JP2001213063A - 平版印刷版材料及びそれを用いる平版印刷版の作製方法 - Google Patents

平版印刷版材料及びそれを用いる平版印刷版の作製方法

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JP2001213063A
JP2001213063A JP2000027670A JP2000027670A JP2001213063A JP 2001213063 A JP2001213063 A JP 2001213063A JP 2000027670 A JP2000027670 A JP 2000027670A JP 2000027670 A JP2000027670 A JP 2000027670A JP 2001213063 A JP2001213063 A JP 2001213063A
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plate material
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layer
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JP2000027670A
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Nobuyuki Ishii
信行 石井
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基材上に、無機粒子と有機結合剤を含有する
親水性層を有する平版印刷版材料の問題(基材と親水性
層との接着性)が改良され、耐刷性、耐傷性および汚れ
性が優れた平版印刷版が得られる平版印刷版材料、およ
びそれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。 【解決手段】 基材上に親水性層を有する平版印刷版
材料において、該基材が大気圧グロー放電プラズマ処理
されており、かつ、該親水性層が無機粒子を60質量%
以上含有し、かつ該親水性層中の有機結合剤の含有量が
20質量%以下である平版印刷版材料。上記におい
て、大気圧グロー放電プラズマ処理に用いる励起ガスが
Ar又はHeであり、反応ガスがO2、N2、H2又はC
2である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、CTP用平版印刷
版材料に関し、詳しくはプラスチックフィルムや樹脂被
覆紙からなる基材上に親水性層(平版印刷版の非画像部
となる親水性表面を形成する)を有する平版印刷版材料
における該基材と該親水性層との接着性、汚れ性等の改
良に関する。
【0002】
【従来の技術】印刷データのデジタル化に伴い、安価で
取り扱いが容易でPS版と同等の印刷適性を有したCT
P(Computer to Plate)用平版印刷
版材料が求められている。特に近年、レーザー、サーマ
ルヘッド、インクジェット記録による種々の方式のCT
P用平版印刷版材料が提案されている。
【0003】たとえば、特開平8−507727号、特
開平6−186750号、特開平6−199064号、
特開平7−314934号等には、基体上に形成したい
ずれかの層をレーザーでアブレーションにより除去して
平版印刷版を得る技術が開示されている。
【0004】また、たとえば特開平7−1849号、特
開平7−1850号、特開平9−311443号、特開
平10−6468号、特開平10−114168号等に
は、支持体上に親油成分のマイクロカプセルと親水性バ
インダーを含有する三次元架橋された親水性層を設け、
加熱部を親油性に変える技術が、特公平8−2701
号、特開平2−307787号等には、支持体上に無機
顔料、熱可塑性樹脂、熱溶融性物質を含む感熱記録層を
設け、レーザーやサーマルヘッドの熱により親水性、疎
水性の相変化を生じさせる技術が開示されている。さら
に、たとえば特開平9−123387号及び特開平9−
131850号には、平版ベースの親水性表面上に親水
性結合剤中に分散された疎水性熱可塑性重合体粒子を含
む像形成層を設け、像様露光した後、印刷機上で水性液
体で現像処理して平版印刷版を製造する方法が開示され
ている。
【0005】このような平版印刷版の基材としては、従
来のアルミニウム基材よりも加工が容易で加工コストが
低く、ロールの状態で供給することが可能な、プラスチ
ックフィルムやポリオレフィン等で被覆された樹脂被覆
紙の需要が高まっている。
【0006】これらプラスチックフィルムや樹脂被覆紙
は、その上に設ける塗布層との接着性を向上させるため
に、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行う易接着処
理を施すことが知られている。そして、易接着処理とし
ては、コロナ放電処理や火炎処理、紫外線照射処理等
が、下塗り層としては、ゼラチンやラテックスを含む層
等が知られている。
【0007】しかしながら、このような易接着処理や下
塗り層塗布では、いまだ接着性が十分ではなく、印刷中
に基材から塗布層が剥離して、耐刷力が不十分であった
り、何らかの原因で版表面傷を付けたりすると印刷中に
その部分の塗布層が剥離し露出した基材表面にインキが
付着し汚れが発生するなどの問題点を有している。
【0008】このような問題に対して、本発明者は、プ
ラスチックフィルムのような基材上に安価で加工安定性
に優れる塗布で親水性表面を形成する技術として、無機
粒子と有機結合剤を含有する親水性層を基材上に設けた
平版印刷版用支持体を提案した(特願平10−3392
47号等)。
【0009】しかし、このような構成において、親水性
層中の無機粒子の含有量は多いほど汚れ性に有利である
が接着性が十分ではなく、印刷中に基材から親水性層が
剥離し耐刷力が不十分であったり、何らかの原因で版の
表面に傷を付けたりすると、印刷中にその部分の親水性
