JP2001220323A - 毛髪化粧料 - Google Patents
毛髪化粧料Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】すすぎ時にぬるつきを感じることなく、毛髪の
きしみを改善し、なめらかな指通りを与えると共に、仕
上り時には優れたコンディショニング効果を与える毛髪
化粧料を提供すること。 【解決手段】ジアルキルジアリルアンモニウム塩のコポ
リマーとカチオン化デキストラン誘導体及びその塩類と
を含む、毛髪化粧料。
きしみを改善し、なめらかな指通りを与えると共に、仕
上り時には優れたコンディショニング効果を与える毛髪
化粧料を提供すること。 【解決手段】ジアルキルジアリルアンモニウム塩のコポ
リマーとカチオン化デキストラン誘導体及びその塩類と
を含む、毛髪化粧料。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、すすぎ時にぬるつ
きを感じることなく、毛髪のきしみを改善し、なめらか
な指通りを与えると共に、仕上り時には柔軟性、保湿性
等の優れたコンディショニング効果を与える毛髪化粧料
に関するものである。
きを感じることなく、毛髪のきしみを改善し、なめらか
な指通りを与えると共に、仕上り時には柔軟性、保湿性
等の優れたコンディショニング効果を与える毛髪化粧料
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、毛髪化粧料においてシャンプー等
の毛髪用洗浄剤は、アニオン界面活性剤を主成分として
おり、洗髪の際には毛髪の汚れだけでなく油分も同時に
除去してしまうため、洗髪中やすすぎ時に毛髪がきし
み、指通りが悪くなる。その際、摩擦によりキューティ
クルの脱落等毛髪の損傷が引き起こされ、洗髪後には毛
髪の柔軟性、保湿性が失われパサついてしまう。そのよ
うな問題を防止するため、現在ではコンディショニング
効果の高いジメチルジアリルアンモニウムハライドとア
クリロアマイドのコポリマーを毛髪化粧料に配合する技
術が知られている(特公平７−１０６９６９号公報)。
の毛髪用洗浄剤は、アニオン界面活性剤を主成分として
おり、洗髪の際には毛髪の汚れだけでなく油分も同時に
除去してしまうため、洗髪中やすすぎ時に毛髪がきし
み、指通りが悪くなる。その際、摩擦によりキューティ
クルの脱落等毛髪の損傷が引き起こされ、洗髪後には毛
髪の柔軟性、保湿性が失われパサついてしまう。そのよ
うな問題を防止するため、現在ではコンディショニング
効果の高いジメチルジアリルアンモニウムハライドとア
クリロアマイドのコポリマーを毛髪化粧料に配合する技
術が知られている(特公平７−１０６９６９号公報)。
【０００３】しかしながら、ジメチルジアリルアンモニ
ウムハライドとアクリロアマイドのコポリマーを毛髪化
粧料に配合した場合、すすぎ時の毛髪のきしみを抑える
効果や洗髪後の毛髪の柔軟性、保湿性に優れているが、
残存感やぬるつきが非常に強く重い感触を与えてしま
う。さらにぬるつきを抑えるために配合量を減量した場
合、洗髪後の毛髪の柔軟性、保湿性が不十分になってし
まうといった問題が残る。
ウムハライドとアクリロアマイドのコポリマーを毛髪化
粧料に配合した場合、すすぎ時の毛髪のきしみを抑える
効果や洗髪後の毛髪の柔軟性、保湿性に優れているが、
残存感やぬるつきが非常に強く重い感触を与えてしま
う。さらにぬるつきを抑えるために配合量を減量した場
合、洗髪後の毛髪の柔軟性、保湿性が不十分になってし
まうといった問題が残る。
【０００４】一方、コンディショニング効果を高める他
の方法としては、カチオン化デキストラン誘導体を毛髪
化粧料に配合することが考えられる（特公昭６４−３８
４３号公報）。しかしながら、毛髪に対する残存性が低
くすすぎ時の毛髪のきしみを抑える効果が不十分であ
る。
の方法としては、カチオン化デキストラン誘導体を毛髪
化粧料に配合することが考えられる（特公昭６４−３８
４３号公報）。しかしながら、毛髪に対する残存性が低
くすすぎ時の毛髪のきしみを抑える効果が不十分であ
