JP2001227933A - 配管等構造体における膜厚測定方法 - Google Patents

配管等構造体における膜厚測定方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 精度よく薄膜の膜厚を測定することの可能な
配管等構造体における膜厚測定方法を提供すること。 【解決手段】 スケール等の薄膜を内面に有する配管等
の構造体における外面から超音波パルスを入射する。構
造体内面と前記薄膜外面との界面で反射する第一反射波
及び構造体内部と前記薄膜内面との界面からぞれぞれ反
射する第二反射波を前記構造体外面で受信する。第一反
射波の第一反射関数f1(t)の立ち上がり時刻taと
第一反射波及び第二反射波の合成関数g(t)でこれら
第一反射波及び第二反射波の重畳部分が最初に振幅零に
達する合成波時刻tcとの時間差である測定時間差dt
0により薄膜の膜厚を求める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コーティング膜又
はスケール等の薄膜を内面に有する配管又は容器等の構
造体における膜厚の測定方法に関する。さらに詳しく
は、例えば火力発電所のボイラーチューブ内面に付着す
るスケール膜の膜厚管理や石油精製コンビナート、大型
船舶等の冷却装置の配管内面に施されるコーティング膜
の膜厚管理に用いることが可能な膜厚測定方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】発電所の蒸気タービン施設では、ボイラ
から蒸気配管を伝って蒸気がタービンに送られる。この
際、蒸気配管の内面に発生した酸化スケール等の異物が
タービンの起動時に蒸気により運ばれ、タービンノズル
及びタービンブレードに衝突し、これらに損傷を与える
ので、スケール膜の膜厚を管理しその脱落を事前に防ぐ
ことは重要である。
【0003】ところで、スケール等の膜厚が十分に厚い
場合は、図3に示すように、第一反射関数f1(t)及
び第二反射波f2(t)それぞれの立ち上がり時刻t
a,tbが明確に識別でき、これらta,tbの時間差
dt’の半分にスケールの音速を掛け合わせることで、
スケール膜厚を求めることができる。
【0004】しかし、スケール等の膜厚が薄く、例えば
100μmよりも薄い場合は、図4(a)に示すように
第一反射関数f1(t)及び第二反射波f2(t)それ
ぞれの立ち上がり時刻ta,tbが近接する。したがっ
て、図4(b)に示すように第一反射関数f1(t)及
び第二反射波f2(t)が重畳して緩衝波である実測合
成関数g(t)となるので、上記立ち上がり時刻ta,
tbを峻別することができない。
【0005】そこで、特開平9−287937号公報に
記載の技術によれば、受信した緩衝波を周波数解析する
ことによりスケール等の厚さを算出する手法が提唱され
ている。同手法によれば、スケール厚さの1/2波長の
周波数成分は管内部の水中に伝播するので、スケール内
面からの反射波からは当該成分が減少していると考えら
れている。そして、スケール伝播音速をV、エネルギー
減衰部の周波数f0とすれば、V/2f0によりスケー
ル厚さを算出できるとされている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】かかる従来の実情に鑑
みて、本発明の目的は、上記手法とは異なる手法により
精度よく薄膜の膜厚を測定することの可能な配管等構造
体における膜厚測定方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る配管等構造体における膜厚測定方法の
特徴は、コーティング膜又はスケール等の薄膜を内面に
有する配管又は容器等の構造体における外面から超音波
パルスを入射すると共に前記構造体内面と前記薄膜外面
との界面で反射する第一反射波及び構造体内部と前記薄
膜内面との界面からぞれぞれ反射する第二反射波を前記
構造体外面で受信し、前記第一反射波の立ち上がり時刻
と前記第一反射波及び第二反射波の合成波でこれら第一
反射波及び第二反射波の重畳部分が最初に振幅零に達す
る合成波零時刻との時間差である零点時間差dt0によ
り前記薄膜の膜厚を求めることにある。
【0008】ここで、上記特徴方法において、前記合成
波をなす実測合成関数をg(t)、理論合成関数をgx
(t)とし、∫|g(t)−gx(t,dt1)|dt
を零に収束させるdt1を求め、次式(1)により前記
膜厚STを求めてもよい。 ST=dt1・Vs/2 (1)
【0009】但し、gx(t)は次式(2)で表示さ