層が剥離して露出した基材表面にインキが付着して汚れ
が発生するなどの問題点があること、また、有機結合剤
の含有量は多いほど基材との接着性は優れるが汚れ性が
劣る問題があり、汚れ性と接着性との両者を十分に満た
すことが困難であった。また、基材と親水性層との接着
性を向上させるべく、親水性層中に有機結合剤を多く含
有させると、接着性は向上するが、汚れが発生しやす
く、特に手で触った場合に、汗や皮脂の付着に伴う汚れ
(指紋汚れ)が発生するという問題があることが分かっ
た。ここで、上記汚れ性とは、得られた平版印刷版に指
紋を付けることによる印刷物に汚れが発生する現象(以
下「指紋汚れ」という)、および得られた平版印刷版表
面に付着している湿し水なしの状態でインキを版面に付
着させたのち湿し水を供給して印刷したときの印刷物の
非画像部の汚れの回復性(以下「汚し回復性」という)
の両者を含めた総称である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、基
材上に無機粒子と有機結合剤を含有する親水性層を有す
る平版印刷版材料の有する前記問題を解決しようとする
もので、本発明の目的は、基材上に親水性層を有する平
版印刷版材料における、該基材と該親水性層との接着性
が改良され、耐刷性、耐傷性および汚れ性が優れた平版
印刷版が得られる平版印刷版材料およびそれを用いた平
版印刷版の作製方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成によって達成される。
【0012】(1)基材上に親水性層を有する平版印刷
版材料において、該基材が大気圧グロー放電プラズマ処
理されており、該親水性層が無機粒子を60質量%以上
含有し、かつ該親水性層中の有機結合剤の含有量が20
質量%以下であることを特徴とする平版印刷版材料。
【0013】(2)大気圧グロー放電プラズマ処理に用
いる励起ガスがAr及びHeから選ばれる少なくとも1
種であり、反応ガスがO2、N2、H2及びCO2から選ば
れる少なくとも1種であることを特徴とする上記(1)
に記載の平版印刷版材料。
【0014】(3)平版印刷版材料が平版印刷版支持体
であることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の
平版印刷版材料。
【0015】(4)上記(3)に記載の平版印刷版材料
の画像形成をインクジェットで行うことを特徴とする平
版印刷版の作製方法。
【0016】(5)基材上に光熱変換機能を有する素材
を含有する層を有することを特徴とする上記(1)又は
(2)に記載の平版印刷版材料。
【0017】(6)基材上に熱溶融性物質を含有する層
を有することを特徴とする上記(1)、(2)又は
(5)に記載の平版印刷版材料。
【0018】(7)上記(5)又は(6)に記載の平版
印刷版材料の画像形成をサーマルヘッド又はレーザーで
行うことを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【0019】(8)上記(1)、(5)又は(6)に記
載の平版印刷版材料に像様の加熱又は露光を行った後、
該平版印刷版材料に化学的及び/又は物理的画像形成処
理を行うことを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【0020】(9)化学的画像形成処理が水系現像液処
理であることを特徴とする上記(8)に記載の平版印刷
版の作製方法。
【0021】(10)化学的及び/又は物理的画像形成
処理を印刷機上で行うことを特徴とする上記(8)又は
(9)に記載の平版印刷版の作製方法。
【0022】本発明は、基材上に無機粒子と有機結合剤
を含有する親水性層を有する平版印刷版材料の前記問題
が、基材に前記特定の処理を行ない、かつ親水性層中の
無機粒子と有機結合剤との量を限定することによって解
決することを見いだし本発明に到達したものである。
【0023】以下、本発明について詳述する。本発明の
基材としては、平版印刷版の基材として使用される、少
なくとも表面がプラスチックからなる公知の基材を用い
ることができる。そのような基材として、プラスチック
フィルム、プラスチックで被覆された樹脂被覆紙、プラ
スチックをアルミニウムなどの金属板の表面に貼り合わ
せた複合基材等が挙げられる。
【0024】プラスチックフィルムの材料としては、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
スルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエス
テル類等を挙げることができる。これらの中で、ポリエ
チレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが
特に好ましい。
【0025】上記プラスチックフィルムをアルミニウム
などの金属板の表面に貼り合わせた複合基材において、
該プラスチックフィルムの材料としては上記のものが挙
げられる。樹脂被覆紙としては、ポリオレフィン等で表
面を被覆した樹脂被覆紙が挙げられる。樹脂被覆紙も公
知のものでよく、たとえば、特開平9−086061号
公報に開示されているような樹脂被覆紙が挙げられる。
【0026】基材の厚さは、印刷機に取り付け可能であ
れば特に制限されるものではないが、50〜500μm
の範囲が一般的に取り扱いやすい。
【0027】本発明の大気圧グロー放電プラズマ処理
(以下「AGP処理」と記す)としては、バッチ式、連
続式のどちらを用いてもよい。バッチ式の場合、処理室
内は気体の漏れを許容し得る程度の非気密状態とし、不
活性ガスを含む混合ガスを導入する。連続式の場合、処
理室の支持体の長手方向の入口と出口に対向ローラーを
設置し、外気が処理室に侵入するのを防ぐことが好まし
く、対向ローラーは片側に2ヶ所以上設置するのが好ま
しい。これにより外気の混合を減少させ、均一な放電を
