭58-200200号 に記載されてい
るように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、
支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍光体層側の表面
に接着性付与層、光反射層または光吸収層などが設けら
れている場合には、その表面を意味する）に微小凹凸が
形成されていてもよい。
るように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、
支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍光体層側の表面
に接着性付与層、光反射層または光吸収層などが設けら
れている場合には、その表面を意味する）に微小凹凸が
形成されていてもよい。
【００６８】上記のようにして支持体上に塗膜を形成し
たのち塗膜を乾燥して、支持体上への輝尽性蛍光体層の
形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体と
の混合比などによって異なり、20μm〜１mm程度とする
のが一般的であるが、50μm〜500μmとすることがより
好ましい。
たのち塗膜を乾燥して、支持体上への輝尽性蛍光体層の
形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体と
の混合比などによって異なり、20μm〜１mm程度とする
のが一般的であるが、50μm〜500μmとすることがより
好ましい。
【００６９】なお、輝尽性蛍光体層は、必ずしも上記の
ように支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要は
なく、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチッ
クシ−トなどのシ−ト上に塗布液を塗布し乾燥すること
により蛍光体層を形成したのち、これを、支持体上に押
圧するか、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍
光体層とを接合してもよい。
ように支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要は
なく、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチッ
クシ−トなどのシ−ト上に塗布液を塗布し乾燥すること
により蛍光体層を形成したのち、これを、支持体上に押
圧するか、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍
光体層とを接合してもよい。
【００７０】保護膜は、紫外線または電子線硬化樹脂
と、この紫外線または電子線硬化樹脂と反応可能な官能
基を末端に１つ以上有し、かつ数平均分子量が 5000か
ら20000の反応性シリコーンとを含むものである。紫外
線または電子線硬化樹脂が有する硬化性官能基は、ビニ
ル基またはアクリレート基であることが好ましく、反応
性シリコーンの末端官能基はメタクリロキシ基であるこ
とが好ましい。
と、この紫外線または電子線硬化樹脂と反応可能な官能
基を末端に１つ以上有し、かつ数平均分子量が 5000か
ら20000の反応性シリコーンとを含むものである。紫外
線または電子線硬化樹脂が有する硬化性官能基は、ビニ
ル基またはアクリレート基であることが好ましく、反応
性シリコーンの末端官能基はメタクリロキシ基であるこ
とが好ましい。
【００７１】紫外線または電子線硬化性樹脂としては、
アクリレート系モノマー、アクリレート系オリゴマー、
カチオン重合系モノマー、カチオン重合系オリゴマーな
どを好ましく用いることができる。
アクリレート系モノマー、アクリレート系オリゴマー、
カチオン重合系モノマー、カチオン重合系オリゴマーな
どを好ましく用いることができる。
【００７２】紫外線または電子線硬化樹脂の具体例とし
ては、アイエスピー・ジャパン(株)製：ＲＡＰＩ−ＣＵ
ＲＥ・シリーズ、旭電化工業(株)製：アデカオプトマー
ＫＲＭ・シリーズ、荒川化学工業(株)製：ビームセット
・シリーズ、大阪有機化学工業(株)製：各種アクリレー
ト、共栄化学(株)製：ライトエステル、ライトアクリレ
ート、エポライト、エポキシエステル、ウレタンアクリ
レートの各シリーズ、サンノプコ(株)製：フォトマー・
シリーズ、ＪＳＲ(株)製：デソライトＳシリーズ、オプ
スターＪＬ、ＪＭ・シリーズ、昭和高分子(株)製：リポ
キシＳＰ・ＶＲシリーズ、新中村化学工業(株)製：ＮＫ
エステル、ＮＫオリゴ・シリーズ、第一工業製薬(株)
製：ニューフロンティア・シリーズ、ダイセル化学工業
(株)製：プラクセルＧ、サイクロマーＰ、エポリード
Ｄ、エポリードＰＢ、ダイマック、ＰＵＥの各シリー
ズ、ダイセル・ユーシービー(株)製：Ｅｂｅｃｒｙｌ、
Ｕｖｅｃｒｙｌ、セロサイド、ダイマックス、Ｕｖａｃ
ｕｒｅ、ＥＢの各シリーズ、ダイソー(株)製：ダイソー
ダップ、ダイソーイソダップの各シリーズ、大日本イン
キ化学工業(株)製：ＬＵＭＩＣＵＲＥ、ユニデックの各
シリーズ、東亞合成(株)製：アロニックスＭシリーズ、
東洋紡績(株)製：バイロキュアー・シリーズ、ナガセ化
成(株)製：デナコールアクリレート、日本化薬(株)製：
ＫＡＹＡＲＡＤ・シリーズ、日本合成化学(株)製：紫
光、コーポニールの各シリーズ、日本シイベルヘグナー
(株)製：アクチレン／Ａｃｔｉｌａｎｅ・シリーズ、日
本曹達(株)製：ＴＥシリーズ、日本油脂(株)製：ブレン
マー・シリーズ、根上工業(株)製：アートレジンＵＮ、
ＳＨの各シリーズ、日立化成工業(株)製：ヒタロイド・
シリーズ、三井化学(株)製：オレスターＲＡシリーズ、
三菱レイヨン(株)製：ダイヤビーム・シリーズ、ユニオ
ン・カーバイド日本(株)製：ＣＹＲＡＣＵＲＥ ＵＶＲ
・シリーズ、ビーエスエフジャパン(株)製：Ｌａｒｏｍ
ｅｒ、各種アクリレートの各シリーズ、Ｍｏｒｔｏｎ
Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ製：Ｕｖｉｔｈａｎｅシリ
ーズ等があげられる。
ては、アイエスピー・ジャパン(株)製：ＲＡＰＩ−ＣＵ
ＲＥ・シリーズ、旭電化工業(株)製：アデカオプトマー
ＫＲＭ・シリーズ、荒川化学工業(株)製：ビームセット
