JP2001213862A - ε−カプロラクタムの製造方法およびこれに使用する触媒 - Google Patents
ε−カプロラクタムの製造方法およびこれに使用する触媒Info
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Abstract
ヘキサノンオキシムからε−カプロラクタムを製造する
方法において、シクロヘキサノンオキシムの転化率およ
びε−カプロラクタムの選択率を改善したε−カプロラ
クタムの製造方法およびこれに使用する触媒を提供する
ことである。 【解決手段】固体触媒として、表面に酸化ホウ素を蒸着
したゼオライト触媒を使用するか、あるいは水熱合成反
応によって得られたゼオライトをアルカリ処理した後、
空気中でか焼したゼオライト触媒を使用する。
Description
気相反応条件下にてシクロヘキサノンオキシムからε−
カプロラクタムを製造する方法およびこれに使用する触
媒に関する。
して用いられている重要な基幹化学原料である。ε−カ
プロラクタムの製造方法としては、触媒として濃硫酸ま
たは発煙硫酸を用いて液相下にシクロヘキサノンオキシ
ムをε−カプロラクタムに転位させる方法(液相ベック
マン転位反応)が知られている。
方法は、硫酸を中和するために多量のアンモニアが必要
であり、その結果、副生成物として多量の硫酸アンモニ
ウムが発生し、その処理に多大な費用が必要となる。こ
のため、固体触媒を用いて気体のシクロヘキサノンオキ
シムをベックマン転位させる方法(気相ベックマン転位
反応)が古くから注目されている。
体触媒(不均一触媒)の存在下でシクロヘキサノンオキ
シム蒸気を反応させる方法であり、用いる固体触媒とし
ては例えば(1) シリカゲル触媒(米国特許第22345
66号明細書)、(2) シリカアルミナ触媒(英国特許第
831972号明細書)、(3) ゼオライト触媒(ジャー
ナル オブ キャタリシス,6巻,247頁,1966
年発行、米国特許第4359421号明細書、米国特許
第5741904号明細書)等が提案されている。
等に比較してε−カプロラクタムへの選択率や触媒寿命
に優れていることから、種々の組成を有する結晶性ゼオ
ライト触媒が開発されており、転化率や選択率の改善さ
れた触媒が紹介されているが、まだ充分ではない。
触媒を使用して気相反応条件下でシクロヘキサノンオキ
シムからε−カプロラクタムを製造する方法において、
シクロヘキサノンオキシムの転化率およびε−カプロラ
クタムの選択率を改善したε−カプロラクタムの製造方
法およびこれに使用する触媒を提供することである。
の本発明の第1の方法は、気相反応条件下で固体触媒を
用いてシクロヘキサノンオキシムからε−カプロラクタ
ムを製造する方法において、前記固体触媒として、表面
に酸化ホウ素を蒸着したゼオライト触媒を使用すること
を特徴とする。
れる触媒をも提供するものであって、この触媒は、気相
反応条件下でシクロヘキサノンオキシムからε−カプロ
ラクタムを製造するために使用されるゼオライト触媒で
あって、該ゼオライト触媒の表面に酸化ホウ素を蒸着し
たことを特徴とする。
固体触媒を用いてシクロヘキサノンオキシムからε−カ
プロラクタムを製造する方法において、前記固体触媒と
して、水熱合成反応によって得られたゼオライトをアル
カリ処理した後、空気中でか焼したゼオライト触媒を使
用することを特徴とする。
晶性ゼオライト触媒であり、これには結晶性アルミノシ
リケートや結晶性メタロシリケート等が包含される。結
晶性メタロシリケートとしては、例えばSi/M原子比
(ここにMはB,Al,Ga,Fe,TiおよびZrか
らなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素を示
す)が通常5以上、好ましくは50以上のものが挙げら
れる。Si/M原子比は、原子吸光分析、蛍光X線分析
等により測定することができる。
分がSiのみからなる所謂高シリカゼオライトあるいは
金属成分としてBを含有するMFIゼオライト(以下、
[B]−ZSMという)は特に好ましい結晶性ゼオライ
トの一つである。
することができ、例えばシリカ源、水、有機アミンもし
くは第四級アンモニウム化合物、さらに必要に応じて金
属源を加えた混合物をオートクレーブ中で水熱合成反応
させた後、得られた結晶を乾燥し、か焼し、必要に応じ
てアンモニウム塩等でイオン交換し、乾燥することによ
り得ることができる。結晶性メタロシリケートには種々
の構造のものがあるが、MFI、MFL、BEA型構造
に属するものが好ましい。一例として高シリケート性の
MFI−ゼオライトであるシリカライト−1はテトラエ
チルオルソシリケート、水、水酸化テトラプロピルアン