る。
【０００５】このような現状から、すすぎ時にはぬるつ
かず、毛髪のきしみを改善し、なめらかな指通りを与え
ると共に、仕上り時には柔軟性、保湿性等の優れたコン
ディショニング効果を与える毛髪化粧料の開発が要望さ
れていた。
かず、毛髪のきしみを改善し、なめらかな指通りを与え
ると共に、仕上り時には柔軟性、保湿性等の優れたコン
ディショニング効果を与える毛髪化粧料の開発が要望さ
れていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたもので、すすぎ時にぬるつきを感じること
なく、毛髪のきしみを改善し、なめらかな指通りを与え
ると共に、仕上り時には優れたコンディショニング効果
を与える毛髪化粧料を提供することを課題とする。
みてなされたもので、すすぎ時にぬるつきを感じること
なく、毛髪のきしみを改善し、なめらかな指通りを与え
ると共に、仕上り時には優れたコンディショニング効果
を与える毛髪化粧料を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １．（Ａ）ジアルキルジアリルアンモニウム塩のコポリ
マーと（Ｂ）カチオン化デキストラン誘導体及びその塩
類とを含む、毛髪化粧料、２．前記成分（Ａ）と前記成
分（Ｂ）との重量比が1/10〜10/1である前記１の毛髪化
粧料、 ３．前記成分（Ａ）が下記一般式１及び２
マーと（Ｂ）カチオン化デキストラン誘導体及びその塩
類とを含む、毛髪化粧料、２．前記成分（Ａ）と前記成
分（Ｂ）との重量比が1/10〜10/1である前記１の毛髪化
粧料、 ３．前記成分（Ａ）が下記一般式１及び２
【化３】
【化４】 （但し、式中R1及びR2は水素原子又はメチル基、X−は
ハロゲンイオンであり、ａ及びｂは化合物の分子量を10
0万〜150万にする数である。）で示されるジメチルジア
リルアンモニウムハライドとアクリロアマイドとのコポ
リマーである前記１又は２の毛髪化粧料、 ４．シャンプー又はトリートメントである、前記１〜３
の毛髪化粧料、に関する。本発明の毛髪化粧料は、
（Ａ）及び（Ｂ）の両成分が相乗的に作用し、すすぎ時
にぬるつきを感じることなく、毛髪のきしみを改善し、
なめらかな指通りを与えると共に、仕上り時には優れた
コンディショニング効果を与える。以下、本発明につい
て実施の形態を中心に詳細に説明を加える。
ハロゲンイオンであり、ａ及びｂは化合物の分子量を10
0万〜150万にする数である。）で示されるジメチルジア
リルアンモニウムハライドとアクリロアマイドとのコポ
リマーである前記１又は２の毛髪化粧料、 ４．シャンプー又はトリートメントである、前記１〜３
の毛髪化粧料、に関する。本発明の毛髪化粧料は、
（Ａ）及び（Ｂ）の両成分が相乗的に作用し、すすぎ時
にぬるつきを感じることなく、毛髪のきしみを改善し、
なめらかな指通りを与えると共に、仕上り時には優れた
コンディショニング効果を与える。以下、本発明につい
て実施の形態を中心に詳細に説明を加える。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる前記の成分
（Ａ）として具体的には、下記式Ｉ、ＩＩ
（Ａ）として具体的には、下記式Ｉ、ＩＩ
【化５】
【化６】 （式中、置換基Ra及びRbは同一でも相異なっていてもよ
く、炭素数１〜３のアルキル基、フェニル基または水素
原子であり、Rc及びRdは同一でも相異なっていてもよい
が、炭素数１〜18のアルキル基又は水素原子を表わす。
また、Z−はアニオン残基を表わす。ｐ、ｑはそれぞれ
化合物の分子量を100万〜150万にする数を表わす。）で
示される化合物を挙げることができる。Rc及びRdは、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表わす。Z−は、
例えば塩素イオン、臭素イオン等のハロゲンイオン、硫
酸、硝酸のような無機酸の残基、メチル硫酸、ヒドロキ
シカルボン酸のような有機酸の残基などである。
く、炭素数１〜３のアルキル基、フェニル基または水素