れ、f(t)は構造体(50)に前記薄膜(60)が付
着していない場合の第一反射波の関数、dt1は第一反
射波及び第二反射波の理論上の立ち上がり部の時間差、
Vsは薄膜の音速、Z1は構造体の音響インピーダン
ス、Z2は薄膜(60)の音響インピーダンス、Z3は
構造体内に収容される内容物の音響インピーダンスであ
る。
【0010】 gx(t,dt1)=(Z2+Z3)/(Z3-Z2)・(Z2-Z1)/(Z1+Z2)f(t) +2Z2/(Z1+Z2)・2Z1/(Z1+Z2)f(t−dt1) (2)
【0011】一方、前記零点時間差dt0と前記膜厚S
Tとの相関を実測又は理論的にあらかじめ検量線として
求め、実測した前記零点時間差dt0と前記検量線との
対比により前記膜厚STを求めることもできる。
【0012】また、上記各特徴方法において、前記零点
時間差dt0間に零点を下回る極小値部Bの存否により
前記膜厚STの導出条件を変更とよい。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、図1〜図6を参照しなが
ら、本発明の第一実施形態について説明する。図1に本
発明に係る配管等構造体における膜厚測定方法に使用す
る膜厚測定装置1のブロック図を示す。また、測定対象
となる構造体としては、図2に示すようにボイラーチュ
ーブに用いられる内面にスケール膜60の付着した配管
50を用いている。なお、配管50の内部には水Wが充
満している。
【0014】先の膜厚測定装置1は、パーソナルコンピ
ューター7により制御されるパルサー2aで超音波パル
スを発生し、探触子3を介して配管外面51から配管5
0の中心に向かって垂直に超音波パルスを送信する。送
信された超音波パルスはまずスケール外面61と配管内
面52の界面である第一境界面B1において第一反射波
として探触子3側に復帰する。また、送信波はスケール
内面62と配管50内部、換言すれば、水Wとの界面で
ある第二境界面B2において第二反射波として探触子3
側に復帰する。
【0015】これらの第一、第二反射波は、レシーバー
2b及びプリアンプ4により増幅され、フィルター5に
よりノイズが除去された状態でA/Dコンバーター6に
よりデジタル信号に変換され、パーソナルコンピュータ
ー7で処理される。先の第一、第二反射波は、図3〜6
の第一反射関数f1(t)、第二反射関数f2(t)及
びこれらが合成された実測合成関数g(t)として補足
され、モニター8に表示される。
【0016】図4(a)は、第二反射関数f2(t)の
第二立ち上がり時刻tbが不明確な場合における理論上
の第一反射関数f1(t)及び第二反射関数f2(t)
を示すグラフである。また、同図(b)は第一反射関数
f1(t)及び第二反射関数f2(t)が合成された実
測合成関数g(t)を示すグラフである。第一反射関数
f1(t)及び第二反射関数f2(t)それぞれの理論
上の第一、第二立ち上がり時刻ta,tbの時間差であ
る換算時間差dt1を求めることができるなら、スケー
ル膜60の膜厚STは、上記式(1)により計算が可能
である。
【0017】しかし、実際には、同図(b)に示すよう
に、第一反射関数f1(t)は第二立ち上がり時刻tb
を過ぎた点以降、第一反射関数f1(t)及び第二反射
関数f2(t)が重畳した実測合成関数g(t)とな
り、第二反射関数f2(t)の第二立ち上がり時刻tb
が明確でない。
【0018】そこで、第一立ち上がり時刻taと実測合
成関数g(t)のうち第一反射関数f1(t)及び第二
反射関数f2(t)の重畳部分が最初に振幅零に達する
合成波零時刻tcとの時間差である零点時間差dt0を
求めることにより、先の薄膜の一例であるスケール膜の
60の膜厚を求める。
【0019】より具体的には、実測合成関数g(t)と
理論合成関数gx(t,dt1)との差分を最も小さく
するdt1を求める求める第一の方法と、あらかじめ検
量線を求める第一の方法とがある。なお、第一立ち上が
り時刻taとは、第一反射関数f1(t)が零点から正
値をとる時点に限らず、一定のしきい値を越え始める時
点をも含む概念である。第二立ち上がり時刻tbや合成
波零時刻tcも同様の概念である。
【0020】まず、実測合成関数g(t)と理論合成関
数gx(t,dt1)との差分である D=∫|g(t)−gx(t,dt1)|dt (3) を、最も小さくする換算時間差dt1を求め、膜厚を求
める第一の方法について説明する。
【0021】配管50にスケール膜60が付着していな
い場合の第一反射波の関数をf(t)とする。また、構
造体50にスケール膜60が付着している場合の理論上