モニウムの混合液を自己圧下に水熱合成することにより
合成することができる。また、ホウ素を含有するゼオラ
イトは実施例に示すように、シリカ、ヘキサメチレンジ
アミン、水の混合物を自己圧下に水熱合成することによ
り製造できる。
表面に酸化ホウ素を蒸着したゼオライト触媒を使用す
る。使用するゼオライト触媒としては、例えば高シリケ
ート性のMFI−ゼオライト(シリカライト)が挙げら
れるが、他の結晶性ゼオライトであっても使用可能であ
る。また、使用するゼオライト触媒は粉状ないし粒状で
あるのがよく、例えば粒径が0.01〜5mm、なかん
づく0.02〜3mmのものが挙げられる。
するには、例えば化学蒸着法(CVD法)、スパッタリ
ング法等が使用可能である。CVD法により酸化ホウ素
を蒸着するには、ゼオライト触媒を反応器に充填し、所
定の反応温度に加熱する。一方、ホウ酸またはそのエス
テル(例えばホウ酸トリエチル等)を有機溶媒に溶解し
て気化させ、これを酸化剤を兼ねたキャリヤーガスにて
前記反応器内に送るか、或いはホウ酸またはそのエステ
ルを直接に昇華あるいは蒸発させ、これを酸化剤を兼ね
たキャリヤーガスにて前記反応器内に送り、ゼオライト
触媒の表面に反応生成物である酸化ホウ素を蒸着させ
る。
エステルを溶解しうるものであればいずれの溶媒も使用
可能であり、具体例としてはトルエン、キシレン等が挙
げられる。また、前記酸化剤を兼ねたキャリヤーガスと
しては、例えば空気、酸素ガス等が挙げられ、特に空気
を使用するのが好ましい。CVD法における反応温度は
特に限定されないが、250〜500℃であるのが好ま
しい。
の蒸着に先立って、予めアルカリ処理するのが好まし
い。かかるアルカリ処理は、例えばアンモニア水または
アンモニアとアンモニウム塩との混合水溶液をゼオライ
ト触媒に充分に接触させて行われる。アンモニウム塩と
しては、例えば塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、
硝酸アンモニウム等が挙げられる。
クレーブ等の反応釜にゼオライト触媒を充填し、この反
応釜に前記したアルカリ性の水溶液を注入し、ゼオライ
ト触媒を攪拌下に浸漬する方法、あるいはゼオライト触
媒を充填したカラムにアルカリ性の水溶液を通過する方
法等が挙げられる。具体的には、ゼオライト触媒をアン
モニア水またはアンモニアとアンモニウム塩との混合水
溶液に浸漬し、攪拌しながら約20〜120℃の温度で
約30分〜10時間程度保持してアルカリ処理を行う。
し、水で洗浄し、約80〜150℃で約1〜10時間乾
燥させた後、前記した蒸着処理に供する。酸化ホウ素の
蒸着量は、該酸化ホウ素が触媒表面に均一に分散して蒸
着されている限り、特に限定されない。
前記した水熱合成反応によって得られたゼオライトをア
ルカリ処理した後、空気中でか焼したゼオライト触媒を
使用するものである。前記ゼオライトとしては、例えば
前記した結晶性メタロシリケートが挙げられ、特にホウ
素含有MFIゼオライト([B]−ZSM−5)が好適
に使用可能である。
発明の第1の方法におけるアルカリ処理と同様にして、
アンモニア水またはアンモニアとアンモニウム塩との混
合水溶液等に前記ゼオライトを接触させて行われ、特に
アンモニアとアンモニウム塩との混合水溶液に前記ゼオ
ライトを接触させる方法が好ましい。アンモニアとアン
モニウム塩を使用する場合のこれらの混合割合は特に限
定されないが、アンモニア100重量部に対してアンモ
ニウム塩20〜400重量部程度であるのがよい。
で洗浄し、80〜150℃で1〜10時間乾燥させた
後、通常のゼオライト触媒を製造する場合と同様の条件
でか焼する。具体的には、空気中にて350〜650
℃、好ましくは450〜600℃で1〜20時間か焼す
ることによってゼオライト触媒が得られる。本発明の第
1および第2の方法におけるゼオライト触媒は、粉末形
態或いは触媒としての所望の形状に成形した成形体の形
態で使用されるが、担体上に担持させて使用してもよ
い。
ヘキサノンオキシムをε−カプロラクタムに転位させる
気相ベックマン転位反応に使用される。反応は、固定層
式または流動層式の気相接触反応によって行う。原料シ
クロヘキサノンオキシムは気体状態で触媒層に導入され
る。反応温度は、通常250〜500℃程度がよく、2
50℃未満では反応速度が充分でなく、かつε−カプロ
ラクタムの選択率も低下する傾向がある。一方、温度が
500℃を超えると、シクロヘキサノンオキシムの熱分
解が無視できなくなり、またε−カプロラクタムの選択
率が低下する傾向がある。特に好ましい温度範囲は約3
00〜400℃である。また、反応圧力は特に限定され
るものではないが、減圧下であるのが好ましく、通常約
5kPa〜0.2MPa、好ましくは約5kPa〜0.