・シリーズ、大阪有機化学工業(株)製：各種アクリレー
ト、共栄化学(株)製：ライトエステル、ライトアクリレ
ート、エポライト、エポキシエステル、ウレタンアクリ
レートの各シリーズ、サンノプコ(株)製：フォトマー・
シリーズ、ＪＳＲ(株)製：デソライトＳシリーズ、オプ
スターＪＬ、ＪＭ・シリーズ、昭和高分子(株)製：リポ
キシＳＰ・ＶＲシリーズ、新中村化学工業(株)製：ＮＫ
エステル、ＮＫオリゴ・シリーズ、第一工業製薬(株)
製：ニューフロンティア・シリーズ、ダイセル化学工業
(株)製：プラクセルＧ、サイクロマーＰ、エポリード
Ｄ、エポリードＰＢ、ダイマック、ＰＵＥの各シリー
ズ、ダイセル・ユーシービー(株)製：Ｅｂｅｃｒｙｌ、
Ｕｖｅｃｒｙｌ、セロサイド、ダイマックス、Ｕｖａｃ
ｕｒｅ、ＥＢの各シリーズ、ダイソー(株)製：ダイソー
ダップ、ダイソーイソダップの各シリーズ、大日本イン
キ化学工業(株)製：ＬＵＭＩＣＵＲＥ、ユニデックの各
シリーズ、東亞合成(株)製：アロニックスＭシリーズ、
東洋紡績(株)製：バイロキュアー・シリーズ、ナガセ化
成(株)製：デナコールアクリレート、日本化薬(株)製：
ＫＡＹＡＲＡＤ・シリーズ、日本合成化学(株)製：紫
光、コーポニールの各シリーズ、日本シイベルヘグナー
(株)製：アクチレン／Ａｃｔｉｌａｎｅ・シリーズ、日
本曹達(株)製：ＴＥシリーズ、日本油脂(株)製：ブレン
マー・シリーズ、根上工業(株)製：アートレジンＵＮ、
ＳＨの各シリーズ、日立化成工業(株)製：ヒタロイド・
シリーズ、三井化学(株)製：オレスターＲＡシリーズ、
三菱レイヨン(株)製：ダイヤビーム・シリーズ、ユニオ
ン・カーバイド日本(株)製：ＣＹＲＡＣＵＲＥ ＵＶＲ
・シリーズ、ビーエスエフジャパン(株)製：Ｌａｒｏｍ
ｅｒ、各種アクリレートの各シリーズ、Ｍｏｒｔｏｎ
Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ製：Ｕｖｉｔｈａｎｅシリ
ーズ等があげられる。
【００７３】紫外線を照射して硬化させる場合には、こ
れらの樹脂とさらに、ラジカル系光重合開始剤、カチオ
ン系光重合開始剤、ラジカル系光重合促進剤、カチオン
系光重合促進剤等の光重合開始剤を併用させる。また、
光重合開始剤を用いた場合には、ベンゾキノン等の重合
禁止剤が併用されることもある。なお、電子線の照射に
より硬化させる場合には光重合開始剤は不要である。
れらの樹脂とさらに、ラジカル系光重合開始剤、カチオ
ン系光重合開始剤、ラジカル系光重合促進剤、カチオン
系光重合促進剤等の光重合開始剤を併用させる。また、
光重合開始剤を用いた場合には、ベンゾキノン等の重合
禁止剤が併用されることもある。なお、電子線の照射に
より硬化させる場合には光重合開始剤は不要である。
【００７４】光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、
オルソベンゾイル安息香酸メチル、イソプロピルチオキ
サントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチル
ケタール、α−ヒドロキシアルキルフェノン、α−アミ
ルアルキルフェノン、アシルフォスフィンオキサイド、
アルキルフェニルグリオキシレート、ジエトキシアセト
フェノンなどを好ましくあげることができる。
オルソベンゾイル安息香酸メチル、イソプロピルチオキ
サントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチル
ケタール、α−ヒドロキシアルキルフェノン、α−アミ
ルアルキルフェノン、アシルフォスフィンオキサイド、
アルキルフェニルグリオキシレート、ジエトキシアセト
フェノンなどを好ましくあげることができる。
【００７５】具体的には、旭電化工業(株)製：アデカオ
プトマーＳＰシリーズ、三新化学工業(株)製：サンエイ
ドＳＩシリーズ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(株)製：イルガキュア、ダロキュアの各シリーズ、日本
化薬(株)製：ＫＡＹＡＣＵＲＥシリーズ、ビーエスエフ
ジャパン(株)製：Ｌｕｃｉｒｉｎシリーズ等があげられ
る。
プトマーＳＰシリーズ、三新化学工業(株)製：サンエイ
ドＳＩシリーズ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(株)製：イルガキュア、ダロキュアの各シリーズ、日本
化薬(株)製：ＫＡＹＡＣＵＲＥシリーズ、ビーエスエフ
ジャパン(株)製：Ｌｕｃｉｒｉｎシリーズ等があげられ
る。
【００７６】保護膜に含有させる反応性シリコーンは、
好ましくは重合性ビニル基を有し（ビニル基含有シリコ
ーンマクロモノマー）、例えばジメチルポリシロキサン
骨格を有するものであり、紫外線または電子線照射によ
り硬化可能な官能基（例えば、ビニル基、メタクリロキ
シ基）を少なくとも一つ以上有するものであって、数平
均分子量が 5000〜20000の範囲にあるもの、より好まし
くは10000〜15000の範囲にあるものであることが望まし
い。
好ましくは重合性ビニル基を有し（ビニル基含有シリコ
ーンマクロモノマー）、例えばジメチルポリシロキサン
骨格を有するものであり、紫外線または電子線照射によ
り硬化可能な官能基（例えば、ビニル基、メタクリロキ
シ基）を少なくとも一つ以上有するものであって、数平
均分子量が 5000〜20000の範囲にあるもの、より好まし
くは10000〜15000の範囲にあるものであることが望まし
い。
【００７７】反応性シリコーンは両末端に紫外線または
電子線硬化可能な官能基を少なくとも１つ以上有する
か、片末端に２つ以上有するのが好ましく、さらに片末
端に紫外線または電子線硬化可能な官能基を２つ以上有
するものが好ましい。また、反応性シリコーンはパーフ
ルオロアルキル基を含んでいてもよい。
電子線硬化可能な官能基を少なくとも１つ以上有する
か、片末端に２つ以上有するのが好ましく、さらに片末
端に紫外線または電子線硬化可能な官能基を２つ以上有
するものが好ましい。また、反応性シリコーンはパーフ
ルオロアルキル基を含んでいてもよい。
【００７８】反応性シリコーン（シリコーンマクロモノ
マー）はチッソ(株)から商品名：サイラプレン・ＦＭ−
０７シリーズとして市販されているので、これを用いて
もよく、たとえば、ＦＭ−０７シリーズのメタクリロキ