原子であり、Rc及びRdは同一でも相異なっていてもよい
が、炭素数１〜18のアルキル基又は水素原子を表わす。
また、Z−はアニオン残基を表わす。ｐ、ｑはそれぞれ
化合物の分子量を100万〜150万にする数を表わす。）で
示される化合物を挙げることができる。Rc及びRdは、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表わす。Z−は、
例えば塩素イオン、臭素イオン等のハロゲンイオン、硫
酸、硝酸のような無機酸の残基、メチル硫酸、ヒドロキ
シカルボン酸のような有機酸の残基などである。
【０００９】本発明においては、式Ｉ、ＩＩで示される
コポリマーの１種又は２種以上を使用することができる
が、特に下記式１及び２
コポリマーの１種又は２種以上を使用することができる
が、特に下記式１及び２
【化７】
【化８】 （式中、R1及びR2は水素原子又はメチル基、X−はハロ
ゲンイオンを表わし、ａ及びｂは化合物の分子量を100
万〜150万にする数を表わす。）で示されるジメチルジ
アリルアンモニウムハライドとアクリロアマイドとのコ
ポリマーを使用することが好適である。例えば、カルゴ
ン社製のMERQUAT 2200等が使用できる。
ゲンイオンを表わし、ａ及びｂは化合物の分子量を100
万〜150万にする数を表わす。）で示されるジメチルジ
アリルアンモニウムハライドとアクリロアマイドとのコ
ポリマーを使用することが好適である。例えば、カルゴ
ン社製のMERQUAT 2200等が使用できる。
【００１０】次いで、前記の成分（Ｂ）としては特に限
定されないが、下記一般式ＩＩＩ
定されないが、下記一般式ＩＩＩ
【化９】 （式中、R5は水素原子及び下記式ＩＶ
【化１０】 で示される第４級窒素含有基であり、ここでR6、R7及び
R8は、それぞれ低級アルキル基を表わし、ｎは１〜8000
の整数を表わす。）で示される化合物を使用することが
好ましい。なお、上記式ＩＩＩで示されるカチオン化デ
キストラン誘導体及びその塩類として、名糖産業社製の
CDCを使用することができる。低級アルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル又はiso−
ブチルを挙げることができる。塩としては、塩酸塩、リ
ン酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機塩、酢酸塩、クエ
ン酸塩、シュウ酸塩、マロン酸塩のような有機酸塩を挙
げることができる。
R8は、それぞれ低級アルキル基を表わし、ｎは１〜8000
の整数を表わす。）で示される化合物を使用することが
好ましい。なお、上記式ＩＩＩで示されるカチオン化デ
キストラン誘導体及びその塩類として、名糖産業社製の
CDCを使用することができる。低級アルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル又はiso−
ブチルを挙げることができる。塩としては、塩酸塩、リ
ン酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機塩、酢酸塩、クエ
ン酸塩、シュウ酸塩、マロン酸塩のような有機酸塩を挙
げることができる。
【００１１】本発明の毛髪化粧料においては、前記の成
分（Ａ）と（Ｂ）とを重量比で1/10〜10/1となるように
配合することが好ましい。また、両成分の配合量は適宜
選択することができるが、成分（Ａ）は毛髪化粧料の0.
01〜２重量％、成分（Ｂ）は毛髪化粧料の0.01〜３重量
％配合することが好ましい。上記範囲より少ない両成分
の配合量では、すすぎ時に毛髪がきしんで指通りが悪く
なったり、仕上り時に充分に優れたコンディショニング
効果が得られない場合が生じることがある。上記範囲を
超える両成分の配合量では、すすぎ時に残存感が強く、
ぬるつきが感じられる場合がある。
分（Ａ）と（Ｂ）とを重量比で1/10〜10/1となるように
配合することが好ましい。また、両成分の配合量は適宜
選択することができるが、成分（Ａ）は毛髪化粧料の0.