の第一反射波の関数をf1x(t)、理論上の第二反射
波の関数をf2x(t)とすると、これらはそれぞれ次
式で示される。 f1x(t)=(Z2+Z3)/(Z3-Z2)・(Z2-Z1)/(Z1+Z2)f(t) (4) f2x(t)=2Z2/(Z1+Z2)・2Z1/(Z1+Z2)f(t−dt1) (5)
【0022】そして、音響インピーダンスの関係より、
理論上の第一、第二反射波の関数の合成関数である理論
合成関数gx(t,dt1)は次式により示される。 gx(t,dt1)=f1x(t)+f2x(t) (6) =(Z2+Z3)/(Z3-Z2)・(Z2-Z1)/(Z1+Z2)f(t) +2Z2/(Z1+Z2)・2Z1/(Z1+Z2)f(t−dt1) (7)
【0023】続いて、実測合成関数g(t)と理論合成
関数gx(t,dt1)との差分であるD=∫|g
(t)−gx(t,dt1)|dt を、最も小さくす
る換算時間差dt1を求める。すなわち、積分値として
求められる差分Dの値を零に収束させる換算時間差dt
1を求める。そして、上記式(1)により膜厚STを算
出する。
【0024】次に、検量線を用いる第二の方法にあって
は、あらかじめ配管50の材質と厚みを設定し、スケー
ル膜60の厚みを変化させて、先の零点時間差dt0を
求めこれをプロットする。零点時間差dt0は、図5
(a)に示すように第一反射関数f1(t)及び第二反
射関数f2(t)の波長のずれが増大するに伴って拡大
するが、同図(b)に示すように、ちょうど半波長のず
れが第一反射関数f1(t)及び第二反射関数f2
(t)の間に生じている場合には、一旦縮小する。その
後、図6に示すように、零点時間差dt0は再び拡大を
始める。すなわち、スケール膜60の膜厚は零点時間差
dt0のみならず零点時間差dt0間に零点を下回る極
小値部Bが存在するか否かによって検量線を選択すれば
よい。但し、連続的にスケール厚をモニターする場合に
は零点時間差dt0の増減状況により極小値部Bの存否
を判定することができる。
【0025】検量線はこのように実測でも求めることが
できるが、理論上でも求めることができる。理論合成関
数gx(t,dt1)において、上記実測合成関数g
(t)零点時間差dt0に相当する第一立ち上がり時刻
ta及び合成波零時刻tcの時間差である理論零時間差
をdt0xとする。そして、膜厚STと理論零時間差d
t0xとの相関を上記式(7)のグラフを用いてあらか
じめ検量線として求め、これを用いてもよい。なお、零
時間差dt0,dt0xと膜厚STとの相関とは、これ
ら両者の実質的な相関をいい、零時間差dt0,dt0
xと換算時間差dt1との相関をも含む概念である。
【0026】最後に、本発明の実施のさらに異なる形態
の可能性について言及する。上記実施形態では、本発明
を配管内のスケール膜の膜厚測定に用いた。しかし、本
発明は配管以外の構造体、例えばタンクや圧力容器等に
ついても適用できる。また、内面コーティング膜等の膜
厚測定にも実施することができる。
【0027】上記実施形態では、薄膜の内側に水Wが存
在した。しかし、この薄膜の内側には水以外の油が存在
してもよく、また、空洞であってもよい。
【0028】上記実施形態では、ひとつの探触子3によ
り超音波を送受信した。しかし、超音波パルスの送信子
と受信子として異なる探触子を用いることも可能であ
る。
【0029】
【発明の効果】このように、本発明に係る膜厚測定方法
の特徴構成によれば、明確な「零点時間差」を用いるこ
とで精度よく薄膜の膜厚を測定することが可能となっ
た。特に、本発明によれば、例えばスケール等の膜厚が
100μmよりも薄い場合でも、その膜厚を測定するこ
とが可能となった。
【0030】なお、特許請求の範囲の項に記入した符号
は、あくまでも図面との対照を便利にするためのものに
すぎず、該記入により本発明は添付図面の構成に限定さ
れるものではない。
【0031】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る膜厚測定方法に使用する膜厚測定
装置のブロック図である。
【図2】測定対象となる配管の一部断面図である。
【図3】立ち上がり時刻ta,tbの明確な第一反射関
数f1(t)及び第二反射関数f2(t)を示すグラフ
である。
【図4】第二反射関数f2(t)の立ち上がり時刻tb
が不明確な場合における第一反射関数f1(t)及び第
二反射関数f2(t)を示すグラフであり、(a)は理
論上の第一反射関数f1(t)及び第二反射関数f2
(t)を示すグラフ、(b)は第一反射関数f1(t)