シプロピル変性シリコーン
マー）はチッソ(株)から商品名：サイラプレン・ＦＭ−
０７シリーズとして市販されているので、これを用いて
もよく、たとえば、ＦＭ−０７シリーズのメタクリロキ
シプロピル変性シリコーン
【化１】 などを好ましく用いることができる。（化学式中のｍは
Mnが 5000〜20000になるような数を表す。） 上記の反応性シリコーンは、保護膜の硬化樹脂に対して
0.1〜20重量％の範囲で含まれていることが好ましく、
0.5〜10重量％ の範囲内で含まれていることがより好ま
しい。
Mnが 5000〜20000になるような数を表す。） 上記の反応性シリコーンは、保護膜の硬化樹脂に対して
0.1〜20重量％の範囲で含まれていることが好ましく、
0.5〜10重量％ の範囲内で含まれていることがより好ま
しい。
【００７９】さらに、保護膜中には、上記の他、放射線
像変換パネルの鮮鋭度向上のため、有機・無機の白色微
粉子が含まれていてもよい。微粉子の平均粒径は 0.1μ
m〜2μmの範囲にあるものが好ましく、0.3μm〜1.5μm
の範囲にあるものがより好ましい。これら微粉子の添加
量は、保護膜の硬化樹脂に対して1重量％〜100重量％ま
で、特に有機微粉子の場合は 5重量％〜40重量％、無機
微粉子の場合は10重量％〜100重量％ の量で含まれてい
ることが好ましい。また、保護膜には、必要に応じて着
色剤、黄変防止剤などが含有されていてもよい。
像変換パネルの鮮鋭度向上のため、有機・無機の白色微
粉子が含まれていてもよい。微粉子の平均粒径は 0.1μ
m〜2μmの範囲にあるものが好ましく、0.3μm〜1.5μm
の範囲にあるものがより好ましい。これら微粉子の添加
量は、保護膜の硬化樹脂に対して1重量％〜100重量％ま
で、特に有機微粉子の場合は 5重量％〜40重量％、無機
微粉子の場合は10重量％〜100重量％ の量で含まれてい
ることが好ましい。また、保護膜には、必要に応じて着
色剤、黄変防止剤などが含有されていてもよい。
【００８０】保護膜は、紫外線または電子線硬化型の樹
脂と反応性シリコーンと、必要により水酸基またはアミ
ノ基と反応する架橋剤とを含む保護膜形成材料塗布液
を、ドクターブレード、ディップコーター、スライドコ
ーター、エクストルージョンコーターなどの塗布手段を
用いてＰＥＴなどの透明支持体上に塗布し、溶剤を使用
した場合には溶剤を温風等で除去し、次いで紫外線また
は電子線を照射して塗膜を乾燥・硬化し保護膜を形成す
る。もちろん、この保護膜の形成は同時重層塗布によっ
て、蛍光体層の形成と同時に行なってもよい。保護膜の
層厚は、5μm以下であることが好ましい。5μmよりも厚
い場合には、画像の鮮鋭度が低下しやすくなる。
脂と反応性シリコーンと、必要により水酸基またはアミ
ノ基と反応する架橋剤とを含む保護膜形成材料塗布液
を、ドクターブレード、ディップコーター、スライドコ
ーター、エクストルージョンコーターなどの塗布手段を
用いてＰＥＴなどの透明支持体上に塗布し、溶剤を使用
した場合には溶剤を温風等で除去し、次いで紫外線また
は電子線を照射して塗膜を乾燥・硬化し保護膜を形成す
る。もちろん、この保護膜の形成は同時重層塗布によっ
て、蛍光体層の形成と同時に行なってもよい。保護膜の
層厚は、5μm以下であることが好ましい。5μmよりも厚
い場合には、画像の鮮鋭度が低下しやすくなる。
【００８１】保護膜の硬化は、紫外線硬化樹脂の場合
は、出力 50W/cm〜500W/cm程度の水銀ランプあるいはメ
タルハライドランプにより、0.01〜10秒程度照射するこ
とにより硬化する。電子線硬化樹脂の場合は、100kV〜1
000kV程度の加速電圧で0.001〜1秒程度照射することに
より硬化する。
は、出力 50W/cm〜500W/cm程度の水銀ランプあるいはメ
タルハライドランプにより、0.01〜10秒程度照射するこ
とにより硬化する。電子線硬化樹脂の場合は、100kV〜1
000kV程度の加速電圧で0.001〜1秒程度照射することに
より硬化する。
【００８２】紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂はどちら
を選択してもよいが、紫外線硬化樹脂を選択する場合
は、電子線硬化樹脂を選択した場合に比して硬化するた
めの照射時間が長くなるが、紫外線照射装置が小型で安
価でありため、新たな設備投資の負担が軽減される。
を選択してもよいが、紫外線硬化樹脂を選択する場合
は、電子線硬化樹脂を選択した場合に比して硬化するた
めの照射時間が長くなるが、紫外線照射装置が小型で安
価でありため、新たな設備投資の負担が軽減される。
【００８３】紫外線照射装置としては、(株)アーデル
製：Σ−Ｌｉｎｅ、アイグラフィックス(株)製：アイグ
ランデージ、アイキュアーの各シリーズ、岩崎電機(株)
製：アイＵＶキュアーシステム、ウシオ電機(株)製：ユ
ニキュアシステム・シリーズ、ケミテック(株)製：ＵＶ
Ｃ−シリーズ、(株)サンエイテック製：ＯＰＴＩＣＵＲ
Ｅ・シリーズ、東芝ライテック(株)製：トスキュア・シ
リーズなどを好ましく用いることができる。
製：Σ−Ｌｉｎｅ、アイグラフィックス(株)製：アイグ
ランデージ、アイキュアーの各シリーズ、岩崎電機(株)
製：アイＵＶキュアーシステム、ウシオ電機(株)製：ユ
ニキュアシステム・シリーズ、ケミテック(株)製：ＵＶ
Ｃ−シリーズ、(株)サンエイテック製：ＯＰＴＩＣＵＲ
Ｅ・シリーズ、東芝ライテック(株)製：トスキュア・シ
リーズなどを好ましく用いることができる。
【００８４】電子線照射装置としては、岩崎電機(株)
製：ＥＬＥＣＴＲＯＣＵＲＴＡＩＮ、ウシオ電機(株)
製：Ｍｉｎ−ＥＢ、住友重機械工業(株)製：ＷＩＰＬ、
東洋インキ製造(株)製：ライオキュア、日新ハイボルテ
ージ(株)製：ＥＰＳ・シリーズなどを好ましく用いるこ
とができる。
製：ＥＬＥＣＴＲＯＣＵＲＴＡＩＮ、ウシオ電機(株)
製：Ｍｉｎ−ＥＢ、住友重機械工業(株)製：ＷＩＰＬ、
東洋インキ製造(株)製：ライオキュア、日新ハイボルテ
ージ(株)製：ＥＰＳ・シリーズなどを好ましく用いるこ
とができる。
【００８５】さらに、得られる画像の鮮鋭度を向上させ
る目的で、上記の少なくともいずれかの層に励起光を吸
収し、輝尽発光光は吸収しないような着色層を加えても
よい（特公昭59-23400号参照）。また、得られる画像の