可能にすることができる。
【0028】本発明において、励起ガスはアルゴンガス
又はヘリウムガスである。両者はそれぞれ単独で使用し
ても、また混合して使用してもよい。上記励起ガスは、
処理室内に導入される混合ガス(励起ガスと反応ガスと
の)の60圧力%以上であることが好ましい。
【0029】反応ガスとしては、O2、N2、H2及びC
2の各気体の中から選ばれる少なくとも1種類を用い
る。これは、酸素、窒素、水素、酸素又は二酸化炭素か
ら分離した官能基が基材の表面に付くために改質効果が
向上するためである。反応ガスの量が少ないと、支持体
表面に付く官能基が少なく改質の効果が低下し、一方、
反応ガスの量が多いと放電が不安定になる。そのため、
反応ガスは混合ガスの1〜20圧力%、好ましくは2〜
15圧力%含まれることが好ましい。
【0030】処理室に導入するガスの種類及び条件は、
バッチ式、連続式ともに同じである。AGP処理は大気
圧もしくはその近傍下で放電処理を行なうことを特徴と
する。ここで、大気圧近傍下とは、13〜106kPa
の圧力下をいい、好ましくは93〜104kPaであ
る。
【0031】本発明の親水性層は、無機粒子を60質量
%以上含有し、該親水性層中の有機結合剤の含有量が2
0質量%以下である層である。該親水性層は、平版印刷
版におけるインキ反発性層となることができ、下記〜
のような公知の平版印刷版の親水性層を少なくとも包
含する。
【0032】親水性層上にインク・ジェットで描画し
てインキ受容性の画像層を形成して平版印刷版が得られ
る該親水性層。感熱転写法で転写してインク受容性の
画像層を形成することができる親水性層。親水性層上
に、光硬化性又は光可溶性感光層を塗設し、該感光層を
画像様に露光して硬化又は可溶化し、硬化部又は非可溶
化部の感光層を画線部とし、それ以外の感光層を除去し
て平版印刷版面が得られる該親水性層。親水性層上
に、光熱変換材を含有する熱硬化性又は熱可溶性感熱層
を塗設し、該感熱層をレーザーで走査露光して画像様に
加熱し硬化又は可溶化し、画像様に除去して平版印刷版
を得る平版印刷版材料の該親水性層。基材上に設けた
親水性層上にアブレーション層を設け、該層をアブレー
ションで画像様に除去して平版印刷版が得られる該親水
性層。無機顔料、熱可塑性有機結合剤及び熱溶融性物
質を含有する感熱親水性層を設け該層をレーザーによる
走査露光で画像様に加熱し親水−疎水の相変化させて平
版印刷版を得る該感熱親水性層。親水性層上に水で除
去可能でレーザー加熱等により水に不溶化する熱可塑性
微粒子を含有する層を設け、印刷機上で現像処理して平
版印刷版とする該親水性層。
【0033】本発明の親水性層が含有する無機粒子とし
ては、多孔質シリカ、多孔質アルミノシリケート、ゼオ
ライト、カオリナイト、ハロイサイト、クリソタイル、
タルク、スメクタイト(モンモリロナイト、バイデライ
ト、ヘクトライト、サボナイト等)、バーミキュライ
ト、マイカ(雲母)、クロライトといった粘土鉱物およ
びハイドロタルサイト、層状ポリケイ酸塩(カネマイ
ト、マカタイト、アイアライト、マガディアイト、ケニ
ヤアイト等)等が挙げられる。親水性層中の無機粒子の
量は親水性層全体の60質量%以上であるが、80質量
%以上であることがより好ましい。
【0034】本発明の親水性層が含有する有機結合剤と
しては、親水性を有するものが好ましく、例えば、カゼ
イン、大豆タンパク、合成タンパク等のタンパク質類;
キチン類、澱粉類、ゼラチン類、ポリビニルアルコー
ル、シリル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポ
リビニルアルコール、メチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースやヒドロキシエチルセルロース等のセル
ロース誘導体;ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレ
ンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルエ
ーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタク
リレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラ
テックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合
体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリ
ドン等が挙げられる。
【0035】有機結合剤としてカチオン性樹脂を含有し
てもよい。カチオン性樹脂としては、ポリエチレンアミ
ン、ポリプロピレンポリアミン等のようなポリアルキレ
ンポリアミン類またはその誘導体、第3級アミノ基や第
4級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアクリル
アミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は微粒子状の形
態で添加してもよい。その例としては、たとえば特開平
6−161101号に記載のカチオン性マイクロゲルが
挙げられる。
【0036】本発明の親水性層において、有機結合剤の
含有量は該親水性層全体の20質量%以下であるが、1
0質量%以下であることがより好ましい。有機結合剤が
20質量%を越えると汚れ性が問題となる。
【0037】本発明の親水性層は無機の結合剤を含有す
ることができる。無機の結合剤としては、平均粒径10
0nm以下の金属酸化物微粒子を用いることができる。
該金属酸化物微粒子は本発明における無機粒子に包含さ
れる。その例として、たとえば、コロイダルシリカ、ア
ルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物のゾル
が挙げられる。金属酸化物微粒子の形態としては、球