1MPaである。
は、通常WHSV=約0.1〜20h-1(すなわち、触
媒1g当たりシクロヘキサノンオキシムの供給速度が約
0.1〜20g/時間)、好ましくは約0.2〜10h
-1の範囲から選ばれる。また、シクロヘキサノンオキシ
ムの転位反応に際して、反応系にシクロヘキサノンオキ
シムと共に炭素数1〜6の低級アルコールを共存させて
もよい。かかる低級アルコールの使用により、ε−カプ
ロラクタムの選択率および触媒寿命が改善されうる。
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノ
ール、n−アミルアルコール、n−ヘキサノール等が挙
げられ、これらは1種または2種以上が用いられる。中
でも、メタノールおよび/またはエタノールを使用する
のが好ましい。低級アルコールを使用する場合、その存
在量はシクロヘキサノンオキシムに対して重量比で約
0.1〜20倍量が適当であり、好ましくは約0.2〜
10倍量であるのがよい。
離は、通常の方法で実施でき、例えば反応生成ガスを冷
却して凝縮させ、ついで抽出、蒸留あるいは晶析等によ
って精製することによってε−カプロラクタムを効率的
に製造することができる。
説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるも
のではない。
ート性のMFI−ゼオライトであるシリカライト−1の
5gを、25重量%のアンモニア水5gと20重量%の
硝酸アンモニウム水溶液15gとの溶液に加え、混合物
をステンレス製オートクレーブ中90℃で1時間、自己
圧下にて攪拌した。固形物を洗浄し、ろ過して110℃
で4時間乾燥した。得られた3gの触媒ペレット(0.
5〜1mm)を後述する触媒試験に使用したと同じ固定
層型反応器内に設置した。一方、ホウ酸トリエチルB
(OC2 H 5)3 をトルエンに溶解し(10重量%)、
この混合物を5g/時間のマスフローにて気化させ、キ
ャリヤーガスおよび酸化剤として空気を用いて(5L/
時間)、前記反応器に4時間供給した。そして、250
℃、300℃、350℃および400℃の各反応温度に
て化学蒸着を行わせ、4種類の触媒、すなわちSil
(B−250)、Sil(B−300)、Sil(B−
350)、Sil(B−400)を得た。得られた触媒
をバインダーなしで押し出し成形を行ってタブレットを
得、ついで粉砕し、篩分けした0.5〜1mmのものを
下記の触媒試験に使用した。
らε−カプロラクタムを得る気相ベックマン転位反応を
内径10mmの固定層反応器内にて実施した。触媒量を
1.5gとしたため、触媒層の長さは約40mmであっ
た。シクロヘキサノンオキシムとエタノールとの溶液
(重量比で1:9)を気化し、キャリヤーガス(窒素)
を使用して反応器に供給した。主要反応条件は、300
℃で0.1bar(10kPa)、シクロヘキサノンオ
キシムの空間速度をWHSV=0.33h-1とした。液
体窒素で冷却して得られた反応生成物は、内部標準とし
てウンデカン酸メチルを使用したガスクロマトグラフィ
ー(50mFS−SE54カラム)にて分析した。比較
のために、酸化ホウ素の蒸着処理を行わなかったシリカ
ライト−1(Sil)についても同様にして触媒試験を
行った。試験結果を表1に示す。
ε−カプロラクタムの選択率は次式から求めた。 転化率(%)=[(X−Y)/X]×100 選択率(%)=[Z/(X−Y)]×100 ただし、X、YおよびZは以下のとおりである。 X=供給した原料シクロヘキサノンオキシムのモル数 Y=未反応シクロヘキサノンオキシムのモル数 Z=生成物中のε−カプロラクタムのモル数 表1から明らかなように、CVD処理しなかったシリカ
ライト−1(Sil)は、反応開始から2時間経過後の
転化率は高い値を示したが、8時間経過後では転化率が
90%まで低下した。これに対して、酸化ホウ素を蒸着
したSil(B−250)、Sil(B−300)、S
il(B−350)およびSil(B−400)は、8
時間経過でも高い転化率を維持していた。特に、300
℃の反応温度で処理したSil(B−300)では8時
間経過後で約98%の高い転化率を示していた。
ヘキサメチレンジアミンの50重量%水溶液800gに
攪拌下で加え、ついでSiO2 [アエロジル(Aerosil)