鮮鋭度を向上させることを目的として、本発明の放射線
像変換パネルを構成する上記各層の少なくとも一つの層
が励起光を吸収し、輝尽発光光は吸収しないような着色
剤によって着色されていてもよい（特公昭54-23400号参
照）。
る目的で、上記の少なくともいずれかの層に励起光を吸
収し、輝尽発光光は吸収しないような着色層を加えても
よい（特公昭59-23400号参照）。また、得られる画像の
鮮鋭度を向上させることを目的として、本発明の放射線
像変換パネルを構成する上記各層の少なくとも一つの層
が励起光を吸収し、輝尽発光光は吸収しないような着色
剤によって着色されていてもよい（特公昭54-23400号参
照）。
【００８６】
【実施例】（実施例１）下記のようにして、本発明の放
射線像変換パネルを製造した。まず、蛍光体層形成塗布
液として、蛍光体：BaFBr0.8I0.2:0.001Eu2+ 1000ｇ、
ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学工業(株)製：パン
デックスT5265H）の13％ MEK溶液246ｇ、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂（シェル化学(株)製：エピコート10
01）の50％MEK溶液30ｇ、ポリイソシアネート（日本ポ
リウレタン(株)製：コロネートHX）3ｇ、着色剤として
群青（第一化成工業(株)：SM-1)0.0２gをMEK 52ｇにデ
ィスパーにて３時間分散し、粘度3.5Pa・s（25℃）の塗
布液を調製した。
射線像変換パネルを製造した。まず、蛍光体層形成塗布
液として、蛍光体：BaFBr0.8I0.2:0.001Eu2+ 1000ｇ、
ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学工業(株)製：パン
デックスT5265H）の13％ MEK溶液246ｇ、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂（シェル化学(株)製：エピコート10
01）の50％MEK溶液30ｇ、ポリイソシアネート（日本ポ
リウレタン(株)製：コロネートHX）3ｇ、着色剤として
群青（第一化成工業(株)：SM-1)0.0２gをMEK 52ｇにデ
ィスパーにて３時間分散し、粘度3.5Pa・s（25℃）の塗
布液を調製した。
【００８７】この塗布液をシリコーン系離型剤が塗布さ
れているポリエチレンテレフタレートシート（仮支持
体、厚み：180μm）上に乾燥厚が250μmになるようにエ
クストルージョンコーターで塗布、乾燥した後仮支持体
から剥離した。
れているポリエチレンテレフタレートシート（仮支持
体、厚み：180μm）上に乾燥厚が250μmになるようにエ
クストルージョンコーターで塗布、乾燥した後仮支持体
から剥離した。
【００８８】次に、下塗層付き支持体を作成した。酸化
ガドリニウム（Gd2O3）の微細粒子（全粒子中の90重量
％の粒子の粒子径が1〜5μmの範囲にあるもの）350ｇ、
結合剤として軟質アクリル樹脂（大日本インキ化学工業
(株)：クリスコートP-1018GS(20%トルエン溶液)）1800
g、可塑剤としてフタル酸エステル（大八化学(株)：#1
0）40ｇ、導電剤としてZnOウィスカー（松下アムテック
(株)：パナテトラA-1-1）120ｇ、着色剤として群青（第
一化成工業(株)：SM-1）2ｇをMEKに加え、ディスパーを
用いて分散、溶解して、下塗層形成用塗布液を粘度0.5P
a・s（20℃）に調整し、これをPETシート（東レ製ルミラ
ーS-10 250μm；ヘイズ度(typical)＝20、片側にカーボ
ンブラック、シリカ、結合剤からなる遮光層(約18μm)
が設けられているもの）の上に、エクストルージョンコ
ーターを用いて、遮光層とは反対側に均一に塗布した
後、塗膜を乾燥塗布した。このようにして、層厚が20μ
mの下塗層付き支持体を形成した。
ガドリニウム（Gd2O3）の微細粒子（全粒子中の90重量
％の粒子の粒子径が1〜5μmの範囲にあるもの）350ｇ、
結合剤として軟質アクリル樹脂（大日本インキ化学工業
(株)：クリスコートP-1018GS(20%トルエン溶液)）1800
g、可塑剤としてフタル酸エステル（大八化学(株)：#1
0）40ｇ、導電剤としてZnOウィスカー（松下アムテック
(株)：パナテトラA-1-1）120ｇ、着色剤として群青（第
一化成工業(株)：SM-1）2ｇをMEKに加え、ディスパーを
用いて分散、溶解して、下塗層形成用塗布液を粘度0.5P
a・s（20℃）に調整し、これをPETシート（東レ製ルミラ
ーS-10 250μm；ヘイズ度(typical)＝20、片側にカーボ
ンブラック、シリカ、結合剤からなる遮光層(約18μm)
が設けられているもの）の上に、エクストルージョンコ
ーターを用いて、遮光層とは反対側に均一に塗布した
後、塗膜を乾燥塗布した。このようにして、層厚が20μ
mの下塗層付き支持体を形成した。
【００８９】続いて、蛍光体シートと下塗層付き支持体
を重ね合わせ、カレンダーロールを用いて、圧力49MP
a、上側ロール温度75℃、下側ロール温度75℃、送り速
度1.0m/min で連続的に加熱圧縮を行った。この加熱圧
縮により、蛍光体シートは支持体に下塗層を介して完全
に融着し蛍光体層（層厚：210μm）となった。
を重ね合わせ、カレンダーロールを用いて、圧力49MP
a、上側ロール温度75℃、下側ロール温度75℃、送り速
度1.0m/min で連続的に加熱圧縮を行った。この加熱圧
縮により、蛍光体シートは支持体に下塗層を介して完全
に融着し蛍光体層（層厚：210μm）となった。
【００９０】次に、保護膜を作製した。無黄変ウレタン
アクリレートとしてアートレジンUN330（根上工業(株):
ＵＶ硬化樹脂、NV＝100％）12ｇ、有機フィラーとして
メラミンホルムアルデヒド（(株)日本触媒：エポスター
S6）28.4ｇ、分散剤としてアルミカップリング剤（味の
素(株)、プレンアクトAL-M）0.5g、溶剤（MEK）228gの
混合液を3mmφのジルコニアボールを使用したボールミ
ルで20時間分散混合した後、アートレジンUN330 108ｇ
とMEK 252gを加え、さらに８時間分散した。その後、反
応性シリコーンFM-0721（チッソ(株)：片末端メタクリ
ロキシ基反応性シリコーン Mn≒5,000）を1.4ｇ、イル