状、針状、羽毛状、その他のいずれの形態でもよい。平
均粒径は3〜100nmが好ましく、平均粒径が異なる
数種の金属酸化物微粒子を混合して使用することもでき
る。また、金属酸化物微粒子の表面に表面処理がなされ
ていてもよい。金属酸化物微粒子の中では特にコロイダ
ルシリカが比較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高
いことから好ましい。その他に、ケイ酸塩も使用するこ
とができ、ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム、ケイ酸リチウムのようなアルカリ金属ケイ
酸塩が好ましい。
【0038】本発明の親水性層中には目的に応じて上記
以外の添加剤を含有させることができる。該添加剤とし
てたとえば架橋剤が挙げられる。架橋剤としては、たと
えば、メラミン樹脂、イソシアネート化合物、イソオキ
サゾール類、アルデヒド類、N−メチロール化合物、ジ
オキサン誘導体、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合
物等を挙げることができる。
【0039】本発明の平版印刷版材料のひとつの利用形
態として平版印刷版支持体がある。該支持体は、本発明
の親水性層上に、インクジェット法、感熱転写法、電子
写真法等によってインク受容性画像層を形成させて平版
印刷版を作製するのに用いられる支持体、本発明の親水
性層上に、露光または加熱により硬化または可溶化する
層を設け、画像様露光または加熱の後に該層の非画像部
を除去して平版印刷版が得られるような支持体等であ
る。
【0040】また、本発明の平版印刷版材料のひとつの
形態として、基材上に設けた層が光熱変換機能を有する
素材(以下「光熱変換材」という)を含有する形態があ
る。光熱変換材を含有する層は本発明の親水性層であっ
ても、またそれ以外の層であってもよい。後者の例とし
ては、本発明の親水性層の上に設けた、露光部(若しく
は加熱部)または非露光部(若しくは非加熱部)が現像
液に溶解する層が挙げられる。また、たとえば、平版印
刷版材料が、加熱により親水性−親油性の相変化する親
水性感熱層を有し、レーザーによる画像露光により、該
感熱親水性層が親水性−親油性の相変化し平版印刷版面
が得られる形態において、光熱変換材を感熱親水性層の
隣接層に含有させる形態が挙げられる。
【0041】光熱変換材としては、赤外線を熱に変換す
る機能すなわち赤外部に吸収を有する素材を使用するこ
とができる。そのような素材の一例として、一般的な赤
外吸収色素(シアニン、フタロシアニン等)が挙げられ
る。ただし、含有させる層が多孔質である場合、水溶性
の色素を多孔質層中に添加すると層の耐水性及び耐久性
が低下する。水不溶性の色素を添加する場合は水系分散
液中に固体色素を極微粒子状に均一に分散させることが
困難であり、凝集した状態の色素では光熱変換効率が悪
く、また、印刷時の汚れ原因となるので好ましくない。
【0042】赤外部に吸収を有する光熱変換材の中で
も、素材自体が導電性を有する素材であることが好まし
い。該素材は半導体であってもよい。理由は明らかでは
ないが、導電性を有する光熱変換材を層中に添加した場
合、非画線部へのインクの付着性が著しく改善され、汚
し回復性が大きく改善される。このような素材として
は、金属、導電性カーボン、グラファイト、導電性金属
酸化物等が挙げられる。これらの中でも特に導電性金属
酸化物が好ましい。
【0043】金属としては、粒径が0.5μm以下、好
ましくは100nm以下、さらに好ましくは50nm以
下の微粒子であれば、いずれの金属であっても使用する
ことができる。形状としては、球状、片状、針状等いず
れの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子(Ag、
Au等)が好ましい。
【0044】導電性カーボンとしては、特にファーネス
ブラックやアセチレンブラックが好ましい。粒度
(d50)は100nm以下であることが好ましく、50
nm以下であることがさらに好ましい。また、下式で示
される導電性指標が30以上であることが好ましく、5
0以上であることがさらに好ましい。
【0045】導電性指標=(比表面積[m2/g]×D
BP吸油量[ml/100g])1/2/(1+揮発分) グラファイトとしては、粒径が0.5μm以下、好まし
くは100nm以下、さらに好ましくは50nm以下の
微粒子を使用することができる。
【0046】導電性(もしくは半導体)金属酸化物とし
ては、ZnO、AlをドープしたZnO、SnO2、S
bをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したI
23(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO
(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが
挙げられる。また、これらの金属酸化物で心材(BaS
4、TiO2、9Al23・2B2O、K2O・nTiO
2等)を被覆したものも使用することができる。これら
の粒径は、0.5μm以下、好ましくは100nm以
下、さらに好ましくは50nm以下である。
【0047】また、上記導電性金属酸化物の中でも塗膜
中に分散させた際に実質的に着色しない(無色もしくは
白色を呈する)ものが好ましい。このような素材として
は、透明導電膜として利用されるATOやITOが挙げ
られ、また無色もしくは白色の心材をATOやITOで
被覆した素材も挙げられる。これらの光熱変換材は塗膜
中に均一に分散させることが重要であり、単独で、ある
いは他の塗膜組成成分のいずれかと同時に機械的に分散
させて塗布液とすることが好ましい。その際に分散剤を
使用してもよい。
【0048】本発明の平版印刷版材料のひとつの形態と
して、基材上に設けた層が熱溶融性物質を含有する形態
が挙げられる。この例として、基材上の本発明の親水性