01〜２重量％、成分（Ｂ）は毛髪化粧料の0.01〜３重量
％配合することが好ましい。上記範囲より少ない両成分
の配合量では、すすぎ時に毛髪がきしんで指通りが悪く
なったり、仕上り時に充分に優れたコンディショニング
効果が得られない場合が生じることがある。上記範囲を
超える両成分の配合量では、すすぎ時に残存感が強く、
ぬるつきが感じられる場合がある。
【００１２】本発明の毛髪化粧料には上記の成分
（Ａ）、（Ｂ）以外に毛髪化粧料中で通常使用されてい
る任意の配合成分を本発明の目的とする効果に影響を与
えない範囲で加えることができる。かかる任意成分とし
ては、例えば、ワセリンやマイクロクリスタリンワック
ス等のような炭化水素類、ホホバ油やゲイロウ等のエス
テル類、牛脂、オリーブ油等のトリグリセライド類、ミ
リスチルアルコール、ベヘニルアルコール等の高級アル
コール類、ステアリン酸、ミリスチン酸等の脂肪酸、ジ
プロピレングリコール、グリセリン、１，３−ブチレン
グリコール、ピロリドンカルボン酸ナトリウム、ムコ多
糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサン、シ
ョ糖等の保湿剤、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ショ
糖脂肪酸エステル、ポリオキシプロピレンアルキルエー
テル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン、エ
タノール、キサンタンガム、カルボキシビニルポリマ
ー、ポリエチレングリコール等の増粘剤、加水分解ケラ
チン、シルク、コラーゲン蛋白誘導体等の動植物天然エ
キス、アミノ酸、パール化剤、水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム等のｐＨ調整剤、精油を含む香料、防腐剤等
が挙げられ、これらの一種または二種以上を配合するこ
とができる。
（Ａ）、（Ｂ）以外に毛髪化粧料中で通常使用されてい
る任意の配合成分を本発明の目的とする効果に影響を与
えない範囲で加えることができる。かかる任意成分とし
ては、例えば、ワセリンやマイクロクリスタリンワック
ス等のような炭化水素類、ホホバ油やゲイロウ等のエス
テル類、牛脂、オリーブ油等のトリグリセライド類、ミ
リスチルアルコール、ベヘニルアルコール等の高級アル
コール類、ステアリン酸、ミリスチン酸等の脂肪酸、ジ
プロピレングリコール、グリセリン、１，３−ブチレン
グリコール、ピロリドンカルボン酸ナトリウム、ムコ多
糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサン、シ
ョ糖等の保湿剤、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ショ
糖脂肪酸エステル、ポリオキシプロピレンアルキルエー
テル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン、エ
タノール、キサンタンガム、カルボキシビニルポリマ
ー、ポリエチレングリコール等の増粘剤、加水分解ケラ
チン、シルク、コラーゲン蛋白誘導体等の動植物天然エ
キス、アミノ酸、パール化剤、水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム等のｐＨ調整剤、精油を含む香料、防腐剤等
が挙げられ、これらの一種または二種以上を配合するこ
とができる。
【００１３】本発明の毛髪化粧料とは、毛髪に使用する
任意の化粧料を意味し、シャンプー等のいわゆる毛髪洗
浄剤や、ヘアリンス、ヘアトリートメント、ヘアパック
等のいわゆる毛髪処理剤等を広く含むものである。特
に、シャンプー又はトリートメントが好ましい。
任意の化粧料を意味し、シャンプー等のいわゆる毛髪洗
浄剤や、ヘアリンス、ヘアトリートメント、ヘアパック
等のいわゆる毛髪処理剤等を広く含むものである。特
に、シャンプー又はトリートメントが好ましい。
【００１４】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明はこれによって何ら限定されるも
のではない。なお、配合量は重量％である。
に説明するが、本発明はこれによって何ら限定されるも
のではない。なお、配合量は重量％である。
【００１５】（実施例、比較例）第１表に示す組成のシ
ャンプーを調整した。官能評価は以下の試験法を用いて
評価した。頭髪を左右に２分割し軽くすすいで水分を含
ませた後、左右それぞれの毛髪に約３．５gの試料を塗
布し洗浄した。室温で乾燥後、下記の評価基準によって
すすぎ時のぬるつき、毛髪のきしみ、なめらかな指通り
及び仕上り時の柔軟性、保湿性を専門パネラー数名が評
価した。結果を第１表に併記する。
ャンプーを調整した。官能評価は以下の試験法を用いて
評価した。頭髪を左右に２分割し軽くすすいで水分を含
ませた後、左右それぞれの毛髪に約３．５gの試料を塗
布し洗浄した。室温で乾燥後、下記の評価基準によって
すすぎ時のぬるつき、毛髪のきしみ、なめらかな指通り
及び仕上り時の柔軟性、保湿性を専門パネラー数名が評
価した。結果を第１表に併記する。
【表１】
【００１６】（評価基準） すすぎ時のぬるつき感 ぬるつきが全く感じられない・・・・・＋２ ぬるつきが感じられない・・・・・・・＋１ ぬるつきが感じられる・・・・・・・・−１ ぬるつきが著しく感じられる・・・・・−２ すすぎ時の毛髪のきしみ感 すすぎ時に全くきしまない・・・・・・＋２ すすぎ時にきしまない・・・・・・・・＋１ すすぎ時にややきしみが感じられる・・−１ すすぎ時に著しくきしむ・・・・・・・−１ すすぎ時の毛髪の指通り 毛髪の指通りが非常にある・・・・・・＋２ 毛髪の指通りがややある・・・・・・・＋１ 毛髪の指通りが悪い・・・・・・・・・−１ 毛髪の指通りが非常に悪い・・・・・・−２ 仕上り時の毛髪の柔軟性 毛髪の柔軟性が非常によい・・・・・・＋２ 毛髪の柔軟性がややよい・・・・・・・＋１ 毛髪の柔軟性がほとんどない・・・・・−１ 毛髪の柔軟性がない・・・・・・・・・−２ 仕上り時の毛髪の保湿性 毛髪の保湿性が得られる・・・・・・・＋２ 毛髪の保湿性がやや得られる・・・・・＋１ 毛髪の保湿性がほとんど得られない・・−１ 毛髪の保湿性が得られない・・・・・・−２