ガキュアー184（光硬化触媒）4.5ｇ、MEK 439g を追加
混合し、塗布液を調整した。
アクリレートとしてアートレジンUN330（根上工業(株):
ＵＶ硬化樹脂、NV＝100％）12ｇ、有機フィラーとして
メラミンホルムアルデヒド（(株)日本触媒：エポスター
S6）28.4ｇ、分散剤としてアルミカップリング剤（味の
素(株)、プレンアクトAL-M）0.5g、溶剤（MEK）228gの
混合液を3mmφのジルコニアボールを使用したボールミ
ルで20時間分散混合した後、アートレジンUN330 108ｇ
とMEK 252gを加え、さらに８時間分散した。その後、反
応性シリコーンFM-0721（チッソ(株)：片末端メタクリ
ロキシ基反応性シリコーン Mn≒5,000）を1.4ｇ、イル
ガキュアー184（光硬化触媒）4.5ｇ、MEK 439g を追加
混合し、塗布液を調整した。
【００９１】この保護膜塗布液を6μm厚PETフイルム
（東レ(株)：ルミラー6-CF53)と、耐熱再剥離フイルム
（PANAC(株)：CT50）を貼り合わせて裏打ちした6μm厚P
ETフイルム上にバーコーターで塗布し、溶剤を100℃ で
乾燥後、アイグラフィック(株)製の空冷メタルハライド
ランプM08-L41にてランプ出力160W/cmで紫外線を10秒照
射して硬化し、厚さ2μmの保護膜を設けた。
（東レ(株)：ルミラー6-CF53)と、耐熱再剥離フイルム
（PANAC(株)：CT50）を貼り合わせて裏打ちした6μm厚P
ETフイルム上にバーコーターで塗布し、溶剤を100℃ で
乾燥後、アイグラフィック(株)製の空冷メタルハライド
ランプM08-L41にてランプ出力160W/cmで紫外線を10秒照
射して硬化し、厚さ2μmの保護膜を設けた。
【００９２】次に、塗布層を設けた6μm厚 PETフイルム
から耐熱再剥離フイルムを剥離し、塗布層と反対側にポ
リエステル樹脂溶液（東洋紡績(株)：バイロン30SS）を
塗布・乾燥して接着層（接着剤塗布重量2g/m2 ）を設け
た。このPETフイルムを、ラミネートロールを用いて蛍
光体層上に接着層を介して接着して保護膜を形成した。
さらにエンボス機で保護膜にRa0.4μmの粗さのエンボス
を設けた。
から耐熱再剥離フイルムを剥離し、塗布層と反対側にポ
リエステル樹脂溶液（東洋紡績(株)：バイロン30SS）を
塗布・乾燥して接着層（接着剤塗布重量2g/m2 ）を設け
た。このPETフイルムを、ラミネートロールを用いて蛍
光体層上に接着層を介して接着して保護膜を形成した。
さらにエンボス機で保護膜にRa0.4μmの粗さのエンボス
を設けた。
【００９３】続いて、20μm厚のOPPフイルム（東レ
(株)、トレファンYM-11#20）に、不飽和ポリエステル樹
脂溶液（東洋紡績(株)：バイロン30SS）を塗布、乾燥し
て接着層（接着剤塗布重量9g/m2 ）を設け、このOPPフ
イルムを、ラミネートロールを用いて、支持体の蛍光体
層が設けられている側とは反対側(遮光層側)に、接着層
を介して接着しBack保護層を形成した。
(株)、トレファンYM-11#20）に、不飽和ポリエステル樹
脂溶液（東洋紡績(株)：バイロン30SS）を塗布、乾燥し
て接着層（接着剤塗布重量9g/m2 ）を設け、このOPPフ
イルムを、ラミネートロールを用いて、支持体の蛍光体
層が設けられている側とは反対側(遮光層側)に、接着層
を介して接着しBack保護層を形成した。
【００９４】さらに、アートレジンUN330を10.5ｇ、イ
ルガキュアー184を0.4g、黄変防止剤としてエポキシ樹
脂（油化シェルエポキシ(株)：エピコート#1001(固
形)）0.6ｇ、片末端メタクリロキシプロピル変性シリコ
ーンFM-0725を0.2g、MEK 10gに溶解させて塗布液を調整
し、この塗布液を、先に製造した保護膜が付設された蛍
光体シートの各側面に塗布し、室温で乾燥後、紫外線を
80W/cmで30秒照射して、膜厚約25μmの側面硬化皮膜を
形成し、放射線像変換パネルを製造した。
ルガキュアー184を0.4g、黄変防止剤としてエポキシ樹
脂（油化シェルエポキシ(株)：エピコート#1001(固
形)）0.6ｇ、片末端メタクリロキシプロピル変性シリコ
ーンFM-0725を0.2g、MEK 10gに溶解させて塗布液を調整
し、この塗布液を、先に製造した保護膜が付設された蛍
光体シートの各側面に塗布し、室温で乾燥後、紫外線を
80W/cmで30秒照射して、膜厚約25μmの側面硬化皮膜を
形成し、放射線像変換パネルを製造した。
【００９５】（実施例２）実施例１の保護膜で使用した
反応性シリコーンFM-0721 に換えて、反応性シリコーン
FM-0725 （チッソ(株)：片末端メタクリロキシプロピル
変性シリコーン Mn≒10,000）を0.7g使用した以外は実
施例１と同様にして放射線像変換パネルを製造した。
反応性シリコーンFM-0721 に換えて、反応性シリコーン
FM-0725 （チッソ(株)：片末端メタクリロキシプロピル
変性シリコーン Mn≒10,000）を0.7g使用した以外は実
施例１と同様にして放射線像変換パネルを製造した。
【００９６】（実施例３）反応性シリコーンFM-0725 を
1.4g使用した以外は実施例２と同様にして放射線像変換
パネルを製造した。
1.4g使用した以外は実施例２と同様にして放射線像変換
パネルを製造した。
【００９７】（実施例４）反応性シリコーンFM-0725 を
2.8g使用した以外は実施例２と同様にして放射線像変換
パネルを製造した。
2.8g使用した以外は実施例２と同様にして放射線像変換
パネルを製造した。
【００９８】（実施例５）実施例１の保護膜で使用した
反応性シリコーンFM-0721 に換えて、反応性シリコーン
FM-DA7725 （チッソ(株)製：両末端メタクリロキシ基含
有シリコーンオリゴマー、Mn≒10,000）を使用した以外
は同様にして放射線像変換パネルを製造した。
反応性シリコーンFM-0721 に換えて、反応性シリコーン
FM-DA7725 （チッソ(株)製：両末端メタクリロキシ基含
有シリコーンオリゴマー、Mn≒10,000）を使用した以外
は同様にして放射線像変換パネルを製造した。
【００９９】（実施例６）アートレジンUN330を120g、
反応性シリコーンFM-0725を2.4g、イルガキュアー184を
4.5ｇ、黄変防止剤としてエポキシ樹脂（油化シェルエ