層が熱溶融性物質および必要により光熱変換材を含有
し、加熱により親水性−親油性の相変化する感熱親水性
層である形態が挙げられる。
【0049】熱溶融性物質は印刷インク受容性であるこ
とが好ましい。また、軟化点40℃以上150℃以下、
融点50℃以上200℃以下であることが好ましく、軟
化点60℃以上100℃以下、融点80℃以上250℃
以下であることがさらに好ましい。軟化点が40℃未
満、または融点が50℃未満では保存性が問題であり、
軟化点が150℃よりも高いか、または融点200℃よ
りも高い場合には感度が低下する。
【0050】熱溶融性物質としては、70〜150℃程
度で溶融し流動性を示すものであればどのようなものを
用いても構わないが、具体例としてパラフィン、ポリオ
レフィン、マイクロワックス、脂肪酸系ワックス及び酸
化ポリエチレンワックス等が挙げられる。これらは分子
量800から10000程度のものであり、通常高圧及
び低圧重合法により低密度及び高密度ポリエチレンとし
て、また高分子ポリオレフィンの熱分解により得られ
る。また、乳化しやすくするためにこれらのワックスを
酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデ
ヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することも
できる。また、軟化点を下げたり作業性を向上させるた
めにこれらのワックスを併用することも可能である。後
者としては、ステアロアミド、リノレンアミド、ラウリ
ルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パ
ルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、
ヤシ脂肪酸アミドまたはこれらの脂肪酸アミドのメチロ
ール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビス
ステラロアミドなどが挙げられ、これらの併用も可能で
ある。また、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェ
ノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹
脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これら
の樹脂の共重合体も使用することができる。熱溶融性物
質微粒子の径は、0.05〜10μmが好ましく、さら
に好ましくは0.1〜5μmである。
【0051】本発明の平版印刷版材料を用いて平版印刷
版を作製するには、以下に示すような公知の方法を用い
ることができる。しかし、これらの方法に限るものでは
ない。
【0052】公知のインクジェット法により画像様に
インキ受容性の素材を親水性層上に付着させて画像層を
形成する。インキ受容性素材は耐水性を有する素材であ
り、ホットメルトや画像形成後に熱または光で硬化する
熱硬化性物質または光硬化性物質でもよい。熱硬化性物
質及び光硬化性物質としては特開平9−99662号公
報に記載されているものを用いることができる。
【0053】公知の感熱転写法によりインク受容性の
感熱転写層を有するシートの該感熱転写層を親水性層表
面に密着させ、シート側からサーマルヘッドまたはレー
ザー光によって画像様に加熱して加熱部分の感熱転写層
をシートから親水性層表面に転写した後、シートを取り
去ることによりインキ受容性画像層を形成する。
【0054】公知の光硬化性または光可溶性の感光層
を親水性層上に塗設し、画像露光後、可溶部分を現像に
より除去してインキ受容性画像層を形成する。
【0055】公知の熱(赤外線)硬化性または熱(赤
外線)可溶性の感光層を親水性層上に塗設し、レーザー
露光の後、可溶部分を現像により除去して画像層を形成
する。感光層としては特願平9−332970号明細書
に記載されているものを用いることができる。
【0056】基体上の親水性層上に公知のアブレーシ
ョン層を設け、該層をレーザーでアブレーションにより
除去してインキ受容性画像層を形成する。たとえば、特
開平8−507727号、特開平6−186750号、
特開平6−199064号、特開平7−314934号
各公報に記載されている技術を適用することができる。
【0057】基材上に、無機顔料、熱可塑性樹脂およ
び熱溶融性物資を含有する感熱親水性層を設け、レーザ
ーやサーマルヘッドの熱により親水−疎水の相変化を生
じさせてインキ受容性画像を形成させる。たとえば、特
開平2−307787号公報及び特願平10−3458
25号明細書に記載されている技術を適用することがで
きる。
【0058】基材上に設けた本発明の親水性層上に、
水で除去可能でかつレーザー加熱等により水に不溶化す
る熱可塑性微粒子を含有する層を設け、画像露光の後、
印刷機上で現像し画像形成する。たとえば、特開平9−
123387号及び特開平9−131850号各公報並
びに特願平10−345825号明細書に記載されてい
る技術を適用することができる。
【0059】上記、及びにおける現像としては、
化学的及び/又は物理的画像形成処理が挙げられる。
【0060】化学的画像形成処理としては、水、アルカ
リ水溶液、酸性水溶液等の水系の液による公知の現像処
理を用いることができる。水系アルカリ液としては、例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリ
ウム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。前記ア
ルカリ金属塩は0.05〜20質量%の範囲で用いるの
が好適であり、より好ましくは0.1〜10質量%であ
る。珪酸塩濃度/アルカリ金属濃度(SiO2のモル濃
度/アルカリ金属のモル濃度)は、0.15以上1.0
以下が好ましく、また珪酸塩濃度は総質量に対して0.