【００１７】第１表で示される実施例１、比較例１及び
２のシャンプーは、いずれも、カチオン化デキストラン
誘導体又はジアルキルジアリルアンモニウム塩、或いは
カチオン化デキストラン誘導体とジアルキルジアリルア
ンモニウム塩を同量含んでいる。この試験結果より、ジ
メチルジアリルアンモニウムクロライドとアクリロアマ
イドのコポリマー及びカチオン化デキストラン誘導体の
うち、いずれか１成分しか含有していない比較例１、２
は、すすぎ時の毛髪のぬるつき、きしみ感、指通りのよ
さ及び仕上り時の柔軟性、保湿性のうちいずれかの性能
に劣っているのに対し、上記２成分を併用配合した実施
例１では、両成分を合わせた配合量が比較例の各成分の
配合量と同じであるにもかかわらず全ての評価において
優れた性能を示すことが確認された。
２のシャンプーは、いずれも、カチオン化デキストラン
誘導体又はジアルキルジアリルアンモニウム塩、或いは
カチオン化デキストラン誘導体とジアルキルジアリルア
ンモニウム塩を同量含んでいる。この試験結果より、ジ
メチルジアリルアンモニウムクロライドとアクリロアマ
イドのコポリマー及びカチオン化デキストラン誘導体の
うち、いずれか１成分しか含有していない比較例１、２
は、すすぎ時の毛髪のぬるつき、きしみ感、指通りのよ
さ及び仕上り時の柔軟性、保湿性のうちいずれかの性能
に劣っているのに対し、上記２成分を併用配合した実施
例１では、両成分を合わせた配合量が比較例の各成分の
配合量と同じであるにもかかわらず全ての評価において
優れた性能を示すことが確認された。
【００１８】
【発明の効果】以上記載のごとく本発明は上記事情に鑑
みてなされたもので、すすぎ時にぬるつきを感じること
なく、毛髪のきしみを改善し、なめらかな指通りを与え
ると共に、仕上り時には優れたコンディショニング効果
を与える毛髪化粧料を提供する。
みてなされたもので、すすぎ時にぬるつきを感じること
なく、毛髪のきしみを改善し、なめらかな指通りを与え
ると共に、仕上り時には優れたコンディショニング効果
を与える毛髪化粧料を提供する。
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）ジアルキルジアリルアンモニウム
塩のコポリマーと（Ｂ）カチオン化デキストラン誘導体
及びその塩類とを含む、毛髪化粧料。 - 【請求項２】 前記成分（Ａ）と前記成分（Ｂ）との重
量比が1/10〜10/1である請求項１記載の毛髪化粧料。 - 【請求項３】 前記成分（Ａ）が下記一般式１及び２
（但し、式中R1及びR2は水素原子又はメチル基、X−は
ハロゲンイオンであり、ａ及びｂは化合物の分子量を10
0万〜150万にする数である。）で示されるジメチルジア
リルアンモニウムハライドとアクリロアマイドとのコポ
リマーである請求項１又は２記載の毛髪化粧料。 【化１】 【化２】 - 【請求項４】 シャンプー又はトリートメントであるこ
とを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の毛
髪化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000028611A JP2001220323A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | 毛髪化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000028611A JP2001220323A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | 毛髪化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001220323A true JP2001220323A (ja) | 2001-08-14 |
Family
ID=18553989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000028611A Pending JP2001220323A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | 毛髪化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001220323A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022203865A1 (en) * | 2021-03-22 | 2022-09-29 | Dow Global Technologies Llc | Hair conditioner |
-
2000
- 2000-02-07 JP JP2000028611A patent/JP2001220323A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022203865A1 (en) * | 2021-03-22 | 2022-09-29 | Dow Global Technologies Llc | Hair conditioner |
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