ポキシ(株)：エピコート#1001(固形)）6ｇ、MEK 147g、
シクロヘキサン520gで保護膜用塗布液を調整し、この保
護膜塗布液を支持体と蛍光体層の加熱圧縮後、蛍光体層
上に乾燥厚で2μm になるようにスライドコーターで塗
布した後、100℃で溶剤を乾燥し、アイグラフィック
(株)製：空冷メタルハライドランプM08-L41にてランプ
出力160W/cmで紫外線を10秒照射して硬化し、厚さ2μm
の保護膜を蛍光体層上に直接設けた以外は実施例１と同
様にして放射線像変換パネルを製造した。
反応性シリコーンFM-0725を2.4g、イルガキュアー184を
4.5ｇ、黄変防止剤としてエポキシ樹脂（油化シェルエ
ポキシ(株)：エピコート#1001(固形)）6ｇ、MEK 147g、
シクロヘキサン520gで保護膜用塗布液を調整し、この保
護膜塗布液を支持体と蛍光体層の加熱圧縮後、蛍光体層
上に乾燥厚で2μm になるようにスライドコーターで塗
布した後、100℃で溶剤を乾燥し、アイグラフィック
(株)製：空冷メタルハライドランプM08-L41にてランプ
出力160W/cmで紫外線を10秒照射して硬化し、厚さ2μm
の保護膜を蛍光体層上に直接設けた以外は実施例１と同
様にして放射線像変換パネルを製造した。
【０１００】（比較例１）実施例１で使用した反応性シ
リコーンFM-0721 に換えて、反応性シリコーンX22-2809
（信越化学(株)製：両片末端水酸基含有シリコーン Mn
≒5,000）を使用した以外は同様にして放射線像変換パ
ネルを製造した。
リコーンFM-0721 に換えて、反応性シリコーンX22-2809
（信越化学(株)製：両片末端水酸基含有シリコーン Mn
≒5,000）を使用した以外は同様にして放射線像変換パ
ネルを製造した。
【０１０１】（比較例２）実施例１で反応性シリコーン
FM-0721 を使用しない以外は同様にして放射線像変換パ
ネルを製造した。
FM-0721 を使用しない以外は同様にして放射線像変換パ
ネルを製造した。
【０１０２】（比較例３）実施例１において、以下の保
護膜を設けた以外は同様にして放射線像変換パネルを製
造した。
護膜を設けた以外は同様にして放射線像変換パネルを製
造した。
【０１０３】フッ素系共重合体樹脂溶液（旭硝子(株)
製：ルミフロンLF504X (30％キシレン溶液)）40g、有機
フィラーとしてメラミン−ホルムアルデヒド（(株)日本
触媒：エポスターS6）28.4ｇ、分散剤としてアルミカッ
プリング剤（味の素(株)：プレンアクトAL-M）0.5g、ME
K 200ｇの混合液を3mmφのジルコニアボールを使用した
ボールミルで20時間分散混合した後、ルミフロンLF504X
（30％キシレン溶液）360ｇを追加し、さらに４時間分
散した。その後、反応性シリコーンX22-2809 を1.4g、
架橋剤としてポリイソシアネート（住友バイエルウレタ
ン(株)：スミジュールN3500(固形分100%)）22.2g、触媒
としてジブチルチンジラウレート（共同薬品(株)：KS12
60）1.4mg、MEK 800ｇを追加混合し、塗布液を調整し
た。この塗布液を6μmPET表面にバーコーターで塗布
し、120℃で乾燥、硬化し保護膜とした。
製：ルミフロンLF504X (30％キシレン溶液)）40g、有機
フィラーとしてメラミン−ホルムアルデヒド（(株)日本
触媒：エポスターS6）28.4ｇ、分散剤としてアルミカッ
プリング剤（味の素(株)：プレンアクトAL-M）0.5g、ME
K 200ｇの混合液を3mmφのジルコニアボールを使用した
ボールミルで20時間分散混合した後、ルミフロンLF504X
（30％キシレン溶液）360ｇを追加し、さらに４時間分
散した。その後、反応性シリコーンX22-2809 を1.4g、
架橋剤としてポリイソシアネート（住友バイエルウレタ
ン(株)：スミジュールN3500(固形分100%)）22.2g、触媒
としてジブチルチンジラウレート（共同薬品(株)：KS12
60）1.4mg、MEK 800ｇを追加混合し、塗布液を調整し
た。この塗布液を6μmPET表面にバーコーターで塗布
し、120℃で乾燥、硬化し保護膜とした。
【０１０４】（比較例４）比較例３の反応性シリコーン
X22-2809 に換えて、反応性シリコーンFM-0725を使用し
た以外（紫外線照射は行わなかった）は同様にして放射
線像変換パネルを得た。
X22-2809 に換えて、反応性シリコーンFM-0725を使用し
た以外（紫外線照射は行わなかった）は同様にして放射
線像変換パネルを得た。
【０１０５】（評価実験） １．摩擦係数 実施例および比較例で得た放射線像変換パネルのそれぞ
れの保護膜表面の摩擦係数を下記の方法により測定し
た。まず、放射線像変換パネルを 5cm×15cmの長方形に
切断し、角度が傾けられる測定台上に保護膜が上面にな
るように置いた。次に、3cm×4cmに切断したEPDMゴム板
に 0.98Nの加重をかけて、保護膜上に置き、測定台を徐
々に傾けて不織布が動き出すときの角度δを測定した。
測定は３に示す摺動の前および後で行った。角度δから
以下の式で静摩擦係数（μ値）を計算した。 μ値＝ｔａｎδ
れの保護膜表面の摩擦係数を下記の方法により測定し
た。まず、放射線像変換パネルを 5cm×15cmの長方形に
切断し、角度が傾けられる測定台上に保護膜が上面にな
るように置いた。次に、3cm×4cmに切断したEPDMゴム板
に 0.98Nの加重をかけて、保護膜上に置き、測定台を徐
々に傾けて不織布が動き出すときの角度δを測定した。
測定は３に示す摺動の前および後で行った。角度δから
以下の式で静摩擦係数（μ値）を計算した。 μ値＝ｔａｎδ
【０１０６】２．マジック防汚性 保護膜表面に黒マジックで線を引き、乾燥後キムワイプ
で乾拭きしマジック線の消去程度を観察し、以下の４段
階で評価した。 Ａ：線が容易に拭き取れ、残り無し Ｂ：線の残り無し Ｃ：半分程度残り有り Ｄ：全面残り有り
で乾拭きしマジック線の消去程度を観察し、以下の４段
階で評価した。 Ａ：線が容易に拭き取れ、残り無し Ｂ：線の残り無し Ｃ：半分程度残り有り Ｄ：全面残り有り
【０１０７】３．摺動後マジック防汚性 5cm×15cmの長方形に切断した放射線像変換パネルの保
護膜上で3cm×4cmに切断した不織布（出光石油化学(株)
製：ストラテック）に0.98Nの加重をかけて20万回往復
摺動させた。摺動後の保護膜表面に黒マジックで線を引