5質量%以上5.0質量%以下が好ましい。特に好まし
くは、現像液の珪酸塩濃度/アルカリ金属濃度が0.2
5以上0.75であり、珪酸塩濃度が1.0質量%以上
4.0質量%以下、現像補充液の珪酸塩濃度/アルカリ
金属濃度が0.15以上0.5であり、珪酸塩濃度が
1.0質量%以上3.0質量%以下である。また、化学
的画像形成処理に、特開平8−305039号、特開平
8−160631号に記載された非珪酸系の液を適用す
ることもできる。
【0061】水系酸性液としては、例えばリン酸、酒石
酸、マロン酸、亜リン酸、有機酸(クエン酸、シュウ
酸、ベンゼンスルホン酸等)等の水溶液が挙げられる。
前記酸の濃度は0.001〜10質量%の範囲で用いる
のが好適であり、より好ましくは0.01〜5質量%で
ある。さらに、前記液には必要に応じアニオン、ノニオ
ン、カチオン、または両性の界面活性剤や有機溶剤を加
えることができる。
【0062】物理的画像形成処理としては、非画線部の
感光層や感熱層をブラシ、スポンジ等でこすり取る、粘
着シート、粘着ロール、インク等の粘着物を表面に押し
当ててはがし取る等の手段を用いることができる。
【0063】本発明の平版印刷版材料が印刷機上で現像
し得るものであるときは、画像露光した平版印刷版材料
を版胴に取り付け、版胴を回転させながら、湿し水供給
ローラー、インキ供給ローラー及びブランケット胴の少
なくともひとつを版胴に接触させて、湿し水もしくはイ
ンキ溶剤による結合剤溶解効果と各ローラーとの接触剥
離効果のいずれかまたは複合によって非画線部形成の阻
害材を除去すればよい。あるいは、印刷機上に専用の現
像装置(非画線部形成の阻害材を除去可能であればどの
ような機構でもよい)を設置して、それにより非画線部
形成の阻害材を除去することもできる。
【0064】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、下記
において「部」は「質量部」を意味する。
【0065】実施例1〜4、比較例1、2 (AGP処理)大気圧プラズマ処理装置(イーシー化学
(株)製、AP−I−H−340)を用いて、厚さ0.
18mmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィ
ルム表面にAGP処理を行ない基材1〜4を作製した。
AGP処理装置の条件は、高周波出力:4.5kW、周
波数:5kHz、処理時間:5秒とし、ガス条件は下記
表1に記載の通りとした。
【0066】
【表1】
【0067】また、比較例として、AGP処理を施さな
い上記PETフィルムを基材5とし、上記PETフィル
ムの表面に8W/(m2・min)のコロナ放電処理を
施したものを基材6とした。
【0068】(基材6の下塗り層加工)基材6のコロナ
放電処理を施した面に下記組成の第1下塗り層塗布液を
20℃、相対湿度55%の雰囲気下でワイヤーバーによ
り乾燥後の膜厚が0.4μmとなるように塗布し、14
0℃で2分間乾燥を行い第1下塗り層を形成させ、第1
下塗り層を形成した面に8W/(m2・min)のコロ
ナ放電処理を施した後、下記組成の第2下塗り層塗布液
を、35℃、相対湿度22%の雰囲気下でエアーナイフ
方式により乾燥後の膜厚が0.1μmとなるように塗布
し、140℃で2分間乾燥を行って第2下塗り層を形成
させた。
【0069】 第1下塗り層塗布液 アクリルラテックス粒子(n−ブチルアクリレート/ t−ブチルアクリレート/スチレン/ヒドロキシエチルメタクリレート =28/22/25/25、質量比) 36.9g 界面活性剤(A) 0.36g 硬膜剤(a) 0.98g 上記に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。
【0070】 第2下塗り層塗布液 ゼラチン 9.6g 界面活性剤(A) 0.4g 硬膜剤(b) 0.1g 上記に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。
【0071】
【化1】
【0072】(平版印刷版材料(支持体)の作製)上記
基材1〜4のAGP処理面上、基材5は無処理のPET
面上、基材6は前記下塗り層面上に、下記親水性層
(1)用塗布液をワイヤーバーで塗布量が10g/m2
となるように塗布し、100℃で15分間乾燥し、平版
印刷版支持体を作製した。
【0073】親水性層(1)用塗布液の作製 下記組成の親水性層(1)用塗布液をガラスビーズと共
にサンドグラインダを使用し、1000rpmで180
分間分散した後、ガラスビーズを濾別し、更に高速ホモ
ジナイザーにて、8000rpmで15分間分散し塗布
液を得た。
【0074】 親水性層(1)用塗布液 ネックレス状コロイダルシリカ ST−PS−MO 500g (日産化学工業(株)製、固形分20質量%) コロイダルシリカ スノーテックス−OS 310g (日産化学工業(株)製、平均粒径8nm、固形分20質量%) チタンブラック 12S 24g (三菱マテリアル(株)製) ポリビニルアルコール PVA−117 126g ((株)クラレ製、重合度1700、鹸化度98〜99mol%、 10質量%水溶液) メラミン樹脂 スミレーズ613 14g (住友化学工業(株)製、10質量%水溶液) 蒸留水 26g (注)親水性層(1)中の無機粒子(上記〜)は93質量%、有機結合剤 (上記、)は7質量%。なお上記は光熱変換材。
【0075】(平版印刷版材料の作製)上記基材1〜6
に親水性層(1)を設けた平版印刷版用材料(支持体)
上に下記組成の熱溶融性物質(カルナバワックスエマル
ジョン)含有層用塗布液を乾燥膜厚が0.5g/m2