−200]の64gを加えた。得られたゲルを170℃
で自己圧下(攪拌速度50rpm)にオートクレーブ中
で水熱合成反応を行った。14日後、結晶を分離し、蒸
留水で洗浄後、110℃で12時間乾燥し、[B]−Z
SM−5の初期生成物(以下、これをBZSMという)
を得た。このようにして得たゼオライトの5gを、25
重量%のアンモニア水と20重量%の硝酸アンモニウム
水溶液との混合液20gに攪拌しながら加えた。その
際、アンモニア水と硝酸アンモニウム水溶液との重量比
(w)を調整することによって、異なるアンモニア濃度
でBZSMを処理し、BZSM(3)、BZSM
(1)、BZSM(0.33)を得た(括弧内は上記重
量比(w)を示している)。処理操作は、ステンレスス
チール製のオートクレーブ内で自圧下90℃で1時間行
った。アルカリ処理後、ゼオライトをろ別し、110℃
で4時間乾燥させ、大気中550℃で12時間か焼した
(加熱速度2℃/分)。
[B]−ZSM−5を調製した。
にして触媒試験を行い、シクロヘキサノンオキシムの転
化率を反応開始からの経過時間毎に求めた。その結果を
図1に示す。図1から明らかなように、アルカリ処理さ
れた実施例の触媒は、比較例の触媒と比較して高い転化
率が得られたことから、活性が向上していることがわか
る。特に、重量比(w)が1および0.33であるBZ
SM(1)およびBZSM(0.33)は、2時間経過
後で84%という最も高い転化率を示した。なお、実施
例および比較例の各触媒はいずれもε−カプロラクタム
への選択率が93%程度であった。
に酸化ホウ素を蒸着したゼオライト触媒を使用するか、
あるいは水熱合成反応によって得られたゼオライトをア
ルカリ処理した後、空気中でか焼したゼオライト触媒を
使用することによって、気相ベンクマン転位反応におけ
るシクロヘキサノンオキシムの転化率およびε−カプロ
ラクタムの選択率が向上するという効果がある。
トを用いた触媒試験におけるシクロヘキサノンオキシム
の転化率の経時変化を示すグラフである。
Claims (11)
- 【請求項1】気相反応条件下で固体触媒を用いてシクロ
ヘキサノンオキシムからε−カプロラクタムを製造する
方法において、前記固体触媒として、表面に酸化ホウ素
を蒸着したゼオライト触媒を使用することを特徴とする
ε−カプロラクタムの製造方法。 - 【請求項2】前記ゼオライト触媒が高シリケート性のM
FI−ゼオライトである請求項1記載の方法。 - 【請求項3】前記酸化ホウ素が、所定の反応温度に加熱
されたゼオライト触媒の表面にホウ酸またはそのエステ
ルと酸化剤との混合ガスを流して、該ゼオライト触媒の
表面に蒸着された請求項1または2記載の方法。 - 【請求項4】反応温度が250〜500℃である請求項
3記載の方法。 - 【請求項5】前記ゼオライト触媒をアルカリ処理した
後、表面に酸化ホウ素を蒸着した請求項1〜4のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項6】前記アルカリ処理がアンモニア水またはア
ンモニアとアンモニウム塩との混合水溶液をゼオライト
触媒に接触させて行われる請求項5記載の方法。 - 【請求項7】気相反応条件下でシクロヘキサノンオキシ
ムからε−カプロラクタムを製造するために使用される
ゼオライト触媒であって、該ゼオライト触媒の表面に酸
化ホウ素を蒸着したことを特徴とする触媒。 - 【請求項8】前記ゼオライト触媒が高シリケート性のM
FI−ゼオライトである請求項1記載の触媒。 - 【請求項9】気相反応条件下で固体触媒を用いてシクロ
ヘキサノンオキシムからε−カプロラクタムを製造する
方法において、前記固体触媒として、水熱合成反応によ
って得られたゼオライトをアルカリ処理した後、空気中
でか焼したゼオライト触媒を使用することを特徴とする
ε−カプロラクタムの製造方法。 - 【請求項10】前記ゼオライト触媒がホウ素含有MFI
ゼオライトである請求項10記載の方法。 - 【請求項11】前記アルカリ処理がアンモニア水または
アンモニアとアンモニウム塩との混合水溶液をゼオライ
トに接触させて行われる請求項10記載の方法。
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