き、乾燥後キムワイプで乾拭きしてマジック線の消去程
度を摺動前、摺動後のそれぞれにおいて観察し、以下の
４段階で評価した。 Ａ：線が容易に拭き取れ、残り無し Ｂ：線の残り無し Ｃ：半分程度残り有り Ｄ：全面残り有り
護膜上で3cm×4cmに切断した不織布（出光石油化学(株)
製：ストラテック）に0.98Nの加重をかけて20万回往復
摺動させた。摺動後の保護膜表面に黒マジックで線を引
き、乾燥後キムワイプで乾拭きしてマジック線の消去程
度を摺動前、摺動後のそれぞれにおいて観察し、以下の
４段階で評価した。 Ａ：線が容易に拭き取れ、残り無し Ｂ：線の残り無し Ｃ：半分程度残り有り Ｄ：全面残り有り
【０１０８】４．擦り傷 摺動後の保護膜表面の防傷性を以下の４段階で評価し
た。 Ａ：擦り傷の発生は殆どなし Ｂ：擦り傷が多少発生したが、実用上において問題のな
い程度 Ｃ：擦り傷の発生が多い Ｄ：擦り傷の発生が非常に多い
た。 Ａ：擦り傷の発生は殆どなし Ｂ：擦り傷が多少発生したが、実用上において問題のな
い程度 Ｃ：擦り傷の発生が多い Ｄ：擦り傷の発生が非常に多い
【０１０９】結果を表１に示す。
【０１１０】
【表１】 以上の実験結果より、本発明による放射線像変換パネル
の保護膜表面は摺動後でも摩擦係数が低く、防汚性があ
り、擦り傷も付きにくいことが明らかである。
の保護膜表面は摺動後でも摩擦係数が低く、防汚性があ
り、擦り傷も付きにくいことが明らかである。
【０１１１】また、片末端にメタクリロキシ基を有する
反応性シリコーンを用いた保護膜を有する放射線像変換
パネル（実施例１〜実施例４）は摺動後の防汚性、耐傷
性に優れており、特に好ましかった。なお、保護膜を蛍
光体層上に直接設けた場合（実施例６）は、摺動後の防
汚性、擦り傷の評価は若干劣っているが、発光性のよい
放射線像変換パネルが得られた。
反応性シリコーンを用いた保護膜を有する放射線像変換
パネル（実施例１〜実施例４）は摺動後の防汚性、耐傷
性に優れており、特に好ましかった。なお、保護膜を蛍
光体層上に直接設けた場合（実施例６）は、摺動後の防
汚性、擦り傷の評価は若干劣っているが、発光性のよい
放射線像変換パネルが得られた。
【０１１２】一方、紫外線または電子線照射により硬化
可能な官能基を末端に１つ以上有するような反応性シリ
コーンを用いなかった場合（比較例１〜比較例３）は、
防汚性が悪く、擦り傷も付きやすく、また、そのような
反応性シリコーンを用いても紫外線で硬化しなかった場
合（比較例４）には、摺動前の防汚性はよかったもの
の、摺動後は極端に防汚性が低下した。
可能な官能基を末端に１つ以上有するような反応性シリ
コーンを用いなかった場合（比較例１〜比較例３）は、
防汚性が悪く、擦り傷も付きやすく、また、そのような
反応性シリコーンを用いても紫外線で硬化しなかった場
合（比較例４）には、摺動前の防汚性はよかったもの
の、摺動後は極端に防汚性が低下した。
【０１１３】なお、実施例は放射線像変換パネルについ
てのものであるが、輝尽性でない蛍光体を用いて透過放
射線を可視光および／または紫外放射線に変換するため
のパネル、例えばＸ線写真用増感スクリーン等、繰り返
して使用されパネル表面の汚れやキズが問題になる場合
の保護膜にも極めて有用である。
てのものであるが、輝尽性でない蛍光体を用いて透過放
射線を可視光および／または紫外放射線に変換するため
のパネル、例えばＸ線写真用増感スクリーン等、繰り返
して使用されパネル表面の汚れやキズが問題になる場合
の保護膜にも極めて有用である。
【図１】本発明の第一の実施の形態を示す放射線発光パ
ネルの部分断面図
ネルの部分断面図
10 放射線発光パネル 11 支持体層 12 蛍光体層 13 保護膜
Claims (10)
- 【請求項１】 蛍光体層と保護膜とを有する放射線発光
パネルにおいて、前記保護膜が、紫外線または電子線硬
化樹脂と、該紫外線または電子線硬化樹脂と反応可能な
官能基を末端に１つ以上有し、かつ数平均分子量が 500
0から20000の反応性シリコーンとを含み、前記保護膜が
紫外線または電子線の照射によって硬化されていること
を特徴とする放射線発光パネル。 - 【請求項２】 前記紫外線または電子線硬化樹脂が有す
る硬化性官能基がビニル基またはアクリレート基である
ことを特徴とする請求項１記載の放射線発光パネル。 - 【請求項３】 前記反応性シリコーンの末端官能基がメ
タクリロキシ基であることを特徴とする請求項１または
２記載の放射線発光パネル。 - 【請求項４】 前記反応性シリコーンが前記硬化樹脂に
対して 0.1〜10重量％含有されていることを特徴とする
請求項１、２または３記載の放射線発光パネル。 - 【請求項５】 前記保護膜の膜厚が5μm以下であること
を特徴とする請求項１から４いずれか１項記載の放射線
発光パネル。 - 【請求項６】 前記保護膜中に、0.1μmから2μmの粒径
を有する無機または有機の白色粒子が前記硬化樹脂に対
して5重量％から100重量％の範囲で含有されていること
を特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の放射線
発光パネル。 - 【請求項７】 前記保護膜と前記蛍光体層との間に樹脂
フィルムが設けられていることを特徴とする請求項１か
ら６いずれか１項記載の放射線発光パネル。 - 【請求項８】 前記樹脂フイルムがポリエチレンテレフ
タレートフイルムであることを特徴とする請求項７記載
の放射線発光パネル。 - 【請求項９】 前記樹脂フイルムの厚みが 1μmから12
μmであることを特徴とする請求項８記載の放射線発光
パネル。 - 【請求項１０】 前記保護膜が前記蛍光体層上に直接設
けられていることを特徴とする請求項１から６いずれか
１項記載の放射線発光パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000371291A JP2002174697A (ja) | 2000-12-06 | 2000-12-06 | 放射線発光パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000371291A JP2002174697A (ja) | 2000-12-06 | 2000-12-06 | 放射線発光パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002174697A true JP2002174697A (ja) | 2002-06-21 |