なるように塗布乾燥し平版印刷版材料1〜6を作製し
た。
【0076】 熱溶融性物質含有層用塗布液 ネックレス状コロイダルシリカ ST−PS−M (日産化学工業(株)製、固形分20wt%) 1.5g カルナバワックスエマルジョンA118(岐阜セラック社製、 平均粒子径0.3μm、融点80℃、140℃での溶融粘度 8×10-3Pa・s、固形分40質量%) 52.5g 膨潤性マイカ(ME−100コープケミカル(株)製) 1.5g 蒸留水 201g 上記平版印刷版材料1〜6の各々に、クレオプロダクツ
社製の露光機(トレンドセッター3244:発振波長8
30nmの半導体レーザーを搭載、レーザー出力10
W、240チャンネル機)で画像露光を行った。次い
で、印刷機の版胴に画像露光された平版印刷版材料を取
り付け、版胴を回転させながら湿し水供給ローラーを版
胴に接触させて湿し水による結合剤溶解効果と接触剥離
効果の複合によって非画線部形成の阻害材である熱溶融
性物質含有層を除去して平版印刷版を作製した。
【0077】実施例5〜8、比較例3〜5 (平版印刷版材料の作製)前記基材1〜4のAGP処理
面、基材5は無処理のPET面、基材6は前記下塗り層
を設けた面に下記親水性層(2)または(3)を設けた
平版印刷版材料(支持体)上に下記組成のポジ型フォト
ポリマー層用塗布液(露光部が現像液に溶解性)を乾燥
膜厚が2μmになるように塗布し乾燥し平版印刷版材料
7〜13を作製した。親水性層(2)用塗布液は、組成
を下記に変えた他は親水性層(1)用塗布液と同様にし
て作製した。
【0078】 親水性層(2)用塗布液 多孔質アルミノシリケート AMTシリカ#200B 100g (水澤化学工業(株)製、平均粒計2.2μm) コロイダルシリカ スノーテックス−OS 400g (日産化学工業(株)製、平均粒径8nm、固形分20質量%) ポリビニルアルコール PVA−117 180g ((株)クラレ製、重合度1700、鹸化度98〜99mol%、10質量 %水溶液) メラミン樹脂 スミレーズ613 20g (住友化学工業(株)製、10質量%水溶液) 蒸留水 300g (注)親水性層(2)中の無機粒子(上記、)は90質量%、有機結合剤 (上記、)は10質量%である。
【0079】親水性層(3)用塗布液は、組成を下記に
変えた他は親水性層(1)の塗布液と同様にして作製し
た。
【0080】 親水性層(3)用塗布液 多孔質アルミノシリケート AMTシリカ#200B 120g (水澤化学工業(株)製、平均粒径2.2μm) ポリビニルアルコール PVA−217 720g ((株)クラレ製、重合度1700、鹸化度87〜89mol%、 10質量%水溶液) メラミン樹脂 スミレーズ613 80g (住友化学工業(株)製、10質量%水溶液) 蒸留水 80g (注)親水性層(3)中の無機粒子(上記)は60質量%、有機結合剤(上 記、)は40質量%である。
【0081】ポジ型フォトポリマー層用塗布液 下記成分を溶解し、ろ過して塗布液を得た。
【0082】 バインダーA(フェノールとm−,p−混合クレゾールと ホルムアルデヒドを共縮合させたノボラック樹脂、Mw=4000、 フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比がそれぞれ 5/57/38) 70部 バインダーB(メチルメタクリレート/ヒドロキシフェニル メタクリルアミド/メタクリルアミド/メタアクリロニトリルの 共重合体(共重合質量比=20/20/30/30、Mw=30000) 15部 赤外吸収色素 IR1 7部 クリスタルバイオレット 0.3部 フッ素系界面活性剤(旭硝子製S−382) 0.5部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 700部 メチルエチルケトン 200部
【0083】
【化2】
【0084】得られた平版印刷版材料7〜13に、下記
方法で画像を形成し平版印刷版を作製した。
【0085】クレオプロダクツ社製の露光機(トレンド
セッター3244:発振波長830nmの半導体レーザ
ーを搭載、レーザー出力10W、240チャンネル機)
でポジ型フォトポリマー層表面に画像露光を行った。次
に、コニカ(株)製の自動現像機PSZ−910を用い
て現像、水洗処理を行った。現像液にはコニカ(株)製
PS版用現像液SDR−1を水に容積比6倍で希釈して
用いた。現像槽には現像液25Lを投入し、現像時間は
12秒、現像温度は32℃で現像処理を行った後、水洗
処理を行った。
【0086】実施例9〜12、比較例6〜8 (平版印刷版材料の作製)上記基材1〜6(ただし、基
材6は前記下塗り層を設けたもの)に下記表3に示す組
み合わせで前記親水性層(2)または親水性層(3)を
設けたものを平版印刷版材料14〜20とした。次い
で、これら平版印刷版材料の親水性層上に、インクジェ
ットプリンタ(日立工機(株)製、ソリッドインクジェ
ットプレートメーカー SJ−02A)を用い、インク
として、ワックスを主体にしたソリッドインクジェット
用黒インクを使用して画像記録を行ない、平版印刷版を
作製した。
【0087】(評価)上記実施例及び比較例で得た平版
印刷版について、指紋汚れ、汚し回復性、引っ掻き傷耐
性及び耐刷力を下記方法で評価した。その結果を下記表
2〜表3に示す。
【0088】印刷条件 印刷機には三菱重工業(株)製 DAIYA 1F−1
を用い、コート紙、湿し水(東京インキ(株)製H液S
G−51 濃度1.5%)、インキ(東洋インキ(株)
製トーヨーキングハイエコーM紅)を使用して印刷を行
った。
【0089】指紋汚れ 平版印刷版を印刷機に取り付ける直前に、版面に指を2