及び第二反射関数f2(t)が合成された実測合成関数
g(t)を示すグラフである。
【図5】第二反射関数f2(t)の立ち上がり時刻tb
が不明確な場合における実測合成関数(t)を示すグラ
フであり、(a)は半波長以内で半波長に近いずれが第
一反射関数f1(t)及び第二反射関数f2(t)の間
に生じている場合の実測合成関数g(t)を示すグラ
フ、(b)は半波長のずれが第一反射関数f1(t)及
び第二反射関数f2(t)の間に生じている場合の実測
合成関数g(t)を示すグラフである。
【図6】第二反射関数f2(t)の立ち上がり時刻tb
が不明確な場合で、半波長以上のずれが第一反射関数f
1(t)及び第二反射関数f2(t)の間に生じている
ときの実測合成関数g(t)を示すグラフである。
【符号の説明】
1 膜厚測定装置 2a パルサー 2b レシーバー 3 探触子 4 プリアンプ 5 フィルター 6 A/Dコンバーター 7 パーソナルコンピューター 8 モニター 50 配管 51 配管外面 52 配管内面 60 スケール膜 61 スケール外面 62 スケール内面 B1 第一境界面 B2 第二境界面 W 水 dt0 零点時間差 g(t) 実測合成関数 f1(t) 第一反射関数 f2(t) 第二反射関数 ta 第一立ち上がり時刻 tb 第二立ち上がり時刻 tc 合成波零時刻
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉村 剛 大阪市西区北堀江1丁目18番14号 非破壊 検査株式会社内 (72)発明者 今中 拓一 大阪市西区北堀江1丁目18番14号 非破壊 検査株式会社内 Fターム(参考) 2F068 AA28 BB14 BB15 CC05 DD12 FF03 FF12 FF14 FF16 GG01 KK12

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コーティング膜又はスケール等の薄膜
    (60)を内面に有する配管又は容器等の構造体(5
    0)における外面(51)から超音波パルスを入射する
    と共に前記構造体(50)内面(52)と前記薄膜(6
    0)外面(61)との界面(B1)で反射する第一反射
    波及び構造体(50)内部と前記薄膜(60)内面(6
    2)との界面(B2)からぞれぞれ反射する第二反射波
    を前記構造体(50)外面(51)で受信し、前記第一
    反射波の立ち上がり時刻(ta)と前記第一反射波及び
    第二反射波の合成波でこれら第一反射波及び第二反射波
    の重畳部分が最初に振幅零に達する合成波零時刻(t
    c)との時間差である零点時間差dt0により前記薄膜
    (60)の膜厚STを求める配管等構造体における膜厚
    測定方法。
  2. 【請求項2】 前記合成波をなす実測合成関数をg
    (t)、理論合成関数をgx(t)とし、∫|g(t)
    −gx(t,dt1)|dtを零に収束させるdt1を
    求め、次式(1)により前記膜厚STを求める請求項1
    に記載の配管等構造体における膜厚測定方法。 ST=dt1・Vs/2 (1) 但し、gx(t)は次式(2)で表示され、f(t)は
    構造体(50)に前記薄膜(60)が付着していない場
    合の第一反射波の関数、dt1は第一反射波及び第二反
    射波の理論上の立ち上がり部の時間差、Vsは薄膜の音
    速、Z1は構造体の音響インピーダンス、Z2は薄膜
    (60)の音響インピーダンス、Z3は構造体内に収容
    される内容物の音響インピーダンスである。 gx(t,dt1)=(Z2+Z3)/(Z3-Z2)・(Z2-Z1)/(Z1+Z2)f(t) +2Z2/(Z1+Z2)・2Z1/(Z1+Z2)f(t−dt1) (2)
  3. 【請求項3】 前記零点時間差dt0と前記膜厚STと
    の相関を実測又は理論的にあらかじめ検量線として求
    め、実測した前記零点時間差dt0と前記検量線との対
    比により前記膜厚STを求める請求項1に記載の配管等
    構造体における膜厚測定方法。
  4. 【請求項4】 前記零点時間差dt0間に零点を下回る
    極小値部Bの存否により前記膜厚STの導出条件を変更
    する請求項1〜3のいずれかに記載の配管等構造体にお
    ける膜厚測定方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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