Family
ID=18841037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000371291A Withdrawn JP2002174697A (ja) | 2000-12-06 | 2000-12-06 | 放射線発光パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002174697A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004047121A2 (de) * | 2002-11-18 | 2004-06-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Herstellungsverfahren und schutzschicht für eine leuchtstoffschicht |
| JP2005172800A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
| JP2005255718A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性コーティング用組成物および保護被膜形成方法 |
| JP2006257402A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 低屈折率層形成塗布組成物、反射防止フィルム、偏光板、および液晶表示装置 |
-
2000
- 2000-12-06 JP JP2000371291A patent/JP2002174697A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004047121A2 (de) * | 2002-11-18 | 2004-06-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Herstellungsverfahren und schutzschicht für eine leuchtstoffschicht |
| WO2004047121A3 (de) * | 2002-11-18 | 2004-10-07 | Siemens Ag | Herstellungsverfahren und schutzschicht für eine leuchtstoffschicht |
| US7288769B2 (en) | 2002-11-18 | 2007-10-30 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for the production of and protective layer for a layer of luminescent material |
| JP2005172800A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
| JP2005255718A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性コーティング用組成物および保護被膜形成方法 |
| JP2006257402A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 低屈折率層形成塗布組成物、反射防止フィルム、偏光板、および液晶表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5378897A (en) | Radiation image storage panel | |
| US20060065852A1 (en) | Radiation image storage panel | |
| JP2549911B2 (ja) | 放射線像変換パネルとその製造法 | |
| US6992304B2 (en) | Radiation image storage panel | |
| JP2002174697A (ja) | 放射線発光パネル | |
| JP2002148395A (ja) | 放射線発光パネル | |
| JP4244098B2 (ja) | 放射線像変換パネル | |
| JP2002156498A (ja) | 放射線像変換パネル | |
| JP2004226269A (ja) | 放射線像変換器およびその製造方法 | |
| JP2002098799A (ja) | 放射線発光パネル | |
| JP2002107495A (ja) | 放射線発光パネル | |
| JP2715189B2 (ja) | 放射線像変換パネル | |
| US7169481B2 (en) | Radiation image conversion panel and manufacturing method therefor | |
| JP2002174698A (ja) | 放射線発光パネル | |
| JP2002116300A (ja) | 放射線発光パネル | |
| JP2001228299A (ja) | 放射線像変換パネル | |
| JP2002207099A (ja) | 放射線発光パネル | |
| US7235279B2 (en) | Process for producing a radiation image storage panel | |
| JP2540363B2 (ja) | 放射線像変換パネルおよびその製造法 | |
| JP2002006091A (ja) | 放射線像変換パネル | |
| JP2002098800A (ja) | 放射線発光パネル | |
| JP2001133598A (ja) | 放射線像変換パネル | |
| JP2005114397A (ja) | 放射線画像変換パネル及びその製造方法 | |
| JP3999430B2 (ja) | 放射線像変換パネルおよびその製造方法 | |
| JP2001324600A (ja) | 放射線像変換パネル |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080304 |