0秒間接触させ、汗及び皮脂を付着させた後に、印刷を
スタートさせ、100枚印刷後の印刷物の指紋の発生状
態を目視で下記のように評価した。
【0090】 ○:指紋状の汚れがない △:微かに、指紋状の汚れが発生している ×:指紋状に汚れが発生している 汚し回復性 1000枚印刷後、5分間、印刷機を空転させ、印刷版
表面に付着している湿し水を乾燥させた。次いで、イン
キローラを版面に付け、インクを印刷版全体に付けた
後、再度湿し水を供給して、印刷を再開した。紙面非画
線部の汚れの程度が1000枚印刷時点と同等になった
印刷枚数で汚し回復性を評価した。該評価は、枚数が多
いほど不良である。
【0091】引っ掻き傷耐性 耐摩耗性試験機(HEIDON−18)を用い、0.1
mmφのサファイヤ触針で連続加重で、0〜200gの
範囲に荷重を変化させて平版印刷版の版面を摺動させ、
印刷時に汚れとして確認される摺動傷が何gの荷重で付
けられたものであるかを評価した。
【0092】耐刷力 非画像部の親水性層が剥離して印刷紙面に汚れが発生す
るまでの印刷枚数を耐刷力の指標として評価した。
【0093】
【表2】
【0094】
【表3】
【0095】
【発明の効果】本発明によれば、基材上に、無機粒子と
有機結合剤を含有する親水性層を有する平版印刷版材料
の問題である基材とその上の親水性層との接着性が改良
され、耐刷性、耐傷性および汚れ性(特に指紋汚れ)が
優れた平版印刷版が得られる平版印刷版材料およびそれ
を用いた平版印刷版の作製方法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/11 B41J 3/00 F Fターム(参考) 2C062 RA01 2H025 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BH00 CB51 CC11 DA19 DA20 DA36 FA10 FA17 2H084 AA13 AA14 AA38 AA40 CC05 2H096 AA06 BA01 CA03 CA05 EA04 EA23 GA08 2H114 AA04 AA22 AA24 AA25 BA01 BA03 BA06 BA10 DA05 DA08 DA09 DA15 DA32 DA42 DA43 DA44 DA45 DA47 DA51 DA53 DA59 DA64 DA75 EA01 EA03 EA05 EA08 GA01 GA02

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材上に親水性層を有する平版印刷版材
    料において、該基材が大気圧グロー放電プラズマ処理さ
    れており、該親水性層が無機粒子を60質量%以上含有
    し、かつ該親水性層中の有機結合剤の含有量が20質量
    %以下であることを特徴とする平版印刷版材料。
  2. 【請求項2】 大気圧グロー放電プラズマ処理に用いる
    励起ガスがAr及びHeから選ばれる少なくとも1種で
    あり、反応ガスがO2、N2、H2及びCO2から選ばれる
    少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載の
    平版印刷版材料。
  3. 【請求項3】 平版印刷版材料が平版印刷版支持体であ
    ることを特徴とする請求項1又は2記載の平版印刷版材
    料。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の平版印刷版材料の画像
    形成をインクジェットで行うことを特徴とする平版印刷
    版の作製方法。
  5. 【請求項5】 基材上に光熱変換機能を有する素材を含
    有する層を有することを特徴とする請求項1又は2記載
    の平版印刷版材料。
  6. 【請求項6】 基材上に熱溶融性物質を含有する層を有
    することを特徴とする請求項1、2又は5記載の平版印
    刷版材料。
  7. 【請求項7】 請求項5又は6に記載の平版印刷版材料
    の画像形成をサーマルヘッド又はレーザーで行うことを
    特徴とする平版印刷版の作製方法。
  8. 【請求項8】 請求項1、5又は6に記載の平版印刷版
    材料に像様の加熱又は露光を行った後、該平版印刷版材
    料に化学的及び/又は物理的画像形成処理を行うことを
    特徴とする平版印刷版の作製方法。
  9. 【請求項9】 化学的画像形成処理が水系現像液処理で
    あることを特徴とする請求項8記載の平版印刷版の作製
    方法。
  10. 【請求項10】 化学的及び/又は物理的画像形成処理
    を印刷機上で行うことを特徴とする請求項8又は9記載
    の平版印刷版の作製方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004064129A1 (ja) * 2003-01-15 2004-07-29 Hirata Corporation 基板処理方法及び基板処理装置
JP2008049686A (ja) * 2006-08-28 2008-03-06 Mitsubishi Paper Mills Ltd 平版印刷版原版

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004064129A1 (ja) * 2003-01-15 2004-07-29 Hirata Corporation 基板処理方法及び基板処理装置
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